JP2007090452A - Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc and manufacturing method of magnetic disc - Google Patents

Manufacturing method of glass substrate for magnetic disc and manufacturing method of magnetic disc Download PDF

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Hironori Yoshikawa
博則 吉川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a large amount of glass substrates for magnetic discs and magnetic discs having stable quality inexpensively by providing a manufacturing method of the glass substrate for the magnetic disc, which may simply polish the principal plane of the glass substrate to have a very smooth surface. <P>SOLUTION: In grinding using a planetary gear mechanism, a part of a glass disc 7 held on a carrier 13 is relatively moved to a lower surface plate 3 and an upper surface plate 4, and in that process, at least a part of the surface is passed on the outer peripheral side from the outer edges of the respective surface plates 3, 4. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、ハードディスクドライブ(HDD)などの情報記録装置における記録媒体となる磁気ディスクに使用される磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及びこの磁気ディスク用ガラス基板を使用する磁気ディスクの製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk used for a magnetic disk serving as a recording medium in an information recording apparatus such as a hard disk drive (HDD), and a method for manufacturing a magnetic disk using the glass substrate for a magnetic disk.

近年、情報化社会の高度化に伴って種々の情報処理装置が提案されており、また、これら情報処理装置において使用されるハードディスクドライブ(HDD)などの情報記録装置が提案されている。そして、このような情報記録装置においては、情報処理装置の小型化、高性能化のために、情報記録容量の大量化、記録密度の高密度化が求められている。   In recent years, various information processing apparatuses have been proposed with the advancement of the information society, and information recording apparatuses such as hard disk drives (HDD) used in these information processing apparatuses have been proposed. In such an information recording apparatus, in order to reduce the size and performance of the information processing apparatus, an increase in information recording capacity and an increase in recording density are required.

ハードディスクドライブにおいて、情報記録密度を高密度化するためには、いわゆるスペーシングロスを低減させる必要があり、記録媒体となる磁気ディスクに対して記録再生を行なう磁気ヘッドの浮上量(グライド・ハイト)を少なくする必要がある。   In a hard disk drive, in order to increase the information recording density, it is necessary to reduce so-called spacing loss, and the flying height (glide height) of the magnetic head that performs recording and reproduction on the magnetic disk as the recording medium Need to be reduced.

磁気ヘッドの浮上量を少なくした場合、磁気ディスクは記録再生時に高速回転するため、磁気ヘッドが磁気ディスクの表面に接触し、破壊(クラッシュ)されてしまう虞れが大きくなる。このような磁気ヘッドの破壊を防止するためには、磁気ディスクの主表面を、極めて平滑な面として仕上げておく必要がある。   When the flying height of the magnetic head is reduced, the magnetic disk rotates at a high speed during recording and reproduction, so that there is a high possibility that the magnetic head contacts the surface of the magnetic disk and is destroyed (crash). In order to prevent such destruction of the magnetic head, it is necessary to finish the main surface of the magnetic disk as a very smooth surface.

このような磁気ディスクの主表面の平滑性を実現するため、ディスク基板としては、従来広く用いられていたアルミニウム基板に代えて、ガラス基板が用いられるようになっている。ガラス基板は、アルミニウム基板に比較して、主表面の平坦性及び基板強度において優れているからである。なお、このようなガラス基板としては、基板強度を上げるために、化学強化されたガラス基板や、結晶化によって基板強度を上げた結晶化ガラス基板が用いられている。このようなガラス基枚は、その表面に研削(ラッピング)処理及び研磨処理を施すことにより製造されている。   In order to realize such smoothness of the main surface of the magnetic disk, a glass substrate is used as the disk substrate instead of the conventionally widely used aluminum substrate. This is because the glass substrate is superior in the flatness of the main surface and the substrate strength as compared with the aluminum substrate. As such a glass substrate, a chemically strengthened glass substrate or a crystallized glass substrate whose substrate strength is increased by crystallization is used in order to increase the substrate strength. Such a glass base sheet is manufactured by performing grinding (lapping) treatment and polishing treatment on the surface thereof.

ところで、ハードディスクドライブにおける磁気ヘッドとしては、記録再生時の信号強度を向上させるために、従来広く用いられていた薄膜ヘッドに代えて、磁気抵抗効果型素子(MR素子)を用いた磁気抵抗型ヘッド(MRヘッド)や大型磁気抵抗型ヘッド(GMRヘッド)が広く用いられるようになってきている。   Incidentally, as a magnetic head in a hard disk drive, a magnetoresistive head using a magnetoresistive element (MR element) instead of a thin film head that has been widely used in the past in order to improve the signal intensity during recording and reproduction. (MR heads) and large magnetoresistive heads (GMR heads) have been widely used.

このような磁気抵抗効果型素子を用いた磁気抵抗型ヘッドにおいては、磁気ディスクの表面に微小な凹凸があると、サーマルアスペリティ(Thermal Asperity)障害を生じ、再生に誤動作を生じたり、再生が不可能になる虞れがある。このサーマルアスペリティ障害の原因は、ガラス基板上の異物によって磁気ディスクの表面に形成された凸部が磁気ディスクの高速回転により磁気抵抗型ヘッドの近傍の空気の断熱圧縮及び断熱膨張を発生させ、磁気抵抗型ヘッドが発熱して磁気抵抗効果型素子の抵抗値が変動し、電磁変換が悪影響を受けることである。すなわち、このようなサーマルアスペリティ障害は、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触しない場合においても発生し得る。このようなサーマルアスペリティ障害を防止するためにも、磁気ディスクの主表面は、極めて平滑で、かつ、異物の無い高清浄化された面に仕上げておく必要がある。   In a magnetoresistive head using such a magnetoresistive effect element, if there are minute irregularities on the surface of the magnetic disk, a thermal asperity failure will occur, causing a malfunction in playback or failure in playback. May be possible. The cause of this thermal asperity failure is that the convex part formed on the surface of the magnetic disk by the foreign matter on the glass substrate causes adiabatic compression and adiabatic expansion of the air in the vicinity of the magnetoresistive head due to the high-speed rotation of the magnetic disk. The resistance type head generates heat and the resistance value of the magnetoresistive effect element fluctuates, and electromagnetic conversion is adversely affected. That is, such a thermal asperity failure can occur even when the magnetic head does not contact the magnetic disk. In order to prevent such a thermal asperity failure, the main surface of the magnetic disk needs to be finished to a very smooth surface free from foreign matter.

本件出願人は、先に、このようなディスク基板の主表面を平滑な面に仕上げる目的を以て、特許文献1に記載されているように、軟質ポリシャの研磨布を貼り付けた上下定盤の間にガラスディスクをセットし、遊星歯車機構を用いてこれら研磨布とガラスディスクとを相対的に摺動させ、ガラスディスクの両主表面を研磨する研磨工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、研磨布の表面粗さを適切に選定する方法について提案している。このような遊星歯車機構は、研削処理にも使用されている。   For the purpose of finishing the main surface of such a disk substrate to be a smooth surface, the applicant of the present application previously described between the upper and lower surface plates to which a polishing cloth of a soft polisher was attached as described in Patent Document 1. In a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, which has a polishing step in which a glass disk is set on the surface and the polishing cloth and the glass disk are relatively slid using a planetary gear mechanism to polish both main surfaces of the glass disk. A method for appropriately selecting the surface roughness of the polishing cloth is proposed. Such a planetary gear mechanism is also used for grinding.

この遊星歯車機構においては、ガラスディスクは、上下定盤に挟圧され、これら定盤に対する相対的な運動を行いながら、板厚を削減される。この過程で、ガラスディスクは、所定の板厚に削減されるとともに、表面が所定の平坦面、平滑面に仕上げられる。   In this planetary gear mechanism, the glass disk is sandwiched between the upper and lower surface plates, and the plate thickness is reduced while performing relative movement with respect to the surface plates. In this process, the glass disk is reduced to a predetermined plate thickness and the surface is finished to a predetermined flat surface and a smooth surface.

特開2000−288919公報JP 2000-288919 A

ところで、前述のように、遊星歯車機構を用いてガラスディスクの両主表面部に対して、上下定盤、または、上下一対の研磨布の摺接面を摺動させ、ガラスディスクの研削、または、研磨を行った場合には、定盤、または、研磨布の表面が摩耗して次第に削られていき、上下定盤同士、または、上下研磨布同士の平行度に歪みが生じる。特に、研削工程においては、ガラス基板の板厚削減量が大きいので、定盤の摩耗量も大きい。このような定盤、または、研磨布を用いて、研削、または、研磨処理を続けていくと、研削、または、研磨処理後のガラスディスクの形状にも歪みが生ずることとになる。   Incidentally, as described above, the planetary gear mechanism is used to slide the upper and lower surface plates, or the sliding contact surfaces of a pair of upper and lower polishing cloths against the two main surface portions of the glass disk, When polishing is performed, the surface of the surface plate or the polishing cloth is gradually worn away, and the parallelism between the upper and lower surface plates or the upper and lower polishing cloths is distorted. In particular, in the grinding process, since the amount of reduction in the thickness of the glass substrate is large, the wear amount of the surface plate is also large. When the grinding or polishing process is continued using such a surface plate or polishing cloth, the shape of the glass disk after the grinding or polishing process is also distorted.

