JP2003236979A - Method for manufacturing photocatalyst film and molded article - Google Patents

Method for manufacturing photocatalyst film and molded article

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JP2003236979A
JP2003236979A JP2002043430A JP2002043430A JP2003236979A JP 2003236979 A JP2003236979 A JP 2003236979A JP 2002043430 A JP2002043430 A JP 2002043430A JP 2002043430 A JP2002043430 A JP 2002043430A JP 2003236979 A JP2003236979 A JP 2003236979A
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暢 矢野
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弘倫 三宅
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a photocatalyst film with a photocatalyst layer which can stably and strongly provide a photocatalyst on the surface of a base material for a long time regardless of kind of the base material and a molded article thereof. <P>SOLUTION: The photocatalyst film has the photocatalyst layer characterized by forming an inorganic protective layer and the photocatalyst layer on a transparent base material film in this order and photocatalyst particles in the photocatalyst layer being dispersed and fixed on the surface of the inorganic protective layer. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光触媒フィルム及び
成型品の製造方法に関し、より詳細には、バインダーを
使用しない光触媒層を有する光触媒フィルム及び成型品
の製造方法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for producing a photocatalyst film and a molded article, and more particularly to a method for producing a photocatalyst film and a molded article having a photocatalyst layer without using a binder.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】酸化チ
タンに代表される光触媒は、酸素と水の存在下におい
て、近紫外光の照射により活性酸素を生じ、これが空気
中の悪臭物質や汚染物質等を分解するため、物体表面へ
の防汚性、抗菌性等の作用を発揮する。光触媒は、通常
粉末の状態で存在するため、上述の作用を物体表面にお
いて発揮させるためには、バインダー等を用いて光触媒
を物体表面に固定させることが必要となる。しかし、光
触媒の作用によって、バインダー自体が分解され、長期
にわたって光触媒を固定することができない。
2. Description of the Related Art A photocatalyst represented by titanium oxide produces active oxygen by irradiation with near-ultraviolet light in the presence of oxygen and water, which produces odorous substances and pollutants in the air. Since it decomposes, etc., it exhibits antifouling and antibacterial effects on the surface of an object. Since the photocatalyst is usually present in the form of powder, it is necessary to fix the photocatalyst on the object surface using a binder or the like in order to exert the above-mentioned action on the object surface. However, the action of the photocatalyst decomposes the binder itself, and the photocatalyst cannot be fixed for a long period of time.

【0003】これに対して、例えば、特開平5−253
544号には、タイル表面に釉薬を塗布し、その表面に
酸化チタンゾルを吹きつけ、その後、高温で焼成するこ
とによって、光触媒の粒子を表面に露出させた状態で固
定する方法が記載されている。しかし、この方法では、
光触媒を付与する基材が、高温での焼成に耐えられるも
のに限定される。このような状況下、どのような基材に
対しても、また3次元の曲面や微細な凹凸を有する面へ
も均一に光触媒を固定させることができる方法が求めら
れている。本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
り、基材の種類にかかわらず、長期間にわたって、安定
かつ強固に、基材表面に光触媒を付与することができる
光触媒フィルム及び成型品の製造方法を提供することを
目的とする。
On the other hand, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 5-253
No. 544 describes a method in which a glaze is applied to the tile surface, a titanium oxide sol is sprayed on the tile surface, and then the photocatalyst particles are fixed in an exposed state on the surface by firing at a high temperature. . But with this method,
The substrate to which the photocatalyst is applied is limited to those that can withstand baking at a high temperature. Under such circumstances, there is a demand for a method capable of uniformly fixing the photocatalyst to any base material and to a surface having a three-dimensional curved surface or fine irregularities. The present invention has been made in view of the above problems, and a method for producing a photocatalyst film and a molded article capable of imparting a photocatalyst to a substrate surface stably and firmly for a long period of time regardless of the type of the substrate. The purpose is to provide.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、透明基
材フィルム上に無機系保護層及び光触媒層がこの順に形
成されてなり、前記光触媒層中の光触媒粒子が無機系保
護層の表面に分散して固定されてなる光触媒層を有する
光触媒フィルムが提供される。また、本発明によれば、
透明基材フィルム上の無機系保護層と反対側の面に接着
層が設けられた上記光触媒フィルムを射出成型金型内に
挟み込み、接着層が設けられた側に溶融樹脂を射出する
成型品の製造方法が提供される。
According to the present invention, an inorganic protective layer and a photocatalyst layer are formed in this order on a transparent substrate film, and the photocatalyst particles in the photocatalyst layer are the surface of the inorganic protective layer. Provided is a photocatalyst film having a photocatalyst layer which is dispersed and fixed on a substrate. Further, according to the present invention,
A molded product in which the photocatalytic film having an adhesive layer provided on the surface opposite to the inorganic protective layer on the transparent substrate film is sandwiched in an injection molding die, and a molten resin is injected to the side provided with the adhesive layer. A manufacturing method is provided.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明の光触媒フィルムは、主と
して、透明基材フィルム上に無機系保護層及び光触媒層
がこの順に積層されて構成される。本発明に用いること
ができる透明基材フィルムとしては、透明性を有するフ
ィルムであれば特に限定されるものではなく、変形又は
屈曲可能なプラスチックによるフィルムが適当である。
具体的には、ポリエステル、セルロースアセテート、ポ
リプロピレン、ポリエチレン、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリビニル
アセタール、ポリエーテルケトン、ポリ塩化ビニル、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリアクリル酸メチル、ポリメタク
リル酸メチル、ポリカーボネート、ポリウレタン等の延
伸又は未延伸の透明プラスチックフィルム等が挙げられ
る。基体シートの厚みは特に限定されるものではなく、
例えば、3〜500μm程度が挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photocatalyst film of the present invention is mainly constituted by laminating an inorganic protective layer and a photocatalyst layer in this order on a transparent substrate film. The transparent substrate film that can be used in the present invention is not particularly limited as long as it is a transparent film, and a film made of a plastic that can be deformed or bent is suitable.
Specifically, polyester, cellulose acetate, polypropylene, polyethylene, polyamide, polyimide, polyether sulfone, polysulfone, polyvinyl acetal, polyether ketone, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polycarbonate. And stretched or unstretched transparent plastic films such as polyurethane. The thickness of the base sheet is not particularly limited,
For example, it is about 3 to 500 μm.

