JP2008060363A - フォトマスクおよび露光装置 - Google Patents
フォトマスクおよび露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008060363A JP2008060363A JP2006236013A JP2006236013A JP2008060363A JP 2008060363 A JP2008060363 A JP 2008060363A JP 2006236013 A JP2006236013 A JP 2006236013A JP 2006236013 A JP2006236013 A JP 2006236013A JP 2008060363 A JP2008060363 A JP 2008060363A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- pixels
- crystal panel
- photomask
- pixel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】液晶パネルの画素間の空白域を原因とする、フォトレジストの意図しない感光を防止できるようにしたフォトマスクおよび露光装置を提供する。
【解決手段】フォトレジストにパターンを転写するために投影露光装置に取り付けられて使用されるフォトマスクであって、2次元に配列された複数個の画素31を有する液晶パネル30と、2次元に配列された複数個の画素41を有する液晶パネル40と、を備え、画素31間の空白域32が画素41と平面視で重なるように液晶パネル30と液晶パネル40とが重なり合った状態で使用される。このような構成であれば、空白域32を通過した光を画素41で遮光することができる。
【選択図】図2
【解決手段】フォトレジストにパターンを転写するために投影露光装置に取り付けられて使用されるフォトマスクであって、2次元に配列された複数個の画素31を有する液晶パネル30と、2次元に配列された複数個の画素41を有する液晶パネル40と、を備え、画素31間の空白域32が画素41と平面視で重なるように液晶パネル30と液晶パネル40とが重なり合った状態で使用される。このような構成であれば、空白域32を通過した光を画素41で遮光することができる。
【選択図】図2
Description
本発明は、フォトマスクおよび露光装置に関する。
従来から、ウエーハにICのパターンを転写する装置として投影露光装置が知られている(例えば、特許文献1参照。)。また、投影露光装置において、液晶表示装置をフォトマスクとして使用することが知られている(例えば、特許文献2、3参照。)。液晶表示装置をフォトマスクとして使用すると、電気的制御によって回路パターンを任意に書き換えることができるため、回路パターン毎にレチクルを用意しなくても済む、というメリットがある。
特開平10−199782号公報
特開2004−303810号公報
特開平5−13303号公報
図8(A)に示すように、液晶表示装置では通常、平面視でX方向およびY方向に画素301が規則正しく配列されているが、各画素301間には画像表示を行うことができない空白域302が存在する。詳しく説明すると、液晶表示装置がアクティブマトリクス型の場合は、空白域302には信号線や走査線、スイッチ素子(トランジスタ)等が配置されており、上部電極や下部電極は配置されていない。また、液晶表示装置がパッシブマトリクス型の場合も、空白域302には上部電極および下部電極の両方とも配置されていない。従って、空白域302では光の透過/遮蔽を制御することができず、白黒の一方のみを表示し続けることとなる。
このような液晶表示装置をそのままフォトマスクに使用すると、図8(B)に示すように、光源からの光が画素301間の空白域302を通過してしまう。そして、この通過した光によって、ウエーハ表面に塗布されているフォトレジストが意図せず感光してしまうおそれがあった。
そこで、この発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであって、液晶パネルの画素間の空白域を原因とする、フォトレジストの意図しない感光を防止できるようにしたフォトマスクおよび露光装置の提供を目的とする。
そこで、この発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであって、液晶パネルの画素間の空白域を原因とする、フォトレジストの意図しない感光を防止できるようにしたフォトマスクおよび露光装置の提供を目的とする。
上記目的を達成するために、発明1のフォトマスクは、フォトレジストにパターンを転写するために露光装置に取り付けられて使用されるフォトマスクであって、2次元に配列された複数個の第1画素を有する第1液晶パネルと、2次元に配列された複数個の第2画素を有する第2液晶パネルと、を備え、前記第1画素間の空白域が前記第2画素と平面視で重なるように前記第1液晶パネルと前記第2液晶パネルとが重なり合った状態で使用される、ことを特徴とするものである。ここで、「2次元に配列された」とは、例えば、平面視でX方向とY方向とに順序よく並べられた、という意味である。
