JP2008059727A - Tool for work holder, work holder and manufacturing method of glass substrate for magnetic disk - Google Patents

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JP2008059727A JP2006238331A JP2006238331A JP2008059727A JP 2008059727 A JP2008059727 A JP 2008059727A JP 2006238331 A JP2006238331 A JP 2006238331A JP 2006238331 A JP2006238331 A JP 2006238331A JP 2008059727 A JP2008059727 A JP 2008059727A
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隆一 鹿島
Futoshi Osada
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the number of lamination when the inner peripheral parts thereof are polished while tolerance and roundness of inner holes of the glass substrates are enhanced. <P>SOLUTION: End surfaces of a plurality of laminated glass substrates 10 interposed between an upper plate 104 and a lower plate 101 and fixed to a work holder 100 are polished and the upper plate 104 and the lower plate 101 are connected by using a connection part 102 while at least one of the upper plate 104 and the lower plate 101 of the work holder 100 is pressed to the other side so that the upper plate 104 and the lower plate 101 positioned at both ends of the plurality of glass substrates 10 are kept parallel to each other by using a tool 300 for work holder for connecting the work holder 100 fixing positions of the plurality of laminated glass substrates 10. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の内周端面の研磨に関する。なお、本件出願にいう上下方向は通常の使用態様における上下であって、必ずしも重力方向に対する上下方向ではない。   The present invention relates to polishing of an inner peripheral end face of a magnetic disk glass substrate. In addition, the up-down direction referred to in the present application is the up-down direction in a normal use mode, and is not necessarily the up-down direction with respect to the gravity direction.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性および基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。   In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. An aluminum substrate has been widely used as a substrate for a magnetic recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) which is one of the magnetic recording media. However, with the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks, glass substrates that are superior in substrate surface flatness and substrate strength compared to aluminum substrates are gradually being replaced.

また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)、大型磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が8nm程度にまで狭くなってきている。このため磁気ディスク面上に凹凸形状があると磁気ヘッドが衝突するクラッシュ障害や、空気の断熱圧縮または接触により加熱して読み出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害を生じる場合がある。上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。特許文献1(特開平10−154321号公報)では、基板の外周および内周端面を鏡面に到るまで研磨することにより、基板端面におけるパーティクルの発生や吸着を防止し、上記問題を解決できるとしている。   As the magnetic recording technology has been increased in density, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head). The flying height from is narrowed to about 8 nm. For this reason, if there is an uneven shape on the magnetic disk surface, there may be a crash failure in which the magnetic head collides, or a thermal asperity failure that causes a read error due to adiabatic compression or contact of air. Under the circumstances as described above, the importance of the smoothness of the end face of the substrate has been recognized conventionally. In Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 10-154321), it is possible to prevent generation and adsorption of particles on the substrate end surface by polishing the outer periphery and inner peripheral end surface of the substrate until they reach the mirror surface, thereby solving the above problem. Yes.

ガラス基板の内周端面を研磨するための構成としては、特許文献2(特開平11−221742号公報)に記されているような回転ブラシによる研磨方法が知られている。この従来の研磨方法は、円盤状のガラス基板1を積層して円柱状とし、連通した内孔に回転ブラシ50を挿入し、研磨液を供給しながらガラス基板1と回転ブラシ50とをそれぞれ回転させることによって、内周端面を研磨するものである。
特開平10−154321号公報 特開平11−221742号公報
As a configuration for polishing the inner peripheral end face of the glass substrate, a polishing method using a rotating brush as described in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-221742) is known. In this conventional polishing method, a disk-shaped glass substrate 1 is laminated into a cylindrical shape, and a rotating brush 50 is inserted into a communicating inner hole, and the glass substrate 1 and the rotating brush 50 are rotated while supplying a polishing liquid. By doing so, the inner peripheral end face is polished.
JP-A-10-154321 JP-A-11-221742

最近では、記録密度をより一層向上させるために、垂直磁気記録方式が採用されつつある。この垂直磁気記録媒体の場合には、面内磁気記録方式の場合と比べて、ガラス基板の影響がより顕著に現れやすい。このため、ガラス基板としては、より一層の低粗さと平坦度、形状の精度が求められる。なかでも、ハードディスクの読み書き速度の向上のために磁気ディスクの回転速度は速くなる傾向にあり、磁気ディスクの回転の重心は極めて重要であるため、内孔(内周端面)の寸法公差の小ささや真円度の高さ、ひいてはスピンドルとのはめあい公差の小ささが求められる。   Recently, in order to further improve the recording density, a perpendicular magnetic recording system is being adopted. In the case of this perpendicular magnetic recording medium, the influence of the glass substrate tends to appear more conspicuously than in the case of the in-plane magnetic recording system. For this reason, the glass substrate is required to have lower roughness, flatness, and shape accuracy. In particular, the rotational speed of the magnetic disk tends to increase in order to improve the read / write speed of the hard disk, and the center of gravity of the rotation of the magnetic disk is extremely important, so the dimensional tolerance of the inner hole (inner peripheral end face) is small. A high roundness, and therefore a small tolerance for fitting with the spindle is required.

一方、近年は特に携帯電話やデジタルカメラ、携帯型音楽再生機などにも小型のハードディスクが搭載される要請があり、磁気ディスクには一層の小型化、高記録密度化、および低コスト化が求められている。   On the other hand, in recent years, there has been a demand for small hard disks to be mounted especially on mobile phones, digital cameras, portable music players, etc., and magnetic disks are required to be further downsized, higher in recording density, and lower in cost. It has been.

ここで、ガラス基板の内周端面を研磨するにあたり、生産コストを低廉化するためには、研磨の際に積層する枚数を増加させることが考えられる。例えば今まで100枚ずつ積層して研磨していたところを、300枚ずつ積層して研磨すれば、単純には1/3のタクト(処理時間)で生産をすることが可能となる。しかし、積層枚数を増加させるほどに、内孔の公差や真円度は低下してしまう傾向にある。   Here, in order to reduce the production cost in polishing the inner peripheral end face of the glass substrate, it is conceivable to increase the number of sheets to be laminated at the time of polishing. For example, if 300 sheets are stacked and polished up to now, if 300 sheets are stacked and polished, production can be simply performed with 1/3 tact (processing time). However, as the number of stacked layers is increased, the tolerance and roundness of the inner holes tend to decrease.