【0006】本発明の無機系保護層は、光触媒層に含ま
れる光触媒によって被転写体が劣化しないように保護す
る層であり、例えば、炭素以外の元素を骨格とする重合
体、金属又は無機金属酸化物等により形成することがで
きる。例えば、重合体としては、シロキサン結合を有す
るものが挙げられ、ポリシロキサン、オルガノポリシロ
キサン、メタロキシシロキサン等が挙げられる。なかで
も、オルガノポリシロキサンが好ましい。なお、オルガ
ノシロキサンの場合の有機置換基は、低級(C 1〜C3
アルキル、ビニル、フェニル等が挙げられる。
The inorganic protective layer of the present invention is included in the photocatalyst layer.
The transferred photocatalyst protects the transferred material from deterioration.
A layer having a skeleton of an element other than carbon.
It can be formed from a body, metal or inorganic metal oxide, etc.
Wear. For example, the polymer has a siloxane bond.
Examples include polysiloxanes and organopolysiloxanes.
Examples include xanthane and metaloxysiloxane. in
Also, organopolysiloxane is preferable. In addition, Olga
In the case of the nonsiloxane, the organic substituent is lower (C 1~ C3)
Examples thereof include alkyl, vinyl and phenyl.

【0007】オルガノポリシロキサンによる無機系保護
層は、アルコキシシランを加水分解、縮重合して得たシ
リコーンオリゴマー溶液を基材フィルム上に塗布し、乾
燥又は熱処理することにより、あるいは、シリコーンオ
リゴマー溶液に硬化剤を混合した溶液を基材フィルム上
に塗布、乾燥及び硬化することにより形成することがで
きる。
The inorganic protective layer of organopolysiloxane can be obtained by applying a silicone oligomer solution obtained by hydrolyzing and polycondensing an alkoxysilane onto a substrate film and then drying or heat-treating the silicone oligomer solution. It can be formed by applying a solution mixed with a curing agent onto a base film, drying and curing.

【0008】無機系保護層を形成するためのアルコキシ
シランとしては、特に限定されるものではなく、例え
ば、テトラメトキシシラン(TMOS)、テトラエトキ
シシラン(TEOS)などのテトラアルコキシシラン、
メチルトリメトキシシラン(MTMS)、メチルトリエ
トキシシラン(MTES)、エチルトリメトキシシラン
(ETMS)、フェニルトリエトキシシラン(PhTE
S)、ビニルトリエトキシシラン(VTES)、n−プ
ロピルトリメトキシシラン(n−PrTMS)、イソプ
ロピルトリメトキシシラン(iso−PrTMS)などの
トリアルコキシシラン、ジメチルジエトキシシラン(D
MDE)、ジフェニルジメトキシシラン(DPhD
M)、メチルエチルジメトキシシラン(MEDM)など
のジアルコキシシラン、トリメチルメトキシシラン(T
MMS)などのモノアルコキシシランなどを挙げること
ができる。これらは単独又は組み合わせて使用すること
ができるが、なかでも、トリアルコキシシランを85重
量%程度以上、好ましくは87重量%程度以上、さら
に、90重量%程度以上で用いることが好ましい。
The alkoxysilane for forming the inorganic protective layer is not particularly limited, and examples thereof include tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane (TMOS) and tetraethoxysilane (TEOS).
Methyltrimethoxysilane (MTMS), methyltriethoxysilane (MTES), ethyltrimethoxysilane (ETMS), phenyltriethoxysilane (PhTE)
S), vinyltriethoxysilane (VTES), n-propyltrimethoxysilane (n-PrTMS), trialkoxysilane such as isopropyltrimethoxysilane (iso-PrTMS), dimethyldiethoxysilane (D)
MDE), diphenyldimethoxysilane (DPhD
M), dialkoxysilane such as methylethyldimethoxysilane (MEDM), trimethylmethoxysilane (T
Examples thereof include monoalkoxysilanes such as MMS). These can be used alone or in combination, but it is preferable to use trialkoxysilane in an amount of about 85% by weight or more, preferably about 87% by weight or more, and further about 90% by weight or more.

【0009】アルコキシシランは、水と、例えば、モル
比が1:1.4〜4.0程度、好ましくは1:1.5〜
2.5程度となるように混合して、加水分解、縮重合反
応を行うことが好ましい。また、アルコキシシランは、
加水分解の触媒として、金属キレート化合物又は酸と混
合してもよい。
The alkoxysilane and water have a molar ratio of, for example, about 1: 1.4 to 4.0, preferably 1: 1.5 to.
It is preferable to mix them so as to be about 2.5 and to carry out hydrolysis and polycondensation reaction. In addition, alkoxysilane is
As a hydrolysis catalyst, a metal chelate compound or an acid may be mixed.

【0010】金属キレート化合物は、例えば、1,3−
ジオキソプロピレン鎖を有するβ−ジケントン類又は大
環状ポリエーテルを配位子とする金属キレート化合物を
好適に使用することができる。具体的には、トリス(ア
セチルアセトナト)アルミニウム(III)、トリス(エチル
アセトアセタト)アルミニウム(III)、トリス(ジエチル
マロナト)アルミニウム(III)、ビス(アセチルアセトナ
ト)銅(II)、テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニ
ウム(IV)、トリス(アセチルアセトナト)クロム(III)、
トリス(アセチルアセトナト)コバルト(III)、酸化チタ
ン(II)アセチルアセトネート[(CH3COCHCOCH
3) 2TiO]などのβ−ジケトン類金属キレート、希土
類金属のβ−ジケトン類金属キレート、18−クラウン
−6−カリウムキレート化合物塩、12−クラウン−4
−リチウムキレート化合物塩、15−クラウン−5−ナ
トリウムキレート化合物塩などの大環状ポリエーテル化
合物金属キレート等が挙げられる。金属キレート化合物
の添加量は、触媒効果に応じて適宜調整することがで
き、通常、アルコキシシランに対して0.001〜5モ
ル%程度、特に0.005〜1モル%程度が好ましい。
The metal chelate compound is, for example, 1,3-
A metal chelate compound having a β-diketone having a dioxopropylene chain or a macrocyclic polyether as a ligand can be preferably used. Specifically, tris (acetylacetonato) aluminum (III), tris (ethylacetoacetato) aluminum (III), tris (diethylmalonato) aluminum (III), bis (acetylacetonato) copper (II), Tetrakis (acetylacetonato) zirconium (IV), tris (acetylacetonato) chromium (III),
Tris (acetylacetonato) cobalt (III), titanium (II) oxide acetylacetonate [(CH 3 COCHCOCH
3 ) 2 TiO] and other β-diketone metal chelates, rare earth metal β-diketone metal chelates, 18-crown-6-potassium chelate compound salts, 12-crown-4
-Macrocyclic polyether compound metal chelates such as lithium chelate compound salt and 15-crown-5 sodium chelate compound salt. The amount of the metal chelate compound added can be appropriately adjusted according to the catalytic effect, and is usually preferably about 0.001 to 5 mol%, particularly preferably about 0.005 to 1 mol% based on the alkoxysilane.

