JP2008068473A - 平版印刷版の作製方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】インクジェット記録方式により画像形成された画像の位置ずれを防止し、優れた耐刷性も付与することのできる、平版印刷の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、前記インクジェット用インクが、酸性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、塩基性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【選択図】なし
【解決手段】支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、前記インクジェット用インクが、酸性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、塩基性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、平版印刷版の作製方法に関するものであり、詳しくは、インクジェット記録方式により画像形成された画像の位置ずれを防止し、優れた耐刷性も付与することのできる、平版印刷の作製方法に関する。
近年、画像情報をコンピュータを用いて電子的に処理し、蓄積し、出力する、デジタル化技術が広く普及してきており、このようなデジタル化技術に対応した新しい画像出力方式が種々実用されるようになってきている。これに伴い、レーザー光のような高収斂性の輻射線にデジタル化された画像情報を担持させて、その光で平版印刷版原版を走査露光し、リスフィルムを介することなく、直接平版印刷版を製造するコンピュータ・トゥ・プレート（ＣＴＰ）技術が注目されてきている。
一方、レーザー光を用いたＣＴＰ技術の他に、インクジェット記録方式を用いたＣＴＰ技術が知られている。
例えば、特許文献１および２には、支持体上に、光硬化性インク組成物を用いてインクジェット記録方式により画像部を形成し、露光して該インク組成物を硬化させる製版方法が開示されている。インクジェット記録方式は、画像出力方式としては比較的高速であり、また複雑な光学系を必要としないので構造が簡単である。また、インクジェット用インクにより画像形成するので、画像形成前の支持体は感光層などの塗膜が不要である。したがって、平版印刷版の製造コストを下げることができる。
しかし、支持体上にインクジェット記録方式により画像部を形成すると、着弾したインク滴同士が合一化しようとし、例えばベタ部に隙間が生じる等、いわゆる着弾干渉またはビーディングと呼ばれる現象が生じる。このような着弾干渉またはビードが生じると、上記ベタ部だけではなく、印刷版における画像が位置ずれし、被記録媒体に正確な印字が行えなくなってしまうという問題点がある。なお、ビーディングについては、非特許文献１に開示されている。
特開平５−２０４１３８号公報
特開平４−６９２４４号公報
＜インクジェット記録における＞ インク・メディア・プリンターの開発技術、技術情報協会（株）発行
しかし、支持体上にインクジェット記録方式により画像部を形成すると、着弾したインク滴同士が合一化しようとし、例えばベタ部に隙間が生じる等、いわゆる着弾干渉またはビーディングと呼ばれる現象が生じる。このような着弾干渉またはビードが生じると、上記ベタ部だけではなく、印刷版における画像が位置ずれし、被記録媒体に正確な印字が行えなくなってしまうという問題点がある。なお、ビーディングについては、非特許文献１に開示されている。
したがって本発明の目的は、インクジェット記録方式により画像形成された画像の位置ずれを防止し、優れた耐刷性も付与することのできる、平版印刷の作製方法を提供することである。
本発明は、以下の通りである。
１）支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、
前記インクジェット用インクが、酸性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、塩基性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
２）支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、
前記インクジェット用インクが、塩基性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、酸性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
３）前記インク受容層が、水溶性ポリマーを含有することを特徴とする上記１）または２）に記載の平版印刷版の作製方法。
１）支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、
前記インクジェット用インクが、酸性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、塩基性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
２）支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、
前記インクジェット用インクが、塩基性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、酸性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。
３）前記インク受容層が、水溶性ポリマーを含有することを特徴とする上記１）または２）に記載の平版印刷版の作製方法。
インクジェット用インクが酸性基を含むポリマー（あるいは塩基性基を含むポリマー）を含有し、インク受容層が分子内に塩基性基を２つ以上含む化合物（あるいは酸性基を２つ以上含む化合物）を含有していることにより、インクジェット用インクがインク受容層上に着弾すると、インク中のポリマーが、インク受容層中の塩基性基（あるいは酸性基）により急激にゲル化する。これにより、着弾したインク滴の粘度が急激に増大し、インク滴同士の合一化が抑制され、ベタ部に隙間ができず、画像の位置ずれが防止される。
また、ゲル化物が、インク受容層内部に入り込むので、支持体表面と画像の密着力が向上し、耐刷性が向上する。
したがって本発明によれば、インクジェット記録方式により画像形成された画像の位置ずれを防止し、優れた耐刷性も付与することのできる、平版印刷の作製方法が提供される。
また、ゲル化物が、インク受容層内部に入り込むので、支持体表面と画像の密着力が向上し、耐刷性が向上する。
したがって本発明によれば、インクジェット記録方式により画像形成された画像の位置ずれを防止し、優れた耐刷性も付与することのできる、平版印刷の作製方法が提供される。
以下、本発明をさらに詳しく説明する。
＜インク＞
まず、本発明に使用されるインクジェット用インク（以下、単にインクと呼ぶことがある）について説明する。インクジェット用インクとしては、とくに制限されず、各種のインクを用いることができる。例えば、ポリマーや色材を水に溶解または分散した水系インク、ポリマーや色材を有機溶剤に溶解または分散した溶剤系インク、放射線照射により硬化する化合物を含有する放射線硬化型インクが挙げられる。これらの内、耐刷性が良いという理由で、放射線硬化型インクが好ましい。とくに、フッ素含有化合物を含有する光重合型インクが好ましい。以下、このような光重合型インクについて説明する。
まず、本発明に使用されるインクジェット用インク（以下、単にインクと呼ぶことがある）について説明する。インクジェット用インクとしては、とくに制限されず、各種のインクを用いることができる。例えば、ポリマーや色材を水に溶解または分散した水系インク、ポリマーや色材を有機溶剤に溶解または分散した溶剤系インク、放射線照射により硬化する化合物を含有する放射線硬化型インクが挙げられる。これらの内、耐刷性が良いという理由で、放射線硬化型インクが好ましい。とくに、フッ素含有化合物を含有する光重合型インクが好ましい。以下、このような光重合型インクについて説明する。
本発明のインクは、酸性基を含むポリマーか、あるいは塩基性基を含むポリマーを必須成分とする。下記で説明するインク受容層が、塩基性基を２つ以上含む化合物を含有する場合は、本発明のインクは酸性基を含むポリマーを含有する必要がある。
これとは別に、下記で説明するインク受容層が、酸性基を２つ以上含む化合物を含有する場合は、本発明のインクは塩基性基を含むポリマーを含有する必要がある。
これとは別に、下記で説明するインク受容層が、酸性基を２つ以上含む化合物を含有する場合は、本発明のインクは塩基性基を含むポリマーを含有する必要がある。
［酸性基を含むポリマー］
酸性基を含むポリマーとしては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂が好ましく、その分子量は、５，０００以上のものが好ましい。さらに好ましい分子量は、１０，０００〜５，０００，０００であり、とくに好ましい分子量は、２０，０００〜１，０００，０００である。
酸性基を含むポリマーとしては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂が好ましく、その分子量は、５，０００以上のものが好ましい。さらに好ましい分子量は、１０，０００〜５，０００，０００であり、とくに好ましい分子量は、２０，０００〜１，０００，０００である。
酸性基としては、カルボン酸、リン酸、ホスホン酸、スルホン酸、硫酸が好ましい。
好ましくは、以下の一般式（１）で示されるラジカル重合性モノマーを、１〜５０モル％用いて得られるポリマーである。
一般式（１）中、Ｒ１はＨまたはメチル基を表し、Ｘ１は単結合、または、Ｃ，Ｈ，Ｎ，Ｏ，Ｓから選ばれた元素を含有する総原子数２０個以下の連結基を表す。Ｙ１は、ＣＯＯＨまたはＳＯ３Ｈを表す。
好ましいラジカル重合性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイルオキシヘキサヒドロフタル酸、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、４−スチレンカルボン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、３−メタクリロイルオキシプロパンスルホン酸、４−スチレンスルホン酸等が挙げられる。
さらに、好ましくは、以下の一般式（２）で示されるラジカル重合性モノマーを、３０〜９９モル％用いて得られる、一般式（１）とのポリマーである。
一般式（２）中、 Ｒ２はＨまたはメチル基を表し、Ｘ２は単結合、エステル結合またはアミド結合を表し、Ｙ２は炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。炭化水素基内に、エーテル結合、エステル結合またはアミド結合を含んでいてもよい。また、ＯＨ基、ＣＯＯＨ基、ハロゲン基を置換基として有していてもよい。
一般式（２）で表される好ましいモノマーとしては、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトシキメチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２,２,２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ, １Ｈ, ２Ｈ, ２Ｈパーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２,４,５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、ペルフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ｐ−スルファモイルフェニル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
なお、必要に応じてその他の重合性モノマーを共重合させてもよい。
［塩基性基を含むポリマー］
塩基性基を含むポリマーとしては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂が好ましく、その分子量は、５，０００以上のものが好ましい。さらに好ましい分子量は、１０，０００〜５，０００，０００であり、とくに好ましい分子量は、２０，０００〜１，０００，０００である。
塩基性基を含むポリマーとしては、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂が好ましく、その分子量は、５，０００以上のものが好ましい。さらに好ましい分子量は、１０，０００〜５，０００，０００であり、とくに好ましい分子量は、２０，０００〜１，０００，０００である。
好ましくは、以下の一般式（３）で示されるラジカル重合性モノマーを、１〜５０モル％用いて得られるポリマーである。
一般式（３）中、Ｒ３はＨまたはメチル基を表し、Ｘ３は、単結合、または、Ｃ，Ｈ，Ｎ，Ｏ，Ｓから選ばれた元素を含有する総原子数２０個以下の連結基を表す。Ｙ３はＮＲ４Ｒ５を表し、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して、Ｈまたは炭素数２０以下の炭化水素基を表す。
好ましいモノマーとしては、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）エチル（メタ）アクリレート、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）プロピル（メタ）アクリレート、６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ヘキシル（メタ）アクリレート、６−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ヘキシル（メタ）アクリルアミド、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）スチレン、４−ビニルピリジン等が挙げられる。
さらに好ましくは、前述の一般式（２）で示されるラジカル重合性モノマーを、３０〜９９モル％用いて得られる、一般式（３）とのポリマーである。
なお、必要に応じてその他の重合性モノマーを共重合させてもよい。
本発明において、上記酸性基を含むポリマーまたは塩基性基を含むポリマーは、インク中、０．５〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがさらに好ましく、２〜２０質量％であることがとくに好ましい。
［フッ素含有化合物］
フッ素含有化合物は、好ましくは、１分子中に３個以上のフッ素原子を含有する化合物である。特に好ましくは、１分子中に３個以上のフッ素原子を含有し、かつ重合性基を含有する化合物、または、当該化合物を重合して得られるポリマーである。
フッ素含有化合物は、好ましくは、１分子中に３個以上のフッ素原子を含有する化合物である。特に好ましくは、１分子中に３個以上のフッ素原子を含有し、かつ重合性基を含有する化合物、または、当該化合物を重合して得られるポリマーである。
前記の１分子中に３個以上のフッ素原子を含有し、かつ重合性基を含有する化合物において、重合性基としては、ラジカル重合性のエチレン性二重結合、及び、カチオン重合性の環状エーテル、環状エステルが好ましい。
以下、本発明でとくに好ましいフッ素含有化合物を例示する。