発明2のフォトマスクは、発明1のフォトマスクにおいて、前記第2画素の形状およびその大きさは前記第1画素の形状およびその大きさと同じであり、且つ、前記第2画素の配列およびその間隔は前記第1画素の配列およびその間隔と同じであり、前記第1液晶パネルと前記第2液晶パネルとが重なり合った状態で、前記第2画素の配列が前記第1画素の配列に対して平面視でずれている、ことを特徴とするものである。
発明3のフォトマスクは、発明2のフォトマスクにおいて、前記第1画素の配列に対する前記第2画素の配列のずれ量は、一方の前記第1画素の中心から、当該一方と隣り合う他方の前記第1画素の中心までの距離の半分であることを特徴とするものである。ここで、「一方の前記第1画素の中心から、当該一方と隣り合う他方の前記第1画素の中心までの距離」を1ピッチと呼ぶ。また、1ピッチの半分を半ピッチと呼ぶ。
発明1〜3のフォトマスクによれば、第1画素間の空白域を第2画素で埋めることができ、空白域を通過した光を第2画素で遮光することができる。従って、画素間の空白域を原因とするフォトレジストの意図しない感光を防止することができる。
発明1〜3のフォトマスクによれば、第1画素間の空白域を第2画素で埋めることができ、空白域を通過した光を第2画素で遮光することができる。従って、画素間の空白域を原因とするフォトレジストの意図しない感光を防止することができる。
発明4の露光装置は、フォトレジストにパターンを転写する露光装置であって、発明1から発明3の何れか一の前記フォトマスクと、前記第1液晶パネルと前記第2液晶パネルとを制御して前記フォトマスクに平面視で任意の回路パターンを表示させるマスク制御手段と、を備えたものである。このような構成であれば、第1画素間の空白域を第2画素で埋めることができ、空白域を通過した光を第2画素で遮光することができる。従って、画素間の空白域を原因とするフォトレジストの意図しない感光を防止することができる。
以下、本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
(1)第1実施形態
図1は本発明の第1実施形態に係る投影露光装置100の構成例を示す概念図である。図1に示すように、この投影露光装置100は、照明11と、液晶ディスプレイ50と、LCDステージ13と、投影レンズ15と、倍率補正機構17と、フォーカス/チルト検出器18と、ステージ19と、ウエーハチャック21と、干渉計ミラー23および干渉計25と、演算制御ユニット27と、記憶装置29と、を含んだ構成となっている。
(1)第1実施形態
図1は本発明の第1実施形態に係る投影露光装置100の構成例を示す概念図である。図1に示すように、この投影露光装置100は、照明11と、液晶ディスプレイ50と、LCDステージ13と、投影レンズ15と、倍率補正機構17と、フォーカス/チルト検出器18と、ステージ19と、ウエーハチャック21と、干渉計ミラー23および干渉計25と、演算制御ユニット27と、記憶装置29と、を含んだ構成となっている。
これらの中で、照明11は、例えば可視光または紫外線等を発する光源である。また、液晶ディスプレイ50は光透過型の画像表示装置であり、レチクルとして機能するものである。図1に示すように、液晶ディスプレイ50は例えば2枚の液晶パネル30、40で構成されている。また、この液晶ディスプレイ50は、照明11の下側に配置されており、照明11から紫外線等の光が照射されるようになっている。なお、この液晶ディスプレイ50は、LCDステージ13を基準にして位置決めされている。
投影レンズ15は液晶ディスプレイ50の下側に配置されている。液晶ディスプレイ50の画素毎の透過/遮蔽の制御によって形成された回路パターンは、この投影レンズ15を通ってステージ方向へ縮小投影される。なお、投影レンズ15の倍率は、倍率補正機構17によって補正されるようになっている。
フォーカス/チルト検出器18は、ウエーハ表面に光ビームを照射し、その反射光を光電検出する事により、投影レンズ15の合焦位置とウエーハWの傾きとを検出する機能を有する。ステージ19はX、Yおよびθ方向に粗、微動可能な台であり、その投影レンズ15側の面には、ウエーハWをバキュームチャックするウエーハチャック21が設けられている。なお、ウエーハステージ19の位置は干渉計ミラー23、干渉計25によって常にモニターされている。
フォーカス/チルト検出器18は、ウエーハ表面に光ビームを照射し、その反射光を光電検出する事により、投影レンズ15の合焦位置とウエーハWの傾きとを検出する機能を有する。ステージ19はX、Yおよびθ方向に粗、微動可能な台であり、その投影レンズ15側の面には、ウエーハWをバキュームチャックするウエーハチャック21が設けられている。なお、ウエーハステージ19の位置は干渉計ミラー23、干渉計25によって常にモニターされている。
