JP2008091619A - Solid image pickup apparatus and its manufacturing method - Google Patents

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光司 小野
Shuichi Chiba
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminate the variation of mounting accuracy of a solid image pickup element chip, and to attain to mount it with accurate adjustment of the deviation and position of an image pickup element plane. <P>SOLUTION: The image pickup apparatus includes an image pickup element chip 2, a package 5 having a recessed portion to house the image pickup element chip 2, a transparent substrate 3 adhered to the package 5 in order to carry out the hermetic seal of the image pickup element chip 2, wherein in the bottom of the recessed portion, a plurality of protrusions is formed, the image pickup element chip 2 and the package 5 are adhered through a plurality of protrusions, and wherein the planes connecting the apex where the plurality of protrusions and the image pickup element chip 2 are adhered is in parallel to the transparent substrate 3. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、CCD、CMOSセンサなどの固体撮像素子を備えた固体撮像装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a solid-state imaging device including a solid-state imaging device such as a CCD or a CMOS sensor and a manufacturing method thereof.

近年、CCD、CMOSセンサ等の固体撮像素子を備えた固体撮像装置が多用されている。固体撮像装置の主な使用製品としてデジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラが挙げられる。   In recent years, solid-state imaging devices including solid-state imaging devices such as CCDs and CMOS sensors have been widely used. Digital still cameras and digital video cameras are examples of main products used for solid-state imaging devices.

固体撮像装置の従来技術としては、特許文献1に開示される技術があげられる。   As a conventional technique of the solid-state imaging device, there is a technique disclosed in Patent Document 1.

特許文献1では、パッケージ部材の封止面に凹形状のキャビティ部を有し、このキャビティ部内に固体撮像素子チップを搭載し、研磨によって平坦化した封止面にガラスキャップを有機接着剤により接着して気密封止している。
特開昭63−313857号公報
In Patent Document 1, the package member has a concave cavity on the sealing surface, a solid-state imaging device chip is mounted in the cavity, and a glass cap is bonded to the sealing surface flattened by polishing with an organic adhesive. And hermetically sealed.
JP-A-63-313857

しかしながら、固体撮像素子チップの下部にA/Dコンバータ、タイミングジェネレータ等の回路を搭載した半導体素子チップを配置したチップスタック型固体撮像装置の場合、以下のような困難があった。   However, in the case of a chip stack type solid-state imaging device in which a semiconductor element chip on which circuits such as an A / D converter and a timing generator are mounted is disposed below the solid-state imaging element chip, there are the following difficulties.

固体撮像素子チップ下部の半導体素子チップの搭載精度のばらつきにより、固体撮像素子面のあおり及び位置を精度良く調整して搭載することが難しかった。   Due to variations in the mounting accuracy of the semiconductor element chip below the solid-state image sensor chip, it has been difficult to accurately adjust and mount the tilt and position of the solid-state image sensor surface.

特に、固体撮像素子チップの下部に複数の半導体素子チップが積層配置された場合、この問題は顕著となっていた。   In particular, this problem has become prominent when a plurality of semiconductor element chips are stacked and disposed below the solid-state imaging element chip.

そこで、本発明は、固体撮像素子チップ下部の半導体素子の搭載精度のばらつきをなくし、固体撮像素子面のあおり及び位置を精度良く調整して搭載するようにすることを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to eliminate variations in mounting accuracy of semiconductor elements below the solid-state image sensor chip and to mount the tilt and position of the solid-state image sensor surface with high accuracy.

本発明は、上記課題を解決するための手段として、固体撮像素子チップと、該固体撮像素子チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置において、前記凹部の底辺には複数の突起が形成され、前記固体撮像素子チップとパッケージとは前記複数の突起を介して接着されており、前記複数の突起と前記固体撮像素子チップとが接着される頂点を結んだ面は、前記透明基板と平行であることを特徴とする。   As means for solving the above-mentioned problems, the present invention is bonded to the solid-state image sensor chip, a package having a recess for housing the solid-state image sensor chip, and the package for sealing the solid-state image sensor chip. A plurality of protrusions formed on a bottom side of the concave portion, and the solid-state imaging device chip and the package are bonded via the plurality of protrusions. And the solid image pickup device chip, the plane connecting the vertices is parallel to the transparent substrate.

また、本発明は、固体撮像素子チップと、当該固体撮像素子チップから出力される信号を処理する回路が含まれる半導体チップと、該固体撮像素子チップ及び半導体チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップ及び前記半導体チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置において、前記半導体チップは前記凹部の底辺に配置され、前記半導体チップには複数の突起が形成され、前記固体撮像素子チップと半導体チップとは前記複数の突起を介して接着されており、前記複数の突起と前記固体撮像素子チップとが接着される頂点を結んだ面は、前記透明基板と平行であることを特徴とする。   The present invention also includes a solid-state image sensor chip, a semiconductor chip including a circuit for processing a signal output from the solid-state image sensor chip, a package having a recess for housing the solid-state image sensor chip and the semiconductor chip, A solid-state imaging device comprising: the solid-state imaging device chip; and a transparent substrate bonded to the package for sealing the semiconductor chip. The semiconductor chip is disposed on a bottom side of the recess, and the semiconductor chip includes a plurality of the semiconductor chips. Is formed, the solid-state image sensor chip and the semiconductor chip are bonded via the plurality of protrusions, the surface connecting the apexes where the plurality of protrusions and the solid-state image sensor chip are bonded, It is characterized by being parallel to the transparent substrate.

