JP2008031460A - Antistatic agent - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic agent imparting excellent permanent antistaticity to a thermoplastic resin with high productivity without impairing its appearance, in view of the problem involved in conventional antistatic agents that, after polymerization, when the resultant polymer is extruded from an extruder and cut into pellets, a cutting trouble occurs, leading to declining in the polymer's productivity. <P>SOLUTION: The antistatic agent comprises a hydrophilic block copolymer with a surface resistivity of 1×10<SP>6</SP>to 1×10<SP>13</SP>Ω and an ionic surfactant(B) having a heat of crystallization of 2-100 mJ/mg at the crystallization peak temperature as determined by differential scanning calorimetry. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、帯電防止剤に関する。さらに詳しくは、生産性(カッティング性)に優れた帯電防止剤に関する。   The present invention relates to an antistatic agent. More specifically, the present invention relates to an antistatic agent excellent in productivity (cutting property).

従来、熱可塑性樹脂に帯電防止性を付与する樹脂組成物としては、界面活性剤の存在下で重合して得られるポリエーテル鎖含有帯電防止剤を熱可塑性樹脂に含有させた樹脂組成物(例えば、特許文献1参照)等が知られている。   Conventionally, as a resin composition for imparting antistatic properties to a thermoplastic resin, a resin composition containing a polyether chain-containing antistatic agent obtained by polymerization in the presence of a surfactant in a thermoplastic resin (for example, And Patent Document 1) are known.

特開2002−146212号公報JP 2002-146212 A

しかしながら、上記の帯電防止剤では、重合後にポリマーを押出機から押し出し、これをカッティングしてペレット状にする際、カッティング不良により多くのペレットが不定形状となり生産性を大きく低下させるという問題があった。
本発明の目的は、生産性(カッティング性)に優れ、かつ熱可塑性樹脂に、優れた永久帯電防止性を付与する帯電防止剤を提供することにある。
However, the above-described antistatic agent has a problem in that when a polymer is extruded from an extruder after polymerization and is cut into pellets, many pellets become indefinite due to poor cutting, resulting in a significant reduction in productivity. .
The objective of this invention is providing the antistatic agent which is excellent in productivity (cutting property) and provides the permanent permanent antistatic property to a thermoplastic resin.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。すなわち、本発明は、1×106〜1×1013Ωの表面固有抵抗値を有する親水性ブロックポリ
マー(A)と、示差走査熱量計による結晶化ピーク温度において2〜100mJ/mgの結晶化熱を有するイオン性界面活性剤(B)からなることを特徴とする帯電防止剤;該帯電防止剤を熱可塑性樹脂(C)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物;該組成物を成形してなる成形品;並びに、該成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品である。
The inventors of the present invention have arrived at the present invention as a result of intensive studies to solve the above problems. That is, the present invention relates to a hydrophilic block polymer (A) having a surface resistivity of 1 × 10 6 to 1 × 10 13 Ω and a crystallization of 2 to 100 mJ / mg at a crystallization peak temperature by a differential scanning calorimeter. An antistatic agent comprising an ionic surfactant (B) having heat; an antistatic resin composition containing the antistatic agent in a thermoplastic resin (C); and molding the composition And a molded article obtained by painting and / or printing the molded article.

本発明の帯電防止剤および帯電防止性樹脂組成物は下記の効果を奏する。
(1)該帯電防止剤は生産性(カッティング性)に優れる。
(2)該帯電防止剤は熱可塑性樹脂への分散性に優れ、熱可塑性樹脂に優れた永久帯電防止性を付与することができる。
The antistatic agent and antistatic resin composition of the present invention have the following effects.
(1) The antistatic agent is excellent in productivity (cutting property).
(2) The antistatic agent has excellent dispersibility in a thermoplastic resin, and can impart excellent permanent antistatic properties to the thermoplastic resin.

〔親水性ブロックポリマー(A)〕
本発明における(A)は、1×106〜1×1013(好ましくは1×106〜1×1012Ω)の表面固有抵抗値を有する親水性ブロックポリマーである。(A)の表面固有抵抗値が1×106Ω未満では後述の樹脂組成物の成形性が悪くなり、1×1013Ωを超えると後述の成形品の帯電防止性が悪くなる。
(A)には、下記のもの、およびこれらの2種以上の混合物が含まれる。
(A1):ポリアミド(a11)および/またはポリアミドイミド(a12)からなるアミド基含有疎水性ポリマー(a1)、ポリエーテルジオール(b11)および/またはポリエーテルジアミン(b12)からなるポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)および芳香環含有ポリエステル(c1)から構成されるブロックポリマー
(A2):ポリオレフィン(a21)のブロックとポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウ
レタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
(A3):ポリアミド(a11)および/またはポリアミドイミド(a12)からなるアミド基含有疎水性ポリマー(a1)、およびポリエーテルジオール(b11)および/またはポリエーテルジアミン(b12)からなるポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)から構成されるブロックポリマー
[Hydrophilic block polymer (A)]
(A) in the present invention is a hydrophilic block polymer having a surface resistivity of 1 × 10 6 to 1 × 10 13 (preferably 1 × 10 6 to 1 × 10 12 Ω). When the surface specific resistance value of (A) is less than 1 × 10 6 Ω, the moldability of the resin composition described later is deteriorated, and when it exceeds 1 × 10 13 Ω, the antistatic property of the molded product described later is deteriorated.
(A) includes the following and mixtures of two or more thereof.
(A1): Hydrophobic amide group-containing hydrophobic polymer (a1) composed of polyamide (a11) and / or polyamideimide (a12), polyether chain-containing hydrophilic composed of polyether diol (b11) and / or polyether diamine (b12) Block polymer (A2) composed of the functional polymer (b1) and the aromatic ring-containing polyester (c1): the block of the polyolefin (a21) and the block of the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22) are ester bonds, amide bonds, A block polymer (A3) having a structure in which the structure is repeatedly and alternately bonded through at least one bond selected from the group consisting of an ether bond, an imide bond, and a urethane bond, comprising a polyamide (a11) and / or a polyamideimide (a12) Amido group-containing hydrophobic Polymer (a1), and polyether diols (b11) and / or block polymer composed of polyether chains containing hydrophilic polymer (b1) consisting of polyether diamine (b12)

[ブロックポリマー(A1)]
ブロックポリマー(A1)を構成するアミド基含有疎水性ポリマー(a1)は、ポリアミド(a11)および/またはポリアミドイミド(a12)からなる。
ここにおいて疎水性ポリマーとは、1×1014〜1×1017Ωの表面固有抵抗値を有するポリマーのことを意味する。
ポリアミド(a11)としては、アミド形成性モノマーを開環重合または重縮合したものが挙げられる。
アミド形成モノマーとしては、ラクタム(a011)、アミノカルボン酸(a012)、およびジアミン(a013)/ジカルボン酸(a014)が挙げられる。
ラクタム(a011)としては炭素数(以下、Cと略記)6〜12、例えばカプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタムが挙げられる。
(a011)の開環重合体としては、例えばナイロン4、−5、−6、−8および−12が挙げられる。
[Block polymer (A1)]
The amide group-containing hydrophobic polymer (a1) constituting the block polymer (A1) is composed of polyamide (a11) and / or polyamideimide (a12).
Here, the hydrophobic polymer means a polymer having a surface resistivity of 1 × 10 14 to 1 × 10 17 Ω.
Examples of the polyamide (a11) include those obtained by ring-opening polymerization or polycondensation of amide-forming monomers.
Amide-forming monomers include lactam (a011), aminocarboxylic acid (a012), and diamine (a013) / dicarboxylic acid (a014).
The lactam (a011) includes 6 to 12 carbon atoms (hereinafter abbreviated as C), such as caprolactam, enantolactam, laurolactam and undecanolactam.
Examples of the ring-opening polymer (a011) include nylon 4, -5, -6, -8 and -12.

アミノカルボン酸(a012)としては、C6〜12、例えばω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペラルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸、12−アミノドデカン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
(a012)の自己重縮合体としては、例えばω−アミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11および12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12が挙げられる。
As aminocarboxylic acid (a012), C6-12, for example, ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopelargonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid, 12 -Aminododecanoic acid and mixtures thereof.
Examples of the self-polycondensate of (a012) include nylon 7 by polycondensation of ω-aminoenanthic acid, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, and nylon 12 by polycondensation of 12-aminododecanoic acid. .

ジアミン(a013)としては、C2〜40、例えば脂肪族、脂環式および芳香(脂肪)族ジアミン、並びにこれらの混合物が挙げられる。
脂肪族ジアミンとしては、C2〜40、例えばエチレンジアミン、プロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、1,12−ドデカンジアミン、1,18−オクタデカンジアミンおよび1,20−エイコサンジアミンが挙げられる。
脂環式ジアミンとしては、C5〜40、例えば1,3−および1,4−シクロヘキサンジアミン、イソホロンジアミン、4,4’−ジアミノシクロヘキシルメタンおよび2,2−ビス(4−アミノシクロヘキシル)プロパンが挙げられる。
芳香脂肪族ジアミンとしては、C7〜20、例えばキシリレンジアミン、ビス(アミノエチル)ベンゼン、ビス(アミノプロピル)ベンゼンおよびビス(アミノブチル)ベンゼンが挙げられる。
芳香族ジアミンとしては、C6〜40、例えばp−フェニレンジアミン、2,4−および2,6−トルイレンジアミンおよび2,2−ビス(4,4’−ジアミノフェニル)プロパンが挙げられる。
Diamine (a013) includes C2-40, such as aliphatic, alicyclic and aromatic (aliphatic) diamines, and mixtures thereof.
Aliphatic diamines include C2-40, such as ethylene diamine, propylene diamine, hexamethylene diamine, decamethylene diamine, 1,12-dodecane diamine, 1,18-octadecane diamine and 1,20-eicosane diamine.
Alicyclic diamines include C5-40, such as 1,3- and 1,4-cyclohexanediamine, isophoronediamine, 4,4'-diaminocyclohexylmethane and 2,2-bis (4-aminocyclohexyl) propane. It is done.
Examples of araliphatic diamines include C7-20, such as xylylenediamine, bis (aminoethyl) benzene, bis (aminopropyl) benzene and bis (aminobutyl) benzene.
Aromatic diamines include C6-40, such as p-phenylenediamine, 2,4- and 2,6-toluylenediamine and 2,2-bis (4,4'-diaminophenyl) propane.

ジカルボン酸(a014)としては、C2〜40のジカルボン酸、例えば脂肪族ジカルボン酸、芳香環含有ジカルボン酸、脂環式ジカルボン酸、これらのジカルボン酸の誘導体〔例えば酸無水物、低級(C1〜4)アルキルエステルおよびジカルボン酸塩[アルカリ金属(例えばリチウム、ナトリウムおよびカリウム)塩等]〕およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。   Examples of the dicarboxylic acid (a014) include C2-40 dicarboxylic acids such as aliphatic dicarboxylic acids, aromatic ring-containing dicarboxylic acids, alicyclic dicarboxylic acids, derivatives of these dicarboxylic acids [for example, acid anhydrides, lower (C1-4) ) Alkyl esters and dicarboxylates [alkali metal (eg, lithium, sodium and potassium) salts]] and mixtures of two or more thereof.

脂肪族ジカルボン酸としては、C2〜40(帯電防止性の観点から好ましくは4〜20、さらに好ましくは6〜12)、例えばコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、マレイン酸、フマル酸およびイタコン酸が挙げられる。
芳香環含有ジカルボン酸としては、C8〜40(帯電防止性の観点から好ましくは8〜16、さらに好ましくは8〜14)、例えばオルト−、イソ−およびテレフタル酸、2,6−および−2,7−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニル−4,4’−ジカルボン酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、トリレンジカルボン酸、キシリレンジカルボン酸および5−スルホイソフタル酸アルカリ金属(上記に同じ)塩が挙げられる。
脂環式ジカルボン酸としては、C5〜40(帯電防止性の観点から好ましくは6〜18、さらに好ましくは8〜14)、例えばシクロプロパンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロヘキセンジカルボン酸、ジシクロヘキシル−4,4’−ジカルボン酸およびショウノウ酸が挙げられる。これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香環含有ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。
ジカルボン酸誘導体のうち酸無水物としては、上記ジカルボン酸の無水物、例えば無水マレイン酸、無水イタコン酸および無水フタル酸;低級(C1〜4)アルキルエステルとしては上記ジカルボン酸の低級アルキルエステル、例えばアジピン酸ジメチルおよびオルト−、イソ−およびテレフタル酸ジメチルが挙げられる。
Examples of the aliphatic dicarboxylic acid include C2-40 (preferably 4 to 20, more preferably 6-12 from the viewpoint of antistatic properties), such as succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, Examples include sebacic acid, undecanedioic acid, dodecanedioic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid.
Examples of the aromatic ring-containing dicarboxylic acid include C8-40 (preferably 8 to 16, more preferably 8-14 from the viewpoint of antistatic properties), such as ortho-, iso- and terephthalic acid, 2,6- and -2, Examples include 7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenyl-4,4′-dicarboxylic acid, diphenoxyethanedicarboxylic acid, tolylene dicarboxylic acid, xylylene dicarboxylic acid and 5-sulfoisophthalic acid alkali metal (same as above) salts.
As the alicyclic dicarboxylic acid, C5-40 (preferably 6-18, more preferably 8-14 from the viewpoint of antistatic properties), for example, cyclopropanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, cyclohexenedicarboxylic acid, Examples include dicyclohexyl-4,4'-dicarboxylic acid and camphoric acid. Of these, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic ring-containing dicarboxylic acids are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and sodium 3-sulfoisophthalate are more preferable.
Among the dicarboxylic acid derivatives, acid anhydrides include the above dicarboxylic acid anhydrides, such as maleic anhydride, itaconic anhydride and phthalic anhydride; lower (C1-4) alkyl esters include the lower alkyl esters of the above dicarboxylic acids, such as Mention may be made of dimethyl adipate and ortho-, iso- and dimethyl terephthalate.

ジアミンとジカルボン酸との重縮合体としては、ヘキサメチレンジアミンと、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸またはドデカン二酸の重縮合による、それぞれナイロン66、−610、−69または−612、およびテトラメチレンジアミンとアジピン酸の重縮合によるナイロン46が挙げられる。
また、共重合ナイロンとしては、ナイロン6/66(アジピン酸/ヘキサメチレンジアミンのナイロン塩とカプロラクタムの共重合体)およびナイロン6/12(12−アミノドデカン酸とカプロラクタムの共重合体)が挙げられる。
Polycondensates of diamines and dicarboxylic acids include nylon 66, -610, -69, or -612, respectively, and tetramethylene by polycondensation of hexamethylene diamine with adipic acid, sebacic acid, azelaic acid or dodecanedioic acid. Nylon 46 by polycondensation of diamine and adipic acid is mentioned.
Examples of the copolymer nylon include nylon 6/66 (adipic acid / hexamethylenediamine nylon salt and caprolactam copolymer) and nylon 6/12 (12-aminododecanoic acid and caprolactam copolymer). .

上記アミド形成性モノマーのうち、帯電防止性の観点から好ましいのは、カプロラクタム、12−アミノドデカン酸およびアジピン酸/ヘキサメチレンジアミン、さらに好ましいのはカプロラクタムである。   Among the amide-forming monomers, caprolactam, 12-aminododecanoic acid and adipic acid / hexamethylenediamine are preferable from the viewpoint of antistatic properties, and caprolactam is more preferable.

