JP2008087298A - 熱転写方式を用いた画像形成方法 - Google Patents

Abstract

【課題】画像の堅牢性に優れた、熱転写方式を用いた画像形成方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも１層の受容層を有し、該受容層と支持体の間に中空ポリマー粒子と親水性ポリマーを含有する少なくとも１層の断熱層を有する感熱転写受像シートと、支持体上に少なくともイエロー、マゼンタ、シアンからなる３種類の熱転写層を有し、マゼンタ熱転写層に含まれるマゼンタ染料が下記Ｍ−１に代表される特定の化合物の少なくとも１種を含み、イエロー熱転写層に含まれるイエロー染料が下記Ｙ０−（１）に代表される特定の化合物の少なくとも１種を含み、シアン熱転写層に含まれるシアン染料が下記（１３）−１に代表される特定の化合物の少なくとも１種を含む感熱転写シートとを使用する画像形成方法。

【選択図】なし

Description

本発明は、画像の堅牢性に優れた、熱転写方式を用いた画像形成方法に関するものである。

従来、種々の熱転写記録方法が知られているが、中でも染料拡散転写記録方式は、銀塩写真の画質に最も近いカラーハードコピーが作製できるプロセスとして注目されている（例えば、非特許文献１及び２参照）。しかも、銀塩写真に比べて、ドライであること、デジタルデータから直接可視像化できる、複製作りが簡単であるなどの利点を持っている。
この染料拡散転写記録方式では、色素を含有する感熱転写シート（以下、インクシートともいう。）と感熱転写受像シート（以下、受像シートともいう。）とを重ね合わせ、次いで、電気信号によって発熱が制御されるサーマルヘッドによってインクシートを加熱することでインクシート中の色素を受像シートに転写して画像情報の記録を行うものであり、シアン、マゼンタ、イエローの３色を重ねて記録することで色の濃淡に連続的な変化を有するカラー画像を転写記録することができる。
この方式で種々の色素を使用することが提案（例えば特許文献１及び２参照）されているが、得られた画像の堅牢性は必ずしも十分ではなくさらなる改良が求められていた。
特開平７−２３２４８２号公報 特開平５−２２１１６１号公報 「情報記録（ハードコピー）とその材料の新展開」，(株)東レリサーチセンター発行，１９９３年，ｐ．２４１−２８５ 「プリンター材料の開発」，(株)シーエムシー発行，１９９５年，ｐ．１８０

本発明は上記課題を解決するためのものであり、画像の堅牢性に優れた、熱転写方式を用いた画像形成方法を提供することを目的とする。

本発明の課題は、下記の手段によって解決された。
（１）支持体上に少なくとも１層の受容層を有し、該受容層と支持体の間に中空ポリマー粒子と親水性ポリマーを含有する少なくとも１層の断熱層を有する感熱転写受像シートと、支持体上に少なくともイエロー、マゼンタ、シアンからなる３種類の熱転写層を有し、マゼンタ熱転写層に含まれるマゼンタ染料が下記一般式（Ｍ）で表される化合物の少なくとも１種を含み、イエロー熱転写層に含まれるイエロー染料が下記一般式（Ｙ０）、（Ｙ１）、（Ｙ２）、（Ｙ３）または（Ｙ４）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を含み、シアン熱転写層に含まれるシアン染料が下記一般式（Ｃ１）または（Ｃ２）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を含む感熱転写シートとを使用することを特徴とする画像形成方法。

（一般式（Ｍ）において、Ｄ⁶〜Ｄ¹⁰は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アシル基またはアミノ基を表し、Ｄ¹¹およびＤ¹²は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｄ¹¹とＤ¹²が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｄ⁸とＤ¹¹または／およびＤ⁹とＤ¹²が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｘ、ＹおよびＺは＝Ｃ(Ｄ¹³)−または窒素原子を表す。ここで、Ｄ¹³は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはアミノ基を表す。また、ＸとＹが＝Ｃ(Ｄ¹³)−のとき、またはＹとＺが＝Ｃ(Ｄ¹³)−のとき、２つのＤ¹³は互いに結合して飽和ないし不飽和炭素環を形成してもよい。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）

（一般式（Ｙ０）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁶は各々独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ⁵は１価の置換基を表す。）

（一般式（Ｙ１）において、Ｒ¹¹は１価の置換基を表し、Ｒ¹²は水素原子または１価の置換基を表し、Ａｒ¹は下記へテロ環基の群（１）から選ばれる基を表し、Ｘは環形成するのに必要な原子団を表す。）

（ヘテロ環基の群（１）において、Ｒ⁶¹、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴およびＲ⁶⁵は各々独立に水素原子または置換基を表す。）

（一般式（Ｙ２）において、Ｒ^A、Ｒ^B、Ｒ^C、Ｒ^DおよびＲ^Eは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキコシアルボニル基、チオアルコキシ基、アルキルスルホニル基、アミノ基、置換あるいは非置換のフェノキシ基、または置換あるいは非置換のチオフェノキシ基を表す。Ｒ^FおよびＲ^Gは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、置換基を有してもよいアリール基、アラルキル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、またはヒドロキシアルキル基を表す。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）

（一般式（Ｙ３）において、Ｒ^1Aはアリル基またはアルキル基を表し、Ｒ^2Aは置換あるいは非置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ａは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂−または−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂−を表し、Ｒ^3Aはアルキル基を表す。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）

（一般式（Ｙ４）において、Ｒ^1B〜Ｒ^4Bは各々独立に水素原子または置換基を表す。）

（一般式（Ｃ１）において、Ｒ¹¹¹およびＲ¹¹³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹¹²およびＲ¹¹⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ¹¹⁴又は複数のＲ¹¹²は各々同じでも異なっていてもよい。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）

（一般式（Ｃ２）において、Ｄ¹⁴〜Ｄ²¹は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アシル基またはアミノ基を表し、Ｄ²²およびＤ²³は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｄ¹⁷とＤ¹⁶またはＤ²²とＤ²³が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｄ¹⁹とＤ²²または／およびＤ²⁰とＤ²³が互いに結合して環を形成していてもよい。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）
（２）前記一般式（Ｍ）において、ＸおよびＺが窒素原子を表し、Ｙが＝Ｃ(Ｄ¹³)−であることを特徴とする（１）に記載の画像形成方法。
（３）前記感熱転写シートにおいて、少なくともイエロー、マゼンタ、シアンからなる３種の熱転写層が１つの支持体上に面順次に形成されていることを特徴とする（１）または（２）に記載の画像形成方法。
（４）前記感熱転写受像シートの断熱層に含まれる前記親水性ポリマーの少なくとも１種がゼラチンであることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の画像形成方法。
（５）前記（１）〜（４）のいずれか１項に記載の画像形成方法が、前記感熱転写シートの熱転写層と前記感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。

本発明により、高濃度で高画質、かつ画像の堅牢性に優れた、熱転写方式を用いた画像形成方法を提供することができる。

以下に本発明を詳細に説明する。
最初に、本発明で使用する感熱転写受像シートを説明する。
（１）感熱転写受像シート
本発明に用いられる感熱転写受像シート（以下、受像シートとも称す）は、支持体上に少なくとも１層の染料受容層（受容層）を有し、支持体と受容層との間に少なくとも１層の断熱層（多孔質層）を有する。また、受容層と断熱層との間に、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層などの下地層が形成されていてもよい。
受容層および断熱層は同時重層塗布により形成されることが好ましい。また、下地層を含む場合は、受容層、下地層および断熱層を同時重層塗布により形成することができる。
支持体の裏面側にはカール調整層、筆記層、帯電調整層が形成されていることが好ましい。支持体の裏面側の各層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行うことができる。

＜受容層＞
［熱可塑性樹脂］
本発明において、受容層に熱可塑性樹脂が好ましく使用される。好ましい熱可塑性樹脂の例としては、ポリ塩化ビニル・ポリ塩化ビニリデン等のハロゲン化ポリマー・ポリ酢酸ビニル・エチレン酢酸ビニル共重合体・塩化ビニル酢酸ビニル共重合体・ポリアクリルエステル・ポリスチレン・ポリスチレンアクリル等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール・ポリビニルブチラール・ポリビニルアセタール等のアセタール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリプチレンテレフタレート、ポリカプロラクトン（プラクセルＨ−５、商品名、ダイセル化学工業(株)製）等のポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、特開平４−２９６５９５号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載セルロース系樹脂やセルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、ＣＡＢ３２１−０．１、いずれも商品名、イーストマンケミカル社製）等のセルロース系樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂、尿素樹脂・メラミン樹脂・ベンゾグアナミン樹脂等のポリアミド系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、相溶する範囲内で任意にブレンドして用いることもできる。特開昭５７−１６９３７０号、同５７−２０７２５０号、同６０−２５７９３号の各公報等にも受容層を形成した樹脂が開示されている。

上記ポリマー中でもポリカーボネート、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリカプロラクトンまたはこれらの混合物を含有することがさらに好ましく、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ塩化ビニルおよびその共重合体またはこれらの混合物が特に好ましい。ポリカーボネート、ポリエステル、およびポリ塩化ビニルについて、さらに詳しく説明する。以上のポリマーは、単独またはこれらの混合物として用いることができる。

（ポリエステル系ポリマー）
受容層に用いられるポリエステル系ポリマーについて、さらに詳しく説明する。ポリエステルはジカルボン酸成分（その誘導体含む）とジオール成分（その誘導体を含む）との重縮合により得られるものである。ポリエステルポリマーは、芳香環および／または脂環を含有する。脂環式ポリエステルの技術については、特開平５−２３８１６７号公報に記載の技術が染料取り込み能と像の安定性の点で有効である。

ジカルボン酸成分としては、アジピン酸、アゼライン酸、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、それらの２種以上の混合物から選ばれる。好ましくは、イソフタル酸、トリメリット酸、テレフタル酸、またはそれらの２種以上の混合物から選ばれる。ジカルボン酸成分として脂環族を有するものを含有させることは、耐光性向上の観点からより望ましい。より好ましくは、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸およびイソフタル酸を使用する。ジカルボン酸成分は、イソフタル酸５０〜１００ｍｏｌ％、トリメリット酸０〜１ｍｏｌ％、テレフタル酸０〜５０ｍｏｌ％、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸０〜１５ｍｏｌ％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。

ジオール成分は、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−ブタンジオール、ビスフェノール、またはそれらの２種以上の混合物から選ぶことができる。好ましくは、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリシクロデカンジメタノールから選ばれる。ジオール成分として脂環成分を含ませるようにすると、耐光性向上の観点からより望ましい。トリシクロデカンジメタノール以外にもシクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジエタノール等の脂環式ジオール成分を使用することができる。好ましい脂環式ジオール成分はトリシクロデカンジメタノールである。ジオール成分は、エチレングリコール０〜５０ｍｏｌ／％、ポリエチレングリコール０〜１０ｍｏｌ／％、トリシクロデカンジメタノール０〜９０ｍｏｌ／％、好ましくは３０〜９０ｍｏｌ／％、より好ましくは４０〜９０ｍｏｌ／％、１，４−ブタンジオール０〜５０ｍｏｌ／％、ビスフェノールＡ ０〜５０ｍｏｌ／％の割合で、合計１００ｍｏｌ％となるように使用する。

本発明においては、上記のジカルボン酸成分およびジオール成分を少なくとも使用して、分子量（質量平均分子量（Ｍｗ））が通常約１１０００以上、好ましくは約１５０００以上、より好ましくは約１７０００以上となるように重縮合したポリエステル系ポリマーを使用する。分子量があまり低いものを使用すると、形成される受容層の弾性率が低くなり、また耐熱性も足りなくなるので、感熱転写シートと感熱転写受像シートとの離型性を確保することが難しくなる場合がある。分子量は、弾性率を上げる観点から大きいほど望ましく、受容層形成時に塗工液溶媒に溶かすことができなくなったり、受容層を塗布乾燥後に基材シートとの接着性に悪影響が出たりする等の弊害が生じない限り、特に限定されないが、好ましくは約２５０００以下、高くても約３００００程度である。なお、エステル系ポリマーの合成法としては、従来公知の方法を使用すればよい。

飽和ポリエステルとしては、例えばバイロン２００、バイロン２９０、バイロン６００等（いずれも商品名、東洋紡(株)製）、ＫＡ−１０３８Ｃ（商品名、荒川化学工業(株)製）、ＴＰ２２０、ＴＰ２３５（いずれも商品名、日本合成化学(株)製）等が用いられる。

（ポリカーボネート系ポリマー）
受容層に用いられるポリカーボネート系ポリマーについて、さらに詳しく説明する。
ポリカーボネートは、炭酸とジオールをユニットとするポリエステルを意味し、ジオールにホスゲンを反応させる方法あるいは炭酸エステルを反応させる方法等により合成できる。

ジオール成分としては、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ノナンジオール、４，４'−ビシクロ（２，２，２）ヘプト−２−イリデンビスフェノール、４，４'−（オクタヒドロ−４，７−メタノ−５Ｈ−インデン−５−イリデン）ビスフェノールおよび２，２'，６，６'−テトラクロロビスフェノールＡが挙げられ、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオールが好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコール、ブタンジオールがより好ましく、ビスフェノールＡ、エチレングリコールが特に好ましい。本発明において使用されるポリカーボネートは、上記の１種ジオール成分を少なくとも使用するが、複数のジオールを混合して使用してもよい。

本発明に用いられるポリカーボネートの特に好ましい態様であるビスフェノールＡ−ポリカーボネートについて、詳しく説明する。ビスフェノールＡ−ポリカーボネートを中心とする未変性のポリカーボネートの技術は米国特許第４，６９５，２８６号明細書に記載されている。本発明に用いられるポリカーボネートは、分子量（質量平均分子量（Ｍｗ））が通常約１０００以上、好ましくは約３０００以上、より好ましくは約５０００以上、特に好ましくは約１００００以上の重縮合したものである。Ｍａｋｒｏｌｏｎ−５７００（商品名、Ｂａｙｅｒ ＡＧ社製）およびＬＥＸＡＮ−１４１（商品名、Ｇｅｎｅｒａｌ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ社製）等のポリカーボネートを例として挙げることができる。

ビスフェノールＡとエチレングリコールのようなジオールを混合して変性ポリカーボネートを製造する技術が米国特許第４，９２７，８０３号明細書に記載されている。ポリエーテルブロック単位は、炭素原子数２〜約１０個の線状脂肪族ジオールから形成することができるが、エチレングリコールから形成されたものが好ましい。本発明の好ましい実施態様では、ポリエーテルブロック単位は数分子量約４，０００〜約５０，０００を有し、またビスフェノールＡ−ポリカーボネートブロック単位は数分子量約１５，０００〜約２５０，０００を有する。ブロックコポリマー全体の分子量は、約３０，０００〜約３００，０００であることが好ましい。そのような具体例として、Ｍａｋｒｏｌｏｎ ＫＬ３−１０１３（商品名、Ｂａｙｅｒ ＡＧ社製）を挙げることができる。