ところで、近年において、ハードディスクドライブの磁気ディスクにおいては、1平方インチ当たり60ギガビット(60Gbit/inch)以上の情報記録面密度が実現できるようになってきている。このような高い情報記録面密度が実現可能となったことにより、ハードディスクドライブは、情報記録容量あたりの小型化が可能となった。したがって、ハードディスクドライブの用途は、従来のコンピュータ装置(パーソナルコンピュータやサーバ)への搭載という用途のみならず、携帯型のいわゆるMP3プレーヤ、携帯電話装置、カーナビゲーションシステム(Car Navigation System)、PDA(Personal Digital Assistance:携帯情報端末)など、携帯用機器や車載用機器への搭載という用途に拡大しようとしている。 By the way, in recent years, it has become possible to realize an information recording surface density of 60 gigabits per square inch (60 Gbit / inch 2 ) or more in a magnetic disk of a hard disk drive. Since such high information recording surface density can be realized, the hard disk drive can be downsized per information recording capacity. Therefore, the hard disk drive is used not only for mounting on a conventional computer device (personal computer or server) but also for a so-called MP3 player, a mobile phone device, a car navigation system, a PDA (Personal). Digital Assistance (personal digital assistants) and other portable devices and in-vehicle devices.

これら携帯用機器や車載用機器への搭載という用途においては、携帯(持運び)され、あるいは、車載される環境で用いることを可能とするため、ハードディスクドライブの筐体が小型化、軽量化され、磁気ディスクも、例えば1インチ以下に小径化されることとなる。このように小型化された磁気ディスクの用途については、市場が急拡大し年間1億枚以上の大量生産が求められていることもあり、コストダウン及び大量生産の要望が強く、ディスク基板及び磁気ディスクを廉価に大量に供給する必要がある。   In applications such as mounting on portable devices and in-vehicle devices, the hard disk drive housing has been reduced in size and weight to be carried (carried) or used in an on-vehicle environment. The magnetic disk is also reduced in diameter to, for example, 1 inch or less. As for the use of such a miniaturized magnetic disk, the market has rapidly expanded and mass production of more than 100 million discs has been required annually, and there is a strong demand for cost reduction and mass production. It is necessary to supply a large amount of disks at a low price.

すなわち、このような磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板は、個品ごとに優れた形状精度を有しているのみでは足らず、同仕様の磁気ディスク用ガラス基板を大量生産した場合であっても、研削、または、研磨処理後のガラスディスクの形状の歪みが生ずないようにして、品質にばらつきが生じないような安定した生産工程を構築する必要がある。   That is, the magnetic disk glass substrate used for such a magnetic disk is not limited to having excellent shape accuracy for each individual product, and even when a glass substrate for a magnetic disk of the same specification is mass-produced. Therefore, it is necessary to construct a stable production process that does not cause variation in quality by preventing distortion of the shape of the glass disk after grinding or polishing.

また、最近では、磁気ディスク表面の情報記録再生用領域を拡大する目的、あるいは、磁気ヘッドの浮上量を低減する目的等のために、ロードアンロード方式(LUL方式)のハードディスクドライブが実用化されている。例えば、LUL方式のハードディスクドライブでは、磁気ヘッドの浮上量を8nm、あるいは、それ以下にまで低減することができる。この場合、磁気ディスクの表面形状は、シリコンウエハや光ディスクなどとは比較にならないほど精密な平滑面として仕上げられていなければならない。   Recently, a load / unload type (LUL type) hard disk drive has been put into practical use for the purpose of expanding the information recording / reproducing area on the surface of the magnetic disk or reducing the flying height of the magnetic head. ing. For example, in the LUL type hard disk drive, the flying height of the magnetic head can be reduced to 8 nm or less. In this case, the surface shape of the magnetic disk must be finished as a smooth surface so precise that it cannot be compared with a silicon wafer or an optical disk.

また、LUL方式のハードディスクドライブでは、ドライブの停止時には、磁気ヘッドは磁気ディスクの外部に退避している。そして、ドライブを起動させる場合には、磁気ディスクの外部に退避していた磁気ヘッドを、磁気ディスクの外周端(あるいは、内周端)を経由させて磁気ディスクの主表面上に滑り出させて後に、情報の記録再生を行う。そして、起動しているハードディスクドライブを停止させる場合には、磁気ディスクの主表面上にある磁気ヘッドを、磁気ディスクの外周端(あるいは、内周端)を経由させて、磁気ディスクの外部に退避させる。このように、磁気ディスクの端部を経由させて磁気ヘッドを磁気ディスクの内外に亘って往復させる動作のことをロードアンロード動作と呼ぶ。   In the LUL type hard disk drive, when the drive is stopped, the magnetic head is retracted outside the magnetic disk. When starting the drive, the magnetic head that has been retracted outside the magnetic disk is slid onto the main surface of the magnetic disk via the outer peripheral end (or inner peripheral end) of the magnetic disk. Later, information is recorded and reproduced. When stopping the activated hard disk drive, the magnetic head on the main surface of the magnetic disk is retracted to the outside of the magnetic disk via the outer peripheral edge (or inner peripheral edge) of the magnetic disk. Let The operation of reciprocating the magnetic head over the inside and outside of the magnetic disk through the end of the magnetic disk in this way is called a load / unload operation.

LUL方式用の磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドが磁気ディスクの端部を経由するロードアンロード動作を頻繁に繰り返しても、クラッシュ等の障害が生じないようにしなければならない。そのため、LUL方式用の磁気ディスク、ひいては、磁気ディスク用ガラス基板においては、端部の形状をいかなる形状とするのかは重要な問題である。   In the magnetic disk for the LUL system, it is necessary to prevent a failure such as a crash even if the magnetic head frequently repeats the load / unload operation via the end of the magnetic disk. Therefore, in the LUL type magnetic disk, and in turn, the glass substrate for the magnetic disk, it is an important problem to determine the shape of the end portion.

そこで、本発明は、上述の実情に鑑みて提案されるものであって、その第1の目的は、ガラスディスクの主表面を簡易、迅速に、かつ、極めて平滑な面に研削、または、研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能とすることにある。   Therefore, the present invention is proposed in view of the above circumstances, and the first object thereof is to grind or polish the main surface of the glass disk to a very smooth surface easily and quickly. An object of the present invention is to provide a glass substrate for a magnetic disk and a magnetic disk having a stable quality in a large amount at a low cost by providing a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.

また、本発明の第2の目的は、磁気ディスク用ガラス基板が小径化されても、この磁気ディスク用ガラス基板の両主表面部を安定して極めて平滑な面に研削、または、研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、この磁気ディスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクにおけるサーマルアスペリティ障害やヘッドクラッシュが防止されるようにして、磁気ディスクにおける情報記録面密度の高密度化に資することにある。   The second object of the present invention is to stably grind or polish both main surface portions of the magnetic disk glass substrate to a very smooth surface even when the diameter of the magnetic disk glass substrate is reduced. By providing a method for manufacturing a magnetic disk glass substrate that can be used, the thermal asperity failure and head crash in a magnetic disk using the magnetic disk glass substrate can be prevented, and the information recording surface density of the magnetic disk can be reduced. It is to contribute to higher density.

さらに、本発明の第3の目的は、ハードディスクドライブにおいて、磁気ヘッドの浮上量が8nm未満とされる場合であっても、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害の発生を防止することにある。   A third object of the present invention is to prevent the occurrence of head crashes and thermal asperity failures in a hard disk drive even when the flying height of the magnetic head is less than 8 nm.

そして、本発明の第4の目的は、LUL方式の磁気ディスクを作成するための磁気ディスク用ガラス基板として特に好ましい端部形状を有する磁気ディスク用ガラス基板を提供し、安定した品質のLUL方式の磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能とすることにある。   A fourth object of the present invention is to provide a glass substrate for a magnetic disk having a particularly preferable end shape as a glass substrate for a magnetic disk for producing a magnetic disk of the LUL method. It is to be able to provide a large amount of magnetic disks at low cost.

本発明者は、前記課題を解決すべく研究を進めた結果、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程における遊星歯車機構を用いた両面研削、あるいは、両面研磨工程において、ガラスディスクの軌跡の少なくとも一部が、定盤の外縁を越えて定盤の外周側にはみ出すようにする、いわゆる「オーパーハング回転」を行うことにより、前記課題を解決できるとの知見を得た。   As a result of researches to solve the above problems, the present inventor has made at least a part of the locus of the glass disk in the double-sided grinding using the planetary gear mechanism in the manufacturing process of the glass substrate for magnetic disks or the double-sided polishing process. However, it has been found that the above problem can be solved by performing so-called “overhang rotation” in which the outer surface of the surface plate is protruded beyond the outer edge of the surface plate.

すなわち、本発明は、以下の構成のいずれか一を備えるものである。   That is, the present invention includes any one of the following configurations.

〔構成1〕
摺接面を有する一対の定盤を用いてこれら定盤の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させガラスディスクの表面を研削、または、研磨する研削工程及び研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、少なくとも研削工程、または、研磨工程のいずれか一方において、下側定盤とこの下側定盤の中心部に設けられた太陽歯車とこの下側定盤の外縁に設けられた内歯車と外周部に太陽歯車及び内歯車に噛合する歯部を有しガラスディスクを保持する円板状のキャリアと下側定盤に対向する上側定盤とを用いて、キャリアにガラスディスクを保持させ、このキャリアの外周部の歯部を太陽歯車及び内歯車に噛合させ、太陽歯車及び内歯車の少なくともいずれか一方を回転駆動することによりこれら定盤とキャリアに保持されたガラスディスクとを相対的に摺動させる処理を行い、キャリアに保持されたガラスディスクの一部は、少なくとも一部を、下側定盤及び上側定盤に対する相対移動の過程において、これら下側定盤及び上側定盤の外縁部よりも外周側を通過させることを特徴とするものである。
[Configuration 1]
Using a pair of surface plates having sliding surfaces, the sliding surfaces of these surface plates are slid relative to both surfaces of the glass disk to grind or polish the surface of the glass disk. A method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, comprising: a lower surface plate and a sun gear provided at the center of the lower surface plate and the lower side in at least one of a grinding step and a polishing step An inner gear provided on the outer edge of the surface plate, a disk-shaped carrier having a tooth portion meshing with the sun gear and the inner gear on the outer peripheral portion and holding a glass disk, and an upper surface plate facing the lower surface plate The carrier is used to hold the glass disk, the teeth on the outer periphery of the carrier are engaged with the sun gear and the internal gear, and at least one of the sun gear and the internal gear is driven to rotate. A process of relatively sliding the held glass disk is performed, and at least a part of the glass disk held by the carrier is in the process of relative movement with respect to the lower surface plate and the upper surface plate. The outer peripheral side is allowed to pass through the outer edge portions of the lower surface plate and the upper surface plate.

