JP2008059728A - Inner peripheral edge surface polishing device of glass substrate for magnetic disk, manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, and manufacturing method of magnetic disk - Google Patents

Inner peripheral edge surface polishing device of glass substrate for magnetic disk, manufacturing method of glass substrate for magnetic disk, and manufacturing method of magnetic disk Download PDF

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JP2008059728A JP2006238332A JP2006238332A JP2008059728A JP 2008059728 A JP2008059728 A JP 2008059728A JP 2006238332 A JP2006238332 A JP 2006238332A JP 2006238332 A JP2006238332 A JP 2006238332A JP 2008059728 A JP2008059728 A JP 2008059728A
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隆一 鹿島
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce operation time while tolerance and roundness of inner holes of glass substrates are enhanced in polishing an inner peripheral edge surface of the glass substrates for magnetic disks. <P>SOLUTION: A manufacturing method of the glass substrates for the magnetic disks having the inner holes at a center thereof includes a step for fixing a work holder 100 to a table 201 of an inner peripheral edge surface polishing device 1 so that a center axis of the plurality of glass substrates 10 laminated in the work holder 100 and a rotational axis of a polishing means 203 polishing the connected inner holes of the glass substrates 10 are aligned with each other and a step for rotating the table 201 and the polishing means 203 to polish the inner peripheral edge surfaces of the glass substrates 10. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の内周端面の研磨に関する。   The present invention relates to polishing of an inner peripheral end face of a magnetic disk glass substrate.

近年、情報化技術の高度化に伴い、情報記録技術、特に磁気記録技術は著しく進歩している。磁気記録媒体のひとつであるHDD(ハードディスクドライブ)等の磁気記録媒体用基板としては、アルミニウム基板が広く用いられてきた。しかし磁気ディスクの小型化、薄板化、および高密度記録化に伴い、アルミニウム基板に比べ基板表面の平坦性および基板強度に優れたガラス基板に徐々に置き換わりつつある。   In recent years, with the advancement of information technology, information recording technology, particularly magnetic recording technology, has made remarkable progress. An aluminum substrate has been widely used as a substrate for a magnetic recording medium such as an HDD (Hard Disk Drive) which is one of the magnetic recording media. However, with the miniaturization, thinning, and high-density recording of magnetic disks, glass substrates that are superior in substrate surface flatness and substrate strength compared to aluminum substrates are gradually being replaced.

また、磁気記録技術の高密度化に伴い、磁気ヘッドの方も薄膜ヘッドから、磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)、大型磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)へと推移してきており、磁気ヘッドの基板からの浮上量が8nm程度にまで狭くなってきている。このため磁気ディスク面上に凹凸形状があると磁気ヘッドが衝突するクラッシュ障害や、空気の断熱圧縮または接触により加熱して読み出しエラーを生じるサーマルアスペリティ障害を生じる場合がある。上記のような状況において、従来からも、基板端面の平滑性についての重要性が認められていた。特許文献1(特開平10−154321号公報)では、基板の外周および内周端面を鏡面に到るまで研磨することにより、基板端面におけるパーティクルの発生や吸着を防止し、上記問題を解決できるとしている。   As the magnetic recording technology has been increased in density, the magnetic head has been changed from a thin film head to a magnetoresistive head (MR head) and a large magnetoresistive head (GMR head). The flying height from is narrowed to about 8 nm. For this reason, if there is an uneven shape on the magnetic disk surface, there may be a crash failure in which the magnetic head collides, or a thermal asperity failure that causes a read error due to adiabatic compression or contact of air. Under the circumstances as described above, the importance of the smoothness of the end face of the substrate has been recognized conventionally. In Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 10-154321), it is possible to prevent generation and adsorption of particles on the substrate end surface by polishing the outer periphery and inner peripheral end surface of the substrate until they reach the mirror surface, thereby solving the above problem. Yes.

ガラス基板の内周端面を研磨するための構成としては、特許文献2(特開平11−221742号公報)に記されているような回転ブラシによる研磨方法が知られている。この従来の研磨方法は、円盤状のガラス基板1を積層して円柱状とし、連通した内孔に回転ブラシ50を挿入し、研磨液(スラリー)を供給しながらガラス基板1と回転ブラシ50とをそれぞれ回転させることによって、内周端面を研磨するものである。
特開平10−154321号公報 特開平11−221742号公報
As a configuration for polishing the inner peripheral end face of the glass substrate, a polishing method using a rotating brush as described in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 11-221742) is known. In this conventional polishing method, a disk-shaped glass substrate 1 is laminated to form a columnar shape, and a rotating brush 50 is inserted into a communicating inner hole, and while supplying a polishing liquid (slurry), the glass substrate 1 and the rotating brush 50 The inner peripheral end face is polished by rotating each of these.
JP-A-10-154321 JP-A-11-221742

最近では、記録密度をより一層向上させるために、垂直磁気記録方式が採用されつつある。この垂直磁気記録媒体の場合には、面内磁気記録方式の場合と比べて、ガラス基板の影響がより顕著に現れやすい。このため、ガラス基板としては、より一層の低粗さと平坦度、形状の精度が求められる。なかでも、ハードディスクの読み書き速度の向上のために磁気ディスクの回転速度は速くなる傾向にあり、磁気ディスクの回転の重心は極めて重要である。このため内孔(内周端面)の寸法公差の小ささや真円度の高さ、ひいてはスピンドルとのはめあい公差の小ささについて、より一層の精度が求められている。   Recently, in order to further improve the recording density, a perpendicular magnetic recording system is being adopted. In the case of this perpendicular magnetic recording medium, the influence of the glass substrate tends to appear more conspicuously than in the case of the in-plane magnetic recording system. For this reason, the glass substrate is required to have lower roughness, flatness, and shape accuracy. In particular, the rotational speed of the magnetic disk tends to increase in order to improve the read / write speed of the hard disk, and the center of gravity of the rotation of the magnetic disk is extremely important. For this reason, there is a demand for higher accuracy with respect to the small dimensional tolerance and the high roundness of the inner hole (inner peripheral end face), and thus the small fitting tolerance with the spindle.