ポリアミド(a11)の製造法としては、上記ジカルボン酸(a014)(C2〜40、好ましくは4〜20)または上記ジアミン(a013)(C2〜40、好ましくは4〜20)の1種またはそれ以上を分子量調整剤として使用し、その存在下に上記アミド形成性モノマーを開環重合あるいは重縮合させる方法が挙げられる。
該C2〜40のジアミンとしては前記(a013)として例示したものが挙げられ、これらのうち他のアミド形成性モノマーとの反応性の観点から好ましいのは脂肪族ジアミン、さらに好ましいのはヘキサメチレンジアミンおよびデカメチレンジアミンである。
該C2〜40のジカルボン酸としては、前記(a014)として例示したものが挙げられ、これらのうち他のアミド形成性モノマーとの反応性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香環含有ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。
The polyamide (a11) is produced by one or more of the dicarboxylic acid (a014) (C2-40, preferably 4-20) or the diamine (a013) (C2-40, preferably 4-20). Can be used as a molecular weight modifier, and in the presence thereof, the amide-forming monomer can be subjected to ring-opening polymerization or polycondensation.
Examples of the C2-40 diamine include those exemplified as the above (a013). Of these, aliphatic diamines are preferable from the viewpoint of reactivity with other amide-forming monomers, and hexamethylenediamine is more preferable. And decamethylenediamine.
Examples of the C2-40 dicarboxylic acid include those exemplified as the above (a014). Among these, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic ring-containing dicarboxylic acids are preferable from the viewpoint of reactivity with other amide-forming monomers. Acids, more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and sodium 3-sulfoisophthalate.

上記分子量調整剤の使用量は、アミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて、下限は後述する成形品の帯電防止性の観点から、上限は成形品の耐熱性の観点から、好ましくは2〜80%、さらに好ましくは4〜75%である。   The amount of the molecular weight regulator used is preferably based on the total weight of the amide-forming monomer and the molecular weight regulator, the lower limit is from the viewpoint of antistatic properties of the molded product described later, and the upper limit is from the viewpoint of heat resistance of the molded product. Is from 2 to 80%, more preferably from 4 to 75%.

ポリアミド(a11)の数平均分子量[以下、Mnと略記。測定はゲルパーミエイションクロマトグラフィー(GPC)法による。]は、成形性および帯電防止剤の製造上の観点から好ましくは200〜5,000、さらに好ましくは500〜4,000である。   Number average molecular weight of polyamide (a11) [hereinafter abbreviated as Mn. The measurement is based on a gel permeation chromatography (GPC) method. ] Is preferably 200 to 5,000, more preferably 500 to 4,000 from the viewpoint of moldability and production of an antistatic agent.

ポリアミドイミド(a12)には、上記アミド形成性モノマーおよび、該アミド形成性
モノマーと少なくとも1個のイミド環を形成しうる3価または4価の芳香族ポリカルボン酸もしくはその無水物[以下、芳香族ポリカルボン酸(無水物)と略記。](以下においてアミドイミド形成性モノマーという場合がある。)からなる重合体、およびこれらの混合物が含まれる。前記ジアミン(a013)およびジカルボン酸(a014)は、重合時の分子量調整剤としても使用できる。
Polyamideimide (a12) includes the above amide-forming monomer and a trivalent or tetravalent aromatic polycarboxylic acid or anhydride thereof capable of forming at least one imide ring with the amide-forming monomer [hereinafter referred to as fragrance. Abbreviated as group polycarboxylic acid (anhydride). (Hereinafter sometimes referred to as an amidoimide-forming monomer), and mixtures thereof. The diamine (a013) and dicarboxylic acid (a014) can also be used as a molecular weight adjusting agent during polymerization.

上記芳香族ポリカルボン酸(無水物)としては、単環(C9〜12)および多環(C13〜20)カルボン酸、例えば3価[単環(トリメリット酸等)、多環(1,2,5−および2,6,7−ナフタレントリカルボン酸、3,3’,4−ビフェニルトリカルボン酸、ベンゾフェノン−3,3’,4−トリカルボン酸、ジフェニルスルホン−3,3’,4−トリカルボン酸、ジフェニルエーテル−3,3’,4−トリカルボン酸等)、およびこれらの無水物]カルボン酸;および4価[単環(ピロメリット酸等)、多環(ビフェニル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ベンゾフェノン−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ジフェニルスルホン−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸、ジフェニルエーテル−2,2’,3,3’−テトラカルボン酸等)、およびこれらの無水物]カルボン酸が挙げられる。   Examples of the aromatic polycarboxylic acid (anhydride) include monocyclic (C9-12) and polycyclic (C13-20) carboxylic acids such as trivalent [monocyclic (trimellitic acid, etc.), polycyclic (1,2 , 5- and 2,6,7-naphthalenetricarboxylic acid, 3,3 ′, 4-biphenyltricarboxylic acid, benzophenone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, diphenylsulfone-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid, Diphenyl ether-3,3 ′, 4-tricarboxylic acid and the like, and their anhydrides] carboxylic acid; and tetravalent [monocyclic (pyromellitic acid etc.), polycyclic (biphenyl-2,2 ′, 3,3 ′] -Tetracarboxylic acid, benzophenone-2,2 ', 3,3'-tetracarboxylic acid, diphenylsulfone-2,2', 3,3'-tetracarboxylic acid, diphenylether-2,2 ', 3,3 - tetracarboxylic acid, etc.), and these anhydrides], and carboxylic acids.

ポリアミドイミド(a12)の製造法としては、ポリアミド(a11)の場合と同様に上記ジカルボン酸(C2〜40)または上記ジアミン(C2〜40)の1種またはそれ以上を分子量調整剤として使用し、その存在下に上記アミドイミド形成性モノマーを開環重合あるいは重縮合させる方法が挙げられる。該ジカルボン酸およびジアミンのうち好ましいのは(a11)の場合と同様である。
上記分子量調整剤の使用量は、アミドイミド形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて、下限は後述する成形品の帯電防止性の観点から、上限は成形品の耐熱性の観点から、好ましくは2〜80%、さらに好ましくは4〜75%である。
As a method for producing the polyamideimide (a12), as in the case of the polyamide (a11), one or more of the dicarboxylic acid (C2-40) or the diamine (C2-40) is used as a molecular weight modifier, Examples thereof include a method of ring-opening polymerization or polycondensation of the above-mentioned amidoimide-forming monomer in the presence thereof. Preferred among the dicarboxylic acid and diamine are the same as in the case of (a11).
The amount of the molecular weight modifier used is preferably based on the total weight of the amide imide-forming monomer and the molecular weight modifier, the lower limit is from the viewpoint of antistatic properties of the molded product described later, and the upper limit is from the viewpoint of heat resistance of the molded product. Is from 2 to 80%, more preferably from 4 to 75%.

(a12)のMnは、成形性および帯電防止剤の製造上の観点から好ましくは200〜5,000、さらに好ましくは500〜4,000である。   Mn of (a12) is preferably 200 to 5,000, more preferably 500 to 4,000 from the viewpoint of moldability and production of an antistatic agent.

アミド基含有疎水性ポリマー(a1)のMnは、下限は成形性の観点から、上限は帯電防止剤の製造上の観点から好ましくは200〜5,000、さらに好ましくは500〜4,000、とくに好ましくは1,000〜3,000である。   The Mn of the amide group-containing hydrophobic polymer (a1) is preferably from 200 to 5,000, more preferably from 500 to 4,000, particularly from the viewpoint of moldability, and the upper limit is from the viewpoint of production of the antistatic agent. Preferably it is 1,000-3,000.

(A1)を構成するポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)は、ポリエーテルジオール(b11)および/またはポリエーテルジアミン(b12)からなる。
ポリエーテルジオール(b11)は、通常少なくとも250(好ましくは250〜3,000、さらに好ましくは350〜2,500、とくに好ましくは400〜2,000)の水酸基当量(水酸基価に基づく、水酸基当りの分子量。以下、OH当量と略記)を有し、(b11)は、活性水素原子含有化合物[250未満のOH当量を有する低分子ジオール(b011)および2価フェノール(b012)にアルキレンオキシド(後述。以下、AOと略記。)を付加反応させることにより得られ、(b11)には下記一般式で示される低分子ジオールもしくは2価フェノールのAO付加物(b111);およびポリオキシアルキレン(b112)が含まれる。

H-(OA1)m-O-E1-O-(A1O)m'-H

[式中、E1は活性水素含有化合物から水酸基を除いた残基、A1はC2〜4のアルキレン基、mおよびm’は(活性水素含有化合物の水酸基1個当たりのAO付加数を表す。m個の(OA1)とm’個の(A1O)とは、同一でも異なっていてもよく、また、これらが2種以上のオキシアルキレン基で構成される場合の結合形式はブロックもしくはランダムまたはこれらの組合せのいずれでもよい。mおよびm’は、通常1〜300、好ましくは2〜250、特に好ましくは10〜100の整数である。また、mとm’とは、同一でも異なっていてもよい。]
The polyether chain-containing hydrophilic polymer (b1) constituting (A1) consists of a polyether diol (b11) and / or a polyether diamine (b12).
The polyether diol (b11) is usually at least 250 (preferably 250 to 3,000, more preferably 350 to 2,500, particularly preferably 400 to 2,000) of hydroxyl equivalent (based on hydroxyl value per hydroxyl group). (B11) is an active hydrogen atom-containing compound [low molecular diol (b011) having an OH equivalent of less than 250 and dihydric phenol (b012), alkylene oxide (described later). (Hereinafter abbreviated as AO)), and (b11) includes a low molecular diol or dihydric phenol AO adduct (b111) represented by the following general formula; and polyoxyalkylene (b112). included.

H- (OA 1 ) m -O-E 1 -O- (A 1 O) m ' -H

[In the formula, E 1 is a residue obtained by removing a hydroxyl group from an active hydrogen-containing compound, A 1 is a C2-4 alkylene group, and m and m ′ represent the number of AO additions per hydroxyl group of the active hydrogen-containing compound. M (OA 1 ) and m ′ (A 1 O) may be the same as or different from each other, and in the case where these are composed of two or more oxyalkylene groups, the bonding form is blocked. Or m or m ′ is usually an integer of 1 to 300, preferably 2 to 250, particularly preferably 10 to 100. m and m ′ may be the same. It may be different.]

低分子ジオール(b011)としては、脂肪族2価アルコール[C2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜6)のアルキレングリコール、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、1,2−、1,3−、2,3−および1,4−ブタンジオール、1,2−、1,3−、1,4−、1,5−、1,6−、2,3−、2,4−、2,5−および3,4−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール(以下、それぞれEG、PG、BD、HGおよびNPGと略記。)、2,2−、2,3−、2,4−、2,5−、3,3−および3,4−ジメチル−1,6−ヘキサンジオールおよび1,12−ドデカンジオール];脂環含有2価アルコール[C5〜12(好ましくは5〜10、さらに好ましくは5〜8)、例えばシクロペンタン−1,2−および1,3−ジオール、シクロヘキサン−1,2−、1,3−および1,4−ジオール、ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサンおよび水素添加ビスフェノールA];芳香環含有2価アルコール[C8〜20、例えばキシリレングリコール、ビス(ヒドロキシメチル)ベンゼンおよびビス(ヒドロキシエチル)ベンゼン];および3級アミノ基含有ジオール〔例えば、C1〜12の脂肪族または脂環式1級モノアミン[メチルアミン、エチルアミン、シクロプロピルアミン、1−プロピルアミン、2−プロピルアミン、アミルアミン、イソアミルアミン、ヘキシルアミン、1,3−ジメチルブチルアミン、3,3−ジメチルブチルアミン、2−アミノヘプタン、3−アミノヘプタン、シクロペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン等]のビスヒドロキシアルキル化物およびC6〜12の芳香族1級モノアミン[アニリン、ベンジルアミン等]のビスヒドロキシアルキル化物]が挙げられる。
(b011)のうち、後述の熱可塑性樹脂(C)に対する(A)の分散性の観点から好ましいのは脂肪族2価アルコール、さらに好ましいのはEGである。
The low molecular diol (b011) includes aliphatic dihydric alcohol [C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-6) alkylene glycol such as ethylene glycol, propylene glycol, 1,2-, 1, 3-, 2,3- and 1,4-butanediol, 1,2-, 1,3-, 1,4-, 1,5-, 1,6-, 2,3-, 2,4-, 2,5- and 3,4-hexanediol, neopentyl glycol (hereinafter abbreviated as EG, PG, BD, HG and NPG, respectively), 2,2-, 2,3-, 2,4-, 2, 5-, 3,3- and 3,4-dimethyl-1,6-hexanediol and 1,12-dodecanediol]; alicyclic dihydric alcohol [C5-12 (preferably 5-10, more preferably 5 -8), for example cyclopen -1,2- and 1,3-diol, cyclohexane-1,2-, 1,3- and 1,4-diol, bis (hydroxymethyl) cyclohexane and hydrogenated bisphenol A]; aromatic ring-containing dihydric alcohol [C8-20, eg xylylene glycol, bis (hydroxymethyl) benzene and bis (hydroxyethyl) benzene]; and tertiary amino group-containing diols [eg C1-12 aliphatic or alicyclic primary monoamines [methyl Amine, ethylamine, cyclopropylamine, 1-propylamine, 2-propylamine, amylamine, isoamylamine, hexylamine, 1,3-dimethylbutylamine, 3,3-dimethylbutylamine, 2-aminoheptane, 3-aminoheptane, Cyclopentylamine, hexylami , Cyclohexylamine, heptylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, etc.] and bishydroxyalkylated products of C6-12 aromatic primary monoamines [aniline, benzylamine, etc.]. .
Of (b011), from the viewpoint of the dispersibility of (A) with respect to the thermoplastic resin (C) described later, an aliphatic dihydric alcohol is preferred, and EG is more preferred.

2価フェノール(b012)としては、単環2価フェノール(C6〜18、例えばハイドロキノン、カテコール、レゾルシンおよびウルシオール)、ビスフェノール(C12〜20、例えばビスフェノールA、FおよびS、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタンおよびジヒドロキシビフェニル)および縮合多環2価フェノール(ジヒドロキシナフタレン、ビナフトール等)]等が挙げられる。
(b012)のうち後述の熱可塑性樹脂(C)に対する(A)の分散性の観点から好ましいのは、ビスフェノールおよび縮合多環2価フェノール、さらに好ましいのはビスフェノールAである。
Examples of the dihydric phenol (b012) include monocyclic dihydric phenols (C6-18, such as hydroquinone, catechol, resorcin and urushiol), bisphenols (C12-20, such as bisphenol A, F and S, 4,4′-dihydroxy). Diphenyl-2,2-butane and dihydroxybiphenyl) and condensed polycyclic dihydric phenols (dihydroxynaphthalene, binaphthol, etc.)] and the like.
Of (b012), from the viewpoint of the dispersibility of (A) with respect to the thermoplastic resin (C) described later, bisphenol and condensed polycyclic dihydric phenol are preferred, and bisphenol A is more preferred.

