JP2008062117A - Photocatalyst film sheet and its manufacturing method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photocatalyst film sheet capable of being mass-produced. <P>SOLUTION: The photocatalyst film sheet is prepared by laminating a primer layer 14 on the surface of a substrate 12 by a chamber photogravure type applicator 38, laminating a protection layer 16 by a reverse type applicator 34 and laminating a photocatalyst layer 18 by the chamber photogravure type applicator 38. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、光触媒フィルムシート及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a photocatalytic film sheet and a method for producing the same.

最近、チタニア(TiO)等の光触媒材料を含有する光触媒作用が注目されている。光触媒作用のメカニズムとしては、チタニアが紫外線光を捉えた際の大気中の水または酸素からの活性酸素の形成される。この活性には、チタニアでコーティングされた材料の表面付近に存在する有機物質及び微生物を分解する能力がある。その結果、光触媒粒子によって覆われる表面は抗菌特性または殺菌特性を有する(例えば、特許文献1参照)。 Recently, a photocatalytic action containing a photocatalytic material such as titania (TiO 2 ) has attracted attention. As a mechanism of photocatalysis, active oxygen is formed from water or oxygen in the atmosphere when titania captures ultraviolet light. This activity has the ability to degrade organic substances and microorganisms present near the surface of the titania-coated material. As a result, the surface covered with the photocatalyst particles has antibacterial properties or bactericidal properties (see, for example, Patent Document 1).

活性酸素は有機物質を分解するための親和力を備えるため、脱臭剤に用いることもできる。光触媒粒子及び結合剤を含有する水性分散液を原紙にコーティングすることにより、空気清浄機内または他のガス流での使用に好適な脱臭紙を製造することができる(特許文献2参照)。
特開平11−47610号公報 特開平11−279446号公報
Since active oxygen has an affinity for decomposing organic substances, it can also be used as a deodorant. By coating the base paper with an aqueous dispersion containing photocatalyst particles and a binder, deodorized paper suitable for use in an air cleaner or other gas stream can be produced (see Patent Document 2).
JP 11-47610 A JP-A-11-279446

上記のような光触媒層は、従来、1枚のシート状に形成されたものである。そのため、大量生産による製品価格の低下が困難であった。   The photocatalyst layer as described above is conventionally formed in a single sheet. For this reason, it has been difficult to reduce product prices due to mass production.

そこで、本発明は上記問題点に鑑み、大量生産が可能な光触媒フィルムシートを提供する。   In view of the above problems, the present invention provides a photocatalytic film sheet that can be mass-produced.

本発明は、長尺状の基材の表面に保護層、光触媒層を順番に湿式の塗工装置によって積層したことを特徴とする光触媒フィルムシートである。   The present invention is a photocatalyst film sheet in which a protective layer and a photocatalyst layer are sequentially laminated on a surface of a long substrate by a wet coating apparatus.

また、本発明は、前記基材の表面にプライマー層を積層して前記保護層を湿式の塗工装置によって積層したことを特徴とする請求項1記載の光触媒フィルムシートである。   Moreover, this invention is a photocatalyst film sheet | seat of Claim 1 which laminated | stacked the primer layer on the surface of the said base material, and laminated | stacked the said protective layer with the wet coating apparatus.

本発明によれば、長尺状の基材の表面に保護層、光触媒層を順番に湿式の塗工装置によって積層するため、大量生産を行うことができる。   According to the present invention, since the protective layer and the photocatalyst layer are sequentially laminated on the surface of the long substrate by the wet coating apparatus, mass production can be performed.

以下、本発明の一実施形態の光触媒フィルムシート10と、そのシート製造装置20について図面に基づいて説明する。   Hereinafter, the photocatalyst film sheet 10 and the sheet manufacturing apparatus 20 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
第1の実施形態の光触媒フィルムシート10とそのシート製造装置20について図1〜図7に基づいて説明する。
(First embodiment)
A photocatalytic film sheet 10 and a sheet manufacturing apparatus 20 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.

(1)光触媒フィルムシート10の構成
図1に基づいて光触媒フィルムシート10の構成について説明する。
(1) Configuration of Photocatalytic Film Sheet 10 The configuration of the photocatalytic film sheet 10 will be described based on FIG.

