JP2008089236A - Heating treatment device - Google Patents

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Keiichi Isotani
恵一 磯谷
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KIGYO KUMIAI SHIZUOKA KIKAI SE
KIGYO KUMIAI SHIZUOKA KIKAI SEISAKUSHO
Furukawa Industrial Machinery Systems Co Ltd
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Furukawa Industrial Machinery Systems Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heating treatment device of a structure capable of properly eliminating the powder and granular material P attached to a bag filter. <P>SOLUTION: Pulse jets are jetted in the diameter direction to an outer peripheral face of the bag filter 151 for collecting the powder and granular material from a high-temperature gas at a cylindrical inner peripheral face. Thus the powder and granular material can be properly eliminated by the pulse jets even when the powder and granular material is attached to the inner peripheral face of the bag filter 151. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、粉粒体を加熱処理するための加熱処理装置に関し、特に、排気する高温気体からバグフィルタにより粉粒体を回収する加熱処理装置に関する。   The present invention relates to a heat treatment apparatus for heat-treating a granular material, and more particularly to a heat treatment apparatus that collects the granular material from a high-temperature gas to be exhausted with a bag filter.

現在、高温気体で粉粒体を撹拌して加熱処理する加熱処理装置が、食品からなる粉粒体の殺菌や乾燥などに利用されている。このような加熱処理装置の一従来例を図7を参照して以下に説明する。   Currently, a heat treatment apparatus that stirs and heats a granular material with a high-temperature gas is used for sterilization or drying of the granular material made of food. One conventional example of such a heat treatment apparatus will be described below with reference to FIG.

ここで例示する加熱処理装置10は、上部が円筒形で下部が下方に先鋭な円錐形の処理室11が形成されている処理装置本体12と、所定温度の高温気体Gを生成する気体生成部(図示せず)と、処理室11の内部に上方から粉粒体Pを導入する粉粒体導入部14と、処理室11の内部に下方から高温気体Gを導入する気体導入機構15と、処理室11の内部上方に設置された複数の円筒形のバグフィルタ20と、を有する。   The heat processing apparatus 10 illustrated here includes a processing apparatus main body 12 in which a conical processing chamber 11 having a cylindrical upper part and a sharp lower part is formed in a lower part, and a gas generation unit that generates a high-temperature gas G having a predetermined temperature. (Not shown), a granular material introducing portion 14 for introducing the granular material P into the processing chamber 11 from above, a gas introduction mechanism 15 for introducing the high temperature gas G into the processing chamber 11 from below, A plurality of cylindrical bag filters 20 installed above the interior of the processing chamber 11.

この加熱処理装置10では、処理室11に上方から導入される粉粒体Pが、下方から噴射される高温気体Gにより撹拌される。この高温気体Gは、処理室11の上部のバグフィルタ20を介して排気される。   In the heat treatment apparatus 10, the granular material P introduced into the processing chamber 11 from above is agitated by the high-temperature gas G injected from below. This high temperature gas G is exhausted through the bag filter 20 at the top of the processing chamber 11.

このため、高温気体Gとともに粉粒体Pが排気されることがない。なお、バグフィルタ20の表面に付着した粉粒体Pを排除するため、バグフィルタ20の内部にパルスジェットが噴射される。   For this reason, the granular material P is not exhausted together with the high temperature gas G. Note that a pulse jet is injected into the bag filter 20 in order to eliminate the powder P adhering to the surface of the bag filter 20.

現在、上述のような加熱処理装置として各種の提案がある(例えば、特許文献1、2参照)。
特開2001−27659号公報 特公昭47−49854号公報
Currently, there are various proposals for the above-described heat treatment apparatus (for example, see Patent Documents 1 and 2).
JP 2001-27659 A Japanese Patent Publication 47-49854

上述した加熱処理装置10では、処理室11の下部で高温気体Gにより粉粒体Pを撹拌し、処理室11の上部で排気する高温気体Gから粉粒体Pをバグフィルタ20により回収している。   In the heat treatment apparatus 10 described above, the granular material P is agitated by the high temperature gas G in the lower portion of the processing chamber 11, and the granular material P is recovered by the bag filter 20 from the high temperature gas G exhausted in the upper portion of the processing chamber 11. Yes.

しかし、上述の加熱処理装置10では、円筒形のバグフィルタ20の内部に軸心方向にパルスジェットを噴射している。このため、バグフィルタ20の外周面に付着した粉粒体Pを良好に排除することができない。   However, in the above-described heat treatment apparatus 10, a pulse jet is injected into the cylindrical bag filter 20 in the axial direction. For this reason, the granular material P adhering to the outer peripheral surface of the bag filter 20 cannot be excluded favorably.