〔構成2〕
磁気ディスクの製造方法であって、構成1を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とするものである。
[Configuration 2]
A method for manufacturing a magnetic disk, wherein at least a magnetic layer is formed on a main surface of a glass substrate for a magnetic disk manufactured by the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk having Configuration 1. .

構成1を有する本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、少なくとも研削工程、または、研磨工程のいずれか一方において、遊星歯車機構を用いて上下定盤とガラスディスクとを相対的に摺動させる処理を行うにあたり、キャリアに保持されたガラスディスクの一部は、少なくとも一部を、下側定盤及び上側定盤に対する相対移動の過程において、これら下側定盤及び上側定盤の外縁部よりも外周側を通過させるので、各定盤の外周部分における偏摩耗が防止され、これら定盤同士の平行度に歪みが生じることが防止される。   In the method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk according to the present invention having Configuration 1, at least in either the grinding process or the polishing process, the upper and lower surface plates and the glass disk are relatively moved using a planetary gear mechanism. In performing the sliding process, at least a part of the glass disk held by the carrier is in the process of relative movement with respect to the lower surface plate and the upper surface plate. Since the outer peripheral portion is passed through the outer edge portion, uneven wear at the outer peripheral portion of each surface plate is prevented, and the parallelism between these surface plates is prevented from being distorted.

したがって、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、研削、または、研磨処理後のガラスディスクの形状に歪みが生ずることを防止しつつ、ガラスディスクの主表面を簡易に、かつ、良好に研削、または、研磨することができ、極めて平滑な面に仕上げることができる。すなわち、この磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板を大量に製造し、供給することができる。   Therefore, in this method of manufacturing a glass substrate for a magnetic disk, the main surface of the glass disk is easily and well ground while preventing distortion of the shape of the glass disk after grinding or polishing. Or it can be polished and finished to a very smooth surface. That is, in this method for manufacturing a magnetic disk glass substrate, a stable quality glass substrate for a magnetic disk can be manufactured and supplied in large quantities.

構成2を有する本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、前述の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成するので、磁気ディスク用ガラス基板の主表面のうねりによる問題、すなわち、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリテイ障害が確実に防止された磁気ディスクを製造することができる。   In the method for manufacturing a magnetic disk according to the present invention having the configuration 2, at least the magnetic layer is formed on the main surface of the glass substrate for magnetic disk manufactured by the method for manufacturing the glass substrate for magnetic disk described above. It is possible to manufacture a magnetic disk in which problems due to waviness of the main surface of the disk glass substrate, that is, head crashes and thermal asperity failures are reliably prevented.

すなわち、本発明は、ガラスディスクの主表面を簡易、迅速に、かつ、極めて平滑な面に研削、または、研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、安定した品質の磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを廉価に大量に提供することができるものである。   That is, the present invention provides stable quality by providing a method for producing a glass substrate for a magnetic disk that can easily or quickly grind or polish the main surface of a glass disk to an extremely smooth surface. The glass substrate for magnetic disk and the magnetic disk can be provided in large quantities at a low cost.

また、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板が小径化されても、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面を安定して極めて平滑な面に研削、または、研磨することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することによって、この磁気ディスク用ガラス基板を用いた磁気ディスクにおけるサーマルアスペリティ障害やヘッドクラッシュが防止されるようにして、磁気ディスクにおける情報記録面密度の高密度化に資することができるものである。   Further, the present invention provides a glass substrate for magnetic disk that can stably grind or polish the main surface of the glass substrate for magnetic disk to a very smooth surface even when the diameter of the glass substrate for magnetic disk is reduced. By providing this manufacturing method, it is possible to prevent thermal asperity failure and head crash in a magnetic disk using the magnetic disk glass substrate, thereby contributing to increase in the information recording surface density in the magnetic disk. It can be done.

さらに、本発明は、磁気ディスク用ガラス基板が小径化されても、この磁気ディスク用ガラス基板の両主表面部を安定して極めて平滑な面に研削、または、研磨することができるとともに、磁気ヘッドの浮上量が8nm未満とされる場合であっても、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリティ障害の発生を防止することができる。   Furthermore, the present invention is capable of stably grinding or polishing both main surface portions of the magnetic disk glass substrate to a very smooth surface even when the diameter of the magnetic disk glass substrate is reduced. Even when the flying height of the head is less than 8 nm, it is possible to prevent the occurrence of a head crash or thermal asperity failure.

そして、本発明は、LUL方式の磁気ディスクを作成するための磁気ディスク用ガラス基板として特に好ましい端部形状を有する磁気ディスク用ガラス基板を提供し、安定した品質のLUL方式の磁気ディスクを廉価に大量に提供することを可能とすることができるものである。   The present invention provides a glass substrate for a magnetic disk having a particularly preferable end shape as a glass substrate for a magnetic disk for producing an LUL type magnetic disk, and makes a stable quality LUL type magnetic disk inexpensive. It can be provided in large quantities.

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら説明する。   The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法は、例えば、ハードディスクドライブ(HDD)等に搭載される磁気ディスクのディスク基板として使用される磁気ディスク用ガラス基板を製造するものである。この磁気ディスクは、面内磁気記録方式や、垂直磁気記録方式によって、高密度の情報信号記録及び再生を行うことができる記録媒体である。   The method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk according to the present invention is for manufacturing a glass substrate for magnetic disk used as a disk substrate of a magnetic disk mounted on, for example, a hard disk drive (HDD). This magnetic disk is a recording medium capable of performing high-density information signal recording and reproduction by an in-plane magnetic recording system or a perpendicular magnetic recording system.

図1は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法により製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。   FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a glass substrate for magnetic disk manufactured by the method for manufacturing a glass substrate for magnetic disk according to the present invention.

この磁気ディスク用ガラス基板は、図1に示すように、外径15mm乃至30mm、内径5mm乃至12mm、板厚0.35mm乃至0.5mmであり、例えば、「0.8インチ(inch)型磁気ディスク」(内径6mm、外径21.6mm、板厚0.381mm)、「1.0インチ型磁気ディスク」(内径7mm、外径27.4mm、板厚0.381mm)などの所定の直径を有する磁気ディスクとして作製される。また、「2.5インチ型磁気ディスク」、「3.5インチ型磁気ディスク」など磁気ディスクとして作製されるものとしてもよい。なお、ここで、「内径」とは、磁気ディスク用ガラス基板1の中心孔2の内径である。   As shown in FIG. 1, the glass substrate for a magnetic disk has an outer diameter of 15 to 30 mm, an inner diameter of 5 to 12 mm, and a plate thickness of 0.35 to 0.5 mm. Predetermined diameters such as “disk” (inner diameter 6 mm, outer diameter 21.6 mm, plate thickness 0.381 mm), “1.0 inch type magnetic disk” (inner diameter 7 mm, outer diameter 27.4 mm, plate thickness 0.381 mm), etc. It is manufactured as a magnetic disk. Further, it may be manufactured as a magnetic disk such as a “2.5 inch magnetic disk” or a “3.5 inch magnetic disk”. Here, the “inner diameter” is the inner diameter of the center hole 2 of the glass substrate 1 for magnetic disks.

この磁気ディスク用ガラス基板1は、ガラスからなることにより、鏡面研磨によって優れた平滑性を実現することができ、硬度が高く、また、剛性が高いので、耐衝撃性に優れている。特に、携帯(持運び)用、あるいは、車載用の情報機器に搭載されるハードディスクドライブに使用される磁気ディスクには、高い耐衝撃性が要求されるので、このような磁気ディスクにおいてガラス基板を用いることには有用性が高い。ガラス基板の主表面の表面粗さは、Raで0.1nm乃至0.7とされることが好ましい。   Since the glass substrate 1 for magnetic disks is made of glass, it can realize excellent smoothness by mirror polishing, has high hardness, and high rigidity, and thus has excellent impact resistance. In particular, a magnetic disk used for a hard disk drive mounted on a portable (carried) or in-vehicle information device is required to have high impact resistance. Usefulness is high. The surface roughness of the main surface of the glass substrate is preferably 0.1 nm to 0.7 in terms of Ra.

ガラスは脆性材料であるが、化学強化や風冷強化などの強化処理、あるいは、結晶化の手段により、破壊強度を向上させることができる。このような磁気ディスク用ガラス基板1の材料として好ましいガラスとしては、アルミノシリケートガラスを挙げることができる。アルミノシリケートガラスは、優れた平滑鏡面を実現することができるとともに、例えば、化学強化を行なうことによって、破壊強度を高めることができるからである。   Although glass is a brittle material, the fracture strength can be improved by a strengthening treatment such as chemical strengthening or air cooling strengthening or by means of crystallization. A preferable example of the material for the glass substrate 1 for magnetic disks is aluminosilicate glass. This is because the aluminosilicate glass can realize an excellent smooth mirror surface and can increase the breaking strength by, for example, chemical strengthening.

アルミノシリケートガラスとしては、SiO:62乃至75重量%、Al:5乃至15重量%、LiO:4乃至10重量%、NaO:4乃至12重量%、ZrO:5.5乃至15重量%を主成分として含有するとともに、NaOとZrOとの重量比が0.5乃至2.0、AlとZrOとの重量比が0.4乃至2.5である化学強化用ガラスが好ましい。 The aluminosilicate glass, SiO 2: 62 to 75 wt%, Al 2 O 3: 5 to 15 wt%, Li 2 O: 4 to 10 wt%, Na 2 O: 4 to 12 wt%, ZrO 2: 5 0.5 to 15 wt% as a main component, the weight ratio of Na 2 O to ZrO 2 is 0.5 to 2.0, and the weight ratio of Al 2 O 3 to ZrO 2 is 0.4 to 2 A glass for chemical strengthening of .5 is preferred.