光触媒フィルムシート10は、基材12の上にプライマー層14が積層され、このプライマー層14の上に保護層16が積層され、この保護層16の上に光触媒層18が積層されている。   In the photocatalytic film sheet 10, a primer layer 14 is laminated on a substrate 12, a protective layer 16 is laminated on the primer layer 14, and a photocatalytic layer 18 is laminated on the protective layer 16.

基材12は、例えば2軸延伸ポリプロピレンより形成されている。   The substrate 12 is made of, for example, biaxially stretched polypropylene.

1層目のプライマー層14は、2軸延伸ポリプロピレン等の基材12の表面平滑性が悪い基材に対して表面平滑性を向上させることを目的として積層する。但し、ポリエチレンテレフタレート等の表面平滑性の良い基材12に関しては、図2に示すようにプライマー層14を省いてもよい。このプライマー層14は、シリカ系溶液を用いる。   The first primer layer 14 is laminated for the purpose of improving the surface smoothness with respect to a substrate having poor surface smoothness of the substrate 12 such as biaxially stretched polypropylene. However, the primer layer 14 may be omitted as shown in FIG. 2 for the base 12 having good surface smoothness such as polyethylene terephthalate. This primer layer 14 uses a silica-based solution.

2層目の保護層16は、有機物であるプライマー層14または基材12の表面と無機物である光触媒層18の密着性を向上させ、光触媒機能による基材12側の分解保護の役目を担っている。この保護層16としては、Si系または光触媒機能を持たないTi系を成分とし、無機系のバインダーを使用する。   The second protective layer 16 improves the adhesion between the surface of the primer layer 14 or the base material 12 which is an organic substance and the photocatalyst layer 18 which is an inorganic substance, and plays a role in the decomposition protection of the base material 12 side by the photocatalytic function. Yes. As the protective layer 16, an Si binder or a Ti binder having no photocatalytic function is used as a component, and an inorganic binder is used.

3層目の光触媒層は、酸化チタンよりなる。   The third photocatalyst layer is made of titanium oxide.

(2)シート製造装置20の構造
上記のような光触媒フィルムシート10を製造するためのシート製造装置20について図3〜図7を用いて説明する。
(2) Structure of Sheet Manufacturing Device 20 A sheet manufacturing device 20 for manufacturing the photocatalytic film sheet 10 as described above will be described with reference to FIGS.

シート製造装置20は、湿式の塗工装置22、第1乾燥装置24、第2乾燥装置26、第3乾燥装置28、巻き取り装置30によって構成されている。   The sheet manufacturing apparatus 20 includes a wet coating apparatus 22, a first drying apparatus 24, a second drying apparatus 26, a third drying apparatus 28, and a winding apparatus 30.

湿式の塗工装置22は、巻回された基材12を巻き出しロール32から巻き出し、塗工を行う。この塗工は、図4〜図7に示すように、4種類の湿式の塗工装置が好適である。第1は、リバース式塗工装置34であり、第2はダイ式塗工装置36であり、第3はチャンバーグラビア式塗工装置38であり、第4は毛細管式塗工装置40である。これら各塗工装置34〜40については後から詳しく説明する。   The wet coating apparatus 22 unwinds the wound base material 12 from the unwinding roll 32 and performs coating. As shown in FIGS. 4 to 7, four types of wet coating apparatuses are suitable for this coating. The first is a reverse coating device 34, the second is a die coating device 36, the third is a chamber gravure coating device 38, and the fourth is a capillary coating device 40. Each of these coating apparatuses 34 to 40 will be described in detail later.

第1乾燥装置24は、第1加熱室43内部の水平な搬送路の下方にノズル44が所定間隔毎に複数配され、これらノズル44から、上方を走行する基材12に熱風を当て乾燥を行う。このようにカウンターフロー方式で熱風を基材12に当てるのは、塗工直後においてゆっくりと乾燥させるためであり、熱風の風速は1〜3m/秒である。   In the first drying device 24, a plurality of nozzles 44 are arranged at predetermined intervals below the horizontal conveyance path inside the first heating chamber 43, and drying is performed by applying hot air from these nozzles 44 to the base material 12 that travels upward. Do. The reason why the hot air is applied to the base material 12 by the counter flow method is to dry slowly immediately after coating, and the wind speed of the hot air is 1 to 3 m / sec.