また、本発明は、半導体チップと、該半導体チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記半導体チップを封止するために前記パッケージに接着される蓋材と、を備える半導体装置において、前記凹部の底辺には複数の突起が形成され、前記半導体子チップとパッケージとは前記複数の突起を介して接着されており、前記複数の突起と前記半導体チップとが接着される頂点を結んだ面は、前記透明基板と平行であることを特徴とする。   According to another aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device comprising: a semiconductor chip; a package having a recess for housing the semiconductor chip; and a lid member bonded to the package for sealing the semiconductor chip. A plurality of protrusions are formed on the bottom side, the semiconductor chip and the package are bonded via the plurality of protrusions, and the surface connecting the apexes where the plurality of protrusions and the semiconductor chip are bonded is It is characterized by being parallel to the transparent substrate.

また本発明は、固体撮像素子チップと、該固体撮像素子チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置の製造方法において、前記凹部に突起となる樹脂を塗布する工程と、前記塗布された樹脂を変形可能な状態に硬化させる工程と、前記硬化させた樹脂を成型する工程と、前記成型した樹脂を成型不可能なように硬化させる工程と、前記固体撮像素子チップを前記硬化させた樹脂の上に搭載する工程と、を含むことを特徴とする。   According to another aspect of the present invention, there is provided a solid-state imaging device comprising: a solid-state imaging device chip; a package having a recess for housing the solid-state imaging device chip; and a transparent substrate bonded to the package for sealing the solid-state imaging device chip. In the manufacturing method of the apparatus, a step of applying a resin that becomes a protrusion to the recess, a step of curing the applied resin in a deformable state, a step of molding the cured resin, and the molded resin And a step of curing the solid-state imaging device chip on the cured resin.

また、本発明は、固体撮像素子チップと、該固体撮像素子チップから出力される信号を処理する回路が含まれる半導体チップと、前記固体撮像素子チップ及び前記半導体チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップ及び前記半導体チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置の製造方法において、前記半導体チップを前記凹部の底辺に配置する工程と、前記半導体チップに突起となる樹脂を塗布する工程と、前記塗布された樹脂を変形可能な状態に硬化させる工程と、前記硬化させた樹脂を成型する工程と、前記成型した樹脂を成型不可能なように硬化させる工程と、前記固体撮像素子チップを前記硬化させた樹脂の上に搭載する工程と、を含むことを特徴とする。   In addition, the present invention provides a solid-state image sensor chip, a semiconductor chip including a circuit for processing a signal output from the solid-state image sensor chip, and a package having a recess for housing the solid-state image sensor chip and the semiconductor chip. A solid-state imaging device manufacturing method comprising: a solid-state imaging device chip and a transparent substrate bonded to the package for sealing the semiconductor chip; and disposing the semiconductor chip on a bottom side of the recess; A step of applying a resin to be a protrusion on the semiconductor chip, a step of curing the applied resin in a deformable state, a step of molding the cured resin, and the molding of the molded resin is impossible. And a step of mounting the solid-state imaging element chip on the cured resin.

本発明によれば、外形精度の優れたパッケージを用いなくてもパッケージの基準面に対して、固体撮像素子面のあおり及び位置を適切に合わせた状態で固体撮像素子を搭載することができる。   According to the present invention, it is possible to mount a solid-state imaging device in a state in which the tilt and the position of the solid-state imaging device surface are appropriately aligned with respect to the reference surface of the package without using a package with excellent external accuracy.

また、チップスタック型固体撮像装置においても、パッケージの基準面に対して固体撮像素子面のあおり及び位置を適切に合わせた状態で固体撮像素子を搭載することができる。   Also in the chip stack type solid-state imaging device, the solid-state imaging element can be mounted in a state where the tilt and the position of the solid-state imaging element surface are appropriately aligned with respect to the reference plane of the package.

これにより、固体撮像装置を用いたデジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラでは、容易に高画質の性能を得ることが可能となる。   Thereby, in a digital still camera and a digital video camera using a solid-state imaging device, it is possible to easily obtain high-quality performance.

以下、添付図面を参照して本発明を実施するための最良の実施の形態を説明する。   DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

[第1の実施形態]
図1は、本発明の第1の実施形態としての固体撮像装置の断面図である。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a solid-state imaging device as a first embodiment of the present invention.

本実施の形態の固体撮像装置は、固体撮像素子チップ2と、固体撮像素子チップ2を収納する凹部を有するLCC1と、固体撮像素子チップ2を気密封止するためにLCC1に接着される透明基板3とを備える。また、LCC1の凹部底面には、樹脂により形成された3つの点状突起6を備える。   The solid-state imaging device according to the present embodiment includes a solid-state imaging device chip 2, an LCC1 having a recess that houses the solid-state imaging device chip 2, and a transparent substrate that is bonded to the LCC1 in order to hermetically seal the solid-state imaging device chip 2. 3. In addition, the bottom surface of the concave portion of the LCC 1 includes three point-like protrusions 6 made of resin.