以下、本発明でとくに好ましいフッ素含有化合物を例示する。
（１）下記一般式（Ｉ）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー、または、該フルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位と、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及び／またはポリ（オキシアルキレン）メタクリレートに相当する繰り返し単位を含む重合体。とくに該重合体が好ましい。該モノマーおよび重合体は、特開２００２−３１１５７７号公報に開示されている。
（一般式（Ｉ）においてＲ1は水素原子またはメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子または−Ｎ（Ｒ2）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは２または３の整数を表す。Ｒ2は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
（２）下記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で表されるフルオロアルキル（メタ）アクリレートモノマー、または、下記一般式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）で表されるフルオロアルキル（メタ）アクリレートモノマーに相当する繰り返し単位と、ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和単量体に相当する繰り返し単位とを含む重合体。とくに該重合体が好ましい。該モノマーおよび重合体は、特開２００３−２２１４１９号公報に開示されている。
（式中、Ｘ1は、−Ｏ−または−ＮＲ3−を示す。Ｒ1は−Ｈまたは−ＣＨ3を示す。Ｒ3は水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１２のアリール基、または置換基を有してもよい炭素数６〜２４のアラルキル基を示す。Ｒ2はＨまたはＦを表す。ｍは０〜１０の整数、ｎは２または３の整数、およびｏ、ｐはそれぞれ１または２の整数を示す。）
（３）下記一般式（ＩＶ）で示されるフルオロアルキル（メタ）アクリレートモノマー、または、下記一般式（ＩＶ）で表されるフルオロアルキル（メタ）アクリレートモノマーに相当する繰り返し単位と、ポリオキシアルキレン基含有エチレン性不飽和単量体に相当する繰り返し単位とを含む重合体。とくに該重合体が好ましい。該モノマーおよび重合体は、特開２００４−１０１８９３号公報に開示されている。
（式中、Ｘは、−Ｏ−または−ＮＲ３−を示す。Ｒ１は−Ｈまたは−ＣＨ３を示す。Ｒ２は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基もしくは炭素数６〜２４のアラルキル基を示す。Ｒ３は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基もしくは炭素数６〜２４のアラルキル基を示す。ｍは１〜１０の整数、ｎは１〜４の整数を示す。）
（４）側鎖に下記一般式（Ｖ）で示される基を有する重合体。該重合体は、特開２００４−１０７５８９号公報に開示されている。
（式中、ｎは０〜１０の整数を示す。）
前記（１）〜（４）の重合体において、好ましい重量平均分子量は、３０００〜２００，０００であり、さらに好ましくは６，０００〜８０，０００である。また、ポリオキシアルキレン基は（ＯＲ)ｘで表すことができ、Ｒは２〜４の炭素原子を有するアルキレン基であり、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−または−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。ｘは正の整数である。好ましくはｘは２〜５０の整数であり、さらに好ましくは３〜３０の整数である。ｘが２以上の整数である場合、Ｒは互いに同じであっても異なっていてもよい。
フッ素含有化合物の添加量は、インク中、０．００１質量％〜１０質量％が好ましく、さらに好ましくは０．０１質量％〜５質量％である。
［開始系］
本発明において、好適に用いられる重合開始剤としては、例えば、放射線硬化型のインク組成物に用いられる公知のラジカル重合、若しくは、カチオン重合の光重合開始剤が挙げられる。本発明に併用可能な他の光重合開始剤は、光の作用、又は、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基性基のうちの少なくともいずれか１種を生成する化合物である。具体的な光重合開始剤は、当業者間で公知のものを制限なく使用できる。好ましい光重合開始剤としては、芳香族ケトン類、ベンゾインやベンゾインエーテルなどのベンゾイン誘導体、アシルホスフィンオキシド化合物、スルホニウム塩やヨードニウム塩などのオニウム塩類、有機過酸化物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル類、ボレート塩類、アジニウム化合物、メタロセン化合物、炭素−ハロゲン結合を有する化合物、等が挙げられる。これらの化合物は、主に紫外線に対して重合開始能を有するが、適切な増感剤との組み合わせにより、可視光線や赤外線にも分光増感させることができる。
重合開始剤の添加量は、インク中、０．０１質量％〜３０質量％が好ましく、０．１質量％〜２０質量％がさらに好ましい。
本発明において、好適に用いられる重合開始剤としては、例えば、放射線硬化型のインク組成物に用いられる公知のラジカル重合、若しくは、カチオン重合の光重合開始剤が挙げられる。本発明に併用可能な他の光重合開始剤は、光の作用、又は、増感色素の電子励起状態との相互作用を経て、化学変化を生じ、ラジカル、酸及び塩基性基のうちの少なくともいずれか１種を生成する化合物である。具体的な光重合開始剤は、当業者間で公知のものを制限なく使用できる。好ましい光重合開始剤としては、芳香族ケトン類、ベンゾインやベンゾインエーテルなどのベンゾイン誘導体、アシルホスフィンオキシド化合物、スルホニウム塩やヨードニウム塩などのオニウム塩類、有機過酸化物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、ケトオキシムエステル類、ボレート塩類、アジニウム化合物、メタロセン化合物、炭素−ハロゲン結合を有する化合物、等が挙げられる。これらの化合物は、主に紫外線に対して重合開始能を有するが、適切な増感剤との組み合わせにより、可視光線や赤外線にも分光増感させることができる。
重合開始剤の添加量は、インク中、０．０１質量％〜３０質量％が好ましく、０．１質量％〜２０質量％がさらに好ましい。
［重合性化合物］
本発明において、好適に用いられる重合性化合物としては、公知のラジカル重合性若しくはカチオン重合性のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。用いられるモノマーまたはオリゴマーとしては、（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、（メタ）アクリル酸、マレイン酸及びその誘導体、スチレン類、オレフィン類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、エポキシ化合物、オキセタン化合物、環状エステル類などが挙げられる。
本発明において、好適に用いられる重合性化合物としては、公知のラジカル重合性若しくはカチオン重合性のモノマーまたはオリゴマーが挙げられる。用いられるモノマーまたはオリゴマーとしては、（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、（メタ）アクリル酸、マレイン酸及びその誘導体、スチレン類、オレフィン類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、エポキシ化合物、オキセタン化合物、環状エステル類などが挙げられる。
［ラジカル重合性モノマー］
本発明に用いられる（メタ）アクリレートとしては、例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては、ヘキシル基（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、tert−オクチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ｎ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−クロロエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモブチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトシキメチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、アルコキシメチル（メタ）アクリレート、アルコキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２,２,２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ, １Ｈ, ２Ｈ, ２Ｈパーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２,４,５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキシドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキシド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴプロピレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイロキシチルコハク酸、２−メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性−２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが挙げられる。
本発明に用いられる（メタ）アクリレートとしては、例えば以下のものが挙げられる。単官能（メタ）アクリレートとしては、ヘキシル基（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、tert−オクチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ｎ−ブチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−クロロエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモブチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトシキメチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、アルコキシメチル（メタ）アクリレート、アルコキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２,２,２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ, １Ｈ, ２Ｈ, ２Ｈパーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２,４,５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３-ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキシドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキシド（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴプロピレンオキシドモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、２−メタクリロイロキシチルコハク酸、２−メタクリロイロキシヘキサヒドロフタル酸、２−メタクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ＥＯ変性フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性−２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートが挙げられる。
２官能の（メタ）アクリレートの具体例として、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジメチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチルエチルプロパンジオール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングルコールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦポリエトキシジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
３官能の（メタ）アクリレートの具体例として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート等を挙げることができる。
４官能の（メタ）アクリレートの具体例として、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
５官能の（メタ）アクリレートの具体例として、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートを挙げることができる。
６官能の（メタ）アクリレートの具体例として、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変性ヘキサ（メタ）アクリレート、カプトラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
ここで上記の（メタ）アクリレートの表記はメタクリレートおよびアクリレートの両方の構造をとり得ることを表す省略的表記である。
（メタ）アクリレート以外のモノマーとしては以下のものが挙げられる。
（メタ）アクリルアミドの例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、メタ）アクリロイルモルフォリンが挙げられる。ここで（メタ）アクリルアミドはメタクロルアミド類又はアクリルアミド類の両方の構造をとり得る事を示す。
（メタ）アクリルアミドの例としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、メタ）アクリロイルモルフォリンが挙げられる。ここで（メタ）アクリルアミドはメタクロルアミド類又はアクリルアミド類の両方の構造をとり得る事を示す。
オレフィン類としては、具体的には、ジシクロペンタジエン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、イソプレン、クロロプレン、ブタジエン、２,３−ジメチルブタジエン、シクロヘキサジエン等が挙げられる。