第2乾燥装置26は、第2加熱室45内部の水平な搬送路の上方と下方に上ノズル46と下ノズル48が所定間隔毎に複数それぞれ配され、上下ノズル46,48が千鳥状に配されている。そのため、搬送路を走行する基材12には上と下から熱風が交互に当てられるフローティング方式となる。このようにフローティング方式にするのは、基材12に対し高高率な乾燥を行うためである。   In the second drying device 26, a plurality of upper nozzles 46 and a plurality of lower nozzles 48 are arranged at predetermined intervals above and below a horizontal conveyance path inside the second heating chamber 45, and upper and lower nozzles 46, 48 are arranged in a staggered manner. Has been. Therefore, it becomes a floating system in which hot air is alternately applied from above and below to the base material 12 traveling on the conveyance path. The reason why the floating method is used in this way is to dry the substrate 12 at a high rate.

第3乾燥装置28も、第2乾燥装置26と同様に、加熱室49内部の搬送路に複数の上ノズル50と複数の下ノズル52がそれぞれ配され、フローティング方式で基材12を高高率で乾燥させる。   Similarly to the second drying device 26, the third drying device 28 is also provided with a plurality of upper nozzles 50 and a plurality of lower nozzles 52 on the conveyance path inside the heating chamber 49, respectively, so that the substrate 12 can be moved at a high rate by a floating method. Dry with.

(3)リバース式塗工装置34の構成
リバース式塗工装置34について図4に基づいて説明する。
(3) Structure of reverse type coating apparatus 34 The reverse type coating apparatus 34 is demonstrated based on FIG.

リバース式塗工装置34は、バックアップロール54の下方にダイ56を設け、バックアップロール54の側方にロール58を設ける。   The reverse coating apparatus 34 is provided with a die 56 below the backup roll 54 and a roll 58 on the side of the backup roll 54.

基材12をバックアップロール54によって走行させ、ダイ56から保護層16を形成する塗工液を塗工し、ロール58によって不要な塗工液を掻き落とし、ロール58の表面上の塗工液をさらに掻き落とし片60によって回収皿61に掻き落とす。この場合に、膜厚は、ロール58とバックアップロール54との間隙によって決定される。   The substrate 12 is caused to travel by the backup roll 54, the coating liquid for forming the protective layer 16 is applied from the die 56, the unnecessary coating liquid is scraped off by the roll 58, and the coating liquid on the surface of the roll 58 is removed. Further, it is scraped off to the collection tray 61 by the scraping piece 60. In this case, the film thickness is determined by the gap between the roll 58 and the backup roll 54.

(4)ダイ式塗工装置36の構成
次に、ダイ式塗工装置36について図5に基づいて説明する。
(4) Configuration of Die Type Coating Device 36 Next, the die type coating device 36 will be described with reference to FIG.

基材12は4本の案内ロール62〜68を走行し、ダイ70が案内ロール64,66の間に設置されている。基材12が案内ロール64と案内ロール66との間を通るときに、ダイ70によってプライマー層14または光触媒層18を形成する塗工液が塗工される。   The substrate 12 runs on four guide rolls 62 to 68, and the die 70 is installed between the guide rolls 64 and 66. When the substrate 12 passes between the guide roll 64 and the guide roll 66, a coating liquid for forming the primer layer 14 or the photocatalyst layer 18 is applied by the die 70.

(5)チャンバーグラビア式塗工装置38の構成
次に、チャンバーグラビア式塗工装置38について図6に基づいて説明する。
(5) Configuration of Chamber Gravure Coating Device 38 Next, the chamber gravure coating device 38 will be described with reference to FIG.

(5−1)構成
チャンバーグラビア式塗工装置38の構成について説明する。
(5-1) Configuration The configuration of the chamber gravure coating device 38 will be described.

チャンバーグラビア式塗工装置38は、グラビアロール72の上流と下流にそれぞれ案内ロール74,76が配され、グラビアロール72の下方に塗工液を溜めるための液溜め部78がある。   In the chamber gravure coating device 38, guide rolls 74 and 76 are respectively arranged upstream and downstream of the gravure roll 72, and a liquid reservoir 78 for storing a coating liquid is provided below the gravure roll 72.

液溜め部78の底面には塗工液の注入口80と注出口82があり、注入口80と注出口82の間には隔壁84があり、この隔壁84によって液溜め部78は、第1液溜め部86と第2液溜め部88に分割されている。この隔壁84の上端部とグラビアロール72の間には若干の隙間がある。   A coating liquid injection port 80 and a spout 82 are provided on the bottom surface of the liquid reservoir 78, and a partition wall 84 is provided between the injection port 80 and the spout 82. A liquid reservoir 86 and a second liquid reservoir 88 are divided. There is a slight gap between the upper end of the partition wall 84 and the gravure roll 72.

