JP2008053609A - Defective data processor, defective data processing system, and defective data processing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体ウエハー等を検査する際に得られるデータを処理する欠陥データ処理装置、欠陥データ処理システム、及び欠陥データ処理方法に関する。 The present invention relates to a defect data processing apparatus, a defect data processing system, and a defect data processing method for processing data obtained when inspecting a semiconductor wafer or the like.
半導体ウエハー、フォトマスク、磁気ディスク、及び液晶基板等の製造工程において仕掛かり品や製品の表面に付着する異物や、傷、パターン欠陥等は製品不良の原因となるため、製造過程にある製品の外観を検査装置や観察装置によって検査・観察する作業が行われている。そして、その結果を元に欠陥の発生原因を究明し、製造工程にフィードバックすることで製品の歩留まりの向上を図っている。 Foreign materials, scratches, pattern defects, etc. that adhere to the surface of work-in-process products or products in the manufacturing process of semiconductor wafers, photomasks, magnetic disks, and liquid crystal substrates, etc., cause product defects. Work for inspecting and observing the appearance with an inspection device and an observation device is performed. Based on the results, the cause of the defect is investigated and fed back to the manufacturing process to improve the product yield.
この種のシステムでは、一般に、検査された部品(例えば、半導体ウエハー上に形成されたチップのパターン)を走査型電子顕微鏡(SEM(Scanning Electron Microscope))を応用したいわゆるSEM式観察装置を用いて観察する際、オペレーターの負担が低減するような工夫がなされている(特許文献1等参照)。
In this type of system, generally, an inspected part (for example, a pattern of a chip formed on a semiconductor wafer) is used by using a so-called SEM observation apparatus to which a scanning electron microscope (SEM) is applied. A device has been devised to reduce the burden on the operator when observing (see
ところで、検査装置の故障やライン拡大等の理由により、既存の検査装置を一部別のものに交換したり、既存のラインに検査装置を追加したりする場合等には、検査装置の製造元の違いや個体差から生じる検査結果の誤差に注意する必要がある。これは、各検査装置の管理基準の一元化をしたり、過去から蓄積されてきた検査情報を継続利用したりして検査効率の維持・向上を図るために、新しく導入する検査装置による検査結果が既存の検査装置の検査結果と概ね同じになること(例えば、同一の被検査物を検査した場合に、欠陥の検出個数、欠陥のサイズ等が概ね同じであること。)が求められるからである。検査結果の誤差を知得するには、各検査装置による検査結果の比較評価(マッチング評価)を行う必要がある。 By the way, when replacing an existing inspection device with another one or adding an inspection device to an existing line due to a failure of the inspection device or line expansion, the manufacturer of the inspection device It is necessary to pay attention to the error of the test result caused by differences and individual differences. In order to maintain and improve inspection efficiency by unifying the management standards of each inspection device and continuously using inspection information accumulated from the past, the inspection results from newly introduced inspection devices This is because it is required to be substantially the same as the inspection result of the existing inspection apparatus (for example, when the same inspection object is inspected, the number of detected defects, the size of the defect, etc. are substantially the same). . In order to know the error of the inspection result, it is necessary to perform the comparative evaluation (matching evaluation) of the inspection result by each inspection apparatus.
しかし、現状ではマッチング評価を行うために必要な各欠陥の検査結果の解析はオペレーターによる手作業で行う必要があり、異なる検査結果から同一の欠陥を判別する作業(いわゆる「突き合わせ」)や、突き合わせた欠陥を基準にして座標を補正して誤差の程度を知得する作業等を行うためには膨大な時間を要していた。 However, at present, analysis of inspection results for each defect necessary for performing matching evaluation must be performed manually by the operator, such as the task of determining the same defect from different inspection results (so-called “matching”) and matching. It took an enormous amount of time to correct the coordinates on the basis of the defect and to know the degree of error.
本発明の目的は、複数の検査装置による検査結果の誤差を効率良く評価することができる欠陥データ処理装置、欠陥データ処理システム、及び欠陥データ処理方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a defect data processing apparatus, a defect data processing system, and a defect data processing method capable of efficiently evaluating errors in inspection results from a plurality of inspection apparatuses.
上記目的を達成するために、本発明は、被検査物上の欠陥に関するデータを処理する欠陥データ処理装置において、同一の被検査物上の欠陥を複数の検査装置によってそれぞれ検査して得られる複数の検査情報であって、検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報、及び、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて前記被検査物上の欠陥を観察装置によってそれぞれ観察して得られる複数の観察情報であって、観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み前記複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報が入力され、この入力された前記複数の検査情報及び前記複数の観察情報を用いた処理結果を表示する表示部に、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点で表される複数の欠陥分布を同一画面上に表示し、処理内容を指示する入力部によって前記表示部の画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を前記表示部に表示するものとする。 In order to achieve the above object, the present invention provides a defect data processing apparatus for processing data relating to defects on an object to be inspected, which is obtained by inspecting defects on the same object by a plurality of inspection apparatuses. A plurality of pieces of inspection information each including defect position information obtained for each inspection, and defects on the inspected object based on the defect position information obtained for each inspection by an observation device A plurality of pieces of observation information obtained by observing each of the plurality of pieces of observation information respectively including defect image information obtained for each observation and corresponding to the plurality of pieces of inspection information are input. Displayed by plot points arranged on the basis of defect position information obtained for each inspection on the display unit that displays the processing information using the inspection information and the plurality of observation information. A plurality of defect distributions displayed on the same screen, and when an arbitrary plot point on the screen of the display unit is selected by the input unit for instructing the processing content, the defect inspection corresponding to the selected plot point is inspected Information and observation information are displayed on the display unit.
本発明によれば、マッチング評価に適した欠陥データ処理を行うことができるので、複数の検査装置による検査結果の誤差を効率良く評価することができる。 According to the present invention, since defect data processing suitable for matching evaluation can be performed, errors in inspection results by a plurality of inspection apparatuses can be efficiently evaluated.
以下、本発明の実施の形態を図面を用いて説明する。ここでは半導体製造ラインに本発明を適用した例を説明する。なお、以下において、被検査物(例えば、半導体ウエハー、フォトマスク、磁気ディスク、及び液晶基板等)の表面に付着する異物、パターンの形状の異常、及び前工程での欠陥が原因となって発生するパターン異常(パターンの下に異物が埋もれる)等をまとめて「欠陥」と記載する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Here, an example in which the present invention is applied to a semiconductor production line will be described. In the following, it occurs due to foreign matter adhering to the surface of an object to be inspected (for example, semiconductor wafer, photomask, magnetic disk, liquid crystal substrate, etc.), abnormal pattern shape, and defects in the previous process. Pattern anomalies (such as foreign matter buried under the pattern) are collectively described as “defects”.
図1は本発明の実施の形態である欠陥データ処理システムの概略構成を示す図である。 FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a defect data processing system according to an embodiment of the present invention.