スチレン類としては具体的には、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、３−メチルスチレン、4―メチルスチレン、3―エチルスチレン、４−エチルスチレン、３−プロピルスチレン、４−プロピルスチレン、３−ブチルスチレン、４−ブチルスチレン、３−ヘキシルスチレン、４−ヘキシルスチレン、３―オクチルスチレン、４−オクチルスチレン、３−（２−エチルヘキシル）スチレン、４−（２−エチルヘキシル）スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、４−ｔ−ブトキシカルボニルスチレン、４−メトキシスチレン、４−ｔ−ブトキシスチレン等が挙げられる。
スチレン類としては具体的には、スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、イソプロピルスチレン、クロルメチルスチレン、メトキシスチレン、アセトキシスチレン、クロルスチレン、ジクロルスチレン、ブロムスチレン、ビニル安息香酸メチルエステル、３−メチルスチレン、4―メチルスチレン、3―エチルスチレン、４−エチルスチレン、３−プロピルスチレン、４−プロピルスチレン、３−ブチルスチレン、４−ブチルスチレン、３−ヘキシルスチレン、４−ヘキシルスチレン、３―オクチルスチレン、４−オクチルスチレン、３−（２−エチルヘキシル）スチレン、４−（２−エチルヘキシル）スチレン、アリルスチレン、イソプロペニルスチレン、ブテニルスチレン、オクテニルスチレン、４−ｔ−ブトキシカルボニルスチレン、４−メトキシスチレン、４−ｔ−ブトキシスチレン等が挙げられる。
ビニルエーテル類としては、メチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエーテル、メトキシビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等が挙げられる。
その他モノマーとして、クロトン酸ブチル、クロトン酸ヘキシル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチル、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルフォルムアミド、ビニリデンクロリド、メチレンマロノニトリル、ビニリデン、ジフェニル−２−アクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジフェニル−２−メタクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジブチル−２−アクリロイルオキシエチルフォスフェート、ジオクチル−２−メタクリロイルオキシエチルフォスフェート、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、Ｎ−ビニルカルバゾール等が挙げられる。
［カチオン重合性モノマー］
カチオン重合性モノマーとしては、オキセタン類として、３−エチル−３−（ヒドロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、ビス［１−エチル（３−オキセタニル）メチルエーテル］、ビス［１−エチル（３−オキセタニル）メチル］キシリレンエーテル等が挙げられる。
またエポキシ類として、（３’，４’−エポキシシクロヘキサン）メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１，２，８，９−ジエポキシリモネン、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル等が挙げられる。
カチオン重合性モノマーとしては、オキセタン類として、３−エチル−３−（ヒドロキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシルオキシメチル）オキセタン、ビス［１−エチル（３−オキセタニル）メチルエーテル］、ビス［１−エチル（３−オキセタニル）メチル］キシリレンエーテル等が挙げられる。
またエポキシ類として、（３’，４’−エポキシシクロヘキサン）メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１，２，８，９−ジエポキシリモネン、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル等が挙げられる。
［ラジカル重合性かつカチオン重合性モノマー］
ラジカル重合性かつカチオン重合性モノマーとしては、４−ビニルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、３−エチル−３−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン等が挙げられる。
ラジカル重合性かつカチオン重合性モノマーとしては、４−ビニルシクロヘキセン−１，２−エポキシド、３−エチル−３−（アクリロイルオキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−（メタクリロイルオキシメチル）オキセタン等が挙げられる。
重合性化合物の総添加量は、インク中、１０質量％〜９９質量％が好ましく、さらに好ましくは、３０質量％〜９５質量％である。
また、画像の視認性のため、インクは着色されていてもよい。着色には、公知の染料や顔料を用いることができる。好ましくは、染料である。また、打滴性の改善のための界面活性剤や、インク保存時の安定性のための重合禁止剤などを添加することができる。さらに、形成された画像の力学特性改善のために、各種のポリマーを添加することができる。具体的には、（メタ）アクリル系ポリマー、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレングリコール、シェラック樹脂、ビニル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。
なお、本発明では着色剤を添加しない透明インクを採用してもよい。この場合は、インクジェット記録装置における吐出性を改善することもできる。
なお、本発明では着色剤を添加しない透明インクを採用してもよい。この場合は、インクジェット記録装置における吐出性を改善することもできる。
本発明においては、溶剤を含まないインクを使用しても良いが、有機溶剤を併用するのが好ましい。
好ましい有機溶剤としては以下が挙げられる。
エチレングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、１，３−ブタンジオール、ベンジルアルコール、乳酸エチル。
好ましい有機溶剤としては以下が挙げられる。
エチレングリコール、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシブチルアセテート、１，３−ブタンジオール、ベンジルアルコール、乳酸エチル。
本発明のインク中、有機溶剤は、０〜９９質量％、好ましくは、４０〜９８質量％で配合される。有機溶剤の使用により、インクがインク受容層に混合され易くなり、さらに耐刷性が向上する。
＜インク受容層＞
次に、本発明におけるインク受容層について説明する。
本発明のインク受容層は非感光性であって、上記の説明するインクジェット用インクが、酸性基を含むポリマーを含有する場合は、インク受容層は、塩基性基を２つ以上含む化合物を必須成分として含有する。
これとは別に、インクジェット用インクが、塩基性基を含むポリマーを含有する場合は、インク受容層は、酸性基を２つ以上含む化合物を必須成分として含有する。
次に、本発明におけるインク受容層について説明する。
本発明のインク受容層は非感光性であって、上記の説明するインクジェット用インクが、酸性基を含むポリマーを含有する場合は、インク受容層は、塩基性基を２つ以上含む化合物を必須成分として含有する。
これとは別に、インクジェット用インクが、塩基性基を含むポリマーを含有する場合は、インク受容層は、酸性基を２つ以上含む化合物を必須成分として含有する。
［塩基性基を２つ以上含む化合物］
塩基性基を２つ以上含む化合物としては、アミノ基を２つ以上含む化合物が好ましい。
特に、下記一般式（１１）で表される化合物が好ましい。
塩基性基を２つ以上含む化合物としては、アミノ基を２つ以上含む化合物が好ましい。
特に、下記一般式（１１）で表される化合物が好ましい。
（Ｒ１１）ｎ−Ｚ１１ 一般式（１１）
一般式（１１）中、Ｒ１１はＮＲ１２Ｒ１３を表し、Ｒ１２、Ｒ１３はそれぞれ独立して、Ｈまたは総炭素数２０以下の炭化水素基を表し、ｎは２以上の数を表す。Ｚ１１は、Ｃ，Ｈ，Ｎ，Ｏ，Ｓから選ばれた元素を含有する総原子数５０個以下の連結基を表す。
具体的には、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ペンタン−１，２，５−トリイルトリス(アザン)、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−ヘキサメチレンジアミン、キシリレンジアミン、２，５−トルエンジアミン、トリエチレンテトラミン、Ｎ−１−ナフチルエチレンジアミン、１，８− ナフタレンジアミン等が挙げられる。また、ポリエチレンイミンも好ましい。
さらに、塩基性基を２つ以上含む化合物として、多価金属の水酸化物や、多価金属のアセチルアセトナート錯体も好ましい。具体的には、水酸化カルシウム、水酸化バリウム、アルミニウムのアセチルアセトナート錯体が挙げられる。
さらに、前述した一般式（３）で示されるラジカル重合性モノマー用いて得られるポリマーも好ましい。
［酸性基を２つ以上含む化合物］
酸性基を２つ以上含む化合物としては、カルボン酸を２つ以上含む化合物、リン酸を２つ以上含む化合物、ホスホン酸を２つ以上含む化合物、スルホン酸を２つ以上含む化合物が好ましい。
特に、一般式（２１）で表される化合物が好ましい。
酸性基を２つ以上含む化合物としては、カルボン酸を２つ以上含む化合物、リン酸を２つ以上含む化合物、ホスホン酸を２つ以上含む化合物、スルホン酸を２つ以上含む化合物が好ましい。
特に、一般式（２１）で表される化合物が好ましい。
（Ｙ２１）ｎ−Ｚ２１ 一般式（２１）
一般式（２１）中、Ｙ２１はＣＯＯＨまたはＳＯ３Ｈを表し、ｎは２以上の数を表し、Ｚ２１はＣ，Ｈ，Ｎ，Ｏ，Ｓから選ばれた元素を含有する総原子数５０個以下の連結基を表す。
具体的には、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、クエン酸、リンゴ酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸、７−ヒドロキシ−１，３−ナフタレンジスルホン酸、４−ベンゾイルアミド−４‘−スチルベン−２、２’−ジスルホン酸等が挙げられる。
さらに、前述した一般式（１）で示されるラジカル重合性モノマー用いて得られるポリマーも好ましい。
本発明において、上記塩基性基を２つ以上含む化合物または酸性基を２つ以上含む化合物は、インク受容層中、０．１〜９０質量％であることが好ましく、１〜８０質量％であることがさらに好ましく、２〜７０質量％であることがとくに好ましい。
［水溶性化合物］
本発明におけるインク受容層は、水溶性化合物を含有するのが好ましい。本発明で使用する水溶性化合物は、室温（例えば、２５℃）の水１００ｇに対して１ｇ以上溶解する化合物が好ましい。さらに、皮膜形成能を有する化合物が好ましく、重量平均分子量１０００以上の水溶性ポリマーが好ましい。さらに好ましい重量平均分子量は、３０００〜１００００００である。好ましい水溶性ポリマーとしては、以下を挙げることができる。
・カルボン酸あるいはその塩を有する（メタ）アクリル樹脂、スチレン系樹脂、変性セルロース
・スルホン酸性基あるいはその塩を有する（メタ）アクリル樹脂、ビニル樹脂、スチレン系樹脂
・ポリアクリルアミドあるいはポリビニルピロリドンなどアミド基を有するポリマー
・ポリビニルアルコールなどヒドロキシル基を有するポリマー
・特開昭６２−０９７８９２号公報に記載されているリン酸変性デンプンなどリン酸あるいはその塩を有する樹脂
・オニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は、特開２０００−１０２９２公報、同２０００−１０８５３８公報等に詳述されている。
・その他、ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる化合物を用いることもできる。これらの高分子化合物として、より具体的には、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などが挙げられる。
・また特開２００５−１２５７４９公報記載のエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ含有する繰り返し単位と支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも１つ含有する繰り返し単位とを有する共重合体も好ましい。
本発明におけるインク受容層は、水溶性化合物を含有するのが好ましい。本発明で使用する水溶性化合物は、室温（例えば、２５℃）の水１００ｇに対して１ｇ以上溶解する化合物が好ましい。さらに、皮膜形成能を有する化合物が好ましく、重量平均分子量１０００以上の水溶性ポリマーが好ましい。さらに好ましい重量平均分子量は、３０００〜１００００００である。好ましい水溶性ポリマーとしては、以下を挙げることができる。
・カルボン酸あるいはその塩を有する（メタ）アクリル樹脂、スチレン系樹脂、変性セルロース
・スルホン酸性基あるいはその塩を有する（メタ）アクリル樹脂、ビニル樹脂、スチレン系樹脂
・ポリアクリルアミドあるいはポリビニルピロリドンなどアミド基を有するポリマー
・ポリビニルアルコールなどヒドロキシル基を有するポリマー
・特開昭６２−０９７８９２号公報に記載されているリン酸変性デンプンなどリン酸あるいはその塩を有する樹脂
・オニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は、特開２０００−１０２９２公報、同２０００−１０８５３８公報等に詳述されている。
・その他、ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる化合物を用いることもできる。これらの高分子化合物として、より具体的には、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などが挙げられる。
・また特開２００５−１２５７４９公報記載のエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ含有する繰り返し単位と支持体表面と相互作用する官能基を少なくとも１つ含有する繰り返し単位とを有する共重合体も好ましい。
［界面活性剤］
塗布むらを無くすためには、インク受容層の塗布液に、Ｆ系界面活性剤、または、Ｓｉ系界面活性剤を用いることが好ましい。公知の界面活性剤を使用できる。
塗布むらを無くすためには、インク受容層の塗布液に、Ｆ系界面活性剤、または、Ｓｉ系界面活性剤を用いることが好ましい。公知の界面活性剤を使用できる。
インク受容層の塗布液には、上記化合物をそれぞれ２種以上併用してもよい。