第1液溜め部86の上流側には、第1閉塞片90が設けられ、外部とほぼ閉塞されている。即ち、第1閉塞片90の先端部がグラビアロール72に当たり、この第1液溜め部86をほぼ閉塞している。   A first closing piece 90 is provided on the upstream side of the first liquid reservoir 86 and is substantially closed from the outside. That is, the tip of the first closing piece 90 hits the gravure roll 72 and closes the first liquid reservoir 86 substantially.

第2液溜め部88の下流側にも同様に、第2閉塞片92が設けられ、その第2閉塞片92の先端部がグラビアロール72に当たり第2液溜め部88を閉塞している。   Similarly, a second closing piece 92 is provided on the downstream side of the second liquid reservoir 88, and the tip of the second closing piece 92 hits the gravure roll 72 to close the second liquid reservoir 88.

グラビアロール72の直径としては、40〜100mmであり、好適には62mmである。このグラビアロール72は、1インチ当たり100本〜200本の溝、好適には150本の溝を有し、その溝の深さは20〜60μm、好適には45μmである。これによって、厚みが0.1〜0.2μmの光触媒層18を平滑に塗工できる。   The diameter of the gravure roll 72 is 40 to 100 mm, and preferably 62 mm. The gravure roll 72 has 100 to 200 grooves, preferably 150 grooves per inch, and the depth of the grooves is 20 to 60 μm, preferably 45 μm. Thereby, the photocatalyst layer 18 having a thickness of 0.1 to 0.2 μm can be applied smoothly.

第1液溜め部86と第2液溜め部88の内部は鏡面加工またはフッ素加工が施され、光触媒層18を塗工するための塗工液がその内部に付着しないようになっている。   The insides of the first liquid reservoir 86 and the second liquid reservoir 88 are mirror-finished or fluorine processed so that the coating liquid for applying the photocatalyst layer 18 does not adhere to the inside.

(5−2)塗工方法
上記のチャンバーグラビア式塗工装置38によって塗工液を塗工について説明する。
(5-2) Coating method Coating with a coating liquid by the chamber gravure coating device 38 will be described.

塗工する場合は、注入口80から一定の圧力で塗工液を注入し、グラビアロール72を図6において時計回りの方向に回転させる。一方、基材12を20m/分で走行させる。すると、隔壁84の先端部とグラビアロール72の間隙の部分によって、グラビアロール72の溝及び表面に塗工液が塗工され、第2閉塞片92を通って基材12に塗工される。そして、余った塗工液は第2液溜め部88に至り、注出口82から外部に搬出される。   In the case of coating, the coating liquid is injected from the injection port 80 at a constant pressure, and the gravure roll 72 is rotated in the clockwise direction in FIG. On the other hand, the base 12 is run at 20 m / min. Then, the coating liquid is applied to the groove and the surface of the gravure roll 72 by the gap portion between the tip end of the partition wall 84 and the gravure roll 72, and applied to the substrate 12 through the second closing piece 92. Then, the surplus coating liquid reaches the second liquid reservoir 88 and is carried out from the spout 82 to the outside.

(6)毛細管式塗工装置40の構成
次に、毛細管式塗工装置40について図7に基づいて説明する。
(6) Configuration of Capillary Coating Device 40 Next, the capillary coating device 40 will be described with reference to FIG.

この毛細管式塗工装置40は、バックアップロール94とその下方に配されたノズル96と、塗工液供給部98とより構成されている。ノズル96は、バックアップロール94の下方に配され、基材12の幅方向に沿って毛細管現象が起こるほど細いスリット100を有する。このスリット100の下方にある液溜め部102に、塗工液供給部98から塗工液が供給される。   The capillary coating device 40 includes a backup roll 94, a nozzle 96 disposed below the backup roll 94, and a coating liquid supply unit 98. The nozzle 96 is disposed below the backup roll 94 and has a slit 100 that is so thin that capillary action occurs along the width direction of the substrate 12. The coating liquid is supplied from the coating liquid supply unit 98 to the liquid reservoir 102 below the slit 100.