図に示す欠陥データ処理システムは、製品ウエハー(被検査物)の外観を検査して、欠陥の位置や数等が含まれ欠陥の特徴を示す情報である欠陥特徴量、及び、欠陥の検査画像(検査像)である画像情報等で構成される検査情報を検出する外観検査装置(検査装置)1A及び外観検査装置(検査装置)1Bと、検査装置1A,1Bの検査情報(主に欠陥の位置情報)に基づいて欠陥を観察(レビュー)して、欠陥の大きさ、形状、及び種類等の欠陥特徴量、及び、欠陥の観察画像(観察像)である画像情報等で構成される観察情報を検出する観察装置2と、製品ウエハーをプローブ検査するプローブ検査装置3と、内部環境が清浄に保たれており、検査装置1A,1B、観察装置2、及びプローブ検査装置3等が設けられているクリーンルーム4と、検査装置1A,1B、観察装置2、及びプローブ検査装置3等からの欠陥情報(検査情報や観察情報を含む)が入力され、その入力された欠陥情報を処理する欠陥データ処理装置(データ処理装置)5とを主に備えている。
The defect data processing system shown in the figure inspects the appearance of a product wafer (inspected object), and includes defect feature quantities, which are information indicating defect features, including defect positions and numbers, and defect inspection images. Appearance inspection apparatus (inspection apparatus) 1A and appearance inspection apparatus (inspection apparatus) 1B for detecting inspection information composed of image information, etc. (inspection images), and inspection information (mainly for defects) Observation (review) of defects based on (position information), observation consisting of defect feature quantities such as defect size, shape, and type, and image information that is an observation image (observation image) of the defect An
欠陥データ処理装置5は、欠陥情報を処理するプログラムに基づいたデータ処理等を行う処理部5a(例えば、中央処理装置(Central Processing Unit))と、欠陥情報の処理プログラムや欠陥情報等を記憶する記憶部5b(例えば、ハードディスクやRAM(Random Access Memory)等の記憶装置)と、処理部5aによる処理結果を表示する表示部5c(例えば、モニター)と、処理部5aへの指示をオペレーター等の操作によって入力する入力部5d(例えば、マウス及びキーボード)と、他の装置とのデータの入出力が行われる通信部5eとを有している。
The defect
このように構成されたデータ処理システムにおいて、製品となるウエハーは、ロット単位で複数の製造工程8を流れており、検査を行うことが予め決められている工程が終了した後に作業者又は搬送機によって検査装置1まで運ばれて検査処理が行われる。外観検査を終了したウエハーは外観不良を観察するためにロットに戻されて観察装置2へ運ばれ、そのロット内から予め決められたウエハーが取り出されてレビューされる。
In the data processing system configured as described above, a wafer as a product flows through a plurality of
外観検査装置1A,1B、観察装置2、及びプローブ検査装置3は、ぞれぞれ通信回線9を介してデータ処理装置5の通信部5eと接続されており、各装置1,2,3が検出した欠陥情報をデータ処理装置5へ送信するとともにデータ処理装置5から送信されるデータを受信している。
The
図2は本発明の実施の形態である欠陥データ処理システムにおけるデータの流れを示す図である。なお、先の図と同じ部分には同じ符号を付して説明は省略し、後の図においても同様とする。 FIG. 2 is a diagram showing a data flow in the defect data processing system according to the embodiment of the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the same part as the previous figure, description is abbreviate | omitted, and it is the same also in a later figure.
図2において、本発明の実施の形態である欠陥データ処理システムは、検査装置1A,1Bからデータ処理装置5へ送信される検査情報21と、データ処理装置5から観察装置2へ送信される検査情報22と、観察装置2からデータ処理装置5に送信される観察情報23とを主に利用している。
In FIG. 2, the defect data processing system according to the embodiment of the present invention includes
検査情報21は、外観検査装置1が検出した欠陥に関する情報であり、例えば、ロット番号、ウエハー番号、検査工程、及び検査日時等のウエハーの基本情報をはじめとして、欠陥の識別番号(ID(Identification number))に関連づけて得られる欠陥の座標(位置)や検査像(例えば、欠陥の座標位置での画像の中から自動的に収録した欠陥画像(ADR画像))、又は欠陥の大きさ等の欠陥特徴量等が含まれている。この欠陥特徴量には、欠陥の属性の違いによって、歩留まりに直接影響を与える欠陥(実欠陥)と、歩留まりに直接影響を与えない欠陥(ニュイサンス(Nuisance)欠陥)とを自動的に分類する機能(RDC(Real-Time Defect Classification)機能)から得られる分類データ(RDC情報)が含まれており、例えば、後述する図5の画面60上に列挙されている、最大グレーレベル差、参照画像平均グレーレベル、欠陥画像平均グレーレベル、極性、検査モード、欠陥サイズ等の情報が含まれている。なお、検査情報21は決められたフォーマットのテキストデータ等によってデータ処理装置5へ送信すると良い。
The
検査情報22は、検査装置1が検出した検査情報21のうち観察装置2へ送信されるものであり、主に、ウエハーの基本情報、欠陥の座標、及び欠陥の検査像等の情報が含まれている。なお、検査装置1によって出力される検査情報21が膨大なデータ量となる場合には、検査情報21を検査情報22として観察装置2へ送信するにあたって、データ処理装置5によって検査情報21の中から必要なものを選別し、それを検査情報22として送信すると送信データ量を削減できる。
The
観察情報23は、検査情報22に基づいて観察装置2が欠陥を観察して得られる情報であり、例えば、観察装置2が検査情報22に基づいて得た欠陥検出部の観察像(例えば、ADR画像)や、この観察像に基づいて欠陥を大きさや種類等に分けて自動的に分類する機能(ADC(Automatic Defect Classification)機能)から得られる欠陥の分類データ等が含まれている。
The
なお、上記の説明において、外観検査装置1の種類については特に限定しなかったが、例えば、明視野検査装置、暗視野検査装置、又はいわゆるSEM(Scanning Electron Microscope)式検査装置等を用いてもよい。また、観察装置2についても、例えば、光学式観察装置や、SEM式観察装置等を用いても良い。
In the above description, the type of the
次に、本発明の実施の形態である欠陥データ処理システムが行うデータ処理を図3から図11を用いて説明する。図3から図11は本実施の形態の欠陥データ処理システムにおいて、データ処理装置5の表示部5cに表示される画面を示す図である。
Next, data processing performed by the defect data processing system according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3 to 11 are diagrams showing screens displayed on the display unit 5c of the
図3は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する欠陥解析画面の図である。 FIG. 3 is a diagram of a defect analysis screen displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す欠陥解析画面30は、データ処理装置5の表示部5c上に表示される画面である。画面30は、検査装置1A,1Bの検査ごとに得られる欠陥の位置情報(座標情報)に基づいて配置される複数のプロット点48、及びそのプロット点48が集合して表される欠陥分布31が表示される表示枠32と、検査装置1Aによって検出された欠陥のうち、欠陥分布31上で入力部5dによって選択された欠陥の画像(検査像又は観察像)が表示される表示枠33と、表示枠33に表示される欠陥画像を他の検査結果や観察結果のものに変更するプルダウンメニュー34と、表示枠33に表示された欠陥の特徴量(欠陥特徴量)が表示される表示枠35と、検査装置1Bによって検出された欠陥のうち、欠陥分布31上で入力部5dによって選択された欠陥の画像が表示される表示枠36と、表示枠36に表示される欠陥画像を他の検査結果や観察結果のものに変更するプルダウンメニュー37と、表示枠36に表示された欠陥の特徴量が表示される表示枠38と、欠陥分布31上で入力部5dによって選択した欠陥を補正処理の基準点(補正基準点)として登録するボタン39と、ボタン39で補正基準点として登録した欠陥の座標一覧が表示される画面80(後述)を表示するボタン40と、表示枠35及び表示枠37に表示する欠陥特徴量の項目を選択する画面60(後述)を表示するボタン41と、検査装置1Aと検査装置1Bによって検出された欠陥の座標一覧が表示される画面70(後述)を表示するボタン42と、画面30をプリンターで印刷するためのボタン43と、直前に表示した画面に戻るためのボタン44とから主に構成されている。