また、このようなガラス基板において、ZrOの未溶解物が原因で生じるガラス基板表面の突起をなくすためには、SiOを57乃至74mol%、ZrOを0乃至2.8mol%、Alを3乃至15mol%、LiOを7乃至16mol%、NaOを4乃至14mol%含有する化学強化用ガラスを使用することが好ましい。このような組成のアルミノシリケートガラスは、化学強化することによって、抗折強度が増加し、圧縮応力層の深さも深く、ヌープ硬度にも優れている。 Further, in such a glass substrate, in order to eliminate the protrusion of the glass substrate surface undissolved product of ZrO 2 occurs causes a SiO 2 57 to 74 mol%, a ZrO 2 0 to 2.8 mol%, Al 2 It is preferable to use a chemically strengthening glass containing 3 to 15 mol% of O 3 , 7 to 16 mol% of LiO 2 and 4 to 14 mol% of Na 2 O. The aluminosilicate glass having such a composition has an increased bending strength, a deep compressive stress layer, and an excellent Knoop hardness when chemically strengthened.

なお、本発明において製造する磁気ディスク用ガラス基板1をなす材料は、前述したものに限定されるわけではない。すなわち、磁気ディスク用ガラス基板1の材質としては、前述したアルミノシリケートガラスの他に、例えば、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、または、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどを挙げることができる。   In addition, the material which comprises the glass substrate 1 for magnetic discs manufactured in this invention is not necessarily limited to what was mentioned above. That is, as a material of the glass substrate 1 for magnetic disks, in addition to the aluminosilicate glass described above, for example, soda lime glass, soda aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, borosilicate glass, quartz glass, chain silicate glass, or And glass ceramics such as crystallized glass.

また、本発明において、磁気ディスク用ガラス基板1は、端面の両側の稜部が面取りされたものであることが好ましい。磁気ディスク用ガラス基板1は、端面の稜部が面取りされていることにより、破壊強度が高まるからである。   In the present invention, it is preferable that the magnetic disk glass substrate 1 has chamfered ridges on both sides of the end surface. This is because the glass substrate 1 for a magnetic disk has a high crushing strength due to the chamfered edge portion of the end surface.

以下、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について、工程順に説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate for magnetic disks which concerns on this invention is demonstrated in order of a process.

(1)形状加工工程
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法においては、まず、円板状のガラスディスクを形成する。このガラスディスクは、前述したように、アルミノシリケートガラスからなることが好ましい。このガラスディスクは、例えば、溶融させたガラス母材などから、プレス法などにより、製造する磁気ディスク用ガラス基板1の直径よりもやや大きな直径を有するように形成する。
(1) Shape processing process In the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs concerning this invention, a disk-shaped glass disc is formed first. As described above, the glass disk is preferably made of aluminosilicate glass. The glass disk is formed to have a diameter slightly larger than the diameter of the magnetic disk glass substrate 1 to be manufactured, for example, from a molten glass base material by a pressing method or the like.

次に、このガラスディスクの中心部に、所定の大きさの中心孔を形成する。この中心孔は、磁気ディスク用ガラス基板1における中心孔2となるものであり、この中心孔2の内径よりもやや小径の内径の孔として形成する。また、この工程において、ガラスディスクの外周側端面部分及び内周側端面部分に面取り加工を施す。   Next, a center hole of a predetermined size is formed at the center of the glass disk. This central hole is the central hole 2 in the magnetic disk glass substrate 1 and is formed as a hole having an inner diameter slightly smaller than the inner diameter of the central hole 2. Further, in this step, chamfering is performed on the outer peripheral side end surface portion and the inner peripheral side end surface portion of the glass disk.

(2)研削(ラッピング)工程
この工程では、ガラスディスクの形状を整えるとともに、主表面を研削加工する。研削加工では、両面研削装置とアルミナ砥粒を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定のものとする。
(2) Grinding (lapping) step In this step, the shape of the glass disk is adjusted and the main surface is ground. In grinding processing, processing is performed using a double-sided grinding device and alumina abrasive grains, and the dimensional accuracy and shape accuracy of the glass disk are set to predetermined values.

図2は、両面研削装置となる遊星歯車機構の構成を示す斜視図である。   FIG. 2 is a perspective view showing a configuration of a planetary gear mechanism serving as a double-side grinding apparatus.

この研削工程においては、図2に示すように、両面研削装置となる遊星歯車機構を用いる。この遊星歯車機構は、図2に示すように、上下一対の定盤3,4を有している。これら定盤3,4は、球状黒鉛含有鋳鉄によって、平板状に形成されている。これら定盤3,4の表面部には、研磨剤を供給するための複数の溝9が格子状に形成されている。なお、この研削工程においては、定盤の摺接面を球状黒鉛を含有する材料により構成してもよいし、また、定盤の摺接面をなす材料をダイヤモンド砥粒を含有する材料としてもよい。   In this grinding process, as shown in FIG. 2, a planetary gear mechanism serving as a double-side grinding apparatus is used. This planetary gear mechanism has a pair of upper and lower surface plates 3, 4 as shown in FIG. These surface plates 3 and 4 are formed in a flat plate shape from spheroidal graphite-containing cast iron. A plurality of grooves 9 for supplying an abrasive is formed in a lattice shape on the surface portions of the surface plates 3 and 4. In this grinding step, the slidable contact surface of the surface plate may be composed of a material containing spherical graphite, or the material forming the slidable contact surface of the surface plate may be a material containing diamond abrasive grains. Good.

この両面研削装置においては、各定盤3,4間にガラスディスク7を設置し、各定盤3,4のいずれか一方、または、双方を移動操作することにより、ガラスディスク7と各定盤3,4とを互いに摺接させて、このガラスディスク7の両主表面を研削することができる。   In this double-side grinding apparatus, a glass disk 7 is installed between the surface plates 3 and 4, and either or both of the surface plates 3 and 4 are moved to operate the glass disk 7 and the surface plates. Both main surfaces of the glass disk 7 can be ground by bringing 3 and 4 into sliding contact with each other.

すなわち、この遊星歯車機構は、下側定盤3と、この下側定盤3の中心部に設けられた太陽歯車11と、この下側定盤3の外縁に設けられた内歯車12と、ガラスディスク7を保持する円板状のキャリア13とを有している。このキャリア13は、外周部に、太陽歯車11及び内歯車12に噛合する歯部14を有している。このキャリア13は、ガラスディスク7よりもやや薄い円板状に形成され、このガラスディスク7の外径よりもやや大きい内径の少なくとも一の円形の透孔部15を有している。このキャリア13は、透孔部15内にガラスディスク7を位置させることにより、このガラスディスク7を保持する。そして、この遊星歯車機構は、下側定盤3に対向する上側定盤4を有している。   That is, the planetary gear mechanism includes a lower surface plate 3, a sun gear 11 provided at the center of the lower surface plate 3, an internal gear 12 provided at the outer edge of the lower surface plate 3, And a disk-shaped carrier 13 for holding the glass disk 7. The carrier 13 has a tooth portion 14 that meshes with the sun gear 11 and the internal gear 12 on the outer peripheral portion. The carrier 13 is formed in a disk shape that is slightly thinner than the glass disk 7, and has at least one circular through-hole portion 15 having an inner diameter slightly larger than the outer diameter of the glass disk 7. The carrier 13 holds the glass disk 7 by positioning the glass disk 7 in the through hole portion 15. The planetary gear mechanism has an upper surface plate 4 that faces the lower surface plate 3.

この遊星歯車機構においては、キャリア13の透孔部15内にガラスディスク7を保持させた状態で、このキャリア13の外周部の歯部14を太陽歯車11及び内歯車12に噛合させる。そして、このキャリア13及びガラスディスク7を各定盤3,4によって挟持させることにより、ガラスディスク7は、両側の主表面を各定盤3,4によって保持され、周縁部をキャリア13の透孔部15の内縁部に保持された状態となる。   In this planetary gear mechanism, the tooth portion 14 on the outer peripheral portion of the carrier 13 is engaged with the sun gear 11 and the internal gear 12 with the glass disk 7 held in the through-hole portion 15 of the carrier 13. Then, by sandwiching the carrier 13 and the glass disk 7 by the respective surface plates 3, 4, the glass disk 7 is held at the main surfaces on both sides by the surface plates 3, 4, and the peripheral portion is a through hole of the carrier 13. It becomes the state hold | maintained at the inner edge part of the part 15.

そして、この遊星歯車機構において、各定盤3,4とガラスディスク7の主表面との間に研削液を供給しつつ、太陽歯車11及び内歯車12の両方、または、いずれか一方を回転駆動することにより、各定盤3,4とガラスディスク7の主表面とが相対的に摺動され、このガラスディスク7の主表面の研削が行われる。また、このとき、定盤3,4の両方、または、いずれか一方を、回転駆動することが好ましい。   And in this planetary gear mechanism, while supplying a grinding fluid between each surface plate 3 and 4 and the main surface of the glass disk 7, either or both of the sun gear 11 and the internal gear 12 are rotationally driven. By doing so, each surface plate 3 and 4 and the main surface of the glass disc 7 are slid relatively, and the main surface of this glass disc 7 is ground. At this time, it is preferable that both or one of the surface plates 3 and 4 is rotationally driven.

図3は、遊星歯車機構におけるガラスディスクと各定盤との位置関係を示す側面図である。   FIG. 3 is a side view showing the positional relationship between the glass disk and each surface plate in the planetary gear mechanism.