一方、近年は特に携帯電話やデジタルカメラ、携帯型音楽再生機などにも小型のハードディスクが搭載される要請があり、磁気ディスクには一層の小型化、高記録密度化、および低コスト化が求められている。   On the other hand, in recent years, there has been a demand for small hard disks to be mounted especially on mobile phones, digital cameras, portable music players, etc., and magnetic disks are required to be further downsized, higher in recording density, and lower in cost. It has been.

ここで、ガラス基板の内周端面を研磨するにあたり、生産コストの低減を図るためには、研磨の際の作業時間を短縮することが考えられる。しかし、高精度に加工するためにはワーク(ガラス基板)の研磨装置に対する取り付けも高精度に行う必要があり、それに応じた作業時間が必要となってしまう。また作業時間短縮と同様に、研磨の際に積層する枚数を増加させることも考えられる。例えば今まで100枚ずつ積層して研磨していたところを、300枚ずつ積層して研磨すれば、単純には1/3のタクト(処理時間)で生産をすることが可能となる。しかし、積層枚数を増加させるほどに、公差や真円度は低下してしまう傾向にある。   Here, in order to reduce the production cost in polishing the inner peripheral end face of the glass substrate, it is conceivable to shorten the working time during polishing. However, in order to process with high accuracy, it is necessary to attach the workpiece (glass substrate) to the polishing apparatus with high accuracy, and work time corresponding to that is required. Further, as in the case of shortening the work time, it is also conceivable to increase the number of stacked layers during polishing. For example, if 300 sheets are stacked and polished up to now, if 300 sheets are stacked and polished, production can be simply performed with 1/3 tact (processing time). However, as the number of stacked layers is increased, tolerance and roundness tend to decrease.

そこで本発明は、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間の短縮を図ることが可能な磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法を提供することを目的としている。   Accordingly, the present invention provides a glass disk substrate inner surface polishing apparatus and a magnetic disk glass substrate capable of reducing working time while improving tolerance and roundness of the inner hole of the glass substrate. It is an object to provide a method and a method of manufacturing a magnetic disk.

本発明の発明者らは、上記問題について鋭意検討した結果、内周研磨をする際にガラス基板を保持したワークホルダがテーブルに対して偏心したり傾いたりしていると、内孔の公差や真円度が低下してしまうことを突き止めた。特に傾いていると、積層枚数を増加させた際に公差等の低下が著しくなってしまう。そして、この問題を解決するために研磨工程を検討した結果、ワークホルダを内周端面研磨装置に固定する段階において、ワークホルダの中心軸と研磨手段の中心軸とを一致させる固定手段を用いることにより、これらの一致の度合いを向上させることができると共に、作業時間の短縮を図ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   The inventors of the present invention have made extensive studies on the above problems, and as a result, when the work holder holding the glass substrate is decentered or tilted with respect to the table when polishing the inner circumference, the tolerance of the inner hole and I found out that the roundness would decrease. In particular, when it is inclined, the tolerance and the like are significantly reduced when the number of stacked layers is increased. Then, as a result of examining the polishing process to solve this problem, in the stage of fixing the work holder to the inner peripheral end surface polishing apparatus, a fixing means for matching the central axis of the work holder with the central axis of the polishing means is used. Thus, it has been found that the degree of coincidence can be improved and the working time can be shortened, and the present invention has been completed.

すなわち上記課題を解決するために、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の代表的な構成は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ワークホルダに積層された複数のガラス基板の中心軸と、ガラス基板の連通した内孔を研磨する研磨手段の回転軸とが一致するように、内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程と、テーブルおよび研磨手段を回転させてガラス基板の内周端面を研磨する工程とを含むことを特徴とする。   That is, in order to solve the above problems, a typical configuration of a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention is laminated on a work holder in the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having an inner hole at the center. A step of fixing a work holder to a table of an inner peripheral end surface polishing apparatus so that a central axis of a plurality of glass substrates and a rotation axis of a polishing means for polishing an inner hole communicating with the glass substrates are aligned; And rotating the means to polish the inner peripheral end face of the glass substrate.

上記構成によれば、ワークホルダを研磨装置のテーブルに固定するだけで、ガラス基板の中心軸と研磨手段の回転軸とを一致させることができる。従ってガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間の短縮を図ることができる。   According to the said structure, the center axis | shaft of a glass substrate and the rotating shaft of a grinding | polishing means can be corresponded only by fixing a work holder to the table | surface of a grinding | polishing apparatus. Therefore, the working time can be shortened while improving the tolerance and roundness of the inner hole of the glass substrate.

内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程は、ワークホルダを内周端面研磨装置のテーブルに載置する工程と、テーブルに設けられた固定手段により積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向にワークホルダを固定する工程と、を含んでいてもよい。   The step of fixing the work holder to the table of the inner peripheral end surface polishing apparatus includes the step of placing the work holder on the table of the inner peripheral end surface polishing apparatus, and the central axis of the glass substrate laminated by the fixing means provided on the table. And a step of fixing the work holder in a direction orthogonal to each other.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置の代表的な構成は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、さらにテーブルは、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向にワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、固定手段は、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする。   A typical configuration of an inner peripheral end surface polishing apparatus for a magnetic disk glass substrate according to the present invention is a state in which a plurality of glass substrates are laminated in an inner peripheral end surface polishing apparatus for a magnetic disk glass substrate having an inner hole in the center. A table for supporting the work holder held in step 1, a polishing means for polishing the inner peripheral end surface of the glass substrate by being inserted into an inner hole communicating with the glass substrate and rotating, and a slurry supply means for supplying slurry to the polishing portion The table further includes fixing means for positioning and fixing the work holder in a direction orthogonal to the central axis of the laminated glass substrates, and the fixing means includes the work holder and the central axis of the laminated glass substrates. It is characterized by fixing so that the rotating shaft of a grinding | polishing means may correspond.