低分子ジオールもしくは2価フェノールのAO付加物(b111)は、上記活性水素含有化合物にAOを付加反応させることにより製造することができる。AOとしては、C2〜4のAO[エチレンオキシド(以下、EOと略記)、プロピレンオキシド(以下、POと略記)、1,2−、1,4−、2,3−または1,3−ブチレンオキシドおよびこれらの2種以上の併用系]が用いられるが、必要により他のAOまたは置換AO(以下、これらも含めてAOと総称する。)、例えばC5〜12のα−オレフィン、スチレンオキシド、エピハロヒドリン(エピクロルヒドリン等)を少しの割合(例えば、全AOの重量に基づいて30%以下)で併用することもできる。2種以上のAOを併用するときの結合形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい。
帯電防止性の観点からAOとして好ましいのは、EO単独およびEOと他のAOとの併用(ブロックおよび/またはランダム付加)である。AOの付加数は、低分子ジオール(b011)もしくは2価フェノール(b012)の水酸基1個当り、通常1〜300、好ましくは2〜250、さらに好ましくは10〜100の整数である。
The low molecular diol or dihydric phenol AO adduct (b111) can be produced by addition reaction of the active hydrogen-containing compound with AO. AO includes C2-4 AO [ethylene oxide (hereinafter abbreviated as EO), propylene oxide (hereinafter abbreviated as PO), 1,2-, 1,4-, 2,3- or 1,3-butylene oxide. And a combination system of two or more of these], other AO or substituted AO (hereinafter collectively referred to as AO), for example, C5-12 α-olefin, styrene oxide, epihalohydrin if necessary. (Such as epichlorohydrin) can be used in a small proportion (for example, 30% or less based on the weight of the total AO). When two or more kinds of AO are used in combination, the coupling form may be random and / or block.
From the viewpoint of antistatic properties, AO is preferably EO alone or a combination of EO and another AO (block and / or random addition). The added number of AO is usually an integer of 1 to 300, preferably 2 to 250, more preferably 10 to 100 per hydroxyl group of the low molecular diol (b011) or dihydric phenol (b012).

AOの付加は、例えばアルカリ触媒(水酸化カリウム等)の存在下、100〜200℃の温度で行なうことができる。(b111)中のC2〜4のオキシアルキレン単位の含量
は、通常5〜99.8%、好ましくは8〜99.6%、さらに好ましくは10〜98%である。ポリオキシアルキレン鎖中のオキシエチレン単位の含量は、通常5〜100%、好ましくは10〜100%、さらに好ましくは50〜100%、とくに好ましくは60〜100%である。
The addition of AO can be performed at a temperature of 100 to 200 ° C. in the presence of an alkali catalyst (potassium hydroxide or the like), for example. The content of C2-4 oxyalkylene units in (b111) is usually 5 to 99.8%, preferably 8 to 99.6%, and more preferably 10 to 98%. The content of oxyethylene units in the polyoxyalkylene chain is usually 5 to 100%, preferably 10 to 100%, more preferably 50 to 100%, and particularly preferably 60 to 100%.

(b111)は1種でも2種以上の混合物でも使用することができる。
これらのうち、帯電防止性の観点から好ましいのは脂肪族2価アルコール、ビスフェノールもしくは縮合多環2価フェノールのAO付加物、さらに好ましいのはEG、ジエチレングリコール(以下、DEGと略記)、PG、BD、ビスフェノールAおよび−S、およびジヒドロキシナフタレンの各AO付加物であり、とくに好ましいのはビスフェノールAおよび−S、およびジヒドロキシナフタレンの各AO付加物である。
(B111) may be used alone or in a mixture of two or more.
Of these, AO adducts of aliphatic dihydric alcohols, bisphenols or condensed polycyclic dihydric phenols are preferred from the viewpoint of antistatic properties, and more preferred are EG, diethylene glycol (hereinafter abbreviated as DEG), PG, BD. , Bisphenol A and -S, and dihydroxynaphthalene AO adducts, and particularly preferred are bisphenol A and -S and dihydroxynaphthalene AO adducts.

上記ポリオキシアルキレン(b112)としては、例えばポリオキシエチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシテトラメチレン、ポリオキシヘキサメチレン、変性ポリオキシアルキレンおよびこれらの混合物が挙げられる。
変性ポリオキシアルキレンとしては、C2〜10のアルキレンオキシドのうちの少なくとも2種の付加重合物(付加形式はランダムおよび/またはブロックのいずれでもよい)が挙げられる。
(b112)のうち、帯電防止性の観点から好ましいのはポリオキシエチレンである。
Examples of the polyoxyalkylene (b112) include polyoxyethylene, polyoxypropylene, polyoxytetramethylene, polyoxyhexamethylene, modified polyoxyalkylene, and mixtures thereof.
Examples of the modified polyoxyalkylene include at least two addition polymers of C2 to C10 alkylene oxide (addition may be random and / or block).
Among (b112), polyoxyethylene is preferable from the viewpoint of antistatic properties.

本発明におけるポリエーテルジアミン(b12)としては、(b111)または(b112)の末端水酸基をアミノ基に変性したものが使用できる。
(b111)または(b112)の末端水酸基をアミノ基に変性する方法としては、例えば、(b111)または(b112)の末端水酸基をシアノアルキル化して得られる末端シアノアルキル基を還元してアミノアルキル化する方法[例えば、(b111)または(b112)とアクリロニトリルとを反応させ、得られるシアノエチル化合物を水素添加する方法]等が挙げられる。
As the polyether diamine (b12) in the present invention, those obtained by modifying the terminal hydroxyl group of (b111) or (b112) to an amino group can be used.
Examples of the method for modifying the terminal hydroxyl group of (b111) or (b112) to an amino group include, for example, reducing the terminal cyanoalkyl group obtained by cyanoalkylating the terminal hydroxyl group of (b111) or (b112) to aminoalkylation And the like [for example, a method of reacting (b111) or (b112) with acrylonitrile and hydrogenating the resulting cyanoethyl compound].

(b1)のMnは、下限は帯電防止性の観点から、上限は帯電防止剤の製造上の観点から好ましくは300〜5,000、さらに好ましくは1,000〜4,000、とくに好ましくは1,600〜3,000である。   Mn of (b1) is preferably from 300 to 5,000, more preferably from 1,000 to 4,000, and particularly preferably from the viewpoint of the production of an antistatic agent, the lower limit from the viewpoint of antistatic properties. 600 to 3,000.

(A1)を構成する芳香環含有ポリエステル(c1)としては、前記ジカルボン酸(a014)またはジオールを分子量調整剤として使用し、芳香環を含有する少なくとも1種のエステル形成性モノマーを重縮合させることによって得られる構造のものが使用できる。
該エステル形成性モノマーとしては、ジカルボン酸(c011)とジオール(c012)との組み合わせ、ラクトン(c013)、ヒドロキシカルボン酸(c014)およびこれらの混合物が挙げらる。
As the aromatic ring-containing polyester (c1) constituting (A1), the dicarboxylic acid (a014) or diol is used as a molecular weight modifier, and at least one ester-forming monomer containing an aromatic ring is polycondensed. The structure obtained by the above can be used.
Examples of the ester-forming monomer include a combination of a dicarboxylic acid (c011) and a diol (c012), a lactone (c013), a hydroxycarboxylic acid (c014), and a mixture thereof.

ジカルボン酸(c011)としては、C2〜40(好ましくは4〜20、さらに好ましくは6〜12)のジカルボン酸が挙げられ、例えば前記(a014)として例示したものおよびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。これらは単独でも2種以上を併用してもよい。
これらのうち後述する熱可塑性樹脂(C)への帯電防止剤の分散性の観点から好ましいのは、脂肪族ジカルボン酸では、アジピン酸、セバシン酸、イコサン酸、アジピン酸ジメチル、芳香環含有ジカルボン酸では、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、2,6および2,7−ナフタレンジカルボン酸、テレフタル酸ジメチル、イソフタル酸ジメチル、3−スルホイソフタル酸ナトリウム、3−スルホイソフタル酸ジメチルナトリウム、2,6および2,7−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、脂環式ジカルボン酸では、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸ジメチルである。
Examples of the dicarboxylic acid (c011) include C2-40 (preferably 4-20, more preferably 6-12) dicarboxylic acids. For example, those exemplified above as (a014) and mixtures of two or more of these Can be mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
Among these, the aliphatic dicarboxylic acid is preferably an adipic acid, sebacic acid, icosanoic acid, dimethyl adipate, an aromatic ring-containing dicarboxylic acid, from the viewpoint of dispersibility of the antistatic agent in the thermoplastic resin (C) described later. Terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6 and 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, dimethyl terephthalate, dimethyl isophthalate, sodium 3-sulfoisophthalate, dimethyl sodium 3-sulfoisophthalate, 2, 6 and In dimethyl 2,7-naphthalenedicarboxylate and alicyclic dicarboxylic acid, they are 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid and dimethyl 1,4-cyclohexanedicarboxylate.

ジオール(c012)としては、C2〜30の低分子ジオール[例えば前記低分子ジオール(b011)として例示したもの]およびポリエーテルジオール[例えば前記ポリエーテルジオール(b11)として例示したもの]が挙げられる。これらは単独でも2種以上を併用してもよい。
これらのうち後述する熱可塑性樹脂(C)への帯電防止剤の分散性の観点から好ましいのは、EG、PG、BD、NPG、HG、1,2−、1,3−および1,4−シクロヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールAのEO付加物、ビスフェノールAのPO付加物、ビスフェノールSのEO付加物、である。
Examples of the diol (c012) include C2-30 low molecular diols [for example, those exemplified as the low molecular diol (b011)] and polyether diols (for example, those exemplified as the polyether diol (b11)). These may be used alone or in combination of two or more.
Of these, EG, PG, BD, NPG, HG, 1,2-, 1,3- and 1,4- are preferable from the viewpoint of dispersibility of the antistatic agent in the thermoplastic resin (C) described later. Cyclohexanediol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, EO addition product of bisphenol A, PO addition product of bisphenol A, and EO addition product of bisphenol S.

ラクトン(c013)としては、C4〜20のラクトン、例えばγ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、γ−ピメロラクトン、γ−カプリロラクトン、γ−デカノラクトン、エナントラクトン、ラウロラクトン、ウンデカノラクトンおよびエイコサノラクトンが挙げられる。   Examples of the lactone (c013) include C4-20 lactones such as γ-butyrolactone, γ-valerolactone, ε-caprolactone, γ-pimerolactone, γ-caprolactone, γ-decanolactone, enanthlactone, laurolactone, and undecanolactone. And eicosanolactone.

ヒドロキシカルボン酸(c014)としてはC2〜20のヒドロキシカルボン酸、例えばヒドロキシ酢酸、乳酸、ω−ヒドロキシカプロン酸、ω−ヒドロキシエナント酸、ω−ヒドロキシカプリル酸、ω−ヒドロキシペラルゴン酸、ω−ヒドロキシカプリン酸、11−ヒドロキシウンデカン酸、12−ヒドロキシドデカン酸および20−ヒドロキシエイコサン酸が挙げられる。   Examples of the hydroxycarboxylic acid (c014) include C2-20 hydroxycarboxylic acids such as hydroxyacetic acid, lactic acid, ω-hydroxycaproic acid, ω-hydroxyenanthic acid, ω-hydroxycaprylic acid, ω-hydroxypelargonic acid, ω-hydroxycaprin. Examples include acids, 11-hydroxyundecanoic acid, 12-hydroxydodecanoic acid and 20-hydroxyeicosanoic acid.

上記エステル形成性モノマーのうち、後述する熱可塑性樹脂(C)への帯電防止剤の分散性の観点から好ましいのは、ジカルボン酸(c011)/ジオール(c012)の組み合わせでは、テレフタル酸(ジメチル)/[EGおよび/またはBD]、[2,6−および/または−2,7−ナフタレンジカルボン酸(ジメチル)]/[EGおよび/またはBD]、テレフタル酸(ジメチル)/[ビスフェノールAのEO付加物、/ビスフェノールSのEO付加物および/または/ジヒドロキシナフタレンEO付加物]、[2,6−および−2,7−ナフタレンジカルボン酸(ジメチル)]/[ビスフェノールAのEO付加物、ビスフェノールSのEO付加物および/またはジヒドロキシナフタレンEO付加物];ラクトン(c013)とジカルボン酸(c011)/ジオール(c012)の組み合わせでは、[ε−カプロラクトンおよび/またはエナントラクトン]/[上記ジカルボン酸/ジオールの組み合わせ];およびヒドロキシカルボン酸(c014)とジカルボン酸(c011)/ジオール(c012)の組み合わせでは、[ω−ヒドロキシカプロン酸および/または11−ヒドロキシウンデカン酸]/[上記ジカルボン酸/ジオールの組み合わせ]、さらに好ましいのはジカルボン酸(c011)/ジオール(c012)の組み合わせ、とくに好ましいのはテレフタル酸(ジメチル)/[ビスフェノールAのEO付加物および/またはビスフェノールSのEO付加物]、[2,6および2,7−ナフタレンジカルボン酸(ジメチル)]/[ビスフェノールAのEO付加物および/またはビスフェノールSのEO付加物]である。   Among the ester-forming monomers, the combination of dicarboxylic acid (c011) / diol (c012) is preferable from the viewpoint of dispersibility of the antistatic agent in the thermoplastic resin (C) described later. / [EG and / or BD], [2,6- and / or -2,7-naphthalenedicarboxylic acid (dimethyl)] / [EG and / or BD], terephthalic acid (dimethyl) / [bisphenol A EO addition , EO adduct of bisphenol S and / or / dihydroxynaphthalene EO adduct], [2,6- and -2,7-naphthalenedicarboxylic acid (dimethyl)] / [EO adduct of bisphenol A, bisphenol S EO adduct and / or dihydroxynaphthalene EO adduct]; lactone (c013) and dical In the combination of acid (c011) / diol (c012), [ε-caprolactone and / or enanthlactone] / [dicarboxylic acid / diol combination above]; and hydroxycarboxylic acid (c014) and dicarboxylic acid (c011) / diol In the combination of (c012), [ω-hydroxycaproic acid and / or 11-hydroxyundecanoic acid] / [a combination of the above dicarboxylic acids / diol], more preferably a combination of dicarboxylic acid (c011) / diol (c012), Particularly preferred is terephthalic acid (dimethyl) / [EO addition of bisphenol A and / or EO addition of bisphenol S], [2,6 and 2,7-naphthalenedicarboxylic acid (dimethyl)] / [EO of bisphenol A]. Addenda and A / or EO adducts of bisphenol S].

分子量調整剤としてのジカルボン酸としては、C2〜40(好ましくは4〜20)のジカルボン酸、例えば前記の(a014)において例示したものが挙げられ、これらのうちエステル形成性モノマーとの反応性の観点から好ましいのは脂肪族ジカルボン酸および芳香環含有ジカルボン酸、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、3−スルホイソフタル酸ナトリウムおよび2,6−ナフタレンジカルボン酸である。
分子量調整剤としてのジオールとしては、前記低分子ジオール(b011)として例示したものが挙げられ、これらのうちエステル形成性モノマーとの反応性の観点から好ましいのはEG、PG、BD、1,2−、1,3−および1,4−シクロヘキサンジオール、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールAのEO付加物、ビスフェノールAのPO付加物、ビスフェノールSのEO付加物、ジヒドロキシナフタレンのEO付加物である。
である。
上記分子量調整剤の使用量は、エステル形成性モノマーと分子量調整剤合計の重量に基づいて、下限は後述する熱可塑性樹脂(C)への帯電防止剤の分散性の観点から、上限は帯電防止性の観点から、好ましくは2〜80%、さらに好ましくは4〜75%である。
Examples of the dicarboxylic acid as the molecular weight modifier include C2-40 (preferably 4-20) dicarboxylic acids such as those exemplified in the above (a014). Among these, the reactivity with the ester-forming monomer is included. From the viewpoint, aliphatic dicarboxylic acids and aromatic ring-containing dicarboxylic acids are preferred, and adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, sodium 3-sulfoisophthalate and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid are more preferred.
Examples of the diol as the molecular weight modifier include those exemplified as the low molecular diol (b011). Among these, EG, PG, BD, 1, 2 are preferable from the viewpoint of reactivity with the ester-forming monomer. -, 1,3- and 1,4-cyclohexanediol,
Polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, EO addition product of bisphenol A, PO addition product of bisphenol A, EO addition product of bisphenol S, and EO addition product of dihydroxynaphthalene.
It is.
The amount of the molecular weight modifier used is based on the total weight of the ester-forming monomer and the molecular weight modifier. From a viewpoint of property, Preferably it is 2 to 80%, More preferably, it is 4 to 75%.