The
欠陥分布31は、検査装置1Aによって得られた欠陥分布31Aと、検査装置1Bによって得られた欠陥分布31Bとから構成されている。欠陥分布31Aと欠陥分布31Bとはそれぞれ異なる色(又は模様等)のプロット点で表示されており、各欠陥分布がいずれの検査装置で得られたものかが判別できるようになっている。本実施の形態では、欠陥の色分けを明示する表示45に示すように、検査装置1Aが検出した欠陥分布31Aは白色のプロット点で、検査装置1Bが検出した欠陥分布31Bは黒色のプロット点で示されている。なお、上記の説明では、欠陥分布31Aと欠陥分布31Bとは表示枠32内に重ねて表示されているが、各欠陥分布31A,31Bを別々の表示枠で表示するようにしても良い。この場合には、別個に設けた表示枠内におけるウエハー上の表示範囲が両表示枠で常に同じなるように設定する(例えば、一方の表示枠内の表示位置を変更すると、他方の表示枠の表示位置もそれに追随するように設定する。)と比較が行い易い。
The
また、欠陥分布31は、検査対象物体の全体を表示する欠陥分布であり、本実施の形態では半導体ウエハー全体が表示されている。データ処理装置5の入力部5dによって欠陥分布31上の範囲を指定する(例えば、欠陥分布31上の所望の範囲をマウスでドラッグして指定する。)と、その指定した範囲が拡大表示される。このように欠陥分布31を適宜拡大表示すると、欠陥の選択が容易になる。図4の表示枠32内に表示されている欠陥分布310は図3の欠陥分布31上に示す領域46を拡大して表示したものである。また、詳細は後述するが、欠陥分布31上の欠陥に付された印47は、ボタン39によって補正基準点として登録された欠陥に付されるものであり、これによりオペレーターは補正基準点の登録状況を視覚的に認知することができる。
The
図4は表示枠32に図3の欠陥分布31を拡大して表示した場合の欠陥解析画面の図である。
FIG. 4 is a diagram of a defect analysis screen when the
この図に示す拡大画面30aは、画面30を構成する上記の要素に加えて、欠陥分布31の全体が縮小表示される縮小マップ51を有している。この縮小マップ51上には、現在の表示枠32内に拡大表示されている部分を示す領域表示52がされており、この領域表示52によりオペレーターは拡大表示されている欠陥分布310が全体のどの辺りに位置しているかを判別することができる。また、入力部5dで縮小マップ51を選択すれば、表示枠32内の表示を画面30のものに戻すことができる。
The enlarged screen 30a shown in this figure has a reduced map 51 on which the
図5は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する欠陥特徴量の表示選択画面の図である。 FIG. 5 is a diagram of a defect feature amount display selection screen displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す特徴量選択画面60は画面30,30a上のボタン41を押すと表示部5cに表示される。画面60は、各検査から得られた後にデータ処理装置5に出力された欠陥特徴量の項目のリスト61と、リスト61の各項目に対応して設けられる複数のチェックボックス62と、入力部5dによってチェックボックス62で選択した特徴量の項目を表示枠35,38内に表示させるボタン63と、画面60における選択結果を反映せずに画面30,30aに戻るボタン64とから構成されている。
The feature
リスト61には、図に示すように、例えば、最大グレーレベル差、参照画像平均グレーレベル、欠陥画像平均グレーレベル、極性、検査モード、欠陥サイズ、欠陥画素数、欠陥サイズ幅、欠陥サイズ高さ、欠陥サイズ幅に対する高さの割合を示す欠陥サイズ比等が含まれている。なお、欠陥の特徴量として用いるものは、図5に示したものに限られず、検査の結果によって得られた情報であって各欠陥の特定に必要なものであれば、これら以外のものでも良い。チェックボックス62は入力部5dによって選択されると「レ点」が付され、このレ点が付されたものが欠陥の特徴量として表示枠35,38に表示される。
The
図6は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する欠陥の座標一覧画面の図である。 FIG. 6 is a diagram of a defect coordinate list screen displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す座標一覧画面70は画面30,30a上のボタン42を押すと表示部5cに表示される画面である。画面70は、検査装置1Aによって検出された全ての欠陥の座標が表示される座標表示部71と、検査装置1Bによって検出された全ての欠陥の座標が表示される座標表示部72と、これら座標表示部71,72を1画面内に表示しきれない場合に表示され、画面70上で上下することによって表示する欠陥を適宜選択することができるスクロールバー73と、画面70をプリンターで印刷するためのボタン74と、画面30又は画面30aに戻るためのボタン75とから主に構成されている。このように構成された画面70により、オペレーターは検査装置1A及び検査装置1Bによって検出された欠陥の識別番号(ID)及び座標を確認することができる。
A coordinate
図7は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する補正基準点の座標一覧画面の図である。 FIG. 7 is a diagram of a coordinate list screen of correction reference points displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す座標一覧画面80は画面30,30a上のボタン40を押すと表示部5cに表示される画面である。画面80は、検査装置1Aによって検出された欠陥であって、補正基準点として登録された欠陥の情報が表示される情報表示部81と、検査装置1Bによって検出された欠陥であって、補正基準点として登録された欠陥の情報が表示される情報表示部82と、情報表示部81,82に表示される1組の欠陥に対応して1つ設けられる複数のチェックボックス83と、これら情報表示部81,82を1画面内に表示しきれない場合に表示され、画面80上で上下することによって表示する欠陥を適宜選択することができるスクロールバー84と、チェックボックス83によって選択された欠陥の座標を利用して座標補正の計算を実行するためのボタン85と、選択された欠陥の情報を情報表示部81,82から削除するためのボタン86と、画面80をプリンターで印刷するためのボタン87と、画面30又は画面30aに戻るためのボタン88とから主に構成されている。
A coordinate
情報表示部81及び情報表示部82には、それぞれ、欠陥の識別番号(Defect ID)、観察装置2による欠陥の観察像(SEM画像)、検査装置1A又はBによって検出された欠陥の座標(Coordinate)、及び欠陥の大きさ(D Size)等が表示されている。また、情報表示部81,82は、本実施の形態では、画面30,30aで突き合わせが完了し補正基準点として登録した1組の欠陥(検査装置1Aによって検出された欠陥と、検出装置Bによって検出された欠陥との組合せ)の関係が理解し易いように、その1組の欠陥が左右隣同士に表示されている。
In the information display unit 81 and the
チェックボックス83には、初期設定として、そのすべてに「レ点(チェック)」が入れられており、登録されたすべての欠陥が座標補正処理に用いられるようになっている。レ点が入れられた欠陥を座標補正処理の対象から外したい場合には、レ点が付されたチェックボックス83を選択してレ点を除去することができる。これによって座標補正処理に利用する欠陥を適宜選択することができる。
In the
ボタン86は、例えば、欠陥の識別番号(Defect ID)を選択することによって欠陥を指定し、その指定された欠陥の情報を情報表示部81,82から削除するためのボタンである。削除する欠陥を指定する手段は、上記に挙げた識別番号の選択のみに限られない。例えば、観察画像や座標等の他の情報を選択して指定するように構成しても良いし、画面80に専用のチェックボックスを別途設け、ボタン86を押すとレ点を付した欠陥の情報が削除されるように構成しても良い。
The