固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に位置決め固定する構成としてもよい。または、全周方向からワークホルダの突起部を圧迫することにより、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とを一致させて固定してもよい。または、ワークホルダの突起部に少なくとも2方向から当接する位置決め部材と、ワークホルダの突起部を位置決め部材に付勢する付勢手段とを備えていてもよい。または、ワークホルダの突起部の外周面に形成された雄ねじ部と嵌合する雌ねじ部を備えていてもよい。固定手段の具体的な構成の例である。   The fixing means may be configured to position and fix the protrusion protruding below the work holder in a direction perpendicular to the central axis of the laminated glass substrates. Alternatively, the central axis of the laminated glass substrate and the rotation axis of the polishing means may be aligned and fixed by pressing the protrusion of the work holder from the entire circumferential direction. Or you may provide the positioning member which contact | abuts to the projection part of a work holder from at least 2 directions, and the urging means which urges the projection part of a work holder to a positioning member. Or you may provide the internal thread part fitted with the external thread part formed in the outer peripheral surface of the protrusion part of a work holder. It is an example of the concrete structure of a fixing means.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置の他の代表的な構成は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、さらに前記テーブルは、ワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、前記固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を全周方向から圧迫することにより、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする。   Another typical configuration of the inner peripheral end surface polishing apparatus for a magnetic disk glass substrate according to the present invention is a method of laminating a plurality of glass substrates in an inner peripheral end surface polishing apparatus for a magnetic disk glass substrate having an inner hole in the center. A table for supporting the work holder held in a state in which it is held, a polishing means for polishing the inner peripheral end surface of the glass substrate by being inserted into an inner hole communicating with the glass substrate and rotating, and a slurry for supplying slurry to the polishing site And the table further includes a fixing means for positioning and fixing the work holder, and the fixing means presses a projecting portion projecting downward from the work holder from the entire circumferential direction, thereby pressing the work holder. The center axis of the laminated glass substrate is fixed so that the rotation axis of the polishing means coincides.

本発明に係る磁気ディスクの代表的な構成は、上記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする。   A typical configuration of a magnetic disk according to the present invention is characterized in that at least a magnetic layer is formed on the surface of a glass substrate obtained by the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

本発明によれば、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間を短縮し、また内周研磨の際の積層枚数を増加させることにより生産コストを低減させることができる。   According to the present invention, while improving the tolerance and roundness of the inner hole of the glass substrate, the working time can be shortened, and the production cost can be reduced by increasing the number of laminated layers at the time of inner circumference polishing. .

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法の実施形態について説明する。図1は内周端面研磨装置を説明する図、図2〜図5は固定手段を説明する図、図6は参考のための内周端面研磨装置の構成を示す図である。なお、以下の実施形態に示す具体的な寸法、形状、材質、その他の数値などは発明の理解を容易とするための例示に過ぎず、特に断る場合を除き、本発明を限定するものではない。   DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of an inner peripheral end surface polishing apparatus, a magnetic disk glass substrate manufacturing method, and a magnetic disk manufacturing method according to the present invention will be described. FIG. 1 is a diagram illustrating an inner peripheral end surface polishing apparatus, FIGS. 2 to 5 are diagrams illustrating a fixing unit, and FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an inner peripheral end surface polishing apparatus for reference. Note that specific dimensions, shapes, materials, and other numerical values shown in the following embodiments are merely examples for facilitating the understanding of the invention, and do not limit the present invention unless otherwise specified. .

図1に示す研磨装置1は、複数枚のガラス基板の内周端面を研磨する装置である。研磨装置1は、ワークホルダ100を支持して回転するテーブル201と、ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段の例としてのブラシ203とを備えている。テーブル201は土台202に対して回転可能に構成されている。さらに後述するように、テーブル201は、積層されたガラス基板10の中心軸と直交する方向にワークホルダ100を位置決め固定する固定手段200を備えている。   A polishing apparatus 1 shown in FIG. 1 is an apparatus for polishing inner peripheral end surfaces of a plurality of glass substrates. The polishing apparatus 1 includes a table 201 that rotates while supporting the work holder 100, and a brush 203 as an example of a polishing unit that polishes the inner peripheral end surface of the glass substrate. The table 201 is configured to be rotatable with respect to the base 202. Further, as will be described later, the table 201 includes a fixing means 200 that positions and fixes the work holder 100 in a direction orthogonal to the central axis of the laminated glass substrates 10.

ブラシ203はワークホルダ100に保持されたガラス基板10の内孔に挿通されている。ブラシ203のブラシ軸204は上端が駆動軸205によって回転駆動され、下端がブラシ下端支持部206によって回転可能に支持されている。そしてブラシ203は回転駆動されながら上下方向にも揺動されることにより、ガラス基板10の内周端面を研磨する。研磨の際には、研磨部位にスラリー供給手段の例としてのノズル207から研磨砥粒を混入したスラリーを供給する。なお、本実施形態においてはテーブル201およびブラシ203の両方が回転する構成としているが、テーブルまたはブラシのいずれか一方のみが回転する構成としてもよい。   The brush 203 is inserted through the inner hole of the glass substrate 10 held by the work holder 100. The brush shaft 204 of the brush 203 is rotationally driven by a drive shaft 205 at its upper end and is rotatably supported by a brush lower end support portion 206 at its lower end. The brush 203 is also swung in the vertical direction while being driven to rotate, thereby polishing the inner peripheral end surface of the glass substrate 10. At the time of polishing, a slurry mixed with abrasive grains is supplied to a polishing portion from a nozzle 207 as an example of a slurry supply unit. In the present embodiment, both the table 201 and the brush 203 are configured to rotate. However, only one of the table and the brush may be configured to rotate.

ワークホルダ100は、中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板を積層して保持している。ガラス基板10は複数枚(例えば100〜300枚)が積層され、内孔が連通した状態で下側支持部101と上側支持部104との間で挟持されている。下側支持部101の下方には、突起部107が突出して形成されている。突起部107は、本実施形態においては管状体であって、内孔にブラシ203または206を配置可能となっている。   The work holder 100 stacks and holds a magnetic disk glass substrate having an inner hole in the center. A plurality of glass substrates 10 (for example, 100 to 300) are laminated, and are sandwiched between the lower support portion 101 and the upper support portion 104 with the inner holes communicating. Below the lower support portion 101, a protruding portion 107 is formed to protrude. The protrusion 107 is a tubular body in the present embodiment, and the brush 203 or 206 can be disposed in the inner hole.