そこで本発明は、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、内周研磨の際の積層枚数を増加させることが可能なワークホルダ用治具、ワークホルダ、および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。   Accordingly, the present invention provides a work holder jig, a work holder, and a magnetic disk glass capable of increasing the number of laminated layers at the time of inner circumferential polishing while improving the tolerance and roundness of the inner hole of the glass substrate. It aims at providing the manufacturing method of a board | substrate.

本発明の発明者らは、上記問題について鋭意検討した結果、内周研磨をする際に積層した複数枚のガラス基板が傾いていると、内孔の公差や真円度が低下してしまうことを突き止めた。そして、この問題を解決するために研磨工程を検討した結果、ワークホルダにガラス基板を積層して保持させる段階において、ガラス基板の枚数が増えると、ガラス基板の中心軸とワークホルダの回転軸との一致の度合いが低下しやすいという事実を突き止めた。そして、ワークホルダの上側支持部を締結固定する際に、ガラス基板を直立した状態で保持しておくことによりガラス基板の中心軸とワークホルダの回転軸との一致の度合いを向上させることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies on the above problems, the inventors of the present invention have found that the tolerance and roundness of the inner hole are reduced when a plurality of laminated glass substrates are tilted during inner circumference polishing. I found out. And as a result of examining the polishing process to solve this problem, when the number of glass substrates increases in the stage of stacking and holding the glass substrates on the work holder, the central axis of the glass substrate and the rotation axis of the work holder I found out the fact that the degree of coincidence is likely to decrease. When the upper support portion of the work holder is fastened and fixed, the degree of coincidence between the central axis of the glass substrate and the rotation axis of the work holder can be improved by holding the glass substrate in an upright state. As a result, the present invention has been completed.

すなわち上記課題を解決するために、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、積層された複数枚のガラス基板を上板と下板とで挟み、前記上板と下板とを接続部で接続することにより、前記積層された複数枚のガラス基板の位置を固定するワークホルダを接続するためのワークホルダ用治具を用いて、前記複数枚のガラス基板の両端にある上板と下板とが、互いに平行な状態を維持されるように、ワークホルダの上板と下板との少なくとも一方を他方側に押圧し、前記上板と下板とを接続部で接続し、前記上板と下板に挟持されてワークホルダに固定されたガラス基板の端面を研磨することを特徴とする。   That is, in order to solve the above problems, a typical configuration of the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is to sandwich a plurality of laminated glass substrates between an upper plate and a lower plate, Both ends of the plurality of glass substrates using a work holder jig for connecting a work holder for fixing the positions of the plurality of laminated glass substrates by connecting the lower plate with a connecting portion So that the upper plate and the lower plate are maintained parallel to each other, at least one of the upper plate and the lower plate of the work holder is pressed to the other side, and the upper plate and the lower plate are connected to each other. And the end face of the glass substrate sandwiched between the upper plate and the lower plate and fixed to the work holder is polished.

本発明に係るワークホルダ用治具の代表的な構成は、下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、下側支持部と上側支持部との間に複数枚のガラス基板を積層した状態で保持するワークホルダにガラス基板を保持させるための治具であって、ワークホルダを直立した状態で載置しうる架台と、ワークホルダの上側支持部を下側支持部に向かって、当該上側支持部と下側支持部とが互いに平行な状態を維持されるように押圧する押圧部とを備えたことを特徴とする。ここで、ワークホルダが直立しているということは、ワークホルダの回転軸と架台の載置面とが垂直となっていることを意味している。   A representative configuration of the work holder jig according to the present invention includes a lower support portion, an upper frame connected to the lower support portion, and an upper support portion fastened and fixed to the upper frame, A jig for holding a glass substrate on a work holder that holds a plurality of glass substrates stacked between a lower support portion and an upper support portion, and is placed in a state where the work holder stands upright. And a pressing portion that presses the upper support portion of the work holder toward the lower support portion so that the upper support portion and the lower support portion are maintained parallel to each other. Features. Here, the fact that the work holder stands upright means that the rotation axis of the work holder and the mounting surface of the gantry are perpendicular to each other.

上記構成によれば、ワークホルダにおいて上側支持部を締結固定する際に、積層したガラス基板を直立した状態で保持することができ、ガラス基板の中心軸とワークホルダの回転軸との一致の度合いを向上させることができる。   According to the above configuration, when the upper support portion is fastened and fixed in the work holder, the laminated glass substrates can be held in an upright state, and the degree of coincidence between the central axis of the glass substrate and the rotation axis of the work holder Can be improved.

押圧部はエアシリンダーによって構成することができる。機構を簡略に構成することができ、また過剰に押圧力を印加してガラス基板を損傷させることを防止することができる。   The pressing part can be constituted by an air cylinder. The mechanism can be configured in a simple manner, and an excessive pressing force can be prevented from damaging the glass substrate.

また上記課題を解決するために、本発明に係るワークホルダの代表的な構成は、下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、中心の内孔にセンターシャフトを挿通して複数枚積層したガラス基板を下側支持部と上側支持部との間に保持するワークホルダにおいて、センターシャフトと嵌合する嵌合穴を備えた位置決め部材を備え、位置決め部材にはセンターシャフトの軸方向に延びるピンまたはボス穴を設け、上側支持部にはセンターシャフトの軸方向に延びるボス穴またはピンを設け、位置決め部材のピンまたはボス穴は、上側支持部のボス穴またはピンに挿抜可能であることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a typical configuration of the work holder according to the present invention includes a lower support part, an upper frame connected to the lower support part, and an upper side fastened and fixed to the upper frame. Fitting that fits with the center shaft in a work holder that holds a glass substrate laminated between a lower support portion and an upper support portion by inserting a center shaft into a central inner hole and holding the glass substrate between the lower support portion and the upper support portion. A positioning member having a hole is provided, the positioning member is provided with a pin or boss hole extending in the axial direction of the center shaft, and the upper support portion is provided with a boss hole or pin extending in the axial direction of the center shaft. Alternatively, the boss hole can be inserted into and removed from the boss hole or pin of the upper support portion.