図8は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する補正処理結果画面の図である。 FIG. 8 is a diagram of a correction processing result screen displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す補正処理結果画面100は、画面80上のボタン85を押すと表示部5cに表示される画面であり、ボタン85によって補正処理が実行されて、その処理が終了すると表示される。画面100は、算出された補正値が表示される表示枠101と、検査装置1Aによって得られた欠陥分布31Aにおいて補正基準点として登録された欠陥の座標が表示される座標表示部102と、検査装置1Bによって得られた欠陥分布31Bにおいて補正基準点として登録された欠陥の補正前及び補正後の座標が表示される座標表示部103と、欠陥分布31Aにおいて補正基準点として登録された欠陥の座標と欠陥分布31Bにおいて補正基準点として登録された欠陥の補正処理後の座標との誤差が表示される誤差表示部104と、その誤差の平均値(平均誤差)が表示される表示枠105と、座標表示部102、座標表示部103及び誤差表示部104を1画面内に表示しきれない場合に表示され、画面100上で上下することによって表示する情報を適宜選択することができるスクロールバー106と、補正処理の結果を用いて、欠陥分布31Aと補正処理後の欠陥分布31Bとの合致状況を判定する指標である合致率を算出するためのボタン107と、欠陥分布31Aにおいて補正基準点として登録された欠陥の座標と欠陥分布31Bにおいて補正基準点として登録された欠陥の補正処理後の座標との誤差の程度を原点からの距離で示す座標誤差分布図121(後述)を表示するためのボタン108と、画面100をプリンターで印刷するためのボタン109と、画面80に戻るためのボタン110とから主に構成されている。
The correction
図9は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する誤差分布図画面の図である。 FIG. 9 is a diagram of an error distribution diagram screen displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す座標誤差分布図画面120は、画面100上のボタン108を押すと表示部5cに表示される画面である。画面120は、欠陥分布31Aにおいて補正基準点として登録された欠陥の座標と欠陥分布31Bにおいて補正基準点として登録された欠陥の補正処理後の座標との誤差の分布図121と、分布図121の表示方法を設定する表示設定部122とから主に構成されている。
A coordinate error
誤差分布図121は、X軸方向の誤差の大きさを示すX軸123と、Y軸方向の誤差の大きさを示すY軸124と、X軸123及びY軸124から形成される平面上に誤差の値に応じてプロットされる複数のプロット点125とから構成されている。
The error distribution diagram 121 shows an
表示設定部122は、分布図121におけるX軸及びY軸の表示範囲を設定するレンジ設定部126と、プロット点の表示サイズを設定するマーカーサイズ設定部127と、レンジ設定部126及びマーカーサイズ設定部127に入力した値を分布図121に反映するためのボタン128と、画面120をプリンターで印刷するためのボタン129と、画面100に戻るためのボタン130とから主に構成されている。
The
レンジ設定部126には、X軸の表示範囲を設定するX軸設定部126aと、Y軸の表示範囲を設定するY軸設定部126bとが設けられている。設定部126a,126bは、各軸の表示範囲の最大値と最小値を入力するようになっており、その各入力値が分布図121上の軸の両端部の値となる。このようにレンジ設定部126を利用すると、分布図121の表示範囲を適宜設定することができるので、誤差の分布状況を容易に知ることができる。
The
図10は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する合致率表示画面の図である。 FIG. 10 is a diagram of a match rate display screen displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す合致率表示画面135は、画面100上のボタン107を押すと表示部5cに表示される画面である。画面135は、基準とした検査装置による欠陥分布(検査装置1Aによって得られた欠陥分布31A)、及び、他の検査装置による欠陥分布であって基準とした欠陥分布に近づくように補正処理した後の欠陥分布(検査装置1Bによって得られた欠陥分布31Bに補正処理をした後の欠陥分布137B)が表示される表示枠138と、異なる検査装置によって得られた欠陥分布の合致判定に利用されるしきい値(座標比較半径)を設定する設定部139と、補正処理した欠陥分布(欠陥分布137B)の欠陥の中で、基準となる欠陥分布(欠陥分布31A)の欠陥と合致したものの割合を示す合致率等の補正処理結果の評価値が示される結果判定部140とから主に構成されている。
The match
ここで、上記しきい値(座標比較半径)とは、基準となる欠陥分布上(欠陥分布31A上)の欠陥と補正した欠陥分布上(欠陥分布137B上)の欠陥との距離が設定したしきい値以内であれば、両欠陥は合致しているとみなされる数値であり、設定部139に任意の数値を入力部5dによって入力することにより設定される。
Here, the threshold value (coordinate comparison radius) is a distance between a defect on the reference defect distribution (on the
また、欠陥分布31Aと欠陥分布137Bとは、画面30の欠陥分布31と同様に、異なる色(又は模様等)のプロット点で表示されており、各欠陥がいずれの検査装置で検出されたものかが判別できるようになっている。また、画面30の説明箇所で説明したので詳細な説明は省略するが、表示枠138内の任意の範囲を入力部5dによって指定しても、その指定した範囲を拡大表示することができる。
Similarly to the
設定部139には、入力部5dによって座標比較半径を入力する入力部141と、入力部141に入力した値を合致率の算出に反映させるためのボタン142と、画面135をプリンターで印刷するためのボタン143とが設けられている。
In the
結果判定部140には、欠陥分布31Aと欠陥分布137Bとの合致率が表示される合致率表示部144と、合致した欠陥の割合がベン図で表示されるベン図表示部145と、画面30に戻るためのボタン146とが設けられている。ベン図表示部145は、欠陥分布31Aの欠陥の中で欠陥分布137Bの欠陥と合致しなかったものの数を示す部分148と、欠陥分布31A及び欠陥分布137Bにおける欠陥のうち互いに合致したものの数を示す部分149と、欠陥分布137Bの欠陥の中で欠陥分布31Aの欠陥と合致しなかったものの数を示す部分150とから成っており、ベン図表示部145の下方には各欠陥分布31A,137Bにおける欠陥の総数がそれぞれ表示されている。
The
図11は本発明の実施の形態であるデータ処理システムが表示部に表示する特徴量分布図画面の図である。 FIG. 11 is a diagram of a feature amount distribution diagram screen displayed on the display unit by the data processing system according to the embodiment of the present invention.
図に示す特徴量分布画面155は、合致率表示画面135で合致したとみなされた欠陥の欠陥情報のうち、複数の検査装置から任意に選択した検査装置(検査装置1A)及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量、並びに、残りの検査装置(検査装置1B)及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量に基づいて複数のプロット点159を配置することによって表されるグラフであって、複数の検査装置から任意に選択した検査装置(検査装置1A)及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量を一方の軸156に割り当て、残りの検査装置(検査装置1B)及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量を他方の軸157に割り当てた特徴量分布グラフ158を表示している。
The feature
特徴量分布図画面155は、更に、特徴量分布グラフ158が表示される表示枠160と、複数のプロット点159のうち、入力部5dによって選択された欠陥159aの検査装置1A及び観察装置2による欠陥像(検査像または観察像)が表示される表示枠161と、表示枠161に表示される欠陥像を他の検査・観察結果のものに変更するプルダウンメニュー162と、選択された欠陥159aの検査装置1A及び観察装置2によって得られた特徴量が表示される表示枠163と、選択された欠陥159aの検査装置1B及び観察装置2による欠陥像が表示される表示枠164と、表示枠164に表示される欠陥像を他の検査・観察結果のものに変更するプルダウンメニュー165と、選択された欠陥159aの検査装置1B及び観察装置2によって得られた特徴量が表示される表示枠166とから主に構成されている。
The feature quantity
表示枠160は、検査装置1A及び観察装置2から得られた欠陥特徴量の中からグラフ158の軸156に割り当てるものを選択するプルダウンメニュー167と、検査装置1B及び観察装置2から得られた欠陥特徴量の中から軸157に割り当てるものを選択するプルダウンメニュー168とを有している。オペレーターは、プルダウンメニュー167,168から任意の特徴量を選択することによって、補正処理の結果合致した欠陥の検査装置ごとの特徴量分布を容易に認識することができる。なお、画面155を表示させる方法については特に説明しなかったが、合致率表示画面135内に別途ボタンを設け、それを入力部5dで押すことで表示するように設定すると良い。
The
次に、上記のように構成される欠陥データ処理システムの動作および作用を説明する。 Next, the operation and action of the defect data processing system configured as described above will be described.
