JP2008043876A - Manufacturing device of uneven film - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing device of a rugged film, which can improve a processing speed by producing no offset to a film substrate or no bubble entrainment on a resin layer in manufacturing the rugged film, and further, improve the processing speed without upsizing equipment such as a recovery apparatus of a resin liquid. <P>SOLUTION: The device has a constitution in which a hardening resin liquid is applied to the running film substrate 2 by a die coating device 21 provided with a die head 25 at a predetermined width and a uniform thickness, the film substrate 2 is pressed to a cooling roll 5 provided with a rugged form on the periphery by a nip roll 8 turning the resin liquid layer side inside to give the rugged form to the resin liquid layer and cure the resin liquid as it is by an irradiation, so that the rugged film 1 provided with the resin layer 3 with the rugged form on the surface is manufactured. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、フィルム基材に、表面に凹凸を備えた樹脂層を積層した構造の凹凸フィルムの製造装置に関する。   The present invention relates to an apparatus for producing an uneven film having a structure in which a resin layer having unevenness on the surface is laminated on a film substrate.

従来より、化粧フィルムの装飾部材、或いはレンチキュラーレンズ等の光学部品をはじめとする産業資材等の用途に凹凸表面を有するフィルム（凹凸フィルムという）が製造されている。図５は、光学式ディスプレイや液晶ディスプレイのバックライト機構において、光の均一性を確保するためのレンズフィルムとして用いられる凹凸フィルムの構造の１例を示すものであり、この凹凸フィルム１は、フィルム基材２の表面に、表面に三角断面のストライプ状の凹凸を形成した樹脂層３を積層した構造である。   2. Description of the Related Art Conventionally, a film having a concavo-convex surface (referred to as a concavo-convex film) has been manufactured for uses such as decorative materials for decorative films or industrial materials such as optical parts such as lenticular lenses. FIG. 5 shows an example of the structure of a concavo-convex film used as a lens film for ensuring light uniformity in a backlight mechanism of an optical display or a liquid crystal display. This is a structure in which a resin layer 3 having a stripe-like unevenness having a triangular cross section is laminated on the surface of the substrate 2.

このような構造の凹凸フィルムを製造する方法及び装置は、特許第３６１６１０９号公報「調光フィルムの製造方法」（特許文献１）、特許第３４２４１３６号公報「面光源用フィルムレンズ及びそれを用いた面光源」（特許文献２）に記載されている。これらの特許に記載の装置は、図６に示すように、凹凸フィルム１の表面に形成すべき凹凸形状を表面に備えた冷却ロール５と、その冷却ロール５の表面に硬化性樹脂液６を供給するノズル７と、走行してきたフィルム基材２が冷却ロール５の表面に巻き付くようにフィルム基材２を冷却ロール５に押し付けるニップロール８と、冷却ロール５とニップロール８の接点部に形成される液溜まり９から落下する余剰樹脂液を回収する受け皿１０と、冷却ロール５の表面に保持され且つフィルム基材２に接触している硬化性樹脂を硬化させるよう放射線を照射する照射装置１１と、冷却ロール５に接触しているフィルム基材２及びその表面に形成された樹脂層を冷却ロール５から安定して剥離させるための剥離ロール１２等を備えている。この構成の装置による凹凸フィルム製造は次のように行われる。すなわち、冷却ロール５の表面にノズル７によって硬化性樹脂液６が、フィルム基材２への塗布幅よりかなり狭い幅に、必要塗布量よりもはるかに過剰に（約１０倍程度に）供給され、冷却ロール５とニップロール８の接点部において幅方向に拡げられると共に過剰な樹脂液が掻き落とされ、冷却ロール５の表面には適量の樹脂液が残され、その上にフィルム基材２が押し付けられ、その上から照射装置１１によって放射線が照射されて樹脂液を硬化させ、その後、基材フィルム２が剥離ロール１２を経て冷却ロール５から剥がされる。これによって、基材フィルム２の片面に、表面に凹凸形状を付与された樹脂層３が積層された構造の凹凸フィルム１が製造される。   The method and apparatus for producing the concavo-convex film having such a structure are disclosed in Japanese Patent No. 3616109 “Manufacturing method of light control film” (Patent Literature 1), Japanese Patent No. 3424136 “Film lens for surface light source and the same. It is described in “Surface light source” (Patent Document 2). As shown in FIG. 6, the devices described in these patents are provided with a cooling roll 5 having a concavo-convex shape to be formed on the surface of the concavo-convex film 1, and a curable resin liquid 6 on the surface of the cooling roll 5. The nozzle 7 to be supplied, the nip roll 8 that presses the film base 2 against the surface of the cooling roll 5 so that the traveling film base 2 wraps around the surface of the cooling roll 5, and the contact portion between the cooling roll 5 and the nip roll 8 are formed. A tray 10 for recovering excess resin liquid falling from the liquid reservoir 9, and an irradiation device 11 for irradiating radiation so as to cure the curable resin held on the surface of the cooling roll 5 and in contact with the film base 2. The film base 2 that is in contact with the cooling roll 5 and the release roll 12 for stably peeling the resin layer formed on the surface of the film base 2 from the cooling roll 5 are provided. The production of the concavo-convex film by the apparatus having this configuration is performed as follows. That is, the curable resin liquid 6 is supplied to the surface of the cooling roll 5 by the nozzle 7 so as to be much narrower than the application width to the film substrate 2 and much more excessively (about 10 times) than the required application amount. Then, the contact portion between the cooling roll 5 and the nip roll 8 is spread in the width direction and the excess resin liquid is scraped off, and an appropriate amount of the resin liquid is left on the surface of the cooling roll 5, and the film substrate 2 is pressed thereon. Then, radiation is irradiated from above by the irradiation device 11 to cure the resin liquid, and then the base film 2 is peeled off from the cooling roll 5 through the peeling roll 12. Thereby, the concavo-convex film 1 having a structure in which the resin layer 3 having a concavo-convex shape on the surface is laminated on one surface of the base film 2 is manufactured.

しかしながら、上記した方法及び装置では、フィルム基材の走行速度が１５ｍ／分程度以下の低速加工は可能であるが、２０ｍ／分を超えるような高速加工は困難であった。また、低速であっても、特に非ニュートン性を示す硬化性樹脂液を使用する場合には、干渉縞（ムラ）のない高品質レンズを得るためには、硬化性樹脂液を加熱して粘度を低下させ、ニップロールと冷却ロールとの接点部での硬化性樹脂液の剪断流動性を上げるなどの操作が必要であり、工程数が増加していた。しかも、温度上昇による物性変化がある材料では、加熱操作による粘度低下は不可能であるため、高品質レンズを得ることは困難であった。   However, the above-described method and apparatus can perform low-speed processing with a film substrate traveling speed of about 15 m / min or less, but high-speed processing exceeding 20 m / min is difficult. In addition, when using a curable resin liquid that exhibits non-Newtonian properties even at low speeds, in order to obtain a high-quality lens without interference fringes (unevenness), the viscosity of the curable resin liquid is increased by heating. The number of processes has increased because of the need to reduce the flow rate and increase the shear fluidity of the curable resin liquid at the contact portion between the nip roll and the cooling roll. In addition, it is difficult to obtain a high-quality lens because a material having physical property changes due to temperature rise cannot reduce the viscosity by heating operation.