本発明は上述のような課題に鑑みてなされたものであり、バグフィルタに付着した粉粒体を良好に排除することができる加熱処理装置を提供するものである。   This invention is made | formed in view of the above subjects, and provides the heat processing apparatus which can exclude favorably the granular material adhering to a bag filter.

本発明の加熱処理装置は、粉粒体を加熱処理するための加熱処理装置であって、軸心方向が上下方向と略平行な回転体状の処理室が形成されている処理装置本体と、所定温度の高温気体を生成する気体生成部と、処理室の内部に粉粒体を導入する粉粒体導入機構と、回転体状の内周面が処理室と略同径かつ略同軸状で処理装置本体の上方に配置されているバグフィルタと、バグフィルタの外周面に直径方向にパルスジェットを噴射するジェット噴射機構と、を有する。   The heat treatment apparatus of the present invention is a heat treatment apparatus for heat-treating powder particles, and a treatment apparatus main body in which a rotation-like treatment chamber whose axial center direction is substantially parallel to the vertical direction is formed, A gas generating unit that generates a high-temperature gas at a predetermined temperature, a granular material introduction mechanism that introduces granular material into the inside of the processing chamber, and a rotating body-like inner peripheral surface that is substantially the same diameter and substantially coaxial with the processing chamber. A bag filter disposed above the processing apparatus main body, and a jet injection mechanism that injects a pulse jet in a diameter direction on the outer peripheral surface of the bag filter.

本発明のフィルタユニットは、本発明の加熱処理装置に搭載されているフィルタユニットであって、回転体状の内周面が処理室と略同径かつ略同軸状で処理装置本体の上方に配置されているバグフィルタと、バグフィルタの外周面に直径方向にパルスジェットを噴射するジェット噴射機構と、を有する。   The filter unit of the present invention is a filter unit mounted on the heat treatment apparatus of the present invention, and has a rotating body-like inner peripheral surface that is substantially the same diameter and substantially coaxial with the processing chamber and is disposed above the processing apparatus main body. And a jet injection mechanism for injecting a pulse jet in the diameter direction on the outer peripheral surface of the bag filter.

従って、本発明の加熱処理装置およびフィルタユニットでは、円筒状の内周面で高温気体から粉粒体を回収するバグフィルタの外周面に直径方向にパルスジェットが噴射される。このため、バグフィルタの内周面に粉粒体が付着しても、これがパルスジェットにより排除される。   Therefore, in the heat treatment apparatus and the filter unit of the present invention, a pulse jet is jetted in the diametrical direction on the outer peripheral surface of the bag filter that collects the granular material from the high-temperature gas on the cylindrical inner peripheral surface. For this reason, even if a granular material adheres to the inner peripheral surface of a bag filter, this is excluded by a pulse jet.

なお、本発明の各種の構成要素は、必ずしも個々に独立した存在である必要はなく、複数の構成要素が一個の部材として形成されていること、一つの構成要素が複数の部材で形成されていること、ある構成要素が他の構成要素の一部であること、ある構成要素の一部と他の構成要素の一部とが重複していること、等でもよい。   The various components of the present invention do not necessarily have to be independent of each other. A plurality of components are formed as a single member, and a single component is formed of a plurality of members. It may be that a certain component is a part of another component, a part of a certain component overlaps with a part of another component, or the like.

また、本発明で云う高温とは、いわゆる常温よりも充分に高く加熱した温度であり、粉粒体の加熱処理に利用される所定範囲の温度を意味している。同様に、高湿とは、通常の雰囲気より充分に高く加湿した湿度であり、粉粒体の加熱処理に利用される所定範囲の湿度を意味している。   In addition, the high temperature referred to in the present invention is a temperature heated sufficiently higher than the so-called normal temperature, and means a temperature in a predetermined range used for the heat treatment of the granular material. Similarly, high humidity is humidity that is humidified sufficiently higher than a normal atmosphere, and means a predetermined range of humidity used for heat treatment of the granular material.

本発明の加熱処理装置およびフィルタユニットでは、円筒状の内周面で高温気体から粉粒体を回収するバグフィルタの外周面に直径方向にパルスジェットが噴射される。このため、バグフィルタの内周面に粉粒体が付着しても、これをパルスジェットにより良好に排除することができる。   In the heat treatment apparatus and the filter unit of the present invention, a pulse jet is jetted in the diametrical direction on the outer peripheral surface of the bag filter that collects the granular material from the high-temperature gas on the cylindrical inner peripheral surface. For this reason, even if a granular material adheres to the inner peripheral surface of a bag filter, this can be favorably excluded by a pulse jet.