オペレーターは、欠陥解析画面30において、各検査装置による検査結果の解析を行う。解析を行う際、欠陥分布31A,31Bの中から任意のプロット点を選択すると、選択した欠陥の画像及び特徴量が表示枠33,36及び表示枠35,38に表示される。これにより各検査装置によって検出された欠陥から任意に選択した欠陥の画像及び特徴量を同一画面上で確認することができるので、検査結果の解析作業の効率が向上する。また、ボタン41を押すことによって表示される特徴量選択画面60において、表示部35,38に表示する欠陥特徴量を適宜選択すれば、画面に表示する欠陥特徴量を適宜選択することができるので、解析作業の効率が向上する。さらに、プルダウンメニュー34,37を利用して表示部33及び36に表示する欠陥画像を適宜選択すれば、表示させる欠陥画像を、他の検査像や観察像に変更したり、複数回検査した場合に得た他の欠陥画像に容易に変更することができるし、ボタン41を押して表示される欠陥の座標一覧画面70によって検出されたすべての欠陥の識別番号(ID)及び座標を確認することができるので、作業効率は更に向上する。また、図4に示したように、欠陥解析画面30は拡大表示することができるので、全体表示されている場合には判別し辛かった近接するプロット点を容易に選択することができ、解析作業の効率は一層向上する。
The operator analyzes the inspection result by each inspection apparatus on the
上記の検査結果の解析を基にして更に詳細なマッチング評価を行う場合には、各欠陥分布から基準となる欠陥を複数登録し、その登録した欠陥を基に補正処理を行って誤差を計測し、定量的にマッチング評価する。補正処理の基準とする欠陥を登録する際には、まず、異なる検査結果から得られる欠陥分布から同一の欠陥を判別するいわゆる突き合わせ作業を行う。すなわち、任意に選択した欠陥分布に他の欠陥分布を近づける補正処理を突き合わせた欠陥を基準として行う。なお、上記構成によって解析作業の際に得られた上記効果は、突き合わせ作業を行う際にも効果を奏する。すなわち、各検査装置によって得られた欠陥の情報をそれぞれ同時に画面に表示しながら突き合わせ作業を行うことができるので、突き合わせ作業の効率向上ばかりでなく、突き合わせの間違いが発生することを抑制することができる。なお、上記した特徴量選択画面60、座標一覧画面70や、プルダウンメニュー34,37等の作用によって得られる効果は、突き合わせ作業においても同様に得ることができることは言うまでもない。
When performing more detailed matching evaluation based on the analysis of the above inspection results, register multiple reference defects from each defect distribution, perform correction processing based on the registered defects, and measure errors. , Evaluate matching quantitatively. When registering a defect as a reference for correction processing, first, a so-called matching operation for discriminating the same defect from defect distributions obtained from different inspection results is performed. In other words, the correction processing for bringing another defect distribution closer to the arbitrarily selected defect distribution is performed with reference to the defect. In addition, the said effect acquired in the case of an analysis operation | work by the said structure has an effect also when performing a matching operation | work. That is, since the matching operation can be performed while simultaneously displaying the defect information obtained by each inspection apparatus on the screen at the same time, not only the efficiency of the matching operation is improved, but also the occurrence of a matching error can be suppressed. it can. Needless to say, the effects obtained by the operations of the feature
続いてオペレーターは、突き合わせ作業の結果同一の欠陥を示すものであると認定されたプロット点の中から、補正処理の基準点となる欠陥をボタン39を利用して登録する。この登録作業は勿論上記の突き合わせ作業と同時に行っても良い。補正処理基準点とする欠陥を登録する際には、異なる欠陥分布上の欠陥をそれぞれ1つずつ選択してからボタン39を押して登録していく。本実施の形態においては、欠陥分布31Aから欠陥を1つ選択するとともに、欠陥分布31Bから欠陥を1つ選択してボタン39を押す。ボタン39を押すと、選択した1組の欠陥が補正処理基準点として登録される。画面30及び30aにおいて、登録された欠陥には印47(図3参照)が付されるので、欠陥分布31上で登録済みとなった欠陥を視覚的に認識することができる。
Subsequently, the operator registers, using the
このように登録した欠陥を利用して補正処理を行う際には、ボタン40を押して座標一覧画面80を表示させる。オペレーターは登録した欠陥の中から補正処理に利用する欠陥をチェックボックス83を利用して適宜選別する。情報表示部81,82には、登録した欠陥の観察像(例えば、SEM画像)や欠陥の大きさ等が表示されるので登録した欠陥の最終確認をすることができる。一度登録した欠陥を削除して未登録に戻す場合には、欠陥の識別番号(Defect ID)を選択してボタン86を押すと選択した1組の欠陥が消去される。補正処理に利用する欠陥が決定したら、ボタン85を押して補正処理を実行する。なお、画面80には登録した欠陥がすべて表示されるので、欠陥の登録状況を確認する場合に利用しても勿論良い。
When the correction process is performed using the registered defect as described above, the coordinate
本実施の形態のデータ処理システムが行う補正処理は、複数の検査装置から任意に選択した検査装置(検査装置1A)によって得られた欠陥分布(欠陥分布31A)の中から補正基準として登録した欠陥の配置に、他の検査装置(検査装置1B)によって得られた欠陥分布(欠陥分布31B)の中から補正基準として登録した欠陥の配置を近づけようとする処理である。ボタン85が押されるとデータ処理装置5によって上記のような補正処理が開始されはじめ、その処理が終了すると補正処理画面100が表示部5cに表示される。画面100上の表示枠101に表示される補正値及び表示枠105に表示される平均誤差は、両検査装置(検査装置1A,1B)の検査結果のマッチング評価に利用され、その数値が小さければ小さいほど両検査装置のマッチングは良好であると判断することができる。さらに詳細なマッチング評価を行う場合には、合致率の計算を実行するボタン107や、座標誤差分布図を表示するボタン108を利用する。
The correction processing performed by the data processing system of the present embodiment is a defect registered as a correction reference from a defect distribution (
ボタン108を押すとデータ処理装置5によって分布図121の作成処理が行われて、座標誤差分布図画面120が表示される。こうして表示される分布図121によってオペレーターは欠陥分布31B上の欠陥が欠陥31Aに対してどの程度誤差があったかを視覚的に認知することができる。分布図121は、レンジ設定部126において画面上に表示することができる範囲を設定することができるので、オペレーターは誤差分布の程度やニーズに応じて適切な表示範囲を選択することができる。また、マーカーサイズ設定部127において、分布図121上のプロット点の表示サイズを変更することができるので、常に表示範囲に最適なマーカーサイズを選択することができる。
When the
ボタン107を押すとデータ処理装置5によって合致率の計算が実行されて、その処理が終了すると合致率表示画面135が表示される。合致判定に利用される座標比較半径を変更して再計算する際には、入力部141に任意の数値を入力してボタン142を押すことで、入力した値を座標比較半径として再度合致率を算出することができる。このように座標比較半径を変更することで、欠陥分布同士の合致精度を評価することができる。結果判定部140に表示される合致率は、上記のように基準点に基づいて実施した補正処理によって、欠陥分布137B上の各欠陥が欠陥分布31A上の各欠陥に対してどの程度近づいたかを評価するものである。そのためオペレーターはこの合致率によって、検査装置のマッチング評価を定量的に行うことができる他に、先の手順で補正基準点として登録した欠陥の妥当性や、補正によって各検査装置のマッチングがどの程度向上するか等も評価することができる。また、合致の詳細はベン図表示部145に表示されるベン図によって把握することができる。
When the
上記の機能は、主に、検査装置によって検出される欠陥の位置の誤差(座標誤差)について評価するものであったが、図11に示す特徴量分布図画面155は、合致した欠陥の欠陥情報のうち、欠陥特徴量に着目して各検査装置による検査結果を評価する場合に用いるものである。
The above-mentioned function is mainly to evaluate the error (coordinate error) of the position of the defect detected by the inspection apparatus, but the feature amount
画面155において、グラフ158の軸156,157に特徴量を割り当てるプルダウンメニュー167,168を同じ欠陥特徴量に設定すれば、その設定した特徴量における検査装置1A,1Bそれぞれの検出の傾向を把握することができる。ここで例えば、グラフ158において軸156,158の中心を通過する直線169付近にプロット点が集中すれば、両検査装置1A,1Bによって得られた欠陥特徴量は類似傾向にあり、欠陥特徴量の結果に着目した場合のマッチングが良好であると判別することができる。また、表示枠160,163に検査装置1Aによって得られた欠陥情報を表示しながら、表示枠164,166に検査装置1Bによって得られた欠陥情報を表示することができるので、検査装置ごとに得られた欠陥情報を同時に参照することができる。これにより検査結果を欠陥分布の観点のみだけでなく、欠陥特徴量の観点からも評価することができる。
If the pull-down
次に本発明の実施の形態の効果についてまとめる。 Next, effects of the embodiment of the present invention will be summarized.