これらの未変性および変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートを混合することも好ましく、未変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートとポリエーテル変性ポリカーボネートとを質量比８０：２０〜１０：９０で配合することが好ましく、耐指紋性向上の観点から質量比５０：５０〜４０：６０の質量比が特に好ましい。未変性および変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートのブレンド技術に関しては特開平６−２２７１６０号公報にも記載されている。

受容層に使用される熱可塑性樹脂の好ましい実施態様として、上記ポリカーボネートと上記ポリエステルのブレンド系を挙げることができる。このブレンド系では、ポリカーボネートとポリエステルの相溶性が確保できることが好ましい。ポリエステルは、好ましくは、約４０〜約１００℃のガラス転移温度（Ｔｇ）を示し、またポリカーボネートは約１００〜約２００℃のＴｇを示す。ポリエステルは、好ましくは、ポリカーボネートよりも低いＴｇを示し、そしてポリカーボネートに対してポリマー可塑剤として作用する。最終のポリエステル／ポリカーボネートブレンドのＴｇは、好ましくは４０℃〜１００℃である。より高いＴｇのポリエステルおよびポリカーボネートのポリマーも、可塑剤を添加することで有用となりうる。

さらなる好ましい実施態様では、未変性ビスフェノールＡ−ポリカーボネートとポリエステルポリマーとを、最終ブレンドのＴｇを望ましい値にし、しかもコストを最小限に抑えるような質量比でブレンドする。ポリカーボネートとポリエステルポリマーとは、約７５：２５〜２５：７５の質量比で都合よく配合することができるが、約６０：４０〜約４０：６０の質量比で配合するとより好ましい。特開平６−２２７１６１号公報にはポリカーボネートとポリエステルとのブレンド系の技術が開示されている。

受容層に用いられるポリカーボネートにおいて、ポリマー末端が少なくとも２個のヒドロキシル基を有する平均分子量約１０００〜約１０，０００ポリカーボネートとヒドロキシル基と反応する架橋剤との反応により、受容層に架橋ポリマー網状構造を形成させてもよい。特開平６−１５５９３３号公報に記載されるように、多官能性イソシアネートなどの架橋剤の技術もあり、転写後の色素供与体への粘着性を改良することもできる。さらに特開平８−３９９４２号公報に開示の技術のように、ポリカーボネートとイソシアネートの架橋反応の際、ジブチル錫ジアセテートを用いた感熱転写用の受容シートを構成する技術もあり、架橋反応の促進のみならず画像安定性や耐指紋性などを改良することもできる。

（塩化ビニル系ポリマー）
受容層に用いられる塩化ビニル系ポリマー、特に塩化ビニルを用いた共重合体について、さらに詳しく説明する。
塩化ビニル系共重合体は、塩化ビニル成分含有率８５〜９７質量％で重合度２００〜８００のものが好ましい。塩化ビニルと共重合するモノマーには特に限定はなく、塩化ビニルと共重合できればよく、酢酸ビニルが特に好ましい。したがって、受容層に用いる塩化ビニル系ポリマーとしては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体が優れているが、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体は必ずしも塩化ビニル成分と酢酸ビニル成分のみの共重合体である場合に限らず、本発明の目的を妨げない範囲のビニルアルコール成分、マレイン酸成分等を含むものであってもよい。このような塩化ビニルと酢酸ビニルを主単量体とする共重合体を構成する他の単量体成分としては、ビニルアルコール、プロピオン酸ビニルなどのビニルアルコール誘導体；アクリル酸およびメタクリル酸およびそれらのメチル、エチル、プロピル、ブチル、２−エチルヘキシルエステルなどのアクリル酸およびメタクリル酸誘導体；マレイン酸、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジオクチルなどのマレイン酸誘導体；メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテルなどのビニルエーテル誘導体；アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレンなどが挙げられる。共重合体中にしめる塩化ビニルおよび酢酸ビニルの成分比は任意の比率でよいが、塩化ビニル成分が共重合体中で５０質量％以上であるのが好ましい。また、先に挙げた塩化ビニルや酢酸ビニル以外の成分は１０質量％以下であるのが好ましい。

このような塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体としては、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＬ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＨ、ＳＯＬＢＩＮ ＣＮ、ＳＯＬＢＩＮ Ｃ５、ＳＯＬＢＩＮ Ｍ、ＳＯＬＢＩＮ ＭＦ、ＳＯＬＢＩＮ Ａ、ＳＯＬＢＩＮ ＡＬ、ＳＯＬＢＩＮ ＴＡ５Ｒ、ＳＯＬＢＩＮ ＴＡＯ、ＳＯＬＢＩＮ ＭＫ６、ＳＯＬＢＩＮ ＴＡ２（いずれも商品名、日信化学工業(株)製）、エスレックＡ、エスレックＣ、エスレックＭ（いずれも商品名、積水化学工業(株)製）、ビニライトＶＡＧＨ、ビニライトＶＹＨＨ、ビニライトＶＭＣＨ、ビニライトＶＹＨＤ、ビニライトＶＹＬＦ、ビニライトＶＹＮＳ、ビニライトＶＭＣＣ、ビニライトＶＭＣＡ、ビニライトＶＡＧＤ、ビニライトＶＥＲＲ、ビニライトＶＲＯＨ（いずれも商品名、ユニオンカーバイド社製）、デンカビニル１０００ＧＫＴ、デンカビニル１０００Ｌ、デンカビニル１０００ＣＫ、デンカビニル１０００Ａ、デンカビニル１０００ＬＫ2、デンカビニル１０００ＡＳ、デンカビニル１０００ＭＴ2、デンカビニル１０００ＣＳＫ、デンカビニル１０００ＣＳ、デンカビニル１０００ＧＫ、デンカビニル１０００ＧＳＫ、デンカビニル１０００ＧＳ、デンカビニル１０００ＬＴ3、デンカビニル１０００Ｄ、デンカビニル１０００Ｗ（いずれも商品名、電気化学工業(株)製）等が挙げられる。

（ポリマーラテックス）
本発明においては、上記以外にもポリマーラテックスを好ましく用いることができる。以下、ポリマーラテックスについて説明する。
本発明で用いる感熱転写受像シートにおいて、受容層に用いうるポリマーラテックスは水不溶な塩化ビニルをモノマー単位として含む疎水性ポリマーが微細な粒子として水溶性の分散媒中に分散したものが好ましい。分散状態としてはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分子状分散したものなどいずれでもよい。なおポリマーラテックスについては、奥田平，稲垣寛編集，「合成樹脂エマルジョン」，高分子刊行会発行（１９７８年）；杉村孝明，片岡靖男，鈴木聡一，笠原啓司編集，「合成ラテックスの応用」，高分子刊行会発行（１９９３年）；室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（１９７０年）；三代澤良明監修，「水性コーティング材料の開発と応用」，シーエムシー出版（２００４年）および特開昭６４−５３８号公報などに記載されている。分散粒子の平均粒子サイズは、好ましくは１〜５００００ｎｍ、より好ましくは５〜１０００ｎｍ程度である。
分散粒子の粒子サイズ分布に関しては特に制限は無く、広い粒子サイズ分布を持つものでも単分散の粒子サイズ分布を持つものでもよい。

ポリマーラテックスは、通常の均一構造のポリマーラテックスであっても、いわゆるコア／シェル型のラテックスであってもよい。このとき、コアとシェルでガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。本発明で用いるポリマーラテックスのガラス転移温度は、−３０℃〜１００℃が好ましく、０℃〜８０℃がより好ましく、１０℃〜７０℃がさらに好ましく、１５℃〜６０℃が特に好ましい。

受容層に用いられるポリマーラテックスとしては、ポリ塩化ビニル類、塩化ビニルをモノマー単位として含む共重合体、例えば塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニルアクリル共重合体ポリマーを好ましく用いることができる。この場合、塩化ビニルモノマーの比率は５０％〜９５％が好ましい。これらポリマーは、直鎖のポリマーでも、枝分かれしたポリマーでも、また架橋されたポリマーであってもよいし、単一のモノマーが重合したいわゆるホモポリマーであってもよいし、２種類以上のモノマーが重合したコポリマーであってもよい。コポリマーの場合は、ランダムコポリマーでも、ブロックコポリマーでもよい。これらポリマーの数平均分子量は通常5000〜1000000、好ましくは10000〜500000である。分子量が小さすぎるものはラテックスを含有する層の力学強度が不十分であることがあり、大きすぎるものは成膜性が悪いことがある。また、架橋性のポリマーラテックスも好ましく使用される。

本発明で使用できるポリマーラテックスは市販もされており、以下のようなポリマーが利用できる。例としては、日本ゼオン(株)製G351、G576、日信化学工業(株)製ビニブラン240、270、277、375、386、609、550、601、602、630、660、671、683、680、680S、681N、685R、277、380、381、410、430、432、860、863、865、867、900、900GT、938、950などが挙げられる（いずれも商品名）。

これらのポリマーラテックスは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上ブレンドして用いてもよい。
受容層においては、塩化ビニルをモノマー単位として含む共重合体ラテックスは層中の全固形分に占める比率で５０％以上であることが好ましい。

本発明では、受容層を水系の塗工液を塗布後乾燥して調製することが好ましい。ただし、ここで言う「水系」とは塗工液の溶媒（分散媒）の６０質量％以上が水であることをいう。塗工液の水以外の成分としてはメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、酢酸エチル、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、ベンジルアルコール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、オキシエチルフェニルエーテルなどの水混和性の有機溶媒を用いることができる。

ポリマーラテックスの最低造膜温度（ＭＦＴ）は、通常−３０℃〜９０℃、好ましくは０℃〜７０℃程度である。最低造膜温度をコントロールするために、造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は一時可塑剤ともよばれポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物(通常有機溶剤)で、例えば室井宗一著，「合成ラテックスの化学」，高分子刊行会発行（１９７０年）に記載されている。好ましい造膜助剤として以下の化合物を挙げることができるが、本発明で用いることができる造膜助剤は以下の具体例に限定されるものではない。
Ｚ−１：ベンジルアルコール
Ｚ−２：２，２，４−トリメチルペンタンジオール−１，３−モノイソブチレート
Ｚ−３：２−ジメチルアミノエタノール
Ｚ−４：ジエチレングルコール

本発明では、上記のポリマーラテックスを、他のポリマーラテックスと併用（ブレンド）してもよい。このようなポリマーラテックスの好ましい例としては、ポリ乳酸エステル類、ポリウレタン類、ポリカーボネート類、ポリエステル類、ポリアセタール類、ＳＢＲ類を挙げることができ、この中でも、ポリエステル類、ポリカーボネート類を挙げることができる。

さらに、本発明に用いられる上記のポリマーラテックスは、上記のポリマーラテックスとともにいかなるポリマーを併用してもよい。併用することのできるポリマーとしては、透明または半透明で、無色であることが好ましく、天然樹脂やポリマーおよびコポリマー、合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゼラチン類、ポリビニルアルコール類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリビニルピロリドン類、カゼイン、デンプン、ポリアクリル酸類、ポリメチルメタクリル酸類、ポリ塩化ビニル類、ポリメタクリル酸類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリビニルアセタール類（例えば、ポリビニルホルマールおよびポリビニルブチラール）、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリ酢酸ビニル類、ポリオレフィン類、ポリアミド類が挙げられる。バインダーは、水または有機溶媒、またはエマルションから被覆形成してもよい。

本発明に用いられるバインダーは、加工脆性と画像保存性の点でガラス転移温度（Ｔｇ）が−３０℃〜７０℃の範囲のものが好ましく、より好ましくは−１０℃〜５０℃の範囲、さらに好ましくは０℃〜４０℃の範囲である。バインダーとして２種以上のポリマーをブレンドして用いることも可能で、この場合、組成分を考慮し加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。また、相分離した場合やコア−シェル構造を有する場合には加重平均したＴｇが上記の範囲に入ることが好ましい。

このガラス転移温度（Ｔｇ）は下記式で計算することができる。
1／Tg＝Σ(Xi／Tgi)
ここでは、ポリマーはｉ＝１からｎまでのｎ個のモノマー成分が共重合しているとする。Xiはi番目のモノマーの質量分率（ΣXi=1）、Tgiはi番目のモノマーの単独重合体のガラス転移温度（絶対温度）である。ただしΣはｉ＝１からｎまでの和をとる。なお、各モノマーの単独重合体ガラス転移温度の値（Tgi）は「Polymer Handbook(3rd Edition)」(J.Brandrup，E.H.Immergut著(Wiley-Interscience、1989))の値を採用できる。

本発明において、バインダーに用いられるポリマーは、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重合法、分散重合法、アニオン重合法、カチオン重合等により容易に得ることができるが、ラテックスとして得られる乳化重合法が最も好ましい。また、ポリマーを溶液中で調製し、中和するか乳化剤を添加後に水を加え、強制的に撹拌により水分散体を調製する方法も好ましい。乳化重合法は、例えば、水、或いは、水と水に混和し得る有機溶媒（例えばメタノール、エタノール、アセトン等）との混合溶媒を分散媒とし、分散媒に対して５〜１５０質量％のモノマー混合物と、モノマー総量に対して乳化剤と重合開始剤を用い、通常３０〜１００℃程度、好ましくは６０〜９０℃で、通常３〜２４時間、攪拌下重合させることにより行われる。分散媒、モノマー濃度、開始剤量、乳化剤量、分散剤量、反応温度、モノマー添加方法等の諸条件は、使用するモノマーの種類を考慮し、適宜設定される。また、必要に応じて分散剤を用いることが好ましい。

本発明に用いられるポリマーラテックスは、その塗工液における溶媒として、水系溶媒を用いることができるが、水混和性の有機溶媒を併用してもよい。水混和性の有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール等のアルコール系、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ系、酢酸エチル、ジメチルホルミアミド等を挙げることができる。これら有機溶媒の添加量は、好ましくは溶媒の５０質量％以下、より好ましくは３０質量％以下である。

また、本発明に用いられるポリマーラテックスは、ポリマー濃度がラテックス液に対して１０〜７０質量％であることが好ましく、さらに２０〜６０質量％、特に３０〜５５質量％であることが好ましい。
なお、本発明の受像シートにおけるポリマーラテックスは、塗布後に溶媒の一部を乾燥させることにより形成されるゲルまたは乾燥皮膜の状態を含む。