【0011】酸は、例えば、通常のゾル−ゲル反応で用
いられる硝酸、塩酸などの無機酸や、酢酸、カルボン酸
エステル(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロ
ロ酢酸エチル、ギ酸エチル、クロロギ酸エチル、ピルビ
ン酸エチルなど)、硝酸エステル(例えば、硝酸メチ
ル、硝酸エチルなど)、硫酸ジアルキル(例えば、硫酸
ジメチル、硫酸ジエチルなど)、δ−ラクトン(例え
ば、クマリン、δ−バレロラクトンなど)、酸無水物
(例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸など)、酸塩化
物(例えば、塩化アセチル、塩化クロロアセチルなど)
及びスルホニル化合物(例えば、メタンスルホニルクロ
リド、ベンゼンスルホニルクロリドなど)などの有機酸
などが挙げられる。酸の添加量は、触媒効果に応じて適
宜調整することができ、通常、アルコキシシランに対し
て0.0001〜5モル%程度が挙げられる。
Examples of the acid include inorganic acids such as nitric acid and hydrochloric acid used in ordinary sol-gel reaction, acetic acid and carboxylic acid esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl trichloroacetate, ethyl formate, ethyl chloroformate). , Ethyl pyruvate, etc., nitrates (eg, methyl nitrate, ethyl nitrate, etc.), dialkyl sulfates (eg, dimethyl sulfate, diethyl sulfate, etc.), δ-lactones (eg, coumarin, δ-valerolactone, etc.), acid anhydrides Compounds (eg acetic anhydride, propionic anhydride, etc.), acid chlorides (eg, acetyl chloride, chloroacetyl chloride, etc.)
And organic acids such as sulfonyl compounds (eg, methanesulfonyl chloride, benzenesulfonyl chloride, etc.) and the like. The amount of the acid added can be appropriately adjusted according to the catalytic effect, and usually about 0.0001 to 5 mol% relative to the alkoxysilane.

【0012】硬化剤は、例えば、チタン、ジルコニウ
ム、アルミニウム等の金属アルコキシドの部分キレート
化合物、有機錫化合物、アミン系シランカップリング
剤、カルボン酸のアンモニウム塩等が挙げられる。シリ
コーンオリゴマー溶液は、例えば、フロー法、ロール
法、グラビアコート法、ロールコート法、スプレーコー
ト法、リップコート法、ディップコート法、スピンコー
ト法、バーコート法、押出しコート法、スクリーンコー
ト法、リバースロールコート法、マイクログラビアコー
ト法、フレキソコート法等のそれ自体公知の方法によ
り、無機系保護層とすることができる。無機系保護層の
厚さは、例えば、1〜50μm程度が挙げられる。ま
た、無機系保護層の硬度を高めるために、塗布、乾燥後
に、室温〜200℃程度の温度範囲で熱処理してもよ
い。なお、本発明における無機系保護層は、特開平20
01−49182号公報に記載されたコーティング組成
物を用いて、この公報に記載された方法によって形成す
ることができるすべてのオルガノポリシロキサン膜を包
含する。
Examples of the curing agent include partial chelate compounds of metal alkoxides such as titanium, zirconium and aluminum, organic tin compounds, amine silane coupling agents, and ammonium salts of carboxylic acids. The silicone oligomer solution is, for example, a flow method, a roll method, a gravure coating method, a roll coating method, a spray coating method, a lip coating method, a dip coating method, a spin coating method, a bar coating method, an extrusion coating method, a screen coating method, a reverse coating method. The inorganic protective layer can be formed by a method known per se such as a roll coating method, a microgravure coating method, and a flexo coating method. The thickness of the inorganic protective layer is, for example, about 1 to 50 μm. Further, in order to increase the hardness of the inorganic protective layer, heat treatment may be carried out in a temperature range of room temperature to 200 ° C. after coating and drying. The inorganic protective layer in the present invention is disclosed in
It includes all organopolysiloxane films that can be formed by the method described in this publication using the coating composition described in 01-49182.

【0013】また、本発明における無機系保護層は、光
触媒フィルムを低反射でマット調とするために、光散乱
体としてフィラーを含有させることができる。フィラー
としては、有機系又は無機系のフィラーを用いることが
できる。有機系フィラーとしては、例えば、合成樹脂微
粒子(低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレ
ン、アクリル系樹脂、ナイロン系樹脂、スチレン系樹脂
ビーズ等)や各種ホルマリン樹脂が挙げられる。無機系
フィラーとしては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコ
ニア、チタニア、ゼオライト、カオリン、クレー、タル
ク、タンサンカルシウム、硫酸バリウム、水酸化マグネ
シウム、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム、二酸化チタ
ン、粉末ガラス等が挙げられる。これらのフィラーは、
例えば、平均粒径0.5〜100μm程度、好ましくは
0.5〜10μm程度、さらに好ましくは1〜5μm程
度のものが挙げられる。フィラーは、無機系保護層に対
して、1〜90重量%程度、1〜50重量%、5〜40
重量%程度で含有させるのが適当である。さらに、無機
系保護層は、色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤、導電性
フィラー等の種々の添加剤を添加することにより、フィ
ルム自体に種々の機能を付与することもできる。
Further, the inorganic protective layer in the present invention may contain a filler as a light scatterer in order to make the photocatalyst film have a low reflection and a matte tone. As the filler, an organic or inorganic filler can be used. Examples of the organic filler include synthetic resin fine particles (low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, acrylic resin, nylon resin, styrene resin beads, etc.) and various formalin resins. Examples of the inorganic fillers include silica, alumina, zirconia, titania, zeolite, kaolin, clay, talc, calcium tansan calcium, barium sulfate, magnesium hydroxide, calcium carbonate, calcium phosphate, titanium dioxide, and powdered glass. These fillers are
For example, the average particle size is about 0.5 to 100 μm, preferably about 0.5 to 10 μm, and more preferably about 1 to 5 μm. The filler is about 1 to 90% by weight, 1 to 50% by weight, and 5 to 40% with respect to the inorganic protective layer.
It is suitable to contain it in about wt%. Further, the inorganic protective layer can be imparted with various functions to the film itself by adding various additives such as a dye, an ultraviolet absorber, an antioxidant and a conductive filler.