インク受容層は公知の方法で設けることができる。即ち、水もしくはメタノール、エタノール、メチルエチルケトン、１−メトキシ−２−プロパノールなどの有機溶剤またはそれらの混合溶剤に、上記の各種化合物を好ましくは０．００５〜１０質量％の濃度で溶解させ、インク受容層の塗布液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥することにより設けることができる。
インク受容層中の水溶性化合物の含有量は、好ましくは１〜９９質量％、さらに好ましくは３〜９５質量％である。
インク受容層の好ましい膜厚は、１ｍｇ／ｍ２〜５００ｍｇ／ｍ２であり、特に好ましくは、２ｍｇ／ｍ２〜２５０ｍｇ／ｍ２である。
インク受容層は公知の方法で設けることができる。即ち、水もしくはメタノール、エタノール、メチルエチルケトン、１−メトキシ−２−プロパノールなどの有機溶剤またはそれらの混合溶剤に、上記の各種化合物を好ましくは０．００５〜１０質量％の濃度で溶解させ、インク受容層の塗布液を調製し、これを支持体上に塗布、乾燥することにより設けることができる。
インク受容層中の水溶性化合物の含有量は、好ましくは１〜９９質量％、さらに好ましくは３〜９５質量％である。
インク受容層の好ましい膜厚は、１ｍｇ／ｍ２〜５００ｍｇ／ｍ２であり、特に好ましくは、２ｍｇ／ｍ２〜２５０ｍｇ／ｍ２である。
＜支持体＞
次に、本発明で用いられる支持体（平版印刷版用支持体）について説明する。
本発明では、支持体の表面粗さＲａが、０．１〜１０μｍであることが好ましい。
尚、Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に基づく、算術平均粗さである。表面粗さが小さいと、重合硬化した画像との密着性が低く、耐刷性が低い。また、表面粗さが大きすぎると、画像の膜厚が低い部分が発生するため、耐刷性が低くなる。本発明に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
次に、本発明で用いられる支持体（平版印刷版用支持体）について説明する。
本発明では、支持体の表面粗さＲａが、０．１〜１０μｍであることが好ましい。
尚、Ｒａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に基づく、算術平均粗さである。表面粗さが小さいと、重合硬化した画像との密着性が低く、耐刷性が低い。また、表面粗さが大きすぎると、画像の膜厚が低い部分が発生するため、耐刷性が低くなる。本発明に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
中でも、本発明においては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸度安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々１０質量％以下である。本発明においては表面処理されたアルミニウム支持体が好ましい。以下、好ましいアルミ支持体について記載する。
〔アルミ支持体〕
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。 このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．１５ｍｍ〜０．３ｍｍである。
本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。 このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．１５ｍｍ〜０．３ｍｍである。
このようなアルミニウム板には、必要に応じて粗面化処理、陽極酸化処理などの表面処理を行ってもよい。以下、このような表面処理について簡単に説明する。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組み合わせた方法も利用することができる。
＜アルミ砂目形状を作製するための表面処理の詳細＞
本発明の平版印刷版用支持体は、後述するアルミニウム板に表面処理を施すことによって、上述した表面の砂目形状をアルミニウム板の表面に形成させたものが好ましい。本発明の平版印刷版用支持体は、アルミニウム板に粗面化処理および陽極酸化処理を施して得られるが、この支持体の製造工程は、特に限定されず、粗面化処理および陽極酸化処理以外の各種の工程を含んでいてもよい。上述した表面の砂目形状を形成させるための代表的方法として、アルミニウム板に機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板に機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法、アルミニウム板にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。これらの方法において、前記電気化学的粗面化処理の後、更に、アルカリエッチング処理および酸によるデスマット処理を施してもよい。これらの方法により得られた本発明の平版印刷版用支持体は、上述したように、２種以上の異なる周期の凹凸を重畳した構造が表面に形成されており、平版印刷版としたときの耐汚れ性および耐刷性のいずれにも優れる。以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。
本発明の平版印刷版用支持体は、後述するアルミニウム板に表面処理を施すことによって、上述した表面の砂目形状をアルミニウム板の表面に形成させたものが好ましい。本発明の平版印刷版用支持体は、アルミニウム板に粗面化処理および陽極酸化処理を施して得られるが、この支持体の製造工程は、特に限定されず、粗面化処理および陽極酸化処理以外の各種の工程を含んでいてもよい。上述した表面の砂目形状を形成させるための代表的方法として、アルミニウム板に機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板に機械的粗面化処理、アルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法、アルミニウム板にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および電解液を用いた電気化学的粗面化処理を順次施す方法、アルミニウム板にアルカリエッチング処理、酸によるデスマット処理および異なる電解液を用いた電気化学的粗面化処理を複数回施す方法が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。これらの方法において、前記電気化学的粗面化処理の後、更に、アルカリエッチング処理および酸によるデスマット処理を施してもよい。これらの方法により得られた本発明の平版印刷版用支持体は、上述したように、２種以上の異なる周期の凹凸を重畳した構造が表面に形成されており、平版印刷版としたときの耐汚れ性および耐刷性のいずれにも優れる。以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。
＜機械的粗面化処理＞
機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理と比較してより安価に、平均波長５〜１００μｍの凹凸のある表面を形成することができるため、粗面化処理の手段として有効である。機械的粗面化処理方法としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平６−１３５１７５号公報および特公昭５０−４００４７号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。また、凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方法を用いることもできる。即ち、特開昭５５−７４８９８号、特開昭６０−３６１９５号、特開昭６０−２０３４９６号の各公報に記載されている方法のほか、転写を数回行うことを特徴とする特開平６−５５８７１号公報、表面が弾性であることを特徴とした特願平４−２０４２３５号明細書（特開平６−０２４１６８号公報）に記載されている方法も適用可能である。
機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理と比較してより安価に、平均波長５〜１００μｍの凹凸のある表面を形成することができるため、粗面化処理の手段として有効である。機械的粗面化処理方法としては、例えば、アルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、特開平６−１３５１７５号公報および特公昭５０−４００４７号公報に記載されているナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法を用いることができる。また、凹凸面をアルミニウム板に圧接する転写方法を用いることもできる。即ち、特開昭５５−７４８９８号、特開昭６０−３６１９５号、特開昭６０−２０３４９６号の各公報に記載されている方法のほか、転写を数回行うことを特徴とする特開平６−５５８７１号公報、表面が弾性であることを特徴とした特願平４−２０４２３５号明細書（特開平６−０２４１６８号公報）に記載されている方法も適用可能である。
また、放電加工、ショットブラスト、レーザー、プラズマエッチング等を用いて、微細な凹凸を食刻した転写ロールを用いて繰り返し転写を行う方法や、微細粒子を塗布した凹凸のある面を、アルミニウム板に接面させ、その上より複数回繰り返し圧力を加え、アルミニウム板に微細粒子の平均直径に相当する凹凸パターンを複数回繰り返し転写させる方法を用いることもできる。転写ロールへ微細な凹凸を付与する方法としては、特開平３−８６３５号、特開平３−６６４０４号、特開昭６３−６５０１７号の各公報等に記載されている公知の方法を用いることができる。また、ロール表面にダイス、バイト、レーザー等を使って２方向から微細な溝を切り、表面に角形の凹凸をつけてもよい。このロール表面には、公知のエッチング処理等を行って、形成させた角形の凹凸が丸みを帯びるような処理を行ってもよい。また、表面の硬度を上げるために、焼き入れ、ハードクロムメッキ等を行ってもよい。そのほかにも、機械的粗面化処理としては、特開昭６１−１６２３５１号公報、特開昭６３−１０４８８９号公報等に記載されている方法を用いることもできる。本発明においては、生産性等を考慮して上述したそれぞれの方法を併用することもできる。これらの機械的粗面化処理は、電気化学的粗面化処理の前に行うのが好ましい。
＜電気化学的粗面化処理＞
電気化学的粗面化処理には、通常の交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。中でも、塩酸または硝酸を主体とする電解液を用いることで特徴的な凹凸構造を表面に形成させることができる。本発明における電解粗面化処理としては、陰極電解処理の前後に酸性溶液中での交番波形電流による第１および第２の電解処理を行うことが好ましい。陰極電解処理により、アルミニウム板の表面で水素ガスが発生してスマットが生成することにより表面状態が均一化され、その後の交番波形電流による電解処理の際に均一な電解粗面化が可能となる。この電解粗面化処理は、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報および英国特許第８９６，５６３号明細書に記載されている電気化学的グレイン法（電解グレイン法）に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平３−７９７９９号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭５５−１５８２９８号、特開昭５６−２８８９８号、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭６０−１９０３９２号、特開昭５８−１２０５３１号、特開昭６３−１７６１８７号、特開平１−５８８９号、特開平１−２８０５９０号、特開平１−１１８４８９号、特開平１−１４８５９２号、特開平１−１７８４９６号、特開平１−１８８３１５号、特開平１−１５４７９７号、特開平２−２３５７９４号、特開平３−２６０１００号、特開平３−２５３６００号、特開平４−７２０７９号、特開平４−７２０９８号、特開平３−２６７４００号、特開平１−１４１０９４の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第４，２７６，１２９号明細書および同第４，６７６，８７９号明細書に記載されている。
電気化学的粗面化処理には、通常の交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。中でも、塩酸または硝酸を主体とする電解液を用いることで特徴的な凹凸構造を表面に形成させることができる。本発明における電解粗面化処理としては、陰極電解処理の前後に酸性溶液中での交番波形電流による第１および第２の電解処理を行うことが好ましい。陰極電解処理により、アルミニウム板の表面で水素ガスが発生してスマットが生成することにより表面状態が均一化され、その後の交番波形電流による電解処理の際に均一な電解粗面化が可能となる。この電解粗面化処理は、例えば、特公昭４８−２８１２３号公報および英国特許第８９６，５６３号明細書に記載されている電気化学的グレイン法（電解グレイン法）に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭５２−５８６０２号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平３−７９７９９号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭５５−１５８２９８号、特開昭５６−２８８９８号、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭６０−１９０３９２号、特開昭５８−１２０５３１号、特開昭６３−１７６１８７号、特開平１−５８８９号、特開平１−２８０５９０号、特開平１−１１８４８９号、特開平１−１４８５９２号、特開平１−１７８４９６号、特開平１−１８８３１５号、特開平１−１５４７９７号、特開平２−２３５７９４号、特開平３−２６０１００号、特開平３−２５３６００号、特開平４−７２０７９号、特開平４−７２０９８号、特開平３−２６７４００号、特開平１−１４１０９４の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第４，２７６，１２９号明細書および同第４，６７６，８７９号明細書に記載されている。
電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第４２０３６３７号明細書、特開昭５６−１２３４００号、特開昭５７−５９７７０号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８２３号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特開昭６２−１２７５００号、特開平１−５２１００号、特開平１−５２０９８号、特開昭６０−６７７００号、特開平１−２３０８００号、特開平３−２５７１９９号の各公報等に記載されているものを用いることができる。また、特開昭５２−５８６０２号、特開昭５２−１５２３０２号、特開昭５３−１２７３８号、特開昭５３−１２７３９号、特開昭５３−３２８２１号、特開昭５３−３２８２２号、特開昭５３−３２８３３号、特開昭５３−３２８２４号、特開昭５３−３２８２５号、特開昭５４−８５８０２号、特開昭５５−１２２８９６号、特開昭５５−１３２８８４号、特公昭４８−２８１２３号、特公昭５１−７０８１号、特開昭５２−１３３８３８号、特開昭５２−１３３８４０号号、特開昭５２−１３３８４４号、特開昭５２−１３３８４５号、特開昭５３−１４９１３５号、特開昭５４−１４６２３４号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。
