JP2008082703A5 - - Google Patents
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- 検査対象である基板を該基板の表面に沿うＹ方向へ移動させるＹ軸ステージと、
前記基板を観察する顕微鏡を、前記基板の表面に沿いかつ前記Ｙ方向と直交するＸ方向へ移動させる第１Ｘ軸ステージと、
該第１Ｘ軸ステージと平行に配置され、透過照明部を前記Ｘ方向へ移動させる第２Ｘ軸ステージと、
前記顕微鏡又は前記透過照明部を移動調整する微調整ステージと、
移動に伴う前記顕微鏡と前記透過照明部の光軸の相対的なずれ量を補正データとして記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶した前記補正データに基づいて、前記顕微鏡と前記透過照明部の前記光軸が一致するように前記微調整用ステージを駆動させる制御部とを備えることを特徴とする基板検査装置。
- 前記顕微鏡及び前記透過照明部を同期させながら移動させ、前記補正データを求めることを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 前記微調整用ステージは、前記Y方向及び前記X方向にそれぞれ移動可能であることを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 前記微調整用ステージは、前記Y方向、前記X方向、及び顕微鏡の光軸方向(Z方向)にそれぞれ移動可能であることを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 前記器億部は、移動量に伴う前記顕微鏡と前記透過照明部の焦点位置ずれ量を補正データとして記憶し、記制御部は、前記補正データに基づいて、前記顕微鏡と前記透過照明部の焦点が一致するように前記微調整用ステージをZ方向に駆動させることを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 前記第1Ｘ軸ステージは、前記基板に沿って移動可能なガントリーステージを用いていることを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 前記顕微鏡は、自動焦点機構を備え、前記顕微鏡の焦点位置のずれ量を補正することを特徴とする請求項1に記載の基板検査装置。
- 検査対象である基板を該基板の表面に沿うＹ方向へ移動させるＹ軸ステージと、
前記基板を観察する顕微鏡を、前記基板の表面に沿いかつ前記Ｙ方向と直交するＸ方向へ移動させる第１Ｘ軸ステージと、
該第１Ｘ軸ステージと平行に配置され、透過照明部を前記Ｘ方向へ移動させる第２Ｘ軸ステージとを備える基板検査装置を用いた基板検査方法であって、
移動に伴う前記顕微鏡と前記透過照明部の光軸の相対的なずれ量を補正データとして記憶する記憶部と前記透過照明部との相対位置を求め、その差を記憶部に補正データとして予め記憶しておき、前記基板を前記顕微鏡により検査するときに、前記顕微鏡と前記透過照明部の前記光軸が一致するように前記顕微鏡又は前記照明部を前記Ｘ方向及び前記Ｙ方向に微動させることを特徴とする基板検査方法。
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| JP2006259533A JP5121199B2 (ja) | 2006-09-25 | 2006-09-25 | 基板検査装置および基板検査方法 |
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