(c1)のMnは、下限は後述する熱可塑性樹脂(C)への帯電防止剤の分散性の観点から、上限は帯電防止剤の製造上の観点から、好ましくは300〜6,000、さらに好ましくは1,000〜5,000、とくに好ましくは1,600〜4,000である。   Mn of (c1) is preferably from 300 to 6,000, the lower limit is from the viewpoint of dispersibility of the antistatic agent in the thermoplastic resin (C) described later, and the upper limit is preferably from 300 to 6,000, from the viewpoint of production of the antistatic agent. Preferably it is 1,000-5,000, Most preferably, it is 1,600-4,000.

ブロックポリマー(A1)を構成する(a1)、(b1)および(c1)の合計重量に基づく(a1)の割合は、下限は後述する熱可塑性樹脂(C)への帯電防止剤の分散性の観点から、上限は帯電防止性の観点から好ましくは10〜80%、さらに好ましくは25〜65%;(b1)の割合は、下限は帯電防止性の観点から、上限は熱可塑性樹脂(C)の透明性の観点から好ましくは10〜80%、さらに好ましくは20〜60%;および(c1)の割合は、下限は熱可塑性樹脂(C)の透明性の観点から、上限は熱可塑性樹脂(C)への帯電防止剤の分散性の観点から好ましくは5〜60%、さらに好ましくは10〜45%である。   The proportion of (a1) based on the total weight of (a1), (b1) and (c1) constituting the block polymer (A1) is the lower limit of the dispersibility of the antistatic agent in the thermoplastic resin (C) described later. From the viewpoint, the upper limit is preferably 10 to 80% from the viewpoint of antistatic properties, more preferably 25 to 65%; the proportion of (b1) is the lower limit from the viewpoint of antistatic properties, and the upper limit is the thermoplastic resin (C). From the viewpoint of transparency, the proportion of (c1) is preferably 10 to 80%, more preferably 20 to 60%; and the lower limit is the thermoplastic resin (C) from the viewpoint of transparency of the thermoplastic resin (C). From the viewpoint of dispersibility of the antistatic agent in C), it is preferably 5 to 60%, more preferably 10 to 45%.

ブロックポリマー(A1)の製造法としては、具体的には下記製造法[1]、[2]および[3]が挙げられるが、特に限定されるものではない。
製造法[1] アミド形成性モノマーとジカルボン酸(分子量調整剤)を高温(160〜270℃)、加圧(0.1〜1MPa)下で反応させてアミド基含有疎水性ポリマー(a1)を形成させる。一方でエステル形成性モノマーとジカルボン酸またはジオール(分子量調整剤)を高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で反応させて芳香環含有ポリエステル(c1)を形成させ、これに(a1)およびポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)を加えて、高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合反応を行う方法。
製造法[2] エステル形成性モノマーとジカルボン酸またはジオール(分子量調整剤)を高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で反応させて(c1)を形成させ、これにアミド形成性モノマーとジカルボン酸(分子量調整剤)と(b1)の一部を同時に反応槽に仕込み、水の存在下または非存在下に、高温(160〜270℃)、加圧(0.1〜1MPa)下で反応させることによってポリアミド中間体を生成させ、その後減圧下(0.03〜3kPa)で残りの(b1)との重合反応を行う方法。
製造法[3] アミド形成性モノマーとジカルボン酸(分子量調整剤)を高温(160〜270℃)、加圧(0.1〜1MPa)下で反応させて(a1)を形成させ、これにエステル形成性モノマーとジカルボン酸またはジオール(分子量調整剤)と(b1)を同時に反応槽に仕込み、高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合反応を行う方法。
上記製造法のうち、反応制御の観点から好ましいのは製造法[1]である。
Specific examples of the production method of the block polymer (A1) include the following production methods [1], [2] and [3], but are not particularly limited.
Production Method [1] An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) are reacted at a high temperature (160 to 270 ° C.) and under a pressure (0.1 to 1 MPa) to produce an amide group-containing hydrophobic polymer (a1). Let it form. On the other hand, an ester-forming monomer and a dicarboxylic acid or diol (molecular weight modifier) are reacted at high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa) to form an aromatic ring-containing polyester (c1). (A1) and a polyether chain-containing hydrophilic polymer (b1) are added, and a polymerization reaction is performed at a high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Production method [2] An ester-forming monomer and a dicarboxylic acid or diol (molecular weight modifier) are reacted at high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa) to form (c1). An amide-forming monomer, a dicarboxylic acid (molecular weight modifier), and a part of (b1) are charged into a reaction vessel at the same time, in the presence or absence of water, at a high temperature (160 to 270 ° C.) and pressure (0.1 ~ 1 MPa) reaction to form a polyamide intermediate, followed by a polymerization reaction with the remaining (b1) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Production Method [3] An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) are reacted at high temperature (160 to 270 ° C.) and under pressure (0.1 to 1 MPa) to form (a1), which is an ester. A method in which a forming monomer, a dicarboxylic acid or diol (molecular weight modifier) and (b1) are simultaneously charged in a reaction vessel, and a polymerization reaction is performed at a high temperature (160 to 270 ° C.) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Of the above production methods, production method [1] is preferable from the viewpoint of reaction control.

上記製造法における重合反応のうち、ポリエステル化反応に際しては、エステル化触媒が使用できる。該触媒としては、アンチモン化合物(例えば三酸化アンチモン)、スズ化合物(例えばモノブチルスズオキシド)、チタン化合物(例えばテトラブチルチタネート)、ジルコニウム化合物(例えばテトラブチルジルコネート)、有機酸金属塩[ジルコニ
ウム有機酸塩(酢酸ジルコニル等)、酢酸亜鉛等]、およびこれらの2種以上の混合物等
が挙げられる。
該触媒の使用量は、(a1)、(b1)および(c1)の合計重量に基づいて、反応性
および、成形品の樹脂物性の観点から好ましくは0.1〜5%、さらに好ましくは0.2〜3%である。
Among the polymerization reactions in the above production method, an esterification catalyst can be used for the polyesterification reaction. Examples of the catalyst include an antimony compound (for example, antimony trioxide), a tin compound (for example, monobutyltin oxide), a titanium compound (for example, tetrabutyltitanate), a zirconium compound (for example, tetrabutylzirconate), an organic acid metal salt [zirconium organic acid Salt (such as zirconyl acetate), zinc acetate, etc.], and a mixture of two or more thereof.
The amount of the catalyst used is preferably 0.1 to 5%, more preferably 0 based on the total weight of (a1), (b1) and (c1) from the viewpoint of reactivity and resin physical properties of the molded product. .2 to 3%.

(A1)のMnは、成形性および帯電防止剤の製造上の観点から好ましくは2,000〜100,000、さらに好ましくは5,000〜80,000である。   Mn in (A1) is preferably from 2,000 to 100,000, more preferably from 5,000 to 80,000, from the viewpoint of moldability and production of an antistatic agent.

[ブロックポリマー(A2)]
ブロックポリマー(A2)は、ポリオレフィン(a21)のブロックと、ポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)のブロックとが、エステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群より選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマーである。
(a21)と(a22)の合計重量に基づく(a22)の割合は、(A2)の帯電防止性と耐熱性の観点から、好ましくは20〜80%、さらに好ましくは30〜70%である。
(A2)を構成する(a21)のブロックとしては、カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a211)、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a212)、アミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a213)およびイソシアネート基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a214)等が使用できる。
[Block polymer (A2)]
The block polymer (A2) is selected from the group in which the block of the polyolefin (a21) and the block of the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22) are composed of an ester bond, an amide bond, an ether bond, an imide bond, and a urethane bond. It is a block polymer having a structure in which it is alternately and repeatedly bonded through at least one bond.
The proportion of (a22) based on the total weight of (a21) and (a22) is preferably 20 to 80%, more preferably 30 to 70%, from the viewpoint of the antistatic property and heat resistance of (A2).
The block of (a21) constituting (A2) includes a polyolefin (a211) having a carbonyl group at both ends of the polymer, a polyolefin (a212) having a hydroxyl group at both ends of the polymer, and an amino group at both ends of the polymer. Polyolefin (a213) and polyolefin (a214) having isocyanate groups at both ends of the polymer can be used.

(a211)としては、両末端に変性可能なポリオレフィンを主成分とするポリオレフィン(a210)の両末端にカルボニル基を導入したものが用いられる。
(a212)としては、(a210)の両末端に水酸基を導入したものが用いられる。
(a213)としては、(a210)の両末端にアミノ基を導入したものが用いられる。
(a214)としては、(a212)の両末端にイソシアネート基を導入したものが用いられる。
(a210)は、通常、両末端に変性可能なポリオレフィン、片末端に変性可能なポリオレフィンおよび変性可能な末端基を持たないポリオレフィンの混合物であるが、主成分として両末端に変性可能なポリオレフィンが含有していれば使用できる。
(a210)の主成分となる両末端に変性可能なポリオレフィンの含量は、(a210)の重量に基づいて、50〜100%が好ましく、さらに好ましくは75〜100%、特に好ましくは80〜100%である。
As (a211), what introduce | transduced the carbonyl group into the both terminal of the polyolefin (a210) which has the polyolefin which can modify | denature at both terminals as a main component is used.
As (a212), those in which hydroxyl groups are introduced at both ends of (a210) are used.
As (a213), those in which amino groups are introduced at both ends of (a210) are used.
As (a214), those obtained by introducing isocyanate groups at both ends of (a212) are used.
(A210) is usually a mixture of a polyolefin that can be modified at both ends, a polyolefin that can be modified at one end, and a polyolefin that does not have a modifiable end group, but contains a polyolefin that can be modified at both ends as a main component. You can use it if you do.
The content of the polyolefin which can be modified at both ends as the main component of (a210) is preferably 50 to 100%, more preferably 75 to 100%, particularly preferably 80 to 100% based on the weight of (a210). It is.

(a210)には、C2〜30(好ましくは2〜12、さらに好ましくは2〜10)のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合(重合または共重合を意味する。以下同様。)によって得られるポリオレフィン(重合法)および減成されたポリオレフィン[高分子量ポリオレフィン(好ましくはMn50,000〜150,000)を機械的、熱的および化学的に減成してなるもの](減成法)が含まれる。カルボニル基、水酸基またはアミノ基を導入する変性のしやすさおよび入手のしやすさの観点から好ましいのは、減成されたポリオレフィン、とくに熱減成されたポリオレフィンである。
熱減成されたポリオレフィンは特に限定されないが、高分子量ポリオレフィンを不活性ガス中で加熱する(通常300〜450℃で0.5〜10時間)ことにより熱減成されたもの(例えば特開平3−62804号公報記載のもの)が挙げられる。
該熱減成法に用いられる高分子量ポリオレフィンとしては、C2〜30(好ましくは2〜12、さらに好ましくは2〜10)のオレフィンの1種または2種以上の混合物の(共)重合体等が使用できる。C2〜30のオレフィンとしては、後述のポリオレフィン(重合法)製造に用いられるものと同じものが使用でき、これらのうち好ましいのはエチレン、プロピレンおよびC4〜12のα−オレフィン、さらに好ましいのはエチレン、プロピレンおよびC4〜10のα−オレフィン、特に好ましいのはエチレンおよびプロピレンである。
(A210) means (co) polymerization (polymerization or copolymerization) of one or a mixture of two or more C2-30 (preferably 2-12, more preferably 2-10) olefins. )) And a degraded polyolefin [a product obtained by mechanically, thermally and chemically degrading a high molecular weight polyolefin (preferably Mn 50,000 to 150,000)] (reduced) Method). From the viewpoint of ease of modification and availability of introduction of a carbonyl group, hydroxyl group or amino group, a degraded polyolefin, particularly a thermally degraded polyolefin, is preferred.
The heat-degraded polyolefin is not particularly limited, but is heat-degraded by heating a high molecular weight polyolefin in an inert gas (usually at 300 to 450 ° C. for 0.5 to 10 hours) (for example, JP-A-3 -62804).
Examples of the high molecular weight polyolefin used in the thermal degradation method include (co) polymers of one or a mixture of two or more C2-30 (preferably 2-12, more preferably 2-10) olefins. Can be used. As the C2-30 olefin, the same as those used for the production of the polyolefin (polymerization method) described later can be used, and among these, ethylene, propylene and C4-12 α-olefin are preferred, and ethylene is more preferred. , Propylene and C4-10 alpha-olefins, particularly preferred are ethylene and propylene.

上記ポリオレフィン(重合法)の製造に用いられるC2〜30のオレフィンとしては、例えば、エチレン、プロピレン、C4〜30(好ましくは4〜12、さらに好ましくは4〜10)のα−オレフィンおよびC4〜30(好ましくは4〜18、さらに好ましくは4〜8)のジエンが用いられる。
α−オレフィンとしては、例えば、1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、1−ペンテン、1−オクテン、1−デセンおよび1−ドデセン等が挙げられる。
ジエンとしては、例えば、ブタジエン、イソプレン、シクロペンタジエンおよび1,11−ドデカジエン等が挙げられる。
これらのうち、エチレン、プロピレン、C4〜12のα−オレフィン、ブタジエンおよびイソプレンが好ましく、さらに好ましいのはエチレン、プロピレン、C4〜10のα−オレフィンおよびブタジエン、特に好ましいのはエチレン、プロピレンおよびブタジエンである。
Examples of the C2-30 olefin used for the production of the polyolefin (polymerization method) include ethylene, propylene, C4-30 (preferably 4-12, more preferably 4-10) α-olefin and C4-30. A diene of (preferably 4-18, more preferably 4-8) is used.
Examples of the α-olefin include 1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-octene, 1-decene and 1-dodecene.
Examples of the diene include butadiene, isoprene, cyclopentadiene, 1,11-dodecadiene, and the like.
Of these, ethylene, propylene, C4-12 α-olefin, butadiene and isoprene are preferred, ethylene, propylene, C4-10 α-olefin and butadiene are more preferred, and ethylene, propylene and butadiene are particularly preferred. is there.

重合法によって得られるポリオレフィンは種々の方法で製造でき、例えば、ラジカル触媒、金属酸化物触媒、Ziegler触媒またはZiegler−Natta触媒存在下で(共)重合反応させる方法等により容易に得ることができる。
ラジカル触媒としては、種々のものが使用でき、例えば、有機過酸化物(ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシベンゾエート、デカノールパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、パーオキシジカーボネートエステル等)、アゾ化合物(アゾニトリル、アゾアミジン、アゾアミド化合物)およびγ−アルミナ担体に酸化モリブデンを付着させたものが挙げられる。
金属酸化物触媒としては、シリカ−アルミナ担体に酸化クロムを付着させたもの等が挙げられる。Ziegler触媒またはZiegler−Natta触媒としては、(C2
53Al−TiCl4等が挙げられる。
The polyolefin obtained by the polymerization method can be produced by various methods, and can be easily obtained, for example, by a (co) polymerization reaction in the presence of a radical catalyst, a metal oxide catalyst, a Ziegler catalyst or a Ziegler-Natta catalyst.
Various radical catalysts can be used, for example, organic peroxides (di-t-butyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, decanol peroxide, lauryl peroxide, peroxydicarbonate ester, etc.) , Azo compounds (azonitrile, azoamidine, azoamide compounds), and γ-alumina carriers having molybdenum oxide attached thereto.
Examples of the metal oxide catalyst include those obtained by attaching chromium oxide to a silica-alumina support. As the Ziegler catalyst or Ziegler-Natta catalyst, (C 2
H 5 ) 3 Al—TiCl 4 and the like.