電解液である酸性溶液としては、硝酸、塩酸のほかに、米国特許第４，６７１，８５９号、同第４，６６１，２１９号、同第４，６１８，４０５号、同第４，６００，４８２号、同第４，５６６，９６０号、同第４，５６６，９５８号、同第４，５６６，９５９号、同第４，４１６，９７２号、同第４，３７４，７１０号、同第４，３３６，１１３号、同第４，１８４，９３２号の各明細書等に記載されている電解液を用いることもできる。
（硝酸電解）
硝酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理により、平均開口径０．５〜５μｍのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、５μｍを超えるハニカムピットも生成する。このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１〜１０００Ｃ／ｄｍ2 であるのが好ましく、５０〜３００Ｃ／ｄｍ2 であるのがより好ましい。この際の電流密度は２０〜１００Ａ／ｄｍ2であるのが好ましい。また、高濃度または高温の硝酸電解液を用いると、平均開口径０．２μｍ以下の小波構造を形成させることもできる。
硝酸を主体とする電解液を用いた電気化学的粗面化処理により、平均開口径０．５〜５μｍのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、５μｍを超えるハニカムピットも生成する。このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１〜１０００Ｃ／ｄｍ2 であるのが好ましく、５０〜３００Ｃ／ｄｍ2 であるのがより好ましい。この際の電流密度は２０〜１００Ａ／ｄｍ2であるのが好ましい。また、高濃度または高温の硝酸電解液を用いると、平均開口径０．２μｍ以下の小波構造を形成させることもできる。
（塩酸電解）
塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が０．０１〜０．２μｍであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１〜１００Ｃ／ｄｍ2であるのが好ましく、２０〜７０Ｃ／ｄｍ2 であるのがより好ましい。この際の電流密度は２０〜５０Ａ／ｄｍ2 であるのが好ましい。
塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電解を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径が０．０１〜０．２μｍであり、アルミニウム板の表面の全面に均一に生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、１〜１００Ｃ／ｄｍ2であるのが好ましく、２０〜７０Ｃ／ｄｍ2 であるのがより好ましい。この際の電流密度は２０〜５０Ａ／ｄｍ2 であるのが好ましい。
このような塩酸を主体とする電解液での電気化学的粗面化処理では、アノード反応にあずかる電気量の総和を４００〜１０００Ｃ／ｄｍ2 と大きくすることでクレーター状の大きなうねりを同時に形成することも可能であるが、この場合は平均開口径１０〜３０μｍのクレーター状のうねりに重畳して平均開口径０．０１〜０．４μｍの微細な凹凸が全面に生成する。
＜アルカリエッチング処理＞
アルカリエッチング処理は、上記アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
アルカリエッチング処理は、上記アルミニウム板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
電解粗面化処理より前に行われるアルカリエッチング処理は、機械的粗面化処理を行っていない場合には、前記アルミニウム板（圧延アルミ）の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として、また、既に機械的粗面化処理を行っている場合には、機械的粗面化処理によって生成した凹凸のエッジ部分を溶解させ、急峻な凹凸を滑らかなうねりを持つ表面に変えることを目的として行われる。
アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行わない場合、エッチング量は、０．１〜１０ｇ／ｍ2 であるのが好ましく、１〜５ｇ／ｍ2 であるのがより好ましい。エッチング量が０．１ｇ／ｍ2未満であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等が残存する場合があるため、後段の電解粗面化処理において均一なピット生成ができずムラが発生してしまう場合がある。一方、エッチング量が１〜１０ｇ／ｍ2であると、表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等の除去が十分に行われる。上記範囲を超えるエッチング量とするのは、経済的に不利となる。
アルカリエッチング処理の前に機械的粗面化処理を行う場合、エッチング量は、３〜２０ｇ／ｍ2 であるのが好ましく、５〜１５ｇ／ｍ2 であるのがより好ましい。エッチング量が３ｇ／ｍ2未満であると、機械的粗面化処理等によって形成された凹凸を平滑化できない場合があり、後段の電解処理において均一なピット形成ができない場合がある。また、印刷時に汚れが劣化する場合がある。一方、エッチング量が２０ｇ／ｍ2を超えると、凹凸構造が消滅してしまう場合がある。
電解粗面化処理の直後に行うアルカリエッチング処理は、酸性電解液中で生成したスマットを溶解させることと、電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。電解粗面化処理で形成されるピットは電解液の種類によって異なるためにその最適なエッチング量も異なるが、電解粗面化処理後に行うアルカリエッチング処理のエッチング量は、０．１〜５ｇ／ｍ2 であるのが好ましい。硝酸電解液を用いた場合、塩酸電解液を用いた場合よりもエッチング量は多めに設定する必要がある。電解粗面化処理が複数回行われる場合には、それぞれの処理後に、必要に応じてアルカリエッチング処理を行うことができる。
アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、タケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩；炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩；アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩；グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩；第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第三リン酸ソーダ、第三リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。
＜デスマット処理＞
電解粗面化処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（デスマット処理）が行われる。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム板を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度０．５〜３０質量％の酸性溶液（アルミニウムイオン０．０１〜５質量％を含有する。）に接触させることにより行う。アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。デスマット処理においては、酸性溶液として、上述した電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする水溶液もしくは塩酸を主体とする水溶液の廃液、または、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いることができる。デスマット処理の液温は、２５〜９０℃であるのが好ましい。また、処理時間は、１〜１８０秒であるのが好ましい。デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムおよびアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
電解粗面化処理またはアルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗い（デスマット処理）が行われる。用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。上記デスマット処理は、例えば、上記アルミニウム板を塩酸、硝酸、硫酸等の濃度０．５〜３０質量％の酸性溶液（アルミニウムイオン０．０１〜５質量％を含有する。）に接触させることにより行う。アルミニウム板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム板の表面に噴きかける方法が挙げられる。デスマット処理においては、酸性溶液として、上述した電解粗面化処理において排出される硝酸を主体とする水溶液もしくは塩酸を主体とする水溶液の廃液、または、後述する陽極酸化処理において排出される硫酸を主体とする水溶液の廃液を用いることができる。デスマット処理の液温は、２５〜９０℃であるのが好ましい。また、処理時間は、１〜１８０秒であるのが好ましい。デスマット処理に用いられる酸性溶液には、アルミニウムおよびアルミニウム合金成分が溶け込んでいてもよい。
＜陽極酸化処理＞
以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
以上のように粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
陽極酸化の処理条件は用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は2.0ｇ／ｍ2より少ないと平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」が生じ易くなる。
＜親水性表面および親水化処理＞
親水性表面としては、陽極酸化皮膜でもよいが、さらにその上から親水化処理を施すことが好ましい。ここでいう親水性表面とは、水との接触角が10°より小さいのものを言い、5°より小さくなるものが特に好ましい。また親水化処理した際、親水化化合物は陽極酸化皮膜に吸着していることが好ましい。
親水化処理としては、例えば、米国特許第２，９４６，６３８号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第３，２０１，２４７号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第１，１０８，５５９号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第１，０９１，４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第１，１３４，０９３号明細書および英国特許第１，２３０，４４７号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第３，３０７，９５１号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６８９３号公報および特開昭５８−１８２９１号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と２価の金属との塩による処理、タモールなど多価スルホン酸化合物への浸漬処理が挙げられる。
親水性表面としては、陽極酸化皮膜でもよいが、さらにその上から親水化処理を施すことが好ましい。ここでいう親水性表面とは、水との接触角が10°より小さいのものを言い、5°より小さくなるものが特に好ましい。また親水化処理した際、親水化化合物は陽極酸化皮膜に吸着していることが好ましい。
親水化処理としては、例えば、米国特許第２，９４６，６３８号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第３，２０１，２４７号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第１，１０８，５５９号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第１，０９１，４３３号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第１，１３４，０９３号明細書および英国特許第１，２３０，４４７号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭４４−６４０９号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第３，３０７，９５１号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭５８−１６８９３号公報および特開昭５８−１８２９１号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と２価の金属との塩による処理、タモールなど多価スルホン酸化合物への浸漬処理が挙げられる。
また、特開昭６２−０１９４９４号公報に記載されているリン酸塩、特開昭６２−０３３６９２号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭６２−０９７８９２号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭６３−０５６４９８号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭６３−１３０３９１号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭６３−１４５０９２号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭６３−１６５１８３号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸性基を有する化合物、特開平２−３１６２９０号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平３−２１５０９５号公報に記載されているリン酸エステル、特開平３−２６１５９２号公報に記載されている１個のアミノ基とリンの酸素酸性基１個を持つ化合物、特開平３−２１５０９５号公報に記載されているリン酸エステル、特開平５−２４６１７１号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平１−３０７７４５号公報に記載されているチオサリチル酸のようなＳ原子を含む化合物、特開平４−２８２６３７号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。更に、特開昭６０−６４３５２号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。