【0014】本発明における光触媒層は、TiO2、Z
nO、SnO2、SrTiO3、WO3、Bi23及びF
23等からなる群から選択される1種又は2種以上の
光触媒により形成される。なかでも、光触媒能及び化学
的耐久性の点から、アナターゼ型の酸化チタンが好まし
い。光触媒層は、粒子状の光触媒を適当な分散媒に分散
した分散液や、光触媒の前駆体となるゾル又は金属アル
コキシドを適当な分散媒に分散した分散液等を用いて形
成することができる。
The photocatalyst layer in the present invention comprises TiO 2 , Z
nO, SnO 2 , SrTiO 3 , WO 3 , Bi 2 O 3 and F
It is formed by one or more photocatalysts selected from the group consisting of e 2 O 3 and the like. Among them, anatase type titanium oxide is preferable from the viewpoints of photocatalytic ability and chemical durability. The photocatalyst layer can be formed using a dispersion liquid in which a particulate photocatalyst is dispersed in a suitable dispersion medium, a dispersion liquid in which a sol or a metal alkoxide serving as a photocatalyst precursor is dispersed in a suitable dispersion medium, and the like.

【0015】分散媒としては、特に限定されるものでは
なく、種々の有機溶媒を用いることができるが、無機系
保護層を膨潤軟化し得る有機溶媒を用いるか、分散媒に
含有させることが好ましい。無機系保護層を膨潤軟化し
得る有機溶媒としては、無機系保護層との親和性が高
く、沸点が200℃程度以下、好ましくは170℃程度
以下の揮発性含酸素溶媒が挙げられる。具体的には、ア
ルコール類、エーテル類、ケトン類、カルボン酸エステ
ル類が特に好ましい。アルコール類としては、メタノー
ル、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアル
コール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチル
アルコール、t−ブチルアルコール等、また、2−メト
キシエタノール、2−ブトキシエタノール等のエーテル
基を有するものも含まれる。エーテル類としては、ジエ
チルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル等が挙げら
れる。ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、2−ペンタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトン、アセチルアセトン等が挙げられる。カルボン
酸エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
プロピル、酢酸ブチル、アセト酢酸エチル、マロン酸ジ
エチル等が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組
み合わせて使用することができる。また、有機溶媒に
は、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等を含有し
てもよい。なお、光触媒分散液中においては、光触媒が
0.05〜10重量%程度、好ましくは1〜5重量%程
度、さらに1〜2重量%程度含有されていることが好ま
しい。このような光触媒分散液は、無機系保護層上に、
例えば、ロールコート法、スプレーコート法、リップコ
ート法、ディップコート法、スピンコート法、バーコー
ト法、押スクリーンコート法等のそれ自体公知の方法に
より塗布し、乾燥することにより、光触媒層として形成
することができる。
The dispersion medium is not particularly limited, and various organic solvents can be used, but it is preferable to use an organic solvent capable of swelling and softening the inorganic protective layer, or to contain it in the dispersion medium. . Examples of the organic solvent capable of swelling and softening the inorganic protective layer include volatile oxygen-containing solvents having a high affinity with the inorganic protective layer and a boiling point of about 200 ° C. or lower, preferably about 170 ° C. or lower. Specifically, alcohols, ethers, ketones, and carboxylic acid esters are particularly preferable. Examples of alcohols include methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, 1-butanol, 2-butanol, isobutyl alcohol, t-butyl alcohol, and the like, and ether groups such as 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol. Things are also included. Examples of ethers include diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and the like. Examples of the ketones include acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone, acetylacetone and the like. Examples of the carboxylic acid esters include methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl acetoacetate, diethyl malonate and the like. These may be used alone or in combination of two or more. The organic solvent may contain an aromatic hydrocarbon such as toluene or xylene. The photocatalyst dispersion liquid contains the photocatalyst in an amount of about 0.05 to 10% by weight, preferably about 1 to 5% by weight, and more preferably about 1 to 2% by weight. Such photocatalyst dispersion liquid, on the inorganic protective layer,
For example, a photocatalyst layer is formed by applying by a known method such as a roll coating method, a spray coating method, a lip coating method, a dip coating method, a spin coating method, a bar coating method, a pressing screen coating method and the like, and drying. can do.

【0016】光触媒分散液は、分散剤を含有していても
よい。分散剤としては、例えば、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、脂肪酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ヒ
ドロキシアルキルスルホン酸塩、アルキルスルホン酸
塩、ポリオキシエチレンスルホン酸塩、アルキル硫酸エ
ステル塩、アルキルリン酸エステル塩、ポリオキシエチ
レンアルキルアリルエーテル硫酸エステル塩、アルキル
アミン塩、テトラアルキルアンモニウム塩、ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルアリルエーテル、オキシエチレン−オキシプロピレン
共重合体、多価アルコール脂肪酸エステル等が挙げられ
る。分散剤の量は、光触媒分散液全体に対して0.1〜
20重量%程度、好ましくは1〜10重量%程度であ
る。
The photocatalyst dispersion may contain a dispersant. Examples of the dispersant include alkylbenzene sulfonate, fatty acid salt, dialkylsulfosuccinate, hydroxyalkyl sulfonate, alkyl sulfonate, polyoxyethylene sulfonate, alkyl sulfate ester salt, alkyl phosphate ester salt, and polyphosphate salt. Examples thereof include oxyethylene alkyl allyl ether sulfate ester salt, alkyl amine salt, tetraalkyl ammonium salt, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl allyl ether, oxyethylene-oxypropylene copolymer, polyhydric alcohol fatty acid ester and the like. The amount of the dispersant is 0.1 to the entire photocatalyst dispersion liquid.
It is about 20% by weight, preferably about 1 to 10% by weight.

【0017】光触媒は、表面がキレート化剤により修飾
されていてもよい。これにより、光触媒を疎水性にする
ことができ、水分による光触媒の凝集を防止し、均一な
光触媒層を形成することができる。キレート化は、あら
かじめキレート化剤により光触媒を修飾したものを用い
てもよいし、有機溶媒とともにキレート化剤を添加した
混合物としてもよい。キレート化剤としては、例えば、
光触媒に含まれるTi、Zn、W、St、Sn等の金属
よりも錯体生成定数が大きいものが好ましく、一般にキ
レート化剤として公知のもののいずれでも使用すること
ができる。
The surface of the photocatalyst may be modified with a chelating agent. As a result, the photocatalyst can be made hydrophobic, aggregation of the photocatalyst due to moisture can be prevented, and a uniform photocatalyst layer can be formed. For chelation, a photocatalyst modified in advance with a chelating agent may be used, or a mixture obtained by adding a chelating agent together with an organic solvent may be used. As the chelating agent, for example,
It is preferable that the complex formation constant be larger than the metal such as Ti, Zn, W, St, and Sn contained in the photocatalyst, and any of generally known chelating agents can be used.