LCC1は、例えば、アルミナなどのセラミックから成る。   The LCC 1 is made of a ceramic such as alumina.

透明基板3は、例えば、ガラス、アクリル樹脂などから成る。   The transparent substrate 3 is made of, for example, glass or acrylic resin.

点状突起6は、紫外線硬化性樹脂、紫外線・熱併用硬化性樹脂、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれかから成る。   The dot-like projections 6 are made of any one of an ultraviolet curable resin, an ultraviolet / heat combination curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin.

点状突起6の数は、3つが望ましいが、それ以上でも構わない。   The number of point-like protrusions 6 is preferably three, but it may be more.

また、LCC1の裏面には、3箇所の凸部7を備える。   Moreover, the convex part 7 of three places is provided in the back surface of LCC1.

LCC1の裏面を固体撮像素子チップ2のあおり及び高さの基準面とする場合、LCC1に反り、歪みが発生していても、3箇所の凸部7によってただ一つの基準面が得られる。   When the back surface of the LCC 1 is used as a reference surface for the tilt and height of the solid-state imaging device chip 2, only one reference surface is obtained by the three convex portions 7 even if the LCC 1 is warped and distortion occurs.

そして、点状突起6は、3箇所の凸部7で決まる基準面に対して、平行かつ一定の高さになるように成型されている。   The point-like protrusions 6 are formed so as to be parallel and constant with respect to a reference plane determined by the three convex portions 7.

点状突起6に固体撮像素子チップ2を搭載することで、LCC1の外形精度に係らず、固体撮像素子面のあおり及び位置をLCC1の基準面に対し適切に合わせることができる。   By mounting the solid-state imaging device chip 2 on the point-like protrusion 6, the tilt and the position of the solid-state imaging device surface can be appropriately adjusted with respect to the reference surface of the LCC1, regardless of the external accuracy of the LCC1.

[第2の実施形態]
図2は、本発明の第2の実施形態としての固体撮像装置の断面図である。
[Second Embodiment]
FIG. 2 is a cross-sectional view of a solid-state imaging device as a second embodiment of the present invention.

本実施の形態の固体撮像装置は、固体撮像素子チップ2と、固体撮像素子チップ2を収納する凹部を有するC−DIP5と、固体撮像素子チップ2を気密封止するためにC−DIP5に接着される透明基板3とを備える。   The solid-state imaging device of the present embodiment is bonded to the C-DIP 5 in order to hermetically seal the solid-state imaging element chip 2 and the solid-state imaging element chip 2, the C-DIP 5 having a recess for housing the solid-state imaging element chip 2. The transparent substrate 3 is provided.

さらに、C−DIP5の凹部底面には、樹脂により形成された3つの点状突起6を備える。   Furthermore, three point-like protrusions 6 made of resin are provided on the bottom surface of the recess of the C-DIP 5.

点状突起6は、紫外線硬化性樹脂、紫外線・熱併用硬化性樹脂、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれかから成る。   The dot-like projections 6 are made of any one of an ultraviolet curable resin, an ultraviolet / heat combination curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin.

点状突起6の数は、3つが望ましいが、それ以上でも構わない。   The number of point-like protrusions 6 is preferably three, but it may be more.

そして、点状突起6は、C−DIP5の最上面、つまり透明基板3の接着面に対して、平行かつ一定の高さになるように成型されており、点状突起6上に固体撮像素子チップ2を搭載する。   The point-like protrusions 6 are formed so as to be parallel and at a constant height with respect to the uppermost surface of the C-DIP 5, that is, the adhesive surface of the transparent substrate 3. Chip 2 is mounted.

このようにすることで、C−DIP5の外形精度に係らず、固体撮像素子面のあおり及び位置をC−DIP5の最上面に対し適切に合わせることができる。   By doing so, the tilt and position of the surface of the solid-state imaging device can be appropriately adjusted with respect to the uppermost surface of the C-DIP 5 regardless of the external accuracy of the C-DIP 5.

[第3の実施形態]
図3は、本発明の第3の実施形態としての固体撮像装置の断面図である。
[Third Embodiment]
FIG. 3 is a cross-sectional view of a solid-state imaging device as a third embodiment of the present invention.

本実施の形態の固体撮像装置は、固体撮像素子チップ2と、固体撮像素子チップ2を収納する凹部を有するC−DIP5と、固体撮像素子チップ2を気密封止するためにC−DIP5に接着される透明基板3とを備える。   The solid-state imaging device of the present embodiment is bonded to the C-DIP 5 in order to hermetically seal the solid-state imaging element chip 2 and the solid-state imaging element chip 2, the C-DIP 5 having a recess for housing the solid-state imaging element chip 2. The transparent substrate 3 is provided.