また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。
Ｓｉ付着量としては１．０〜２０．０ｍｇ／ｍ2付着させることが望ましい。２．０から１７．０ｍｇ／ｍ2がより望ましい。１．０ｍｇ／ｍ2以上であると汚れにくさが良好になり、２０．０ｍｇ／ｍ2以下であると耐刷性、バーニング耐刷性が良好となる。
＜水洗処理＞
上述した各処理の工程終了後には水洗を行うのが好ましい。水洗には、純水、井水、水道水等を用いることができる。処理液の次工程への持ち込みを防ぐためにニップ装置を用いてもよい。
上述した各処理の工程終了後には水洗を行うのが好ましい。水洗には、純水、井水、水道水等を用いることができる。処理液の次工程への持ち込みを防ぐためにニップ装置を用いてもよい。
［ポリエステルフィルム支持体、紙支持体］
また、表面に適切な塗布層を設けたポリエステルフィルム支持体や紙支持体も本発明において好適に使用できる。例えば、特開２００−１１８２５４号公報に記載されている、多孔質フィラー粒子、並びに、金属原子及び／又は半金属原子が酸素原子を介して繋がった結合を含有する樹脂と特定の高分子化合物との複合体を含んでなる結着樹脂を含有する層を設けた支持体や、特開２００３−１９８７３号公報に記載されている、（１）多孔質フィラー粒子、（２）金属アルコレート、該金属アルコレートとβ−ジケトン類及び／又はβ−ケトエステル類との反応で得られるキレート化合物、及び該キレート化合物を水と反応させて得られる部分的加水分解物の中から選択される少なくとも１種の金属アルコレート系化合物、並びに、（３）金属原子及び／又は半金属原子が酸素原子を介して繋がった結合を含有する樹脂と、該樹脂と水素結合を形成し得る基を含有する有機ポリマーとの複合体からなる結着樹脂を少なくとも含有する層を設けた支持体などが本発明において好適に使用できる。
また、表面に適切な塗布層を設けたポリエステルフィルム支持体や紙支持体も本発明において好適に使用できる。例えば、特開２００−１１８２５４号公報に記載されている、多孔質フィラー粒子、並びに、金属原子及び／又は半金属原子が酸素原子を介して繋がった結合を含有する樹脂と特定の高分子化合物との複合体を含んでなる結着樹脂を含有する層を設けた支持体や、特開２００３−１９８７３号公報に記載されている、（１）多孔質フィラー粒子、（２）金属アルコレート、該金属アルコレートとβ−ジケトン類及び／又はβ−ケトエステル類との反応で得られるキレート化合物、及び該キレート化合物を水と反応させて得られる部分的加水分解物の中から選択される少なくとも１種の金属アルコレート系化合物、並びに、（３）金属原子及び／又は半金属原子が酸素原子を介して繋がった結合を含有する樹脂と、該樹脂と水素結合を形成し得る基を含有する有機ポリマーとの複合体からなる結着樹脂を少なくとも含有する層を設けた支持体などが本発明において好適に使用できる。
［インクジェット記録］
次に、本発明におけるインクジェット記録方式について説明する。
・インク物性
上記インクの物性値としては、ユーザが取り扱う上で２５℃の粘度としては２０〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、実機で吐出する際にはインク温度を２５〜１００℃の範囲でほぼ一定温度に保持し、そのときの粘度が２〜５０ｍＰａ・ｓとなるようにすることが好ましい。
次に、本発明におけるインクジェット記録方式について説明する。
・インク物性
上記インクの物性値としては、ユーザが取り扱う上で２５℃の粘度としては２０〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、実機で吐出する際にはインク温度を２５〜１００℃の範囲でほぼ一定温度に保持し、そのときの粘度が２〜５０ｍＰａ・ｓとなるようにすることが好ましい。
・インク保持手段
インクを保持する手段としては、公知のインクカートリッジに充填することが好ましく、特開平５−１６３７７号公報に開示されるように変形可能な容器に収納し、タンクとなすことも可能である。また特開平５−１６３８２号公報に開示されるように、サブタンクを有するとインクをヘッドへの供給が更に安定する。また特開平８−１７４８６０号公報に開示されるように、インク供給室の圧力が低下した場合に、弁の移動によりインクを供給する形態のカートリッジを用いることも可能である。これらのインク保持手段でヘッド内のメニスカスを適切にたもつための負圧付与方法としては、インク保持手段の高さすなわち水頭圧による方法、またインク流路中にもうけたフィルタの毛細管力による方法、また、ポンプ等により圧力を制御する方法、また、特開昭５０−７４３４１号公報に開示されるようにインクをインク吸収体に保持し、この毛細管力により負圧を付与する方法等が適切である。
インクを保持する手段としては、公知のインクカートリッジに充填することが好ましく、特開平５−１６３７７号公報に開示されるように変形可能な容器に収納し、タンクとなすことも可能である。また特開平５−１６３８２号公報に開示されるように、サブタンクを有するとインクをヘッドへの供給が更に安定する。また特開平８−１７４８６０号公報に開示されるように、インク供給室の圧力が低下した場合に、弁の移動によりインクを供給する形態のカートリッジを用いることも可能である。これらのインク保持手段でヘッド内のメニスカスを適切にたもつための負圧付与方法としては、インク保持手段の高さすなわち水頭圧による方法、またインク流路中にもうけたフィルタの毛細管力による方法、また、ポンプ等により圧力を制御する方法、また、特開昭５０−７４３４１号公報に開示されるようにインクをインク吸収体に保持し、この毛細管力により負圧を付与する方法等が適切である。
・インク供給路
インクをこれらインク保持手段からヘッドに供給する方法として、ヘッドユニットに直接保持手段を連結する方法でもよいし、チューブ等の流路により連結する方法でもよい。これらインク保持手段および流路は、インクに対して良好な濡れ性を持つような素材であること、もしくは表面処理が施されていることが好ましい。
インクをこれらインク保持手段からヘッドに供給する方法として、ヘッドユニットに直接保持手段を連結する方法でもよいし、チューブ等の流路により連結する方法でもよい。これらインク保持手段および流路は、インクに対して良好な濡れ性を持つような素材であること、もしくは表面処理が施されていることが好ましい。
・ヘッド
インクを打滴する方法としては、特開平５−１０４７２５号公報に開示されるように、連続的にインク滴を吐出させ、画像に応じて滴を偏向してメディアに着弾させるか、させないかを選択制御する方法であってもよいし、所謂オンデマンド方式を呼ばれる、画像として必要な部分にのみインク滴を吐出させる方式であってもよい。オンデマンド方式は、特開平５−１６３４９号公報に開示されるように、ピエゾ（圧電）素子等を用いて構造体の変形によりインク圧を発生させ、吐出させる方式であってもよいし、特開平１−２３４２５５号公報に開示されるように、熱エネルギーによる気化にともなう膨張により発生する圧力で吐出する方式であってもよい。また特開２００１−２７７４６６号公報に開示されるように、電界によりメディアへの吐出を制御する方式であってもよい。
ノズルはたとえば特開平５−３１９０８号公報に記載されるような形態が適用可能である。また、複数のノズル列を有するヘッドユニットを複数配置することにより高速化が可能である。
さらにノズルを特開昭６３−１６０８４９号公報に記載されるように画像の幅と同等以上の幅分配置し、所謂ラインヘッドとなし、これらのノズルからの打滴と同時にメディアを移動させることにより、高速に画像を形成することが可能となる。
またノズルの表面は、特開平５−１１６３２７号公報に開示されるような表面処理を施すことにより、ノズル表面へのインク滴の飛沫の付着、およびインク滴の付着を防ぐことが可能となる。このような処理を施しても、なお汚れが付着する場合があり、このため、特開平６−７１９０４号公報に開示されるように、ブレードにより清掃を行うことが好ましい。また、ノズルからインクが均等に吐出されるとは限らない。このようなときに、メニスカスを安定に保つために、特開平１１−１５７１０２号公報に開示されるように、画像領域外で適宜インクを吐出させ、ヘッドに新しいインクを補給することにより、インク物性を適性値に維持することが好ましい。また、このような処置を施してもなお気泡がヘッド内に侵入もしくはヘッド内で発生することがある。このような場合は、特開平１１−３３４０９２号公報に記載されるように、ヘッド外より強制的にインクを吸引することにより、物性の変化したインクを廃棄するとともに、気泡もヘッド外に排出することができる。更に長時間打滴しない場合は特開平１１−１３８８３０号公報に開示されるように、キャップでノズル表面を覆うことによりノズル表面を保護することができる。これらの措置を講じてもなお吐出しない場合がありうる。ノズルの一部が吐出しない状態で画像形成すると、画像にムラが発生する等の問題が発生する。このようなことを避けるため、特開平２０００−３４３６８６号公報に開示されるように、吐出しないことを検出して処置をとることが有効である。
インクを打滴する方法としては、特開平５−１０４７２５号公報に開示されるように、連続的にインク滴を吐出させ、画像に応じて滴を偏向してメディアに着弾させるか、させないかを選択制御する方法であってもよいし、所謂オンデマンド方式を呼ばれる、画像として必要な部分にのみインク滴を吐出させる方式であってもよい。オンデマンド方式は、特開平５−１６３４９号公報に開示されるように、ピエゾ（圧電）素子等を用いて構造体の変形によりインク圧を発生させ、吐出させる方式であってもよいし、特開平１−２３４２５５号公報に開示されるように、熱エネルギーによる気化にともなう膨張により発生する圧力で吐出する方式であってもよい。また特開２００１−２７７４６６号公報に開示されるように、電界によりメディアへの吐出を制御する方式であってもよい。
ノズルはたとえば特開平５−３１９０８号公報に記載されるような形態が適用可能である。また、複数のノズル列を有するヘッドユニットを複数配置することにより高速化が可能である。
さらにノズルを特開昭６３−１６０８４９号公報に記載されるように画像の幅と同等以上の幅分配置し、所謂ラインヘッドとなし、これらのノズルからの打滴と同時にメディアを移動させることにより、高速に画像を形成することが可能となる。
またノズルの表面は、特開平５−１１６３２７号公報に開示されるような表面処理を施すことにより、ノズル表面へのインク滴の飛沫の付着、およびインク滴の付着を防ぐことが可能となる。このような処理を施しても、なお汚れが付着する場合があり、このため、特開平６−７１９０４号公報に開示されるように、ブレードにより清掃を行うことが好ましい。また、ノズルからインクが均等に吐出されるとは限らない。このようなときに、メニスカスを安定に保つために、特開平１１−１５７１０２号公報に開示されるように、画像領域外で適宜インクを吐出させ、ヘッドに新しいインクを補給することにより、インク物性を適性値に維持することが好ましい。また、このような処置を施してもなお気泡がヘッド内に侵入もしくはヘッド内で発生することがある。このような場合は、特開平１１−３３４０９２号公報に記載されるように、ヘッド外より強制的にインクを吸引することにより、物性の変化したインクを廃棄するとともに、気泡もヘッド外に排出することができる。更に長時間打滴しない場合は特開平１１−１３８８３０号公報に開示されるように、キャップでノズル表面を覆うことによりノズル表面を保護することができる。これらの措置を講じてもなお吐出しない場合がありうる。ノズルの一部が吐出しない状態で画像形成すると、画像にムラが発生する等の問題が発生する。このようなことを避けるため、特開平２０００−３４３６８６号公報に開示されるように、吐出しないことを検出して処置をとることが有効である。
・打滴
インクを吐出するにあたっては、粘度を一定に維持するためにインク温度を所定精度で一定に保持することが好ましい。このためにはインク温度検出手段と、インク加熱手段、および検出されたインク温度に応じて加熱を制御する制御手段を有することが好ましい。
さらにあるいは、インク温度に応じてインクを吐出させる手段への印加エネルギーを制御する手段を有することも好適である。
ヘッドユニットを特開平６−１１５０９９号公報に記載されるように機械的に移動させ、これと同期してメディアを直交方向に間欠的に移動させることにより重畳打滴を行うと、メディア（記録媒体）の間欠的な移動の精度不良にともなうムラを見えにくくする効果があり、高画質を実現することが可能となる。このとき、ヘッドの移動速度、メディアの移動量、ノズル数の関係を適宜設定することにより、画質と記録速度の関係を好ましい関係に設定することが可能となる。また、逆にヘッドを固定し、メディアを機械的に所定方向に往復移動するとともに、それと直交方向に間欠移動させることにより、同様の効果を得ることが可能である。
インクを吐出するにあたっては、粘度を一定に維持するためにインク温度を所定精度で一定に保持することが好ましい。このためにはインク温度検出手段と、インク加熱手段、および検出されたインク温度に応じて加熱を制御する制御手段を有することが好ましい。
さらにあるいは、インク温度に応じてインクを吐出させる手段への印加エネルギーを制御する手段を有することも好適である。
ヘッドユニットを特開平６−１１５０９９号公報に記載されるように機械的に移動させ、これと同期してメディアを直交方向に間欠的に移動させることにより重畳打滴を行うと、メディア（記録媒体）の間欠的な移動の精度不良にともなうムラを見えにくくする効果があり、高画質を実現することが可能となる。このとき、ヘッドの移動速度、メディアの移動量、ノズル数の関係を適宜設定することにより、画質と記録速度の関係を好ましい関係に設定することが可能となる。また、逆にヘッドを固定し、メディアを機械的に所定方向に往復移動するとともに、それと直交方向に間欠移動させることにより、同様の効果を得ることが可能である。
・システムパラメータ
画像を形成するうえで、インク受容層上でのインク着弾径は、５〜５００μｍの間にあることが好適であり、このためには吐出時のインク滴の直径は５〜２００μｍであることが好ましく、このときのノズル径は５〜２００μｍであることが好ましい。特に印刷版を作成する場合は、吐出液滴量が２０ｐＬ以下であることが好ましく、１０ｐＬ以下であることが特に好ましい。
画像を形成するためには１インチあたりの画素数が５０〜４０００ｄｐｉであることが好ましく、そのためには、ヘッドのノズル密度は１０〜４０００ｄｐｉであることが好ましい。ここで、ヘッドのノズル密度は低くとも、メディアの搬送方向に対して傾ける、あるいは複数のヘッドユニットを相対的にずらして配置することにより、ノズル間隔の大きいヘッドで高密度の着弾を実現することが可能である。また上記のようにヘッドもしくはメディアの往復移動により、低ノズルピッチでヘッドが移動するごとにメディアを所定量搬送させ、インク滴を異なる位置に着弾させることにより、高密度の画像記録を実現することができる。
ヘッドとメディアの間隔に関しては、広すぎるとヘッドもしくはメディアの移動に伴う空気の流れでインク滴の飛翔が乱れ、着弾位置精度が低下する。逆に間隔が狭いと、メディアの凹凸、搬送機構に起因する振動等によりヘッドとメディアが接触する危険性があり、０．５〜２ｍｍ程度に維持されることが好ましい。