固定手段200の上面はテーブル201の回転中心に対して直交している。ワークホルダ100の下側支持部101の下面(突起部107以外の部分)は、ワークホルダ100の中心軸(すなわち積層されたガラス基板の中心軸)に対して直交している。従って、固定手段200の上にワークホルダ100を載置することによって、ワークホルダ100の中心軸とテーブル201の回転中心は平行となる。なお、ブラシ203の回転軸は、テーブル201の回転中心に対して平行となっている。   The upper surface of the fixing means 200 is orthogonal to the rotation center of the table 201. The lower surface of the lower support portion 101 of the work holder 100 (portion other than the protruding portion 107) is orthogonal to the central axis of the work holder 100 (that is, the central axis of the laminated glass substrates). Therefore, by placing the work holder 100 on the fixing means 200, the center axis of the work holder 100 and the rotation center of the table 201 become parallel. Note that the rotation axis of the brush 203 is parallel to the rotation center of the table 201.

図2は固定手段200の一例としてのブッシュ210を示す図である。ブッシュ210は、本体211のうち小径の段部211aをテーブル201の穴201aに挿入され、ボルト209などの締結具によってテーブル201に固定されている。ブッシュ210の中心には内孔210aが形成されており、ワークホルダ100の下側支持部101の突起部107を挿入される。   FIG. 2 is a view showing a bush 210 as an example of the fixing means 200. In the bush 210, a step portion 211 a having a small diameter in the main body 211 is inserted into a hole 201 a of the table 201, and is fixed to the table 201 with a fastener such as a bolt 209. An inner hole 210 a is formed at the center of the bush 210, and the protrusion 107 of the lower support portion 101 of the work holder 100 is inserted therein.

図3に示すように、ブッシュ本体211にはねじ穴212が設けられ、ネジ213が外部から回転可能に取り付けられている。ネジ213の内部の空間214には流動性を有する圧力媒体(例えばオイル)が充填されており、空間214は内孔210aを形成するスリーブ216と本体211との隙間215へと通じている。スリーブ216は弾性を有し、隙間215から受ける圧力によって変位する。従って、ネジ213を回転させて移動することにより、空間214、隙間215内の圧力媒体を介してスリーブ216を変位させ、内孔210aの径を変化させることができる。   As shown in FIG. 3, the bush body 211 is provided with a screw hole 212, and a screw 213 is rotatably attached from the outside. A space 214 inside the screw 213 is filled with a fluid pressure medium (for example, oil), and the space 214 communicates with a gap 215 between the sleeve 216 and the main body 211 forming the inner hole 210a. The sleeve 216 has elasticity and is displaced by the pressure received from the gap 215. Therefore, by rotating the screw 213 and moving it, the sleeve 216 can be displaced via the pressure medium in the space 214 and the gap 215, and the diameter of the inner hole 210a can be changed.

ワークホルダ100は作業ごとに交換されるものであるが、ブッシュ210は研磨装置1に固定的に設けられているものである。ブッシュ210のはテーブル201の回転中心に対して直交している。ブッシュの内孔210aの中心軸は、テーブル201の回転中心と同軸になっている。   The work holder 100 is replaced for each work, but the bush 210 is fixedly provided on the polishing apparatus 1. The bush 210 is orthogonal to the rotation center of the table 201. The central axis of the inner hole 210 a of the bush is coaxial with the rotation center of the table 201.

このようなブッシュ210を用いたことにより、ネジ213を回転させるだけで突起部107を全周方向から圧迫し、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に位置決め固定することができる。このとき、突起部107がテーブル201の回転中心からずれていたとしても、全周方向から同様の圧力で締め付けるため、ワークホルダ100を平行移動させて位置を補正することができ、テーブル201の回転中心とワークホルダ100の中心軸(すなわち積層されたガラス基板10の中心軸)とを一致させることができる。すなわち、作業員による位置調整を要することなく、ワークホルダ100を固定しつつ同時に機械的に芯出しをすることができる。   By using such a bush 210, the protrusion 107 can be pressed from the entire circumference only by rotating the screw 213, and can be positioned and fixed in a direction perpendicular to the central axis of the laminated glass substrates. At this time, even if the protrusion 107 is deviated from the rotation center of the table 201, the work holder 100 can be moved in parallel to correct the position by tightening with the same pressure from the entire circumferential direction. The center and the center axis of the work holder 100 (that is, the center axis of the laminated glass substrates 10) can be matched. That is, centering can be performed mechanically while fixing the work holder 100 without requiring position adjustment by an operator.

図6は、参考のための内周端面研磨装置の構成を示す図である。図6においては、固定手段200を設けておらず、下側支持部101をボルト208等によって直接的にテーブル201に固定する構成となっている。下側支持部101の下部には突起部107が設けられており、テーブル201の穴201aに対して所定のはめあい公差をもって嵌合されている。   FIG. 6 is a diagram showing a configuration of an inner peripheral end surface polishing apparatus for reference. In FIG. 6, the fixing means 200 is not provided, and the lower support portion 101 is directly fixed to the table 201 with a bolt 208 or the like. A protrusion 107 is provided at a lower portion of the lower support portion 101 and is fitted to a hole 201a of the table 201 with a predetermined fitting tolerance.

図6の構成にあっては、作業員がまずボルト208を軽く締め、テーブル201を回転させながらワークホルダ100の位置を微調整し、芯が出ていることを確認してからボルト208を最終的に締め付ける。この位置調整には平均的に5分程度かかり、また締め方によってはワークホルダ100に傾きを生じてしまっていた。さらにその精度は、作業員の技能によるところも大きかった。   In the configuration of FIG. 6, the worker first tightens the bolt 208 lightly, finely adjusts the position of the work holder 100 while rotating the table 201, confirms that the core is out, and then tightens the bolt 208. Tighten. This position adjustment takes about 5 minutes on average, and the work holder 100 is inclined depending on the tightening method. In addition, the accuracy depends largely on the skill of the workers.

しかし本実施形態の構成によれば、ワークホルダ100を固定すれば必然的にワークホルダ100の回転軸とテーブル201の回転中心とが一致するため、位置調整にかかる時間は全く不要となり、作業時間の短縮を図ることができ、生産コストを低減させることができる。また締め付け方によるワークホルダ100の傾きも生じることがなく、ワークホルダ100へのガラス基板10の積層枚数を増加させても、ガラス基板が傾いてしまうことを確実に防止できる。従って、ガラス基板の内孔の公差と真円度を向上させつつ、一度に研磨できる枚数を増加させることによっても、生産コストを低減させることができる。   However, according to the configuration of the present embodiment, if the work holder 100 is fixed, the rotation axis of the work holder 100 and the rotation center of the table 201 inevitably coincide with each other. The production cost can be reduced. In addition, the work holder 100 is not inclined due to the tightening method, and even if the number of the glass substrates 10 stacked on the work holder 100 is increased, the glass substrate can be reliably prevented from being inclined. Therefore, the production cost can also be reduced by increasing the number of sheets that can be polished at one time while improving the tolerance and roundness of the inner hole of the glass substrate.