上記構成によれば、ワークホルダの上部において上側支持部とセンターシャフトとの位置精度を担保することができ、センターシャフトを抜き取りやすく、また位置決め部材を抜いて取り外すことにより内周研磨の際に上側支持部をも研磨してしまうことを防止することができる。   According to the above configuration, it is possible to ensure the positional accuracy between the upper support portion and the center shaft at the upper part of the work holder, and it is easy to pull out the center shaft. It is possible to prevent the support portion from being polished.

本発明によれば、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、内周研磨の際の積層枚数を増加させることができる。また作業性が向上し、ワークホルダにガラス基板を保持させるために必要な作業時間の短縮を図ることができる。さらにセンターシャフトを抜き取る際のガラス基板の損傷を防止し、生産性を向上させることができる。これらのことから、ガラス基板の品質の向上と、生産コストの低廉化を図ることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the number of lamination | stacking in the case of inner periphery grinding | polishing can be increased, improving the tolerance and roundness of the inner hole of a glass substrate. Moreover, workability | operativity improves and it can aim at shortening of the working time required in order to make a work holder hold | maintain a glass substrate. Further, the glass substrate can be prevented from being damaged when the center shaft is pulled out, and the productivity can be improved. For these reasons, it is possible to improve the quality of the glass substrate and reduce the production cost.

本発明に係るワークホルダ用治具、ワークホルダ、および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の実施形態について説明する。図1は内周端面研磨装置を説明する図、図2および図3はワークホルダを説明する図、図4はワークホルダ用治具を説明する図、図5はワークホルダ用治具を用いてガラス基板を保持する工程を説明する図、図6はワークホルダにガラス基板を保持させる際の作業を説明するフローチャートである。上記従来例と説明の重複する部分については同一の符号を付して説明を省略する。なお、以下の実施形態に示す具体的な寸法、形状、材質、その他の数値などは発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。   Embodiments of a method for manufacturing a work holder jig, a work holder, and a magnetic disk glass substrate according to the present invention will be described. FIG. 1 is a diagram illustrating an inner peripheral end surface polishing apparatus, FIGS. 2 and 3 are diagrams illustrating a work holder, FIG. 4 is a diagram illustrating a work holder jig, and FIG. 5 is a diagram using a work holder jig. FIG. 6 is a flowchart for explaining a process for holding the glass substrate. FIG. 6 is a flowchart for explaining the work for holding the glass substrate on the work holder. Portions overlapping with those in the conventional example are given the same reference numerals and description thereof is omitted. Note that specific dimensions, shapes, materials, and other numerical values shown in the following embodiments are merely examples for facilitating the understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. .

図1に示す研磨装置1は、複数枚のガラス基板の内周端面を研磨する装置である。複数枚のガラス基板10を積層した状態で保持するワークホルダ100は、ボルト208などの固定手段によってテーブル201に固定される。ガラス基板10は複数枚(例えば100〜300枚)が積層され、下側支持部101と上側支持部104との間で挟持されている。テーブル201は土台202に対して回転可能に構成されている。テーブル201はワークホルダ100を直立させた状態で載置可能であり、ワークホルダ100はその回転軸(すなわち、ガラス基板の中心軸)とテーブル201の回転軸とを一致させた状態で固定される。なお「直立」とは、ワークホルダ100の回転軸と土台202の載置面とが垂直となっていることを意味している。   A polishing apparatus 1 shown in FIG. 1 is an apparatus for polishing inner peripheral end surfaces of a plurality of glass substrates. The work holder 100 that holds the plurality of glass substrates 10 in a stacked state is fixed to the table 201 by fixing means such as a bolt 208. A plurality of glass substrates 10 (for example, 100 to 300) are laminated and sandwiched between the lower support portion 101 and the upper support portion 104. The table 201 is configured to be rotatable with respect to the base 202. The table 201 can be placed with the work holder 100 standing upright, and the work holder 100 is fixed in a state in which the rotation axis (that is, the central axis of the glass substrate) and the rotation axis of the table 201 are aligned. . “Upright” means that the rotation axis of the work holder 100 and the mounting surface of the base 202 are perpendicular to each other.

ワークホルダ100に保持されたガラス基板10の内孔にはブラシ203が挿通されている。ブラシ203のブラシ軸204は上端が駆動軸205によって回転駆動され、下端がブラシ下端支持部206によって回転可能に支持されている。そしてブラシ203は回転駆動されながら上下方向にも揺動されることにより、ガラス基板10の内周端面を研磨する。研磨の際には、ノズル207から研磨砥粒を混入したスラリーを供給する。   A brush 203 is inserted into the inner hole of the glass substrate 10 held by the work holder 100. The brush shaft 204 of the brush 203 is rotationally driven by a drive shaft 205 at its upper end and is rotatably supported by a brush lower end support portion 206 at its lower end. The brush 203 is also swung in the vertical direction while being driven to rotate, thereby polishing the inner peripheral end surface of the glass substrate 10. At the time of polishing, a slurry mixed with abrasive grains is supplied from the nozzle 207.

次に、図2〜図5および図6のフローチャートを用いて、ワークホルダ100およびワークホルダ用治具の構成について説明しながら、あわせてワークホルダ100にガラス基板を保持する工程について説明する。   Next, the steps of holding the glass substrate on the work holder 100 will be described while explaining the configurations of the work holder 100 and the work holder jig, using the flowcharts of FIGS. 2 to 5 and FIG. 6.

図2(a)に示すセンターシャフト110は、ガラス基板10の内孔とほぼ等しい径を有する主軸部110aと、主軸部110aよりも径の太い基底部110bとを備えている。そして基底部110bに乗せるように下部スペーサ111を挿通し、その上に複数枚のガラス基板10の内孔を嵌合させつつ挿通し、積層する(S101)。ガラス基板10同士の間には、傷付き防止のために不織布などからなるスペーサ113を介している。所定枚数のガラス基板10を積層すると、最後(最上部)に上部スペーサ112を載置する。下部スペーサ111および上部スペーサ112は、例えばポリアセタールなどの樹脂で構成することができる。   The center shaft 110 shown in FIG. 2A includes a main shaft portion 110a having a diameter substantially equal to the inner hole of the glass substrate 10, and a base portion 110b having a diameter larger than that of the main shaft portion 110a. Then, the lower spacer 111 is inserted so as to be put on the base portion 110b, and the inner holes of the plurality of glass substrates 10 are inserted and laminated thereon (S101). Between the glass substrates 10, a spacer 113 made of a nonwoven fabric or the like is interposed to prevent scratches. When a predetermined number of glass substrates 10 are stacked, the upper spacer 112 is placed at the end (uppermost portion). The lower spacer 111 and the upper spacer 112 can be made of a resin such as polyacetal, for example.