そして、この研削工程においては、キャリア13に保持されたガラスディスク7の一部は、少なくとも一部を、下側定盤3及び上側定盤4に対する相対移動の過程において、図3に示すように、これら下側定盤3及び上側定盤4の外縁部よりも外周側を通過させる、いわゆる「オーバーハング回転」を行うようにする。   In this grinding process, a part of the glass disk 7 held by the carrier 13 is at least partially in the process of relative movement with respect to the lower surface plate 3 and the upper surface plate 4 as shown in FIG. The so-called “overhang rotation” is performed in which the outer peripheral side of the lower surface plate 3 and the upper surface plate 4 is passed through the outer peripheral side.

(3)端面部分鏡面研磨工程
次に、ガラスディスクの内外周の端面部分を研磨し、鏡面加工する。この工程における研磨は、研磨剤を用いて、ブラシ等により行う。この工程において使用する研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、ガラスディスクに対して研磨能力を奏する研磨砥粒であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、酸化セリウム(CeO)砥粒、コロイダルシリカ砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒などを挙げることができ、特に、酸化セリウム研磨砥粒が好ましい。研磨砥粒の粒径については、適宜選択することができるが、例えば、0.5μm乃至3μm程度とすることが好ましい。また、研磨剤は、研磨砥粒を含む研磨剤に、水(純水)などの液体を加え、この研磨剤をスラリーとして用いることが好ましい。
(3) End surface partial mirror polishing step Next, the end surfaces of the inner and outer circumferences of the glass disk are polished and mirror-finished. Polishing in this step is performed with a brush or the like using an abrasive. The abrasive grains contained in the abrasive used in this step can be used without particular limitation as long as they are abrasive grains that exhibit a polishing ability with respect to a glass disk. Examples thereof include cerium oxide (CeO 2 ) abrasive grains, colloidal silica abrasive grains, alumina abrasive grains, and diamond abrasive grains, and cerium oxide abrasive grains are particularly preferable. The particle size of the abrasive grains can be selected as appropriate, but is preferably about 0.5 μm to 3 μm, for example. In addition, it is preferable that the abrasive is used as a slurry by adding a liquid such as water (pure water) to the abrasive containing abrasive grains.

なお、この端面部分鏡面研磨工程は、ガラス基板を重ね合わせて端面研磨する際にガラス基板の主表面にキズ等が付くことを避けるため、後述する第一研磨工程の前、あるいは、第二研磨工程の前後に行うことが好ましい。この端面部分鏡面研磨工程により、ガラスディスクの内外周の端面部分の表面粗さは、Raで0.1μm以下、Rmaxで1μm以下の鏡面とされる。   In addition, this end surface partial mirror polishing step is performed before the first polishing step, which will be described later, or in the second polishing, in order to avoid scratches or the like on the main surface of the glass substrate when end surfaces are polished by overlapping the glass substrates. It is preferable to carry out before and after the process. By this end surface partial mirror polishing step, the surface roughness of the inner and outer peripheral end surfaces of the glass disk is a mirror surface with Ra of 0.1 μm or less and Rmax of 1 μm or less.

(4)第1研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第1研磨工程を施す。この第1研磨工程は、前述の研削工程で主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする。この工程は、両面研磨装置と、本発明に係る研磨布(硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド)とを用いて行う。
(4) 1st grinding | polishing process Next, a 1st grinding | polishing process is given as a main surface grinding | polishing process. This first polishing step is mainly intended to remove scratches and distortions remaining on the main surface in the above-described grinding step. This step is performed using a double-side polishing apparatus and the polishing cloth (a polishing pad of a hard resin polisher) according to the present invention.

両面研磨装置としては、前述した遊星歯車機構を用いる。この第1研磨工程においては、上下定盤3,4の互いに対向する主表面部に、一対の研磨布(硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド)を貼付して使用する。この両面研磨装置においては、各定盤3,4に貼付された研磨布間にガラスディスク7を設置し、各定盤3,4のいずれか一方、または、双方を移動操作することにより、ガラスディスク7と各定盤3,4とを互いに摺接させて、このガラスディスク7の両主表面を研磨する。なお、この第1研磨工程においても、前述の研削工程と同様に、ガラスディスクをいわゆる「オーバーハング回転」させることができる。   As the double-side polishing apparatus, the planetary gear mechanism described above is used. In the first polishing step, a pair of polishing cloths (a polishing pad of a hard resin polisher) is applied to the main surface portions of the upper and lower surface plates 3 and 4 facing each other. In this double-side polishing apparatus, a glass disk 7 is installed between polishing cloths attached to the surface plates 3 and 4, and either one or both of the surface plates 3 and 4 are moved to operate glass. The disk 7 and the surface plates 3 and 4 are brought into sliding contact with each other, and both main surfaces of the glass disk 7 are polished. In the first polishing step, the glass disk can be so-called “overhang rotated” as in the above-described grinding step.

研磨布としては、不織布の繊維基材にポリウレタン樹脂を含浸させ、湿式凝固させて円形に形成された研磨パッドを使用することができる。この研磨布の硬度は、アスカーA硬度で、60乃至80程度とすることが好ましい。この研磨布は、ガラスディスクに対する摺接面に、研磨液の流路となる溝が形成されたものを用いる。   As the polishing cloth, it is possible to use a polishing pad formed into a circular shape by impregnating a non-woven fiber base material with a polyurethane resin and wet coagulating it. The hardness of the polishing cloth is preferably about 60 to 80 in terms of Asker A hardness. As this polishing cloth, one having a groove which becomes a flow path of the polishing liquid is formed on the sliding surface with respect to the glass disk.

この第1研磨工程において使用する研磨剤に含まれる研磨砥粒としては、ガラスディスク7に対して研磨能力を奏する研磨砥粒であれば、特に制限なく使用することができる。例えば、酸化セリウム(CeO)砥粒、コロイダルシリカ砥粒、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒などを挙げることができるが、なかでも、酸化セリウム研磨砥粒が好ましい。 As the abrasive grains contained in the abrasive used in the first polishing process, any abrasive grains capable of polishing the glass disk 7 can be used without particular limitation. Examples thereof include cerium oxide (CeO 2 ) abrasive grains, colloidal silica abrasive grains, alumina abrasive grains, and diamond abrasive grains. Among them, cerium oxide abrasive grains are preferable.

研磨砥粒の粒径については、適宜選択することができるが、例えば、1.5μm乃至5μm程度とすることが好ましい。   The particle size of the abrasive grains can be selected as appropriate, but is preferably about 1.5 μm to 5 μm, for example.

この遊星歯車機構において、研磨剤は、研磨布に設けられた溝内を流路として、これら研磨布の研磨領域の全域に効率良く供給される。また、この遊星歯車機構においては、各定盤3,4がガラスディスク7を保持する圧力を調整することにより、研磨代を調整することができる。この第1研磨工程においては、後述する第2研磨工程に比較して、研磨代を大きくして、研磨効率を高めることが望ましい。なお、遊星歯車機構を用いることにより、一度に大量のガラスディスク7について、効率良く研磨を行うことができる。   In this planetary gear mechanism, the abrasive is efficiently supplied to the entire polishing area of the polishing cloth, using the inside of the groove provided in the polishing cloth as a flow path. Further, in this planetary gear mechanism, the polishing allowance can be adjusted by adjusting the pressure at which the surface plates 3 and 4 hold the glass disk 7. In this first polishing step, it is desirable to increase the polishing allowance and increase the polishing efficiency as compared to the second polishing step described later. By using the planetary gear mechanism, it is possible to efficiently polish a large number of glass disks 7 at a time.

この遊星歯車機構を用いて第1研磨を行う場合、ガラスディスク7は、各研磨布により両主表面部を挟まれた状態において、これら研磨布に対して相対的に移動されることとなる。この遊星歯車機構においては、研磨布に対するガラスディスク7の移動軌跡は、サイクロイド曲線、または、サイクロイド曲線と円弧とが合成された曲線となる。この移動軌跡は、太陽歯車11、内歯車12、各定盤3,4の回転方向及び回転速度の比率、並びに、太陽歯車11とキャリア13との径の比率によって変化する。   When performing the first polishing using this planetary gear mechanism, the glass disk 7 is moved relative to the polishing cloth in a state where both main surface portions are sandwiched between the polishing cloths. In this planetary gear mechanism, the movement trajectory of the glass disk 7 with respect to the polishing cloth is a cycloid curve or a curve obtained by combining a cycloid curve and an arc. This movement trajectory changes depending on the ratio of the rotational direction and rotational speed of the sun gear 11, the internal gear 12, and the surface plates 3 and 4, and the ratio of the diameters of the sun gear 11 and the carrier 13.

研磨効率や研磨代の均一性を考慮すると、太陽歯車11及び内歯車12の回転速度に対して、定盤3,4の両方、または、いずれか一方の回転速度を十分に早くすることにより、研磨布に対するガラスディスク7の移動軌跡を、この研磨布の周方向の成分が支配的となっているものとすることが好ましい。   Considering the polishing efficiency and the uniformity of the polishing allowance, by making the rotational speeds of both the surface plates 3 and 4 or either one sufficiently faster than the rotational speeds of the sun gear 11 and the internal gear 12, It is preferable that the movement trajectory of the glass disk 7 with respect to the polishing cloth is dominated by the circumferential component of the polishing cloth.