本発明の実施の一形態を図1ないし図6を参照して以下に説明する。ただし、本実施の形態に関して前述した一従来例と同一の部分は、同一の名称および符号を使用して詳細な説明は省略する。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. However, the same parts as those of the conventional example described above with respect to the present embodiment are denoted by the same names and symbols, and detailed description thereof is omitted.

本実施の形態の加熱処理装置100は、粉粒体Pを加熱処理する。このため、加熱処理装置100は、図2に示すように、軸心方向が上下方向と略平行な回転体状の処理室111が形成されている処理装置本体110と、所定温度の高温気体Gを生成する気体生成部120と、処理室111の内部に粉粒体Pを導入する粉粒体導入機構130と、粉粒体Pを加熱処理する高温気体Gを処理室111の内部に噴射する気体噴射機構140と、回転体状の内周面が処理室111と略同径かつ略同軸状で処理装置本体120の上方に配置されているバグフィルタ151と、バグフィルタ151の外周面に直径方向にパルスジェットJを噴射するジェット噴射機構160と、を有する。   The heat treatment apparatus 100 of the present embodiment heats the granular material P. For this reason, as shown in FIG. 2, the heat treatment apparatus 100 includes a processing apparatus main body 110 in which a rotating body-like processing chamber 111 whose axial direction is substantially parallel to the vertical direction is formed, and a high-temperature gas G having a predetermined temperature. A gas generation unit 120 that generates gas, a granular material introduction mechanism 130 that introduces the granular material P into the processing chamber 111, and a high-temperature gas G that heats the granular material P is injected into the processing chamber 111. A gas injection mechanism 140, a bag filter 151 having an inner peripheral surface of a rotating body that is substantially the same diameter and substantially coaxial as the processing chamber 111 and disposed above the processing apparatus main body 120, and a diameter on the outer peripheral surface of the bag filter 151 A jet injection mechanism 160 that injects a pulse jet J in the direction.

より詳細には、処理装置本体110は、処理室111の上部が円筒形で下部が下方に先鋭な円錐形に形成されている。この処理室111の先鋭な下端には粉粒体Pの搬出口112が形成されており、そこに開閉扉113が設置されている。   In more detail, the processing apparatus main body 110 is formed in a conical shape in which the upper portion of the processing chamber 111 is cylindrical and the lower portion is sharpened downward. At the sharp lower end of the processing chamber 111, a discharge port 112 for the granular material P is formed, and an opening / closing door 113 is installed there.

また、気体生成部120は、周囲の空気を吸入して加熱するとともに加湿することにより、高湿な高温気体Gを生成する。この気体生成部120は、例えば、貯留した水の表面にバーナーにより火炎を30°〜45°の角度で噴射することにより、150℃〜250℃の高湿な高温気体Gを生成する(図示せず)。なお、このような気体生成部120は、例えば、特開平8−196424号公報に開示されている。   Moreover, the gas production | generation part 120 produces | generates high-humidity high temperature gas G by inhaling surrounding air, heating and humidifying. For example, the gas generation unit 120 generates a high-temperature gas G having a high humidity of 150 ° C. to 250 ° C. by injecting a flame onto the surface of the stored water with a burner at an angle of 30 ° to 45 ° (not shown). ) In addition, such a gas production | generation part 120 is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 8-196424, for example.

図2に示すように、気体生成部120には、粉粒体導入機構130の送気管131がブロア132を経由して配管されている。さらに、気体生成部120には、気体噴射機構140の送気管141もブロア142を経由して配管されている。   As shown in FIG. 2, an air supply pipe 131 of a granular material introduction mechanism 130 is piped to the gas generation unit 120 via a blower 132. Further, an air supply pipe 141 of the gas injection mechanism 140 is also connected to the gas generation unit 120 via the blower 142.

ただし、粉粒体導入機構130の送気管131には、粉粒体Pを導入するホッパ133が連結されている。また、気体噴射機構140の送気管141は三本に分岐されている。   However, a hopper 133 for introducing the granular material P is connected to the air supply tube 131 of the granular material introducing mechanism 130. Further, the air supply pipe 141 of the gas injection mechanism 140 is branched into three.