図６に示す従来装置において高速加工が困難である理由は次の通りである。
(1) アプリケータ７から過剰な樹脂液を狭い幅で冷却ロール５に供給し、それを冷却ロール５とニップロール８との接点部において所望の製品幅となるように大きく拡げると共に所望量のみが冷却ロール５表面に残るように濾し取る構成であるが、この構成では接点部における樹脂液の拡がりを制御することが困難であり、特に加工速度を上昇させた際には拡がりの制御が一層困難で、所望の製品幅が得られず、最悪の場合にはフィルム基材幅を越えて拡がり、フィルム基材外へのオーバーフローを引き起こし、フィルム基材２の裏面に回り込んで裏移りする。この現象は、非ニュートン性を示す樹脂液の場合に顕著である。
(2) 後計量タイプのコーティング方式であるため、アプリケータ７による冷却ロール５への樹脂液供給自体はラフであり、冷却ロールに転移する樹脂液量も一定ではない。そのため、ニップロールと冷却ロールの接点部に形成される液溜まり９の安定が得られず、不安定な樹脂液の流動が生じ、ニップロールを通り過ぎる樹脂量にばらつきが生じやすく、特に、加工速度が大きくなると顕著になる。このため、レンズフィルムを製造した場合にはレンズ面に干渉縞が現れる危険性がある。
(3) 加工速度を大きくした場合、液溜まり９で樹脂液が過剰に渦を巻くことにより、大量の気泡が発生し、それが形成した凹凸フィルムの樹脂層内に混入し、欠陥となる危険性がある。
(4) ニップロールによって掻き落とされた樹脂液は受け皿１０に集められ、回収、再使用されるが、この樹脂液には泡かみが大量に発生している。このため、大量に気泡が発生した樹脂液が冷却ロール５に供給され、液溜まり９に入ることとなる。加工速度が低い場合には、液溜まり９において気泡が両端に流れるため、気泡がニップロールを通り抜けて、凹凸フィルムの樹脂層内に混入することは少ないが、高速時には両端に流れ込みにくく、このため凹凸フィルムの樹脂層内に混入し、欠陥となる危険性が増大する。
(5) 受け皿１０に集められた樹脂液を脱泡して再使用することも知られている。中〜高粘度の樹脂液をインラインで高速脱泡することは困難であるので、オフラインで脱泡装置などにより脱泡しているが、加工速度の上昇に伴い、受け皿１０に回収する樹脂液量も増加し、脱泡装置等の回収用の装置が大型化してしまう。 The reason why high-speed machining is difficult in the conventional apparatus shown in FIG. 6 is as follows.
(1) An excessive resin liquid is supplied from the applicator 7 to the cooling roll 5 with a narrow width, and it is widened to a desired product width at a contact portion between the cooling roll 5 and the nip roll 8 and only a desired amount is supplied. Although it is the structure which filters off so that it may remain on the surface of the cooling roll 5, in this structure, it is difficult to control the spread of the resin liquid at the contact portion, and it is more difficult to control the spread especially when the processing speed is increased. Thus, the desired product width cannot be obtained, and in the worst case, the film spreads beyond the width of the film base, causes an overflow to the outside of the film base, and moves around to the back of the film base 2 and moves off. This phenomenon is remarkable in the case of a resin liquid that exhibits non-Newtonian properties.
(2) Since it is a post-measuring type coating method, the resin liquid supply itself to the cooling roll 5 by the applicator 7 is rough, and the amount of the resin liquid transferred to the cooling roll is not constant. Therefore, the stability of the liquid pool 9 formed at the contact portion between the nip roll and the cooling roll cannot be obtained, the flow of unstable resin liquid is likely to occur, and the amount of resin passing through the nip roll tends to vary. When it becomes, it becomes remarkable. For this reason, when a lens film is manufactured, there is a risk that interference fringes appear on the lens surface.
(3) When the processing speed is increased, the resin liquid vortexes excessively in the liquid reservoir 9 to generate a large amount of bubbles, which may enter into the resin layer of the concavo-convex film formed and cause a defect. There is sex.
(4) The resin liquid scraped off by the nip roll is collected in the tray 10 and collected and reused, but a large amount of foam is generated in this resin liquid. For this reason, the resin liquid in which a large amount of bubbles is generated is supplied to the cooling roll 5 and enters the liquid pool 9. When the processing speed is low, the bubbles flow at both ends in the liquid pool 9, so that the bubbles hardly pass through the nip roll and enter the resin layer of the concavo-convex film. The risk of mixing into the resin layer of the film and causing defects increases.
(5) It is also known that the resin liquid collected in the tray 10 is defoamed and reused. Since it is difficult to defoam a medium to high viscosity resin solution in-line at high speed, it is defoamed offline using a defoaming device or the like. And the size of a collecting device such as a defoaming device increases.

以上のような理由から、上記方法では凹凸フィルムの良好な面質を得るにはライン速度１５ｍ／分程度が限界であった。   For the reasons described above, the above method has a limit of about 15 m / min in line speed in order to obtain good surface quality of the uneven film.

一方、冷却ロール５に直接硬化性樹脂液を供給する代わりに、図７に示すように、フィルム基材２にロールコータ１４によって硬化性樹脂液６を塗布し、そのフィルム基材２を、表面に凹凸形状を備えた冷却ロール５に送り、フィルム基材表面の樹脂層に凹凸を加工する方法及び装置が、特開２００１−２７２６８３号公報「液晶パネルの製造装置」（特許文献３）に記載されている。この公報に記載の装置で用いられているロールコータ１４は、コーティングロール１５とアプリケータロール１６の接点部の上に液溜まり１７を形成し、コーティングロール１５に対するアプリケータロール１６の接触圧力で、接点部を通り抜けてコーティングロール１５表面に形成される樹脂液層の厚さを調整し、その後、コーティングロール１５表面の樹脂液層を、コーティングロール１５と同方向に走行中のフィルム基材２に転移させる構造である。しかしながら、この構造のロールコータ１４では、液溜まり１７において樹脂液が幅方向に拡がり、その幅を制御することが困難であることから、高速加工時には、樹脂液がフィルム基材２の両端からオーバーフローすることがあり、フィルム基材２の裏面に回り込んで裏移りするといった製造上弊害となる不良が発生することがある。また、液溜まり１７において材料粘度によっては泡かみが発生し、製品へ気泡が混入して不良となる恐れもあった。更に、このロールコータ１４ではフィルム基材２に樹脂液を高精度で均一厚さに塗布することが困難であり、このため、フィルム基材２に塗布された樹脂液に厚さむらが生じ、冷却ロールによって凹凸形状を付与した後の樹脂層３にも厚さむらが残り、レンズフィルムを製造した場合にはレンズ面に干渉縞が現れる危険性がある。
特許第３６１６１０９号公報 特許第３４２４１３６号公報 特開２００１−２７２６８３号公報 On the other hand, instead of supplying the curable resin solution directly to the cooling roll 5, as shown in FIG. 7, the curable resin solution 6 is applied to the film substrate 2 by the roll coater 14, and the film substrate 2 is applied to the surface. A method and apparatus for processing irregularities in a resin layer on the surface of a film substrate by feeding it to a cooling roll 5 having an irregular shape on the surface is described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-272683 “Liquid Crystal Panel Manufacturing Device” (Patent Document 3). Has been. The roll coater 14 used in the apparatus described in this publication forms a liquid reservoir 17 on the contact portion between the coating roll 15 and the applicator roll 16, and the contact pressure of the applicator roll 16 against the coating roll 15 The thickness of the resin liquid layer formed on the surface of the coating roll 15 through the contact portion is adjusted, and then the resin liquid layer on the surface of the coating roll 15 is applied to the film substrate 2 traveling in the same direction as the coating roll 15. It is a structure to be transferred. However, in the roll coater 14 having this structure, the resin liquid spreads in the width direction in the liquid reservoir 17 and it is difficult to control the width, so that the resin liquid overflows from both ends of the film substrate 2 during high-speed processing. In some cases, a defect that may cause a manufacturing problem such as wrapping around the back surface of the film base material 2 and turning off may occur. Further, depending on the material viscosity, a bubble bite is generated in the liquid reservoir 17, and there is a possibility that bubbles are mixed into the product and become defective. Furthermore, in this roll coater 14, it is difficult to apply the resin liquid to the film base 2 with a high accuracy and a uniform thickness. For this reason, the resin liquid applied to the film base 2 has uneven thickness, Even when the unevenness of the thickness of the resin layer 3 is provided by the cooling roll, there is a risk that interference fringes appear on the lens surface when the lens film is manufactured.
Japanese Patent No. 3616109 Japanese Patent No. 3424136 JP 2001-272683 A