さらに、C−DIP5の凹部底面には、樹脂により形成された3つの点状突起6を備える。   Furthermore, three point-like protrusions 6 made of resin are provided on the bottom surface of the recess of the C-DIP 5.

透明基板3は、C−DIP5の最上面に設けられた段差部に接着固定され、透明基板3の上面がC−DIP5の最上面より上部に出ない構造になっている。   The transparent substrate 3 is bonded and fixed to a step portion provided on the uppermost surface of the C-DIP 5 so that the upper surface of the transparent substrate 3 does not protrude above the uppermost surface of the C-DIP 5.

点状突起6は、紫外線硬化性樹脂、紫外線・熱併用硬化性樹脂、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれかから成る。   The dot-like projections 6 are made of any one of an ultraviolet curable resin, an ultraviolet / heat combination curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin.

点状突起6の数は3つが望ましいが、それ以上でも構わない。   The number of point-like projections 6 is preferably three, but it may be more.

そして、点状突起6は、C−DIP5の最上面に対して、平行かつ一定の高さになるように成型されている。   And the dotted | punctate protrusion 6 is shape | molded so that it may become parallel and fixed height with respect to the uppermost surface of C-DIP5.

点状突起6上に固体撮像素子チップ2を搭載することで、C−DIP5の外形精度に係らず、固体撮像素子面のあおり及び位置をC−DIP5の最上面に対し適切に合わせることができる。   By mounting the solid-state image sensor chip 2 on the dot-like projections 6, the tilt and position of the solid-state image sensor surface can be appropriately adjusted with respect to the uppermost surface of the C-DIP 5 regardless of the external accuracy of the C-DIP 5. .

さらにC−DIP5の最上面がプリズム10に直接接着されるため、プリズム10の光軸に対しても、固体撮像素子面のあおり及び位置が適切に合うことになる。   Further, since the uppermost surface of the C-DIP 5 is directly bonded to the prism 10, the tilt and the position of the solid-state image pickup device surface are also properly aligned with the optical axis of the prism 10.

[第4の実施形態]
図4は、本発明の第4の実施形態による固体撮像装置の断面図である。
[Fourth Embodiment]
FIG. 4 is a cross-sectional view of a solid-state imaging device according to the fourth embodiment of the present invention.

本実施の形態の固体撮像装置は、固体撮像素子チップ2及び半導体素子チップ11と、固体撮像素子チップ2及び半導体素子チップ11を収納する凹部を有するLCC1とを備える。また、固体撮像素子チップ2及び半導体素子チップ11を気密封止するためにLCC1に接着される透明基板3を備える。   The solid-state imaging device of the present embodiment includes a solid-state imaging element chip 2 and a semiconductor element chip 11, and an LCC 1 having a recess that houses the solid-state imaging element chip 2 and the semiconductor element chip 11. In addition, a transparent substrate 3 bonded to the LCC 1 is provided to hermetically seal the solid-state imaging element chip 2 and the semiconductor element chip 11.

LCC1の裏面には、3箇所の凸部7を備える。   The rear surface of the LCC 1 includes three convex portions 7.

半導体素子チップ11は、例えば、A/Dコンバータ、タイミングジェネレータ等の回路を含む。   The semiconductor element chip 11 includes circuits such as an A / D converter and a timing generator, for example.

半導体素子チップ11は、LCC1の凹部に搭載されており、半導体素子チップ11の上面に、樹脂により形成された3つの点状突起6を備える。   The semiconductor element chip 11 is mounted in the recess of the LCC 1 and includes three dot-like protrusions 6 formed of resin on the upper surface of the semiconductor element chip 11.

点状突起6は、紫外線硬化性樹脂、紫外線・熱併用硬化性樹脂、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のいずれかから成る。   The dot-like projections 6 are made of any one of an ultraviolet curable resin, an ultraviolet / heat combination curable resin, a thermosetting resin, and a thermoplastic resin.

点状突起6の数は、3つが望ましいが、それ以上でも構わない。   The number of point-like protrusions 6 is preferably three, but it may be more.

また、点状突起6は、3箇所の凸部7で決まる基準面に対して、平行かつ一定の高さになるように成型されている。   Further, the point-like protrusions 6 are formed so as to be parallel and constant with respect to a reference plane determined by the three convex portions 7.

そして、固体撮像素子チップ2は点状突起6上に搭載されており、LCC1の外形精度に係らず、固体撮像素子面のあおり及び位置をLCC1の基準面に対し適切に合わせることができる。   The solid-state image pickup device chip 2 is mounted on the dot-like projections 6 and can adjust the tilt and position of the solid-state image pickup device surface to the reference surface of the LCC 1 regardless of the external accuracy of the LCC 1.

[第5の実施形態]
図5は、本発明の第5の実施形態としての固体撮像装置の構成を示す図である。図5(a)は、上面から見た平面図であり、図5(b)は図5(a)のA−A’線で切断した断面図である。
[Fifth Embodiment]
FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a solid-state imaging device as a fifth embodiment of the present invention. FIG. 5A is a plan view seen from above, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG.