塗工を行う場合は、塗工液タンク98を上下動させてその高さを調整し、その液高さの圧力と毛細管現象によって、スリット100の上端から吐出する塗工液の量を調整し、バックアップロール94を走行する基材12に塗工液を塗工する。   When performing coating, the coating liquid tank 98 is moved up and down to adjust its height, and the amount of coating liquid discharged from the upper end of the slit 100 is adjusted by the pressure of the liquid height and the capillary phenomenon. Then, the coating liquid is applied to the base material 12 traveling on the backup roll 94.

(9)各層の塗工方法
上記のような各塗工装置34〜40をシート製造装置20に交互に取り付けて、それぞれプライマー層14、保護層16、光触媒層18を順番に積層する。
(9) Coating method of each layer Each coating apparatus 34-40 as mentioned above is attached to the sheet manufacturing apparatus 20 alternately, and the primer layer 14, the protective layer 16, and the photocatalyst layer 18 are laminated | stacked in order, respectively.

すなわち、第1の工程としては、基材12が巻き出しロール32に巻き取られており、これを10〜30m/分(好適には20m/分)の走行速度で引き出して湿式の塗工装置22によってプライマー層14を塗工する。次に、第1乾燥装置24、第2乾燥装置26、第3乾燥装置28によって100℃〜150℃(好適には120℃)で10〜40秒間(好適には20〜25秒間)それぞれの乾燥装置24、26、28で熱処理して乾燥させ、巻き取り装置30の巻き取りロール31に巻き取らす。   That is, as the first step, the substrate 12 is wound around the unwinding roll 32, and this is pulled out at a traveling speed of 10 to 30 m / min (preferably 20 m / min), and a wet coating apparatus. The primer layer 14 is applied by 22. Next, each drying is performed at 100 ° C. to 150 ° C. (preferably 120 ° C.) for 10 to 40 seconds (preferably 20 to 25 seconds) by the first drying device 24, the second drying device 26, and the third drying device 28. It heat-processes with the apparatus 24, 26, 28, is dried, and is wound up by the winding roll 31 of the winding apparatus 30. FIG.

第2の工程としては、プライマー層14が積層された基材12が巻き出しロール32に巻き取られており、これを引き出して湿式の塗工装置22によって保護層16を塗工して、第1乾燥装置24、第2乾燥装置26、第3乾燥装置28によって40℃〜80℃(好適には60℃)で合計3〜8時間(好適には5時間)熱処理して乾燥させ、巻き取り装置30の巻き取りロール31に巻き取らす。   As the second step, the base material 12 on which the primer layer 14 is laminated is wound around an unwinding roll 32, which is pulled out and coated with a protective layer 16 by a wet coating device 22. 1 Drying device 24, second drying device 26, and third drying device 28 are heat-treated at 40 ° C. to 80 ° C. (preferably 60 ° C.) for a total of 3 to 8 hours (preferably 5 hours), dried and wound up It winds up on the winding roll 31 of the apparatus 30.

第3の工程としては、プライマー層14と保護層16が積層された基材12が巻き出しロール32に巻き取られており、これを10〜30m/分(好適には20m/分)の走行速度で引き出して湿式の塗工装置22によって光触媒層18を塗工して、第1乾燥装置24、第2乾燥装置26、第3乾燥装置28によって100℃〜150℃(好適には120℃)で10〜40秒間(好適には20〜25秒間)それぞれの乾燥装置24、26、28で熱処理して乾燥させ、巻き取り装置30の巻き取りロール31に巻き取らして、光触媒フィルムシート10が完成する。   As the third step, the base material 12 on which the primer layer 14 and the protective layer 16 are laminated is wound around an unwinding roll 32, and this travels at 10 to 30 m / min (preferably 20 m / min). The photocatalyst layer 18 is coated by the wet coating device 22 with a speed, and the first drying device 24, the second drying device 26, and the third drying device 28 are used at 100 ° C. to 150 ° C. (preferably 120 ° C.). For 10 to 40 seconds (preferably 20 to 25 seconds), each of the drying devices 24, 26, and 28 is dried by heat treatment, wound on a winding roll 31 of a winding device 30, and the photocatalytic film sheet 10 is Complete.