図2(b)に示すワークホルダ100は、下側支持部101と、この下側支持部101に支柱102によって連結された上枠103と、上枠103に締結固定される上側支持部104とを備えている。すなわち下側支持部101から上枠までは固定的に構成されているが、上側支持部104はガラス基板10を内部に格納してから締結する部材である。   2B includes a lower support portion 101, an upper frame 103 connected to the lower support portion 101 by a support column 102, and an upper support portion 104 fastened and fixed to the upper frame 103. It has. That is, the lower support portion 101 to the upper frame are fixedly configured, but the upper support portion 104 is a member that is fastened after the glass substrate 10 is stored therein.

下側支持部101は、下面101a(研磨装置1のテーブル201に当接する面)とワークホルダ100の中心軸が垂直をなすように形成されている。また下側支持部101の中心にはセンターシャフト110の基底部110bと嵌合する穴101bが形成されている。穴101bの中心軸は、ワークホルダ100の中心軸と同一軸となっている。   The lower support portion 101 is formed such that the lower surface 101a (the surface that contacts the table 201 of the polishing apparatus 1) and the center axis of the work holder 100 are perpendicular to each other. In addition, a hole 101 b that fits with the base portion 110 b of the center shaft 110 is formed at the center of the lower support portion 101. The central axis of the hole 101 b is the same axis as the central axis of the work holder 100.

支柱102は、下側支持部101の下面101aに対して垂直に固定されている。換言すれば、支柱102とワークホルダの中心軸は平行となっている。   The support column 102 is fixed perpendicularly to the lower surface 101 a of the lower support portion 101. In other words, the support 102 and the center axis of the work holder are parallel.

上枠103は、図2(c)に示すように、中心部にガラス基板を挿入可能な大きさの穴103aが形成されている。また上側支持部104を締結するためのローレットボルト105と、位置決め部材106のピン106bを挿入するためのボス穴103bを備えている。   As shown in FIG. 2C, the upper frame 103 is formed with a hole 103a having a size capable of inserting a glass substrate at the center. Further, a knurled bolt 105 for fastening the upper support portion 104 and a boss hole 103b for inserting the pin 106b of the positioning member 106 are provided.

上側支持部104は、図2(d)に示すように、中心部にブラシ203を挿入可能な大きさの穴104aが形成されている。穴104aの大きさは、ガラス基板10の内孔の径より大きく、かつ外周の径より小さければよい。また上側支持部104には、ローレットボルト105によって締結するための変形穴104bを備えている。変形穴はローレットボルト105の頭を挿入しうる大径部分と、締結しうる小径の長孔部分とを備えており、ローレットボルト105を上枠103から取り外すことなく上側支持部104を取り付けることが可能となっている。また上側支持部104は、位置決め部材106のピン106bを挿入するためのボス穴104cを備えている。   As shown in FIG. 2D, the upper support portion 104 is formed with a hole 104a having a size capable of inserting the brush 203 in the center portion. The size of the hole 104a may be larger than the diameter of the inner hole of the glass substrate 10 and smaller than the diameter of the outer periphery. Further, the upper support portion 104 is provided with a deformation hole 104 b for fastening with a knurled bolt 105. The deformation hole has a large-diameter portion into which the head of the knurled bolt 105 can be inserted, and a small-diameter long hole portion that can be fastened. The upper support portion 104 can be attached without removing the knurled bolt 105 from the upper frame 103. It is possible. The upper support portion 104 includes a boss hole 104c for inserting the pin 106b of the positioning member 106.

位置決め部材106は、上側支持部104を締結固定する際に、センターシャフト110の上端を位置決めするものである。図2(e)に示すように、位置決め部材106の中心にはセンターシャフトと嵌合する嵌合穴106aが設けられ、上記ボス穴103b、104cに挿抜可能なピン106bを下方に突出するように設けている。また位置決め部材106の上面には、後述するワークホルダ用治具のプッシャーが当接するための段部106cを備えている。位置決め部材106のピン106bをボス穴103b、104cに挿通したとき、嵌合穴106aに保持されたセンターシャフト110の中心軸は、ワークホルダ100の中心軸と同一軸となる。   The positioning member 106 positions the upper end of the center shaft 110 when the upper support portion 104 is fastened and fixed. As shown in FIG. 2 (e), a fitting hole 106a for fitting with the center shaft is provided at the center of the positioning member 106 so that the pin 106b that can be inserted into and removed from the boss holes 103b and 104c protrudes downward. Provided. Further, on the upper surface of the positioning member 106, a step portion 106c for abutting a pusher of a work holder jig to be described later is provided. When the pin 106b of the positioning member 106 is inserted into the boss holes 103b and 104c, the center axis of the center shaft 110 held in the fitting hole 106a is the same axis as the center axis of the work holder 100.

次に図3(a)に示すように、積層したガラス基板10をセンターシャフト110を直立させて下側支持部101の上に載置する(S102)。すなわち、積層したガラス基板10をワークホルダ100の内部に挿入し、センターシャフト110の基底部110bを下側支持部101の穴101bに嵌合させる。そしてガラス基板10の上に上側支持部104を載置する(S103)。このときローレットボルト105は変形穴104bの長孔部分に組み合わせるが、まだ締め付けず、緩んだ状態となっている。そして位置決め部材106を、嵌合穴106aにセンターシャフト110を嵌合させつつ、ピン106bをボス穴103b、104cに挿入する。   Next, as shown in FIG. 3A, the laminated glass substrate 10 is placed on the lower support portion 101 with the center shaft 110 standing upright (S102). That is, the laminated glass substrate 10 is inserted into the work holder 100, and the base portion 110 b of the center shaft 110 is fitted into the hole 101 b of the lower support portion 101. And the upper side support part 104 is mounted on the glass substrate 10 (S103). At this time, the knurled bolt 105 is combined with the elongated hole portion of the deformation hole 104b, but is not yet tightened and is in a loose state. The positioning member 106 is inserted into the boss holes 103b and 104c while the center shaft 110 is fitted into the fitting hole 106a.