(5)第2研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を施す。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第2研磨工程は、第1研磨工程と同様に、両面研磨装置と、研磨布(軟質発泡樹脂ポリッシャ)とを用いて行うことができ、また、前述のような遊星歯車機構を用いて行うこともできる。
(5) Second Polishing Step Next, a second polishing step is performed as a mirror polishing step for the main surface. The purpose of this second polishing step is to finish the main surface into a mirror surface. Similar to the first polishing step, the second polishing step can be performed using a double-side polishing apparatus and a polishing cloth (soft foam resin polisher), and is also performed using the planetary gear mechanism as described above. You can also

この第2研磨工程においては、研磨布(軟質発泡樹脂ポリッシャ)としては、ガラスディスクに対する摺接面が、平坦、すなわち、溝のない状態であるものを使用する。また、この第2研磨工程における研磨布は、第1研磨工程において使用する研磨布に比較して、軟質の材料からなるものとなっている。   In the second polishing step, a polishing cloth (soft foam resin polisher) having a flat sliding surface with respect to the glass disk, that is, a state having no groove is used. Further, the polishing cloth in the second polishing process is made of a soft material as compared with the polishing cloth used in the first polishing process.

したがって、この第2研磨工程においては、前述の第1研磨工程に比較して、研磨代が少なく、かつ、より高度の鏡面加工が行われる。   Accordingly, in this second polishing step, the polishing allowance is small and higher-level mirror finishing is performed as compared with the first polishing step described above.

この第2研磨工程において使用する研磨剤としては、第1研磨工程で用いる酸化セリウム砥粒に比べて微細な酸化セリウム砥粒を用いることが好ましい。この酸化セリウム砥粒の粒径は、例えば、0.1μm乃至1μm程度とすることができる。   As a polishing agent used in the second polishing step, it is preferable to use fine cerium oxide abrasive grains as compared with the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step. The particle diameter of the cerium oxide abrasive grains can be set to, for example, about 0.1 μm to 1 μm.

(6)第1洗浄工程
第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤(1)、純水(1)、中性洗剤(2)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
(6) 1st washing process The glass substrate which finished the 2nd polishing process, neutral detergent (1), pure water (1), neutral detergent (2), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), Immerse in each washing tank of IPA (steam drying) and wash. In addition, it is preferable to apply an ultrasonic wave to each washing tank.

(7)化学強化工程
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラスディスクに化学強化を施す。化学強化は、例えば、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400°C程度に加熱し、300°Cに予熱された洗浄済みのガラスディスクを約3時間程度浸漬して行う。この浸漬の際に、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行うことが好ましい。
(7) Chemical Strengthening Step Next, chemical strengthening is performed on the glass disk after the above-described grinding and polishing steps. For chemical strengthening, for example, a chemical strengthening solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and this chemical strengthening solution is heated to about 400 ° C and preheated to 300 ° C. The glass disk is immersed for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass disk, it is preferable to carry out in a state in which the plurality of glass disks are housed in a holder so as to be held by the end surfaces.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラスディスク表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラスディスクが強化される。   Thus, by immersing in a chemical strengthening solution, the lithium ion and sodium ion of a glass disk surface layer are each substituted by the sodium ion and potassium ion in a chemical strengthening solution, and a glass disk is strengthened.

(8)第2洗浄工程
化学強化処理を終えたガラスディスクを、40°C程度に加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行い、さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。なお、各洗浄槽には、超音波を印加することが好ましい。
(8) Second cleaning step The glass disk that has been subjected to the chemical strengthening treatment is cleaned by immersing it in concentrated sulfuric acid heated to about 40 ° C. Further, the glass disk that has been cleaned with sulfuric acid is purified with pure water (1) Then, it is cleaned by immersing in pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam-dried) cleaning baths. In addition, it is preferable to apply an ultrasonic wave to each washing tank.

なお、本発明において使用するガラス基板をなす材料は、前述したものに限定されるわけではない。すなわち、ガラス基板の材質としては、前述したアルミノシリケートガラスの他に、例えば、ソーダライムガラス、ソーダアルミノケイ酸ガラス、アルミノボロシリケートガラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、チェーンシリケートガラス、または、結晶化ガラス等のガラスセラミックなどを挙げることができる。   In addition, the material which comprises the glass substrate used in this invention is not necessarily limited to what was mentioned above. That is, as the material of the glass substrate, in addition to the aluminosilicate glass described above, for example, soda lime glass, soda aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, borosilicate glass, quartz glass, chain silicate glass, or crystallized glass Examples thereof include glass ceramics.

(9)磁気ディスクの製造工程
このようにして作成された磁気ディスク用ガラス基板を用いて、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面部上に少なくとも磁性層を形成することにより、ヘッドクラッシュやサーマルアスペリティー障害の防止が図られた磁気ディスクを構成することができる。
(9) Manufacturing process of magnetic disk By using the glass substrate for magnetic disk thus prepared, at least a magnetic layer is formed on the main surface portion of the glass substrate for magnetic disk. It is possible to configure a magnetic disk in which the parity failure is prevented.

磁性層としては、高い異方性磁場(Hk)を備えるCo−Pt系合金磁性層が好ましい。また、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、磁性層の結晶配向性やグレインの均一化、微細化を図る観点から、適宜下地層を形成するようにしてもよい。これら下地層及び磁性層の成膜方法としては、例えば、DCマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。   As the magnetic layer, a Co—Pt alloy magnetic layer having a high anisotropic magnetic field (Hk) is preferable. In addition, an underlayer may be appropriately formed between the magnetic disk glass substrate and the magnetic layer from the viewpoint of achieving crystal orientation of the magnetic layer and making the grains uniform and fine. As a method for forming these underlayer and magnetic layer, for example, a DC magnetron sputtering method can be used.

また、磁性層上には、磁性層を保護するための保護層を設けることが好ましい。保護層の材料としては、炭素系保護層を挙げることができる。炭素系保護層としては水素化炭素、窒素化炭素を用いることができる。この保護層の形成には、プラズマCVD法、または、DCマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。   Moreover, it is preferable to provide a protective layer for protecting the magnetic layer on the magnetic layer. Examples of the material for the protective layer include a carbon-based protective layer. As the carbon-based protective layer, hydrogenated carbon or nitrogenated carbon can be used. For the formation of this protective layer, plasma CVD or DC magnetron sputtering can be used.

さらに、保護層上には、磁気ヘッドからの衝撃を緩和するための潤滑層を形成することが好ましい。潤滑層としては、パーフルオロポリエーテル系潤滑層を挙げることができる。特に、保護層との親和性に優れる水酸基を具備するアルコール変性パーフルオロポリエーテル潤滑層が好ましい。この潤滑層は、ディップ法を用いて形成することができる。   Furthermore, it is preferable to form a lubricating layer for reducing the impact from the magnetic head on the protective layer. An example of the lubricating layer is a perfluoropolyether lubricating layer. In particular, an alcohol-modified perfluoropolyether lubricating layer having a hydroxyl group having excellent affinity with the protective layer is preferable. This lubricating layer can be formed using a dip method.

以下、本発明の実施例について、詳細に説明する。   Examples of the present invention will be described in detail below.

〔実施例1〕
この実施例1においては、以下の工程を経て磁気ディスク用ガラス基板を製造した。
[Example 1]
In Example 1, a magnetic disk glass substrate was manufactured through the following steps.

(1)形状加工工程
溶融させたアルミノシリケートガラスをプレス加工によりディスク状に成型し、ガラスディスクを得た。なお、アルミノシリケートガラスとしては、SiOを57乃至74mol%、ZrOを0乃至2.8mol%、Alを3乃至15mol%、LiOを7乃至16mol%、NaOを4乃至14mol%を主成分として含有する化学強化用ガラスを使用した。
(1) Shape processing step The molten aluminosilicate glass was molded into a disk shape by press working to obtain a glass disk. As the aluminosilicate glass, SiO 2 is 57 to 74 mol%, ZrO 2 is 0 to 2.8 mol%, Al 2 O 3 is 3 to 15 mol%, LiO 2 is 7 to 16 mol%, and Na 2 O is 4 to 4%. A chemically strengthened glass containing 14 mol% as a main component was used.

次いで、砥石を用いて研削することによりガラスディスクの中心部に円孔を形成するとともに、外周側端面及び内周側端面に所定の面取り加工を施した。   Next, a circular hole was formed at the center of the glass disk by grinding with a grindstone, and predetermined chamfering was performed on the outer peripheral side end surface and the inner peripheral side end surface.

(2)研削工程
次に、得られたガラスディスクの主表面を研削加工した。研削加工では、両面研削装置として遊星歯車機構を用いて、アルミナ砥粒を含む研削液を用いて加工を行い、ガラスディスクの寸法精度と形状精度を所定とした。遊星歯車機構の上下定盤は、球状黒鉛含有鋳鉄からなるものを使用した。
(2) Grinding process Next, the main surface of the obtained glass disk was ground. In the grinding process, a planetary gear mechanism was used as a double-side grinding apparatus, and the grinding process was performed using a grinding liquid containing alumina abrasive grains, and the dimensional accuracy and shape accuracy of the glass disk were set to be predetermined. The upper and lower surface plates of the planetary gear mechanism were made of cast iron containing spheroidal graphite.

この研削工程においては、遊星歯車機構においてキャリアの外周側位置に保持されたガラスディスクは、下側定盤及び上側定盤に対する相対移動の過程において、ガラスディスクの表面の一部を、これら下側定盤及び上側定盤の外縁部よりも外周側を通過させる、いわゆる「オーバーハング回転」を行うようにした。   In this grinding step, the glass disk held at the outer peripheral side position of the carrier in the planetary gear mechanism moves a part of the surface of the glass disk to the lower side in the process of relative movement with respect to the lower surface plate and the upper surface plate. The so-called “overhang rotation” is performed in which the outer peripheral side of the surface plate and the upper surface plate is passed through the outer peripheral side.

得られたガラスディスクの内径は20mm、外径は65mm、板厚は0.635mmであり、2.5インチ型磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法であることを確認した。   The obtained glass disk had an inner diameter of 20 mm, an outer diameter of 65 mm, a plate thickness of 0.635 mm, and was confirmed to be a predetermined size of a glass substrate for a 2.5 inch magnetic disk.