なお、図6の構成において突起部107とテーブルの穴201aのはめあい公差は50μm程度であって、従来までのガラス基板に要求される内孔(内周端面)の加工精度に対しては足りていた。しかし上記課題の項にて説明した如く、内孔(内周端面)の寸法公差の小ささや真円度の高さ、ひいてはスピンドルとのはめあい公差の小ささに高い精度が要求されるようになってきている。本発明はこのような高精度の加工を実現する一端を担うものであって、今後のガラス基板の製造方法として極めて有益である。   In the configuration of FIG. 6, the fitting tolerance between the protrusion 107 and the table hole 201a is about 50 μm, which is sufficient for the processing accuracy of the inner hole (inner peripheral end face) required for the conventional glass substrate. It was. However, as explained in the above section, high accuracy is required for the small dimensional tolerance and roundness of the inner hole (inner peripheral end face) and the small fitting tolerance with the spindle. It is coming. The present invention plays a part in realizing such high-precision processing, and is extremely useful as a method for manufacturing a glass substrate in the future.

図4は固定手段200の他の一例として、ワークホルダ100の突起部に当接する位置決め部材220と、付勢手段の例としてのスイングクランプ221を設けた構成である。図4(a)において、位置決め部材220の上面はテーブル201の回転中心に対して直交しており、この上にワークホルダ100を載置することによって、ワークホルダ100の中心軸とテーブル201の回転中心は平行となる。図4(b)に示すように、位置決め部材220の内孔220aには、一方側に突起部107に当接する2つの当接突起220bを設けており、突起部107をはさんで他方側には移動当接部220cを備えている。   FIG. 4 shows a configuration in which a positioning member 220 that comes into contact with the protrusion of the work holder 100 and a swing clamp 221 as an example of an urging unit are provided as another example of the fixing unit 200. In FIG. 4A, the upper surface of the positioning member 220 is orthogonal to the rotation center of the table 201. By placing the work holder 100 thereon, the rotation of the center axis of the work holder 100 and the table 201 is performed. The center is parallel. As shown in FIG. 4B, the inner hole 220a of the positioning member 220 is provided with two contact protrusions 220b that contact the protrusion 107 on one side, and on the other side across the protrusion 107. Is provided with a moving contact portion 220c.

スイングクランプ221はテーブル201上に取り付けられており、レバー221aを回転させることによってカム221bが回転する。カム221bには長穴が設けられており、移動当接部220cが摺動可能に接続されている。従って、レバー221aを回転させることによって移動当接部220cが突起部107に対して進退し、当接突起220bに突起部107を付勢して固定、または付勢解除して固定解除することができる。   The swing clamp 221 is mounted on the table 201, and the cam 221b rotates by rotating the lever 221a. A long hole is provided in the cam 221b, and the moving contact portion 220c is slidably connected. Therefore, by rotating the lever 221a, the moving contact portion 220c advances and retreats with respect to the projection portion 107, and the projection portion 107 is urged to be fixed to the contact projection 220b, or released from being urged. it can.

ここで当接突起220bは、突起部107が付勢された状態で、テーブル201の回転中心とワークホルダ100の中心軸(すなわち積層されたガラス基板10の中心軸)とが一致する形状に形成されている。すなわち、図4の構成にあっても、ワークホルダ100を固定しつつ同時に機械的に芯出しをすることができる。   Here, the contact protrusion 220b is formed in a shape in which the center of rotation of the table 201 and the center axis of the work holder 100 (that is, the center axis of the laminated glass substrates 10) coincide with the protrusion 107 biased. Has been. That is, even in the configuration of FIG. 4, the work holder 100 can be fixed and mechanically centered at the same time.

図5は固定手段200の他の一例として、ネジ構造を用いて求心固定する構成を示している。図5においてホルダ受け部材224は雌ねじ部224aを備えており、一方、ワークホルダ100の突起部107の外周面には雄ねじ部107aが形成されている。なお、研磨装置1の固定手段というときはホルダ受け部材224のみを指し、雄ねじ部107aおよび突起部107は含まない。   FIG. 5 shows a configuration for centripetal fixing using a screw structure as another example of the fixing means 200. In FIG. 5, the holder receiving member 224 includes a female screw portion 224 a, while a male screw portion 107 a is formed on the outer peripheral surface of the projection 107 of the work holder 100. Note that the fixing means of the polishing apparatus 1 refers only to the holder receiving member 224 and does not include the male screw portion 107a and the protruding portion 107.

ホルダ受け部材224の上面はテーブル201の回転中心に対して直交している。従って、ワークホルダ100を回転させて雄ねじ部107aと雌ねじ部224aを螺合させ、突起部107の下面がホルダ受け部材224の上面と当接するとき、ワークホルダ100の中心軸とテーブル201の回転中心は平行となる。このとき、ネジ構造は締結されるとき雄ねじが雌ねじの中心にくることが保証される。すなわち、図5の構成にあっても、ワークホルダ100を固定しつつ同時に機械的に芯出しをすることができる。   The upper surface of the holder receiving member 224 is orthogonal to the rotation center of the table 201. Accordingly, when the work holder 100 is rotated so that the male screw portion 107a and the female screw portion 224a are screwed together, and the lower surface of the projection 107 comes into contact with the upper surface of the holder receiving member 224, the center axis of the work holder 100 and the rotation center of the table 201 are Are parallel. At this time, the screw structure ensures that the male screw comes to the center of the female screw when fastened. That is, even in the configuration of FIG. 5, the work holder 100 can be fixed and mechanically centered at the same time.