このようにしてワークホルダ100は、図3(b)に示すように、一連の部材が積み重ねられた状態となる。上記状態においてローレットボルト105を締め付けることによってガラス基板10を固定するのであるが、このとき図4に示すワークホルダ用治具300を用いる。   In this way, the work holder 100 is in a state in which a series of members are stacked as shown in FIG. In this state, the glass substrate 10 is fixed by tightening the knurled bolt 105. At this time, a work holder jig 300 shown in FIG. 4 is used.

図4に示すワークホルダ用治具300は、枠体301の下部にワークホルダ100を直立した状態で載置しうる架台302を備え、枠体301の上部にワークホルダ100の上側支持部104を下側支持部101に向かって押圧する押圧部303を備えている。ここで「直立」とは、ワークホルダ100の中心軸が架台302の載置面(上面)に対して垂直となっていることを意味している。   A work holder jig 300 shown in FIG. 4 includes a gantry 302 on which a work holder 100 can be placed in an upright state at a lower portion of a frame body 301, and an upper support portion 104 of the work holder 100 is mounted on an upper portion of the frame body 301. A pressing portion 303 that presses toward the lower support portion 101 is provided. Here, “upright” means that the central axis of the work holder 100 is perpendicular to the mounting surface (upper surface) of the gantry 302.

押圧部303はエアシリンダーであって、プッシャー304をワークホルダ100に対して進退可能となっている。プッシャー304は位置決め部材106を介して上側支持部104を押圧する構成となっており、位置決め部材106の段部106cに当接する。なお押圧部303による押圧方向(プッシャー304の移動方向)は、載置されたワークホルダ100の中心軸と一致している。   The pressing part 303 is an air cylinder, and the pusher 304 can be advanced and retracted with respect to the work holder 100. The pusher 304 is configured to press the upper support portion 104 via the positioning member 106, and comes into contact with the stepped portion 106 c of the positioning member 106. Note that the pressing direction by the pressing portion 303 (the moving direction of the pusher 304) coincides with the central axis of the work holder 100 placed.

そして図4に示すようにワークホルダ100を架台302の上に載置し(S104)、図5(a)に示すように位置決め部材106(すなわち上側支持部104)を押圧部303によって下側支持部101に向かって押圧する(S105)。プッシャー304の下面と、これに当接する段部106cの上面とは、いずれもワークホルダ100の中心軸に対して垂直となっている。従ってプッシャー304が位置決め部材106を押圧するとき、ガラス基板は全方向に均等に押圧される。ガラス基板10の間にはさまれたスペーサ113はわずかに弾性を生じるため、積層されたガラス基板10はその高さを圧縮される。この状態で作業者ローレットボルト105を回して、上側支持部104を上枠103に締結固定する(S106)。   Then, the work holder 100 is placed on the mount 302 as shown in FIG. 4 (S104), and the positioning member 106 (that is, the upper support portion 104) is supported on the lower side by the pressing portion 303 as shown in FIG. Press toward the part 101 (S105). Both the lower surface of the pusher 304 and the upper surface of the stepped portion 106 c in contact with the pusher 304 are perpendicular to the central axis of the work holder 100. Therefore, when the pusher 304 presses the positioning member 106, the glass substrate is pressed evenly in all directions. Since the spacer 113 sandwiched between the glass substrates 10 is slightly elastic, the stacked glass substrates 10 are compressed in height. In this state, the operator knurled bolt 105 is turned to fasten and fix the upper support portion 104 to the upper frame 103 (S106).

そして図5(b)に示すように、押圧部303による押圧を解除してから(S107)、ワークホルダ100から位置決め部材106を取り外し、センターシャフト110を下方から抜き取る(S108)。押圧を解除すると、積層されたガラス基板10はスペーサ113の弾性回復力によって全体として膨張するから下側支持部101と上側支持部104との間に強固に挟持される。そして、図1において説明した研磨装置1にワークホルダ100を取り付け、積層されたガラス基板10の内周端面を研磨する(S109)。   And as shown in FIG.5 (b), after canceling the press by the press part 303 (S107), the positioning member 106 is removed from the work holder 100, and the center shaft 110 is extracted from the downward direction (S108). When the pressing is released, the laminated glass substrate 10 expands as a whole by the elastic recovery force of the spacer 113, and is thus firmly held between the lower support portion 101 and the upper support portion 104. Then, the work holder 100 is attached to the polishing apparatus 1 described with reference to FIG. 1, and the inner peripheral end face of the laminated glass substrate 10 is polished (S109).

すなわち上記構成によれば、積層された複数枚のガラス基板10を上板(上側支持部104)と下板(下側支持部101)とで挟み、上板と下板とを接続部(支柱102)で接続することにより、積層された複数枚のガラス基板10の位置を固定するワークホルダ100を接続するためのワークホルダ用治具300を用いて、複数枚のガラス基板10の両端にある上板と下板とが互いに平行な状態を維持されるように、ワークホルダ100の上板と下板との少なくとも一方を他方側に押圧し、上板と下板とを接続部(ローレットボルト105)で接続し、上板と下板に挟持されてワークホルダ100に固定されたガラス基板の端面を研磨する。   That is, according to the above configuration, the plurality of laminated glass substrates 10 are sandwiched between the upper plate (upper support portion 104) and the lower plate (lower support portion 101), and the upper plate and the lower plate are connected to the connection portion (the support column). 102), by using the work holder jig 300 for connecting the work holders 100 for fixing the positions of the plurality of laminated glass substrates 10 at the both ends of the plurality of glass substrates 10. At least one of the upper plate and the lower plate of the work holder 100 is pressed to the other side so that the upper plate and the lower plate are kept parallel to each other, and the upper plate and the lower plate are connected to each other (knurl bolt). 105), and the end face of the glass substrate that is sandwiched between the upper plate and the lower plate and fixed to the work holder 100 is polished.