画像を形成するうえで、インク受容層上でのインク着弾径は、５〜５００μｍの間にあることが好適であり、このためには吐出時のインク滴の直径は５〜２００μｍであることが好ましく、このときのノズル径は５〜２００μｍであることが好ましい。特に印刷版を作成する場合は、吐出液滴量が２０ｐＬ以下であることが好ましく、１０ｐＬ以下であることが特に好ましい。
画像を形成するためには１インチあたりの画素数が５０〜４０００ｄｐｉであることが好ましく、そのためには、ヘッドのノズル密度は１０〜４０００ｄｐｉであることが好ましい。ここで、ヘッドのノズル密度は低くとも、メディアの搬送方向に対して傾ける、あるいは複数のヘッドユニットを相対的にずらして配置することにより、ノズル間隔の大きいヘッドで高密度の着弾を実現することが可能である。また上記のようにヘッドもしくはメディアの往復移動により、低ノズルピッチでヘッドが移動するごとにメディアを所定量搬送させ、インク滴を異なる位置に着弾させることにより、高密度の画像記録を実現することができる。
ヘッドとメディアの間隔に関しては、広すぎるとヘッドもしくはメディアの移動に伴う空気の流れでインク滴の飛翔が乱れ、着弾位置精度が低下する。逆に間隔が狭いと、メディアの凹凸、搬送機構に起因する振動等によりヘッドとメディアが接触する危険性があり、０．５〜２ｍｍ程度に維持されることが好ましい。
［露光によるインクの重合］
本発明で用いられる露光に使用する好ましい光源としては、一般的に用いられる水銀灯、メタルハライドランプ等を用いてもよいし、発光ダイオード、半導体レーザ、蛍光灯等の光源を用いてもよい。また熱陰極管、冷陰極管、電子線、Ｘ線等、インクの重合反応が進行する光源、電磁波等を用いることが出来る。水銀灯やメタルハライドランプを用いる場合、ランプは１０〜３０００Ｗ／ｃｍのものを使用し、記録媒体面で１ｍＷ／ｃｍ２〜３００Ｗ／ｃｍ２の照度であることが好ましい。また露光エネルギーは、０．１ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。また、高圧放電を用いる水銀灯、メタルハライドランプ等では放電にともない、オゾンが発生するため、排気手段を有することが好ましい。排気手段は、インク吐出時に発生するインクミストの回収を兼ねるべく配置してあることが好適である。ラジカル重合により硬化させる場合、酸素により重合が阻害されるため、酸素濃度の低い状態、すなわち窒素等のガス雰囲気下で露光させることにより低エネルギーで硬化させることができる。これら、硬化させるための光等のエネルギーがインク吐出ノズルに照射されると、ノズル面表面に付着したインクミスト等が固化し、インク吐出の妨げとなる可能性があるため、ノズルへの照射を最小限にとどめるため、遮光等の措置を施すことが好ましい。具体的には、ノズルプレートへの照射を防止する隔壁を設ける、あるいは迷光を低減するべくメディアへの入射角を限定するための手段を設ける等が好適である。
本発明で用いられる露光に使用する好ましい光源としては、一般的に用いられる水銀灯、メタルハライドランプ等を用いてもよいし、発光ダイオード、半導体レーザ、蛍光灯等の光源を用いてもよい。また熱陰極管、冷陰極管、電子線、Ｘ線等、インクの重合反応が進行する光源、電磁波等を用いることが出来る。水銀灯やメタルハライドランプを用いる場合、ランプは１０〜３０００Ｗ／ｃｍのものを使用し、記録媒体面で１ｍＷ／ｃｍ２〜３００Ｗ／ｃｍ２の照度であることが好ましい。また露光エネルギーは、０．１ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましい。また、高圧放電を用いる水銀灯、メタルハライドランプ等では放電にともない、オゾンが発生するため、排気手段を有することが好ましい。排気手段は、インク吐出時に発生するインクミストの回収を兼ねるべく配置してあることが好適である。ラジカル重合により硬化させる場合、酸素により重合が阻害されるため、酸素濃度の低い状態、すなわち窒素等のガス雰囲気下で露光させることにより低エネルギーで硬化させることができる。これら、硬化させるための光等のエネルギーがインク吐出ノズルに照射されると、ノズル面表面に付着したインクミスト等が固化し、インク吐出の妨げとなる可能性があるため、ノズルへの照射を最小限にとどめるため、遮光等の措置を施すことが好ましい。具体的には、ノズルプレートへの照射を防止する隔壁を設ける、あるいは迷光を低減するべくメディアへの入射角を限定するための手段を設ける等が好適である。
［ガム処理］
以上、画像形成されたものは、さらに印刷の前にアラビアガムや澱粉誘導体、界面活性剤等を主成分とするガム処理することも可能である。ガムとしては、特公昭６２−１６８３４号、同６２−２５１１８号、同６３−５２６００号、特開昭６２−７５９５号、同６２−１１６９３号、同６２−８３１９４号の各公報に記載されているものが好ましい。なお、ガム処理の際に、インク受容層がガム液により溶解除去されることが好ましい。このようにして得られた版は平版印刷機により通常の印刷を行うことができる。尚、本発明では、ガム処理なしで、印刷することもできる。
以上、画像形成されたものは、さらに印刷の前にアラビアガムや澱粉誘導体、界面活性剤等を主成分とするガム処理することも可能である。ガムとしては、特公昭６２−１６８３４号、同６２−２５１１８号、同６３−５２６００号、特開昭６２−７５９５号、同６２−１１６９３号、同６２−８３１９４号の各公報に記載されているものが好ましい。なお、ガム処理の際に、インク受容層がガム液により溶解除去されることが好ましい。このようにして得られた版は平版印刷機により通常の印刷を行うことができる。尚、本発明では、ガム処理なしで、印刷することもできる。
［湿し水］
印刷する際の湿し水については、通常の平版印刷機および通常のインクにより印刷することができる。湿し水としては、一般に、イソプロピルアルコールを約２０〜２５％加えた水溶液を湿し水として用いるダールグレン方式が提案され、広く普及しているもの、また、イソプロピルアルコールは特有の不快臭があることと共に、毒性の面でも問題があり、有機溶剤中毒予防規則（有機則）第２種有機溶剤であって規制を受けるため、イソプロピルアルコールを代替する技術を導入したもの、さらにイソプロピルアルコール代替化合物として不揮発性もしくは高沸点化合物を使用する技術も開発されている。例えば、特定のアルキレンオキサイド系非イオン系界面活性剤を湿し水組成物に含めたもの、及び、アルキレンジアミンのエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド付加物を湿し水組成物に含めたものを使用することができる。
印刷する際の湿し水については、通常の平版印刷機および通常のインクにより印刷することができる。湿し水としては、一般に、イソプロピルアルコールを約２０〜２５％加えた水溶液を湿し水として用いるダールグレン方式が提案され、広く普及しているもの、また、イソプロピルアルコールは特有の不快臭があることと共に、毒性の面でも問題があり、有機溶剤中毒予防規則（有機則）第２種有機溶剤であって規制を受けるため、イソプロピルアルコールを代替する技術を導入したもの、さらにイソプロピルアルコール代替化合物として不揮発性もしくは高沸点化合物を使用する技術も開発されている。例えば、特定のアルキレンオキサイド系非イオン系界面活性剤を湿し水組成物に含めたもの、及び、アルキレンジアミンのエチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド付加物を湿し水組成物に含めたものを使用することができる。
以下、本発明を実施例によりさらに説明するが、本発明は下記例に限定されるものではない。
［実施例１］
＜支持体の作製＞
＜アルミニウム板＞
Ｓｉ：０．０６質量％、Ｆｅ：０．３０質量％、Ｃｕ：０．００５質量％、Ｍｎ：０．００１質量％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作成した。表面を平均１０ｍｍの厚さで面削機により削り取った後、５５０℃で、約５時間均熱保持し、温度４００℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を５００℃で行った後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍに仕上げ、ＪＩＳ １０５０材のアルミニウム板を得た。このアルミニウム板を幅１０３０ｍｍにした後、以下に示す表面処理に供した。
＜支持体の作製＞
＜アルミニウム板＞
Ｓｉ：０．０６質量％、Ｆｅ：０．３０質量％、Ｃｕ：０．００５質量％、Ｍｎ：０．００１質量％、Ｍｇ：０．００１質量％、Ｚｎ：０．００１質量％、Ｔｉ：０．０３質量％を含有し、残部はＡｌと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ５００ｍｍ、幅１２００ｍｍの鋳塊をＤＣ鋳造法で作成した。表面を平均１０ｍｍの厚さで面削機により削り取った後、５５０℃で、約５時間均熱保持し、温度４００℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ２．７ｍｍの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を５００℃で行った後、冷間圧延で、厚さ０．２４ｍｍに仕上げ、ＪＩＳ １０５０材のアルミニウム板を得た。このアルミニウム板を幅１０３０ｍｍにした後、以下に示す表面処理に供した。
＜表面処理＞
表面処理は、以下の（ａ）〜（ｊ）の各種処理を連続的に行った。なお、各処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
表面処理は、以下の（ａ）〜（ｊ）の各種処理を連続的に行った。なお、各処理および水洗の後にはニップローラで液切りを行った。
（ａ）機械的粗面化処理
比重１．１２の研磨剤（パミス）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。
（ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度２．６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度７０℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を６ｇ／ｍ２溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
比重１．１２の研磨剤（パミス）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。
（ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板をカセイソーダ濃度２．６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％、温度７０℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム板を６ｇ／ｍ２溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｃ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
（ｄ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、液温５０℃であった。交流電源波形は図２に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図３に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ２であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ、アンモニウムイオンを０．００７質量％含む。）、液温５０℃であった。交流電源波形は図２に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図３に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ２であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２５ｇ／ｍ２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２５ｇ／ｍ２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｆ）デスマット処理
温度３０℃の硫酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
温度３０℃の硫酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
（ｇ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸７．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ含む。）、温度３５℃であった。交流電源波形は図２に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図３に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸７．５ｇ／Ｌ水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／Ｌ含む。）、温度３５℃であった。交流電源波形は図２に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ｄｕｔｙ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。使用した電解槽は図３に示すものを使用した。電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ２、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ２であった。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ２溶解し、前段の交流を用いて電気化学的粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｉ）デスマット処理
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
（ｊ）陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた陽極酸化処理を行い、酸化皮膜量が２．７ｇ／ｍ２である、平版印刷版原版用支持体基材を得た。
電解液としては、硫酸を用いた陽極酸化処理を行い、酸化皮膜量が２．７ｇ／ｍ２である、平版印刷版原版用支持体基材を得た。
＜シリケートによる支持体表面の親水化＞
このように処理された支持体基材を、３号珪酸ソーダ水溶液に、７０℃で１３秒間浸漬した後、水洗乾燥した。東京精密（株）製、サーフコム 形式５７５Ａの表面粗さ計を用い、カットオフ０．８ｍｍ、測定長３ｍｍで、繰り返し５回の平均値として、表面粗さＲａを測定したところ、０．５５μｍであった。