［乳化分散物］
本発明においては、受容層中に乳化分散物（乳化物）を含有することが好ましい。特にポリマーラテックスを使用する場合に好ましい。
ここで、「乳化」とは、一般的に用いられる定義に従うものである。例えば、化学大辞典(共立出版株式会社)によれば「乳化」とは「ある液体の中にこれと溶け合わない別の液体が細粒として分散し、エマルジョンを生成する現象」としている。また、「乳化分散物」とは「液体の小滴であって、それを溶かさない他の液体中に分散したもの」をいう。本発明において、好ましい「乳化分散物」は「水中に分散した油滴分散物」である。本発明の受像シートにおいて乳化分散物の含有量は、受像シート中に０．０３ｇ／ｍ²〜２５．０ｇ／ｍ²含まれることが好ましく、１．０ｇ／ｍ²〜２０．０ｇ／ｍ²含まれることがより好ましい。

本発明において、乳化分散物の油溶分に高沸点溶媒を含むことが好ましい。好ましい高沸点溶媒としては、フタル酸エステル類（フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ−２−エチルヘキシル等）、リン酸またはホスホン酸エステル類（リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル等）、脂肪酸エステル類（コハク酸ジ−２−エチルヘキシル、クエン酸トリブチル等）、安息香酸エステル類（安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸ドデシル等）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジエチルドデカンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルオレインアミド等）、アルコールまたはフェノール類（イソステアリルアルコール、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール等）、アニリン類（Ｎ，Ｎ−ジブチル−２−ブトキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルアニリン等）、塩素化パラフィン類、炭化水素類（ドデシルベンゼン、ジイソプロピルナフタレン等）、カルボン酸類（２−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）酪酸等が挙げられる。高沸点溶媒としてさらに好ましくは、リン酸またはホスホン酸エステル類（リン酸トリフェニル、リン酸トリクレジル、リン酸トリ−２−エチルヘキシル等）である。また、補助溶媒として沸点が３０℃以上１６０℃以下の有機溶媒（酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルセロソルブアセテート、ジメチルホルムアミド等）を併用してもよい。高沸点溶媒は、乳化分散物中に、３．０〜２５質量％含まれることが好ましく、５．０〜２０質量％含まれることがさらに好ましい。
さらに該乳化分散物中に画像堅牢化剤、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。これらの化合物としては、特開２００４−３６１９３６号公報に記載の一般式（Ｂ）、（Ｐｈ）、（Ｅ−１）〜（Ｅ−３）、（ＴＳ−Ｉ）〜（ＴＳ−VII）、（ＴＳ−VIIIＡ）、（ＵＡ）〜（ＵＥ）のいずれかで表される化合物が好ましい。また水不溶かつ有機溶媒可溶性の単独もしくは共重合体（特開２００４−３６１９３６号公報の段落番号０２０８〜０２３４に記載化合物が好ましい）を含有してもよい。

［可塑剤］
受容層の感度を良くするため、可塑剤（高沸点有機溶剤）を添加することもできる。このような可塑剤としては、フタル酸エステル、リン酸エステル、アジピン酸エステル、セバシン酸エステルなどのモノメリック型の可塑剤、アジピン酸、セバシン酸などとプロピレングリコールなどが重合したポリエステル型可塑剤など、一般的に塩化ビニル樹脂用の可塑剤として用いることのできるものが挙げられる。先に挙げた可塑剤は一般に低分子量であるが、他に塩化ビニルの高分子可塑剤として使用されるオレフィン系特殊共重合樹脂も使用することができる。このような用途に用いられる樹脂として、エルバロイ７４１、エルバロイ７４２、エルバロイＨＰ４４３、エルバロイＨＰ５５３、エルバロイＥＰ４０１５、エルバロイＥＰ４０４３、エルバロイＥＰ４０５１（いずれも商品名、三井・デュポンポリケミカル(株)製）などで市販されているものを使用することができる。このような可塑剤は、樹脂に対し１００質量％程度添加することもできるが、印画物のにじみ等の点でその使用量は３０質量％以下であるのが好ましい。なお、ポリマーラテックスを使用する場合は、前述のように乳化分散物としてこれらの可塑剤を使用することが好ましい。

受容層は、溶剤塗布によらずに、上記ポリマー樹脂の溶融物を押し出しコーティングすることによってキャストすることができる。この押し出しコーティングの技術はエンサイクロピィーディア・オブ・ポリマー・サイエンス・アンド・テクニークス（Encyclopedia of Polymer Science and Engineering），第３巻（John Wiley，New York），１９８５年，５６３頁や、第６巻，１９８６年，６０８頁に記載されている。特開平７−１７９０７５号公報にも感熱色素転写材用に関する技術が開示されており、本技術も好適に使用することができる。ポリマー樹脂としては、シクロヘキサンジカルボキシレートとエチレングリコール／ビスフェノールＡ−ジエタノールの５０／５０モル％混合物（ＣＯＰＯＬ；登録商標）とを縮合して得られたコポリマーが特に好ましい。

［離型剤］
感熱転写受像シートの受像面に充分な剥離性能がない場合には、画像形成時にサーマルヘッドによる熱によって感熱転写シートと感熱転写受像シート（受像シート）が融着し、剥離時に大きな剥離音が発生したり、また、染料層が層ごと転写されたり、受容層が基材から剥離するいわゆる異状転写の問題が発生する。上記のような剥離性の問題を解決する方法としては、各種離型剤を受容層中に内添する方法、若しくは、受容層の上に別途離型層を設ける方法が知られている。本発明では、画像印画時の感熱転写シートと受像シートとの離型性をより確実に確保するために、離型剤を受容層に使用することが好ましい。
離型剤としては、例えば、ポリエチレンワックス、アミドワックス、テフロンパウダー(テフロン：登録商標)等の固形ワックス類；シリコーンオイル、リン酸エステル系化合物、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤およびその他当該技術分野で公知の離型剤を使用することができ、フッ素系界面活性剤等に代表されるフッ素系化合物、シリコーン系界面活性剤、シリコーンオイルおよび／またはその硬化物等のシリコーン系化合物が好ましく用いられる。

シリコーンオイルとしては、ストレートシリコーンオイル、および変性シリコーンオイルやその硬化物が使用できる。ストレートシリコーンオイルには、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイルがあり、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ９６−１０、ＫＦ９６−１００、ＫＦ９６−１０００、ＫＦ９６Ｈ−１００００、ＫＦ９６Ｈ−１２５００、ＫＦ９６Ｈ−１０００００（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等を挙げられ、ジメチルシリコーンオイルとしては、ＫＦ５０−１００、ＫＦ５４、ＫＦ５６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。

変性シリコーンオイルは、反応性シリコーンオイルと非反応性シリコーンオイルに分類できる。反応性シリコーンオイルには、アミノ変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、ヒドロキシ変性、メタクリル変性、メルカプト変性、フェノール変性、片末端反応性・異種官能基変性がある。アミノ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８５８、Ｘ−２２−３６８０、Ｘ−２２−３８０１Ｃ、ＫＦ−８０１０、Ｘ−２２−１６１Ａ、ＫＦ−８０１２（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、エポキシ変性シリコーンオイルとしては、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ−１０１、ＫＦ−６０−１６４、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３４３、Ｘ−２２−３０００Ｔ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。カルボキシル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６２Ｃ（商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、ヒドロキシ変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６０ＡＳ、ＫＦ−６００１、ＫＦ−６００２、ＫＦ−６００３、Ｘ−２２−１７０ＤＸ、Ｘ−２２−１７６ＤＸ、Ｘ−２２−１７６Ｄ、Ｘ−２２−１７６ＤＦ（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられ、メタクリル変性シリコーンオイルとしては、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２４−８２０１、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−２４２６（いずれも商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。

反応性シリコーンオイルとしては、硬化させて使用することもでき、反応硬化型、光硬化型、触媒硬化型等に分類できる。このなかで反応硬化型のシリコーンオイルが特に好ましく、反応硬化型シリコーンオイルとしては、アミノ変性シリコーンオイルとエポキシ変性シリコーンオイルとを反応硬化させたものが好ましい。また、触媒硬化型あるいは光硬化型シリコーンオイルとしては、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ、ＫＳ−７０５Ｆ−ＰＳ−１、ＫＳ−７７０−ＰＬ−３〔触媒硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業（株）製〕、ＫＳ−７２０、ＫＳ−７７４−ＰＬ−３〔光硬化型シリコーンオイル：いずれも商品名、信越化学工業（株）製〕等が挙げられる。これら硬化型シリコーンオイルの添加量は受像層を構成する樹脂の０．５〜３０質量％が好ましい。離型剤は、ポリエステル樹脂１００質量部に対して通常２〜４質量％、好ましくは２〜３質量％程度使用する。その量が少なすぎると、離型性を確実に確保することができず、また多すぎると保護層が受像シートに転写しなくなってしまう。

非反応性シリコーンオイルとしては、ポリエーテル変性、メチルスチリル変性、アルキル変性、高級脂肪酸エステル変性、親水性特殊変性、高級アルコキシ変性、フッ素変性等がある。ポリエーテル変性シリコーン（ＫＦ−６０１２、商品名、信越化学工業(株)製）が挙げられ、メチルスチル変性シリコーンシリコーンオイルとしては、（２４−５１０、商品名、信越化学工業(株)製）等が挙げられる。また、下記一般式１〜３のいずれかで表される変性シリコーンも使用することができる。

一般式１中、Ｒは水素原子、またはアリール基若しくはシクロアルキル基で置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎはそれぞれ独立に２０００以下の整数を表し、ａ、ｂはそれぞれ独立に３０以下の整数を表す。

一般式２中、Ｒは水素原子、またはアリール基若しくはシクロアルキル基で置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍは２０００以下の整数を表し、ａ、ｂはそれぞれ独立に３０以下の整数を表す。

一般式３中、Ｒは水素原子、またはアリール基若しくはシクロアルキル基で置換されてもよい直鎖または分岐のアルキル基を表す。ｍ、ｎはそれぞれ独立に２０００以下の整数を表し、ａ、ｂはそれぞれ独立に３０以下の整数を表す。Ｒ¹は単結合または２価の連結基を表し、Ｅはエチレン基または置換エチレン基を表し、Ｐはプロピレン基または置換プロピレン基を表す。

上記のようなシリコーンオイルは「シリコーンハンドブック」（日刊工業新聞社刊）に記載されており、硬化型シリコーンオイルの硬化技術として、特開平８−１０８６３６号公報や特開２００２−２６４５４３号公報に記載の技術が好ましく使用できる。
なお、単色印画のハイライト部で染料バインダーが受容層に取られる異状転写を起こすことがある。また、従来、付加重合型シリコーンは、触媒の存在下で硬化反応を進行させるのが一般的であり、硬化触媒としては、鉄族、白金族の８族遷移金属錯体のほとんど全てが有効であることが知られているが、一般には白金化合物が最も効率がよく、通常はシリコーンオイルに可溶の白金錯体である白金触媒が好ましく使用される。反応に必要な添加量としては、１〜１００ｐｐｍ程度で充分である。

この白金触媒は、Ｎ、Ｐ、Ｓ等を含む有機化合物、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｈｇ、Ｂｉ、Ａｓ等の重金属イオン性化合物、アセチレン基等、多重結合を含む有機化合物と強い相互作用を持つため、上記化合物（触媒毒）と共に使用すると、触媒としてのヒドロシリル化能力を失ってしまい、硬化触媒としての機能を果たさなくなるため、シリコーンの硬化不良を起こすという欠点を持っている（「シリコーンハンドブック」日刊工業新聞社）。よって、このような硬化不良の付加重合型シリコーンでは、受容層において使用しても、全く剥離性能を発揮しない。活性水素と反応する硬化剤として、イソシアネート化合物を使用することが考えられるが、このイソシアネート化合物や、その触媒である有機錫化合物は、白金触媒の触媒毒にあたる。従って、従来においては、付加重合型シリコーンは、イソシネート化合物と併用されることがなく、よって、イソシアネート化合物で硬化することにより剥離性能を発揮する活性水素を有する変性シリコーンと併用されることはなかった。

しかしながら、１）活性水素と反応する硬化剤の反応基当量と、熱可塑性樹脂および活性水素を有する変性シリコーン両方の反応基当量との比を１：１〜１０：１とし、２）付加重合型シリコーンに対する白金触媒量を、白金触媒の白金原子として１００〜１００００ｐｐｍとすることにより、付加重合型シリコーンの硬化疎外を防止することができる。上記１）の活性水素と反応する硬化剤の反応基当量が１以下の場合には、活性水素を有するシリコーンと、熱可塑性樹脂の活性水素との硬化量が小さく、良好な剥離性能が得られない。逆に、当量比が１０以上の場合には、受容層塗工液のインクの使用可能時間が短く実質上使用できない。また、２）の白金触媒量が、１００ｐｐｍ以下の場合には、触媒毒で活性が失われ、１００００ｐｐｍ以上の場合には、受容層塗工液のインク使用可能時間が短く使用できないものとなる。

受容層の塗布量は、０．５〜１０ｇ／ｍ²（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましい。

＜離型層＞
硬化変性シリコーンオイルは、受容層に添加しなくても、受容層の上に形成される離型層に添加してもよい。この場合は、受容層として、上述した様な熱可塑性樹脂を一種類以上使用して形成してもよく、またシリコーンを添加した受容層を使用してもよい。この離型層は、硬化型変性シリコーンを含有してなるが、使用するシリコーンの種類や使用方法は、受容層に使用する場合と同様である。また、触媒や遅延剤を使用する場合も、受容層中に添加するのと同様である。離型層は、シリコーンのみにより形成してもよいし、バインダー樹脂として、相溶性のよい樹脂と混合して使用してもよい。この離型層の厚みは、０．００１〜１ｇ／ｍ²程度である。

フッ素系界面活性剤としては、Ｆｌｕｏｒａｄ ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（いずれも商品名、３Ｍ社製）が挙げられる。

＜下地層＞
受容層と支持体との間には下地層が形成されていることが好ましく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号公報、特許第２９２５２４４号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。

＜断熱層＞
断熱層は、サーマルヘッド等を用いた加熱転写時における熱から支持体を保護する役割を果たす。また、高いクッション性を有するので、基材として紙を用いた場合であっても、印字感度の高い熱転写受像シートを得ることができる。断熱層は１層でも２層以上でも良い。断熱層は、受容層より支持体側に設けられる。

（中空ポリマー）
本発明に用いられる受像シートにおいて、断熱層は中空ポリマーを含有する。
本発明における中空ポリマーとは粒子内部に独立した気孔を有するポリマー粒子であり、例えば、［１］ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル樹脂等により形成された隔壁内部に水などの分散媒が入っており、塗布乾燥後、粒子内の分散媒が粒子外に蒸発して粒子内部が中空となる非発泡型の中空粒子、［２］ブタン、ペンタンなどの低沸点液体を、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリル、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステルのいずれか又はそれらの混合物もしくは重合物よりなる樹脂で覆っており、塗工後、加熱により粒子内部の低沸点液体が膨張することにより内部が中空となる発泡型マイクロバルーン、［３］上記の［２］をあらかじめ加熱発泡させて中空ポリマーとしたマイクロバルーンなどが挙げられる。