そして、粉粒体導入機構130は、処理室111の内周面に接線と略平行かつ略水平な方向に粉粒体Pを高温気体Gとともに噴射する。また、気体噴射機構140は、処理室111の内周面に接線と略平行かつ略水平で粉粒体導入機構130と同一の回転方向に高温気体Gのみを噴射する。   And the granular material introduction mechanism 130 injects the granular material P with the high temperature gas G to the inner peripheral surface of the processing chamber 111 in a direction substantially parallel to the tangent and substantially horizontal. In addition, the gas injection mechanism 140 injects only the high temperature gas G on the inner peripheral surface of the processing chamber 111 in substantially the same direction as the tangent line and in the same rotational direction as the granular material introduction mechanism 130.

上述の粉粒体導入機構130の送気管131と気体噴射機構140の三本の送気管141とは、図2ないし図4に示すように、処理室111の円筒形の上部の内周面に、上方から下方まで螺旋状に順番に位置している。   As shown in FIGS. 2 to 4, the above-described air supply tube 131 of the granular material introduction mechanism 130 and the three air supply tubes 141 of the gas injection mechanism 140 are arranged on the inner peripheral surface of the cylindrical upper portion of the processing chamber 111. , Located in a spiral form from top to bottom.

また、加熱処理装置100は、図2に示すように、処理装置本体110の上端にフィルタユニット150が設置されている。このフィルタユニット150は、回転体状の内周面が処理室111と略同径かつ略同軸状で処理装置本体110の上方に配置されているバグフィルタ151を有する。   In addition, as shown in FIG. 2, the heat treatment apparatus 100 is provided with a filter unit 150 at the upper end of the processing apparatus main body 110. The filter unit 150 includes a bag filter 151 having a rotating body-like inner peripheral surface substantially the same diameter and substantially coaxial with the processing chamber 111 and disposed above the processing apparatus main body 110.

より詳細には、図1と図5と図6とに示すように、フィルタユニット150は、バグフィルタ151を内側から支持する円筒状の支持ケージ152と、バグフィルタ151の外周面に直径方向にパルスジェットJを噴射するジェット噴射機構160と、を有する。   More specifically, as shown in FIGS. 1, 5, and 6, the filter unit 150 includes a cylindrical support cage 152 that supports the bag filter 151 from the inside, and a diametrical direction on the outer peripheral surface of the bag filter 151. A jet injection mechanism 160 that injects a pulse jet J.

支持ケージ152は、上下に配置された一対の円環部材153と、これらの円環部材153に立設された複数の支柱部材154と、からなる。ジェット噴射機構160は、より大径の一対の円環部材161,162と、これらの円環部材161,162に立設された複数の送気管163と、からなる。   The support cage 152 includes a pair of annular members 153 arranged on the top and bottom, and a plurality of support members 154 erected on the annular members 153. The jet injection mechanism 160 includes a pair of larger-diameter ring members 161 and 162 and a plurality of air supply pipes 163 provided upright on the ring members 161 and 162.

このため、ジェット噴射機構160の複数の送気管163は、支持ケージ152に支持されたバグフィルタ151の外周面に対向する位置に配列されている。そして、その複数の送気管163には、バグフィルタ151の外周面に対向する位置に各々複数の噴射孔164が形成されている。   Therefore, the plurality of air supply pipes 163 of the jet injection mechanism 160 are arranged at positions facing the outer peripheral surface of the bag filter 151 supported by the support cage 152. A plurality of injection holes 164 are formed in the plurality of air supply pipes 163 at positions facing the outer peripheral surface of the bag filter 151.

さらに、ジェット噴射機構160の下方の円環部材162は中空に形成されており、複数の送気管163と内部で連通している。さらに、円環部材162には、図2に示すように、パルスジェットJを生成するジェット生成部170が配管されている。   Further, the annular member 162 below the jet injection mechanism 160 is formed in a hollow shape and communicates with the plurality of air supply pipes 163 inside. Further, as shown in FIG. 2, a jet generating unit 170 that generates a pulse jet J is piped to the annular member 162.

このジェット生成部170は、周囲の空気を吸入して高圧に加圧するコンプレッサ171、加圧された高圧空気を蓄積するコンデンサ172、蓄積された高圧空気を放出するリリースバルブ173、リリースバルブ173を定期的に動作させるタイマ装置174、を有する。   The jet generation unit 170 periodically includes a compressor 171 that sucks ambient air and pressurizes it to a high pressure, a condenser 172 that accumulates pressurized high-pressure air, a release valve 173 that discharges the accumulated high-pressure air, and a release valve 173. A timer device 174 that is operated automatically.