図5において、101はリード端子、102はパッケージ、103は半導体素子、104はダイアタッチ接着層、105はワイヤー、106は封止接着層、107は蓋材、108は突起部である。   In FIG. 5, 101 is a lead terminal, 102 is a package, 103 is a semiconductor element, 104 is a die attach adhesive layer, 105 is a wire, 106 is a sealing adhesive layer, 107 is a lid member, and 108 is a protrusion.

また、102aはパッケージ凹部、102bはウィンドフレーム面である。   Reference numeral 102a denotes a package recess, and 102b denotes a wind frame surface.

本実施の形態では、外部接続用のリード端子101がパッケージ102に埋め込み配線されている。   In the present embodiment, lead terminals 101 for external connection are embedded in the package 102 and wired.

パッケージ102は、セラミックスや樹脂の成型体で形成され、半導体素子103を搭載するために凹形状102aとなっている。   The package 102 is formed of a ceramic or resin molded body, and has a concave shape 102 a for mounting the semiconductor element 103.

半導体素子103は、パッケージ凹部102aに、例えば、銀やエポキシなどのダイアタッチペーストを用い、ダイアタッチ接着層104を介して固着されている。   The semiconductor element 103 is fixed to the package recess 102 a through a die attach adhesive layer 104 using a die attach paste such as silver or epoxy.

さらに、半導体素子103の電極は金やアルミニウムなどのワイヤー105によってリード端子101に電気的接続がなされている。   Further, the electrode of the semiconductor element 103 is electrically connected to the lead terminal 101 by a wire 105 such as gold or aluminum.

半導体素子103を搭載したパッケージ102はウインドフレーム面102bにて紫外線硬化型樹脂や熱硬化型樹脂などを用いた封止接着層106を介し透光性の蓋材107にて気密封止するようになっている。   The package 102 on which the semiconductor element 103 is mounted is hermetically sealed with a translucent lid 107 through a sealing adhesive layer 106 using an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin on the wind frame surface 102b. It has become.

特に、本実施形態ではウインドフレーム面102bに高さの均一な3箇所の突起部108を設けてある。   In particular, in the present embodiment, three protrusions 108 having a uniform height are provided on the wind frame surface 102b.

これにより蓋材107が突起部108の3点で支持され、ウインドフレーム面102bとの距離が封止面のどこをとっても一定となっており、蓋材107が傾きなく封止されている。その他の構成は、第2の実施形態と同様である。   As a result, the lid member 107 is supported at three points of the protruding portion 108, the distance from the wind frame surface 102b is constant no matter where the sealing surface is taken, and the lid member 107 is sealed without tilting. Other configurations are the same as those of the second embodiment.

[第6の実施形態]
図6は、本発明の第6の実施形態による固体撮像装置を示す図である。図6(a)は、上面から見た平面図であり、図6(b)は図6(a)のA−A’線で切断した断面図である。
[Sixth Embodiment]
FIG. 6 is a diagram showing a solid-state imaging device according to the sixth embodiment of the present invention. 6A is a plan view seen from above, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 6A.

第5の実施形態と同じ部材には同じ符号が付してある。   The same members as those in the fifth embodiment are denoted by the same reference numerals.

本実施の形態では、突起部108をウインドフレーム面102bの各コーナーに設けている。   In the present embodiment, the protrusions 108 are provided at each corner of the wind frame surface 102b.

本実施の形態によれば、突起部を形成してもパッケージ102の外形を大きくすることなく一定のシール幅を確保することが可能となった。その他の構成は、第2の実施形態と同様である。   According to the present embodiment, it is possible to ensure a certain seal width without increasing the outer shape of the package 102 even if the protrusion is formed. Other configurations are the same as those of the second embodiment.

(製造方法)
[第1の実施形態]
次に、本発明の一実施形態としての固体撮像装置の製造方法の第1の実施形態について説明する。
(Production method)
[First Embodiment]
Next, a first embodiment of a method for manufacturing a solid-state imaging device as an embodiment of the present invention will be described.

まず、第一の工程として、C−DIP5の凹部底面に樹脂を点状に3箇所塗布する。   First, as a 1st process, resin is apply | coated to the recessed part bottom face of C-DIP5 at three places dot-like.

樹脂は、紫外線硬化性樹脂、紫外線・熱併用硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いる。   As the resin, an ultraviolet curable resin, an ultraviolet / heat combined curable resin, or a thermosetting resin is used.

第二の工程として、点状に塗布された樹脂を表面の粘着性が低下し、かつ塑性変形可能な状態に硬化させる。   As a second step, the resin applied in the form of dots is cured to a state where the adhesiveness of the surface is lowered and plastic deformation is possible.

硬化の方法は、紫外線硬化性樹脂、紫外線・熱併用硬化性樹脂の場合は、紫外線を照射し、熱硬化性樹脂の場合は加熱により行なう。   The curing method is performed by irradiating ultraviolet rays in the case of an ultraviolet curable resin, an ultraviolet / heat combination curable resin, and by heating in the case of a thermosetting resin.