本発明はかかる従来の問題点に鑑みてなされたもので、表面を凹凸形状とした樹脂層を基材フィルムに積層した構造の凹凸フィルムの製造に当たって、フィルム基材に裏移りを生じさせることなく、所望幅の樹脂層を形成でき、且つその樹脂層に気泡を混入することなく加工速度を向上させることができ、更に樹脂液の回収装置等の設備の大型化を伴うことなく加工速度を向上させることの可能な凹凸フィルムの製造装置を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of such conventional problems, and in producing a concavo-convex film having a structure in which a resin layer having a concavo-convex surface is laminated on a base film, without causing a back-off in the film base. It is possible to form a resin layer with a desired width, improve the processing speed without mixing bubbles in the resin layer, and improve the processing speed without increasing the size of equipment such as a resin liquid recovery device. It is an object of the present invention to provide an apparatus for producing a concavo-convex film that can be produced.

本願請求項１に係る発明は上記課題を解決するため、硬化性樹脂液を、表面に凹凸形状を備えた冷却ロールに直接供給する構成に代えて、ダイコート装置によってフィルム基材に塗布し、その樹脂液を塗布したフィルム基材を、表面に凹凸形状を備えた冷却ロールに送って樹脂層表面に凹凸形状を形成する構成としたものである。すなわち、請求項１に係る発明は、走行中のフィルム基材に対して硬化性樹脂液を一定厚さに塗布するダイコート装置と、該ダイコート装置の下流に配置され、前記フィルム基材に塗布された硬化性樹脂液の表面に凹凸形状を付与して硬化させる凹凸形状付与硬化装置であって、外周面に凹凸形状を表面に備えた冷却ロールと、前記フィルム基材が前記硬化性樹脂液を塗布した側を前記冷却ロールに面する側として前記冷却ロール外周面に巻き付くように前記フィルム基材を前記冷却ロールに押し付けるニップロールと、前記硬化性樹脂液を硬化させるよう前記冷却ロールに放射線を照射する照射装置を有する凹凸形状付与硬化装置を備えた凹凸フィルムの製造装置を要旨とする。   In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 of the present application is applied to a film substrate by a die coater instead of a configuration in which a curable resin liquid is directly supplied to a cooling roll having a concavo-convex shape on its surface, The film base material coated with the resin liquid is sent to a cooling roll having a concavo-convex shape on the surface to form a concavo-convex shape on the surface of the resin layer. That is, the invention according to claim 1 is a die coater that applies a curable resin liquid to a traveling film substrate in a certain thickness, and is disposed downstream of the die coater, and is applied to the film substrate. A concavo-convex shape imparting curing device that imparts a concavo-convex shape to the surface of the curable resin liquid and curing the curable resin liquid, the cooling roll having a concavo-convex shape on the outer peripheral surface, and the film base material that is the curable resin liquid Radiation is applied to the cooling roll so as to cure the curable resin liquid, and a nip roll that presses the film substrate against the cooling roll so that the coated side faces the cooling roll as a side facing the cooling roll. A gist of an apparatus for producing a concavo-convex film provided with a concavo-convex shape imparting curing apparatus having an irradiation device for irradiation.

請求項２に係る発明は、上記した請求項１に係る発明において、前記塗布装置と前記凹凸形状付与硬化装置とを、塗布装置を出た前記フィルム基材が、まず前記凹凸形状付与硬化装置のニップロールの外周面に接触して支持され、次いで支持された状態で前記ニップロールと冷却ロールの接点部に進入するように配置する構成としたものである。   The invention according to claim 2 is the invention according to claim 1 described above, wherein the film substrate that has exited the coating apparatus is first of the uneven shape imparting curing apparatus. The nip roll is arranged so as to be in contact with and supported by the outer peripheral surface of the nip roll, and then to enter the contact portion between the nip roll and the cooling roll.

請求項３に係る発明は、上記した請求項１又は２に係る発明において、前記ダイコート装置を、バックアップロールで支持されたフィルム基材に対してダイヘッドで塗布を行う構成としたものである。   According to a third aspect of the present invention, in the invention according to the first or second aspect, the die coater is configured to apply to a film substrate supported by a backup roll with a die head.

請求項４に係る発明は、上記した請求項１又は２に係る発明において、前記ダイコート装置を、テンションをかけた状態で走行中のフィルム基材に対してダイヘッドで塗布を行う構成としたものである。   According to a fourth aspect of the present invention, in the above-described first or second aspect of the invention, the die coater is configured to apply a film head to a running film base with a die head. is there.

本発明は、ダイコート装置によってフィルム基材に硬化性樹脂液を塗布する構成としたことにより、従来の冷却ロールに直接、硬化性樹脂液を供給する方式のようにきわめて過剰な樹脂液の塗布を行う必要はなく、高速で走行中のフィルム基材に対して硬化性樹脂液を所望幅で且つ高精度で所望の膜厚となるように塗布することができ、且つ、所望厚さに塗布した樹脂液層に対して冷却ロールによって凹凸加工を施す構成としたことにより、高速での凹凸加工が可能であり、結局、凹凸フィルムを生産性良く製造することが可能となる。また、硬化性樹脂液を過剰に使用し、余剰の樹脂液を回収し、脱泡処理して再使用する必要がなくなり、大型の脱泡、回収装置が不要となる。更に、ダイコート装置を用いたことにより、塗布幅を任意に決定でき、ロールコータ１４（図７参照）を用いた場合に生じる恐れのあった裏移りを防止でき、また、ロールコータ１４よりも高精度での均一塗布を行うことができると共に泡かみの問題も発生せず、高品質の凹凸フィルムを製造できる。更に、ダイコート装置を用いたことで、高粘度の硬化性樹脂液でも良好に塗布することができ、このため加熱して粘度を下げる必要がなく、工程を簡略化できると共に加熱により物性変化を生じる材料であっても物性変化を生じることなく凹凸フィルムを製造できる。   In the present invention, since the curable resin liquid is applied to the film substrate by the die coater, an extremely excessive amount of the resin liquid can be applied as in the method of supplying the curable resin liquid directly to the conventional cooling roll. It is not necessary to carry out, and the curable resin liquid can be applied with a desired width and with a high precision to a desired thickness on a film substrate that is running at high speed, and applied to a desired thickness. By adopting a configuration in which the unevenness processing is performed on the resin liquid layer by the cooling roll, it is possible to perform the unevenness processing at a high speed, and finally, it is possible to manufacture the uneven film with high productivity. In addition, it is not necessary to use an excessive amount of the curable resin liquid, collect the excess resin liquid, defoam and reuse it, and a large defoaming and collecting device is not required. Further, by using the die coater, the coating width can be arbitrarily determined, the set-off that may occur when the roll coater 14 (see FIG. 7) is used can be prevented, and higher than the roll coater 14. A uniform coating with high accuracy can be performed and the problem of foaming does not occur, and a high-quality uneven film can be produced. Furthermore, by using a die coating apparatus, it is possible to satisfactorily apply even a high-viscosity curable resin liquid. Therefore, it is not necessary to lower the viscosity by heating, the process can be simplified, and physical properties change due to heating. Even if it is a material, an uneven | corrugated film can be manufactured, without producing a physical-property change.