上記説明した如く、本発明の構成によれば、ワークホルダ100を研磨装置1のテーブル201に固定するだけで、ガラス基板10の中心軸とテーブル201の回転中心とを一致させることができる。従って容易かつ確実にガラス基板10の内孔の公差と真円度を向上させつつ、作業時間を短縮して生産コストを低減させることができる。   As described above, according to the configuration of the present invention, the center axis of the glass substrate 10 and the center of rotation of the table 201 can be matched by simply fixing the work holder 100 to the table 201 of the polishing apparatus 1. Therefore, the working time can be shortened and the production cost can be reduced while improving the tolerance and roundness of the inner hole of the glass substrate 10 easily and reliably.

[実施例]
以下に、本発明を適用した磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクの製造方法について実施例を説明する。この磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスクは、0.8インチ型ディスク(内径6mm、外径21.6mm、板厚0.381mm)、1.0インチ型ディスク(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)、1.8インチ型磁気ディスク(内径12mm、外径48mm、板厚0.508mm)などの所定の形状を有する磁気ディスクとして製造される。また、2.5インチ型ディスクや3.5インチ型ディスクとして製造してもよい。
[Example]
Examples of a glass substrate for a magnetic disk and a method for manufacturing the magnetic disk to which the present invention is applied will be described below. This glass substrate for magnetic disk and magnetic disk are 0.8 inch type disk (inner diameter 6 mm, outer diameter 21.6 mm, plate thickness 0.381 mm), 1.0 inch type disk (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm, It is manufactured as a magnetic disk having a predetermined shape such as a plate thickness of 0.381 mm) and a 1.8 inch type magnetic disk (inner diameter of 12 mm, outer diameter of 48 mm, plate thickness of 0.508 mm). Further, it may be manufactured as a 2.5 inch type disc or a 3.5 inch type disc.

(1)形状加工工程および第1ラッピング工程
本実施例に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、板状ガラスの表面をラッピング(研削)加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出す。板状ガラスとしては、様々な板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。板状ガラスの材質としては、アモルファスガラスやガラスセラミクス(結晶化ガラス)を利用できる。板状ガラスの材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等を用いることができる。特にアモルファスガラスとしては、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用基板を供給することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。
(1) Shape processing step and first lapping step In the method of manufacturing a magnetic disk glass substrate according to this example, first, the surface of the plate glass is lapped (ground) to obtain a glass base material. Cut the material and cut out the glass disc. Various plate glasses can be used as the plate glass. This plate-like glass can be manufactured by using a known manufacturing method such as a press method, a float method, a downdraw method, a redraw method, or a fusion method using a molten glass as a material. Of these, plate glass can be produced at low cost by using the pressing method. As the material of the plate glass, amorphous glass or glass ceramics (crystallized glass) can be used. As the material for the plate glass, aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, or the like can be used. In particular, as an amorphous glass, an aluminosilicate glass can be preferably used in that it can be chemically strengthened and a magnetic disk substrate excellent in flatness of the main surface and substrate strength can be supplied.

本実施例においては、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラスを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiO:58〜75重量%、Al:5〜23重量%、LiO:3〜10重量%、NaO:4〜13重量%を主成分として含有する化学強化ガラスを使用した。 In this example, the melted aluminosilicate glass was molded into a disk shape by direct pressing using an upper mold, a lower mold, and a barrel mold to obtain an amorphous plate glass. As the aluminosilicate glass, SiO 2: 58 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5~23 wt%, Li 2 O: 3 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 13 principal component weight% Chemically strengthened glass contained as

次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とした。このラッピング加工は、遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行った。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラスの主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行った。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得た。   Next, both main surfaces of the plate glass were lapped to form a disk-shaped glass base material. This lapping process was performed using alumina free abrasive grains with a double-sided lapping apparatus using a planetary gear mechanism. Specifically, the lapping platen is pressed on both sides of the plate glass from above and below, the grinding liquid containing free abrasive grains is supplied onto the main surface of the plate glass, and these are moved relative to each other for lapping. went. By this lapping process, a glass base material having a flat main surface was obtained.

(2)切り出し工程(コアリング、フォーミング、チャンファリング)
次に、ダイヤモンドカッタを用いてガラス母材を切断し、このガラス母材から円盤状のガラス基板を切り出した。次に、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、このガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とした(コアリング)。そして内周端面および外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施した(フォーミング、チャンファリング)。
(2) Cutting process (coring, forming, chamfering)
Next, the glass base material was cut using a diamond cutter, and a disk-shaped glass substrate was cut out from the glass base material. Next, using a cylindrical diamond drill, an inner hole was formed in the center of the glass substrate to obtain an annular glass substrate (coring). Then, the inner peripheral end face and the outer peripheral end face were ground with a diamond grindstone and subjected to predetermined chamfering (forming, chamfering).

(3)第2ラッピング工程
次に、得られたガラス基板の両主表面について、第1ラッピング工程と同様に、第2ラッピング加工を行った。この第2ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができるようになる。
(3) Second Lapping Step Next, a second lapping process was performed on both main surfaces of the obtained glass substrate in the same manner as in the first lapping step. By performing this second lapping step, it is possible to remove in advance the fine unevenness formed on the main surface in the cutting step and end surface polishing step, which are the previous steps, and shorten the subsequent polishing step on the main surface. Will be able to be completed in time.

(4)端面研磨工程
次に、ガラス基板の外周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては、酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。
(4) End surface grinding | polishing process Next, mirror polishing was performed with the brush grinding | polishing method about the outer peripheral end surface of the glass substrate. At this time, as the abrasive grains, a slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used.

内周端面については、上述したように複数のガラス基板10を積層保持させたワークホルダ100を内周端面研磨装置1のテーブル201に載置する。テーブル201に設けられた固定手段200により積層されたガラス基板10の中心軸と直交する方向にワークホルダ100を固定して、積層されたガラス基板の中心軸と研磨手段の回転軸とを一致させる。そしてガラス基板10の連通した内孔にブラシ203を挿入して、ノズル207よりスラリーを供給しつつ、テーブル201およびブラシ203を回転させてガラス基板10の内周端面を研磨した。   As for the inner peripheral end face, the work holder 100 in which the plurality of glass substrates 10 are laminated and held as described above is placed on the table 201 of the inner peripheral end face polishing apparatus 1. The work holder 100 is fixed in a direction orthogonal to the central axis of the laminated glass substrate 10 by the fixing means 200 provided on the table 201 so that the central axis of the laminated glass substrate and the rotation axis of the polishing means coincide with each other. . Then, the brush 203 was inserted into the inner hole communicated with the glass substrate 10, and the table 201 and the brush 203 were rotated while the slurry was supplied from the nozzle 207 to polish the inner peripheral end surface of the glass substrate 10.