第三の工程として、図7に示すように、成型治具12により塑性変形可能な状態に硬化させられた樹脂を成型する。   As a third step, as shown in FIG. 7, the resin cured by the molding jig 12 so as to be plastically deformable is molded.

成型治具12は、C−DIP5の最上面への突き当て面と突き当て面に平行かつ一定の高さの加圧面を備える。   The molding jig 12 includes an abutting surface to the uppermost surface of the C-DIP 5 and a pressing surface parallel to the abutting surface and having a certain height.

第四の工程として、樹脂を完全に硬化させ、点状突起6を得る。   As a fourth step, the resin is completely cured to obtain the point-like protrusions 6.

第五の工程として、固体撮像素子チップを点状突起6上に搭載する。   As a fifth step, the solid-state image sensor chip is mounted on the dot-like protrusion 6.

第六の工程として、固体撮像素子チップとC−DIP5を金ワイヤにて電気的に接続する。   As a sixth step, the solid-state imaging device chip and the C-DIP 5 are electrically connected with a gold wire.

最終工程として、C−DIP5の最上面の段差部に透明基板を接着固定する。   As a final step, a transparent substrate is bonded and fixed to the stepped portion on the uppermost surface of C-DIP5.

なお、本実施形態は、第一の工程の前に、固体撮像素子チップから出力される信号を処理する回路が含まれる半導体チップを前記凹部の底辺に配置する工程を有し、その後に前記半導体チップ上に樹脂を点状に3箇所塗布することも考えられる。   In addition, this embodiment has the process of arrange | positioning the semiconductor chip containing the circuit which processes the signal output from a solid-state image sensor chip | tip before a 1st process at the bottom of the said recessed part, and after that the said semiconductor It is also conceivable to apply the resin in three spots on the chip.

[第2の実施形態]
次に、本発明の一実施形態としての固体撮像装置の製造方法の第2の実施形態について説明する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment of the method for manufacturing a solid-state imaging device as an embodiment of the present invention will be described.

まず、第一の工程として、C−DIP5の凹部底面に樹脂を点状に3箇所塗布する。   First, as a 1st process, resin is apply | coated to the recessed part bottom face of C-DIP5 at three places dot-like.

樹脂は、熱可塑性樹脂を用いる。   As the resin, a thermoplastic resin is used.

熱可塑性樹脂は、可塑性が発現する温度が、後の工程でおこなう加熱処理温度よりも高いものを選択する。   As the thermoplastic resin, one having a temperature at which plasticity is developed is higher than a heat treatment temperature to be performed in a later step.

第二の工程として、図7に示す成型治具12により、樹脂を加熱しながら成型し、点状突起6を得る。   As a second step, the pointed protrusion 6 is obtained by molding the resin while heating it with the molding jig 12 shown in FIG.

成型治具12は、C−DIP5の最上面への突き当て面と突き当て面に平行かつ一定の高さの加圧面を備える。   The molding jig 12 includes an abutting surface to the uppermost surface of the C-DIP 5 and a pressing surface parallel to the abutting surface and having a certain height.

第三の工程として、固体撮像素子チップを点状突起6上に搭載する。   As a third step, a solid-state image sensor chip is mounted on the dot-like projection 6.

第四の工程として、固体撮像素子チップとC−DIP5を金ワイヤにて電気的に接続する。   As a fourth step, the solid-state imaging device chip and the C-DIP 5 are electrically connected with a gold wire.

最終工程として、C−DIP5の最上面の段差部に透明基板を接着固定する。
なお本実施形態は、第一の工程の前に、固体撮像素子チップから出力される信号を処理する回路が含まれる半導体チップを前記凹部の底辺に配置する工程を有し、その後に前記半導体チップ上に樹脂を点状に3箇所塗布することも考えられる。
As a final step, a transparent substrate is bonded and fixed to the stepped portion on the uppermost surface of C-DIP5.
In addition, this embodiment has the process of arrange | positioning the semiconductor chip containing the circuit which processes the signal output from a solid-state image sensor chip | tip in the bottom of the said recessed part before a 1st process, and after that the said semiconductor chip It is also conceivable to apply the resin in three spots on the top.

[第3の実施形態]
次に、本発明の一実施形態としての固体撮像装置の製造方法の第3の実施形態について説明する。
[Third Embodiment]
Next, a third embodiment of the method for manufacturing a solid-state imaging device as an embodiment of the present invention will be described.

まず、第一の工程として、C−DIP5の凹部底面に樹脂を点状に3箇所塗布する。   First, as a 1st process, resin is apply | coated to the recessed part bottom face of C-DIP5 at three places dot-like.

樹脂は、紫外線硬化性樹脂又は紫外線・熱併用硬化性樹脂を用いる。   As the resin, an ultraviolet curable resin or an ultraviolet / heat combination curable resin is used.

第二の工程として、図7に示す成型治具12により成型し、その状態で紫外線を照射し、樹脂を硬化させ、点状突起6を得る。   As a second step, molding is performed by the molding jig 12 shown in FIG. 7, and ultraviolet rays are irradiated in this state, the resin is cured, and the point-like projections 6 are obtained.