以下、本発明の好適な実施の形態を説明する。図１は本発明の実施の形態に係る凹凸フィルムの製造装置の概略構成図であり、図５〜図７に示す従来例と同一又は同様な部品には同一符号を付している。図１において、凹凸フィルムの製造装置は、供給ロール（図示せず）から繰り出されて走行中のフィルム基材２に対して硬化性樹脂液を一定厚さに塗布するダイコート装置２１と、そのフィルム基材２の走行方向に関してダイコート装置２１の下流に配置され、フィルム基材２に塗布された硬化性樹脂液の表面に凹凸形状を付与して硬化させる凹凸形状付与硬化装置２２を備えている。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a concavo-convex film manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. Components identical or similar to those in the conventional example shown in FIGS. In FIG. 1, an uneven film manufacturing apparatus includes a die coating apparatus 21 that applies a curable resin liquid to a predetermined thickness on a film base 2 that is fed from a supply roll (not shown) and is running, and the film. A concavo-convex shape imparting curing device 22 is provided that is disposed downstream of the die coating device 21 with respect to the traveling direction of the base material 2 and imparts a concavo-convex shape to the surface of the curable resin liquid applied to the film base material 2 to cure it.

ダイコート装置２１は、フィルム基材２を支持して搬送するバックアップロール２４と、そのバックアップロール２４を回転駆動する駆動装置（図示せず）と、バックアップロール２４に支持されて走行しているフィルム基材２に対向するように配置され、硬化性樹脂液を一定厚みで吐出する吐出スリット２５ａを備えたダイヘッド２５と、そのダイヘッド２５を支持し且つそのダイヘッド２５の先端とフィルム基材２とのギャップ寸法を調整可能なダイヘッド支持手段（図示せず）と、ダイヘッド２５に硬化性樹脂液を供給するポンプ２６等を備えており、ダイヘッド２５から硬化性樹脂液を吐出することで走行中のフィルム基材２に対してダイヘッド２５の吐出幅に等しい塗布幅で硬化性樹脂液を均一厚さに塗布することができる。ここで、塗布厚さは、ダイヘッド２５に供給する硬化性樹脂液の圧力及び粘度、フィルム基材２とダイヘッド２５先端とのギャップ寸法、フィルム基材２の走行速度等によって定まるので、これらを適切に設定することで、所望塗布幅、所望厚さに精密塗布することができる。バックアップロール２４としては、表面が金属の金属ロール、表面がゴムのゴムロールのいずれを用いても良く、塗布する樹脂液の粘度に応じて適宜選択すればよい。なお、ここで用いるダイコート装置２１は、図１に示したような、バックアップロール２４に支持されたフィルム基材２に対して塗布する構造のものに限らず、図４に示すように、間隔を開けて配置した基材位置調整ロール２８、２８の間をテンションをかけた状態で走行中のフィルム基材２に対してダイヘッド２５で塗布を行う構成のテンションウェブダイコート方式のものでもよい。   The die coating apparatus 21 includes a backup roll 24 that supports and transports the film substrate 2, a drive device (not shown) that rotationally drives the backup roll 24, and a film base that is running while being supported by the backup roll 24. A die head 25 that is disposed so as to face the material 2 and has a discharge slit 25a for discharging a curable resin liquid with a constant thickness, and a gap between the tip of the die head 25 and the film substrate 2 that supports the die head 25 A die head supporting means (not shown) whose dimensions can be adjusted, a pump 26 for supplying a curable resin liquid to the die head 25, and the like are provided, and the film base during running is discharged by discharging the curable resin liquid from the die head 25. The curable resin liquid can be applied to the material 2 with a uniform thickness with an application width equal to the discharge width of the die head 25. Here, the coating thickness is determined by the pressure and viscosity of the curable resin liquid supplied to the die head 25, the gap size between the film base 2 and the tip of the die head 25, the traveling speed of the film base 2, and the like. By setting to, it is possible to precisely apply to a desired application width and desired thickness. As the backup roll 24, either a metal roll whose surface is a metal or a rubber roll whose surface is rubber may be used, and may be appropriately selected according to the viscosity of the resin liquid to be applied. In addition, the die coat apparatus 21 used here is not limited to a structure that is applied to the film substrate 2 supported by the backup roll 24 as shown in FIG. A tension web die coating system in which coating is performed with the die head 25 on the traveling film substrate 2 in a state where tension is applied between the substrate position adjusting rolls 28 and 28 that are opened and disposed.

凹凸形状付与硬化装置２２は、外周面に、フィルム基材２に塗布した硬化性樹脂液の表面に付与すべき凹凸形状を備えた冷却ロール５と、その冷却ロール５を回転駆動する駆動装置（図示せず）と、フィルム基材２が硬化性樹脂を塗布した側を冷却ロール５に面する側として冷却ロール５の表面に巻き付くようにフィルム基材２を冷却ロール５に押し付けるニップロール８と、そのニップロール８を回転自在に且つ冷却ロール５に対する押し付け力を調整可能な形態で保持するニップロール保持装置（図示せず）と、冷却ロール５の表面に保持されている硬化性樹脂液を硬化させるため、冷却ロール５に向かって放射線を照射する照射装置１１と、フィルム基材２及びその表面に形成された樹脂層を冷却ロール５から安定して剥離させるための剥離ロール１２と、その剥離ロール１２を回転自在に且つ冷却ロール５に押し付けるように保持する剥離ロール保持装置（図示せず）等を備えている。冷却ロール５は、内部に、冷却水、空気などの冷却媒体を通す通路を備えており、内部に冷却媒体を通すことで温度上昇を防止する構造となっている。なお、ニップロール８、剥離ロール１２は回転自在とする場合に限らず、冷却ロール５と同一周速度で強制駆動する構成としてもよい。   The uneven shape imparting curing device 22 includes a cooling roll 5 having an uneven shape to be imparted to the surface of the curable resin liquid applied to the film base 2 on the outer peripheral surface, and a driving device (for driving the cooling roll 5 to rotate). And a nip roll 8 that presses the film substrate 2 against the cooling roll 5 so that the film substrate 2 is wound around the surface of the cooling roll 5 with the side coated with the curable resin as the side facing the cooling roll 5. The nip roll holding device (not shown) that holds the nip roll 8 in a form that allows the pressing force to the cooling roll 5 to be freely adjusted, and the curable resin liquid that is held on the surface of the cooling roll 5 is cured. Therefore, in order to stably peel the irradiation device 11 that irradiates radiation toward the cooling roll 5, the film base 2, and the resin layer formed on the surface thereof from the cooling roll 5. The peeling roll 12, and the peeling roll 12 rotatably and is held pressed against the cooling roll 5 peeling roll holding device (not shown) or the like. The cooling roll 5 includes a passage through which a cooling medium such as cooling water and air passes, and has a structure that prevents a temperature rise by passing the cooling medium through the inside. The nip roll 8 and the peeling roll 12 are not limited to being rotatable, and may be configured to be forcibly driven at the same peripheral speed as the cooling roll 5.