これらの中空ポリマーの粒子サイズは０．１〜２０μｍが好ましく、０．１〜２μｍがより好ましく、０．１〜１μｍが更に好ましく、０.２〜０.８μｍが特に好ましい。サイズが小さすぎると、中空率が下がる傾向があり望まれる断熱性が得られなくなり、サイズが大きすぎると、断熱層の膜厚に対して中空ポリマーの粒子径が大きすぎて平滑な面が得られにくくなり、粗大粒子に起因する塗布故障が発生しやすくなるためである。
中空ポリマーの中空率は、２０〜７０％程度のものが好ましく、２０〜５０％のものがより好ましい。これは、中空率が２０％未満になると十分な断熱性が得られなくなり、中空率が過剰に高くなると、粒子サイズが好ましい範囲では不完全な中空粒子の比率が増えて、十分な膜強度が得られなくなるからである。
本発明での中空ポリマーの中空率とは、中空粒子の透過顕微鏡写真により撮影される透過画像において、下式（ａ）で算出される値Ｐである。

上記式（ａ）において、Ｒａｉは特定の粒子ｉの画像を構成する２つの輪郭のうち、内側輪郭（中空部輪郭を示す）の円相当換算直径を表し、Ｒｂｉは特定の粒子ｉの画像を構成する２つの輪郭のうち、外側輪郭（粒子外形を示す）の円相当換算直径を表し、ｎは測定粒子個数を表し、ｎ≧３００である

中空ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）は７０℃以上であることが好ましく、１００℃以上であることがより好ましい。中空ポリマーは必要に応じて２種以上混合して使用することができる。

このような中空ポリマーは市販されており、前記［１］の具体例としてはローアンドハース社製ローペイク１０５５、大日本インキ社製ボンコートＰＰ−１０００、ＪＳＲ社製ＳＸ８６６（Ｂ）、日本ゼオン社製ニッポールＭＨ５０５５（いずれも商品名）などが挙げられる。前記［２］の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０、Ｆ−５０（いずれも商品名）などが挙げられる。前記［３］の具体例としては松本油脂製薬社製のＦ−３０Ｅ、日本フェライト社製エクスパンセル４６１ＤＥ、５５１ＤＥ、５５１ＤＥ２０（いずれも商品名）が挙げられる。これらの中で、前記［１］の系列の中空ポリマーがより好ましく使用できる。

中空ポリマーを含む断熱層中にはバインダー樹脂として水分散型樹脂または水溶解型樹脂をバインダーとして含有することが好ましい。本発明で使用されるバインダー樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、酢酸ビニル樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、スチレンーブタジエン共重合体、ポリ塩化ビニリデン樹脂、セルロース誘導体、カゼイン、デンプン、ゼラチンなどの公知の樹脂を用いることができる。本発明においてはゼラチンを用いることが特に好ましい。またこれらの樹脂は単独又は混合して用いることができる。

断熱層における中空ポリマーの固形分含有量は、バインダー樹脂の固形分含有量を１００質量部としたとき５〜２０００質量部の間であることが好ましく、５〜１０００質量部の間であることがより好ましく、５〜４００質量部の間であることが更に好ましい。また、中空ポリマーの固形分の塗工液に対して占める質量比は、１〜７０質量％が好ましく、１０〜４０質量％がより好ましい。中空ポリマーの比率が少なすぎると十分な断熱性をえることができず、中空ポリマーの比率が多すぎると中空ポリマー同士の結着力が低下し、十分な膜強度が得られず、耐擦過性が悪化する。

本発明に用いられる受像シートは、断熱層に、中空ポリマー以外に、有機溶剤に耐性の無い樹脂を含まない。有機溶剤に耐性の無い樹脂（色素染着性樹脂）を断熱層に含むと、画像転写後の画像にじみが増大するため好ましくない。これは、断熱層に色素染着性樹脂および中空ポリマーが存在することで、転写後、受容層に染着した色素が、経時で、隣接した断熱層を介して色素の移動が起こるためであると考えられる。
ここで、「有機溶剤に耐性の無い」とは、有機溶剤（メチルエチルケトン、酢酸エチル、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）への溶解度が１質量％以下、好ましくは０．５質量％以下であることをいう。例えば前記ポリマーラテックスは、「有機溶剤に耐性の無い樹脂」に含まれる。

中空ポリマーを含む断熱層の厚みは５〜５０μｍであることが好ましく、５〜４０μｍであることがより好ましい。

中空ポリマーを含む断熱層の厚みと、中空ポリマーを含む断熱層の固形塗布量から算出される断熱層の空隙率は、１０〜７０％が好ましく、１５〜６０％が更に好ましい。断熱層の空隙率が１０％未満だと十分な断熱性が得られず、７０％以上だと中空ポリマー同士の結着力が低下し十分な膜強度が得られず、耐擦過性が悪化する。
本発明において断熱層の空隙率、下式（ｂ）にて算出される値Ｖである。

上記式（ｂ）において、Ｌは断熱層の膜厚を示し、ｇｉは断熱層を構成する特定の素材ｉの固形塗布量をしめし、ｄｉは特定の素材ｉの比重を示す。ここで、ｄｉが中空ポリマーの比重を示すとき、ｄｉは中空ポリマーの壁材の比重を示す。

（親水性ポリマー）
断熱層は親水性ポリマー（以後、水溶性ポリマーまたは水溶性高分子とも称す）を含有する。本発明に用いることのできる水溶性ポリマーは、天然高分子（多糖類系、微生物系、動物系）、半合成高分子（セルロース系、デンプン系、アルギン酸系）および合成高分子系（ビニル系、その他）であり、以下に述べるポリビニルアルコールを始めとする合成ポリマーや、植物由来のセルロース等を原料とする天然あるいは半合成ポリマーが本発明で使用できる水溶性ポリマーに該当する。
ここで、水溶性ポリマーとは、２０℃における水１００ｇに対し０．０５ｇ以上溶解すればよく、より好ましくは０．１ｇ以上、さらに好ましくは０．５ｇ以上、特に好ましくは１ｇ以上である。

本発明に用いることのできる水溶性ポリマーのうち、天然高分子および半合成高分子について詳しく説明する。植物系多糖類としては、アラビアガム、κ−カラギーナン、ι−カラギーナン、λ−カラギーナン、グアガム（Squalon製Supercolなど）、ローカストビーンガム、ペクチン、トラガント、トウモロコシデンプン（National Starch ＆ Chemical Co.製Purity-21など）、リン酸化デンプン（National Starch ＆ Chemical Co.製National 78-1898など）など、微生物系多糖類としては、キサンタンガム（Kelco製Keltrol Tなど）、デキストリン（National Starch ＆ Chemical Co.製Nadex360など）など、動物系天然高分子としては、ゼラチン（Croda製Crodyne B419など）、カゼイン、コンドロイチン硫酸ナトリウム（Croda製Cromoist CSなど）などが挙げられる（いずれも商品名）。セルロース系としては、エチルセルロース（I.C.I.製Cellofas WLDなど）、カルボキシメチルセルロース(ダイセル製CMCなど)、ヒドロキシエチルセルロース(ダイセル製HECなど)、ヒドロキシプロピルセルロース（Aqualon製Klucelなど）、メチルセルロース（Henkel製Viscontranなど）、ニトロセルロース（Hercules製Isopropyl Wetなど）、カチオン化セルロース（Croda製Crodacel QMなど）などが挙げられる（いずれも商品名）。デンプン系としては、リン酸化デンプン（National Starch ＆ Chemical製National 78-1898など）、アルギン酸系としては、アルギン酸ナトリウム（Kelco製Keltoneなど）、アルギン酸プロピレングリコールなど、その他の分類として、カチオン化グアガム（Alcolac製Hi-care1000など）、ヒアルロン酸ナトリウム（Lifecare Biomedial製Hyalureなど）が挙げられる（いずれも商品名）。
本発明においてはゼラチンが好ましい態様の一つである。本発明に用いるゼラチンは分子量10,000から1,000,000までのものを用いることができる。本発明に用いられるゼラチンはＣｌ^-、ＳＯ₄ ^2-等の陰イオンを含んでいてもよいし、Ｆｅ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｍｇ²⁺、Ｓｎ²⁺、Ｚｎ²⁺などの陽イオンを含んでいても良い。ゼラチンは水に溶かして添加することが好ましい。

本発明に用いることのできる水溶性ポリマーのうち、合成高分子について詳しく説明する。アクリル系としてはポリアクリル酸ナトリウム、ポリアクリル酸共重合体、ポリアクリルアミド、ポリアクリルアミド共重合体、ポリジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート四級塩またはその共重合体など、ビニル系としては、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン共重合体、ポリビニルアルコールなど、その他としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリイソプロピルアクリルアミド、ポリメチルビニルエーテル、ポリエチレンイミン、ポリスチレンスルホン酸又はその共重合体、ナフタレンスルホン酸縮合物塩、ポリビニルスルホン酸又はその共重合体、ポリアクリル酸又はその共重合体、アクリル酸又はその共重合体等、マレイン酸共重合体、マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロイルメチルプロパンスルホン酸又はその共重合体、など）、ポリジメチルジアリルアンモニウムクロライドまたはその共重合体、ポリアミジンまたはその共重合体、ポリイミダゾリン、ジシアンシアミド系縮合物、エピクロルヒドリン・ジメチルアミン縮合物、ポリアクリルアミドのホフマン分解物、水溶性ポリエステル（互応化学(株)製プラスコートZ-221、Z-446、Z-561、Z-450、Z-565、Z-850、Z-3308、RZ-105、RZ-570、Z-730、RZ-142（いずれも商品名））などである。

また、米国特許第４，９６０，６８１号明細書、特開昭６２−２４５２６０号公報等に記載の高吸水性ポリマー、すなわち−ＣＯＯＭまたは−ＳＯ₃Ｍ（Ｍは水素原子またはアルカリ金属）を有するビニルモノマーの単独重合体またはこのビニルモノマー同士もしくは他のビニルモノマーの共重合体（例えばメタクリル酸ナトリウム、メタクリル酸アンモニウム、住友化学(株)製のスミカゲルＬ−５Ｈ（商品名））も使用することができる。

本発明に用いることのできる水溶性合成高分子のうちポリビニルアルコール類が好ましい。
以下に、ポリビニルアルコールについてさらに詳しく説明する。
完全けん化物としては、ＰＶＡ−１０５［ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）含有率９４．０質量％以上、けん化度９８．５±０．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．５質量％以下、揮発分５．０質量％以下、粘度（４質量％、２０℃）５．６±０．４ＣＰＳ］、ＰＶＡ−１１０［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度９８．５±０．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．５質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）１１．０±０．８ＣＰＳ］、ＰＶＡ−１１７［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度９８．５±０．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）２８．０±３．０ＣＰＳ］、

ＰＶＡ−１１７Ｈ［ＰＶＡ含有率９３．５質量％、けん化度９９．６±０．３モル％、酢酸ナトリウム含有率１．８５質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）２９．０±３．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−１２０［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度９８．５±０．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）３９．５±４．５ＣＰＳ］、ＰＶＡ−１２４［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度９８．５±０．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）６０．０±６．０ＣＰＳ］、

ＰＶＡ−１２４Ｈ［ＰＶＡ含有率９３．５質量％、けん化度９９．６±０．３モル％、酢酸ナトリウム含有率１．８５質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）６１．０±６．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−ＣＳ［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度９７．５±０．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）２７．５±３．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−ＣＳＴ［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度９６．０±０．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）２７．０±３．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−ＨＣ［ＰＶＡ含有率９０．０質量％、けん化度９９．８５モル％以上、酢酸ナトリウム含有率２．５質量％、揮発分８．５質量％、粘度（４質量％、２０℃）２５．０±３．５ＣＰＳ］（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）など、

部分けん化物としては、ＰＶＡ−２０３［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）３．４±０．２ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２０４［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）３．９±０．３ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２０５［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）５．０±０．４ＣＰＳ］、

ＰＶＡ−２１０［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）９．０±１．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２１７［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）２２．５±２．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２２０［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）３０．０±３．０ＣＰＳ］、

ＰＶＡ−２２４［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）４４．０±４．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２２８［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）６５．０±５．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２３５［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）９５．０±１５．０ＣＰＳ］、

ＰＶＡ−２１７ＥＥ［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）２３．０±３．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２１７Ｅ［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）２３．０±３．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−２２０Ｅ［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）３１．０±４．０ＣＰＳ］、

ＰＶＡ−２２４Ｅ［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８８．０±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）４５．０±５．０ＣＰＳ］、ＰＶＡ−４０３［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８０．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）３．１±０．３ＣＰＳ］、ＰＶＡ−４０５［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度８１．５±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）４．８±０．４ＣＰＳ］、

ＰＶＡ−４２０［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度７９．５±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％］、ＰＶＡ−６１３［ＰＶＡ含有率９４．０質量％、けん化度９３．５±１．０モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％、揮発分５．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）１６．５±２．０ＣＰＳ］、Ｌ−８［ＰＶＡ含有率９６．０質量％、けん化度７１．０±１．５モル％、酢酸ナトリウム含有率１．０質量％（灰分）、揮発分３．０質量％、粘度（４質量％、２０℃）５．４±０．４ＣＰＳ］（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）などがある。

なお、上記の測定値はＪＩＳ Ｋ−６７２６−１９７７に準じて求めたものである。

変性ポリビニルアルコールについては、長野浩一ら共著，「ポバール」（高分子刊行会発行）に記載のものが用いられる。カチオン、アニオン、−ＳＨ化合物、アルキルチオ化合物、シラノールによる変性がある。

このような変性ポリビニルアルコール（変性ＰＶＡ）としては、ＣポリマーとしてＣ−１１８、Ｃ−３１８、Ｃ−３１８−２Ａ、Ｃ−５０６（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）、ＨＬポリマーとしてＨＬ−１２Ｅ、ＨＬ−１２０３（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）、ＨＭポリマーとしてＨＭ−０３、ＨＭ−Ｎ−０３（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）、ＫポリマーとしてＫＬ−１１８、ＫＬ−３１８、ＫＬ−５０６、ＫＭ−１１８Ｔ、ＫＭ−６１８（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）、ＭポリマーとしてＭ−１１５（クラレ(株)製の商品名）、ＭＰポリマーとしてＭＰ−１０２、ＭＰ−２０２、ＭＰ−２０３（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）、ＭＰＫポリマーとして、ＭＰＫ−１、ＭＰＫ−２、ＭＰＫ−３、ＭＰＫ−４、ＭＰＫ−５、ＭＰＫ−６（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）、ＲポリマーとしてＲ−１１３０、Ｒ−２１０５、Ｒ−２１３０（以上、いずれもクラレ(株)製の商品名）、ＶポリマーとしてＶ−２２５０（クラレ(株)製の商品名）などがある。