これまでの技術では、複数の検査装置のマッチング評価を行うために必要な各欠陥の検査結果の解析はオペレーターによる手作業で行う必要があり、異なる検査結果から同一の欠陥を判別する作業(いわゆる「突き合わせ」)や、突き合わせた欠陥を基準にして座標を補正して誤差の程度を知得する作業等を行うためには膨大な時間を要していた。 In the conventional technology, the analysis of the inspection result of each defect necessary for performing the matching evaluation of a plurality of inspection apparatuses must be performed manually by an operator, and the operation of discriminating the same defect from different inspection results (so-called Enormous amounts of time were required to perform “matching”) and the operation of correcting the coordinates based on the matched defect to obtain the degree of error.
これに対して、本発明の実施の形態は、同一の被検査物上の欠陥を複数の検査装置1A,1Bによってそれぞれ検査して得られる複数の検査情報であって、検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報、及び、各検査で得られる欠陥の位置情報に基づいて被検査物上の欠陥を観察装置2によってそれぞれ観察して得られる複数の観察情報であって、観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報が入力され、検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点48で表される複数の欠陥分布31A,31Bを表示部5cの画面30上に同時に表示し、入力部5dによって表示部5cの画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点48a,48bに対応する欠陥の検査情報及び観察情報を表示部5cに表示することを特徴とする欠陥データ処理装置5を備えている。これにより、オペレーターは、異なる検査装置によって得られた検査情報及び観察情報の中から任意の欠陥についての欠陥情報を同一画面上に表示することができるので、複数の検査装置から得られた検査結果の比較検討を画面上の情報に基づいて効率良く行うことができる。このように、本実施の形態によれば、マッチング評価に適した欠陥データ処理を行うことができるので、マッチング評価に伴う解析作業の効率が向上し、複数の検査装置による検査結果の誤差を効率良く評価することができる。
On the other hand, the embodiment of the present invention is a plurality of inspection information obtained by inspecting a defect on the same inspection object by a plurality of
また、更に、本実施の形態の欠陥データ処理装置5は、選択されたプロット点48a,48bに対応する欠陥の検査情報及び観察情報を表示画面上で同時に参照することにより複数の欠陥分布31A,31Bにおいて同一の欠陥を示すものであると判別されたプロット点の位置情報を基準として、複数の検査装置1A,1Bから任意に選択した検査装置1Aが検出した欠陥分布31Aに残りの検査装置1Bが検出した欠陥分布31Bを近づける補正処理をしている。これにより、信頼性の非常に高い突き合わせ作業に基づいて決定した補正基準点を利用して補正処理を行うことができ、さらに詳細なマッチング評価を効率良く行うことができる。
In addition, the defect
さらに、本実施の形態の欠陥データ処理装置5は、任意に選択された検査装置1Aによる欠陥分布31Aと補正処理後の残りの検査装置1Bによる欠陥分布137Bとの合致率を算出している。これにより、補正処理を施した欠陥分布137B上の全欠陥が、補正の基準とした欠陥分布31Aにどの程度近づくかということを定量的に評価できるので、更に詳細なマッチング評価を行うことができる。
Furthermore, the defect
また、本実施の形態の欠陥データ処理装置5は、合致したとみなされた欠陥の欠陥情報のうち、任意に選択された検査装置1A及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量、並びに残りの検査装置1B及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量に基づいて複数のプロット点159を配置することによって表されるグラフであって、任意に選択された検査装置1A及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量を一方の軸156に割り当て、残りの検査装置1B及び観察装置2によって得られた欠陥特徴量を他方の軸157に割り当てた特徴量分布図158を表示している。これにより欠陥分布の観点だけでなく、欠陥特徴量の観点からも詳細なマッチング評価を行うことができるので、複数の検査装置による検査結果の誤差を効率良く評価することができる。
In addition, the defect
なお、以上の説明においては、2つの検査装置を利用した場合について説明してきたが、3つ以上の検査装置の検査結果を評価する場合にも、欠陥の画像や特徴量を表示する表示枠を適宜増加させることで容易に対応が可能であり、上記と同様に適用することができる。 In the above description, the case where two inspection apparatuses are used has been described. However, when evaluating the inspection results of three or more inspection apparatuses, display frames for displaying defect images and feature quantities are also provided. By appropriately increasing it, it is possible to cope easily, and it can be applied in the same manner as described above.
1A,1B 外観検査装置
2 観察装置
5 欠陥データ処理装置
5a 処理部
5b 記憶部
5c 表示部
5d 入力部
9 通信回線
30 欠陥解析画面
31A,31B 欠陥分布
33 表示枠(欠陥画像)
34 プルダウンメニュー
35 表示枠(欠陥特徴量)
36 表示枠(欠陥画像)
37 プルダウンメニュー
38 表示枠(欠陥特徴量)
48 プロット点
60 欠陥特徴量の表示選択画面
70 欠陥の座標一覧画面
80 補正基準点の座標一覧画面
81 情報表示部(検査装置1A)
82 情報表示部(検査装置1B)
100 補正処理結果画面
103 座標表示部
104 誤差表示部
120 座標誤差分布図画面
121 座標誤差分布図
135 合致率表示画面
137B 欠陥分布
141 座標半径入力部
144 合致率表示部
145 ベン図表示部
155 特徴量分布図画面
158 特徴量分布グラフ
160 表示枠(欠陥画像)
163 表示枠(欠陥特徴量)
164 表示枠(欠陥画像)
166 表示枠(欠陥特徴量)
167 プルダウンメニュー(検査装置1A)
168 プルダウンメニュー(検査装置1B)
1A, 1B
34 Pull-
36 Display frame (defect image)
37 Pull-
48
82 Information Display Unit (Inspection Device 1B)
100 Correction
163 Display frame (defect feature)
164 Display frame (defect image)
166 Display frame (defect feature)
167 pull-down menu (
168 Pull-down menu (Inspection device 1B)
Claims (22)
同一の被検査物上の欠陥を複数の検査装置によってそれぞれ検査して得られる複数の検査情報であって、検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報、及び、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて前記被検査物上の欠陥を観察装置によってそれぞれ観察して得られる複数の観察情報であって、観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み前記複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報が入力され、
この入力された前記複数の検査情報及び前記複数の観察情報を用いた処理結果を表示する表示部に、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点で表される複数の欠陥分布を同一画面上に表示し、
処理内容を指示する入力部によって前記表示部の画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理装置。 In a defect data processing apparatus for processing data relating to defects on an inspection object,
A plurality of pieces of inspection information obtained by inspecting defects on the same inspection object by a plurality of inspection devices, respectively, and a plurality of pieces of inspection information each including defect position information obtained for each inspection, and for each of the inspections A plurality of pieces of observation information obtained by observing each defect on the inspection object with an observation device based on the positional information of the obtained defects, each including image information of the defect obtained for each observation. Multiple pieces of observation information corresponding to the inspection information are input,
A plurality of points represented by plot points arranged based on position information of defects obtained for each of the inspections on the display unit that displays the processing results using the plurality of the inspection information and the plurality of observation informations input. Display the defect distribution on the same screen,
When an arbitrary plot point on the screen of the display unit is selected by the input unit instructing the processing content, defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point are displayed on the display unit. A featured defect data processing apparatus.
