JP2008058361A - カラーフィルタ及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】MVAパターン密度の高い部分と密度の低い部分にPSを形成するカラーフィルタの製造方法であって、遮光部に形成するPSパターン形成は、パターン密度の高い領域ではその膜厚が厚く、密度の低い領域では膜厚が薄く、そのレジスト膜厚にうねりをつけるようにレジストを形成する工程を少なくとも含む構成によりMVA設計を利用したサブPS付きカラーフィルタを製造するカラーフィルタの製造方法。
【選択図】図1
Description
基板上にR画素パターン部を形成する。なお、画素パターンは、R用の、G用の、B画素用と、3回の工程を繰り返し実行する。
前記MVAパターン密度の高い部分にPSを、密度の低い部分にサブPSを形成することを特長とするカラーフィルタの製造方法である。
前記MVAパターン密度の高い部分にPSが、密度の低い部分にサブPSが形成されていることを特長とするカラーフィルタである。
ジストのうねり現象が発生する。
、MVAパターン密度の高い領域を形成することが可能となる。この場合、膜厚差が拡大しすぎたときは、例えば、B画素3cを配置せず、若しくはG画素3b及びB画素3cを除去することにより、最適膜厚差となるようPS用レジストを塗布する。この場合では、MVAパターン密度の低い領域は、例えばBM2、透明電極4を積層した基板上に、MVAパターン密度の低い領域を形成することとなる。その塗布工程は、BM2上に、R画素3a、G画素3b、B画素3cと、透明電極4との積層面上に、MVAパターン密度の高い領域の面と、BM2、透明電極4の面上に、MVAパターン密度の低い領域の面が混在する基板上にレジストを塗布し、そのレジストにPSとサブPSを形成する製造方法である。この方法では、MVAパターン密度の高い領域に付加した複数層積層部位の段差の強調部位の基板上にレジストを塗布し、そのレジスト膜厚差をより拡大する手段であり、PSとサブPSの膜厚差を拡大して形成する製造方法である。
ている。実施例1のカラーフィルタは、形状評価、強度評価ともに良好である。
2…BM
2a…BM開口部
3…画素
3a…R画素
3b…G画素
3c…B画素
4…透明電極
5…PS
6…サブPS
9…レジスト
10…MVA
10a…MVA斜線部
10b…MVA縦線部
10c…MVA斜線端部
11…MVAパターン密度の高い部分
12…MVAパターン密度の高い部分
20…フォトマスク
21…大面積開口部
22…大面積開口部
30…TFT基板
40…液晶等
50…カラーフィルタ
Claims (6)
- 基板上に遮光部と、その開口部に画素部と、その上に透明電極とを形成し、さらに配向突起(MVA)部を形成した後、PSを形成するカラーフィルタの製造方法において、
前記MVAパターン密度の高い部分にPSを、密度の低い部分にサブPSを形成することを特長とするカラーフィルタの製造方法。 - 前記PSが遮光部に形成することを特長とする請求項1記載のカラーフィルタの製造方法。
- 前記PSは、膜厚が厚いPSと、薄いPSを一度に形成することを特長とする請求項1、又は2記載のカラーフィルタの製造方法。
- 前記PSパターン形成は、パターン密度の高い領域ではそのレジスト膜厚が厚く、密度の低い領域ではレジスト膜厚が薄くなるようレジスト膜厚にうねりをつけるようにレジストを形成する工程を少なくとも含む構成によりカラーフィルタを製造することを特長とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のカラーフィルタの製造方法。
- 基板上に遮光部と、その開口部に画素部と、その上に透明電極が形成され、さらに配向突起(MVA)部と、PSが形成されたカラーフィルタにおいて、
前記MVAパターン密度の高い部分にPSが、密度の低い部分にサブPSが形成されていることを特長とするカラーフィルタ。 - 前記PSが遮光部に形成されていることを特長とする請求項5記載のカラーフィルタ。
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