ポリビニルアルコールは、その水溶液に添加する微量の溶剤あるいは無機塩類によって粘度調整をしたり粘度安定化させたりすることが可能であって、詳しくは上記文献、長野浩一ら共著，「ポバール」，高分子刊行会発行，144〜154頁記載のものを使用することができる。その代表例としてホウ酸を含有させることで塗布面質を向上させることができ、好ましい。ホウ酸の添加量は、ポリビニルアルコールに対し０．０１〜４０質量％であることが好ましい。

断熱層に使用する好適なバインダーは透明又は半透明で、一般に無色であり、天然樹脂やポリマー及びコポリマー、合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィルムを形成する媒体、例えば、ゴム類、ポリビニルアルコール類、ヒドロキシエチルセルロース類、セルロースアセテート類、セルロースアセテートブチレート類、ポリビニルピロリドン類、デンプン、ポリアクリル酸類、ポリメチルメタクリル酸類、ポリ塩化ビニル類、ポリメタクリル酸類、スチレン−無水マレイン酸共重合体類、スチレン−アクリロニトリル共重合体類、スチレン−ブタジエン共重合体類、ポリビニルアセタール類（例えば、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール）、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン類、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリ酢酸ビニル類、ポリオレフィン類、セルロースエステル類、ポリアミド類であって水溶性のものである。

本発明においては、水溶性ポリマーがポリビニルアルコール類、ゼラチンが好ましく、ゼラチンが最も好ましい。
断熱層における水溶性ポリマーの添加量は、当該断熱層全体の１〜７５質量％であることが好ましく、１〜５０質量％であることがより好ましい。
断熱層にゼラチンを使用する場合、ゼラチンの塗工液に占める量は０．５〜１４質量％が好ましく、１〜６質量％が特に好ましい。また、断熱層における前記中空ポリマーの塗布量は１〜１００ｇ／ｍ²が好ましく、５〜２０ｇ／ｍ²がより好ましい。

また、断熱層に含まれる水溶性ポリマーは、硬膜剤により架橋されていることが好ましい。好ましく用いることができる架橋剤およびその使用量の好ましい範囲は前記と同様である。
断熱層中の水溶性ポリマーは、硬膜剤の種類によっても異なるが、水溶性ポリマーに対して、０．１〜２０質量％架橋されていることが好ましく、１〜１０質量％架橋されていることがより好ましい。

本発明においては、前記受容層にも断熱層において使用される水溶性ポリマーを使用することも好ましい形態であり、これらの水溶性ポリマーの好ましいポリマーは、断熱層と同じである。

（硬膜剤）
架橋剤（水溶性ポリマーを架橋することができる化合物もしくは架橋剤とも称す）として本発明に用いられる硬膜剤は、受像シートの塗設層（例えば、受容層、断熱層、下塗層など）中に添加することができる。特に好ましくは、水溶性ポリマーを使用する層に使用する場合である。
本発明で用いることができる硬膜剤としては、特開平１−２１４８４５号公報１７頁のＨ−１，４，６，８，１４，米国特許第４,６１８,５７３号明細書のカラム１３〜２３の式（VII）〜（XII）で表わされる化合物（Ｈ−１〜５４）、特開平２−２１４８５２号公報８頁右下の式（６）で表わされる化合物（Ｈ−１〜７６），特にＨ−１４、米国特許第３,３２５,２８７号明細書のクレーム１に記載の化合物などが好ましく用いられる。硬膜剤の例としては米国特許第４,６７８,７３９号明細書の第４１欄、同第４,７９１,０４２号、特開昭５９−１１６６５５号、同６２−２４５２６１号、同６１−１８９４２号、特開平４−２１８０４４号の公報または明細書等に記載の硬膜剤が挙げられる。より具体的には、アルデヒド系硬膜剤（ホルムアルデヒドなど）、アジリジン系硬膜剤、エポキシ系硬膜剤、ビニルスルホン系硬膜剤（Ｎ，Ｎ’−エチレン−ビス（ビニルスルホニルアセタミド）エタンなど）、Ｎ−メチロール系硬膜剤（ジメチロール尿素など）、ほう酸、メタほう酸あるいは高分子硬膜剤（特開昭６２−２３４１５７号公報などに記載の化合物）が挙げられる。
好ましくはビニルスルホン系硬膜剤やクロロトリアジン類が挙げられる。
本発明においてさらに好ましい硬膜剤は下記一般式（Ｂ）または（Ｃ）で表される化合物である。
一般式（Ｂ）
(ＣＨ₂＝ＣＨ−ＳＯ₂)n−Ｌ
一般式（Ｃ）
(Ｘ−ＣＨ₂−ＣＨ₂−ＳＯ₂)n−Ｌ
一般式（Ｂ）、（Ｃ）中でＸはハロゲン原子を表し、Ｌはｎ価の有機連結基を表す。一般式（Ｂ）または（Ｃ）で表される化合物が低分子化合物である場合ｎは１ないし４の整数を表す。高分子化合物である場合Ｌはポリマー鎖を含む有機連結基であり、このときｎは１０〜１０００の範囲である。

一般式（Ｂ）、（Ｃ）中で、Ｘは好ましくは塩素原子または臭素原子で、臭素原子がより好ましい。ｎは１ないし４の整数であるが、好ましくは２ないし４の整数、より好ましくは２ないし３の整数、最も好ましくは２である。

Ｌはｎ価の有機基を表し、好ましくは脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基またはヘテロ環基であり、これらの基がエーテル結合、エステル結合、アミド結合、スルホンアミド結合、ウレア結合、ウレタン結合等でさらに連結していてもよい。また、これらの基は置換基を有していてもよく、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイルオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、ホスホリル基、カルボキシル基、スルホ基等が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基およびアシルオキシ基が好ましい。

ビニルスルホン系硬膜剤の具体的な例として下記（ＶＳ−１）〜（ＶＳ−２７）を挙げるが、本発明においては、これらに限定されない。

これらの硬膜剤は、米国特許第４，１７３，４８１号明細書等の記載の方法を参照して得ることができる。
また、クロロトリアジン系硬膜剤としては、少なくとも１個のクロル原子が、２位、４位または６位に置換した１，３，５−トリアジン化合物が好ましい。
塩素原子は、２位、４位または６位に、２個または３個置換したものもがより好ましい。２位、４位または６位に、少なくとも１個の塩素原子が置換して、残りの位置に、塩素原子以外の基が置換してもよく、これらの基としては、水素原子、臭素原子、フッ素原子、沃素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ヒドロキシルアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アルケノキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニルオキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、アルキルオキシもしくはアリールオキシカルボニル基などが挙げられる。
クロロトリアジン系硬膜剤の具体的な例は、４，６−ジクロロ−２−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンもしくはこのＮａ塩、２−クロロ−４，６−ジフェノキシトリアジン、２−クロロ−４，６−ビス〔２，４，６−トリメチルフェノキシ〕トリアジン、２−クロロ−４，６−ジグリシドキシ−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４−（ｎ−ブトキシ）−６−グリシドキシ−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４−（２，４，６−トリメチルフェノキシ）−６−グリシドキシ−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４−（２−クロロエトキシ）−６−（２，４，６−トリメチルフェノキシ）１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４−（２−ブロモエトキシ）−６−（２，４，６−トリメチルフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４−（２−ジ−ｎ−ブチルホスファトエトキシ）−６−（２，４，６−トリメチルフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２−クロロ−４−（２−ジ−ｎ−ブチルホスファトエトキシ）−６−（２，６−キシレノキシ）−１，３，５−トリアジン等であるが、本発明においてこれらに限定されない。
このような化合物は、塩化シアヌル（すなわち２，４，６−トリクロロトリアジン）を、複素環上の置換基に対応するヒドロキシ化合物、チオ化合物またはアミノ化合物等と反応させることによって容易に製造できる。

これらの硬膜剤は、水溶性ポリマー１ｇあたり０．００１〜１ｇ、好ましくは０．００５〜０．５ｇが用いられる。

＜下地層＞
受容層と断熱層との間には下地層が形成されていてもよく、例えば白地調整層、帯電調節層、接着層、プライマー層が形成される。これらの層については、例えば特許第３５８５５９９号公報、特許第２９２５２４４号公報などに記載されたものと同様の構成とすることができる。

＜支持体＞
本発明では、どのような支持体でもよく、感熱転写受像シートで公知の支持体が好ましいが、耐水性支持体が特に好ましく用いられる。耐水性支持体を用いることで支持体中に水分が吸収されるのを防止して、受容層の経時による性能変化を防止することができる。耐水性支持体としては例えばコート紙やラミネート紙を用いることができる。

−コート紙−
前記コート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴムラテックス又は高分子材料を片面又は両面に塗工した紙であり、用途に応じて、塗工量が異なる。このようなコート紙としては、例えば、アート紙、キャストコート紙、ヤンキー紙等が挙げられる。

前記原紙等の表面に塗工する樹脂としては、熱可塑性樹脂を使用することが適当である。このような熱可塑性樹脂としては、例えば、以下の（イ）〜（チ）の熱可塑性樹脂を例示することができる。

（イ）ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等のポリオレフィン樹脂や、エチレンやプロピレン等のオレフィンと、他のビニルモノマーとの共重合体樹脂や、アクリル樹脂等が挙げられる。
（ロ）エステル結合を有する熱可塑性樹脂である。例えば、ジカルボン酸成分（これらのジカルボン酸成分にはスルホン酸基、カルボキシル基等が置換していてもよい）と、アルコール成分（これらのアルコール成分には水酸基などが置換されていてもよい）との縮合により得られるポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリブチルアクリレート等のポリアクリル酸エステル樹脂又はポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、スチレンアクリレート樹脂、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体樹脂、ビニルトルエンアクリレート樹脂等が挙げられる。
具体的には、特開昭５９−１０１３９５号公報、同６３−７９７１号公報、同６３−７９７２号公報、同６３−７９７３号公報、同６０−２９４８６２号公報などに記載のものを挙げることができる。
また、市販品としては、東洋紡(株)製のバイロン２９０、バイロン２００、バイロン２８０、バイロン３００、バイロン１０３、バイロンＧＫ−１４０、バイロンＧＫ−１３０；花王(株)製のタフトンＮＥ−３８２、タフトンＵ−５、ＡＴＲ−２００９、ＡＴＲ−２０１０；ユニチカ(株)製のエリーテルＵＥ３５００、ＵＥ３２１０、ＸＡ−８１５３、ＫＺＡ−７０４９、ＫＺＡ−１４４９；日本合成化学(株)製のポリエスターＴＰ−２２０、Ｒ−１８８；星光化学工業(株)製のハイロスシリーズの各種熱可塑性樹脂（いずれも商品名）等が挙げられる。

（ハ）ポリウレタン樹脂等が挙げられる。
（ニ）ポリアミド樹脂、尿素樹脂等が挙げられる。
（ホ）ポリスルホン樹脂等が挙げられる。
（ヘ）ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−プロピオン酸ビニル共重合体樹脂等が挙げられる。
（ト）ポリビニルブチラール等の、ポリオール樹脂、エチルセルロース樹脂、酢酸セルロース樹脂等のセルロース樹脂等が挙げられる。
（チ）ポリカプロラクトン樹脂、スチレン−無水マレイン酸樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等が挙げられる。
なお、前記熱可塑性樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

また、前記熱可塑性樹脂には、増白剤、導電剤、填料、酸化チタン、群青、カーボンブラック等の顔料や染料等を必要に応じて含有させておくことができる。

−ラミネート紙−
前記ラミネート紙は、原紙等のシートに、各種の樹脂、ゴム又は高分子シート又はフィルム等をラミネートした紙である。前記ラミネート材料としては、例えば、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド、トリアセチルセルロース等が挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

前記ポリオレフィンは、一般に低密度ポリエチレンを用いて形成することが多いが、支持体の耐熱性を向上させるために、ポリプロピレン、ポリプロピレンとポリエチレンとのブレンド、高密度ポリエチレン、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンド等を用いるのが好ましい。特に、コストや、ラミネート適性等の点から、高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いるのが最も好ましい。

前記高密度ポリエチレンと、前記低密度ポリエチレンとのブレンドは、例えば、ブレンド比率（質量比）１／９〜９／１で用いられる。該ブレンド比率としては、２／８〜８／２が好ましく、３／７〜７／３がより好ましい。該支持体の両面に熱可塑性樹脂層を形成する場合、支持体の裏面は、例えば、高密度ポリエチレン、或いは高密度ポリエチレンと低密度ポリエチレンとのブレンドを用いて形成されるのが好ましい。ポリエチレンの分子量としては、特に制限はないが、メルトインデックスが、高密度ポリエチレン及び低密度ポリエチレンのいずれについても、１．０〜４０ｇ／１０分の間のものであって、押出し適性を有するものが好ましい。
尚、これらのシート又はフィルムには、白色反射性を与える処理を行ってもよい。このような処理方法としては、例えば、これらのシート又はフィルム中に酸化チタンなどの顔料を配合する方法が挙げられる。

前記支持体の厚みとしては、２５μｍ〜３００μｍが好ましく、５０μｍ〜２６０μｍがより好ましく、７５μｍ〜２２０μｍが更に好ましい。該支持体の剛度としては、種々のものがその目的に応じて使用することが可能であり、写真画質の電子写真用受像シート用の支持体としては、カラー銀塩写真用の支持体に近いものが好ましい。

＜カール調整層＞
支持体がそのまま露出していると環境中の湿度・温度により感熱転写受像シートがカールしてしまうことがあるため、支持体の裏面側にカール調整層を形成することが好ましい。カール調整層は、受像シートのカールを防止するだけでなく防水の役割も果たす。カール調整層には、ポリエチレンラミネートやポリプロピレンラミネート等が用いられる。具体的には、例えば特開昭６１−１１０１３５号公報、特開平６−２０２２９５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。

＜筆記層・帯電調整層＞
筆記層・帯電調整層には、無機酸化物コロイドやイオン性ポリマー等を用いることができる。帯電防止剤として、例えば第四級アンモニウム塩、ポリアミン誘導体等のカチオン系帯電防止剤、アルキルホスフェート等のアニオン系帯電防止剤、脂肪酸エステル等のノニオン系帯電防止剤など任意のものを用いることができる。具体的には、例えば特許第３５８５５８５号公報などに記載されたものと同様にして形成することができる。