両末端に変性可能なポリオレフィンを主成分とするポリオレフィン(a210)のMnは、好ましくは800〜20,000、さらに好ましくは1,000〜10,000、特に好ましくは1,200〜6,000である。Mnがこの範囲であると帯電防止性がさらに良好になる。
(a210)中の二重結合の量は、1,000炭素当たり、1〜40個が好ましく、さらに好ましくは2〜30個、特に好ましくは4〜20個である。二重結合の量がこの範囲であると帯電防止性がさらに良好になる。
1分子当たりの二重結合の平均数は、1.1〜5.0が好ましく、さらに好ましくは1.3〜3.0、特に好ましくは1.5〜2.5、最も好ましくは1.8〜2.2である。二重結合の平均数がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、帯電防止性がさらに良好になる。
熱減成法によると、Mnが800〜6,000の範囲で、一分子当たりの平均末端二重結合量が1.5〜2個の低分子量ポリオレフィンが容易に得られる〔村田勝英、牧野忠彦、日本化学会誌、192頁(1975)〕。
Mn of the polyolefin (a210) whose main component is a polyolefin that can be modified at both ends is preferably 800 to 20,000, more preferably 1,000 to 10,000, and particularly preferably 1,200 to 6,000. is there. When Mn is within this range, the antistatic property is further improved.
The number of double bonds in (a210) is preferably 1 to 40 per 1,000 carbons, more preferably 2 to 30, and particularly preferably 4 to 20. When the amount of the double bond is within this range, the antistatic property is further improved.
The average number of double bonds per molecule is preferably 1.1 to 5.0, more preferably 1.3 to 3.0, particularly preferably 1.5 to 2.5, and most preferably 1.8. ~ 2.2. When the average number of double bonds is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the antistatic property is further improved.
According to the thermal degradation method, a low-molecular-weight polyolefin having an average terminal double bond amount of 1.5 to 2 per molecule in the range of 800 to 6,000 can be easily obtained [Katsuhide Murata, Tadahiko Makino. , Journal of Chemical Society of Japan, page 192 (1975)].

カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a211)としては、(a210)の末端をα、β不飽和カルボン酸(無水物)(α,β−不飽和カルボン酸、そのC1〜4のアルキルエステルまたはその無水物を意味する。以下、同様。)で変性した構造を有するポリオレフィン(a211−1)、(a211−1)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(a211―2)、(a210)を酸化またはヒドロホルミル化による変性をした構造を有するポリオレフィン(a211
−3)、(a211―3)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性した構造を有するポリオレフィン(a211―4)およびこれらの2種以上の混合物等が使用できる。
The polyolefin having a carbonyl group at both ends of the polymer (a211) is as follows. Or an anhydride thereof. The same applies hereinafter.) Polyolefin (a211-1) having a structure modified with (a211-2) and polyolefin (a211-2) having a structure obtained by secondary modification of (a211-1) with lactam or aminocarboxylic acid. ), A polyolefin having a structure obtained by modifying (a210) by oxidation or hydroformylation (a211
-3), polyolefin (a211-4) having a structure obtained by secondary modification of (a211-3) with lactam or aminocarboxylic acid, and a mixture of two or more thereof.

(a211−1)は、(a210)をα,β−不飽和カルボン酸(無水物)により変性
することにより得ることができる。
変性に用いられるα,β−不飽和カルボン酸(無水物)としては、モノカルボン酸、ジカルボン酸、これらのアルキル(C1〜4)エステルおよびこれらの無水物が使用でき、例えば(メタ)アクリル酸(アクリル酸またはメタアクリル酸を意味する。以下同じ。)、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸ブチル、マレイン酸(無水物)、マレイン酸ジメチル、フマル酸、イタコン酸(無水物)、イタコン酸ジエチルおよびシトラコン酸(無水物)等が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ジカルボン酸、これらのアルキルエステルおよびこれらの無水物、さらに好ましいのはマレイン酸(無水物)およびフマル酸、特に好ましいのはマレイン酸(無水物)である。
(A211-1) can be obtained by modifying (a210) with an α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride).
As α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used for modification, monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, alkyl (C1-4) ester thereof and anhydride thereof can be used, for example, (meth) acrylic acid (Means acrylic acid or methacrylic acid; the same shall apply hereinafter), methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, maleic acid (anhydride), dimethyl maleate, fumaric acid, itaconic acid (anhydride) , Diethyl itaconate and citraconic acid (anhydride).
Among these, preferred are dicarboxylic acids, their alkyl esters and their anhydrides, more preferred are maleic acid (anhydride) and fumaric acid, and particularly preferred is maleic acid (anhydride).

変性に使用するα、β−不飽和カルボン酸(無水物)の量は、ポリオレフィン(a210)の重量に基づき、好ましくは0.5〜40%、さらに好ましくは1〜30%、特に好ましくは2〜20%である。α、β−不飽和カルボン酸(無水物)の量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、帯電防止性がさらに良好になる。
α,β−不飽和カルボン酸(無水物)による変性は、種々の方法で行うことができ、例えば、(a210)の末端二重結合に、溶液法または溶融法のいずれかの方法で、α,β−不飽和カルボン酸(無水物)を熱的に付加(エン反応)させることにより行うことができる。(a210)にα,β−不飽和カルボン酸(無水物)を反応させる温度は、通常170〜230℃である。
The amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) used for modification is preferably 0.5 to 40%, more preferably 1 to 30%, particularly preferably 2 based on the weight of the polyolefin (a210). ~ 20%. When the amount of α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the antistatic property is further improved.
The modification with α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be carried out by various methods. For example, the terminal double bond of (a210) can be subjected to α or β by a solution method or a melt method. , Β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) can be thermally added (ene reaction). The temperature at which (a210) is reacted with the α, β-unsaturated carboxylic acid (anhydride) is usually 170 to 230 ° C.

(a211−2)は、(a211−1)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得ることができる。
二次変性に用いるラクタムとしては、C6〜12(好ましくは6〜8、さらに好ましくは6)のラクタム等が使用でき、例えば、カプロラクタム、エナントラクタム、ラウロラクタムおよびウンデカノラクタム等が挙げられる。
また、アミノカルボン酸としては、C2〜12(好ましくは4〜12、さらに好ましくは6〜12)のアミノカルボン酸等が使用でき、例えば、アミノ酸(グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、イソロイシンおよびフェニルアラニン等)、ω−アミノカプロン酸、ω−アミノエナント酸、ω−アミノカプリル酸、ω−アミノペルゴン酸、ω−アミノカプリン酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸等が挙げられる。
これらのうち、カプロラクタム、ラウロラクタム、グリシン、ロイシン、ω−アミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸が好ましく、さらに好ましくはカプロラクタム、ラウロラクタム、ω−アミノカプリル酸、11−アミノウンデカン酸および12−アミノドデカン酸、特に好ましくはカプロラクタムおよび12−アミノドデカン酸である。
二次変性に用いるラクタムまたはアミノカルボン酸の量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)のカルボキシル基1個当たり、好ましくは0.1〜50個、さらに好ましくは0.3〜20個、特に好ましくは0.5〜10個、最も好ましくは1〜2個である。この量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、帯電防止性がさらに良好になる。
(A211-2) can be obtained by secondary modification of (a211-1) with lactam or aminocarboxylic acid.
As the lactam used for the secondary modification, C6-12 (preferably 6-8, more preferably 6) lactam and the like can be used, and examples thereof include caprolactam, enantolactam, laurolactam and undecanolactam.
As the aminocarboxylic acid, C2-12 (preferably 4-12, more preferably 6-12) aminocarboxylic acid and the like can be used. For example, amino acids (glycine, alanine, valine, leucine, isoleucine, phenylalanine, etc.) ), Ω-aminocaproic acid, ω-aminoenanthic acid, ω-aminocaprylic acid, ω-aminopergonic acid, ω-aminocapric acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid.
Of these, caprolactam, laurolactam, glycine, leucine, ω-aminocaprylic acid, 11-aminoundecanoic acid and 12-aminododecanoic acid are preferred, and caprolactam, laurolactam, ω-aminocaprylic acid, 11-amino are more preferred. Undecanoic acid and 12-aminododecanoic acid, particularly preferably caprolactam and 12-aminododecanoic acid.
The amount of lactam or aminocarboxylic acid used for secondary modification is preferably 0.1 to 50, more preferably 0.3 to 20 per carboxyl group of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). The number is particularly preferably 0.5 to 10, most preferably 1 to 2. When this amount is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the antistatic property is further improved.

(a211−3)は、(a210)を酸素および/もしくはオゾンによる酸化法またはオキソ法によるヒドロホルミル化によりカルボニル基を導入することにより得ることができる。
酸化法によるカルボニル基の導入は、公知の方法で行うことができ、例えば、米国特許第3,692,877号明細書記載の方法で行うことができる。
ヒドロホルミル化によるカルボニル基の導入は、公知の方法で行うことができ、例えば、Macromolecules、Vol.31、5943頁記載の方法で行うことができる。
(a211−4)は、(a211−3)をラクタムまたはアミノカルボン酸で二次変性することにより得ることができる。
ラクタムおよびアミノカルボン酸およびこれらの好ましい範囲は、(a211−2)の製造で使用できるものと同じである。ラクタムおよびアミノカルボン酸の使用量も同じである。
(A211-3) can be obtained by introducing (a210) a carbonyl group by oxidation with oxygen and / or ozone or hydroformylation with an oxo method.
The introduction of the carbonyl group by the oxidation method can be performed by a known method, for example, the method described in US Pat. No. 3,692,877.
Introduction of a carbonyl group by hydroformylation can be carried out by a known method, for example, see Macromolecules, Vol. 31, 5943 page.
(A211-4) can be obtained by secondary modification of (a211-3) with lactam or aminocarboxylic acid.
The lactam and aminocarboxylic acid and preferred ranges thereof are the same as those which can be used in the production of (a211-2). The amount of lactam and aminocarboxylic acid used is the same.

(a211)のMnは、耐熱性およびポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)との反応性の観点から、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(a211)の酸価は、(a22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280(mgKOH/g。以下においては数値のみを記載する。)、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Mn of (a211) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22). 2,500 to 10,000.
The acid value of (a211) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g. In the following, only numerical values are described), more preferably 4 to 100, particularly from the viewpoint of reactivity with (a22). Preferably it is 5-50.

水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a212)としては、(a211)をヒドロキシルアミンで変性したヒドロキシル基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
変性に使用できるヒドロキシルアミンとしては、C2〜10(好ましくは2〜6、さらに好ましくは2〜4)のヒドロキシルアミン等が挙げられ、例えば、2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタノール、6−アミノヘキサノールおよび3−アミノメチル−3,5,5−トリメチルシクロヘキサノールが挙げられる。
これらのうち、好ましいのは2−アミノエタノール、3−アミノプロパノール、4−アミノブタノール、5−アミノペンタノールおよび6−アミノヘキサノール、さらに好ましいのは2−アミノエタノールおよび4−アミノブタノール、特に好ましいのは2−アミノエタノールである。
ヒドロキシルアミンによる変性は、種々の方法で行うことができ、例えば、(a211)とヒドロキシルアミンとを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120℃〜230℃である。
As the polyolefin (a212) having a hydroxyl group at both ends of the polymer, a polyolefin having a hydroxyl group obtained by modifying (a211) with hydroxylamine and a mixture of two or more of these can be used.
Examples of hydroxylamine that can be used for the modification include C2-10 (preferably 2-6, more preferably 2-4) hydroxylamine, and the like. For example, 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 1-amino- Examples include 2-propanol, 4-aminobutanol, 5-aminopentanol, 6-aminohexanol and 3-aminomethyl-3,5,5-trimethylcyclohexanol.
Of these, 2-aminoethanol, 3-aminopropanol, 4-aminobutanol, 5-aminopentanol and 6-aminohexanol are more preferable, 2-aminoethanol and 4-aminobutanol are particularly preferable. Is 2-aminoethanol.
The modification with hydroxylamine can be performed by various methods, for example, by directly reacting (a211) with hydroxylamine. The reaction temperature is usually 120 ° C to 230 ° C.

変性に用いるヒドロキシルアミンの量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、好ましくは0.1〜2個、さらに好ましくは0.3〜1.5個、特に好ましくは0.5〜1.2個、最も好ましくは1個である。ヒドロキシルアミンの量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、帯電防止性がさらに良好になる。
(a212)のMnは、耐熱性およびポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)との反応性の観点から、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(a212)の水酸基価は、(a22)との反応性の観点から、好ましくは4〜280(mgKOH/g。以下においては数値のみを記載する。)、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
The amount of hydroxylamine used for modification is preferably 0.1 to 2, more preferably 0.3 to 1.5, particularly preferably per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). Is 0.5 to 1.2, most preferably 1. When the amount of hydroxylamine is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the antistatic property is further improved.
Mn of (a212) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22). 2,500 to 10,000.
The hydroxyl value of (a212) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g. In the following, only numerical values are described), more preferably 4 to 100, particularly from the viewpoint of reactivity with (a22). Preferably it is 5-50.

アミノ基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a213)としては、(a211)をジアミン(Q1)で変性したアミノ基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種以上の混合物が使用できる。
この変性に用いるジアミン(Q1)としては、C2〜12(好ましくは2〜8、さらに好ましくは2〜6)のジアミン等が使用でき、例えば、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミンおよびデカメチレンジアミン等が挙げられる。
これらのうち、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミンおよびオクタメチレンジアミンが好ましく、さらに好ましいのはエチレンジアミンおよびヘキサメチレンジアミン、特に好ましいのはエチレンジアミンである。
ジアミンによる変性は、公知の方法で行うことができ、例えば、(a211)とジアミン(Q1)とを直接反応させることにより行うことができる。反応温度は、通常120℃〜230℃である。
As the polyolefin (a213) having an amino group at both ends of the polymer, a polyolefin having an amino group obtained by modifying (a211) with a diamine (Q1) and a mixture of two or more of these can be used.
As the diamine (Q1) used for this modification, C2-12 (preferably 2-8, more preferably 2-6) diamines can be used, for example, ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine. And decamethylenediamine.
Of these, ethylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine and octamethylenediamine are preferable, ethylenediamine and hexamethylenediamine are more preferable, and ethylenediamine is particularly preferable.
The modification with diamine can be carried out by a known method, for example, by reacting (a211) and diamine (Q1) directly. The reaction temperature is usually 120 ° C to 230 ° C.

変性に用いるジアミンの量は、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、0.1〜2個が好ましく、さらに好ましくは0.3〜1.5個、さらに好ましくは0.5〜1.2個、特に好ましくは1個である。ジアミンの量がこの範囲であると繰り返し構造をさらにとりやすくなり、帯電防止性がさらに良好になる。
なお、実際の製造に当たっては、ポリアミド(イミド)化を防止するため、α、β不飽和カルボン酸(無水物)の残基1個当たり、2〜1,000個、さらに好ましくは5〜800個、特に好ましくは10〜500個のジアミンを使用し、未反応の過剰ジアミンを減圧下で(通常120℃〜230℃)除去することが好ましい。
The amount of diamine used for modification is preferably 0.1 to 2, more preferably 0.3 to 1.5, and still more preferably, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). 0.5 to 1.2, particularly preferably 1. When the amount of diamine is within this range, it becomes easier to take a repeating structure, and the antistatic property is further improved.
In actual production, in order to prevent polyamide (imide) formation, 2 to 1,000, more preferably 5 to 800, per residue of α, β unsaturated carboxylic acid (anhydride). Particularly preferably, 10 to 500 diamines are used, and it is preferable to remove unreacted excess diamine under reduced pressure (usually 120 to 230 ° C.).