ニップロール８は冷却ロール５の下部領域において冷却ロール５に接する位置に配置されており、また、剥離ロール１２も冷却ロール５の下部領域において冷却ロール５に接する位置に配置されており、フィルム基材２は冷却ロール５の上部領域を含む外周面に巻き付いて走行するようになっている。更に、冷却ロール５及びニップロール８は、ダイコート装置２１からのフィルム基材２が、まずニップロール８の外周面に接触して支持され、次いで支持された状態でニップロール８と冷却ロール５の接点部に進入するように、配置されている。   The nip roll 8 is disposed at a position in contact with the cooling roll 5 in the lower area of the cooling roll 5, and the peeling roll 12 is also disposed at a position in contact with the cooling roll 5 in the lower area of the cooling roll 5. 2 winds around the outer peripheral surface including the upper region of the cooling roll 5 and travels. Further, the cooling roll 5 and the nip roll 8 are supported by the film substrate 2 from the die coating device 21 in contact with the outer peripheral surface of the nip roll 8 first, and then in a supported state at the contact portion of the nip roll 8 and the cooling roll 5. Arranged to enter.

照射装置１１は、冷却ロール５の表面に塗布した硬化性樹脂液を硬化させるための放射線を照射するものである。放射線としては、硬化対象の樹脂の種類に応じて適宜選択すればよく、具体的には、赤外線、可視光線、紫外線若しくは電子線等を例示でき、更にはマイクロ波やＸ線等の電磁波も利用できる。   The irradiation device 11 emits radiation for curing the curable resin liquid applied to the surface of the cooling roll 5. The radiation may be appropriately selected according to the type of resin to be cured. Specifically, infrared rays, visible rays, ultraviolet rays, electron beams, etc. can be exemplified, and electromagnetic waves such as microwaves and X-rays are also used. it can.

次に、上記構成の凹凸フィルムの製造装置を用いて、図５に示す、光学式ディスプレイや液晶ディスプレイのバックライト機構においてレンズフィルムとして用いられる凹凸フィルム１を製造する方法を説明する。フィルム基材２としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ナイロン等のポリアミド、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアクリレート、フッ素系樹脂、ポリプロピレン、三酢酸セルロース、セロファン等からなるプラスチックフィルム、或いは銅、鉄、アルミニウム等の金属箔が挙げられ、これらを単独で使用しても又は適宜積層させた基材として使用してもよい。樹脂層３を形成するための硬化性樹脂としては、公知の電離放射線硬化性樹脂や、熱硬化性樹脂を用いることができる。電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線或いは電子線硬化性樹脂等が使用でき、例えばウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、シリコンアクリレート等のアクリレート、シロキサン、不飽和ポリエステル等の分子中のアクリロイル基、メタアクリロイル基等の重合性不飽和結合を有する多官能単量体を主成分とする単量体またはプレポリマーの高架橋密度型の樹脂を用いるのが好ましい。このような硬化性樹脂を硬化させるために紫外線を照射する場合には、光重合開始剤としてアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光重合促進剤（増感剤）として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を使用することができる。   Next, a method for producing the concavo-convex film 1 used as a lens film in the backlight mechanism of an optical display or a liquid crystal display shown in FIG. Examples of the film substrate 2 include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyamides such as nylon, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polyacrylate, fluororesin, polypropylene, cellulose triacetate, cellophane, and the like. Or a metal foil made of copper, iron, aluminum or the like, and these may be used alone or as a base material appropriately laminated. As the curable resin for forming the resin layer 3, a known ionizing radiation curable resin or a thermosetting resin can be used. As the ionizing radiation curable resin, ultraviolet ray or electron beam curable resin can be used. For example, acrylate such as urethane acrylate, epoxy acrylate, silicon acrylate, siloxane, unsaturated polyester, acryloyl group, methacryloyl group, etc. It is preferable to use a monomer having a polyfunctional monomer having a polymerizable unsaturated bond as a main component or a prepolymer high crosslink density type resin. When irradiating ultraviolet rays to cure such a curable resin, acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amino oxime ester, tetramethyl thiuram monosulfide, thioxanthones and the like are used as photopolymerization initiators. As a photopolymerization accelerator (sensitizer), n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine and the like can be mixed and used. Thermosetting resins include phenolic resins, urea resins, diallyl phthalate resins, melamine resins, guanamine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, epoxy resins, aminoalkyd resins, melamine-urea cocondensation resins, silicon resins, Polysiloxane resin or the like can be used.

まず、フィルム基材２の供給ロール（図示せず）から繰り出されたフィルム基材２に対してダイコート装置２１によって硬化性樹脂液を一定厚さに塗布する。この時の塗布幅は、フィルム基材２の幅よりも狭く、且つ凹凸フィルム１に形成する樹脂層３の幅にほぼ等しいか或いはそれより若干狭くなるように選定しておく。また、塗布厚さ（塗布量）は、凹凸フィルム１に形成する樹脂層３に必要な樹脂量が確保されるように、すなわち、樹脂層３と同量若しくはそれよりも少し多めの樹脂量となるように定めておく。ここで、フィルム基材２への樹脂液塗布にダイヘッド２５を用いたことで、フィルム基材２の走行速度を高速とした場合であっても所望幅での塗布が容易であり、図７に示すロールコータ１４を用いた場合に生じる恐れのある裏移りの問題は生じない。また、塗布むらのきわめて小さい精密塗布が可能であり、気泡の混入も生じない。更に、高粘度の塗布も可能であり、粘度を下げるために加熱するという操作を行う必要がなく、加熱した際に物性変化を生じる恐れのある硬化性樹脂であっても、物性変化を生じることなく良好な塗布が可能である。かくして、ダイコート装置２１を出たフィルム基材２には、フィルム基材２の走行速度を高くした場合であっても、硬化性樹脂液が所望幅で且つ均一厚さに塗布されている。   First, a curable resin liquid is applied to the film base 2 fed from a supply roll (not shown) of the film base 2 by a die coating device 21 to a certain thickness. The coating width at this time is selected so as to be narrower than the width of the film base 2 and substantially equal to or slightly narrower than the width of the resin layer 3 formed on the concavo-convex film 1. Also, the coating thickness (coating amount) is such that the resin amount required for the resin layer 3 formed on the concavo-convex film 1 is secured, that is, the same amount as the resin layer 3 or a slightly larger amount of resin. It is determined so that it becomes. Here, by using the die head 25 for the application of the resin liquid to the film base material 2, even when the traveling speed of the film base material 2 is high, application with a desired width is easy. The problem of set-off that may occur when using the illustrated roll coater 14 does not occur. In addition, precise coating with very small coating unevenness is possible, and bubbles are not mixed. In addition, high viscosity coating is possible, and it is not necessary to perform an operation of heating to lower the viscosity, and even if it is a curable resin that may cause changes in physical properties when heated, it will cause changes in physical properties. And good coating is possible. Thus, even when the traveling speed of the film substrate 2 is increased, the curable resin liquid is applied to the film substrate 2 exiting the die coater 21 with a desired width and a uniform thickness.