ガラスディスクの表面形状を観察したところ、主表面の表面粗さはRmaxで2μm、Raで0.3μm程度であった。端面の表面粗さを観察したところ、側面部及び面取り面ともにRmaxで14μm、Raで0.5μmであった。   When the surface shape of the glass disk was observed, the surface roughness of the main surface was about 2 μm in Rmax and about 0.3 μm in Ra. When the surface roughness of the end face was observed, both the side surface portion and the chamfered surface were 14 μm in Rmax and 0.5 μm in Ra.

(3)端面部分鏡面研磨工程
まず、ガラスディスクの外周側端面について、ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。このとき、研磨砥粒としては酸化セリウム砥粒を含むスラリー(遊離砥粒)を用いた。次に内周側端面についても、ブラシ研磨方法により鏡面研磨を行った。そして、端面部分鏡面研磨を終えたガラスディスクを水洗浄した。
(3) End surface partial mirror polishing step First, the outer peripheral side end surface of the glass disk was subjected to mirror polishing by a brush polishing method. At this time, slurry (free abrasive grains) containing cerium oxide abrasive grains was used as the abrasive grains. Next, the inner peripheral side end face was also subjected to mirror polishing by a brush polishing method. And the glass disk which finished the end surface partial mirror polishing was washed with water.

(4)第1研磨工程
次に、主表面研磨工程として、第1研磨工程を施した。この第1研磨工程においては、研磨布(硬質樹脂ポリッシャの研磨パッド)を用いて、遊星歯車機構により主表面研磨を行った。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いた。
(4) 1st grinding | polishing process Next, the 1st grinding | polishing process was performed as a main surface grinding | polishing process. In the first polishing step, main surface polishing was performed by a planetary gear mechanism using a polishing cloth (a polishing pad of a hard resin polisher). As the abrasive, cerium oxide abrasive grains were used.

第一研磨工程を終えたガラス基板を、純水(1)、中性洗剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。   The glass substrate after the first polishing step was cleaned by sequentially immersing it in each cleaning tank of pure water (1), neutral detergent, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying).

(5)第2研磨工程
次に、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程においては、研磨布(軟質発泡樹脂ポリッシャ)を用いて、遊星歯車機構により主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒に比べ微細な酸化セリウム砥粒を用いた。
(5) Second Polishing Step Next, a second polishing step was performed as a mirror polishing step for the main surface. In this second polishing step, mirror polishing of the main surface was performed by a planetary gear mechanism using a polishing cloth (soft foam resin polisher). As the polishing agent, fine cerium oxide abrasive grains were used as compared with the cerium oxide abrasive grains used in the first polishing step.

(6)第1洗浄工程
第二研磨工程を終えたガラス基板を、中性洗剤(1)、純水(1)、中性洗剤(2)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
(6) 1st washing process The glass substrate which finished the 2nd polishing process, neutral detergent (1), pure water (1), neutral detergent (2), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), It was immersed in each washing tank of IPA (steam drying) in order and washed. In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

(7)化学強化工程
次に、前述の研削及び研磨工程を終えたガラス基板に化学強化を施した。化学強化は、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)を混合した化学強化溶液を用意し、この化学強化溶液を400°Cに加熱し、300°Cに予熱された洗浄済みのガラス基板を約3時間浸漬して行った。この浸漬の際に、ガラス基板の表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるようにホルダーに収納した状態で行った。
(7) Chemical strengthening process Next, the glass substrate which finished the above-mentioned grinding and polishing process was chemically strengthened. For chemical strengthening, a chemically strengthened solution prepared by mixing potassium nitrate (60%) and sodium nitrate (40%) is prepared, and this chemically strengthened solution is heated to 400 ° C and preheated to 300 ° C. Was immersed for about 3 hours. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass substrate, the plurality of glass substrates were stored in a holder so as to be held by the end surfaces.

このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、ガラス基板表層のリチウムイオン、ナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン、カリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。   Thus, by immersing in the chemical strengthening solution, the lithium ions and sodium ions on the surface of the glass substrate are replaced with sodium ions and potassium ions in the chemical strengthening solution, respectively, and the glass substrate is strengthened.

ガラス基板の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約100乃至200μmであった。   The thickness of the compressive stress layer formed on the surface layer of the glass substrate was about 100 to 200 μm.

化学強化を終えたガラス基板を、20°Cの水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。   The glass substrate that had been chemically strengthened was immersed in a 20 ° C. water bath for rapid cooling and maintained for about 10 minutes.

(8)第2洗浄工程
化学強化処理を終えたガラス基板を、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラス基板を、純水、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄した。なお、各洗浄槽には超音波を印加した。
(8) 2nd washing | cleaning process The glass substrate which finished the chemical strengthening process was immersed in the concentrated sulfuric acid heated to about 40 degreeC, and was wash | cleaned. Furthermore, the glass substrate that had been subjected to the sulfuric acid cleaning was sequentially immersed in each cleaning tank of pure water, pure water, IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) and cleaned. In addition, ultrasonic waves were applied to each cleaning tank.

前述の工程を経て得られた磁気ディスク用ガラス基板の円孔の内周側端面の表面粗さは、面取り面でRmax0.4μm、Ra0.04μm、側面部でRmax0.4μm、Ra0.05μmであった。外周端面における表面粗さRaは、面取り面で0.04μm、側面部で、0.07μmであった。このように、内周側端面は、外周側端面と同様に、鏡面状に仕上がっていることを確認した。   The surface roughness of the inner peripheral side end surface of the circular hole of the magnetic disk glass substrate obtained through the above-described steps was Rmax 0.4 μm and Ra 0.04 μm on the chamfered surface, and Rmax 0.4 μm and Ra 0.05 μm on the side surface. It was. The surface roughness Ra at the outer peripheral end surface was 0.04 μm at the chamfered surface and 0.07 μm at the side surface portion. As described above, it was confirmed that the inner peripheral side end face was finished in a mirror surface like the outer peripheral side end face.

また、ガラス基板の主表面部の表面粗さRaは、0.5nm(AFMで測定)であった。電子顕微鏡(4000倍)で端面表面を観察したところ、側面部及び面取り面は鏡面状態であった。また、円孔の内周側端面である側面部及び面取り面に異物やクラックは認められず、ガラス基板の表面についても、異物やサーマルアスペリティの原因となるパーティクルは認められなかった。さらに、抗折強度試験機(島津オートグラフDDS−2000)を用いて抗折強度を測定したところ、12乃至20kgであった。   Further, the surface roughness Ra of the main surface portion of the glass substrate was 0.5 nm (measured by AFM). When the end surface was observed with an electron microscope (4000 times), the side surface and the chamfered surface were in a mirror state. Further, no foreign matter or cracks were observed on the side surface and the chamfered surface, which are the inner peripheral side end faces of the circular holes, and no foreign matter or particles causing thermal asperity were found on the surface of the glass substrate. Furthermore, when the bending strength was measured using a bending strength tester (Shimadzu Autograph DDS-2000), it was 12 to 20 kg.

(9)成膜工程
次に、以下の工程を経て、磁気ディスクを製造した。
(9) Film formation process Next, the magnetic disk was manufactured through the following processes.

前述のようにして得た磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、静止対向型のDCマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Al−Ru合金第1下地層、Cr−Mo合金第2下地層、Co−Cr−Pt−B合金磁性層、水素化炭素保護層を順次成膜した。次にアルコール変性パーフロロポリエーテル潤滑層をディップ法で成膜した。この様にして磁気ディスクを得た。   On both main surfaces of the glass substrate for magnetic disk obtained as described above, an Al—Ru alloy first underlayer, a Cr—Mo alloy second underlayer, Co— A Cr—Pt—B alloy magnetic layer and a hydrogenated carbon protective layer were sequentially formed. Next, an alcohol-modified perfluoropolyether lubricating layer was formed by dipping. In this way, a magnetic disk was obtained.

〔比較例〕
この比較例においては、研削工程において、遊星歯車機構においてキャリアに保持された全てのガラスディスクは、下側定盤及び上側定盤に対する相対移動の過程において、これら下側定盤及び上側定盤の外縁部よりも外周側にはみ出さないようにし、いわゆる「オーバーハング回転」を行わないようにした。
[Comparative example]
In this comparative example, in the grinding process, all the glass disks held by the carrier in the planetary gear mechanism are moved by the lower surface plate and the upper surface plate in the process of relative movement with respect to the lower surface plate and the upper surface plate. In order not to protrude beyond the outer edge, the so-called “overhang rotation” was not performed.

そして、他の工程については前述の実施例1と同様として、磁気ディスク用ガラス基板を作成した。また、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて、前述の実施例1と同様の工程により、磁気ディスクを作成した。   And about the other process, it carried out similarly to the above-mentioned Example 1, and created the glass substrate for magnetic discs. Further, a magnetic disk was prepared by the same process as in Example 1 using the magnetic disk glass substrate.

〔各実施例と各比較例との対比〕
(磁気ディスク用ガラス基板としての比較)
各実施例により作成された多数の磁気ディスク用ガラス基板と、比較例により作成された多数の磁気ディスク用ガラス基板とについて、以下の〔表1〕に示すように、主表面部の形状についてのデータを比較した。
[Contrast between each example and each comparative example]
(Comparison as glass substrate for magnetic disk)
As shown in the following [Table 1], the shape of the main surface portion of the large number of glass substrates for magnetic disks prepared by each example and the large number of glass substrates for magnetic disks prepared by the comparative example. The data were compared.