【0018】このように、本発明の光触媒層において
は、実質的にバインダー、マトリックス、特に、有機系
のバインダー及びマトリックスと呼ばれるようなものは
含有されていない。ここで、実質的にバインダー等を含
まないとは、無機系保護層に対して、光触媒粒子を強固
に保持するに足りる量のバインダーを含まないことを意
味し、ここでのバインダー及びマトリックスとは、例え
ば、ウレタン系、エステル系、アクリル系、ポリビニル
アルコール系、酢酸ビニル系、シリコーン系のバインダ
ー、アルキルシリケートのようなものを意味する。つま
り、好ましくは、無機系保護層の基体シートと反対側の
表面に光触媒粒子自体が固定されて光触媒層を構成する
か、無機系保護層の基体シートと反対側の表面に光触媒
が付着しているか又は光触媒の一部のみが無機系保護層
に埋設されて存在することにより光触媒層を構成してい
る。
As described above, the photocatalyst layer of the present invention does not substantially contain a binder and a matrix, in particular, what is called an organic binder and a matrix. Here, substantially containing no binder or the like means that the inorganic protective layer does not contain an amount of binder sufficient to firmly hold the photocatalyst particles, and the binder and matrix here. For example, urethane-based, ester-based, acrylic-based, polyvinyl alcohol-based, vinyl acetate-based, silicone-based binders and alkyl silicates are meant. That is, preferably, the photocatalyst particles themselves are fixed to the surface of the inorganic protective layer opposite to the base sheet to form the photocatalyst layer, or the photocatalyst is attached to the surface of the inorganic protective layer opposite to the base sheet. Or the photocatalyst layer is formed by the fact that only a part of the photocatalyst is embedded in the inorganic protective layer.

【0019】なお、本発明の光触媒フィルムにおいて
は、基体シートと無機系保護層との間に、さらに、帯電
防止層、剥離層、アンカー層、絵柄層、蒸着層、反射防
止層、保護層、接着層等の1種又は2種以上を組み合わ
せて形成してもよい。これらの層は、当該分野で公知の
材料を公知の方法で形成することができる。特に、接着
層としては、例えば、アクリル系樹脂、塩素化オレフィ
ン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、マレ
イン酸系樹脂、塩化ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、クマロンインデン系樹脂、エチレン−酢
酸ビニル共重合体系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、スチレン系樹脂等により形成することができ
る。接着層の厚みは、例えば0.1〜10μm程度が挙
げられる。また、アンカー層は、一種の接着剤層を意味
し、例えば、チタネート系、イソシアネート系、ポリエ
チレンイミン系等からなる接着剤層が挙げられる。アン
カー層の厚みは、例えば0.1〜5μm程度が挙げられ
る。絵柄層は、文字、模様等のいわゆる絵柄を、公知の
顔料や染料等の着色材を含んだ各種印刷インキにて形成
された層を意味する。絵柄層は、透明基材フィルム上に
均一に形成されている必要はなく、絵柄、色彩等に応じ
て、例えば、0〜50μm程度の範囲の厚みで形成する
ことができる。
In the photocatalyst film of the present invention, an antistatic layer, a peeling layer, an anchor layer, a pattern layer, a vapor deposition layer, an antireflection layer, a protective layer, and It may be formed of one kind or a combination of two or more kinds such as an adhesive layer. These layers can be formed by a known method using a material known in the art. Particularly, as the adhesive layer, for example, acrylic resin, chlorinated olefin resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin, maleic acid resin, chlorinated rubber resin, cyclized rubber resin, polyamide resin, It can be formed of malon-indene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyester resin, urethane resin, styrene resin, or the like. The thickness of the adhesive layer is, for example, about 0.1 to 10 μm. The anchor layer means a kind of adhesive layer, and examples thereof include an adhesive layer made of titanate-based, isocyanate-based, polyethyleneimine-based, or the like. The thickness of the anchor layer is, for example, about 0.1 to 5 μm. The picture layer means a layer in which so-called pictures such as letters and patterns are formed by various printing inks containing known coloring materials such as pigments and dyes. The pattern layer does not need to be uniformly formed on the transparent substrate film, and can be formed with a thickness in the range of, for example, 0 to 50 μm, depending on the pattern, color and the like.

【0020】さらに、本発明の成型品の製造方法によれ
ば、光触媒層が形成されている側と反対側の透明基材フ
ィルム上に接着層が形成され、このフィルムを、射出成
型金型内に挟み込み、接着層が設けられた側に溶融樹脂
を射出することにより実現することができる。ここで、
接着層としては、上述したものと同様のものが挙げられ
る。接着層の厚みは、例えば0.1〜5μm程度が挙げ
られる。接着層の形成は、それ自体公知の方法により形
成することができる。
Further, according to the method for producing a molded article of the present invention, an adhesive layer is formed on the transparent substrate film on the side opposite to the side on which the photocatalyst layer is formed, and this film is placed in an injection molding die. It can be realized by sandwiching between the two and injecting a molten resin to the side where the adhesive layer is provided. here,
Examples of the adhesive layer include the same ones as described above. The thickness of the adhesive layer is, for example, about 0.1 to 5 μm. The adhesive layer can be formed by a method known per se.

【0021】本発明のフィルムは、例えば、ワープロ、
コンピュータ、テレビ、ディスプレイパネル、携帯電
話、タッチパネル等の各種のディスプレイ;液晶表示装
置等に用いる偏光板の表面;透明プラスチック類からな
るサングラスレンズ、度つきめがねレンズ、カメラのフ
ァインダーレンズ等の光学レンズ;各種計器の表示部;
自動車、電車等の窓ガラス;炊飯器、照明器具、照明カ
バー等の各種電気製品;道路標識、信号器、街頭、ガー
ドレール、高速道路の防音壁等の道路・交通関係品;つ
り革;タイル、天井、内壁、浴室やプール等の壁等の各
種建材;看板;手術室、無菌室及び食品加工室の設備や
医療機器、調理器具等;テールランプカバー、ホイルキ
ャップ、ドアミラー等の自動車部品;コップ、水差し、
食器棚、空気清浄機等の家庭内製品等が挙げられる。な
お、これらの成型品は、樹脂以外の材料、例えば、ガラ
ス、木材、金属、石、コンクリート、セラミック等によ
り形成されている場合であっても樹脂と同様の効果を発
揮することができる。
The film of the present invention is, for example, a word processor,
Various displays such as computers, televisions, display panels, mobile phones, touch panels, etc .; surfaces of polarizing plates used for liquid crystal display devices, etc .; optical lenses such as sunglasses made of transparent plastics, prescription glasses lenses, camera viewfinder lenses, etc .; Display of various instruments;
Window glass of automobiles, trains, etc .; various electric appliances such as rice cookers, lighting fixtures, lighting covers, etc .; road signs, traffic lights, streets, guardrails, highway noise barriers, etc .; Various building materials such as ceilings, inner walls, walls of bathrooms, pools, etc .; signs; equipment for operating rooms, aseptic rooms and food processing rooms, medical equipment, cooking equipment, etc .; automobile parts such as tail lamp covers, foil caps, door mirrors, cups, etc. Jug,
Examples include household products such as cupboards and air purifiers. It should be noted that these molded products can exhibit the same effect as the resin even if they are made of a material other than resin, such as glass, wood, metal, stone, concrete, or ceramic.