(a213)のMnは、耐熱性および後述するポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)との反応性の観点から、800〜25,000が好ましく、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。
また、(a213)のアミン価は、(a22)との反応性の観点から、4〜280(mgKOH/g、以下、数値のみを記載する。)が好ましく、さらに好ましくは4〜100、特に好ましくは5〜50である。
Mn of (a213) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22) described later. Preferably it is 2,500-10,000.
Further, the amine value of (a213) is preferably 4 to 280 (mg KOH / g, hereinafter, only numerical values are described) from the viewpoint of reactivity with (a22), more preferably 4 to 100, and particularly preferably. Is 5-50.

イソシアネート基を両末端に有するポリオレフィン(a214)としては、前記、水酸基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a212)をジイソシアネートで変性し両末端にイソシアネート基を有するポリオレフィンおよびこれらの2種類以上の混合物が使用できる。ジイソシアネートとしては、C(NCO基中の炭素を除く、以下同様)6〜20の芳香族ジイソシアネート、C2〜18の脂肪族ジイソシアネート、C4〜15の脂環式ジイソシアネート、C8〜15の芳香脂肪族ジイソシアネート、これらのジイソシアネートの変性体およびこれらの2種以上の混合物が含まれる。   Examples of the polyolefin having an isocyanate group at both ends (a214) include the polyolefin having a hydroxyl group at both ends of the polymer (a212) modified with diisocyanate and having an isocyanate group at both ends and a mixture of two or more of these. Can be used. As the diisocyanate, C (excluding carbon in the NCO group, the same shall apply hereinafter) 6 to 20 aromatic diisocyanate, C2 to 18 aliphatic diisocyanate, C4 to 15 alicyclic diisocyanate, and C8 to 15 araliphatic diisocyanate , Modified products of these diisocyanates and mixtures of two or more thereof.

上記芳香族ジイソシアネートの具体例としては、1,3−および/または1,4−フェニレンジイソシアネート、2,4−および/または2,6−トリレンジイソシアネート(TDI)、粗製TDI、2,4’−および/または4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトビフェニル、3,3’−ジメチル−4,4’−ジイソシアナトジフェニルメタン、1,5−ナフチレンジイソシアネートなどが挙げられる。   Specific examples of the aromatic diisocyanate include 1,3- and / or 1,4-phenylene diisocyanate, 2,4- and / or 2,6-tolylene diisocyanate (TDI), crude TDI, and 2,4′-. And / or 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (MDI), 4,4′-diisocyanatobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4,4′-diisocyanatobiphenyl, 3,3′-dimethyl-4, 4'-diisocyanatodiphenylmethane, 1,5-naphthylene diisocyanate, etc. are mentioned.

上記脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、エチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)
、ドデカメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、2,6−ジイソシアナトメチルカプロエート、ビス(2−イソシアナトエチル)フマレート、ビス(2−イソシアナトエチル)カーボネート、2−イソシアナトエチル−2,6−ジイソシアナトヘキサノエートなどが挙げられる。
Specific examples of the aliphatic diisocyanate include ethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate (HDI).
, Dodecamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, 2,6-diisocyanatomethylcaproate, bis (2-isocyanatoethyl) fumarate, bis (2-isocyanatoethyl) carbonate, Examples include 2-isocyanatoethyl-2,6-diisocyanatohexanoate.

上記脂環式ジイソシアネートの具体例としては、イソホロンジイソシアネート(IPDI)、ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート(水添MDI)、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート(水添TDI)、ビス(2−イソシアナトエチル)−4−シクロヘキセン−1,2−ジカルボキシレート、2,5−および/または2,6−ノルボルナンジイソシアネートなどが挙げられる。   Specific examples of the alicyclic diisocyanate include isophorone diisocyanate (IPDI), dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate (hydrogenated MDI), cyclohexylene diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate (hydrogenated TDI), bis (2- And isocyanatoethyl) -4-cyclohexene-1,2-dicarboxylate, 2,5- and / or 2,6-norbornane diisocyanate.

上記芳香脂肪族ジイソシアネートの具体例としては、m−および/またはp−キシリレンジイソシアネート(XDI)、α,α,α’,α’−テトラメチルキシリレンジイソシアネート(TMXDI)などが挙げられる。   Specific examples of the aromatic aliphatic diisocyanate include m- and / or p-xylylene diisocyanate (XDI), α, α, α ′, α′-tetramethylxylylene diisocyanate (TMXDI), and the like.

また、上記ジイソシアネートの変性体としては、ウレタン変性体、ウレア変性体、カルボジイミド変性体、ウレトジオン変性体などが挙げられる。これらのうち、好ましいのはTDI、MDIおよびHDI、さらに好ましいのはHDIである。   Examples of the modified diisocyanate include urethane-modified products, urea-modified products, carbodiimide-modified products, and uretdione-modified products. Of these, TDI, MDI and HDI are preferred, and HDI is more preferred.

(a212)とジイソシアネートとの反応は通常のウレタン化反応と同様の方法で行うことができる。
イソシアネート変性ポリオレフィンを形成する際の、ジイソシアネートと(a212)との当量比(NCO/OH比)は、通常1.8/1〜3/1、好ましくは2/1である。
反応を促進するために必要によりウレタン化反応に通常用いられる触媒を使用してもよい。このような触媒としては、金属触媒、例えば錫触媒(トリメチルチンラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジラウレート、ジブチルチンジアセテート、ジブチルチンジラウレート、スタナスオクトエート、ジブチルチンマレエート等);鉛触媒(オレイン酸鉛、2−エチルヘキサン酸鉛、ナフテン酸鉛、オクテン酸鉛等);その他の金属触媒[ナフテン酸コバルト等のナフテン酸金属塩、フェニル水銀プロピオン酸塩等];およびアミン触媒、例えばトリエチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチルヘキシレンジアミン、ジアザビシクロアルケン{1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7〔DBU(サンアプロ(株)製、登録商標)〕等];ジアルキル(C1〜3)アミノアルキル(C2〜8)アミン[ジメチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノエチルアミン、ジメチルアミノオクチルアミン、ジプロピルアミノプロピルアミン等]または複素環式アミノアルキル(C1〜3)アミン[2−(1−アジリジニル)エチルアミン、4−(1−ピペリジニル)−2−ヘキシルアミン等]の炭酸塩および有機酸(ギ酸等)塩等;N−アルキル(C1〜3、例えばメチル、エチル)モルホリン、トリアルキル(C1〜3、例えばエチル、プロピル)アミン、ジアルキル(C1〜3)アルカノール(C2〜4)アミン(ジメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン等);およびこれらの2種以上の併用系が挙げられる。
上記触媒の使用量は、ジイソシアネートと(a212)の合計重量に基づいて、通常3%以下、好ましくは0.001〜2%である。
The reaction between (a212) and diisocyanate can be carried out in the same manner as in a normal urethanization reaction.
The equivalent ratio (NCO / OH ratio) of diisocyanate and (a212) in forming the isocyanate-modified polyolefin is usually 1.8 / 1 to 3/1, preferably 2/1.
In order to accelerate the reaction, a catalyst usually used in the urethanization reaction may be used if necessary. Such catalysts include metal catalysts such as tin catalysts (trimethyltin laurate, trimethyltin hydroxide, dimethyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltin dilaurate, stannous octoate, dibutyltin maleate, etc.); lead catalyst (Lead oleate, lead 2-ethylhexanoate, lead naphthenate, lead octenoate, etc.); other metal catalysts [naphthalic acid metal salts such as cobalt naphthenate, phenylmercuric propionate, etc.]; and amine catalysts such as Triethylenediamine, tetramethylethylenediamine, tetramethylhexylenediamine, diazabicycloalkene {1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7 [DBU (manufactured by San Apro Co., Ltd., registered trademark)]]]; dialkyl (C1-3) aminoalkyl C2-8) amine [dimethylaminoethylamine, dimethylaminopropylamine, diethylaminopropylamine, dibutylaminoethylamine, dimethylaminooctylamine, dipropylaminopropylamine, etc.] or heterocyclic aminoalkyl (C1-3) amine [2- (1-aziridinyl) ethylamine, 4- (1-piperidinyl) -2-hexylamine etc.] carbonates and organic acids (formic acid etc.) salts, etc .; N-alkyl (C1-3, eg methyl, ethyl) morpholine, tri Examples include alkyl (C1-3, such as ethyl, propyl) amine, dialkyl (C1-3) alkanol (C2-4) amine (dimethylethanolamine, diethylethanolamine, etc.); and combinations of two or more of these.
The amount of the catalyst used is usually 3% or less, preferably 0.001 to 2%, based on the total weight of diisocyanate and (a212).

(a214)のMnは、耐熱性およびポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)との反応性の観点から、好ましくは800〜25,000、さらに好ましくは1,000〜20,000、特に好ましくは2,500〜10,000である。   Mn of (a214) is preferably 800 to 25,000, more preferably 1,000 to 20,000, particularly preferably from the viewpoint of heat resistance and reactivity with the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22). 2,500 to 10,000.

(A2)を構成するポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)としては、前記ポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)、(b1)の変性物およびそれらの混合物が挙げられる。以下においてポリエーテルジオール(b11)およびポリエーテルジアミン(b12)を、それぞれポリエーテルジオール(a221)およびポリエーテルジアミン(a222)と称することがある。   Examples of the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22) constituting (A2) include the modified polyether chain-containing hydrophilic polymers (b1) and (b1) and mixtures thereof. Hereinafter, the polyether diol (b11) and the polyether diamine (b12) may be referred to as a polyether diol (a221) and a polyether diamine (a222), respectively.

上記変性物としては、例えば、(a221)または(a222)のアミノカルボン酸変性物(末端アミノ基)、同イソシアネート変性物(末端イソシアネート基)および同エポキシ変性物(末端エポキシ基)が挙げられる。
アミノカルボン酸変性物は、(a221)または(a222)と、アミノカルボン酸またはラクタムとを反応させることにより得ることができる。
イソシアネート変性物は、(a221)または(a222)と、前記ジイソシアネートとを反応させるか、(a222)とホスゲンとを反応させることにより得ることができる。
エポキシ変性物は、(a221)または(a222)と、ジエポキシド(エポキシ当量85〜600、例えばジグリシジルエーテル、ジグリシジルエステル、脂環式ジエポキシド)とを反応させるか、(a221)とエピハロヒドリン(エピクロルヒドリン等)とを反応させることにより得ることができる。
Examples of the modified product include the aminocarboxylic acid modified product (terminal amino group), the isocyanate modified product (terminal isocyanate group) and the epoxy modified product (terminal epoxy group) of (a221) or (a222).
The aminocarboxylic acid-modified product can be obtained by reacting (a221) or (a222) with aminocarboxylic acid or lactam.
The isocyanate-modified product can be obtained by reacting (a221) or (a222) with the diisocyanate or reacting (a222) with phosgene.
The epoxy modified product is obtained by reacting (a221) or (a222) with a diepoxide (epoxy equivalent of 85 to 600, for example, diglycidyl ether, diglycidyl ester, alicyclic diepoxide), or (a221) and an epihalohydrin (epichlorohydrin, etc.) ).

ブロックポリマー(A2)は、種々の方法で製造でき、例えば、カルボニル基をポリマーの両末端に有するポリオレフィン(a211)に、ポリエーテルジオール(a221)を加えて減圧下通常200〜250℃で重合(重縮合)反応を行う方法により製造することができる。あるいは、一軸または二軸の押出機を用いて、減圧下通常、160〜250℃、滞留時間0.1〜20分で重合する方法により製造することができる
上記製造法における重合反応のうち、ポリエステル化反応に際しては、前記(A1)におけるものと同じエステル化触媒が使用できる。
触媒の使用量は、(a211)と(a221)の合計重量に対して、通常0.001〜5%である。
The block polymer (A2) can be produced by various methods. For example, a polyether diol (a221) is added to a polyolefin (a211) having carbonyl groups at both ends of the polymer, and polymerization is usually performed at 200 to 250 ° C. under reduced pressure ( It can be produced by a method of performing a (polycondensation) reaction. Or it can manufacture by the method of superposing | polymerizing by 160-250 degreeC and residence time 0.1-20 minutes normally under reduced pressure using a uniaxial or biaxial extruder. Among the polymerization reaction in the said manufacturing method, polyester In the esterification reaction, the same esterification catalyst as in (A1) can be used.
The usage-amount of a catalyst is 0.001 to 5% normally with respect to the total weight of (a211) and (a221).

[ブロックポリマー(A3)]
ブロックポリマー(A3)を構成するアミド基含有疎水性ポリマー(a1)およびポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)は、前記(A1)におけるものと同じである。
ブロックポリマー(A3)の製造法としては、下記[1]、[2]が挙げられるが、特に限定されるものではない。
製造法[1] アミド形成性モノマーとジカルボン酸(分子量調整剤)を反応させて(a1)を形成させ、これにポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)を加えて、高温(160〜270℃)、減圧下(0.03〜3kPa)で重合させる方法。
製造法[2] アミド形成性モノマーおよびジカルボン酸(分子量調整剤)と(b1)の一部を同時に反応槽に仕込み、水の存在下または非存在下に、高温(160〜270℃)で加圧(0.1〜1MPa)反応させることによってポリアミド中間体(a1)を生成させ、その後減圧下(0.03〜3kPa)で残りの(b1)と重合させる方法。
上記製造法のうち、反応制御の観点から好ましいのは製造法[1]である。
[Block polymer (A3)]
The amide group-containing hydrophobic polymer (a1) and the polyether chain-containing hydrophilic polymer (b1) constituting the block polymer (A3) are the same as those in the above (A1).
Examples of the method for producing the block polymer (A3) include the following [1] and [2], but are not particularly limited.
Production Method [1] An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) are reacted to form (a1), to which a polyether chain-containing hydrophilic polymer (b1) is added, and a high temperature (160 to 270 ° C.) is added. ), Polymerization under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Production Method [2] An amide-forming monomer and a dicarboxylic acid (molecular weight modifier) and a part of (b1) are simultaneously charged into a reaction vessel and added at high temperature (160 to 270 ° C.) in the presence or absence of water. A method in which a polyamide intermediate (a1) is produced by a pressure (0.1 to 1 MPa) reaction and then polymerized with the remaining (b1) under reduced pressure (0.03 to 3 kPa).
Of the above production methods, production method [1] is preferable from the viewpoint of reaction control.

上記製造法における重合反応のうち、ポリエステル化反応に際しては、前記(A1)および(A2)におけるものと同じエステル化触媒が使用できる。
該触媒の使用量は、(a1)および(b1)の合計重量に基づいて、反応性および、成形品の樹脂物性の観点から好ましくは0.1〜5%、さらに好ましくは0.2〜3%である。
Of the polymerization reactions in the above production method, the same esterification catalyst as in (A1) and (A2) can be used for the polyesterification reaction.
The amount of the catalyst used is preferably 0.1 to 5%, more preferably 0.2 to 3 based on the total weight of (a1) and (b1) from the viewpoints of reactivity and resin physical properties of the molded product. %.