次に、硬化性樹脂液を塗布されたフィルム基材２は、凹凸形状付与硬化装置２２に送られ、樹脂液層を外側にしてニップロール８の外周面で支持され、その状態でニップロール８と冷却ロール５の接点部に送られ、ニップロール８によって冷却ロール５の表面に押し付けられる。かくして、フィルム基材２表面の硬化性樹脂液層が冷却ロール５に押し付けられ、樹脂液層内に冷却ロール５の凹凸形状表面の凸部が入り込んだ状態、即ち樹脂液が冷却ロール５の表面の凹部を満たすと共に凹凸形状表面全体を覆い、その外側をフィルム基材２が覆って冷却ロール５に押し付けた状態となる。その後、冷却ロール５の回転に伴い、冷却ロール５表面の樹脂液が照射装置１１の放射線照射を受けて硬化し、剥離ロール１２のところで、フィルム基材２及びその表面に接合した樹脂層３が冷却ロール５から剥がされ、表面に凹凸形状を備えた凹凸フィルム１が形成される。なお、形成された凹凸フィルム１は巻取装置（図示せず）によって巻取形態に巻き取られる。   Next, the film substrate 2 coated with the curable resin liquid is sent to the uneven shape imparting curing device 22 and supported by the outer peripheral surface of the nip roll 8 with the resin liquid layer facing outside, and in this state, the film base 2 is cooled. It is sent to the contact portion of the roll 5 and pressed against the surface of the cooling roll 5 by the nip roll 8. Thus, the curable resin liquid layer on the surface of the film substrate 2 is pressed against the cooling roll 5, and the convex portion of the uneven surface of the cooling roll 5 enters the resin liquid layer, that is, the resin liquid is on the surface of the cooling roll 5. And the entire surface of the concavo-convex shape is covered, and the outside is covered with the film base 2 and pressed against the cooling roll 5. Thereafter, as the cooling roll 5 rotates, the resin liquid on the surface of the cooling roll 5 is cured by irradiation of the irradiation device 11, and at the peeling roll 12, the film base 2 and the resin layer 3 bonded to the surface thereof are formed. It is peeled off from the cooling roll 5, and the uneven | corrugated film 1 provided with the uneven | corrugated shape on the surface is formed. In addition, the formed uneven | corrugated film 1 is wound up by the winding form with a winding apparatus (not shown).

以上に説明した製造工程において、硬化性樹脂液層を形成されたフィルム基材２が凹凸形状付与硬化装置２２のニップロール８と冷却ロール５の接点部に送り込まれている間、その接点部の、フィルム基材進入側には小さい液溜まり９が形成される。ここで、フィルム基材２に塗布されている硬化性樹脂液は、最終的に必要とされる樹脂量にほぼ等しく且つ一定厚さに塗布されているため、液溜まり９はきわめて小さいものであり、且つ安定している。このため、高速とした場合であっても、液溜まり９による塗布幅の拡がりはきわめて小さいもの（１０ｍｍ程度以下）であり、フィルム基材の幅方向の外側にオーバーフローすることはない。また、気泡を発生することはあまりなく、気泡の製品への混入を生じることがない。連続運転中、この液溜まり９が適度な大きさ及び幅となるように管理することで、冷却ロール５の表面の樹脂液の塗布量及び塗布幅を調整できる。液溜まり９の管理には、塗布装置２１による塗布量及びニップロール８の押し圧を用いることができ、これらの管理により、製造される凹凸フィルム１の樹脂層３の幅及び樹脂量（膜厚）を調整できる。なお、液溜まり９は、加工後のレンズ仕様に影響しなければ、できる限り小さいほうがよい。液溜まり９は、加工中、常に一定の大きさに保たれることが望ましいが、場合によっては徐々に増加することがあり、その場合、適当に除去する必要が生じることがある。その場合に対応するには、液溜まり９が下向き或いは斜め下向きに形成されるようにニップロール８を配置しておき、液溜まり９から過剰な樹脂液が自重で落下するようにすることが好ましい。この場合においても、液溜まり９から落下する樹脂液は、図６に示した従来例に比べてはるかに少量であるので、回収及び脱泡に要する装置はきわめて小型のものでよい。   In the manufacturing process described above, while the film substrate 2 on which the curable resin liquid layer is formed is being fed into the contact portion of the nip roll 8 and the cooling roll 5 of the uneven shape imparting curing device 22, A small liquid reservoir 9 is formed on the film base entrance side. Here, since the curable resin liquid applied to the film substrate 2 is applied to a final thickness that is substantially equal to the resin amount required, the liquid pool 9 is extremely small. And stable. For this reason, even when the speed is high, the spread of the coating width due to the liquid reservoir 9 is extremely small (about 10 mm or less) and does not overflow to the outside in the width direction of the film substrate. Moreover, there is not much air bubble generation, and air bubbles are not mixed into the product. By managing the liquid pool 9 so as to have an appropriate size and width during continuous operation, the application amount and application width of the resin liquid on the surface of the cooling roll 5 can be adjusted. The management of the liquid pool 9 can be performed using the coating amount by the coating device 21 and the pressing pressure of the nip roll 8. By these managements, the width and the resin amount (film thickness) of the resin layer 3 of the concavo-convex film 1 to be manufactured. Can be adjusted. The liquid reservoir 9 should be as small as possible as long as it does not affect the lens specifications after processing. Although it is desirable that the liquid pool 9 is always maintained at a constant size during processing, it may gradually increase in some cases, and in this case, it may be necessary to remove it appropriately. In order to cope with such a case, it is preferable to arrange the nip roll 8 so that the liquid reservoir 9 is formed downward or obliquely downward, so that excess resin liquid falls from the liquid reservoir 9 by its own weight. Even in this case, the amount of the resin liquid falling from the liquid reservoir 9 is much smaller than that of the conventional example shown in FIG. 6, and therefore the apparatus required for recovery and defoaming may be extremely small.

前記したようにダイコート装置２１によってフィルム基材２に塗布する硬化性樹脂液量は、凹凸フィルム１の樹脂層３に必要とされる樹脂量と同等若しくはそれよりも少し多いだけであるので、このフィルム基材２が凹凸形状付与硬化装置２２のニップロール８と冷却ロール５の接点部を通過する際、ほとんどの樹脂液が通過し、ニップロール８で濾し取られることはほとんどない。このため、図６に示す従来例のように、きわめて大量の樹脂液を冷却ロール５に供給し、その大部分をニップロール８で濾し取る構成に比べて、接点部を通過した後の冷却ロール５の表面に残す樹脂量の調整が容易であり、加工速度の上昇に容易に対応できる。かくして、図６に示す従来例に比べて、製品品質を劣化させることなく、フィルム基材２の走行速度を高くした状態で、凹凸フィルム１を製造できる。   As described above, the amount of the curable resin liquid applied to the film substrate 2 by the die coater 21 is equal to or slightly larger than the amount of resin required for the resin layer 3 of the uneven film 1. When the film substrate 2 passes through the contact portion between the nip roll 8 and the cooling roll 5 of the uneven shape imparting curing device 22, most of the resin liquid passes and is hardly filtered off by the nip roll 8. Therefore, as in the conventional example shown in FIG. 6, compared to a configuration in which a very large amount of resin liquid is supplied to the cooling roll 5 and most of the liquid is filtered by the nip roll 8, the cooling roll 5 after passing through the contact portion. It is easy to adjust the amount of resin remaining on the surface of the steel, and can easily cope with an increase in processing speed. Thus, the concavo-convex film 1 can be produced in a state where the traveling speed of the film substrate 2 is increased without deteriorating the product quality as compared with the conventional example shown in FIG.