以下、本発明の感熱転写受像シートの製造方法について説明する。
本発明の感熱転写受像シートは、少なくとも１層の受容層、中間層および断熱層を支持体上に同時重層塗布することで形成することができる。
支持体上に複数の機能の異なる複数の層（気泡層、断熱層、中間層、受容層など）からなる多層構成の受像シートを製造する場合、特開２００４−１０６２８３号、同２００４−１８１８８８号、同２００４−３４５２６７号等の各公報に示されている如く各層を順次塗り重ねていくか、あらかじめ各層を支持体上に塗布したものを張り合わせることにより製造することが知られている。一方、写真業界では例えば複数の層を同時に重層塗布することにより生産性を大幅に向上させることが知られている。例えば米国特許第２，７６１，７９１号、同第２，６８１，２３４号、同第３，５０８，９４７号、同第４，４５７，２５６号、同第３，９９３，０１９号、特開昭６３−５４９７５号、特開昭６１−２７８８４８号、同５５−８６５５７号、同５２−３１７２７号、同５５−１４２５６５号、同５０−４３１４０号、同６３−８０８７２号、同５４−５４０２０号、特開平５−１０４０６１号、同５−１２７３０５号、特公昭４９−７０５０号の公報または明細書やEdgar B. Gutoffら著，「Coating and Drying Defects：Troubleshooting Operating Problems」，John Wiley＆Sons社，1995年，101〜103頁などに記載のいわゆるスライド塗布（スライドコーティング法）、カーテン塗布（カーテンコーティング法）といわれる方法が知られている。
本発明では、上記同時重層塗布を多層構成の受像シートの製造に用いることにより、生産性を大幅に向上させると同時に画像欠陥を大幅に減少させることができる。

本発明においては複数の層は樹脂を主成分として構成される。各層を形成するための塗布液は水分散ラテックスであることが好ましい。各層の塗布液に占めるラテックス状態の樹脂の固形分質量は５〜８０％の範囲が好ましく２０〜６０％の範囲が特に好ましい。上記水分散ラテックスに含まれる樹脂の平均粒子サイズは５μｍ以下であり１μｍ以下が特に好ましい。上記水分散ラテックスは必要に応じて界面活性剤、分散剤、バインダー樹脂など公知の添加剤を含むことができる。
本発明では米国特許２，７６１，７９１号明細書に記載の方法で支持体上に複数の層の積層体を形成した後速やかに固化させることが好ましい。一例として樹脂により固化する多層構成の場合、支持体上に複数の層を形成した後すばやく温度を上げることが好ましい。またゼラチンなど低温でゲル化するバインダーを含む場合には支持体上に複数の層を形成した後すばやく温度を下げることが好ましい場合もある。
本発明においては多層構成を構成する１層あたりの塗布液の塗布量は１ｇ／ｍ²〜５００ｇ／ｍ²の範囲が好ましい。多層構成の層数は２以上で任意に選択できる。受容層は支持体から最も遠く離れた層として設けられることが好ましい。

（２）感熱転写シート
次に、本発明に用いられる感熱転写シート（以後、インクシートとも称す）について説明する。
熱転写画像形成の際に、上述した感熱転写受像シートと併せて使用されるインクシートは、支持体上に拡散転写染料を含む色素層を設けたものである。色素層の塗布は、ロールコート、バーコート、グラビアコート、グラビアリバースコート等の一般的な方法で行われる。

前記感熱転写受像シートと組み合わせる、本発明に用いられるインクシートの熱転写層（以後、色素層とも称す）には、マゼンタ色素として前記一般式（Ｍ）で表される少なくとも１種の色素を含むこと、イエロー色素として前記一般式（Ｙ０）、（Ｙ１）〜（Ｙ４）のいずれかで表される少なくとも１種の色素を含むこと、シアン色素として前記一般式（Ｃ１）もしくは（Ｃ２）で表される少なくとも１種の色素を含むことがそれぞれ必須である。

最初に一般式（Ｍ）で表される色素について説明する。
一般式（Ｍ）で表される化合物は、マゼンタ色素である。
Ｄ⁶〜Ｄ¹⁰は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子など）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メトキシ、ブトキシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど）、アリール基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−トリル、ナフチルなど）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニルオキシ、ｍ−ニトロフェニルオキシ、ｐ−ニトロフェニルオキシ、ｐ−トリルオキシ、ナフチルオキシなど）、シアノ基、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ブチルカルボニルアミノ、オクチルカルボニルアミノなど）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、トルエンスルホンアミドなど）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、Ｎ−メチルウレイド、Ｎ,Ｎ−ジメチルウレイド、Ｎ−フェニルウレイド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルウレイド、Ｎ−オクチルウレイドなど）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜１２、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、イソプロポキシカルボニルアミノ、ｎ−オクチルオキシカルボニルアミノなど）、

アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチルチオ、オクチルチオ、イソブチルチオｔ−オクチルチオなど）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜１０、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオなど）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜１２、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ｎ−オクチルオキシカルボニルなど）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ,Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル、Ｎ−ブチル−Ｎ−フェニルカルバモイルなど）、スルファモイル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、Ｎ−メチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルスルファモイルなど）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチルスルホニル、ブチルスルホニル、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニルなど）、アシル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、ホルミル、アセチル、ラウロイルなど）またはアミノ基（好ましくは炭素数０〜１２、例えば、アミノ、メチルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチルＮ−フェニルアミノ、オクチルアミノなど）を表し、Ｄ¹¹およびＤ¹²は各々独立に水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メトキシ、ブトキシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど）またはアリール基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−トリル、ナフチルなど）を表す。Ｄ¹¹とＤ¹²が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｄ⁸とＤ¹¹または／およびＤ⁹とＤ¹²が互いに結合して環を形成していてもよい。これらの各基はさらに置換基を有してもよく、該置換基としては上述の基が挙げられる。

Ｘ、ＹおよびＺは＝Ｃ(Ｄ¹³)−または窒素原子を表す。ここで、Ｄ¹³は水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）、アリール基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−トリル、ナフチルなど）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メトキシ、ブトキシ、オクチルオキシ、ドデシルオキシなど）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニルオキシ、ｍ−ニトロフェニルオキシ、ｐ−ニトロフェニルオキシ、ｐ−トリルオキシ、ナフチルオキシなど）またはアミノ基（好ましくは炭素数０〜１２、例えば、アミノ、メチルアミノ、フェニルアミノ、Ｎ−メチルＮ−フェニルアミノ、オクチルアミノなど）を表す。また、ＸとＹが＝Ｃ(Ｄ¹³)−のとき、またはＹとＺが＝Ｃ(Ｄ¹³)−のとき、２つのＤ¹³は互いに結合して飽和ないし不飽和炭素環を形成してもよい。上記の各基はさらに置換基を有していてもよい。該置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アシル基、ヘテロ環基、スルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基またはアミノ基などが挙げられる。
Ｄ⁶は、好ましくはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）、アリール基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロロフェニルなど）である。より好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロロフェニルなど）である。
Ｄ⁷〜Ｄ¹⁰は、好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）であり、好ましくは水素原子あるいは、炭素数１〜３のアルキル基であり、これらは更に置換基を有していてもよい。Ｄ¹¹で好ましいものは、炭素数３〜６の非置換又は、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基で置換されたアルキル基であり、より好ましくは、炭素数３〜６の非置換又は、シアノ基で置換されたアルキル基である。
Ｄ¹²は、好ましくは、以下の一般式（II）または（III）で表される構造である。

式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹は各々独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニルアミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基を表す。好ましくは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）であり、より好ましくは水素原子、メチル基、エチル基である。Ｒ¹²は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニルアミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基を表す。好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−トリル、ｐ−メトキシフェニル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロロフェニルなど）である。ｎは１〜５を表し、好ましくは１〜３である。ｎが２以上のとき、複数のＲ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹はそれぞれ互いに同一でも異なっていてもよい。
またＸ，Ｙ，Ｚの組み合わせについてはＸ、Ｚが窒素原子であり、Ｙは炭素原子＝Ｃ(Ｄ¹³)−であることがより好ましい。上記の各基はさらに置換基を有していてもよい。

以下に、一般式（Ｍ）で表される色素の具体例を示す。本発明はこれにより限定されるものではない。

これらの化合物は特開平５−２８６２６８号公報に記載の方法もしくはこれに準じた方法で容易に合成できる。

次に一般式（Ｙ０）で表される色素について、説明する。

一般式（Ｙ０）で表されるアゾ色素は、カプラー成分がアミノピラゾールであり、かつジアゾ成分であるイミダゾールの１−位の置換基としてカルボニル基が導入されていることが特徴の色素である。
イミダゾールの１−位の置換基が水素原子やアルキル基の色素と比較して、光堅牢性が圧倒的に優れる。これは、カルボニルの酸素原子とアゾ基の窒素原子がカプラー部のアミノ基上の水素原子を交叉水素結合することで励起エネルギーを効率的に失活できることに起因すると考えられる。

一般式（Ｙ０）において、Ｒ¹、Ｒ³およびＲ⁴は各々独立に、水素原子または１価の置換基を表す。ここで表す置換基に関しては特に制限はないが、代表例として、ハロゲン原子、アルキル基（本願では、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む飽和脂肪族基を意味する）、アルケニル基（本願では、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む二重結合を有する不飽和脂肪族基を意味する）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基およびヘテロ環アミノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していてもよい。
一般式（Ｙ０）において、Ｒ²およびＲ⁶は水素原子または１価の置換基を表す。ここで表す置換基に関しては特に制限はないが、代表例として、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していてもよい。
一般式（Ｙ０）において、Ｒ⁵は１価の置換基を表す。ここで表す置換基に関しては特に制限はないが、代表例として、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基およびヘテロ環アミノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していてもよい。

以下に１価の置換基をさらに詳しく説明する。
なお、本願明細書中に使用される置換基を有してもよいとの表現における置換基も下記に示す１価の置換基が適用される。

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。

アルキル基には、シクロアルキル基、およびビシクロアルキル基が含まれる。アルキル基には、直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、および２−エチルヘキシル基を挙げることができる。シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基を挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基を挙げることができる。例として、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基を挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中の「アルキル」（例えばアルキルチオ基の「アルキル」）もこのような概念の「アルキル」を表す。

アルケニル基にはシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基を挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基を挙げることができる。

アルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、およびプロパルギル基が挙げられる。

アリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基が挙げられる。

ヘテロ環基は、置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、それらはさらに縮環していてもよい。これらのヘテロ環基としては、好ましくは５または６員のヘテロ環基であり、また環構成のヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子が好ましい。さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基を構成する環を置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環が挙げられる。

アルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、メトキシエトキシ基、ヒドロキシエトキシ基および３−カルボキシプロポキシ基などを挙げることができる。

アリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例として、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基などを挙げることができる。

アシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基などを挙げることができる。

カルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基などを挙げることができる。

アルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基などを挙げることができる。

アリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基などを挙げることができる。

アミノ基は、アルキルアミノ基、アリールアミノ基およびヘテロ環アミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ-メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、ヒドロキシエチルアミノ基、カルボキシエチルアミノ基、スルフォエチルアミノ基、３，５−ジカルボキシアニリノ基、４−キノリルアミノ基などを挙げることができる。

アシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

アミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基などを挙げることができる。なお、この基における「アミノ」の用語は、前述のアミノ基における「アミノ」と同じ意味である。

アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

アリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基などを挙げることができる。

アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基などを挙げることができる。

アルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基などを挙げることができる。

スルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）基などを挙げることができる。

アルキルもしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基などを挙げることができる。

アルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルホニル基の例には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル基などを挙げることができる。

アシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニル基などを挙げることができる。

アリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基などを挙げることができる。

アルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基などを挙げることができる。

カルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基などを挙げることができる。

アリールもしくはヘテロ環アゾ基として、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ基などを挙げることができる。

イミド基として、例えば、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基などを挙げることができる。

Ｒ¹は、好ましくは置換または無置換の炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のアリール基、シアノ基、置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアシルアミノ基、カルバモイル基であり、さらに好ましくは置換または無置換の炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、最も好ましくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基である。

Ｒ²は、好ましくは置換または無置換の炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアシル基であり、さらに好ましくは置換または無置換の炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のアリール基、最も好ましくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基である。

Ｒ³およびＲ⁴は各々独立に、好ましくはＨａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐ値が０．２〜１．０の電子求引性基である。Ｒ³はσｐ値が０．３０以上の電子求引性基であるのがより好ましく、０．４５以上の電子求引性基であるのがさらに好ましく、０．６０以上の電子求引性基であるのが特に好ましい。σｐの上限は、好ましくは１．０以下である。σｐ値が０．６０以上の電子求引性基の例として、ニトロ基、シアノ基、メタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、トリフルオロアセチル基、ジメチルアミノスルホニル基、スルファモイル基などが挙げられ、σｐ値が０．４５以上の電子求引性基の例として、アルコキシカルボニル基、アシル基、カルボキシ基が挙げられ、σｐ値が０．３０以上の電子求引性基の例として、スルホ基、カルバモイル基が挙げられる。
より好ましくは、シアノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、さらに好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、最も好ましくはシアノ基である。

ここで、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基定数σｐ値について若干説明する。
Ｈａｍｍｅｔｔ則は、ベンゼン誘導体の反応または平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。Ｈａｍｍｅｔｔ則で求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができるが、例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編［Ｌａｎｇｅ’ｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ］第１２版、１９７９年（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ）や「化学の領域」増刊１２２号９６〜１０３頁，１９７９年（南光堂）に詳しい。なお、本明細書において各置換基をハメットの置換基定数σｐにより限定したり、説明したりするが、これは上記の成書で見出せる、文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもＨａｍｍｅｔｔ則に基づいて測定した場合にその範囲内に包まれるであろう置換基をも含むことを意味する。また、本発明の一般式中には、ベンゼン誘導体ではないものも含まれるが、置換基の電子効果を示す尺度として、置換位置に関係なくσｐ値を使用する。本明細書においてσｐ値をこのような意味で使用する。

Ｒ⁵は、好ましくは置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリール基であり、より好ましくは、置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基であり、最も好ましくは炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基である。

本発明の一般式（Ｙ０）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。
好ましい組み合わせは、Ｒ¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ²が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ³がシアノ基またはアルコキシカルボニル基、Ｒ⁴がシアノ基またはアルコキシカルボニル基、Ｒ⁵が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、置換もしくは無置換のアリール基である。
より好ましい組み合わせは、Ｒ¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ²が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ³がシアノ基、Ｒ⁴がシアノ基、Ｒ⁵が炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基である。
最も好ましい組み合わせは、Ｒ¹が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ²が置換もしくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基、Ｒ³がシアノ基、Ｒ⁴がシアノ基、Ｒ⁵が炭素数２〜４のジアルキルアミノ基である。