なお、1層目のプライマー層14は、0.1〜0.2μmで±2%の誤差で塗工する必要があるため高精度な塗工を行う必要がある。そのため、湿式の塗工装置22としては、上記で説明したチャンバーグラビア式塗工装置38や毛細管方式の塗工装置40を用いて塗工する。   The first primer layer 14 needs to be applied with high accuracy since it needs to be applied with an error of ± 2% at 0.1 to 0.2 μm. Therefore, the wet coating apparatus 22 is coated using the chamber gravure coating apparatus 38 or the capillary coating apparatus 40 described above.

2層目の保護層16は、1〜2μmで±2%の誤差で塗工するため、湿式の塗工装置22としては、リバース式塗工装置34、または、従来からあるリップコータ式塗工装置を用いて塗工する。   Since the second protective layer 16 is applied with an error of ± 2% at 1 to 2 μm, the wet type coating device 22 is a reverse type coating device 34 or a conventional lip coater type coating device. Apply using.

3層目の光触媒層18は、0.1〜0.2μmで±2%の誤差で塗工する必要があるため、湿式の塗工装置22としては、チャンバーグラビア式塗工装置38やダイ式塗工装置36や、毛細管式塗工装置40を用いて塗工する。   Since the third photocatalyst layer 18 needs to be applied with an error of ± 2% at 0.1 to 0.2 μm, the wet coating device 22 may be a chamber gravure coating device 38 or a die type. Coating is performed using the coating device 36 or the capillary coating device 40.

(10)効果
上記のように本実施形態の光触媒フィルムシート10の製造方法であると、湿式の塗工装置22を有するシート製造装置20を用いて製造するため、連続生産することでイニシャルコスト及びランニングコストの大幅な低減が計れ、低価格で製品の販売が可能となる。そのため、光触媒機能である汚れの防止、抗菌、消臭効果を食品包装や壁紙、台所の水回り用といった様々な分野で発揮することができる。
(10) Effect As described above, since the manufacturing method of the photocatalytic film sheet 10 of the present embodiment is manufactured using the sheet manufacturing apparatus 20 having the wet coating apparatus 22, the initial cost and The running cost can be greatly reduced, and the product can be sold at a low price. For this reason, the photocatalytic functions such as dirt prevention, antibacterial effect, and deodorizing effect can be exerted in various fields such as food packaging, wallpaper, and kitchen use.

(第2の実施形態)
本実施形態と第1の実施形態の異なる点は、基材12に耐光性を持たせる点である。
(Second Embodiment)
The difference between the present embodiment and the first embodiment is that the substrate 12 has light resistance.

即ち、PETフィルム等の基材12においては、価格性能面で優れており扱い易いフィルムであるが、紫外線に当たると経時変化により黄ばんでくるという欠点がある。   That is, the base material 12 such as a PET film is a film that is excellent in price performance and easy to handle, but has a disadvantage that it is yellowed due to a change with time when exposed to ultraviolet rays.

そのため、基材12の片面または両面に耐光性の処理を施す。片面処理の場合、光触媒層18は紫外線に当たる面と光触媒機能を発揮させる面を考慮して、例えば、窓ガラスの外側に光触媒フィルムシート10を貼り付ける場合には耐光性処理を施した面に光触媒層18等を塗工し、消臭等を目的として窓ガラスの内側に光触媒フィルムシート10を貼り付ける場合は、耐光性処理を施した面と反対側に光触媒層18等を塗工する。   Therefore, light resistance treatment is performed on one side or both sides of the substrate 12. In the case of single-side treatment, the photocatalyst layer 18 takes into consideration the surface that is exposed to ultraviolet rays and the surface that exhibits the photocatalytic function. For example, when the photocatalyst film sheet 10 is attached to the outside of the window glass, When the layer 18 or the like is applied and the photocatalyst film sheet 10 is attached to the inside of the window glass for the purpose of deodorization or the like, the photocatalyst layer 18 or the like is applied to the side opposite to the surface subjected to the light resistance treatment.

(第3の実施形態)
第3の実施形態と第1の実施形態の異なる点は、紫外線カット機能を持たせる点にある。
(Third embodiment)
The difference between the third embodiment and the first embodiment is that an ultraviolet ray cut function is provided.

光触媒フィルムシート10には、基材12である有機物と酸化チタン膜である無機物の密着性の向上、有機物分解という光触媒機能からのフィルム保護の目的で保護層16は必ず必要である。この保護層16に、紫外線カット機能を持たせる。   The photocatalytic film sheet 10 must have a protective layer 16 for the purpose of improving the adhesion between the organic material as the base material 12 and the inorganic material as the titanium oxide film and protecting the film from the photocatalytic function of organic matter decomposition. This protective layer 16 is provided with an ultraviolet cut function.