なお、図1と図5と図6とに示すように、ジェット生成部170の送気管175は四本に分岐されており、ジェット噴射機構160の下方の円環部材162に接線と略平行な方向に等間隔に配管されている。   As shown in FIGS. 1, 5, and 6, the air supply pipe 175 of the jet generation unit 170 is branched into four, and is substantially parallel to the tangent to the annular member 162 below the jet injection mechanism 160. The pipes are equally spaced in the direction.

上述のような構成において、本実施の形態の加熱処理装置100では、加熱処理する粉粒体Pが、高温気体Gとともに処理室111の内周面に接線と略平行かつ略水平な方向に噴射されることで、粉粒体Pが高温気体Gとともに処理室111の内部を旋回する。   In the above-described configuration, in the heat treatment apparatus 100 according to the present embodiment, the granular material P to be heat-treated is jetted together with the high temperature gas G onto the inner peripheral surface of the treatment chamber 111 in a direction substantially parallel to the tangent and substantially horizontal. As a result, the granular material P rotates inside the processing chamber 111 together with the high temperature gas G.

このため、粉粒体Pと高温気体Gとの移動方向が相反しないので、高温気体Gによる粉粒体Pの挙動を均一とすることができる。従って、多量の微細な粉粒体Pでも均一に加熱処理することができる。   For this reason, since the moving direction of the granular material P and the high temperature gas G does not conflict, the behavior of the granular material P by the high temperature gas G can be made uniform. Therefore, even a large amount of fine particles P can be uniformly heat-treated.

特に、処理装置本体110の処理室111が円筒形に形成されている。このため、粉粒体Pが高温気体Gとともに円滑に旋回することができ、旋回しながら徐々に下方に移動することができる。   In particular, the processing chamber 111 of the processing apparatus main body 110 is formed in a cylindrical shape. For this reason, the granular material P can be smoothly swung together with the high-temperature gas G, and can be gradually moved downward while swirling.

しかも、この処理室111の下部は下方に先鋭な円錐形に形成されており、その下端には搬出口112が形成されている。このため、処理室111の上部への噴射による高温気体Gの旋回の下部での速度低下を防止することができる。しかも、加熱処理された粉粒体Pを簡単かつ確実に搬出することができる。   Moreover, the lower portion of the processing chamber 111 is formed in a downwardly sharp conical shape, and a carry-out port 112 is formed at the lower end thereof. For this reason, it is possible to prevent a decrease in speed at the lower part of the swirling of the high temperature gas G due to the injection to the upper part of the processing chamber 111. Moreover, the heat-treated powder P can be easily and reliably carried out.

さらに、処理室111には、粉粒体導入機構130とともに複数の気体噴射機構140が配管されている。このため、複数の箇所から処理室111に噴射される高温気体Gにより、粉粒体Pを良好に旋回させつつ加熱処理することができる。   Further, in the processing chamber 111, a plurality of gas injection mechanisms 140 are piped together with the granular material introduction mechanism 130. For this reason, it can heat-process, turning the granular material P favorably with the high temperature gas G injected to the process chamber 111 from several places.

しかも、図3および図4に示すように、粉粒体導入機構130と三つの気体噴射機構140とが、処理室111の軸心方向と円周方向とで分散された位置に配置されている。このため、円筒形の処理室111の内部全域で高温気体Gにより粉粒体Pを均等に旋回させることができ、処理室111の内部全域で高温気体Gにより粉粒体Pを均等に加熱処理することができる。   In addition, as shown in FIGS. 3 and 4, the granular material introduction mechanism 130 and the three gas injection mechanisms 140 are arranged at positions dispersed in the axial direction and the circumferential direction of the processing chamber 111. . For this reason, the granular material P can be uniformly swirled by the high temperature gas G throughout the interior of the cylindrical processing chamber 111, and the granular material P can be uniformly heated by the high temperature gas G throughout the interior of the processing chamber 111. can do.

特に、気体噴射機構140が粉粒体導入機構130より下方に位置している。このため、前述のように徐々に落下する粉粒体Pを、高温気体Gにより良好に旋回させながら加熱処理することができる。   In particular, the gas injection mechanism 140 is located below the powder body introduction mechanism 130. For this reason, the granular material P which falls gradually as mentioned above can be heat-treated while being swirled favorably by the high-temperature gas G.