成型治具12は、C−DIP5の最上面への突き当て面と突き当て面に平行かつ一定の高さの加圧面を備え、紫外線透過性材料からなる。   The molding jig 12 includes an abutting surface to the uppermost surface of the C-DIP 5 and a pressing surface parallel to the abutting surface and having a certain height, and is made of an ultraviolet light transmissive material.

第三の工程として、固体撮像素子チップを点状突起6上に搭載する。第四の工程として、固体撮像素子チップとC−DIP5を金ワイヤにて電気的に接続する。   As a third step, a solid-state image sensor chip is mounted on the dot-like projection 6. As a fourth step, the solid-state imaging device chip and the C-DIP 5 are electrically connected with a gold wire.

最終工程として、C−DIP5の最上面の段差部に透明基板を接着固定する。   As a final step, a transparent substrate is bonded and fixed to the stepped portion on the uppermost surface of C-DIP5.

なお、本実施形態は、第一の工程の前に、固体撮像素子チップから出力される信号を処理する回路が含まれる半導体チップを前記凹部の底辺に配置する工程を有し、その後に前記半導体チップ上に樹脂を点状に3箇所塗布することも考えられる。   In addition, this embodiment has the process of arrange | positioning the semiconductor chip containing the circuit which processes the signal output from a solid-state image sensor chip | tip before a 1st process at the bottom of the said recessed part, and after that the said semiconductor It is also conceivable to apply the resin in three spots on the chip.

本発明は、デジタルカメラ、デジタルスチルカメラなどの固体撮像装置に利用可能である。   The present invention can be used for solid-state imaging devices such as digital cameras and digital still cameras.

本発明の第1の実施形態としての固体撮像装置の断面図である。1 is a cross-sectional view of a solid-state imaging device as a first embodiment of the present invention. 本発明の第2の実施形態としての固体撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the solid-state imaging device as the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態としての固体撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the solid-state imaging device as the 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4の実施形態による固体撮像装置の断面図である。It is sectional drawing of the solid-state imaging device by the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施形態による固体撮像装置の平面図である。It is a top view of the solid-state imaging device by the 5th Embodiment of this invention. 本発明の第6の実施形態による固体撮像装置の平面図である。It is a top view of the solid-state imaging device by a 6th embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態としての固体撮像装置の製造工程を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing process of the solid-state imaging device as one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 Leadless Chip Carrierタイプのパッケージ(LCC)
2 固体撮像素子チップ
3 透明基板
4 カメラ固定用金属板
5 Ceramic-Dual In-line Packageタイプのパッケージ(C−DIP)
6 点状突起
7 パッケージ裏面の凹部
8 接着剤
9 接着剤
10 プリズム
11 半導体素子チップ
12 成型治具
1 Leadless Chip Carrier type package (LCC)
2 Solid-state image sensor chip 3 Transparent substrate 4 Metal plate for camera fixing 5 Ceramic-Dual In-line Package type package (C-DIP)
6 Point-like projections 7 Recesses on the back of the package 8 Adhesive 9 Adhesive 10 Prism 11 Semiconductor element chip 12 Molding jig

Claims (14)