具体的には、光触媒機能がないルチル型構造の酸化チタンを主成分とした薄膜を用いる。これにより、光触媒機能がない紫外線カット機能を有することができる。そして、光触媒フィルムシート10全体としては、光触媒機能と紫外線カット機能の両方の機能を備えることができる。   Specifically, a thin film mainly composed of rutile-type titanium oxide having no photocatalytic function is used. Thereby, it can have an ultraviolet cut function without a photocatalytic function. And the photocatalyst film sheet 10 whole can be provided with both functions of a photocatalyst function and an ultraviolet cut function.

このような紫外線カット機能を有する光触媒フィルムシート10であると、野菜等から発生するエチレンを光触媒機能で分解できることから食品賞味期限の延長、紫外線による変色防止、室内の日焼け防止と汚れ防止、消臭等に有効である。   The photocatalyst film sheet 10 having such an ultraviolet cut function can decompose ethylene generated from vegetables and the like by the photocatalyst function, thereby extending the shelf life of food, preventing discoloration by ultraviolet rays, preventing indoor sunburn and dirt, and deodorizing It is effective for etc.

本発明の一実施形態を示す光触媒フィルムシートの縦断面図である。It is a longitudinal cross-sectional view of the photocatalyst film sheet which shows one Embodiment of this invention. 同じく変形例の光触媒フィルムシートの縦断面図である。It is a longitudinal section of the photocatalyst film sheet of a modification similarly. シート製造装置の側面図である。It is a side view of a sheet manufacturing apparatus. リバース式塗工装置の説明図である。It is explanatory drawing of a reverse type coating apparatus. ダイ式塗工装置の説明図である。It is explanatory drawing of a die-type coating apparatus. チャンバーグラビア式塗工装置の説明図である。It is explanatory drawing of a chamber gravure type coating apparatus. 毛細管方式の塗工装置の説明図である。It is explanatory drawing of the coating apparatus of a capillary system.

符号の説明Explanation of symbols

10 光触媒フィルムシート
12 基材
14 プライマー層
16 保護層
18 光触媒層
20 シート製造装置
22 塗工装置
24 第1乾燥装置
26 第2乾燥装置
28 第3乾燥装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Photocatalyst film sheet 12 Base material 14 Primer layer 16 Protective layer 18 Photocatalyst layer 20 Sheet manufacturing apparatus 22 Coating apparatus 24 1st drying apparatus 26 2nd drying apparatus 28 3rd drying apparatus

Claims (10)

長尺状の基材の表面に保護層、光触媒層を順番に湿式の塗工装置によって積層した
ことを特徴とする光触媒フィルムシート。
A photocatalyst film sheet, wherein a protective layer and a photocatalyst layer are sequentially laminated on a surface of a long substrate by a wet coating apparatus.
前記基材の表面にプライマー層を積層して前記保護層を湿式の塗工装置によって積層した
ことを特徴とする請求項1記載の光触媒フィルムシート。
The photocatalyst film sheet according to claim 1, wherein a primer layer is laminated on the surface of the substrate, and the protective layer is laminated by a wet coating apparatus.
前記基材に耐光処理を施した
ことを特徴とする請求項1記載の光触媒フィルムシート。
The photocatalyst film sheet according to claim 1, wherein the substrate is subjected to light resistance treatment.
前記保護層が酸化チタンを主成分としている
ことを特徴とする請求項1記載の光触媒フィルムシート。
The photocatalytic film sheet according to claim 1, wherein the protective layer contains titanium oxide as a main component.
前記保護層の厚みが、1〜2μmである
ことを特徴とする請求項1記載の光触媒フィルムシート。
The thickness of the said protective layer is 1-2 micrometers. The photocatalyst film sheet of Claim 1 characterized by the above-mentioned.
前記光触媒層の厚みが、0.1〜0.2μmである
ことを特徴とする請求項1記載の光触媒フィルムシート。
The photocatalyst film sheet according to claim 1, wherein the photocatalyst layer has a thickness of 0.1 to 0.2 μm.
前記プライマー層の厚みが、0.1〜0.2μmである
ことを特徴とする請求項1記載の光触媒フィルムシート。
The photocatalyst film sheet according to claim 1, wherein the primer layer has a thickness of 0.1 to 0.2 μm.
請求項1または2記載の前記保護層は、リバース式塗工装置によって前記基材または前記プライマー層に塗工する
ことを特徴とする光触媒フィルムシートの製造方法。
The said protective layer of Claim 1 or 2 is applied to the said base material or the said primer layer with a reverse type coating apparatus. The manufacturing method of the photocatalyst film sheet characterized by the above-mentioned.
請求項1記載の前記光触媒層は、チャンバーグラビア式塗工装置によって前記保護層が積層された前記基材に塗工する
ことを特徴とする光触媒フィルムシートの製造方法。
The said photocatalyst layer of Claim 1 is coated on the said base material with which the said protective layer was laminated | stacked with the chamber gravure type coating apparatus. The manufacturing method of the photocatalyst film sheet characterized by the above-mentioned.
請求項2記載の前記プライマー層は、リバース式塗工装置によって前記基材に塗工する
ことを特徴とする光触媒フィルムシートの製造方法。
The said primer layer of Claim 2 is applied to the said base material with a reverse type coating apparatus. The manufacturing method of the photocatalyst film sheet characterized by the above-mentioned.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011120993A (en) * 2009-12-10 2011-06-23 V Technology Co Ltd Foreign matter removing device for substrate and method for removing foreign matter for substrate
GB2544852A (en) * 2015-10-01 2017-05-31 Clifton Packaging Group Ltd System and method for applying a coating to a film