ここで、仮にワークホルダ用治具300を用いなかった場合には、作業者が手作業にてローレットボルト105を締め付けることによってガラス基板10を固定することとなる。しかしローレットボルト105は本実施例では3箇所(実際には4箇所の構成もある)設けられているため、均等に締め付けることは難しい。締め付け力に不均等があると、きつく締めた側に積層されたガラス基板が傾き、緩く締めた側の上側支持部104が浮く状態となる。このようにガラス基板に傾きが生じると、各部の寸法公差は極めて少なく設定されていることから、センターシャフト110を抜くことが極めて困難となってしまい、無理に引き抜けば割れや欠けなどの損傷を与えてしまう。そこでローレットボルト105を緩めに締めた状態で先にセンターシャフト110を引き抜き、さらにローレットボルト105を増し締めしてガラス基板を保持することも考えられるが、ガラス基板10が傾いた状態となりやすく、研磨装置1にかけた場合に内孔の公差や真円度が低下してしまう原因となる。   Here, if the work holder jig 300 is not used, the operator fixes the glass substrate 10 by manually tightening the knurled bolt 105. However, since the knurled bolts 105 are provided in this embodiment in three places (actually, there are also four places), it is difficult to tighten them evenly. If the tightening force is uneven, the glass substrate laminated on the tightly tightened side is inclined, and the upper support portion 104 on the loosely tightened side is in a floating state. If the glass substrate is tilted in this way, the dimensional tolerances of each part are set to be extremely small, so that it becomes extremely difficult to pull out the center shaft 110, and if it is pulled out forcibly, damage such as cracks and chips will occur. Will be given. Therefore, it is conceivable that the center shaft 110 is first pulled out while the knurled bolt 105 is loosely tightened, and the knurled bolt 105 is further tightened to hold the glass substrate. However, the glass substrate 10 tends to be tilted and polished. When applied to the device 1, the tolerance and roundness of the inner hole are reduced.

これに対し、本実施形態のようにワークホルダ用治具300を用いることにより、ワークホルダ100において上側支持部104を締結固定する際に、積層したガラス基板10を直立した状態で保持することができ、ガラス基板10の中心軸とワークホルダ100の回転軸との一致の度合いを向上させることができる。このためローレットボルト105を確実に締めた後であってもセンターシャフト110を容易に抜き取ることができると共に、ワークホルダ100の中心軸とガラス基板の中心軸とを一致させることができる。   On the other hand, by using the work holder jig 300 as in the present embodiment, when the upper support 104 is fastened and fixed in the work holder 100, the stacked glass substrates 10 can be held in an upright state. The degree of coincidence between the central axis of the glass substrate 10 and the rotation axis of the work holder 100 can be improved. For this reason, even after the knurled bolt 105 has been securely tightened, the center shaft 110 can be easily pulled out, and the center axis of the work holder 100 can coincide with the center axis of the glass substrate.

このことは、ガラス基板の枚数を増加させた場合にも全く同様に作用するため、枚数を増加させてもセンターシャフト110を容易に抜き取ることができ、ガラス基板の直立を確保することができる。従って一度の研磨工程で処理できるガラス基板の枚数を増やすことができ、作業効率を向上させ、生産コストを低減させることができる。   This also works in the same way when the number of glass substrates is increased. Therefore, the center shaft 110 can be easily pulled out even when the number of glass substrates is increased, and the glass substrate can be kept upright. Accordingly, it is possible to increase the number of glass substrates that can be processed in one polishing step, improve working efficiency, and reduce production costs.

また、手作業の場合と比べて、平均的にワークホルダ100でガラス基板を保持する作業は手作業では2〜3分かかるところ、本実施形態の構成では20秒程度であり、作業時間の短縮を図ることができる。またセンターシャフト110を引き抜く際にガラス基板を損傷することがないため、生産効率と品質を向上することができる。   Compared to the case of manual work, the work of holding the glass substrate with the work holder 100 on average takes 2-3 minutes in the manual work, but in the configuration of the present embodiment, it takes about 20 seconds, thus shortening the work time. Can be achieved. Further, since the glass substrate is not damaged when the center shaft 110 is pulled out, the production efficiency and quality can be improved.

[実施例]
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクは、0.8インチ型ディスク(内径6mm、外径21.6mm、板厚0.381mm)、1.0インチ型ディスク(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)、1.8インチ型磁気ディスク(内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、2.5インチ型ディスクや3.5インチ型ディスクとして製造してもよい。
[Example]
Examples of a glass substrate for a magnetic disk and a method for manufacturing the magnetic disk to which the present invention is applied will be described below. This glass substrate for magnetic disk and magnetic disk are 0.8 inch type disk (inner diameter 6 mm, outer diameter 21.6 mm, plate thickness 0.381 mm), 1.0 inch type disk (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm, It is manufactured as a magnetic disk having a predetermined shape such as a plate thickness of 0.381 mm) and a 1.8 inch type magnetic disk (inner diameter of 12 mm, outer diameter of 48 mm, plate thickness of 0.508 mm). Further, it may be manufactured as a 2.5 inch type disc or a 3.5 inch type disc.

(1)形状加工工程および第1ラッピング工程
本実施例に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、板状ガラスの表面をラッピング(研削)加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。板状ガラスの材質としては、アモルファスガラスやガラスセラミクス(結晶化ガラス)を利用できる。板状ガラスの材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等を用いることができる。特にアモルファスガラスとしては、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を供給することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。
(1) Shape processing step and first lapping step In the method of manufacturing a magnetic disk glass substrate according to this example, first, the surface of the plate glass is lapped (ground) to obtain a glass base material. Cut the material and cut out the glass disc. Various plate glasses can be used as the plate glass. This plate-like glass can be manufactured by using a known manufacturing method such as a press method, a float method, a downdraw method, a redraw method, or a fusion method using a molten glass as a material. Of these, plate glass can be produced at low cost by using the pressing method. As the material of the plate glass, amorphous glass or glass ceramics (crystallized glass) can be used. As the material for the plate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, or the like can be used. In particular, as an amorphous glass, an aluminosilicate glass can be preferably used in that it can be chemically strengthened and a magnetic disk substrate excellent in flatness of the main surface and substrate strength can be supplied.

本実施例においては、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。 In this example, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a barrel mold to obtain an amorphous plate glass. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% Chemically strengthened glass contained as

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed on both sides of the plate glass from above and below, the grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relative to each other for lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

(2)切り出し工程(コアリング、フォーミング、チャンファリング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング、チャンファリング)。
(2) Cutting process (coring, forming, chamfering)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, an inner hole was formed in the center of the glass substrate to obtain an annular glass substrate (coring). Then, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming, chamfering).