一般式（Ｙ０）で表される化合物の分子量は、熱拡散性の観点から、５００以下であることが好ましく、４５０以下であることがより好ましい。

以下に、本発明の一般式（Ｙ０）で表されるアゾ色素の具体例を示すが、本発明で用いることができる一般式（Ｙ０）のアゾ色素は以下の具体例によって限定されるものではない。なお、以下の具体例においてＰｈはフェニル基（−Ｃ₆Ｈ₅）を表す。

これらのアゾ色素は、一般的に行われているジアゾカップリング、次いで酸塩化物を用いたアシル化により合成できる。
具体的には、下記一般式（２）で表される２−アミノイミダゾール誘導体のアミノ基を、ジアゾ化剤を用いて下記一般式（３）のジアゾニウム塩に変換し、該ジアゾニウム塩と下記一般式（４）で表される２Ｈ−ピラゾール−３−イルアミン誘導体とカップリング反応させ、下記一般式（５）で表される化合物を得る。その後、下記一般式（５）を塩基性条件下、下記一般式（６）などでアシル化することで容易に合成できる。

前記一般式（２）〜（６）中、Ｒ¹〜Ｒ⁶は、前記一般式（Ｙ０）中のＲ¹〜Ｒ⁶と同義である。一般式（３）中のＸ¹はジアゾニウム塩の対アニオンであり、一般式（６）中のＸ²はハロゲン原子を表す。

一般式（２）〜（６）のいずれかで表される化合物の多くは、市販品として容易に入手可能である（例えば、和光純薬工業株式会社製カタログ番号０１９−１１００５、３２１−４６０４５など）。また、一般式（４）で表される化合物はＢｉｏｏｒｇ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．１２巻１５５９頁（２０００年）に記載の方法などに準じて合成できる。

次に一般式（Ｙ１）で表される化合物について詳細に説明する。
前記一般式（Ｙ１）で表されるアゾ色素は、Ｒ¹¹に１価の置換基を有することに加えてジアゾ成分に特徴を有する色素であり、高い溶解性を付与し、感熱転写用インクシート中での経時析出を抑制してこの問題を解決しつつも、高い光堅牢性を示す。

一般式（Ｙ１）において、Ｒ¹¹は１価の置換基を表し、Ｒ¹²は水素原子または１価の置換基を表す。ここで表す置換基に関しては特に制限はないが、代表例として、ハロゲン原子、アルキル基（本明細書では、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む飽和脂肪族基を意味する）、アルケニル基（本明細書では、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む二重結合を有する不飽和脂肪族基を意味する）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アニリノ基およびヘテロ環アミノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールもしくはヘテロ環アゾ基、イミド基を挙げることができ、それぞれの基はさらに置換基を有していてもよい。

以下にＲ¹¹及びＲ¹²で表される１価の置換基をさらに詳しく説明する。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルキル基には、シクロアルキル基、およびビシクロアルキル基が含まれる。アルキル基には、直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、および２−エチルヘキシル基を挙げることができる。シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基を挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基を挙げることができる。例として、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基を挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。なお、以下に説明する置換基の中の「アルキル」（例えばアルキルチオ基の「アルキル」）もこのような概念の「アルキル」を表す。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルケニル基にはシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基を挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基を挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル基、およびプロパルギル基が挙げられる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基が挙げられる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるヘテロ環基は、置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、それらはさらに縮環していてもよい。これらのヘテロ環基としては、好ましくは５または６員のヘテロ環基であり、また環構成のヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子が好ましい。さらに好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基を構成する環を、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、シンノリン環、フタラジン環、キノキサリン環、ピロール環、インドール環、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、ベンズオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、イソチアゾール環、ベンズイソチアゾール環、チアジアゾール環、イソオキサゾール環、ベンズイソオキサゾール環、ピロリジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、イミダゾリジン環、チアゾリン環が挙げられる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルコキシ基には、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、メトキシエトキシ基、ヒドロキシエトキシ基および３−カルボキシプロポキシ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例として、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアミノ基は、アルキルアミノ基、アリールアミノ基およびヘテロ環アミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ-メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、ヒドロキシエチルアミノ基、カルボキシエチルアミノ基、スルフォエチルアミノ基、３，５−ジカルボキシアニリノ基、４−キノリルアミノ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基などを挙げることができる。なお、この基における「アミノ」の用語は、前述のアミノ基における「アミノ」と同じ意味である。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるスルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルキルもしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルホニル基の例には、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。アシル基の例には、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２−ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基などを挙げることができる。

Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるカルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるアリールもしくはヘテロ環アゾ基として、例えば、フェニルアゾ基、４−メトキシフェニルアゾ基、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ基、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ基などを挙げることができる。
Ｒ¹¹及びＲ¹²で表されるイミド基として、例えば、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基などを挙げることができる。

一般式（Ｙ１）において、Ｘは環を形成するのに必要な原子団を表す。ここで環を形成するのに必要な原子団に関しては特に制限はないが、代表例として、−Ｃ(Ｒ¹³)＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ(Ｒ¹³)−、−Ｃ(＝Ｏ)−Ｃ(Ｒ¹³)＝Ｃ(Ｒ¹⁴)−及び−Ｃ(＝Ｏ)−Ｎ(Ｒ¹³)−Ｃ(＝Ｏ)−で表される原子団を挙げることができる。ここで、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基の例としては、Ｒ¹¹及びＲ¹²の置換基として記載した例が挙げられる。

一般式（Ｙ１）において、Ａｒ¹は前記へテロ環基の群（１）から選ばれる基である。ヘテロ環基の群（１）の各基において、Ｒ⁶¹、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴およびＲ⁶⁵は各々独立に水素原子または置換基を表す。置換基の例としては、Ｒ¹¹及びＲ¹²の置換基として記載した例が挙げられる。

Ｒ¹¹は、好ましくは置換または無置換の炭素数１〜４のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアシル基であり、さらに好ましくは無置換の炭素数１〜４のアルキル基である。
Ｒ¹²は、好ましくは、水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基、置換もしくは無置換のアミノ基、置換もしくは無置換のアルコキシ基、ヒドロキシ基であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基であり、さらに好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、特に好ましくは分岐アルキル基である。
Ｘは、好ましくは、−Ｃ(Ｒ¹⁴)＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｃ(Ｒ¹⁴)−である。

また、前記ヘテロ環基の群（１）の各基において、Ｒ⁶¹は、好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のヘテロ環基である。より好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。Ｒ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴およびＲ⁶⁵は各々独立に、好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、置換または無置換のアシル基、シアノ基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基である。より好ましくは水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基、シアノ基である。

一般式（Ｙ１）で表される色素の好ましい置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも１つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々の置換基が前記好ましい基である化合物がより好ましく、全ての置換基が前記好ましい基である化合物が最も好ましい。具体的に好ましい組み合わせの例は、Ｒ¹¹が無置換の炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ¹²が置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基、Ｘが−Ｃ(Ｒ¹⁴)＝Ｎ−または−Ｎ＝Ｃ(Ｒ¹⁴)−、Ａｒ¹が前記ヘテロ環基の群（１）から選ばれる基である。
これらの化合物は、Ａｒ¹で規定されるヘテロ環アミノ基から得られたジアゾニウム塩と縮合へテロ環化合物とをジアゾカップリングすることで容易に合成できる。
本発明のアゾ色素その最大吸収波長として好ましい範囲は、好ましくは４００〜４８０ｎｍであり、より好ましくは４２０〜４６０ｎｍである。
以下に、本発明の一般式（Ｙ１）で表されるアゾ色素の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、以下の具体例においてＰｈはフェニル基（−Ｃ₆Ｈ₅）を表す。

次に一般式（Ｙ２）で表される色素について説明する。

一般式（Ｙ２）中、Ｒ^A、Ｒ^B、Ｒ^C、Ｒ^DおよびＲ^Eは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ８のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキコシアルボニル基、チオアルコキシ基、アルキルスルホニル基、アミノ基、置換あるいは非置換のフェノキシ基、または置換あるいは非置換のチオフェノキシ基を表す。Ｒ^FおよびＲ^Gは各々独立に、水素原子、アルキル基アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、置換基を有してもよいアリール基、アラルキル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、またはヒドロキシアルキル基を表す。
以下に一般式（Ｙ２）で表される色素の具体例を示すが本発明はこれに限定されるものではない。

次に一般式（Ｙ３）で表される色素について説明する。

一般式（Ｙ３）中、Ｒ^1Aはアリル基またはアルキル基を表し、Ｒ^2Aは置換あるいは非置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ａは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂−を表し、Ｒ^3Aはアルキル基を表す。これらの各基はさらに置換基を有してもよい。
以下に一般式（Ｙ３）で表される色素の具体例を示すが本発明はこれに限定されるものではない。

次に一般式（Ｙ４）で表される色素について説明する。

一般式（Ｙ４）中、Ｒ^1B〜Ｒ^4Bは各々独立に、水素原子または置換基を表す。
以下に一般式（Ｙ４）で表される色素の具体例を示すが本発明はこれに限定されるものではない。

一般式（Ｙ２）、（Ｙ３）又は（Ｙ４）のいずれかで表される色素については公知の方法にて合成することができる。

次に一般式（Ｃ１）で表される色素について説明する。
一般式（Ｃ１）中、Ｒ¹¹¹およびＲ¹¹³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹¹²およびＲ¹¹⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は、０〜４の整数を表し、ｎ１９は、０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ¹¹⁴又は複数のＲ¹¹²は各々同じでも異なっていてもよい。Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴における置換基としては、前述したＲ¹、Ｒ²およびＲ³で説明したものが挙げられる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表される置換基はハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、およびヨウ素原子が挙げられる。中でも塩素原子、臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルキル基にはシクロアルキル基およびビシクロアルキル基が含まれる。アルキル基としては直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。直鎖、分岐の置換もしくは無置換のアルキル基は炭素数１〜３０のアルキル基が好ましい。例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、エイコシル、２−クロロエチル、２−シアノエチル、または２−エチルヘキシルを挙げることができる。シクロアルキル基としては置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のシクロアルキル基は、炭素数３〜３０のシクロアルキル基が好ましい。例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。ビシクロアルキル基としては、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例として、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）を挙げることができる。さらに環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基（例えばアルキルチオ基のアルキル基）もこのような概念のアルキル基を表す。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルケニル基にはシクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基が含まれる。アルケニル基としては直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。アルケニル基としては、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基が好ましい。例としてはビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイルを挙げることができる。シクロアルケニル基としては、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例としては、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルが挙げられる。ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基が含まれる。ビシクロアルケニル基としては炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基が好ましい。例として、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イルを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルキニル基は、炭素数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基が好ましく、例えば、エチニル、またはプロパルギルが挙げられる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアリール基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、例えば、フェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルが挙げられる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるヘテロ環基は、５又は６員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基が好ましく、それらはさらに縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示（すなわち、環として例示）すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましい。アシルオキシ基の例には、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるカルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましい。カルバモイルオキシ基の例には、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましい。アルコキシカルボニルオキシ基の例には、メトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましい。アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアミノ基はアルキアミノ基、アリールアミノ基を含む。アミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましい。アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ-メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましい。アシルアミノ基の例には、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアミノカルボニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましい。アミノカルボニルアミノ基の例には、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましい。アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるスルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましい。スルファモイルアミノ基の例には、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましい。アルキルスルホニルアミノ基およびアリールスルホニルアミノ基の例には、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることができる。

で表されるアルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるスルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましい。スルファモイル基の例には、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルキルもしくはアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルキルもしくはアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましい。アルキルもしくはアリールスルホニル基の例には、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましい。アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２−ピリジルカルボニル、２−フリルカルボニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましい。アリールオキシカルボニル基の例には、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるカルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましい。カルバモイル基の例には、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるアリールもしくはヘテロ環アゾ基は、例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹〜Ｒ¹¹⁴で表されるイミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることができる。

Ｒ¹¹¹、Ｒ¹¹³の例としては水素原子、または置換もしくは無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基が挙げられる。より好ましくは水素原子、置換もしくは無置換の炭素数１〜６のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。

Ｒ¹¹²、Ｒ¹¹⁴の例としては、各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、スルファモイル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、より好ましくは水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基であり、さらに好ましくは、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のヘテロ環基であり、より好ましくは置換または無置換のアルキル基である。

以下に、一般式（Ｃ１）で表される色素の具体例を示す。本発明はこれにより限定されるものではない。

前記一般式（Ｃ１）で表される色素のうち、市販されていないものに関しては、米国特許第４，７５７，０４６号、同第３，７７０，３７０号、独国特許第２３１６７５５号、特開２００４−５１８７３号、特開平７−１３７４５５号、特開昭６１−３１２９２号の各公報もしくは明細書、ならびに、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ Ｉ，２０４７（１９７７）、Ｃｈａｍｐａｎ著，「Ｍｅｒｏｃｙａｎｉｎｅ Ｄｙｅ−Ｄｏｎｅｒ Ｅｌｅｍｅｎｔ Ｕｓｅｄ ｉｎ ｔｈｅｒｍａｌ Ｄｙｅ Ｔｒａｎｓｆｅｒ」に記載の方法に準じて合成することができる。

次に一般式（Ｃ２）で表される色素について詳細に説明する。
一般式（Ｃ２）において、Ｄ¹⁴〜Ｄ²¹は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アシル基またはアミノ基を表し、Ｄ²²およびＤ²³は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｄ²²とＤ²³が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｄ¹⁹とＤ²²または／およびＤ²⁰とＤ²³が互いに結合して環を形成していてもよい。
Ｄ¹⁴は、アシルアミノ基、ウレイド基およびアルコキシカルボニル基が好ましく、アシルアミノ基およびウレイド基がより好ましく、アシルアミノ基がさらに好ましく、最も好ましくは下記一般式（IV）で表される基である。

一般式（IV）
−ＮＨ−Ｃ(＝Ｏ)−Ｄ²⁴

式中、Ｄ²⁴は、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）、アリール基（好ましくは炭素数６〜１０、例えばフェニル、ｍ−ニトロフェニル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−トリル、ｐ−メトキシフェニル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、ｐ−クロロフェニルなど）またはヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜１０で、酸素原子、窒素原子または硫黄原子のいずれかを環構成原子として含む５〜８員環のヘテロ環基で、例えばピリジル、フリル、テトラヒドロフリルなど）を表し、好ましくはヘテロ環基であり、さらに好ましくはピリジル基、フリル基またはテトラヒドロフリル基である。