さらに、粉粒体導入機構130と三つの気体噴射機構140とが、処理室111の内周面に上方から下方まで螺旋状に順番に配管されている。このため、上述のように徐々に落下する粉粒体Pを、円筒形の処理室111の内部全域で高温気体Gにより均等に旋回させながら均等に加熱処理することができる。   Furthermore, the granular material introduction mechanism 130 and the three gas injection mechanisms 140 are piped in order from the upper side to the lower side in a spiral manner on the inner peripheral surface of the processing chamber 111. For this reason, the granular material P that gradually falls as described above can be uniformly heat-treated while being swirled evenly by the high-temperature gas G in the entire interior of the cylindrical processing chamber 111.

しかも、気体生成部120は、高湿な高温気体Gを生成する。このため、高温気体Gから粉粒体Pに熱エネルギを良好に伝達させることができ、粉粒体Pを高効率に加熱処理することができる。   Moreover, the gas generation unit 120 generates a high-humidity high-temperature gas G. For this reason, heat energy can be satisfactorily transmitted from the high-temperature gas G to the granular material P, and the granular material P can be heat-treated with high efficiency.

さらに、処理室111がサイクロン機構として機能する。このため、処理室111とは別個に専用のサイクロン機構を用意しなくとも、高温気体Gと粉粒体Pとを良好に分離することができる。   Further, the processing chamber 111 functions as a cyclone mechanism. For this reason, the high temperature gas G and the granular material P can be favorably separated without preparing a dedicated cyclone mechanism separately from the processing chamber 111.

しかも、処理装置本体110の上端には、回転体状の内周面が処理室111と略同径かつ略同軸状のバグフィルタ151が設置されている。このため、処理室111の内部での高温気体Gの旋回を阻害することなく、排気される高温気体Gから粉粒体Pを良好に回収することができる。   Moreover, a bag filter 151 having a rotating body-like inner peripheral surface substantially the same diameter and substantially coaxial as the processing chamber 111 is installed at the upper end of the processing apparatus main body 110. For this reason, the granular material P can be satisfactorily recovered from the exhausted high temperature gas G without hindering the swirling of the high temperature gas G inside the processing chamber 111.

特に、円筒形のバグフィルタ151の内部でも高温気体Gが旋回するので、バグフィルタ151の内周面に粉粒体Pが付着しにくい。さらに、バグフィルタ151の外周面には、ジェット噴射機構160により直径方向にパルスジェットJが噴射される。   In particular, since the high-temperature gas G swirls inside the cylindrical bag filter 151, the powder P hardly adheres to the inner peripheral surface of the bag filter 151. Further, a pulse jet J is jetted in the diameter direction by the jet jet mechanism 160 on the outer peripheral surface of the bag filter 151.

このため、バグフィルタ151の内周面に粉粒体Pが付着しても、これがパルスジェットJにより容易に排除される。しかも、この排除された粉粒体Pは必然的に処理室111に落下するので、バグフィルタ151から排除した粉粒体Pを専用の機構で回収する必要がない。   For this reason, even if the powder P adheres to the inner peripheral surface of the bag filter 151, it is easily eliminated by the pulse jet J. Moreover, since the excluded granular material P inevitably falls into the processing chamber 111, it is not necessary to collect the granular material P excluded from the bag filter 151 by a dedicated mechanism.

しかも、処理装置本体110とバグフィルタ151とが一体に形成されており、これらを別個に設置して排気管で連結する必要がない。このため、排気管の内部に粉粒体Pが付着するようなこともなく、全体の構造が簡単で占有面積を削減することができる。   Moreover, the processing apparatus main body 110 and the bag filter 151 are integrally formed, and it is not necessary to install them separately and connect them with an exhaust pipe. For this reason, the granular material P does not adhere to the inside of the exhaust pipe, the entire structure is simple, and the occupied area can be reduced.

また、バグフィルタ151は支持ケージ152により内側から支持されている。このため、上述のように外周面にパルスジェットJが噴射されても形状を良好に維持することができる。   The bag filter 151 is supported from the inside by a support cage 152. For this reason, even if the pulse jet J is injected to the outer peripheral surface as described above, the shape can be maintained well.

特に、支持ケージ152の支柱部材154とジェット噴射機構160の送気管163とが互い違いの位置に配置されている。このため、支柱部材154によりバグフィルタ151が張架されている位置にパルスジェットJを噴射することができ、バグフィルタ151から粉粒体Pを良好に剥離させることができる。   In particular, the support member 152 of the support cage 152 and the air supply pipe 163 of the jet injection mechanism 160 are arranged at alternate positions. For this reason, the pulse jet J can be injected to the position where the bag filter 151 is stretched by the support member 154, and the powder P can be peeled off from the bag filter 151 satisfactorily.