固体撮像素子チップと、該固体撮像素子チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置において、
前記凹部の底辺には複数の突起が形成され、
前記固体撮像素子チップとパッケージとは前記複数の突起を介して接着されており、
前記複数の突起と前記固体撮像素子チップとが接着される頂点を結んだ面は、前記透明基板と平行であることを特徴とする固体撮像装置。
In a solid-state imaging device comprising: a solid-state imaging device chip; a package having a recess that houses the solid-state imaging device chip; and a transparent substrate that is bonded to the package to seal the solid-state imaging device chip.
A plurality of protrusions are formed on the bottom of the recess,
The solid-state image sensor chip and the package are bonded via the plurality of protrusions,
A solid-state imaging device, wherein a surface connecting apexes to which the plurality of protrusions and the solid-state imaging device chip are bonded is parallel to the transparent substrate.
固体撮像素子チップと、該固体撮像素子チップから出力される信号を処理する回路が含まれる半導体チップと、当該固体撮像素子チップ及び半導体チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップ及び前記半導体チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置において、
前記半導体チップは前記凹部の底辺に配置され、
前記半導体チップには複数の突起が形成され、
前記固体撮像素子チップと半導体チップとは前記複数の突起を介して接着されており、
前記複数の突起と前記固体撮像素子チップとが接着される頂点を結んだ面は、前記透明基板と平行であることを特徴とする固体撮像装置。
A solid-state image sensor chip; a semiconductor chip including a circuit for processing a signal output from the solid-state image sensor chip; a package having a recess for housing the solid-state image sensor chip and the semiconductor chip; the solid-state image sensor chip; In a solid-state imaging device comprising: a transparent substrate bonded to the package for sealing the semiconductor chip;
The semiconductor chip is disposed on the bottom side of the recess,
A plurality of protrusions are formed on the semiconductor chip,
The solid-state imaging device chip and the semiconductor chip are bonded via the plurality of protrusions,
A solid-state imaging device, wherein a surface connecting apexes to which the plurality of protrusions and the solid-state imaging element chip are bonded is parallel to the transparent substrate.
半導体チップと、該半導体チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記半導体チップを封止するために前記パッケージに接着される蓋材と、を備える半導体装置において、
前記凹部の底辺には複数の突起が形成され、
前記半導体子チップとパッケージとは前記複数の突起を介して接着されており、
前記複数の突起と前記半導体チップとが接着される頂点を結んだ面は、前記透明基板と平行であることを特徴とする半導体装置。
In a semiconductor device comprising: a semiconductor chip; a package having a recess for housing the semiconductor chip; and a lid member bonded to the package for sealing the semiconductor chip.
A plurality of protrusions are formed on the bottom of the recess,
The semiconductor chip and the package are bonded via the plurality of protrusions,
A semiconductor device characterized in that a surface connecting apexes to which the plurality of protrusions and the semiconductor chip are bonded is parallel to the transparent substrate.
前記突起は3つであることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の固体撮像装置。 The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the number of the protrusions is three. 前記突起が紫外線硬化性樹脂又は紫外線・熱併用硬化性樹脂からなることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の固体撮像装置。 4. The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the protrusion is made of an ultraviolet curable resin or an ultraviolet / heat combination curable resin. 5. 前記突起が熱硬化性樹脂からなることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の固体撮像装置。 The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the protrusion is made of a thermosetting resin. 前記突起が熱可塑性樹脂からなることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載の固体撮像装置。 The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the protrusion is made of a thermoplastic resin. 前記パッケージの裏面には、少なくとも3つの凸部が設けられることを特徴とする請求項1記載の固体撮像装置。 The solid-state imaging device according to claim 1, wherein at least three convex portions are provided on a back surface of the package. 前記パッケージは、セラミックからなることを特徴とする請求項1から7のいずれか1項記載の固体撮像装置。 The solid-state imaging device according to claim 1, wherein the package is made of ceramic. 前記蓋材は四角形であり、前記突起部は四隅に設けられることを特徴とする請求項3記載の半導体装置。 The semiconductor device according to claim 3, wherein the lid member is a quadrangle, and the protrusions are provided at four corners. 固体撮像素子チップと、該固体撮像素子チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置の製造方法において、
前記凹部に突起となる樹脂を塗布する工程と、
前記塗布された樹脂を変形可能な状態に硬化させる工程と、
前記硬化させた樹脂を成型する工程と、
前記成型した樹脂を成型不可能なように硬化させる工程と、
前記固体撮像素子チップを前記硬化させた樹脂の上に搭載する工程と、を含むことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
In a method for manufacturing a solid-state imaging device, comprising: a solid-state imaging device chip; a package having a recess for housing the solid-state imaging device chip; and a transparent substrate bonded to the package for sealing the solid-state imaging device chip. ,
Applying a resin to be a protrusion to the recess;
Curing the applied resin in a deformable state;
Molding the cured resin;
Curing the molded resin so that it cannot be molded;
Mounting the solid-state imaging device chip on the cured resin. A method for manufacturing a solid-state imaging device, comprising:
固体撮像素子チップと、該固体撮像素子チップから出力される信号を処理する回路が含まれる半導体チップと、前記固体撮像素子チップ及び前記半導体チップを収納する凹部を有するパッケージと、前記固体撮像素子チップ及び前記半導体チップを封止するために前記パッケージに接着される透明基板と、を備える固体撮像装置の製造方法において、
前記半導体チップを前記凹部の底辺に配置する工程と、
前記半導体チップに突起となる樹脂を塗布する工程と、
前記塗布された樹脂を変形可能な状態に硬化させる工程と、
前記硬化させた樹脂を成型する工程と、
前記成型した樹脂を成型不可能なように硬化させる工程と、
前記固体撮像素子チップを前記硬化させた樹脂の上に搭載する工程と、を含むことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
A solid-state image sensor chip, a semiconductor chip including a circuit for processing a signal output from the solid-state image sensor chip, a package having a recess for housing the solid-state image sensor chip and the semiconductor chip, and the solid-state image sensor chip And a transparent substrate bonded to the package for sealing the semiconductor chip, and a manufacturing method of a solid-state imaging device,
Placing the semiconductor chip on the bottom of the recess;
Applying a resin to be a protrusion on the semiconductor chip;
Curing the applied resin in a deformable state;
Molding the cured resin;
Curing the molded resin so that it cannot be molded;
Mounting the solid-state imaging device chip on the cured resin. A method for manufacturing a solid-state imaging device, comprising:
前記樹脂は、紫外線硬化性樹脂、紫外線・熱併用硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項11又は12記載の固体撮像装置の製造方法。 13. The method of manufacturing a solid-state imaging device according to claim 11, wherein the resin is any one of an ultraviolet curable resin, an ultraviolet / heat combination curable resin, and a thermosetting resin. 前記樹脂は、熱可塑性樹脂であることを特徴とする請求項11又は12記載の固体撮像装置の製造方法。 The method of manufacturing a solid-state imaging device according to claim 11, wherein the resin is a thermoplastic resin.
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