[界面活性剤(B)]
本発明における(B)は、示差走査熱量計による結晶化ピーク温度において2〜100(好ましくは2〜50、さらに好ましくは2〜25、とくに好ましくは2〜20、最も好ましくは2〜10)mJ/mgの結晶化熱を有する界面活性剤である。
ここにおける結晶化熱は、結晶化ピーク温度が1点の場合はその温度における結晶化熱のみを指し、結晶化ピーク温度が複数存在する場合は各温度における結晶化熱を合計したものを指す。
結晶化熱が2mJ/mg未満では、カッティング性が悪くなり、100mJ/mgを超えると帯電防止性が悪くなる。
結晶化ピーク温度は、カッティング(生産性)の観点から好ましくは0℃以上、さらに好ましくは5℃以上、また、好ましくは230℃以下、さらに好ましくは200℃以下である。
ここにおいて測定に用いられる示差走査熱量計(DSC)としては、例えばDSC2910[商品名、ティー・エイ・インスツルメント(株)製]が挙げられ、本発明における結晶化熱は該示差走査熱量計を用い、JIS K7122記載の転移熱測定法に準じて、下記条件で測定して得られる値である。
[測定条件]
試料をJIS K 7100記載の標準温度状態2級および標準湿度状態2級において24時間以上状態調節した後、約5mg秤量し、加熱速度毎分10℃で250℃まで加熱し、10分保持した後、冷却速度毎分10℃で−50℃まで冷却する。得られたDSC曲線から、冷却による転移熱(結晶化熱)を求める。
[Surfactant (B)]
(B) in the present invention is 2 to 100 (preferably 2 to 50, more preferably 2 to 25, particularly preferably 2 to 20, most preferably 2 to 10) mJ at the crystallization peak temperature by a differential scanning calorimeter. A surfactant having a heat of crystallization of / mg.
The heat of crystallization herein refers to only the heat of crystallization at that temperature when the crystallization peak temperature is one point, and refers to the sum of the heat of crystallization at each temperature when there are a plurality of crystallization peak temperatures.
When the crystallization heat is less than 2 mJ / mg, the cutting property is deteriorated, and when it exceeds 100 mJ / mg, the antistatic property is deteriorated.
From the viewpoint of cutting (productivity), the crystallization peak temperature is preferably 0 ° C. or higher, more preferably 5 ° C. or higher, preferably 230 ° C. or lower, more preferably 200 ° C. or lower.
Examples of the differential scanning calorimeter (DSC) used in the measurement include DSC2910 [trade name, manufactured by T.A. Instruments Co., Ltd.], and the crystallization heat in the present invention is the differential scanning calorimeter. Is a value obtained by measuring under the following conditions according to the transition heat measurement method described in JIS K7122.
[Measurement condition]
After the sample was conditioned for 24 hours or more in the standard temperature state grade 2 and standard humidity state grade 2 described in JIS K 7100, about 5 mg was weighed, heated to 250 ° C. at a heating rate of 10 ° C. per minute, and held for 10 minutes. Cool to −50 ° C. at 10 ° C. per minute From the obtained DSC curve, the transition heat (crystallization heat) by cooling is determined.

(B)には、(B1)アニオン性、(B2)カチオン性、(B3)両性の界面活性剤、およびこれらの混合物が挙げられる。
アニオン性界面活性剤(B1)には、疎水基部分が直鎖の、カルボン酸(例えばC8〜24の飽和または不飽和脂肪酸およびエーテルカルボン酸)およびその塩;硫酸エステル塩〔例えば高級アルコール硫酸エステル塩(例えばC8〜18の脂肪族アルコールの硫酸エステル塩)および高級アルキルエーテル硫酸エステル塩[例えばC8〜18の脂肪族アルコールのEO(1〜10モル)付加物の硫酸エステル塩]〕;スルホン酸塩[C10〜20、例えばアルキルベンゼンスルホン酸塩(例えばドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム)、アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、スルホコハク酸ジアルキルエステル型、ハイドロカーボン(例えばアルカン、α−オレフィン)スルホン酸塩およびイゲポンT型];およびリン酸エステル塩[例えば高級アルコール(C8〜60)EO付加物リン酸エステル塩およびアルキル(C4〜60)フェノールEO付加物リン酸エステル塩]等が含まれる。
(B) includes (B1) anionic, (B2) cationic, (B3) amphoteric surfactants, and mixtures thereof.
The anionic surfactant (B1) includes a carboxylic acid (for example, a C8-24 saturated or unsaturated fatty acid and ether carboxylic acid) and a salt thereof having a linear hydrophobic group, and a sulfate ester salt (for example, a higher alcohol sulfate ester). Salts (eg sulfate salts of C8-18 aliphatic alcohols) and higher alkyl ether sulfate salts [eg sulfate esters of EO (1-10 mol) adducts of C8-18 aliphatic alcohols]]; sulfonic acids Salts [C10-20, such as alkyl benzene sulfonates (eg sodium dodecylbenzene sulfonate), alkyl sulfonates, alkyl naphthalene sulfonates, dialkyl ester sulfosuccinates, hydrocarbons (eg alkanes, α-olefins) sulfonates And Igepon T type]; and Phosphate ester salts [e.g. higher alcohol (C8~60) EO adduct phosphoric acid ester salts and alkyl (C4~60) phenol EO adduct phosphoric acid ester salts] and the like.

カチオン性界面活性剤(B2)には、疎水基部分が直鎖の、第4級アンモニウム塩型〔例えばテトラアルキル(C11〜100)アンモニウム塩(例えばラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、ジデシルジメチルアンモニウムクロライド、ジオクチルジメチルアンモニウムブロマイドおよびステアリルトリメチルアンモニウムブロマイド)、トリアルキル(C10〜80)ベンジルアンモニウム塩[例えばラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド(塩化ベンザルコニウム)]、アルキル(C8〜60)ピリジニウム塩(例えばセチルピリジニウムクロライド)およびサパミン型第4級アンモニウム塩(例えばステアラミドエチルジエチルメチルアンモニウムメトサルフェート)〕;およびアミン塩型[例えば高級脂肪族アミン(C12〜60、例えばラウリルアミン、ステアリルアミン、セチルアミン、硬化牛脂アミンおよびロジンアミン)の無機酸(例えば塩酸、硫酸、硝酸およびリン酸)塩または有機酸(C2〜22、例えば酢酸、プロピオン酸、ラウリル酸、オレイン酸、安息香酸、コハク酸、アジピン酸およびアゼライン酸)塩、高級脂肪族アミン(C12〜30)のEOエチレンオキシド付加物などの無機酸(上記のもの)塩または有機酸(上記のもの)塩]が含まれる。   The cationic surfactant (B2) has a quaternary ammonium salt type [for example, tetraalkyl (C11-100) ammonium salt (for example, lauryltrimethylammonium chloride, didecyldimethylammonium chloride, dioctyl) having a linear hydrophobic group portion. Dimethylammonium bromide and stearyltrimethylammonium bromide), trialkyl (C10-80) benzylammonium salts [eg lauryldimethylbenzylammonium chloride (benzalkonium chloride)], alkyl (C8-60) pyridinium salts (eg cetylpyridinium chloride) and Sapamine type quaternary ammonium salts (eg stearamide ethyl diethyl methyl ammonium methosulfate)]; and amine salt types [eg higher aliphatic amino acids] Inorganic acids (eg, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid) salts or organic acids (C2-22, eg, acetic acid, propionic acid, lauryl) of C12-60 (eg, laurylamine, stearylamine, cetylamine, hardened tallowamine and rosinamine) Inorganic acids (above) or organic acids (above) such as EO ethylene oxide adducts of acids, oleic acid, benzoic acid, succinic acid, adipic acid and azelaic acid) salts, higher aliphatic amines (C12-30) ) Salt].

両性界面活性剤(B3)には、疎水基部分が直鎖の、アミノ酸型両性界面活性剤[例えば高級アルキル(C8〜24)アミンのプロピオン酸塩]、ベタイン型両性界面活性剤[
例えば高級アルキル(C8〜24)ジメチルベタイン、高級アルキル(C8〜24)ジヒドロキシエチルベタイン]、硫酸エステル塩型両性界面活性剤[例えば高級アルキル(C8〜24)アミンの硫酸エステル塩およびヒドロキシエチルイミダゾリン硫酸エステル塩]、スルホン酸塩型両性界面活性剤(例えばペンタデシルスルホタウリン塩およびイミダゾリンスルホン酸塩)およびリン酸エステル塩型両性界面活性剤[例えばグリセリン高級脂肪酸(C8〜24)エステル化物のリン酸エステル塩]が含まれる。
Examples of the amphoteric surfactant (B3) include amino acid-type amphoteric surfactants [for example, higher alkyl (C8-24) amine propionate], betaine-type amphoteric surfactants, which have a linear hydrophobic group.
For example, higher alkyl (C8-24) dimethyl betaine, higher alkyl (C8-24) dihydroxyethyl betaine], sulfate ester type amphoteric surfactants [for example, higher alkyl (C8-24) amine sulfate and hydroxyethyl imidazoline sulfate Ester salts], sulfonate type amphoteric surfactants (for example, pentadecyl sulfotaurine salt and imidazoline sulfonate salt) and phosphate ester type amphoteric surfactants [for example, glycerin higher fatty acid (C8-24) esterified phosphoric acid Ester salt].

上記の(B1)、(B3)の塩としては、例えばアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)塩、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウム等)塩、IIB族金属(亜鉛等)塩、アンモニウム塩、アルキルアミン(C1〜20)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩が挙げられる。   Examples of the salts of (B1) and (B3) include alkali metal (lithium, sodium, potassium, etc.) salts, alkaline earth metal (calcium, magnesium, etc.) salts, Group IIB metal (zinc, etc.) salts, ammonium salts, and the like. , Alkylamine (C1-20) salts and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di- and triethanolamine) salts.

これらの(B)は単独でも2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうちカッティング性および帯電防止性の観点から好ましいのはアニオン性界面活性剤、さらに好ましいのはスルホン酸塩、とくに好ましいのはアルキルベンゼン(C12〜24)スルホン酸塩(直鎖ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等)、アルキル(C8〜24)スルホン酸塩およびハイドロカーボン(例えばアルカン、α−オレフィン)スルホン酸塩である。
These (B) may be used alone or in combination of two or more.
Of these, anionic surfactants are preferred from the viewpoint of cutting properties and antistatic properties, more preferred are sulfonates, and particularly preferred are alkylbenzene (C12-24) sulfonates (sodium linear dodecylbenzenesulfonate). Etc.), alkyl (C8-24) sulfonates and hydrocarbon (eg alkane, α-olefin) sulfonates.

[帯電防止剤]
本発明の帯電防止剤は、前記親水性ブロックポリマー(A)と、上記界面活性剤(B)からなる。
(A)と(B)の重量比は、帯電防止性およびカッティング性の観点から好ましくは99.9/0.1〜80/20、さらに好ましくは99.5/0.5〜90/10である。
本発明の帯電防止剤の製造方法には、(B)の存在下で(A)を製造する方法、および(A)に(B)を後添加する方法が含まれる。(B)の(A)への分散性の観点から好ましいのは(B)の存在下で(A)を製造する方法である。
(B)の存在下で(A)を製造する方法において、(B)を(A)の製造時に含有させるタイミングは特に限定はなく、重合前および/または重合中のいずれでもよいが重合前の原料に含有させておくのが好ましい。
[Antistatic agent]
The antistatic agent of the present invention comprises the hydrophilic block polymer (A) and the surfactant (B).
The weight ratio of (A) to (B) is preferably 99.9 / 0.1 to 80/20, more preferably 99.5 / 0.5 to 90/10 from the viewpoint of antistatic properties and cutting properties. is there.
The production method of the antistatic agent of the present invention includes a method of producing (A) in the presence of (B), and a method of post-adding (B) to (A). From the viewpoint of dispersibility of (B) into (A), a method for producing (A) in the presence of (B) is preferred.
In the method for producing (A) in the presence of (B), the timing for incorporating (B) during the production of (A) is not particularly limited, and may be any before and / or during polymerization, but before polymerization. It is preferable to make it contain in a raw material.

[帯電防止性樹脂組成物]
本発明の帯電防止性樹脂組成物は、上記帯電防止剤を熱可塑性樹脂(C)に含有させてなるものである。
(C)としては、ポリフェニレンエーテル樹脂(C1);ビニル樹脂〔ポリオレフィン樹脂(C2)[例えばポリプロピレン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂(EVA)、エチレン−エチルアクリレート共重合樹脂]、ポリアクリル樹脂(C3)[例えばポリメタクリル酸メチル]、ポリスチレン樹脂(C4)[ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体、例えばポリスチレン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AN樹脂)、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)]等〕;ポリエステル樹脂(C5)[例えばポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート];ポリアミド樹脂(C6)[例えばナイロン66、ナイロン69、ナイロン612、ナイロン6、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン46、ナイロン6/66、ナイロン6/12];ポリカーボネート樹脂(C7
)[例えばポリカーボネート、ポリカーボネート/ABSアロイ樹脂];ポリアセタール樹脂(C8)、およびこれらの2種以上の混合物が挙げられる。
[Antistatic resin composition]
The antistatic resin composition of the present invention comprises the thermoplastic resin (C) containing the antistatic agent.
(C) includes polyphenylene ether resin (C1); vinyl resin [polyolefin resin (C2) [for example, polypropylene, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer resin (EVA), ethylene-ethyl acrylate copolymer resin], polyacrylic resin (C3) [for example, polymethyl methacrylate], polystyrene resin (C4) [consisting of a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, (meth) acrylic ester, (meth) acrylonitrile, and butadiene Copolymers having at least one selected from the group as structural units, such as polystyrene, styrene / acrylonitrile copolymer (AN resin), acrylonitrile / butadiene / styrene copolymer (ABS resin), methyl methacrylate / butadiene / Styrene Polyester resin (C5) [for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, polybutylene adipate, polyethylene adipate]; Polyamide resin (C6) [for example, nylon 66, nylon 69, nylon 612, nylon 6, nylon 11, nylon 12, nylon 46, nylon 6/66, nylon 6/12]; polycarbonate resin (C7
) [For example, polycarbonate, polycarbonate / ABS alloy resin]; polyacetal resin (C8), and a mixture of two or more thereof.

これらのうち、後述する成形品の機械特性および本発明の帯電防止剤の(C)への分散性の観点から好ましいのは、(C1)、(C2)、(C3)、(C4)、(C7)、さらに好ましいのは(C2)、(C4)、(C7)である。   Of these, (C1), (C2), (C3), (C4), (C), (C1), (C2), (C4), (C7) and more preferred are (C2), (C4) and (C7).

本発明の帯電防止剤と(C)の重量比は、成形品の帯電防止性および機械特性の観点から、好ましくは1/99〜30/70、さらに好ましくは5/95〜15/85である。   The weight ratio of the antistatic agent of the present invention to (C) is preferably 1/99 to 30/70, more preferably 5/95 to 15/85, from the viewpoint of antistatic properties and mechanical properties of the molded product. .

ポリフェニレンエーテル樹脂(C1)としては、例えば、ポリ(1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジプロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−エチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジメトキシ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジブロモ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジフェニル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジクロロ−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、6−ジベンジル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2、5−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等が挙げられる。
また、これらの(C1)に前記のスチレンおよび/またはその誘導体のモノマーをグラフトしたもの(変性ポリフェニレンエーテル)も(C1)に含まれる。
Examples of the polyphenylene ether resin (C1) include poly (1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene). ) Ether, poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dipropyl-1,4) -Phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dimethoxy-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dichloromethyl-1, 4-phenylene) ether, poly (2,6-dibromo-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diphenyl-1,4-phenylene) ether, poly 2,6-dichloro-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-dibenzyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,5-dimethyl-1,4-phenylene) ether.
Also, (C1) includes those obtained by grafting the above styrene and / or its derivative monomer (modified polyphenylene ether) to (C1).

ビニル樹脂[(C2)〜(C4)]としては、以下のビニルモノマーを種々の重合法(ラジカル重合法、チーグラー触媒重合法、メタロセン触媒重合法等)により(共)重合させることにより得られるものが挙げられる。   As the vinyl resins [(C2) to (C4)], those obtained by (co) polymerizing the following vinyl monomers by various polymerization methods (radical polymerization method, Ziegler catalyst polymerization method, metallocene catalyst polymerization method, etc.) Is mentioned.