同一の被検査物上の欠陥を複数の検査装置によってそれぞれ検査して得られる複数の検査情報であって、検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報、及び、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて前記被検査物上の欠陥を観察装置によってそれぞれ観察して得られる複数の観察情報であって、観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み前記複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報が入力され、
この入力された前記複数の検査情報及び前記複数の観察情報を用いた処理結果を表示する表示部に、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点で表される複数の欠陥分布を同一画面上に表示し、
処理内容を指示する入力部によって前記表示部の画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を前記表示部に表示し、
前記選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を参照することにより前記複数の欠陥分布において同一の欠陥を示すものであると判別されたプロット点の位置情報を基準として、前記複数の検査装置から任意に選択した検査装置が検出した欠陥分布に残りの検査装置が検出した欠陥分布を近づける補正処理をすることを特徴とする欠陥データ処理装置。 In a defect data processing apparatus for processing data relating to defects on an inspection object,
A plurality of pieces of inspection information obtained by inspecting defects on the same inspection object by a plurality of inspection devices, respectively, and a plurality of pieces of inspection information each including defect position information obtained for each inspection, and for each of the inspections A plurality of pieces of observation information obtained by observing each defect on the inspection object with an observation device based on the positional information of the obtained defects, each including image information of the defect obtained for each observation. Multiple pieces of observation information corresponding to the inspection information are input,
A plurality of points represented by plot points arranged based on position information of defects obtained for each of the inspections on the display unit that displays the processing results using the plurality of the inspection information and the plurality of observation informations input. Display the defect distribution on the same screen,
When an arbitrary plot point on the screen of the display unit is selected by the input unit instructing the processing content, defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point are displayed on the display unit,
With reference to the position information of the plot points determined to indicate the same defect in the plurality of defect distributions by referring to the inspection information and observation information of the defect corresponding to the selected plot point, the plurality of A defect data processing apparatus, wherein correction processing is performed to bring the defect distribution detected by the remaining inspection apparatuses closer to the defect distribution detected by the inspection apparatus arbitrarily selected from the inspection apparatuses.
前記選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報は、前記検査装置によって得られた検査像データ又は前記観察装置によって得られた観察像データのいずれかを少なくとも含んでいることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 1,
The defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point includes at least either inspection image data obtained by the inspection apparatus or observation image data obtained by the observation apparatus. Defect data processing device.
前記選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報が表示される画面は、その画面上に表示される欠陥の画像情報を他の画像情報に変更するためのプルダウンメニューを有していることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 1,
The screen on which defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point are displayed has a pull-down menu for changing the image information of the defect displayed on the screen to other image information. A defect data processing apparatus characterized by comprising:
前記選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報は、前記複数の検査装置及び前記複数の観察装置によって得られる欠陥の特徴を示す欠陥特徴量であって、欠陥サイズ情報を含む欠陥特徴量を含んでいることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 1,
The defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point are defect feature quantities indicating defect characteristics obtained by the plurality of inspection apparatuses and the plurality of observation apparatuses, and include defect size information. A defect data processing apparatus including a feature amount.
前記選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報として前記表示部に表示される欠陥特徴量は、前記複数の検査装置及び前記複数の観察装置によって得られた欠陥特徴量の中から前記入力部によって選択されたものであることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 5,
The defect feature amount displayed on the display unit as defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point is selected from the defect feature amounts obtained by the plurality of inspection devices and the plurality of observation devices. A defect data processing device selected by the input unit.
前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて作成される各欠陥の座標一覧を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 1,
A defect data processing apparatus, wherein a coordinate list of each defect created based on defect position information obtained for each inspection is displayed on the display unit.
前記同一の欠陥を示すものであると判別されたプロット点の位置情報に基づいて作成される補正処理に利用する欠陥の座標一覧を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 2,
A defect data processing apparatus for displaying a coordinate list of defects used for correction processing created based on position information of plot points determined to indicate the same defect on the display unit.
前記補正処理に利用する欠陥の座標一覧で前記入力部によって選択された欠陥の位置情報を基準として補正処理を行うことを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 8, wherein
A defect data processing apparatus, wherein correction processing is performed with reference to position information of a defect selected by the input unit in a defect coordinate list used for the correction processing.
前記補正処理に利用する欠陥の座標一覧は、各欠陥の画像情報が表示される表示枠を有していることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 8, wherein
A defect data processing apparatus, wherein the defect coordinate list used for the correction process has a display frame in which image information of each defect is displayed.
前記任意に選択された検査装置による欠陥分布において前記補正処理の基準としたプロット点の位置情報と、前記残りの検査装置による欠陥分布において前記補正処理の基準としたプロット点の前記補正処理後の位置情報との誤差及び平均誤差を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 2,
Position information of plot points used as the reference for the correction process in the defect distribution by the arbitrarily selected inspection apparatus, and the correction point after the correction process for the plot point used as the reference for the correction process in the defect distribution by the remaining inspection apparatuses A defect data processing apparatus, wherein an error from the position information and an average error are displayed on the display unit.
前記誤差は、原点からの距離で誤差の程度を示す誤差分布図によって前記表示部に表示されることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 11,
The defect data processing apparatus, wherein the error is displayed on the display unit by an error distribution diagram indicating a degree of error in distance from an origin.
前記任意に選択された検査装置による欠陥分布と前記補正処理後の前記残りの検査装置による欠陥分布との合致状況を判定する指標である合致率を算出することを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 2,
2. A defect data processing apparatus, comprising: calculating a coincidence rate that is an index for determining a coincidence state between a defect distribution by the arbitrarily selected inspection apparatus and a defect distribution by the remaining inspection apparatus after the correction process.
前記合致率を算出する際に、前記補正処理後の欠陥分布が前記任意に選択された検査装置による欠陥分布と合致するとみなす範囲である座標比較半径は、前記入力部によって入力されることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 13, wherein
When calculating the match rate, a coordinate comparison radius that is a range in which the defect distribution after the correction process is considered to match the defect distribution by the arbitrarily selected inspection apparatus is input by the input unit. Defect data processing device.
前記任意に選択された検査装置による欠陥分布と合致した欠陥の個数、及び、合致しなかった欠陥の個数を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 13, wherein
A defect data processing apparatus, wherein the number of defects that match the defect distribution by the arbitrarily selected inspection apparatus and the number of defects that do not match are displayed on the display unit.
前記合致率を算出した結果、合致したとみなされた欠陥の欠陥情報のうち、前記任意に選択された検査装置及び前記観察装置によって得られた欠陥特徴量、並びに前記残りの検査装置及び前記観察装置によって得られた欠陥特徴量に基づいて複数のプロット点を配置することによって表される特徴量分布図であって、前記任意に選択された検査装置及び前記観察装置によって得られた欠陥特徴量を一方の軸に割り当て、前記残りの検査装置から任意に選択された検査装置及び前記観察装置によって得られた欠陥特徴量を他方の軸に割り当てた特徴量分布図を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 13, wherein
As a result of calculating the match rate, out of the defect information of defects regarded as matched, the defect feature amount obtained by the arbitrarily selected inspection device and the observation device, and the remaining inspection device and the observation FIG. 2 is a feature amount distribution diagram represented by arranging a plurality of plot points based on a defect feature amount obtained by an apparatus, and the defect feature amount obtained by the arbitrarily selected inspection apparatus and the observation apparatus. Is assigned to one of the axes, and a feature distribution diagram in which the defect feature obtained by the inspection device arbitrarily selected from the remaining inspection devices and the observation device is assigned to the other axis is displayed on the display unit. A defect data processing apparatus.
前記入力部によって前記特徴量分布図上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の前記任意に選択された検査装置及び前記観察装置によって得られた検査情報及び観察情報、並びに、前記残りの検査装置及び前記観察装置によって得られた検査情報及び観察情報を前記表示部の同一画面上に表示することを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 16, wherein
When an arbitrary plot point on the feature amount distribution diagram is selected by the input unit, inspection information obtained by the arbitrarily selected inspection device and the observation device of a defect corresponding to the selected plot point And a defect data processing apparatus for displaying the inspection information and the observation information obtained by the remaining inspection apparatus and the observation apparatus on the same screen of the display unit.