Ｄ¹⁵、Ｄ¹⁶、Ｄ¹⁸〜Ｄ²¹は、好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）である。より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基である。Ｄ¹⁷は、好ましくは、水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヘテロ環基である。より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子である。Ｄ²²、Ｄ²³は、好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ｎ−プロピル、ｔ−ブチルなど）であり、より好ましくはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基である。これらのアルキル基は更に他の置換基により置換されていても良い。アルキル基が置換されている場合、好ましい置換基は、ヘテロ環基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニルアミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、アルコキシカルボニル基またはアリールオキシカルボニル基であり、より好ましくはカルバモイル基である。Ｄ²²、Ｄ²³は、より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基である。
以下に、一般式（Ｃ２）で表される色素の具体例を示す。本発明はこれにより限定されるものではない。

これらの一般式（Ｃ２）で表される色素は、特開平５−３０５７７６公報に記載の方法もしくはこれに準じた方法で容易に合成できる。

前記一般式（Ｙ０〜Ｙ４）、（Ｍ）、（Ｃ１）（Ｃ２）で表される化合物は、熱転写層（色素層）中にそれぞれ１０〜９０質量％含有されることが好ましく、２０〜８０質量％含有されることがより好ましい。

感熱転写シート（インクシート）の熱転写層の塗布量は、０．１〜１．０ｇ／ｍ²（固形分換算、以下本発明における塗布量は特に断りのない限り、固形分換算の数値である。）が好ましく、更に好ましくは０．１５〜０．６０ｇ／ｍ²である。熱転写層の膜厚は０．１〜２．０μｍであることが好ましく、更に好ましくは０．１〜１．０μｍである。

感熱転写シートの支持体には、感熱転写受像シートの支持体と同様のものを用いることができ、ポリエチレンテレフタレート等を用いることができる。
前記支持体の厚みとしては、１〜１０μｍが好ましく、２〜１０μｍがより好ましい。感熱転写シートの詳細は、例えば特開平１１−１０５４３７号公報に記載されており、段落番号００１７〜００７８の記載が、本願の明細書に好ましく取り込まれる。

（３）画像形成
本発明の画像形成方法では、感熱転写受像シートの受容層と感熱転写シートの熱転写層とが接するように重ね合わせて、サーマルヘッドからの画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成する。
具体的な画像形成は、例えば特開２００５−８８５４５号公報などに記載された方法と同様にして行うことができる。本発明では、消費者にプリント物を提供するまでの時間を短縮するという観点から、プリント時間は１５秒未満が好ましく、５〜１２秒がより好ましい。
本発明は、感熱転写記録方式を利用したプリンター、複写機などに利用することができる。
熱転写時の熱エネルギーの付与手段は、従来公知の付与手段のいずれも使用することができ、例えば、サーマルプリンター（例えば、日立製作所製、商品名、ビデオプリンターＶＹ−１００）等の記録装置によって記録時間をコントロールすることにより、５〜１００ｍＪ／ｍｍ²程度の熱エネルギーを付与することによって所期の目的を十分に達成することができる。
また、本発明の感熱転写受像シートは、支持体を適宜選択することにより、熱転写記録可能な枚葉またはロール状の感熱転写受像シート、カード類、透過型原稿作成用シート等の各種用途に適用することもできる。

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例中で、部または％とあるのは、特に断りのない限り質量基準である。

［インクシートの作製］
（インクシートＳ１の作製）比較例
厚さ６．０μｍのポリエステルフィルム（ルミラー、商品名、東レ(株)製）を基材フィルムとして用いた。そのフィルム背面側に耐熱スリップ層（厚み１μｍ）を形成し、かつ表面側に下記組成のイエロー、マゼンタ、シアン組成物をそれぞれ単色に塗布（乾膜時の塗布量１ｇ／ｍ²）した。
イエローインキ
以下の構造のＹ色素（富士フイルム製） ４．５質量部

ポリビニルブチラール樹脂 ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ９０質量部
マゼンタインキ
Kayalon Polyester Red Violet FBL ４．５質量部
（日本化薬製、商品名、構造は以下の式）

ポリビニルブチラール樹脂 ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ９０質量部
シアンインキ
例示化合物（１３）−１ ４．５質量部
ポリビニルブチラール樹脂 ４．５質量部
（エスレックＢＸ−１、商品名、積水化学工業(株)製）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ９０質量部

（インクシートＳ２の作製）比較例
インクシートＳ１のマゼンタインキの色素を一般式（Ｍ）の例示化合物Ｍ−１に置き換えた以外はインクシートＳ１と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ３の作製）比較例
インクシートＳ１のイエローインキの色素を一般式（Ｙ１）の例示化合物（１）に置き換えた以外はインクシートＳ１と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ４の作製）本発明
インクシートＳ１のマゼンタインキの色素を一般式（Ｍ）の例示化合物Ｍ−１に置き換え、イエローインキの色素を一般式（Ｙ０）の例示化合物Ｙ０−（１）に置き換えた以外はインクシートＳ１と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ５の作製）本発明
インクシートＳ４のマゼンタインキの色素を一般式（Ｍ）の例示化合物Ｍ−２に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ６の作製）本発明
インクシートＳ４のマゼンタインキの色素を一般式（Ｍ）の例示化合物Ｍ−８に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ７の作製）比較例
インクシートＳ４のマゼンタインキの色素を以下の構造で示した色素に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ８の作製）本発明
インクシートＳ４のイエローインキの色素を一般式（Ｙ１）の例示化合物（１）に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ９の作製）本発明
インクシートＳ４のイエローインキの色素を一般式（Ｙ２）の例示化合物Ｙ２−（１）に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ１０の作製）本発明
インクシートＳ４のイエローインキの色素を一般式（Ｙ３）の例示化合物Ｙ３−（１）に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ１１の作製）本発明
インクシートＳ４のイエローインキの色素を一般式（Ｙ４）の例示化合物Ｙ４−（１）に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

（インクシートＳ１２の作製）本発明
インクシートＳ４のシアンインキの色素を一般式（Ｃ２）の例示化合物Ｃ−１に置き換えた以外はインクシートＳ４と同じ方法で作製した。

［感熱転写受像シートの作製］
受像シート１０１の作製（比較例）
支持体として合成紙（ユポＦＰＧ２００、厚さ２００μｍ、商品名、ユポコーポレーション社製）を用い、この一方の面に下記組成の白色中間層、受容層の順にバーコーターにより塗布を行った。それぞれの乾燥時の塗布量は白色中間層１．０ｇ／ｍ²、受容層４．０ｇ／ｍ²となるように塗布を行い、乾燥は各層１１０℃、３０秒間行った。
白色中間層
ポリエステル樹脂（バイロン２００、商品名、東洋紡積(株)製） １０部
蛍光増白剤（Ｕｖｉｔｅｘ ＯＢ、商品名、チバガイギー社製） １部
酸化チタン ３０部
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ９０部
受容層
塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂 １００部
（ソルバインＡ、商品名、日信化学工業(株)製）
アミノ変性シリコーン ５部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３０５０Ｃ）
エポキシ変性シリコーン ５部
（信越化学工業(株)製、商品名、Ｘ２２−３００Ｅ）
メチルエチルケトン／トルエン（質量比１／１） ４００部

受像シート１０２の作製（本発明）
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、下記組成の断熱層、受容層の順に支持体側からこの順に積層させた状態で、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、重層塗布を行った。塗布後すぐに５０℃１６時間乾燥させた。それぞれの乾燥時の塗布量は断熱層：１５ｇ／ｍ²、受容層：４．０ｇ／ｍ²となるように塗布を行った。
受容層
塩化ビニル系ラテックス ４８部
（ビニブラン９００、商品名、日信化学工業(株)製）
ゼラチン ３部
ワックス １部
（ＥＭＵＳＴＡＲ−０４２Ｘ、商品名、日本精鑞(株)製）
断熱層
中空ポリマーラテックス ５６３部
（ＭＨ５０５５、商品名、日本ゼオン(株)製）
ゼラチン １２０部

受像シート１０３の作製（本発明）
ポリエチレンで両面ラミネートした紙支持体表面に、コロナ放電処理を施した後、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含むゼラチン下塗層を設けた。この上に、受像シート１０２と同じ組成の断熱層とゼラチンのみからなる中間層を支持体側からこの順に積層させた状態で、米国特許第２，７６１，７９１号明細書に記載の第９図に例示された方法により、重層塗布を行った。塗布後すぐに５０℃１６時間乾燥させた。それぞれの乾燥時の塗布量は断熱層：１５ｇ／ｍ²、中間層：０．２ｇ／ｍ²となるように塗布を行った。得られた試料の中間層の上に、バーコーターにて受像シート１０１と同じ組成の受容層の塗布を行った。需要層の乾燥時の塗布量は４．０ｇ／ｍ²となるように塗布を行い、乾燥は、塗布後すぐに１１０℃、３０秒間行った。

（画像形成）
インクシートＳ１〜Ｓ１２と受像シート１０１〜１０３を以下に表１〜３に示したように様々に組み合わせ、日本電産コパル社製昇華型プリンターＤＰＢ２０００（商品名）に装填可能なように加工し、高速プリントモードで出力を行った。

（評価試験）
黒ベタ部分の光学濃度を測定し、画像サンプルにキセノン光（９６０００ｌｘ）を１４４時間照射し、照射後の画像濃度（反射濃度）を反射濃度計にて測定し、照射前の画像濃度を１００％とし、濃度残存率を算出した。得られた結果を下記表１〜３に示す。

上記表１〜３の結果から、比較例となる組み合わせの試料は耐光性が劣るのに対し、本発明例の試料はいずれも耐光性が優れていた。

Claims (5)

1. 支持体上に少なくとも１層の受容層を有し、該受容層と支持体の間に中空ポリマー粒子と親水性ポリマーを含有する少なくとも１層の断熱層を有する感熱転写受像シートと、支持体上に少なくともイエロー、マゼンタ、シアンからなる３種類の熱転写層を有し、マゼンタ熱転写層に含まれるマゼンタ染料が下記一般式（Ｍ）で表される化合物の少なくとも１種を含み、イエロー熱転写層に含まれるイエロー染料が下記一般式（Ｙ０）、（Ｙ１）、（Ｙ２）、（Ｙ３）または（Ｙ４）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を含み、シアン熱転写層に含まれるシアン染料が下記一般式（Ｃ１）または（Ｃ２）のいずれかで表される化合物の少なくとも１種を含む感熱転写シートとを使用することを特徴とする画像形成方法。
   

   

   （一般式（Ｍ）において、Ｄ⁶〜Ｄ¹⁰は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アシル基またはアミノ基を表し、Ｄ¹¹およびＤ¹²は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｄ¹¹とＤ¹²が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｄ⁸とＤ¹¹または／およびＤ⁹とＤ¹²が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｘ、ＹおよびＺは＝Ｃ(Ｄ¹³)−または窒素原子を表す。ここで、Ｄ¹³は水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはアミノ基を表す。また、ＸとＹが＝Ｃ(Ｄ¹³)−のとき、またはＹとＺが＝Ｃ(Ｄ¹³)−のとき、２つのＤ¹³は互いに結合して飽和ないし不飽和炭素環を形成してもよい。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）
   

   

   （一般式（Ｙ０）において、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁶は各々独立に水素原子または１価の置換基を表し、Ｒ⁵は１価の置換基を表す。）
   

   

   （一般式（Ｙ１）において、Ｒ¹¹は１価の置換基を表し、Ｒ¹²は水素原子または１価の置換基を表し、Ａｒ¹は下記へテロ環基の群（１）から選ばれる基を表し、Ｘは環形成するのに必要な原子団を表す。）
   

   

   （ヘテロ環基の群（１）において、Ｒ⁶¹、Ｒ⁶²、Ｒ⁶³、Ｒ⁶⁴およびＲ⁶⁵は各々独立に水素原子または置換基を表す。）
   

   

   （一般式（Ｙ２）において、Ｒ^A、Ｒ^B、Ｒ^C、Ｒ^DおよびＲ^Eは各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜８のアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルコキシ基、アルキコシアルボニル基、チオアルコキシ基、アルキルスルホニル基、アミノ基、置換あるいは非置換のフェノキシ基、または置換あるいは非置換のチオフェノキシ基を表す。Ｒ^FおよびＲ^Gは各々独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、置換基を有してもよいアリール基、アラルキル基、フルフリル基、テトラヒドロフリル基、またはヒドロキシアルキル基を表す。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）
   

   

   （一般式（Ｙ３）において、Ｒ^1Aはアリル基またはアルキル基を表し、Ｒ^2Aは置換あるいは非置換のアルキル基またはアリール基を表し、Ａは−ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂−、−ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ−、−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂−または−ＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＨ₂−を表し、Ｒ^3Aはアルキル基を表す。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）
   

   

   （一般式（Ｙ４）において、Ｒ^1B〜Ｒ^4Bは各々独立に水素原子または置換基を表す。）
   

   

   （一般式（Ｃ１）において、Ｒ¹¹¹およびＲ¹¹³は各々独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ¹¹²およびＲ¹¹⁴は各々独立に置換基を表す。ｎ１８は０〜４の整数を表す。ｎ１９は０〜２の整数を表す。ここで、ｎ１８が２〜４の整数を表すとき又はｎ１９が２を表すとき、複数のＲ¹¹⁴又は複数のＲ¹¹²は各々同じでも異なっていてもよい。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）
   

   

   （一般式（Ｃ２）において、Ｄ¹⁴〜Ｄ²¹は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、シアノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホニル基、アシル基またはアミノ基を表し、Ｄ²²およびＤ²³は各々独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。Ｄ¹⁷とＤ¹⁶またはＤ²²とＤ²³が互いに結合して環を形成していてもよく、Ｄ¹⁹とＤ²²または／およびＤ²⁰とＤ²³が互いに結合して環を形成していてもよい。これらの各基はさらに置換基を有していてもよい。）
2. 前記一般式（Ｍ）において、ＸおよびＺが窒素原子を表し、Ｙが＝Ｃ(Ｄ¹³)−であることを特徴とする請求項１に記載の画像形成方法。
3. 前記感熱転写シートにおいて、少なくともイエロー、マゼンタ、シアンからなる３種の熱転写層が１つの支持体上に面順次に形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の画像形成方法。
4. 前記感熱転写受像シートの断熱層に含まれる前記親水性ポリマーの少なくとも１種がゼラチンであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像形成方法。
5. 請求項１〜４のいずれか１項に記載の画像形成方法が、前記感熱転写シートの熱転写層と前記感熱転写受像シートの受容層とが接するよう重ねあわせ、サーマルヘッドから画像信号に応じた熱エネルギーを付与することにより画像を形成することを特徴とする画像形成方法。