また、記憶装置29は、例えばハードディスクやRAM、ROM等で構成されている。例えば、ハードディスクやRAMには、製品の種類毎、工程毎の回路パターン情報(以下、「CADデータ」ともいう。)等が格納されており、ROMには投影露光装置100全体の制御に係るプログラム等が格納されている。これら主要ユニットを含め、投影露光装置100全体のコントロールは演算制御ユニット27が司っている。
図2(A)および(B)は、液晶ディスプレイ50の構成例を示す平面図および断面図である。図2(A)および(B)に示すように、液晶ディスプレイ50は例えば2枚の液晶パネル30、40で構成されている。液晶パネル30は、例えばアクティブマトリクス型またはパッシブマトリクス型の液晶表示装置であり、平面視でX方向およびY方向にそれぞれ配列された多数の画素31を有し、各画素31は電気的制御によって白、黒を選択的に表示することが可能となっている。また、液晶パネル40も、例えばアクティブマトリクス型またはパッシブマトリクス型の液晶表示装置であり、平面視でX方向およびY方向にそれぞれ配列された多数の画素41を有し、各画素41は電気的制御によって白、黒を選択的に表示することが可能となっている。
図2(A)および(B)に示すように、液晶パネル30の画素31の形状およびその大きさは、液晶パネル40の画素41の形状およびその大きさと同じであり、且つ、画素31の配列およびその間隔も画素41の配列およびその間隔と同じである。そして、この液晶ディスプレイ50では、画素31間の空白域32が、画素41と平面視で重なるように、液晶パネル40が液晶パネル30に対して平面視でX方向およびY方向にそれぞれ半ピッチずれた状態で重なり合っており、画素41に黒を表示させることで、画素31間の空白域32を通過した光の一部を画素41で遮ることができるようになっている。
例えば、レチクルとして機能する液晶ディスプレイ50に、一例として黒で文字「R」を表示させる場合には、図3(A)および(B)に示すように、液晶パネル30、40にそれぞれ黒で文字「R」を表示させる。すると、図4に示すように、液晶ディスプレイ50に空白域の少ない黒文字のパターン「R」を表示させることができる。
例えば、レチクルとして機能する液晶ディスプレイ50に、一例として黒で文字「R」を表示させる場合には、図3(A)および(B)に示すように、液晶パネル30、40にそれぞれ黒で文字「R」を表示させる。すると、図4に示すように、液晶ディスプレイ50に空白域の少ない黒文字のパターン「R」を表示させることができる。
図5は、液晶ディスプレイ50に回路パターンを表示させる際のフローを示す図である。図5のステップS1では、まず始めに、処理する製品の種類とその工程とに関する情報が演算制御ユニット27に入力される。そして、この入力データに基づいて演算制御ユニット27は、対応するCADデータを記憶装置29から読み込んで、塗り潰し領域(即ち、遮光領域)の抽出を行う。次に、ステップS2では、演算制御ユニット27が塗り潰し領域が有るか無いかを確認する。
ここで、塗り潰し領域が無いこと(即ち、CADデータの異常)が確認された場合にはステップS5へ進む。ステップS5では、投影露光装置100が備えるモニター画面や、スピーカー等を通して作業者にエラーの発生を通知する。また、塗り潰し領域が有ること(即ち、CADデータの正常)が確認された場合にはステップS3へ進む。ステップS3では、演算制御ユニット27が、塗り潰し領域に対応したピクセルデータを用いて液晶の画素を反転させるようデータ変換を行う。そして、ステップS4では、演算制御ユニット27が液晶ディスプレイ50に画素反転に関するデータを転送する。このようなフローにより、2枚の液晶パネル30、40からなる液晶ディスプレイ50に、例えば図4に示したような回路パターンを表示させる。
このように、本発明の第1実施形態に係る投影露光装置100によれば、液晶パネル30の画素31間の空白域32を液晶パネル40の画素41で埋めることができ、空白域32を通過した光を画素41で遮光することができる。従って、画素間の空白域を原因とするフォトレジストの意図しない感光を防止することができる。
この第1実施形態では、液晶パネル30が本発明の「第1液晶パネル」に対応し、液晶パネル40が本発明の「第2液晶パネル」に対応し、液晶ディスプレイ50が本発明の「フォトマスク」に対応している。また、演算制御ユニット27が本発明の「マスク制御手段」に対応し、投影露光装置100が本発明の「露光装置」に対応している。
この第1実施形態では、液晶パネル30が本発明の「第1液晶パネル」に対応し、液晶パネル40が本発明の「第2液晶パネル」に対応し、液晶ディスプレイ50が本発明の「フォトマスク」に対応している。また、演算制御ユニット27が本発明の「マスク制御手段」に対応し、投影露光装置100が本発明の「露光装置」に対応している。
(2)第2実施形態