(3)第2ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(3) Second Lapping Step Next, a second lapping process was performed on both main surfaces of the obtained glass substrate in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping step, it is possible to remove in advance the fine unevenness formed on the main surface in the cutting step and end surface polishing step, which are the previous steps, and shorten the subsequent polishing step on the main surface. Will be able to be completed in time.

(4)端面研磨工程
次に、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。
(4) End surface grinding | polishing process Next, mirror polishing was performed with the brush grinding | polishing method about the outer peripheral end surface of the glass substrate. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used.

内周端面については、上述したようにワークホルダ100にガラス基板10を保持させて、図1に示した研磨装置1を用いて研磨を行った。このときの工程について図6に示すフローチャートに基づいて説明する。   The inner peripheral end face was polished by using the polishing apparatus 1 shown in FIG. 1 while holding the glass substrate 10 on the work holder 100 as described above. The process at this time will be described based on the flowchart shown in FIG.

すなわち、まず図2(a)に示すようにセンターシャフト110にガラス基板10の内孔を挿通しつつ積層する(S101)。図3(a)に示すように積層したガラス基板10をセンターシャフト110を直立させて下側支持部101の上に載置する(S102)。図3(b)に示すようにガラス基板10の上に上側支持部104を載置する(S103)。図4に示すようにワークホルダ100を架台302の上に載置し(S104)、図5(a)に示すように上側支持部104を押圧部303によって下側支持部101に向かって押圧する(S105)。ローレットボルト105を回して、上側支持部104を上枠103に締結固定する(S106)。図5(b)に示すように、押圧部303による押圧を解除してから(S107)、ワークホルダ100から位置決め部材106を取り外し、センターシャフト110を下方から抜き取る(S108)。図1に示す研磨装置1にワークホルダ100を取り付け、積層されたガラス基板10の内周端面を研磨する(S109)。   That is, first, as shown in FIG. 2A, the center shaft 110 is laminated while inserting the inner hole of the glass substrate 10 (S101). As shown in FIG. 3A, the laminated glass substrate 10 is placed on the lower support portion 101 with the center shaft 110 standing upright (S102). As shown in FIG.3 (b), the upper side support part 104 is mounted on the glass substrate 10 (S103). As shown in FIG. 4, the work holder 100 is placed on the mount 302 (S <b> 104), and the upper support portion 104 is pressed toward the lower support portion 101 by the pressing portion 303 as shown in FIG. 5A. (S105). The knurled bolt 105 is turned to fasten and fix the upper support portion 104 to the upper frame 103 (S106). As shown in FIG. 5B, after the pressing by the pressing portion 303 is released (S107), the positioning member 106 is removed from the work holder 100, and the center shaft 110 is extracted from below (S108). The work holder 100 is attached to the polishing apparatus 1 shown in FIG. 1, and the inner peripheral end face of the laminated glass substrate 10 is polished (S109).

そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。特に内周端面は、200〜300枚ほどの多数枚を積層して研磨した場合であっても、内孔の公差や真円度が低下することなく良好な状態であった。   And the glass substrate which finished the end surface grinding | polishing process was washed with water. By this end face polishing step, the end face of the glass substrate was processed into a mirror state that can prevent the precipitation of sodium and potassium. In particular, the inner peripheral end face was in a good state without a decrease in tolerance and roundness of the inner hole even when a large number of about 200 to 300 sheets were laminated and polished.

(5)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(5) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.

この第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   The glass substrate which finished this 1st grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) one by one, and was wash | cleaned.

次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。   Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed using a soft foamed resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   The glass substrate which finished this 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) sequentially, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(6)化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
(6) Chemical strengthening process Next, the glass substrate which finished the above-mentioned lapping process and polishing process was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C., and the cleaned glass substrate is preheated to 300 ° C. And was immersed in the chemical strengthening solution for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate, it was performed in a state of being housed in a holder so that a plurality of glass substrates were held at the end surfaces.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100μm乃至200μmであった。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate is strengthened. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate was about 100 μm to 200 μm.

化学強化処理を終えたガラス基板を、20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約40℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。   The glass substrate that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a 20 ° C. water bath and rapidly cooled, and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Further, the glass substrate after the sulfuric acid cleaning was cleaned by immersing in a cleaning bath of pure water and IPA (isopropyl alcohol) sequentially.

上記の如く、第1ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第2ラッピング工程、第1および第2研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。   As described above, a flat and smooth, high-rigidity magnetic disk is obtained by performing the first lapping step, the cutting step, the end surface polishing step, the second lapping step, the first and second polishing steps, and the chemical strengthening step. A glass substrate was obtained.

(7)磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
(7) Magnetic disk manufacturing process On both surfaces of the glass substrate obtained through the above-described processes, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, and a CoCrPt group on the surface of the glass substrate A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of an alloy, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、特に内周端面の研磨において利用することができる。   The present invention can be used in a method for producing a glass substrate for a magnetic disk, particularly in polishing an inner peripheral end face.

内周端面研磨装置を説明する図である。It is a figure explaining an inner peripheral end surface grinding | polishing apparatus. ワークホルダを説明する図である。It is a figure explaining a work holder. ワークホルダを説明する図である。It is a figure explaining a work holder. ワークホルダ用治具を説明する図である。It is a figure explaining the jig | tool for workpiece holders. ワークホルダ用治具を用いてガラス基板を保持する工程を説明する図である。It is a figure explaining the process of hold | maintaining a glass substrate using the jig | tool for work holders. ワークホルダにガラス基板を保持させる際の作業を説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the operation | work at the time of making a work holder hold | maintain a glass substrate.