【0022】溶融樹脂としては、上記製品等を構成し得
るものであれば、その材料は特に限定されるものではな
く、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂(AB
S、AS、ポリフェニレンオキシドスチレン共重合体
等)、ポリオレフィン系樹脂(ポリエチレン、ポリプロ
ピレン等)、ポリカーボネート樹脂等の溶融状態のもの
が挙げられる。なお、射出成型金型は、樹脂成型品を製
造する際に、通常使用されるものであれば、どのような
ものでも利用することができる。以下に、本発明の光触
媒フィルム、これを用いた成型品の製造方法について説
明する。
As the molten resin, the material is not particularly limited as long as it can form the above products and the like, and examples thereof include acrylic resin and styrene resin (AB
S, AS, polyphenylene oxide / styrene copolymers, etc.), polyolefin resins (polyethylene, polypropylene, etc.), polycarbonate resins, etc. in molten state can be used. Any injection mold can be used as long as it is one that is normally used when manufacturing a resin molded product. The photocatalyst film of the present invention and the method for producing a molded product using the same will be described below.

【0023】実施例1 (光触媒コーティング組成物の調製)60重量部の酢酸
エチル、10重量部のトルエン、10重量部のイソプロ
ピルアルコールおよび20重量部のt−ブチルアルコー
ルを混合し、この混合液に1重量部のアセチルアセトン
と5重量部のアルカノアナターゼゾル(テイカ(株)
製、TKS−251)とを添加、混合し、光触媒コーテ
ィング組成物を調製した。
Example 1 (Preparation of photocatalyst coating composition) 60 parts by weight of ethyl acetate, 10 parts by weight of toluene, 10 parts by weight of isopropyl alcohol and 20 parts by weight of t-butyl alcohol were mixed, and this mixture was mixed. 1 part by weight of acetylacetone and 5 parts by weight of alkanoanatase sol (Taika Corporation)
Manufactured by TKS-251) was added and mixed to prepare a photocatalyst coating composition.

【0024】(シリコーンオリゴマー溶液の調製)メチ
ルトリエトキシシラン(信越化学工業(株)、LS−1
890)100重量部に、トリス(アセチルアセトナ
ト)アルミニウム(III)((株)同仁化学研究所)0.
02重量部を添加した。この溶液にさらに蒸留水18重
量部を50℃で添加しながら1日間反応させ、透明なシ
リコーンオリゴマー溶液Aを得た。
(Preparation of Silicone Oligomer Solution) Methyltriethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., LS-1)
890) 100 parts by weight, tris (acetylacetonato) aluminum (III) (Dojindo Laboratories Co., Ltd.)
02 parts by weight were added. 18 parts by weight of distilled water was further added to this solution at 50 ° C. for reaction for 1 day to obtain a transparent silicone oligomer solution A.

【0025】(硬化剤の調製)チタンテトラ−n−ブト
キシド(関東化学(株))100重量部に、アセチルア
セトン29.4重量部、酢酸9重量部及びエチレングリ
コールモノメチルエーテル170重量部を混合し、硬化
剤Bを得た。
(Preparation of curing agent) 100 parts by weight of titanium tetra-n-butoxide (Kanto Chemical Co., Inc.) were mixed with 29.4 parts by weight of acetylacetone, 9 parts by weight of acetic acid and 170 parts by weight of ethylene glycol monomethyl ether, A curing agent B was obtained.

【0026】(オルガノポリシロキサン層形成用塗布液
の調製)100重量部のシリコーンオリゴマー溶液A、
5重量部の硬化剤B及び2重量部のイソプロピルアルコ
ールを混合して、オルガノポリシロキサン層形成用塗布
液を調製した。
(Preparation of coating liquid for forming organopolysiloxane layer) 100 parts by weight of the silicone oligomer solution A,
5 parts by weight of the curing agent B and 2 parts by weight of isopropyl alcohol were mixed to prepare an organopolysiloxane layer forming coating liquid.

【0027】(光触媒フィルムの製造)膜厚38μmの
片面コロナ処理が施されたポリエチレンテレフタレート
フィルム(ユニチカUT−S)にオルガノポリシロキサ
ン層形成用塗布液を塗布し、170℃で1分間乾燥し
て、膜厚2.3μmの無機系保護層を形成した。さら
に、無機系保護層上に、光触媒コーティング組成物を塗
布し、170℃で1分間乾燥して、乾燥膜厚0.03μ
mの光触媒層を形成し、本発明の光触媒フィルムを得
た。
(Production of Photocatalyst Film) A coating solution for forming an organopolysiloxane layer was applied to a polyethylene terephthalate film (Unitika UT-S) having a thickness of 38 μm and subjected to a single-sided corona treatment, and dried at 170 ° C. for 1 minute. Then, an inorganic protective layer having a thickness of 2.3 μm was formed. Furthermore, the photocatalyst coating composition was applied onto the inorganic protective layer and dried at 170 ° C. for 1 minute to give a dry film thickness of 0.03 μm.
m photocatalyst layer was formed to obtain the photocatalyst film of the present invention.