〔表1〕中、磁気ディスク用ガラス基板の端部形状についての工程能力指数Cpは、端部形状の規格であるダブオフ値についての工程能力指数である。ダブオフ値とは、磁気ディスク用ガラス基板の中心から30.4mmにおけるガラス基板の表面と、中心から31.9mmにおけるガラス基板の表面とを結んだ直線と、この間におけるガラス基板表面の形状線との最大乖離距離を示す数値であり、既定値は±25nm以内となっている。そして、工程能力指数Cpとは、ダブオフ値の分布が正規分布となることを前提として、ばらつき(標準偏差)をσとし、規格値の上限(+25nm)をS、規格値の下限(−25nm)をSとしたとき、以下のように示される値である。
Cp=(S−S)/6σ
In [Table 1], the process capability index Cp for the end shape of the glass substrate for magnetic disks is a process capability index for the dub-off value, which is a standard for the end shape. The dub-off value is a straight line connecting the surface of the glass substrate at 30.4 mm from the center of the glass substrate for magnetic disk and the surface of the glass substrate at 31.9 mm from the center, and the shape line of the glass substrate surface in the meantime. It is a numerical value indicating the maximum deviation distance, and the default value is within ± 25 nm. The process capability index Cp is based on the assumption that the distribution of the dub-off value is a normal distribution. The variation (standard deviation) is σ, the upper limit (+25 nm) of the standard value is S U , and the lower limit (−25 nm) of the standard value. ) Is a value expressed as follows, when S L is set.
Cp = (S U −S L ) / 6σ

工業的生産においては、工程能力指数Cpが1.33以上であることが求められ、1.67未満で十分であることとなっている。したがって、実施例の磁気ディスク用ガラス基板は、工業的生産において十分に不良率が低いことが確認され、一方、比較例の磁気ディスク用ガラス基板は、工業的生産において不良率が高すぎることが確認された。   In industrial production, the process capability index Cp is required to be 1.33 or more, and less than 1.67 is sufficient. Therefore, it is confirmed that the glass substrate for magnetic disk of the example has a sufficiently low defect rate in industrial production, while the glass substrate for magnetic disk of the comparative example has a defect rate that is too high in industrial production. confirmed.

また、実施例の磁気ディスク用ガラス基板と比較例の磁気ディスク用ガラス基板との表面粗さを比較した。測定は、原子間カ顕微鏡を用いて、ガラス基板の主表面の所定領域(記録領域となる円環状領域における縦5μm横5μmの矩形状の微小領域)について行った。その結果、各実施例のガラス基板と比較例のガラス基板は、ともに、表面粗さは同等(表面粗さRaで略0.5nm)であった。   Moreover, the surface roughness of the glass substrate for magnetic disks of an Example and the glass substrate for magnetic disks of a comparative example was compared. The measurement was performed on a predetermined region on the main surface of the glass substrate (a rectangular minute region having a length of 5 μm and a width of 5 μm in an annular region serving as a recording region) using an atomic microscope. As a result, both the glass substrate of each example and the glass substrate of the comparative example had the same surface roughness (surface roughness Ra was about 0.5 nm).

(磁気ディスクとしての比較)
実施例により得られた磁気ディスクについて、異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。また、グライドテストを実施したところ、ヒット(ヘッドが磁気ディスク表面の突起にかすること)やクラッシュ(ヘッドが磁気ディスク表面の突起に衝突すること)は認められなかった。さらに、磁気抵抗型ヘッドで再生試験を行ったところ、サーマルアスペリティ障害による再生の誤動作は認められなかった。
(Comparison as a magnetic disk)
About the magnetic disk obtained by the Example, it confirmed that the defect did not generate | occur | produce in films | membranes, such as a magnetic layer, by the foreign material. In addition, when the glide test was performed, no hit (the head bited against the protrusion on the surface of the magnetic disk) or crash (the head collided with the protrusion on the surface of the magnetic disk) was not recognized. Furthermore, when a reproduction test was conducted with a magnetoresistive head, no malfunction of reproduction due to thermal asperity failure was found.

また、比較例により得られた磁気ディスクについて、異物により磁性層等の膜に欠陥が発生していないことを確認した。   In addition, it was confirmed that the magnetic disk obtained by the comparative example had no defects in the film such as the magnetic layer due to the foreign matter.

次に、実施例及び比較例において得られた磁気ディスクのについてのロードアンロード(LUL)耐久試験を行った。すなわち、得られた磁気ディスクをハードディスクドライブに搭載して連続してロードアンロード動作を繰り返し行った。その結果は、実施例については、ロードアンロード耐久性として、100台中100台において、60万回以上のロードアンロード動作に耐久することができ、充分な耐久性となっていることが確認された。   Next, a load / unload (LUL) durability test was performed on the magnetic disks obtained in the examples and comparative examples. That is, the obtained magnetic disk was mounted on a hard disk drive, and the load / unload operation was repeated continuously. As a result, it was confirmed that the load and unload durability of the examples can be withstood for 600,000 times or more of load / unload operations in 100 out of 100 units, and the durability is sufficient. It was.

これに対し、比較例については、100台中45台において、60万回未満のロードアンロード動作においてクラッシュ障害を生じ、充分な耐久性が実現されていないことが確認された。   On the other hand, as for the comparative example, in 45 out of 100 units, it was confirmed that a crash failure occurred in the load / unload operation less than 600,000 times, and sufficient durability was not realized.

したがって、本発明は、ロードアンロード(LUL)方式で記録再生されるハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク、あるいは、この磁気ディスク用のガラス基板として特に好適であることが確認された。また、ロードアンロード方式のハードディスクドライブでは、コンタクトスタートストップ(CSS)方式のハードディスクドライブに比ペて、表面が平坦平滑な磁気ディスクを用いる必要があるが、本発明に係る磁気ディスクは、例えば、タッチダウンハイトが4nm、あるいは、それ以下の磁気ディスクとすることができるので、ロードアンロード方式のハードディスクドライブに好ましく搭載することができる。   Therefore, it was confirmed that the present invention is particularly suitable as a magnetic disk mounted on a hard disk drive that is recorded / reproduced by the load / unload (LUL) method, or a glass substrate for the magnetic disk. Further, in a load / unload type hard disk drive, it is necessary to use a magnetic disk having a flat and smooth surface as compared with a contact start / stop (CSS) type hard disk drive. Since the magnetic disk having a touchdown height of 4 nm or less can be used, it can be preferably mounted on a load / unload type hard disk drive.

本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造される磁気ディスク用ガラス基板の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the glass substrate for magnetic discs manufactured by the manufacturing method of the glass substrate for magnetic discs which concerns on this invention. 前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において使用する両面研削装置となる遊星歯車機構の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the planetary gear mechanism used as the double-sided grinding apparatus used in the manufacturing method of the said glass substrate for magnetic discs. 前記磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において使用する遊星歯車機構におけるガラスディスクと各定盤との位置関係を示す側面図である。It is a side view which shows the positional relationship of the glass disk and each surface plate in the planetary gear mechanism used in the manufacturing method of the said glass substrate for magnetic discs.

符号の説明Explanation of symbols

1 磁気ディスク用ガラス基板
2 中心孔
3,4 定盤
7 ガラスディスク
8 摺接面
9 溝
11 太陽ギヤ
12 内歯ギヤ
13 キャリア
14 歯部
15 透孔部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Glass substrate for magnetic discs 2 Center hole 3, 4 Surface plate 7 Glass disk 8 Sliding contact surface 9 Groove 11 Sun gear 12 Internal gear 13 Carrier 14 Tooth part 15 Through-hole part

Claims (2)

摺接面を有する一対の定盤を用いて、これら定盤の摺接面をガラスディスクの両面に対して相対的に摺動させ、前記ガラスディスクの表面を研削、または、研磨する研削工程及び/又は研磨工程を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
少なくとも前記研削工程、または、前記研磨工程のいずれか一方において、下側定盤と、この下側定盤の中心部に設けられた太陽歯車と、下側定盤の外縁に設けられた内歯車と、外周部に前記太陽歯車及び前記内歯車に噛合する歯部を有し前記ガラスディスクを保持する円板状のキャリアと、下側定盤に対向する上側定盤とを用いて、前記キャリアに前記ガラスディスクを保持させ、このキャリアの外周部の歯部を前記太陽歯車及び前記内歯車に噛合させ、前記太陽歯車及び前記内歯車の少なくともいずれか一方を回転駆動することにより、これら定盤と前記キャリアに保持されたガラスディスクとを相対的に摺動させる処理を行い、
前記キャリアに保持された前記ガラスディスクの一部は、少なくとも一部を、前記下側定盤及び前記上側定盤に対する相対移動の過程において、これら下側定盤及び上側定盤の外縁部よりも外周側を通過させる
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
Using a pair of surface plates having sliding surfaces, a sliding step of sliding the surface of the surface plates relative to both surfaces of the glass disk, and grinding or polishing the surface of the glass disk; A method for producing a glass substrate for a magnetic disk including a polishing step,
At least in any one of the grinding step or the polishing step, a lower surface plate, a sun gear provided at the center of the lower surface plate, and an internal gear provided at the outer edge of the lower surface plate And a carrier having a disc shape having a tooth portion meshing with the sun gear and the internal gear on an outer peripheral portion and holding the glass disk, and an upper surface plate facing the lower surface plate, Holding the glass disk, meshing the teeth of the outer periphery of the carrier with the sun gear and the internal gear, and rotating and driving at least one of the sun gear and the internal gear. And a process of relatively sliding the glass disk held by the carrier,
A part of the glass disk held by the carrier is at least partly in the process of relative movement with respect to the lower surface plate and the upper surface plate, than the outer edge portions of the lower surface plate and the upper surface plate. A method for producing a glass substrate for a magnetic disk, wherein the outer peripheral side is passed.
請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の主表面上に、少なくとも磁性層を形成する
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
A method for producing a magnetic disk, comprising: forming at least a magnetic layer on a main surface of the glass substrate for a magnetic disk produced by the method for producing a glass substrate for a magnetic disk according to claim 1.
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