図２は本発明の他の実施の形態に係る凹凸フィルムの製造装置を示す概略構成図である。この製造装置では、ダイコート装置２１を凹凸形状付与硬化装置２２の下方に配置しており、ダイコート装置２１を出たフィルム基材２が斜め下方からニップロール８に進入するように構成している。その他の構成は、図１に示す実施の形態と同様である。図２に示す製造装置でも、図１に示す実施の形態と同様に、走行中のフィルム基材２にダイコート装置２１によって硬化性樹脂液を所望幅で且つ所望厚さに塗布し、それを、ニップロール８によって冷却ロール５に押し付け、且つ放射線照射によって樹脂液を硬化させ、その後、冷却ロール５から剥ぎ取ることで、表面を凹凸形状とした樹脂層３を備えた凹凸フィルム１を製造できる。図２の実施の形態では、フィルム基材２がダイコート装置２１で樹脂液を塗布された後、冷却ロール５に接するまでの距離を短くでき、フィルム基材２の表面に塗布された樹脂液の、環境温度からの影響を減少させることができる。   FIG. 2 is a schematic block diagram showing an apparatus for producing an uneven film according to another embodiment of the present invention. In this manufacturing apparatus, the die coating device 21 is disposed below the uneven shape imparting curing device 22 so that the film substrate 2 exiting the die coating device 21 enters the nip roll 8 from obliquely below. Other configurations are the same as those of the embodiment shown in FIG. In the manufacturing apparatus shown in FIG. 2, similarly to the embodiment shown in FIG. 1, a curable resin liquid is applied to a desired width and thickness by a die coating apparatus 21 on the traveling film base 2, The concavo-convex film 1 provided with the resin layer 3 having a concavo-convex shape on the surface can be produced by pressing the nip roll 8 against the cooling roll 5 and curing the resin liquid by irradiation with radiation. In the embodiment of FIG. 2, after the resin liquid is applied to the film base 2 by the die coater 21, the distance until the film base 2 comes into contact with the cooling roll 5 can be shortened, and the resin liquid applied to the surface of the film base 2 can be reduced. , The influence from the environmental temperature can be reduced.

図３は本発明の更に他の実施の形態に係る凹凸フィルムの製造装置を示す概略構成図である。この製造装置では、ダイコート装置２１を凹凸形状付与硬化装置２２の下方に配置し、ダイコート装置２１を出たフィルム基材２が直接冷却ロール５に接するように進入する配置とし、ニップロール８はフィルム基材２が冷却ロール５に接する位置でフィルム基材２を冷却ロール５に押し付けるように配置している。その他の構成は、図１に示す実施の形態と同様である。図３に示す製造装置でも、図１に示す実施の形態と同様に、走行中のフィルム基材２にダイコート装置２１によって硬化性樹脂液を所望幅で且つ所望厚さに塗布し、それを、ニップロール８によって冷却ロール５に押し付け、且つ放射線照射によって樹脂液を硬化させ、その後、冷却ロール５から剥ぎ取ることで、表面を凹凸形状とした樹脂層３を備えた凹凸フィルム１を製造できる。図３の実施の形態では、フィルム基材２がダイコート装置２１で樹脂液を塗布された後、冷却ロール５に接するまでの距離を一層短くでき、フィルム基材２表面に塗布された樹脂液の、環境温度からの影響を減少させることができる。なお、図１、図２に示す実施の形態では、ダイコート装置２１を出たフィルム基材２が一旦、ニップロール８の外周面で支持され、その後、冷却ロール５に押し付けられる構成としているので、ニップロール８に向かって走行中のフィルム基材２に揺れ等が生じていたとしても、それがニップロール８の外周面で防止され、その後、冷却ロール５との接点部に送られるため、フィルム基材２の揺れが接点部に影響しないという利点が得られる。   FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing an apparatus for manufacturing an uneven film according to still another embodiment of the present invention. In this manufacturing apparatus, the die coating device 21 is disposed below the uneven shape imparting curing device 22, and the film base 2 exiting the die coating device 21 is disposed so as to be in direct contact with the cooling roll 5, and the nip roll 8 is disposed on the film base. It arrange | positions so that the film base material 2 may be pressed on the cooling roll 5 in the position where the material 2 contacts the cooling roll 5. Other configurations are the same as those of the embodiment shown in FIG. In the manufacturing apparatus shown in FIG. 3, similarly to the embodiment shown in FIG. 1, the curable resin liquid is applied to the traveling film base 2 with a desired width and a desired thickness by the die coat apparatus 21. The concavo-convex film 1 provided with the resin layer 3 having a concavo-convex shape on the surface can be produced by pressing the nip roll 8 against the cooling roll 5 and curing the resin liquid by irradiation with radiation. In the embodiment of FIG. 3, after the resin liquid is applied to the film base 2 by the die coater 21, the distance until the film base 2 comes into contact with the cooling roll 5 can be further shortened, and the resin liquid applied to the surface of the film base 2 can be reduced. , The influence from the environmental temperature can be reduced. In the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the film substrate 2 that has exited the die coater 21 is once supported on the outer peripheral surface of the nip roll 8 and then pressed against the cooling roll 5. Even if the film base material 2 traveling toward the surface 8 is shaken or the like, it is prevented by the outer peripheral surface of the nip roll 8 and then sent to the contact point with the cooling roll 5. There is an advantage that the shaking does not affect the contact portion.

［実施例１］
以下に示す仕様、条件にてレンズフィルムとして使用する凹凸フィルムの製造を行った。
硬化性樹脂液： 材料名； アクリル系ＵＶ硬化性樹脂
物性 ； 粘度２５００ｃｐｓ、比重１．５ｇ／ｃｍ3
フィルム基材： ＰＥＴフィルム
ダイコート装置：図２に示すバックアップロール式ダイコート装置
塗布幅： １６００ｍｍ
塗布量： ３５ｇ／ｍ2 （凹凸フィルム１の樹脂層形成に必要な量）
装置レイアウト：図２に示す構造
ニップロール８の位置： 冷却ロール５の下部
照射装置： ＵＶ照射 波長３５０〜４３０ｎｍ ２灯
冷却ロール表面凹凸形状： ピッチ５０μｍ、高さ２５μｍ [Example 1]
The uneven | corrugated film used as a lens film was manufactured on the specification and conditions shown below.
Curable resin liquid: Material name; Acrylic UV curable resin
Physical properties: Viscosity 2500 cps, specific gravity 1.5 g / cm 3
Film substrate: PET film Die coating device: Backup roll type die coating device shown in FIG. 2 Application width: 1600 mm
Application amount: 35 g / m 2 (Amount necessary for forming the resin layer of the uneven film 1)
Apparatus layout: structure shown in FIG. 2 Position of nip roll 8: Lower part of cooling roll 5 Irradiation apparatus: UV irradiation Wavelength 350 to 430 nm 2 lamps Cooling roll surface uneven shape: Pitch 50 μm, Height 25 μm

上記条件で、加工速度（フィルム基材走行速度）を１０、２０、３０、４０ｍ／分として凹凸フィルムを製造テストを行ったところ、いずれの加工速度においても良好な加工を行うことができ、表面に三角形断面の凹凸形状を備えた凹凸フィルム１を製造できた。従って、４０ｍ／ｍｉｎといった高速での凹凸加工が可能であることを確認できた。   Under the above conditions, when the production test was performed on the concavo-convex film at a processing speed (film substrate traveling speed) of 10, 20, 30, 40 m / min, it was possible to perform good processing at any processing speed, An uneven film 1 having an uneven shape with a triangular cross section could be produced. Therefore, it was confirmed that the uneven processing at a high speed of 40 m / min was possible.