【0028】比較例 (光触媒フィルムの製造)膜厚38μmの片面コロナ処
理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム(ユ
ニチカUT−S)にオルガノポリシロキサン層形成用塗
布液を塗布し、170℃で1分間乾燥して、膜厚1.7
μmの無機系保護層を形成した。得られた基体シート上
に、バインダー含有光触媒コーティング組成物(90重
量部のイソプロピルアルコール、5重量部のオルガノア
ナターゼゾル(テイカ(株)製、TKS−251)、5
重量部のシリコーン樹脂の混合物)を塗布し、170℃
で1分間乾燥して、乾燥膜厚0.08μmの光触媒層を
形成し、光触媒フィルムを得た。
Comparative Example (Production of Photocatalyst Film) A coating solution for forming an organopolysiloxane layer was applied to a polyethylene terephthalate film (Unitika UT-S) having a thickness of 38 μm and having one side corona treated, and dried at 170 ° C. for 1 minute. Then, the film thickness 1.7
An inorganic protective layer having a thickness of μm was formed. On the obtained base sheet, a binder-containing photocatalyst coating composition (90 parts by weight of isopropyl alcohol, 5 parts by weight of organoanatase sol (TKS-251 manufactured by Teika Co., Ltd.),
Part by weight of silicone resin mixture), 170 ℃
Was dried for 1 minute to form a photocatalyst layer having a dry film thickness of 0.08 μm to obtain a photocatalyst film.

【0029】試験例 実施例及び比較例で得られた光触媒フィルムについて、
屋外での太陽光暴露による親水化試験を行った。まず、
光触媒フィルムを所定時間、屋外で暴露し、その後、光
触媒フィルムを水平に保持した。転写面全体が十分に濡
れるだけの量の水を滴下した後、光触媒フィルムを垂直
に立て、水を一気に流し落とした。続いて光触媒フィル
ムを10秒間静置し、水平に戻す。水平に戻したときの
(濡れている面積/光触媒フィルム全面積)×100を
算出し、親水化率とした。その結果を以下の表に示す。
Test Example Regarding the photocatalyst films obtained in Examples and Comparative Examples,
A hydrophilization test was conducted by outdoor exposure to sunlight. First,
The photocatalyst film was exposed outdoors for a predetermined time, and then the photocatalyst film was held horizontally. After dropping enough water to sufficiently wet the entire transfer surface, the photocatalyst film was placed vertically, and the water was poured off at once. Then, the photocatalyst film is allowed to stand for 10 seconds and then returned to the horizontal position. The value of (wet area / total area of photocatalyst film) × 100 when returned to the horizontal direction was calculated as the hydrophilicity ratio. The results are shown in the table below.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】実施例2 低反射率の光触媒フィルムを得るために、オルガノポリ
シロキサン層形成用塗布液に種々のシリカ粉末を種々の
量で添加する以外は実施例1と同様に光触媒フィルムを
作製した。なお、使用したシリカ粉末は、シリカ粉末A
(平均粒径0.04μm、比表面積200m2/g)、
シリカ粉末B(平均粒径2μm、比表面積190m2
g)、シリカ粉末C(平均粒径3.5μm、比表面積3
00m2/g)、シリカ粉末D(平均粒径1.55μ
m、比表面積4.48m2/g)であった。シリカ粉末
をオルガノポリシロキサン層形成用塗布液に対して、3
重量%混合して、得られた光触媒フィルムの光沢度を以
下に示す。
Example 2 A photocatalytic film was prepared in the same manner as in Example 1 except that various silica powders were added in various amounts to a coating liquid for forming an organopolysiloxane layer in order to obtain a photocatalytic film having a low reflectance. . The silica powder used was silica powder A.
(Average particle size 0.04 μm, specific surface area 200 m 2 / g),
Silica powder B (average particle size 2 μm, specific surface area 190 m 2 /
g), silica powder C (average particle size 3.5 μm, specific surface area 3)
00 m 2 / g), silica powder D (average particle size 1.55 μ)
m, specific surface area 4.48 m 2 / g). 3 parts of silica powder to the coating solution for forming the organopolysiloxane layer
The glossiness of the photocatalyst film obtained by mixing by weight% is shown below.

【0032】[0032]

【表2】 また、シリカ粉末Cをオルガノポリシロキサン層形成用
塗布液に対して、3〜9重量%混合して、得られた光触
媒フィルムの光沢度を以下に示す。
[Table 2] Moreover, the glossiness of the photocatalyst film obtained by mixing 3 to 9% by weight of the silica powder C with the coating liquid for forming the organopolysiloxane layer is shown below.

【0033】[0033]

【表3】 [Table 3]