図6は、本発明の第2実施形態に係る露光装置200の構成例を示す概念図である。図6において、図1に示した投影露光装置100と同一の構成および機能を有する部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図6は、本発明の第2実施形態に係る露光装置200の構成例を示す概念図である。図6において、図1に示した投影露光装置100と同一の構成および機能を有する部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図6に示すように、この露光装置200は、照明11と、スプリッター28と、液晶ディスプレイ150と、LCDステージ13と、投影レンズ15と、倍率補正機構17と、フォーカス/チルト検出器18と、ステージ19と、ウエーハチャック21と、干渉計ミラー23および干渉計25と、演算制御ユニット27と、記憶装置29と、を含んだ構成となっている。これらの中で、液晶ディスプレイ150は反射型の画像表示装置であり、レチクルとして機能するものである。
図6に示すように、液晶ディスプレイ150は液晶パネル30、40と反射板60とで構成されている。照明11から照射された光は、スプリッター28によって上方向に反射され、液晶ディスプレイ150に垂直に入射し、液晶パネル40と液晶パネル30とを透過して反射板60に至る。そして、反射板60で光は下方向に反射され、液晶パネル30と液晶パネル40とを再び透過する。この間、液晶ディスプレイ150は演算制御ユニット27によって画素毎に透過/遮蔽の制御が行われ、液晶ディスプレイ150には任意の回路パターンが表示され続ける。そのため、液晶ディスプレイ150から出てくる光には回路パターンが反映されており、この光はスプリッター28を通り、投影レンズ15を通ってステージ方向に縮小投影される。
このように、本発明の第2実施形態に係る露光装置200によれば、第1実施形態と同様に、液晶パネル30の画素31間の空白域32を液晶パネル40の画素41で埋めることができ、空白域32を通過した光を画素41で遮光することができるので、フォトレジストの意図しない感光を防止することができる。
この第2実施形態では、液晶パネル30が本発明の「第1液晶パネル」に対応し、液晶パネル40が本発明の「第2液晶パネル」に対応し、液晶ディスプレイ150が本発明の「フォトマスク」に対応している。また、演算制御ユニット27が本発明の「マスク制御手段」に対応し、露光装置200が本発明の「露光装置」に対応している。
この第2実施形態では、液晶パネル30が本発明の「第1液晶パネル」に対応し、液晶パネル40が本発明の「第2液晶パネル」に対応し、液晶ディスプレイ150が本発明の「フォトマスク」に対応している。また、演算制御ユニット27が本発明の「マスク制御手段」に対応し、露光装置200が本発明の「露光装置」に対応している。
なお、上記の第1、第2実施形態では、2枚の液晶パネル30、40を重ね合わせて液晶ディスプレイ50、150をそれぞれ構成する場合について説明したが、液晶パネルの積層枚数は2枚に限られることはない。例えば、液晶パネル30、40と同一の構成を有する第3、第4の液晶パネルを上記2枚の液晶パネル30、40に積層して液晶ディスプレイを構成しても良い。
例えば、図7に示すように、第3の液晶パネルの画素71が画素31に対して平面視でX方向に半ピッチずれるように、且つ、第4の液晶パネルの画素81が画素31に対して平面視でY方向に半ピッチずれるように、第3の液晶パネルと第4の液晶パネルとを上記2枚の液晶パネルに重ね合わせると良い。このような構成であれば、画素31間の空白域32を画素41、71、81で完全に埋め込むことができるので、空白域32を原因とするフォトレジストの意図しない感光を完全に防止することができる。
11 照明、13 ステージ、15 投影レンズ、17 倍率補正機構、18 チルト検出器、19 ウエーハステージ、21 ウエーハチャック、23 干渉計ミラー、25 干渉計、27 演算制御ユニット、28 スプリッター、29 記憶装置、30、40 液晶パネル、31、41、71、81 画素、32 空白域、50、150 液晶ディスプレイ、60 反射板、100 投影露光装置、200 露光装置、W ウエーハ
Claims (4)
- フォトレジストにパターンを転写するために露光装置に取り付けられて使用されるフォトマスクであって、
2次元に配列された複数個の第1画素を有する第1液晶パネルと、
2次元に配列された複数個の第2画素を有する第2液晶パネルと、を備え、
前記第1画素間の空白域が前記第2画素と平面視で重なるように前記第1液晶パネルと前記第2液晶パネルとが重なり合った状態で使用される、ことを特徴とするフォトマスク。 - 前記第2画素の形状およびその大きさは前記第1画素の形状およびその大きさと同じであり、且つ、
前記第2画素の配列およびその間隔は前記第1画素の配列およびその間隔と同じであり、
前記第1液晶パネルと前記第2液晶パネルとが重なり合った状態で、前記第2画素の配列が前記第1画素の配列に対して平面視でずれている、ことを特徴とする請求項1に記載のフォトマスク。 - 前記第1画素の配列に対する前記第2画素の配列のずれ量は、
一方の前記第1画素の中心から、当該一方と隣り合う他方の前記第1画素の中心までの距離の半分であることを特徴とする請求項2に記載のフォトマスク。 - フォトレジストにパターンを転写する露光装置であって、