そして、端面研磨工程を終えたガラス基板を水洗浄した。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工された。特に内周端面は、200〜300枚ほどの多数枚を積層して研磨した場合であっても、内孔の公差や真円度が低下することなく良好な状態であった。   And the glass substrate which finished the end surface grinding | polishing process was washed with water. By this end face polishing step, the end face of the glass substrate was processed into a mirror state that can prevent the precipitation of sodium and potassium. In particular, the inner peripheral end face was in a good state without a decrease in tolerance and roundness of the inner hole even when a large number of about 200 to 300 sheets were laminated and polished.

(5)主表面研磨工程
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。この第1研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(5) Main surface polishing step As the main surface polishing step, first, a first polishing step was performed. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the lapping step described above. In the first polishing step, the main surface was polished using a hard resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.

この第1研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   The glass substrate which finished this 1st grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) one by one, and was wash | cleaned.

次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な酸化セリウム砥粒を用いた。   Next, a second polishing step was performed as the main surface polishing step. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. In the second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed using a soft foamed resin polisher by a double-side polishing apparatus having a planetary gear mechanism. As the abrasive, cerium oxide abrasive grains finer than the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step were used.

この第2研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には、超音波を印加した。   The glass substrate which finished this 2nd grinding | polishing process was immersed in each washing tank of neutral detergent, a pure water, and IPA (isopropyl alcohol) sequentially, and was wash | cleaned. Note that ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(6)化学強化工程
次に、前述のラッピング工程および研磨工程を終えたガラス基板に、化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400℃に加熱しておくとともに、洗浄済みのガラス基板を300℃に予熱し、化学強化溶液中に約3時間浸漬することによって行った。この浸漬の際には、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。
(6) Chemical strengthening process Next, the glass substrate which finished the above-mentioned lapping process and polishing process was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and the chemically strengthened solution is heated to 400 ° C., and the cleaned glass substrate is preheated to 300 ° C. And was immersed in the chemical strengthening solution for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate, it was performed in a state of being housed in a holder so that a plurality of glass substrates were held at the end surfaces.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオンおよびナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオンおよびカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100μm乃至200μmであった。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions in the surface layer of the glass substrate are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate is strengthened. The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate was about 100 μm to 200 μm.

化学強化処理を終えたガラス基板を、20℃の水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。そして、急冷を終えたガラス基板を、約40℃に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を純水、IPA(イソプロピルアルコール)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。   The glass substrate that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a 20 ° C. water bath and rapidly cooled, and maintained for about 10 minutes. And the glass substrate which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Further, the glass substrate after the sulfuric acid cleaning was cleaned by immersing in a cleaning bath of pure water and IPA (isopropyl alcohol) sequentially.

上記の如く、第1ラッピング工程、切り出し工程、端面研磨工程、第2ラッピング工程、第1および第2研磨工程、ならびに化学強化工程を施すことにより、平坦、かつ、平滑な、高剛性の磁気ディスク用ガラス基板を得た。   As described above, a flat and smooth, high-rigidity magnetic disk is obtained by performing the first lapping step, the cutting step, the end surface polishing step, the second lapping step, the first and second polishing steps, and the chemical strengthening step. A glass substrate was obtained.

(7)磁気ディスク製造工程
上述した工程を経て得られたガラス基板の両面に、ガラス基板の表面にCr合金からなる付着層、CoTaZr基合金からなる軟磁性層、Ruからなる下地層、CoCrPt基合金からなる垂直磁気記録層、水素化炭素からなる保護層、パーフルオロポリエーテルからなる潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造した。なお、本構成は垂直磁気ディスクの構成の一例であるが、面内磁気ディスクとして磁性層等を構成してもよい。
(7) Magnetic disk manufacturing process On both surfaces of the glass substrate obtained through the above-described processes, an adhesion layer made of a Cr alloy, a soft magnetic layer made of a CoTaZr-based alloy, an underlayer made of Ru, and a CoCrPt group on the surface of the glass substrate A perpendicular magnetic recording disk was manufactured by sequentially forming a perpendicular magnetic recording layer made of an alloy, a protective layer made of hydrogenated carbon, and a lubricating layer made of perfluoropolyether. Although this configuration is an example of a configuration of a perpendicular magnetic disk, a magnetic layer or the like may be configured as an in-plane magnetic disk.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. Understood.

本発明は、磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法として利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used as an inner peripheral end surface polishing apparatus for a magnetic disk glass substrate, a magnetic disk glass substrate manufacturing method, and a magnetic disk manufacturing method.

内周端面研磨装置を説明する図である。It is a figure explaining an inner peripheral end surface grinding | polishing apparatus. 固定手段を説明する図である。It is a figure explaining a fixing means. 固定手段を説明する図である。It is a figure explaining a fixing means. 固定手段を説明する図である。It is a figure explaining a fixing means. 固定手段を説明する図である。It is a figure explaining a fixing means. 参考のための内周端面研磨装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the internal peripheral end surface grinding | polishing apparatus for reference.

符号の説明Explanation of symbols

1 …研磨装置
10 …ガラス基板
100 …ワークホルダ
101 …下側支持部
104 …上側支持部
107 …突起部
107a …雄ねじ部
200 …固定手段
201 …テーブル
201a …穴
202 …土台
203 …ブラシ
207 …ノズル
208 …ボルト
209 …ボルト
210 …ブッシュ
210a …内孔
211 …本体
211a …段部
212 …ねじ穴
213 …ネジ
214 …空間
215 …隙間
216 …スリーブ
220 …位置決め部材
220a …内孔
220b …当接突起
220c …移動当接部
221 …スイングクランプ
221a …レバー
221b …カム
224 …ホルダ受け部材
224a …雌ねじ部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Polishing apparatus 10 ... Glass substrate 100 ... Work holder 101 ... Lower side support part 104 ... Upper side support part 107 ... Projection part 107a ... Male thread part 200 ... Fixing means 201 ... Table 201a ... Hole 202 ... Base 203 ... Brush 207 ... Nozzle 208 ... Bolt 209 ... Bolt 210 ... Bush 210a ... Inner hole 211 ... Main body 211a ... Step part 212 ... Screw hole 213 ... Screw 214 ... Space 215 ... Gap 216 ... Sleeve 220 ... Positioning member 220a ... Inner hole 220b ... Abutting protrusion 220c ... Moving contact part 221 ... Swing clamp 221a ... Lever 221b ... Cam 224 ... Holder receiving member 224a ... Female thread part