符号の説明Explanation of symbols

1 …研磨装置
10 …ガラス基板
100 …ワークホルダ
101 …下側支持部
101a …下面
101b …穴
102 …支柱
103 …上枠
103a …穴
103b …ボス穴
104 …上側支持部
104a …穴
104b …変形穴
104c …ボス穴
105 …ローレットボルト
105b …変形穴
106 …位置決め部材
106a …嵌合穴
106b …ピン
106c …段部
110 …センターシャフト
110a …主軸部
110b …基底部
111 …下部スペーサ
112 …上部スペーサ
113 …スペーサ
201 …テーブル
202 …土台
203 …ブラシ
204 …ブラシ軸
205 …駆動軸
206 …ブラシ下端支持部
207 …ノズル
208 …ボルト
300 …ワークホルダ用治具
301 …枠体
302 …架台
303 …押圧部
304 …プッシャー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polishing apparatus 10 ... Glass substrate 100 ... Work holder 101 ... Lower side support part 101a ... Lower surface 101b ... Hole 102 ... Strut 103 ... Upper frame 103a ... Hole 103b ... Boss hole 104 ... Upper support part 104a ... Hole 104b ... Deformation hole 104c ... Boss hole 105 ... Knurled bolt 105b ... Deformation hole 106 ... Positioning member 106a ... Fitting hole 106b ... Pin 106c ... Step part 110 ... Center shaft 110a ... Main shaft part 110b ... Base part 111 ... Lower spacer 112 ... Upper spacer 113 ... Spacer 201 ... Table 202 ... Base 203 ... Brush 204 ... Brush shaft 205 ... Drive shaft 206 ... Brush lower end support part 207 ... Nozzle 208 ... Bolt 300 ... Work holder jig 301 ... Frame 302 ... Base 303 ... Pressing part 304 ... Pusher

Claims (4)

積層された複数枚のガラス基板を上板と下板とで挟み、前記上板と下板とを接続部で接続することにより、前記積層された複数枚のガラス基板の位置を固定するワークホルダを接続するためのワークホルダ用治具を用いて、前記複数枚のガラス基板の両端にある上板と下板とが、互いに平行な状態を維持されるように、ワークホルダの上板と下板との少なくとも一方を他方側に押圧し、
前記上板と下板とを接続部で接続し、
前記上板と下板に挟持されてワークホルダに固定されたガラス基板の端面を研磨することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
A work holder that fixes the position of the plurality of laminated glass substrates by sandwiching the plurality of laminated glass substrates between an upper plate and a lower plate and connecting the upper plate and the lower plate at a connecting portion. The upper and lower plates of the work holder are maintained so that the upper plate and the lower plate at both ends of the plurality of glass substrates are maintained parallel to each other. Pressing at least one of the plates against the other side,
The upper plate and the lower plate are connected by a connecting portion,
A method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, comprising polishing an end surface of a glass substrate sandwiched between the upper plate and the lower plate and fixed to a work holder.
下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、前記下側支持部と上側支持部との間に複数枚のガラス基板を積層した状態で保持するワークホルダにガラス基板を保持させるための治具であって、
前記ワークホルダを直立した状態で載置しうる架台と、
前記ワークホルダの上側支持部を前記下側支持部に向かって、当該上側支持部と下側支持部とが互いに平行な状態を維持されるように押圧する押圧部とを備えたことを特徴とするワークホルダ用治具。
A lower support part, an upper frame connected to the lower support part, and an upper support part fastened and fixed to the upper frame, and a plurality of sheets between the lower support part and the upper support part A jig for holding a glass substrate on a work holder that holds the glass substrate in a stacked state,
A platform on which the work holder can be placed in an upright state;
A pressing portion that presses the upper support portion of the work holder toward the lower support portion so that the upper support portion and the lower support portion are maintained in a mutually parallel state. Work holder jig.
前記押圧部はエアシリンダーを備えることを特徴とする請求項1記載のワークホルダ用治具。   The work holder jig according to claim 1, wherein the pressing portion includes an air cylinder. 下側支持部と、該下側支持部と接続された上枠と、該上枠に締結固定される上側支持部とを備え、中心の内孔にセンターシャフトを挿通して複数枚積層したガラス基板を前記下側支持部と上側支持部との間に保持するワークホルダにおいて、
前記センターシャフトと嵌合する嵌合穴を備えた位置決め部材を備え、
前記位置決め部材には前記センターシャフトの軸方向に延びるピンまたはボス穴を設け、
前記上側支持部には前記センターシャフトの軸方向に延びるボス穴またはピンを設け、
前記位置決め部材のピンまたはボス穴は、前記上側支持部のボス穴またはピンに挿抜可能であることを特徴とするワークホルダ。
A glass comprising a lower support portion, an upper frame connected to the lower support portion, and an upper support portion fastened and fixed to the upper frame, and a plurality of layers laminated by inserting a center shaft into a central inner hole In the work holder that holds the substrate between the lower support portion and the upper support portion,
A positioning member having a fitting hole for fitting with the center shaft;
The positioning member is provided with a pin or boss hole extending in the axial direction of the center shaft,
The upper support part is provided with a boss hole or pin extending in the axial direction of the center shaft,
The work holder, wherein the pin or boss hole of the positioning member can be inserted into and removed from the boss hole or pin of the upper support part.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011230276A (en) * 2010-04-30 2011-11-17 Asahi Glass Co Ltd Work holder for glass substrate laminate, method for making glass substrate using the work holder, glass substrate made by the making method, method for making glass substrate for magnetic recording medium using the work holder, and glass substrate for magnetic recording medium
JP2012003824A (en) * 2010-06-18 2012-01-05 Asahi Glass Co Ltd Work holder for glass substrate laminate, and method for manufacturing glass substrate using work holder and glass substrate manufactured by the same for magnetic recording medium
CN103009241A (en) * 2011-09-26 2013-04-03 旭硝子株式会社 A glass substrate lamination tool, a glass substrate end surface polishing method, and a manufacturing method of the glass substrate

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011230276A (en) * 2010-04-30 2011-11-17 Asahi Glass Co Ltd Work holder for glass substrate laminate, method for making glass substrate using the work holder, glass substrate made by the making method, method for making glass substrate for magnetic recording medium using the work holder, and glass substrate for magnetic recording medium
JP2012003824A (en) * 2010-06-18 2012-01-05 Asahi Glass Co Ltd Work holder for glass substrate laminate, and method for manufacturing glass substrate using work holder and glass substrate manufactured by the same for magnetic recording medium
CN103009241A (en) * 2011-09-26 2013-04-03 旭硝子株式会社 A glass substrate lamination tool, a glass substrate end surface polishing method, and a manufacturing method of the glass substrate

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