このように処理された支持体基材を、３号珪酸ソーダ水溶液に、７０℃で１３秒間浸漬した後、水洗乾燥した。東京精密（株）製、サーフコム 形式５７５Ａの表面粗さ計を用い、カットオフ０．８ｍｍ、測定長３ｍｍで、繰り返し５回の平均値として、表面粗さＲａを測定したところ、０．５５μｍであった。
［インク受容層］
下記組成の塗布液をワイヤーバーにて支持体上に塗布し、８０℃で１５秒間乾燥し、インク受容層を形成した。
塗布量は、２００ｍｇ／ｍ２であった。
下記組成の塗布液をワイヤーバーにて支持体上に塗布し、８０℃で１５秒間乾燥し、インク受容層を形成した。
塗布量は、２００ｍｇ／ｍ２であった。
上記表において、ポリ（ｐ−スチレンスルホン酸ナトリウム）の重量平均分子量は、７００００である。
化合物［ＳＴ−１］は、以下の構造である。
化合物［ＳＴ−１］は、以下の構造である。
［放射線硬化型インクの作成］
下記表に示す組成で、放射線硬化型インク（インクジェット用インク）を作成した。
下記表に示す組成で、放射線硬化型インク（インクジェット用インク）を作成した。
［インクジェット記録］
上記のインク受容層を形成した支持体に、放射線硬化型インクを以下のようにしてインクジェット記録方式により打滴し、硬化して実施例１の平版印刷版を作製した。
描画に際しては、ヘッドとしてせん断モードピエゾヘッド（東芝テック社製ＣＡ３：最小液滴量６ｐＬ、ノズル数３１８個、ノズル密度１５０ノズル／２５．４ｍｍ）を使用し、該ヘッド一つを移動式キャリッジ上に搭載したヘッドスキャニング方式の描画装置を利用した。減圧機能を有する２Ｌの容量を有するインクタンクにインクを導入し、−４０ｋＰａに減圧してインク中の溶存気体を脱気したインクを、静圧式圧力制御タンク（容量５０ｍＬ）を介して内径２ｍｍのテフロン（登録商標）性柔軟チューブにより上記ヘッドに導入した。静圧式圧力タンクの高さをヘッドに対して制御する事によりヘッドの内圧は−６．６ｋＰａに調整され、ヘッドのノズル部でのメニスカス形状を制御している。またヘッドには水循環式温度制御装置（ＳＣＩＮＩＣＳ ＣＨ−２０１）により水循環を行い、ヘッド内でのインク温度が４５℃になるようにした。ヘッドの駆動電圧は２４Ｖとし、８値のマルチドロップモードあるいはバイナリモードで吐出を行った。ドット形成の周波数はそれぞれ４．８ｋＨｚ、及び１２ｋＨｚである。描画ピッチは８値のマルチドロップモードでヘッド走査方向６００ｄｐｉ（ヘッドスキャン速度２０３ｍｍ／ｓ）×記録媒体搬送方向６００ｄｐｉ、バイナリモードでヘッド走査方向１２００ｄｐｉ（ヘッドスキャン速度２５４ｍｍ／ｓ）×記録媒体搬送方向とし、すなわち記録媒体の逐次移動を行いつつヘッドの双方向インタレース印字を行った。また上記ヘッドのクリーニング手段として、ヘッドのノズルプレートに非接触でワイピングをおこなう不繊布からなるワイピング手段を有し、適宜、クリーニングを実施した。
上記のインク受容層を形成した支持体に、放射線硬化型インクを以下のようにしてインクジェット記録方式により打滴し、硬化して実施例１の平版印刷版を作製した。
描画に際しては、ヘッドとしてせん断モードピエゾヘッド（東芝テック社製ＣＡ３：最小液滴量６ｐＬ、ノズル数３１８個、ノズル密度１５０ノズル／２５．４ｍｍ）を使用し、該ヘッド一つを移動式キャリッジ上に搭載したヘッドスキャニング方式の描画装置を利用した。減圧機能を有する２Ｌの容量を有するインクタンクにインクを導入し、−４０ｋＰａに減圧してインク中の溶存気体を脱気したインクを、静圧式圧力制御タンク（容量５０ｍＬ）を介して内径２ｍｍのテフロン（登録商標）性柔軟チューブにより上記ヘッドに導入した。静圧式圧力タンクの高さをヘッドに対して制御する事によりヘッドの内圧は−６．６ｋＰａに調整され、ヘッドのノズル部でのメニスカス形状を制御している。またヘッドには水循環式温度制御装置（ＳＣＩＮＩＣＳ ＣＨ−２０１）により水循環を行い、ヘッド内でのインク温度が４５℃になるようにした。ヘッドの駆動電圧は２４Ｖとし、８値のマルチドロップモードあるいはバイナリモードで吐出を行った。ドット形成の周波数はそれぞれ４．８ｋＨｚ、及び１２ｋＨｚである。描画ピッチは８値のマルチドロップモードでヘッド走査方向６００ｄｐｉ（ヘッドスキャン速度２０３ｍｍ／ｓ）×記録媒体搬送方向６００ｄｐｉ、バイナリモードでヘッド走査方向１２００ｄｐｉ（ヘッドスキャン速度２５４ｍｍ／ｓ）×記録媒体搬送方向とし、すなわち記録媒体の逐次移動を行いつつヘッドの双方向インタレース印字を行った。また上記ヘッドのクリーニング手段として、ヘッドのノズルプレートに非接触でワイピングをおこなう不繊布からなるワイピング手段を有し、適宜、クリーニングを実施した。
［露光］
インクジェット記録した後、１秒〜６０秒の後に、高圧水銀灯３ｋＷで、露光し、平版印刷版を作成した。
インクジェット記録した後、１秒〜６０秒の後に、高圧水銀灯３ｋＷで、露光し、平版印刷版を作成した。
［印刷評価］
得られた平版印刷版を、ガム処理することなく、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、ＩＦ１０２（富士写真フィルム（株）製）湿し水を用い、大日本インキ化学工業社（株）製のＤＩＣ−ＧＥＯＳ（Ｎ）墨のインキを用いて印刷した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価した。隙間は無かった。インキ濃度（反射濃度）が印刷開始時よりも０．１低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。その結果、耐刷性は５万枚であった。
得られた平版印刷版を、ガム処理することなく、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、ＩＦ１０２（富士写真フィルム（株）製）湿し水を用い、大日本インキ化学工業社（株）製のＤＩＣ−ＧＥＯＳ（Ｎ）墨のインキを用いて印刷した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価した。隙間は無かった。インキ濃度（反射濃度）が印刷開始時よりも０．１低下したときの印刷枚数により、耐刷性を評価した。その結果、耐刷性は５万枚であった。
［比較例１］
インク受容層の組成において、ヘキサメチレンジアミンを用いなかったこと以外は、実施例１を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は１万枚であった。
インク受容層の組成において、ヘキサメチレンジアミンを用いなかったこと以外は、実施例１を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は１万枚であった。
［比較例２］
インクの組成において、ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体を用いずに、その替わりに酸性基を有さないポリマー（ベンジルメタクリレートのホモポリマー）を用いたこと以外は、実施例１を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．７万枚であった。
インクの組成において、ベンジルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体を用いずに、その替わりに酸性基を有さないポリマー（ベンジルメタクリレートのホモポリマー）を用いたこと以外は、実施例１を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．７万枚であった。
［実施例２］
実施例１のインク受容層およびインクの組成を下記に変更したこと以外は、実施例１を繰り返した。
実施例１のインク受容層およびインクの組成を下記に変更したこと以外は、実施例１を繰り返した。
［インク受容層］
［インクジェット用インク］
ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間は無かった。耐刷性は３万枚であった。
［比較例３］
インク受容層の組成において、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体を用いなかったこと以外は、実施例２を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．７万枚であった。
インク受容層の組成において、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチルメタクリレートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体を用いなかったこと以外は、実施例２を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．７万枚であった。
［実施例３］
実施例２において、インク受容層の組成を下記に変更したこと以外は、実施例２を繰り返した。
実施例２において、インク受容層の組成を下記に変更したこと以外は、実施例２を繰り返した。
［インク受容層］
ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間は無かった。耐刷性は２．５万枚であった。
［実施例４］
実施例１のインク受容層およびインクの組成を下記に変更したこと以外は、実施例１を繰り返した。
実施例１のインク受容層およびインクの組成を下記に変更したこと以外は、実施例１を繰り返した。
［インク受容層］
［インクジェット用インク］
ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間は無かった。耐刷性は４万枚であった。
［実施例５］
実施例１のインク受容層およびインクの組成を下記に変更したこと以外は、実施例１を繰り返した。
実施例１のインク受容層およびインクの組成を下記に変更したこと以外は、実施例１を繰り返した。
［インク受容層］
［インクジェット用インク］
ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間は無かった。耐刷性は２．９万枚であった。
［比較例４］
インク受容層の組成において、リンゴ酸およびメタクリル酸と２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体を用いなかったこと以外は、実施例４を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．８万枚であった。
インク受容層の組成において、リンゴ酸およびメタクリル酸と２−ヒドロキシエチルメタクリレートの共重合体を用いなかったこと以外は、実施例４を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．８万枚であった。
［比較例５］
インクの組成において、ベンジルメタクリレートと２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレートの共重合体を用いずに、その替わりに塩基性基を有さないポリマー（ベンジルメタクリレートのホモポリマー）を用いたこと以外は、実施例４を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．７万枚であった。
インクの組成において、ベンジルメタクリレートと２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル（メタ）アクリレートの共重合体を用いずに、その替わりに塩基性基を有さないポリマー（ベンジルメタクリレートのホモポリマー）を用いたこと以外は、実施例４を繰り返した。ベタ部の隙間を、ルーペを用い目視にて評価したところ、隙間が観察された。耐刷性は０．７万枚であった。
Claims (3)
- 支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、
前記インクジェット用インクが、酸性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、塩基性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 - 支持体上に、水溶性化合物を含有するインク受容層を設けた平版印刷版原版を用い、前記インク受容層上に、インクジェット記録方式によりインクジェット用インクを用いて画像形成する工程を有する平版印刷版の作製方法であって、
前記インクジェット用インクが、塩基性基を含むポリマーを含有し、かつ、前記インク受容層が、酸性基を２つ以上含む化合物を含有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 - 前記インク受容層が、水溶性ポリマーを含有することを特徴とする請求項１または２に記載の平版印刷版の作製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006247831A JP2008068473A (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | 平版印刷版の作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008068473A true JP2008068473A (ja) | 2008-03-27 |
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|---|---|---|---|
| JP2006247831A Abandoned JP2008068473A (ja) | 2006-09-13 | 2006-09-13 | 平版印刷版の作製方法 |
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| JP (1) | JP2008068473A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013504678A (ja) * | 2009-09-15 | 2013-02-07 | エルジー・ケム・リミテッド | 透明膜形成用インクジェット組成物及びこれを利用して形成された透明膜 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10315617A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | インクジェット式製版印刷版用油性インクおよびそれを用いた製版印刷版の作成方法 |
-
2006
- 2006-09-13 JP JP2006247831A patent/JP2008068473A/ja not_active Abandoned
Patent Citations (1)
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|---|---|---|---|---|
| JPH10315617A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | インクジェット式製版印刷版用油性インクおよびそれを用いた製版印刷版の作成方法 |
Cited By (1)
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| JP2013504678A (ja) * | 2009-09-15 | 2013-02-07 | エルジー・ケム・リミテッド | 透明膜形成用インクジェット組成物及びこれを利用して形成された透明膜 |
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