しかも、ジェット噴射機構160はタイマ装置174により定期的にパルスジェットJを噴射する。このため、バグフィルタ151から粉粒体Pを自動的に定期的に剥離させることができる。なお、バグフィルタ151は支持ケージ152に着脱自在に装着されている。このため、バグフィルタ151を容易に交換することができる。   In addition, the jet injection mechanism 160 periodically injects the pulse jet J by the timer device 174. For this reason, the granular material P can be automatically peeled periodically from the bag filter 151. The bag filter 151 is detachably attached to the support cage 152. For this reason, the bag filter 151 can be easily replaced.

なお、本発明は本実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で各種の変形を許容する。例えば、上記形態では処理室111の上部が円筒形で下部が円錐形であることを例示した。   The present invention is not limited to the present embodiment, and various modifications are allowed without departing from the scope of the present invention. For example, in the above embodiment, the upper portion of the processing chamber 111 is cylindrical and the lower portion is conical.

しかし、処理室111の全体が円筒形や円錐形に形成されていてもよい。さらに、処理室の全体が球形に形成されていることや、下部が半球形などに形成されていることも不可能ではない。   However, the entire processing chamber 111 may be formed in a cylindrical shape or a conical shape. Furthermore, it is not impossible that the entire processing chamber is formed in a spherical shape, and the lower part is formed in a hemispherical shape.

また、全体的に粉粒体と高温気体との旋回を阻害しない回転体状に形成されていればよいので、例えば、平面形状が十二角形となる形状などに形成されていてもよい(何れも図示せず)。   Further, since it is only necessary to form a rotating body that does not hinder the swirling of the granular material and the high-temperature gas as a whole, for example, the planar shape may be formed in a dodecagon shape or the like (any (Not shown).

また、上記形態ではジェット噴射機構160がタイマ装置174により定期的にパルスジェットJを噴射することを例示した。しかし、当然ながら、手動操作などでジェット噴射機構160を動作させてもよく、加熱処理と連動した所定のタイミングなどにジェット噴射機構160を動作させてもよい。   Moreover, in the said form, it illustrated that the jet injection mechanism 160 injects the pulse jet J regularly by the timer apparatus 174. FIG. However, as a matter of course, the jet injection mechanism 160 may be operated by manual operation or the like, or the jet injection mechanism 160 may be operated at a predetermined timing linked with the heat treatment.

本発明の実施の形態の加熱処理装置のフィルタユニットの組立構造を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the assembly structure of the filter unit of the heat processing apparatus of embodiment of this invention. 加熱処理装置の全体構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of a heat processing apparatus. 加熱処理装置の要部の構造を示す二面図である。It is a double view which shows the structure of the principal part of a heat processing apparatus. 加熱処理装置の要部の構造を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the principal part of a heat processing apparatus. フィルタユニットの要部の組立構造を示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which shows the assembly structure of the principal part of a filter unit. フィルタユニットの構造を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows the structure of a filter unit. 一従来例の加熱処理装置の全体構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the whole structure of the heat processing apparatus of one prior art example.

符号の説明Explanation of symbols

10 加熱処理装置
11 処理室
12 処理装置本体
13 気体生成部
14 粉粒体導入機構
15 気体導入機構
16 排気管
17 サイクロン機構
18 搬出口
19 開閉扉
100 加熱処理装置
110 処理装置本体
111 処理室
112 搬出口
113 開閉扉
120 気体生成部
130 粉粒体導入機構
131 送気管
132 ブロア
133 ホッパ
140 気体噴射機構
141 送気管
142 ブロア
150 フィルタユニット
151 バグフィルタ
152 支持ケージ
153 円環部材
154 支柱部材
160 ジェット噴射機構
161,162 円環部材
163 送気管
164 噴射孔
170 ジェット生成部
171 コンプレッサ
172 コンデンサ
173 リリースバルブ
174 タイマ装置
175 送気管
G 高温気体
J パルスジェット
P 粉粒体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Heat processing apparatus 11 Processing chamber 12 Processing apparatus main body 13 Gas production | generation part 14 Granule introduction mechanism 15 Gas introduction mechanism 16 Exhaust pipe 17 Cyclone mechanism 18 Carrying out port 19 Opening / closing door 100 Heat processing apparatus 110 Processing apparatus main body 111 Processing chamber 112 Carrying Exit 113 Opening / closing door 120 Gas generation unit 130 Powder / particle introduction mechanism 131 Air supply pipe 132 Blower 133 Hopper 140 Gas injection mechanism 141 Air supply pipe 142 Blower 150 Filter unit 151 Bag filter 152 Support cage 153 Ring member 154 Strut member 160 Jet injection mechanism 161, 162 Ring member 163 Air supply pipe 164 Injection hole 170 Jet generation part 171 Compressor 172 Condenser 173 Release valve 174 Timer device 175 Air supply pipe G Hot gas J Pulse jet P Granule