Claims (9)

中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、
ワークホルダに積層された複数の前記ガラス基板の中心軸と、前記ガラス基板の連通した内孔を研磨する研磨手段の回転軸とが一致するように、内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程と、
前記テーブルおよび研磨手段を回転させてガラス基板の内周端面を研磨する工程とを含むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
In the method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having an inner hole in the center,
The work holder is attached to the table of the inner peripheral end surface polishing apparatus so that the central axis of the plurality of glass substrates stacked on the work holder coincides with the rotation axis of the polishing means for polishing the inner hole communicating with the glass substrate. Fixing, and
And rotating the table and polishing means to polish the inner peripheral end surface of the glass substrate.
前記内周端面研磨装置のテーブルにワークホルダを固定する工程は、
前記ワークホルダを内周端面研磨装置のテーブルに載置する工程と、
前記テーブルに設けられた固定手段により積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に前記ワークホルダを固定する工程と、を含むことを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
The step of fixing the work holder to the table of the inner peripheral surface polishing apparatus,
Placing the work holder on the table of the inner peripheral surface polishing apparatus;
The method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1, further comprising a step of fixing the work holder in a direction orthogonal to a central axis of the glass substrates laminated by a fixing means provided on the table. Method.
中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、
複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、
ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、
研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、
さらに前記テーブルは、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向にワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、
前記固定手段は、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
In an inner peripheral end surface polishing apparatus for a glass substrate for a magnetic disk having an inner hole in the center,
A table for supporting a work holder held in a state where a plurality of glass substrates are laminated;
Polishing means for polishing the inner peripheral end surface of the glass substrate by being inserted into the inner hole communicated with the glass substrate and rotating;
Slurry supply means for supplying slurry to the polishing site;
Further, the table includes a fixing means for positioning and fixing the work holder in a direction orthogonal to the central axis of the laminated glass substrates,
The said fixing means fixes a work holder so that the center axis | shaft of the laminated | stacked glass substrate and the rotating shaft of the said grinding | polishing means may correspond, The inner peripheral end surface grinding | polishing apparatus of the glass substrate for magnetic discs characterized by the above-mentioned.
前記固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を、積層されたガラス基板の中心軸と直交する方向に位置決め固定することを特徴とする請求項3記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。 4. The inner circumference of the glass substrate for a magnetic disk according to claim 3, wherein the fixing means positions and fixes the protrusion protruding downward from the work holder in a direction perpendicular to the central axis of the laminated glass substrates. End surface polishing equipment. 前記固定手段は、全周方向からワークホルダの突起部を圧迫することにより、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とを一致させて固定することを特徴とする請求項4記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。 The said fixing means presses the protrusion part of a work holder from the perimeter direction, and fixes the center axis | shaft of the laminated | stacked glass substrate and the rotating shaft of the said grinding | polishing means to correspond. An apparatus for polishing an inner peripheral end surface of the glass substrate for a magnetic disk according to claim. 前記固定手段は、ワークホルダの突起部に少なくとも2方向から当接する位置決め部材と、ワークホルダの突起部を前記位置決め部材に付勢する付勢手段とを備えることを特徴とする請求項4記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。 The said fixing means is provided with the positioning member which contact | abuts to the protrusion part of a work holder from at least 2 directions, and the urging means which urges | biases the protrusion part of a work holder to the said positioning member. Polishing device for inner peripheral surface of glass substrate for magnetic disk. 前記固定手段は、ワークホルダの突起部の外周面に形成された雄ねじ部と嵌合する雌ねじ部を備えていることを特徴とする請求項4記載の磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。 5. The apparatus for polishing an inner peripheral end surface of a glass substrate for a magnetic disk according to claim 4, wherein the fixing means includes a female screw portion that fits with a male screw portion formed on the outer peripheral surface of the protrusion of the work holder. . 中心に内孔を有する磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置において、
複数枚のガラス基板を積層した状態で保持したワークホルダを支持するテーブルと、
ガラス基板の連通した内孔に挿入されて回転することにより該ガラス基板の内周端面を研磨する研磨手段と、
研磨部位にスラリーを供給するスラリー供給手段とを有し、
さらに前記テーブルは、ワークホルダを位置決め固定する固定手段を備え、
前記固定手段は、ワークホルダの下方に突出した突起部を全周方向から圧迫することにより、ワークホルダを、積層されたガラス基板の中心軸と前記研磨手段の回転軸とが一致するように固定することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の内周端面研磨装置。
In an inner peripheral end surface polishing apparatus for a glass substrate for a magnetic disk having an inner hole in the center,
A table for supporting a work holder held in a state where a plurality of glass substrates are laminated;
Polishing means for polishing the inner peripheral end surface of the glass substrate by being inserted into the inner hole communicated with the glass substrate and rotating;
Slurry supply means for supplying slurry to the polishing site;
Further, the table includes a fixing means for positioning and fixing the work holder,
The fixing means fixes the work holder so that the central axis of the laminated glass substrate and the rotation axis of the polishing means coincide with each other by pressing the protrusion protruding downward from the work holder from the entire circumferential direction. An apparatus for polishing an inner peripheral end face of a glass substrate for a magnetic disk.
請求項1または請求項2記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板の表面に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 A method for producing a magnetic disk, comprising forming at least a magnetic layer on a surface of a glass substrate obtained by the method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1.
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JP2011230276A (en) * 2010-04-30 2011-11-17 Asahi Glass Co Ltd Work holder for glass substrate laminate, method for making glass substrate using the work holder, glass substrate made by the making method, method for making glass substrate for magnetic recording medium using the work holder, and glass substrate for magnetic recording medium
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CN115464470A (en) * 2022-10-14 2022-12-13 大连理工大学 Chemical mechanical polishing equipment and method for spline shaft with large length-diameter ratio

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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