請求項1から請求項3の何れか一項に記載の前記フォトマスクと、
前記第1液晶パネルと前記第2液晶パネルとを制御して前記フォトマスクに平面視で任意の回路パターンを表示させるマスク制御手段と、を備えたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006236013A JP2008060363A (ja) | 2006-08-31 | 2006-08-31 | フォトマスクおよび露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006236013A JP2008060363A (ja) | 2006-08-31 | 2006-08-31 | フォトマスクおよび露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008060363A true JP2008060363A (ja) | 2008-03-13 |
Family
ID=39242747
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006236013A Pending JP2008060363A (ja) | 2006-08-31 | 2006-08-31 | フォトマスクおよび露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008060363A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219219A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Alpha- Design Kk | 電子部品剥離装置及び電子部品剥離方法 |
-
2006
- 2006-08-31 JP JP2006236013A patent/JP2008060363A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010219219A (ja) * | 2009-03-16 | 2010-09-30 | Alpha- Design Kk | 電子部品剥離装置及び電子部品剥離方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6509955B2 (en) | Lens system for maskless photolithography | |
JP2005284046A (ja) | パターンずれ量検出方法及び露光装置 | |
JP2010169704A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2011118155A (ja) | 露光装置 | |
CN101339362A (zh) | 灰阶掩模的缺陷修正方法、灰阶掩模及其制造方法 | |
JP2009031561A (ja) | 投影露光装置及び分割露光方法 | |
JP2005020001A (ja) | マスクレス・リソグラフィのための投影光学系 | |
JP2018010211A (ja) | マスク、計測方法、露光方法、及び、物品製造方法 | |
JP5697188B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
KR102471802B1 (ko) | 포토마스크, 포토마스크 제조 방법, 및 포토마스크를 사용한 컬러 필터의 제조 방법 | |
JP5404619B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4731886B2 (ja) | 液晶表示装置用基板の製造方法 | |
JP2008060363A (ja) | フォトマスクおよび露光装置 | |
JP2011008201A (ja) | 表示装置の製造方法および液晶表示装置 | |
JP2004184921A (ja) | 露光装置 | |
JP2008233594A (ja) | 電気光学装置 | |
JP2001110719A (ja) | 露光方法 | |
TW201248337A (en) | Light exposure device and light shield board | |
KR102020934B1 (ko) | 마스크리스 노광 장치의 얼라인 방법 | |
KR20120100209A (ko) | 마스크리스 노광 장치와 이를 이용한 스티칭 노광 방법 | |
JP2010066486A (ja) | 大型lcos表示素子及びその製造方法 | |
JPH0423314A (ja) | 露光装置 | |
CN110967920A (zh) | 双光掩膜和曝光方法 | |
JP4120789B2 (ja) | 半導体プロセスにおける転写露光方法 | |
JP2664551B2 (ja) | 配線基板の露光処理方法 |