［実施例２］
以下に示す仕様、条件にて凹凸フィルムの製造を行った。
硬化性樹脂液： 材料名； アクリル系ＵＶ硬化性樹脂
物性 ； 粘度２５００ｃｐｓ、比重１．５ｇ／ｃｍ3
フィルム基材： ＰＥＴフィルム
ダイコート装置：図３に示すバックアップロール式ダイコート装置
塗布幅： １６００ｍｍ
塗布量： ３５ｇ／ｍ2 （凹凸フィルム１の樹脂層形成に必要な量）
装置レイアウト：図３に示す構造
ニップロール８の位置：図３に実線で示す位置（φ＝４５°）、又は、
図３に二点鎖線８ａで示す位置（φ＝１１５°）
照射装置： ＵＶ照射 波長３５０〜４３０ｎｍ ２灯
冷却ロール表面凹凸形状： ピッチ５０μｍ、高さ２５μｍ [Example 2]
The concavo-convex film was produced under the following specifications and conditions.
Curable resin liquid: Material name; Acrylic UV curable resin
Physical properties: Viscosity 2500 cps, specific gravity 1.5 g / cm 3
Film substrate: PET film Die coating device: Backup roll type die coating device shown in FIG. 3 Application width: 1600 mm
Application amount: 35 g / m 2 (Amount necessary for forming the resin layer of the uneven film 1)
Apparatus layout: structure shown in FIG. 3 Position of the nip roll 8: Position shown by a solid line in FIG. 3 (φ = 45 °), or
The position indicated by the two-dot chain line 8a in FIG. 3 (φ = 115 °)
Irradiation device: UV irradiation Wavelength 350 to 430 nm 2 lamps Cooling roll surface uneven shape: Pitch 50 μm, Height 25 μm

上記条件で、ニップロールの位置を、図３に実線で示す位置と、二点鎖線８ａで示す位置に変え、且つ加工速度（フィルム基材走行速度）を１０、２０、３０、４０ｍ／分として凹凸フィルムを製造テストを行ったところ、いずれのニップロール位置、いずれの加工速度においても良好な加工を行うことができ、表面に三角形断面の凹凸形状を備えた凹凸フィルム１を製造できた。従って、ニップロール８を、冷却ロール５に直接接するように進入したフィルム基材２を、その接点で冷却ロール５に押し付けるように配置した場合、及びフィルム基材を一旦ニップロール８の外周面で支持し、その状態で冷却ロール５に押し付ける場合のいずれにおいても、４０ｍ／ｍｉｎといった高速での凹凸加工が可能であることを確認できた。   Under the above conditions, the position of the nip roll is changed to the position indicated by the solid line in FIG. 3 and the position indicated by the two-dot chain line 8a, and the processing speed (film substrate traveling speed) is 10, 20, 30, 40 m / min. When the film was subjected to a production test, it was possible to perform favorable processing at any nip roll position and any processing speed, and the uneven film 1 having an uneven shape with a triangular cross section on the surface could be manufactured. Accordingly, when the film base 2 that has entered the nip roll 8 so as to be in direct contact with the cooling roll 5 is arranged to be pressed against the cooling roll 5 at the contact point, the film base is temporarily supported by the outer peripheral surface of the nip roll 8. In any of the cases where it is pressed against the cooling roll 5 in this state, it was confirmed that the uneven processing at a high speed of 40 m / min is possible.

以上に本発明の好適な実施の形態及び実施例を説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、特許請求の範囲の記載範囲内で適宜変更可能であることは言うまでもない。   The preferred embodiments and examples of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to these, and it is needless to say that the present invention can be appropriately changed within the scope of the claims.

本発明の好適な実施の形態に係る凹凸フィルムの製造装置を示す概略構成図The schematic block diagram which shows the manufacturing apparatus of the uneven | corrugated film which concerns on suitable embodiment of this invention. 本発明の他の実施の形態に係る凹凸フィルムの製造装置を示す概略構成図The schematic block diagram which shows the manufacturing apparatus of the uneven | corrugated film which concerns on other embodiment of this invention. 本発明の更に他の実施の形態に係る凹凸フィルムの製造装置を示す概略構成図The schematic block diagram which shows the manufacturing apparatus of the uneven | corrugated film which concerns on other embodiment of this invention. ダイコート装置の変形例を示す概略構成図Schematic configuration diagram showing a modification of the die coater 凹凸フィルムの一部を拡大して示す概略斜視図The schematic perspective view which expands and shows a part of uneven film 従来の凹凸フィルムの製造装置を示す概略構成図Schematic configuration diagram showing a conventional concavo-convex film manufacturing apparatus 従来の凹凸フィルムの製造装置の他の例を示す概略構成図The schematic block diagram which shows the other example of the manufacturing apparatus of the conventional uneven | corrugated film

符号の説明Explanation of symbols

１ 凹凸フィルム
２ フィルム基材
３ 樹脂層
５ 冷却ロール
６ 硬化性樹脂液
７ ノズル
８ ニップロール
９ 液溜まり
１１ 照射装置
１２ 剥離ロール
１４ ロールコータ
１５ コーティングロール
１６ アプリケータロール
１７ 液溜まり
２１ ダイコート装置
２２ 凹凸形状付与硬化装置
２４ バックアップロール
２５ ダイヘッド
２５ａ 吐出スリット
２６ ポンプ
２８ 基材位置調整ロール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Uneven film 2 Film base material 3 Resin layer 5 Cooling roll 6 Curable resin liquid 7 Nozzle 8 Nip roll 9 Liquid pool 11 Irradiation device 12 Peeling roll 14 Roll coater 15 Coating roll 16 Applicator roll 17 Liquid pool 21 Die coat device 22 Uneven shape Application curing device 24 Backup roll 25 Die head 25a Discharge slit 26 Pump 28 Substrate position adjustment roll

Claims (4)

走行中のフィルム基材に対して硬化性樹脂液を一定厚さに塗布するダイコート装置と、該ダイコート装置の下流に配置され、前記フィルム基材に塗布された硬化性樹脂液の表面に凹凸形状を付与して硬化させる凹凸形状付与硬化装置であって、外周面に凹凸形状を表面に備えた冷却ロールと、前記フィルム基材が前記硬化性樹脂液を塗布した側を前記冷却ロールに面する側として前記冷却ロール外周面に巻き付くように前記フィルム基材を前記冷却ロールに押し付けるニップロールと、前記硬化性樹脂液を硬化させるよう前記冷却ロールに放射線を照射する照射装置を有する凹凸形状付与硬化装置を備えた凹凸フィルムの製造装置。   A die coating device that applies a curable resin liquid to a constant thickness on a traveling film substrate, and an uneven shape on the surface of the curable resin liquid that is disposed downstream of the die coating device and applied to the film substrate. A concavo-convex shape imparting curing device that imparts and cures a cooling roll having a concavo-convex shape on the outer peripheral surface, and the side on which the film base material has applied the curable resin liquid faces the cooling roll. A nip roll that presses the film substrate against the cooling roll so as to wrap around the outer peripheral surface of the cooling roll as a side, and an uneven shape imparting curing having an irradiation device that irradiates the cooling roll with radiation so as to cure the curable resin liquid The manufacturing apparatus of the uneven | corrugated film provided with the apparatus. 前記ダイコート装置と前記凹凸形状付与硬化装置とは、前記ダイコート装置を出た前記フィルム基材が、まず前記凹凸形状付与硬化装置のニップロールの外周面に接触して支持され、次いで支持された状態で前記ニップロールと冷却ロールの接点部に進入するように配置されていることを特徴とする請求項１記載の凹凸フィルムの製造装置。   In the die coat device and the uneven shape imparting curing device, the film base material exiting the die coat device is first supported in contact with the outer peripheral surface of the nip roll of the uneven shape imparting curing device, and then in a supported state. The uneven film manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the uneven film is disposed so as to enter a contact portion between the nip roll and the cooling roll. 前記ダイコート装置が、バックアップロールで支持されたフィルム基材に対してダイヘッドで塗布を行う構成であることを特徴とする請求項１又は２記載の凹凸フィルムの製造装置。   The apparatus for producing a concavo-convex film according to claim 1, wherein the die coating apparatus is configured to apply with a die head to a film substrate supported by a backup roll. 前記ダイコート装置が、テンションをかけた状態で走行中のフィルム基材に対してダイヘッドで塗布を行う構成であることを特徴とする請求項１又は２記載の凹凸フィルムの製造装置。   3. The apparatus for producing a concavo-convex film according to claim 1, wherein the die coating apparatus is configured to apply with a die head to a film substrate that is running in a state where tension is applied.
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