Claims (8)

粉粒体を加熱処理するための加熱処理装置であって、
軸心方向が上下方向と略平行な回転体状の処理室が形成されている処理装置本体と、
所定温度の高温気体を生成する気体生成部と、
前記処理室の内部に前記粉粒体を導入する粉粒体導入機構と、
前記粉粒体を加熱処理する前記高温気体を前記処理室の内部に噴射する気体噴射機構と、
回転体状の内周面が前記処理室と略同径かつ略同軸状で前記処理装置本体の上方に配置されているバグフィルタと、
前記バグフィルタの外周面に直径方向にパルスジェットを噴射するジェット噴射機構と、
を有する加熱処理装置。
A heat treatment apparatus for heat-treating powder particles,
A processing apparatus main body in which a rotating chamber-like processing chamber having an axial direction substantially parallel to the vertical direction is formed;
A gas generating unit that generates a high-temperature gas of a predetermined temperature;
A granular material introduction mechanism for introducing the granular material into the processing chamber;
A gas injection mechanism for injecting the high-temperature gas for heat-treating the granular material into the processing chamber;
A bag filter having a rotating body-like inner peripheral surface substantially the same diameter and substantially coaxial with the processing chamber and disposed above the processing apparatus body;
A jet injection mechanism for injecting a pulse jet in the diameter direction on the outer peripheral surface of the bag filter;
A heat treatment apparatus.
前記粉粒体導入機構は、前記処理室の内周面に接線と略平行かつ略水平な方向に前記粉粒体を前記高温気体とともに噴射する請求項1に記載の加熱処理装置。   2. The heat treatment apparatus according to claim 1, wherein the granular material introduction mechanism injects the granular material together with the high-temperature gas in a direction substantially parallel to a tangent and substantially horizontal to an inner peripheral surface of the processing chamber. 前記気体噴射機構は、前記処理室の内周面に接線と略平行かつ略水平で前記粉粒体導入機構と同一の回転方向に前記高温気体を噴射する請求項2に記載の加熱処理装置。   3. The heat treatment apparatus according to claim 2, wherein the gas injection mechanism injects the high-temperature gas to the inner peripheral surface of the processing chamber substantially in parallel with a tangent and in a horizontal direction in the same rotation direction as the granular material introduction mechanism. 前記処理室の内周面に上方から下方まで螺旋状に前記粉粒体導入機構と複数の前記気体噴射機構とが順番に位置している請求項3に記載の加熱処理装置。   The heat treatment apparatus according to claim 3, wherein the granular material introduction mechanism and the plurality of gas injection mechanisms are positioned in order in a spiral form from above to below on an inner peripheral surface of the processing chamber. 前記気体生成部は、高湿な前記高温気体を生成する請求項1ないし4の何れか一項に記載の加熱処理装置。   The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the gas generation unit generates the high-temperature gas with high humidity. 前記処理室が円筒状に形成されている請求項1ないし5の何れか一項に記載の加熱処理装置。   The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 5, wherein the treatment chamber is formed in a cylindrical shape. 前記バグフィルタが円筒状に形成されている請求項1ないし6の何れか一項に記載の加熱処理装置。   The heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 6, wherein the bag filter is formed in a cylindrical shape. 請求項1ないし7の何れか一項に記載の加熱処理装置に搭載されているフィルタユニットであって、
回転体状の内周面が前記処理室と略同径かつ略同軸状で前記処理装置本体の上方に配置されているバグフィルタと、
前記バグフィルタの外周面に直径方向にパルスジェットを噴射するジェット噴射機構と、
を有するフィルタユニット。
A filter unit mounted on the heat treatment apparatus according to any one of claims 1 to 7,
A bag filter having a rotating body-like inner peripheral surface substantially the same diameter and substantially coaxial with the processing chamber and disposed above the processing apparatus body;
A jet injection mechanism for injecting a pulse jet in the diameter direction on the outer peripheral surface of the bag filter;
Having a filter unit.
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