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101599451B1 (en) 2015-04-24 2016-03-15 주식회사 원풍 Photo catalysis sheet use for improve hydrophilicity, depollution, proof against climate and preparing method thereof

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09310039A (en) * 1996-05-21 1997-12-02 Nippon Soda Co Ltd Photocatalyst coating agent
JPH1191030A (en) * 1997-09-25 1999-04-06 Toto Ltd Hydrophilic member with photocatalystic property
JPH11348172A (en) * 1998-06-09 1999-12-21 Dainippon Printing Co Ltd Photocatalytic film and its production
JP2001277418A (en) * 2000-03-29 2001-10-09 Toto Ltd Photocatalyst coated film
JP2003025516A (en) * 2001-07-11 2003-01-29 Hiraoka & Co Ltd Laminated sheet having high environmental pollution preventing properties
JP2003236979A (en) * 2002-02-20 2003-08-26 Nihon Yamamura Glass Co Ltd Method for manufacturing photocatalyst film and molded article
JP2003535688A (en) * 2000-06-21 2003-12-02 フジ フォト フィルム ビー.ブイ. Photocatalyst sheet or film and method for producing the same
JP2006175685A (en) * 2004-12-22 2006-07-06 Takiron Co Ltd Molded product having photocatalytic function

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09310039A (en) * 1996-05-21 1997-12-02 Nippon Soda Co Ltd Photocatalyst coating agent
JPH1191030A (en) * 1997-09-25 1999-04-06 Toto Ltd Hydrophilic member with photocatalystic property
JPH11348172A (en) * 1998-06-09 1999-12-21 Dainippon Printing Co Ltd Photocatalytic film and its production
JP2001277418A (en) * 2000-03-29 2001-10-09 Toto Ltd Photocatalyst coated film
JP2003535688A (en) * 2000-06-21 2003-12-02 フジ フォト フィルム ビー.ブイ. Photocatalyst sheet or film and method for producing the same
JP2003025516A (en) * 2001-07-11 2003-01-29 Hiraoka & Co Ltd Laminated sheet having high environmental pollution preventing properties
JP2003236979A (en) * 2002-02-20 2003-08-26 Nihon Yamamura Glass Co Ltd Method for manufacturing photocatalyst film and molded article
JP2006175685A (en) * 2004-12-22 2006-07-06 Takiron Co Ltd Molded product having photocatalytic function

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011120993A (en) * 2009-12-10 2011-06-23 V Technology Co Ltd Foreign matter removing device for substrate and method for removing foreign matter for substrate
GB2544852A (en) * 2015-10-01 2017-05-31 Clifton Packaging Group Ltd System and method for applying a coating to a film
GB2544852B (en) * 2015-10-01 2022-06-08 Clifton Packaging Group Ltd System and method for applying a coating to a film

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