前記特徴量分布図は、前記一方の軸に割りあてられた欠陥特徴量を他の欠陥特徴量に変更するプルダウンメニューと、
前記他方の軸に割り当てられた欠陥特徴量を他の欠陥特徴量に変更する他のプルダウンメニューとを有していることを特徴とする欠陥データ処理装置。 The defect data processing apparatus according to claim 16, wherein
The feature amount distribution diagram includes a pull-down menu for changing a defect feature amount assigned to the one axis to another defect feature amount;
A defect data processing apparatus, comprising: a pull-down menu for changing a defect feature amount assigned to the other axis to another defect feature amount.
同一の被検査物上の欠陥を検査し、その検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報を得る複数の検査装置と、
前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて前記検査物上の欠陥をそれぞれ観察し、その観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み前記複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報を得る観察装置と、
前記複数の検査情報及び前記複数の観察情報を処理する処理部、この処理部の処理結果を表示する表示部、及び前記処理部への処理内容を指示する入力部を有し、前記複数の検査装置及び前記観察装置と接続されている欠陥データ処理装置とを備え、
前記欠陥データ処理装置は、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点で表される複数の欠陥分布を前記表示部の同一画面上に表示し、前記入力部によって前記表示部の画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理システム。 In a defect data processing system for processing data relating to defects on an inspection object,
A plurality of inspection devices for inspecting defects on the same inspection object and obtaining a plurality of inspection information each including position information of the defects obtained for each inspection;
A plurality of pieces of observation information corresponding to the plurality of pieces of inspection information, each of which includes image information of defects obtained by observing defects on the inspection object based on position information of the defects obtained for each of the inspections and obtained for each observation. An observation device to obtain
A processing unit that processes the plurality of pieces of inspection information and the plurality of observation information; a display unit that displays a processing result of the processing unit; and an input unit that instructs processing content to the processing unit. A defect data processing apparatus connected to the apparatus and the observation apparatus,
The defect data processing device displays a plurality of defect distributions represented by plot points arranged on the basis of position information of defects obtained for each inspection on the same screen of the display unit, and the input unit displays the defect distribution When an arbitrary plot point on the screen of the display unit is selected, defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point are displayed on the display unit.
同一の被検査物上の欠陥を検査し、その検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報を得る複数の検査装置と、
前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて前記検査物上の欠陥をそれぞれ観察し、その観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み前記複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報を得る観察装置と、
前記複数の検査情報及び前記複数の観察情報を処理する処理部、この処理部の処理結果を表示する表示部、及び前記処理部への処理内容を指示する入力部を有し、前記複数の検査装置及び前記観察装置と接続されている欠陥データ処理装置とを備え、
前記欠陥データ処理装置は、前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点で表される複数の欠陥分布を前記表示部の同一画面上に表示し、前記入力部によって前記表示部の画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を前記表示部に表示し、前記選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を参照することにより前記複数の欠陥分布において同一の欠陥を示すものであると判別されたプロット点の位置情報を基準として、前記複数の検査装置から任意に選択した検査装置が検出した欠陥分布に残りの検査装置が検出した欠陥分布を近づける補正処理をすることを特徴とする欠陥データ処理システム。 In a defect data processing system for processing data relating to defects on an inspection object,
A plurality of inspection devices for inspecting defects on the same inspection object and obtaining a plurality of inspection information each including position information of the defects obtained for each inspection;
A plurality of pieces of observation information corresponding to the plurality of pieces of inspection information, each of which includes image information of defects obtained by observing defects on the inspection object based on position information of the defects obtained for each of the inspections and obtained for each observation. An observation device to obtain
A processing unit that processes the plurality of pieces of inspection information and the plurality of observation information; a display unit that displays a processing result of the processing unit; and an input unit that instructs processing content to the processing unit. A defect data processing apparatus connected to the apparatus and the observation apparatus,
The defect data processing device displays a plurality of defect distributions represented by plot points arranged on the basis of position information of defects obtained for each inspection on the same screen of the display unit, and the input unit displays the defect distribution When an arbitrary plot point on the screen of the display unit is selected, inspection information and observation information of the defect corresponding to the selected plot point are displayed on the display unit, and the defect corresponding to the selected plot point is displayed. Inspection apparatus arbitrarily selected from the plurality of inspection apparatuses based on the position information of the plot points determined to indicate the same defect in the plurality of defect distributions by referring to the inspection information and observation information of A defect data processing system, wherein correction processing is performed to bring the defect distribution detected by the remaining inspection apparatus closer to the defect distribution detected by.
同一の被検査物上の欠陥を検査し、その検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報を得る複数の検査装置と、
前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて前記検査物上の欠陥をそれぞれ観察し、その観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み前記複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報を得る観察装置と、
データ処理の結果を表示する表示部とを備え、
前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点で表される複数の欠陥分布を前記表示部の同一画面上に表示し、
前記表示部の画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を前記表示部に表示することを特徴とする欠陥データ処理方法。 In a defect data processing method for processing data relating to defects on an inspection object,
A plurality of inspection devices for inspecting defects on the same inspection object and obtaining a plurality of inspection information each including position information of the defects obtained for each inspection;
A plurality of pieces of observation information corresponding to the plurality of pieces of inspection information, each of which includes image information of defects obtained by observing defects on the inspection object based on position information of the defects obtained for each of the inspections and obtained for each observation. An observation device to obtain
A display unit for displaying the results of data processing,
Displaying a plurality of defect distributions represented by plot points arranged based on defect position information obtained for each inspection on the same screen of the display unit,
When an arbitrary plot point on the screen of the display unit is selected, defect inspection processing and observation information corresponding to the selected plot point are displayed on the display unit.
同一の被検査物上の欠陥を検査し、その検査ごとに得られる欠陥の位置情報をそれぞれ含む複数の検査情報を得る複数の検査装置と、
前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて前記検査物上の欠陥をそれぞれ観察し、その観察ごとに得られる欠陥の画像情報をそれぞれ含み前記複数の検査情報とそれぞれ対応する複数の観察情報を得る観察装置と、
データ処理の結果を表示する表示部とを備え、
前記検査ごとに得られる欠陥の位置情報に基づいて配置されるプロット点で表される複数の欠陥分布を前記表示部の同一画面上に表示し、
前記表示部の画面上の任意のプロット点が選択されると、その選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を前記表示部に表示し、
前記選択されたプロット点に対応する欠陥の検査情報及び観察情報を参照することにより前記複数の欠陥分布において同一の欠陥を示すものであると判別されたプロット点の位置情報を基準として、前記複数の検査装置から任意に選択した検査装置が検出した欠陥分布に残りの検査装置が検出した欠陥分布を近づける補正処理をすることを特徴とする欠陥データ処理方法。 In a defect data processing method for processing data relating to defects on an inspection object,
A plurality of inspection devices for inspecting defects on the same inspection object and obtaining a plurality of inspection information each including position information of the defects obtained for each inspection;
A plurality of pieces of observation information corresponding to the plurality of pieces of inspection information, each of which includes image information of defects obtained by observing defects on the inspection object based on position information of the defects obtained for each of the inspections and obtained for each observation. An observation device to obtain
A display unit for displaying the results of data processing,
Displaying a plurality of defect distributions represented by plot points arranged based on defect position information obtained for each inspection on the same screen of the display unit,
When an arbitrary plot point on the screen of the display unit is selected, defect inspection information and observation information corresponding to the selected plot point are displayed on the display unit,
With reference to the position information of the plot points determined to indicate the same defect in the plurality of defect distributions by referring to the inspection information and observation information of the defect corresponding to the selected plot point, the plurality of A defect data processing method comprising: performing correction processing for bringing the defect distribution detected by the remaining inspection apparatuses closer to the defect distribution detected by the inspection apparatus arbitrarily selected from the inspection apparatuses.
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