【0034】実施例3 実施例1で得られた光触媒フィルムにおいて、光触媒層
が形成された側と反対側の透明基材フィルム上に、アク
リル樹脂からなる接着剤層を、厚さ1μm程度で形成し
た。このフィルムを射出成型金型に挟み込み、200〜
240℃程度の温度範囲で溶融させたアクリル樹脂(三
菱レーヨン社製、アクリペットVH)を接着剤層側から
金型に注入し、放冷した。これにより、表面に光触媒層
が形成されたドアミラーを得た。得られた成型品は、光
触媒により親水化率が向上したものであった。
Example 3 In the photocatalyst film obtained in Example 1, an adhesive layer made of acrylic resin was formed with a thickness of about 1 μm on the transparent base film on the side opposite to the side on which the photocatalyst layer was formed. did. Insert this film in an injection molding die,
An acrylic resin (Acrypet VH, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) melted in a temperature range of about 240 ° C. was poured into the mold from the adhesive layer side and allowed to cool. Thereby, a door mirror having a photocatalyst layer formed on the surface thereof was obtained. The obtained molded product had a hydrophilicity improved by a photocatalyst.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明によれば、光触媒の含有率が高
く、かつ強固に固定された光触媒フィルムを提供するこ
とができ、これによって、表面に光触媒が強固に固定さ
れるとともに、その露出度が大きく、光触媒能を十分に
向上させることができる製品を提供することが可能とな
る。しかも、無機系保護層が製品側に配置することか
ら、製品自体が光触媒により劣化するのを防止すること
ができるとともに、光触媒が無機系保護層に付着するこ
とにより光触媒層が形成されるためにバインダー等の劣
化を回避して、長期間にわたって、安定して光触媒効果
を得ることができる光触媒層を付与することができる光
触媒フィルムを提供することができる。また、本発明の
成型品によれば、成型品の表面に光触媒層を簡易に、か
つ強力に付与することができ、製造工程の簡略化、製造
コストの低減を実現し、ひいては成型品の付加価値を向
上させながら、価格の低減を図ることができる。
According to the present invention, it is possible to provide a photocatalyst film having a high photocatalyst content and being firmly fixed, whereby the photocatalyst is firmly fixed to the surface and the degree of exposure thereof. It is possible to provide a product having a large photocatalytic property and capable of sufficiently improving the photocatalytic activity. Moreover, since the inorganic protective layer is disposed on the product side, it is possible to prevent the product itself from being deteriorated by the photocatalyst, and the photocatalyst is formed by attaching the photocatalyst to the inorganic protective layer. It is possible to provide a photocatalyst film capable of providing a photocatalyst layer capable of stably obtaining a photocatalyst effect over a long period of time while avoiding deterioration of a binder and the like. Further, according to the molded product of the present invention, the photocatalyst layer can be easily and strongly applied to the surface of the molded product, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced. The price can be reduced while increasing the value.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 矢野 暢 兵庫県西宮市浜松原町2−21 日本山村硝 子株式会社内 (72)発明者 小西 明男 兵庫県西宮市浜松原町2−21 日本山村硝 子株式会社内 (72)発明者 若林 肇 兵庫県西宮市浜松原町2−21 日本山村硝 子株式会社内 (72)発明者 三宅 弘倫 京都府城陽市平川広田87−5 中島工業株 式会社内 (72)発明者 中村 祐三 京都府城陽市平川広田87−5 中島工業株 式会社内 Fターム(参考) 4F100 AA00B AA17C AA21C AA25C AA28C AK42 AK79B AR00A AR00C BA03 BA07 DE00B DE01C EH462 EJ862 GB07 JL08C JN01A 4F206 AD08 AD20 AG03 JA07 JB13 4G069 AA03 AA08 BA04A BA04B BA22A BA22B BA48A BB04A BB06A BC12A BC22A BC25A BC35A BC50A BC60A BC66A BE32A BE32B CA01 CA11 CA17 EA08 EB15Y ED02 EE01 FA03 FB23 FB57    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Nobuo Yano             2-21 Hamamatsubara-cho, Nishinomiya-shi, Hyogo Japan Yamamura Glass             Child Co., Ltd. (72) Inventor Akio Konishi             2-21 Hamamatsubara-cho, Nishinomiya-shi, Hyogo Japan Yamamura Glass             Child Co., Ltd. (72) Inventor Hajime Wakabayashi             2-21 Hamamatsubara-cho, Nishinomiya-shi, Hyogo Japan Yamamura Glass             Child Co., Ltd. (72) Inventor Hironori Miyake             87-5 Hiragawa Hirota, Joyo City, Kyoto Prefecture Nakajima Industrial Co., Ltd.             Inside the company (72) Inventor Yuzo Nakamura             87-5 Hiragawa Hirota, Joyo City, Kyoto Prefecture Nakajima Industrial Co., Ltd.             Inside the company F term (reference) 4F100 AA00B AA17C AA21C AA25C                       AA28C AK42 AK79B AR00A                       AR00C BA03 BA07 DE00B                       DE01C EH462 EJ862 GB07                       JL08C JN01A                 4F206 AD08 AD20 AG03 JA07 JB13                 4G069 AA03 AA08 BA04A BA04B                       BA22A BA22B BA48A BB04A                       BB06A BC12A BC22A BC25A                       BC35A BC50A BC60A BC66A                       BE32A BE32B CA01 CA11                       CA17 EA08 EB15Y ED02                       EE01 FA03 FB23 FB57

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基材フィルム上に無機系保護層及び
光触媒層がこの順に形成されてなり、前記光触媒層中の
光触媒粒子が無機系保護層の表面に分散して固定されて
なることを特徴とする光触媒層を有する光触媒フィル
ム。
1. An inorganic protective layer and a photocatalyst layer are formed in this order on a transparent substrate film, and the photocatalyst particles in the photocatalyst layer are dispersed and fixed on the surface of the inorganic protective layer. A photocatalyst film having a characteristic photocatalyst layer.
【請求項2】 光触媒層の光触媒粒子が無機系保護層の
表面に分散して付着した状態又はその一部のみが埋設さ
れた状態で存在する請求項1に記載の光触媒フィルム。
2. The photocatalyst film according to claim 1, wherein the photocatalyst particles of the photocatalyst layer are present in a state of being dispersed and attached to the surface of the inorganic protective layer or in a state of only a part thereof being embedded.
【請求項3】 透明基材フィルム上に、無機系保護層を
形成した後、該無機系保護層上に、無機系保護層を膨潤
軟化し得る有機溶媒を含有する光触媒層形成用塗布液を
塗布し、乾燥させることにより、光触媒粒子が無機系保
護層の表面に分散して固定されてなる請求項1又は2に
記載の光触媒フィルム。
3. A photocatalyst layer-forming coating solution containing an organic solvent capable of swelling and softening the inorganic protective layer after forming the inorganic protective layer on the transparent substrate film. The photocatalyst film according to claim 1 or 2, wherein the photocatalyst particles are dispersed and fixed on the surface of the inorganic protective layer by coating and drying.
【請求項4】 無機系保護層が、オルガノポリシロキサ
ンにより形成されてなる請求項1〜3のいずれか1つに
記載の光触媒フィルム。
4. The photocatalyst film according to claim 1, wherein the inorganic protective layer is formed of organopolysiloxane.
【請求項5】 オルガノポリシロキサンが、トリアルコ
キシシランから生成されたものである請求項4に記載の
光触媒フィルム。
5. The photocatalyst film according to claim 4, wherein the organopolysiloxane is produced from trialkoxysilane.
【請求項6】 光触媒層が、TiO2、ZnO、Sn
2、SrTiO3、WO3、Bi23及びFe23から
なる群から選択される1種以上の光触媒によって形成さ
れてなる請求項1〜5のいずれか1つに記載の光触媒フ
ィルム。
6. The photocatalyst layer comprises TiO 2 , ZnO, Sn
The photocatalyst film according to claim 1, which is formed by one or more photocatalysts selected from the group consisting of O 2 , SrTiO 3 , WO 3 , Bi 2 O 3 and Fe 2 O 3. .
【請求項7】 光触媒層が実質的にバインダーを含まな
い請求項1〜6のいずれか1つに記載の光触媒フィル
ム。
7. The photocatalyst film according to claim 1, wherein the photocatalyst layer contains substantially no binder.
【請求項8】 無機系保護層にフィラーが含有されてな
る請求項1〜7のいずれか1つに記載の光触媒フィル
ム。
8. The photocatalyst film according to claim 1, wherein the inorganic protective layer contains a filler.
【請求項9】 透明基材フィルム上の無機系保護層と反
対側の面に接着層が設けられた請求項1〜8のいずれか
1つに記載の光触媒フィルムを射出成型金型内に挟み込
み、接着層が設けられた側に溶融樹脂を射出することを
特徴とする成型品の製造方法。
9. The photocatalyst film according to claim 1, wherein an adhesive layer is provided on the surface of the transparent base film opposite to the inorganic protective layer, and the photocatalyst film is sandwiched in an injection molding die. A method for manufacturing a molded article, which comprises injecting a molten resin to a side provided with an adhesive layer.
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