ビニルモノマーとしては、不飽和炭化水素(脂肪族炭化水素、芳香環含有炭化水素、脂環式炭化水素等)、アクリルモノマー、その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸およびその誘導体、不飽和アルコールのカルボン酸エステル、不飽和アルコールのアルキルエーテル、ハロゲン含有ビニルモノマー並びにこれらの2種以上の組合せ (ランダムおよび
/またはブロック)等が挙げられる。
Examples of vinyl monomers include unsaturated hydrocarbons (aliphatic hydrocarbons, aromatic ring-containing hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, etc.), acrylic monomers, other unsaturated mono- and dicarboxylic acids and their derivatives, and carboxylic acids of unsaturated alcohols. Examples include acid esters, alkyl ethers of unsaturated alcohols, halogen-containing vinyl monomers, and combinations (random and / or block) of two or more thereof.

脂肪族炭化水素としては、C2〜30のオレフィン[エチレン、プロピレン、 C4〜
30のα−オレフィン(1−ブテン、4−メチル−1−ペンテン、 1−ペンテン、1−
オクテン、1−デセン、1−ドデセン等)等]、C4〜30のジエン[アルカジエン(ブタジエン、イソプレン等)、シクロアルカジエン(シクロペンタジエン等)等]等が挙げられる。
Aliphatic hydrocarbons include C2-30 olefins [ethylene, propylene, C4 ~
30 α-olefins (1-butene, 4-methyl-1-pentene, 1-pentene, 1-
Octene, 1-decene, 1-dodecene, etc.)], C4-30 dienes [alkadienes (butadiene, isoprene, etc.), cycloalkadienes (cyclopentadiene, etc.), etc.].

芳香環含有炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、例えばo
−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。
Examples of the aromatic ring-containing hydrocarbon include C8-30 styrene and its derivatives, such as o.
-, M- and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyl toluene, etc.), α-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, etc.) and halogenated styrene (chlorostyrene, etc.).

アクリルモノマーとしては、C3〜30、例えば(メタ)アクリル酸およびその誘導体が挙げられる。
(メタ)アクリル酸の誘導体としては、例えばアルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート[メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリ レート、ブチル(メタ)
アクリレート等]、モノ−およびジ−アルキル(C1〜4)アミノアルキル(C2〜4)
(メタ)アクリレート[メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレ ート等]、(メタ)アクリロニトリルおよび(メタ)アクリルアミ
ドが挙げられる。
Acrylic monomers include C3-30, such as (meth) acrylic acid and its derivatives.
Examples of derivatives of (meth) acrylic acid include alkyl (C1-20) (meth) acrylate [methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth)
Acrylates, etc.], mono- and di-alkyl (C1-4) aminoalkyl (C2-4)
(Meth) acrylate [methylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, etc.], (meth) acrylonitrile and (meth) acrylamide may be mentioned.

その他の不飽和モノ−およびジカルボン酸としては、C2〜30(好ましくは3〜20、さらに好ましくは4〜15)の不飽和モノ−およびジカルボン酸、例えば、クロトン酸、マレイン酸、フマール酸およびイタコン酸等が挙げられ、その誘導体としては、C5〜30、例えばモノ−およびジアルキル(C1〜20)エステル、酸無水物(無水マレイン酸等)および酸イミド(マレイン酸イミド等)等が挙げられる。   Other unsaturated mono- and dicarboxylic acids include C2-30 (preferably 3-20, more preferably 4-15) unsaturated mono- and dicarboxylic acids such as crotonic acid, maleic acid, fumaric acid and itacon. Examples thereof include C5-30, such as mono- and dialkyl (C1-20) esters, acid anhydrides (maleic anhydride, etc.) and acid imides (maleic imide, etc.).

不飽和アルコールのカルボン酸エステルとしては、不飽和アルコール[C2〜6、例えばビニルアルコール 、(メタ)アリルアルコール]のカルボン酸(C2〜4、例えば酢
酸、プロピオン酸)エステル(酢酸ビニル等)が挙げられる。
不飽和アルコールのアルキルエーテルとしては、上記不飽和アルコールのアルキル(C1〜20)エーテル(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等)が挙げられる。ハロゲン含有ビニルモノマーとしては、C2〜12、例えば塩化ビニル、塩化ビニリデン
およびクロロプレンが挙げられる。
Examples of carboxylic acid esters of unsaturated alcohols include carboxylic acids (C2-4, such as acetic acid, propionic acid) esters (vinyl acetate, etc.) of unsaturated alcohols [C2-6, such as vinyl alcohol, (meth) allyl alcohol]. It is done.
Examples of the alkyl ether of the unsaturated alcohol include alkyl (C1-20) ethers of the above unsaturated alcohol (such as methyl vinyl ether and ethyl vinyl ether). Halogen-containing vinyl monomers include C2-12, such as vinyl chloride, vinylidene chloride and chloroprene.

ポリオレフィン樹脂(C2)としては、例えばポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体[共重合比(重量比)=0.1/99.9〜99.9/0.1]、プロピレンおよび/またはエチレンと他のα−オレフィン(C4〜12)の1種以上との共重合体(ランダムおよび/またはブロック付加)[共重合比(重量比)=99/1〜5/95]、エチレン/酢酸ビニル共重合体(EVA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]、エチレン/エチルアクリレート共重合体(EEA)[共重合比(重量比)=95/5〜60/40]が挙げられる。
これらのうち好ましいのは、ポリプロピレン、ポリエチレン、プロピレン−エチレン共重合体、プロピレンおよび/またはエチレンとC4〜12のα−オレフィンの1種以上との共重合体[共重合比(重量比)=90/10〜10/90、ランダムおよび/またはブロック付加]である。
Examples of the polyolefin resin (C2) include polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 0.1 / 99.9 to 99.9 / 0.1], propylene and / or ethylene. And other α-olefin (C4-12) copolymers (random and / or block addition) [copolymerization ratio (weight ratio) = 99 / 1-5 / 95], ethylene / vinyl acetate Copolymer (EVA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40], ethylene / ethyl acrylate copolymer (EEA) [copolymerization ratio (weight ratio) = 95 / 5-60 / 40 ].
Among these, preferred are polypropylene, polyethylene, propylene-ethylene copolymer, propylene and / or a copolymer of ethylene and one or more of C4-12 α-olefin [copolymerization ratio (weight ratio) = 90. / 10 to 10/90, random and / or block addition].

(C2)のメルトフローレート(以下MFRと略記)は、樹脂物性、帯電防止性付与の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6758に準じて(ポリプロピレンの場合:230℃、荷重2.16kgf、ポ
リエチレンの場合:190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(C2)の結晶化度は、帯電防止性の観点から好ましくは0〜98%、さらに好ましくは0〜80%、とくに好ましくは0〜70%である。
結晶化度は、X線回折、赤外線吸収スペクトル等の方法によって測定される〔「高分子の固体構造−高分子実験学講座2」(南篠初五郎)、42頁、共立出版1958年刊参照〕。
The melt flow rate (hereinafter abbreviated as MFR) of (C2) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100 from the viewpoint of imparting resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K6758 (in the case of polypropylene: 230 ° C., load 2.16 kgf, in the case of polyethylene: 190 ° C., load 2.16 kgf).
The crystallinity of (C2) is preferably 0 to 98%, more preferably 0 to 80%, particularly preferably 0 to 70% from the viewpoint of antistatic properties.
The crystallinity is measured by a method such as X-ray diffraction, infrared absorption spectrum, etc. [Refer to “Solid Structure of Polymers—Lecture of Polymer Experiments 2” (Hatsugoro Minamishino), page 42, published by Kyoritsu Shuppan 1958).

ポリアクリル樹脂(C3)としては、例えば前記アクリルモノマー〔アルキル(C1〜20)(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロニトリル等〕の1種以上の(共)重合体[ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸ブチル等]およびこれらのモノマーの1種以上と共重合可能な前記ビニルモノマーの1種以上との共重合体[アクリルモノマー/ビニルモノマー共重合比(重量比)は樹脂物性の観点から好ましくは5/95〜95/5、さらに好ましくは50/50〜90/10][但し、(C2)に含まれるものは除く]が含まれる。   Examples of the polyacrylic resin (C3) include one or more (co) polymers [poly (meth) acrylic acid methyl ester, such as the above-mentioned acrylic monomers [alkyl (C1-20) (meth) acrylate, (meth) acrylonitrile, etc.], Poly (meth) butyl acrylate, etc.] and copolymers with one or more of the above-mentioned vinyl monomers copolymerizable with one or more of these monomers [acrylic monomer / vinyl monomer copolymerization ratio (weight ratio) is a resin physical property In view of the above, preferably 5/95 to 95/5, more preferably 50/50 to 90/10] [however, those included in (C2) are excluded] are included.

(C3)のMFRは、樹脂物性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好まし
くは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じて(ポリア
クリル樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。
The MFR of (C3) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100 from the viewpoint of resin physical properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (230 ° C in the case of polyacrylic resin, load 1.2 kgf).

ポリスチレン樹脂(C4)としては、ビニル基含有芳香族炭化水素単独またはビニル基含有芳香族炭化水素と、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリルおよびブタジエンからなる群から選ばれる少なくとも1種とを構成単位とする共重合体が挙げられる。
ビニル基含有芳香族炭化水素としては、C8〜30の、スチレンおよびその誘導体 、
例えばo−、m−およびp−アルキル(C1〜10)スチレン(ビニルトルエン等)、α−アルキル(C1〜10)スチレン(α−メチルスチレン等)およびハロゲン化スチレン(クロロスチレン等)が挙げられる。
(C4)の具体例としては、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、スチレン/アクリロニトリル共重合体(AS樹脂)[共重合比(重量比)=70/30〜80/20]、スチレン/メタクリル酸メチル共重合体(MS樹脂)[共重合比(重量比)=60/40〜90/10]、スチレン/ブタジエン共重合体[共重合比(重量比)=60/40〜95/5]、アクリロニトリル/ブタジエン/スチレン共重合体(ABS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]、メタクリル酸メチル/ブタジエン/スチレン共重合体(MBS樹脂)[共重合比(重量比)=(20〜30)/(5〜40)/(40〜70)]等が挙げられる。
As the polystyrene resin (C4), a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon alone or a vinyl group-containing aromatic hydrocarbon, and at least one selected from the group consisting of (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile and butadiene Examples thereof include a copolymer as a structural unit.
Examples of vinyl group-containing aromatic hydrocarbons include C8-30 styrene and its derivatives,
For example, o-, m-, and p-alkyl (C1-10) styrene (vinyl toluene, etc.), α-alkyl (C1-10) styrene (α-methylstyrene, etc.) and halogenated styrene (chlorostyrene, etc.) can be mentioned. .
Specific examples of (C4) include polystyrene, polyvinyltoluene, styrene / acrylonitrile copolymer (AS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 70/30 to 80/20], styrene / methyl methacrylate copolymer. (MS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 90/10], styrene / butadiene copolymer [copolymerization ratio (weight ratio) = 60/40 to 95/5], acrylonitrile / butadiene / Styrene copolymer (ABS resin) [copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)], methyl methacrylate / butadiene / styrene copolymer (MBS resin) [Copolymerization ratio (weight ratio) = (20-30) / (5-40) / (40-70)].

(C4)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K6871(1994年)に準じて(ポリスチレン樹脂の場合は230℃、荷重1.2kgf)測定される。   The MFR of (C4) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties. MFR is measured according to JIS K6871 (1994) (230 ° C. in the case of polystyrene resin, load 1.2 kgf).

ポリエステル樹脂(C5)としては、芳香環含有ポリエステル(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレートなど)および脂肪族ポリエステル(ポリブチレンアジペート、ポリエチレンアジペート、ポリ−ε−カプロラクトンなど)が挙げられる。   Examples of the polyester resin (C5) include aromatic ring-containing polyesters (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polycyclohexanedimethylene terephthalate, etc.) and aliphatic polyesters (polybutylene adipate, polyethylene adipate, poly-ε-caprolactone, etc.).

(C5)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。[η]はポリマーの0.5重量%オルトクロロフェノール溶液について、25℃でウベローデ1A粘度計を用いて測定される。   The intrinsic viscosity [η] of (C5) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties. [Η] is measured with a Ubbelohde 1A viscometer at 25 ° C. for a 0.5 wt% orthochlorophenol solution of the polymer.

ポリアミド樹脂(C6)としては、ラクタム開環重合体(C61)、ジアミンとジカルボン酸の脱水重縮合体(C62)、アミノカルボン酸の自己重縮合体(C63)およびこれらの重(縮)合体を構成するモノマー単位が2種類以上である共重合ナイロンなどが挙げられる。   The polyamide resin (C6) includes a lactam ring-opening polymer (C61), a dehydration polycondensation product of diamine and dicarboxylic acid (C62), a self-polycondensation product of aminocarboxylic acid (C63), and a poly (condensation) combination thereof. Examples thereof include copolymer nylon having two or more types of monomer units.

(C61)におけるラクタムとしては、前記(a011)で例示したものが挙げられ、(C61)としては、ナイロン4、−5、−6、−8、−12等が挙げられる。
(C62)におけるジアミンとジカルボン酸としては、前記(a013)、(a014)で例示したものが挙げられ、(C62)としては、ヘキサンメチレンジアミンとアジピン酸の縮重合によるナイロン66、ヘキサメチレンジアミンとセバシン酸の重縮合によるナイロン610等が挙げられる。
(C63)におけるアミノカルボン酸としては、前記(a012)で例示したものが挙げられ、(C63)としては、アミノエナント酸の重縮合によるナイロン7、ω−アミノウンデカン酸の重縮合によるナイロン11、12−アミノドデカン酸の重縮合によるナイロン12等が挙げられる。
Examples of the lactam in (C61) include those exemplified in the above (a011), and examples of (C61) include nylon 4, -5, -6, -8, -12 and the like.
Examples of the diamine and dicarboxylic acid in (C62) include those exemplified in the above (a013) and (a014), and (C62) includes nylon 66, hexamethylenediamine obtained by condensation polymerization of hexanemethylenediamine and adipic acid, and Examples thereof include nylon 610 by polycondensation of sebacic acid.
Examples of the aminocarboxylic acid in (C63) include those exemplified in the above (a012). Examples of (C63) include nylon 7 by polycondensation of aminoenanthic acid, nylon 11 by polycondensation of ω-aminoundecanoic acid, Nylon 12 and the like by polycondensation of 12-aminododecanoic acid.

(C6)の製造に際しては、分子量調整剤を使用してもよく、分子量調整剤としては、
前記(a013)、(a014)で例示したジアミンおよび/またはジカルボン酸が挙げられる。
分子量調整剤としてのジカルボン酸のうち、好ましいのは脂肪族ジカルボン酸、芳香族ジカルボン酸および3−スルホイソフタル酸アルカリ金属塩であり、さらに好ましいのはアジピン酸、セバシン酸、テレフタル酸、イソフタル酸および3−スルホイソフタル酸ナトリウムである。また、分子量調整剤としてのジアミンのうち、好ましいのはヘキサメチレンジアミン、デカメチレンジアミンである。
In the production of (C6), a molecular weight modifier may be used.
Examples thereof include the diamine and / or dicarboxylic acid exemplified in the above (a013) and (a014).
Of the dicarboxylic acids as molecular weight modifiers, preferred are aliphatic dicarboxylic acids, aromatic dicarboxylic acids and alkali metal salts of 3-sulfoisophthalic acid, and more preferred are adipic acid, sebacic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and It is sodium 3-sulfoisophthalate. Of the diamines as molecular weight regulators, hexamethylene diamine and decamethylene diamine are preferable.

(C6)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリアミド樹脂の場合は、230℃、荷重0.325kgf)測定される。
The MFR of (C6) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyamide resin, 230 ° C., load 0.325 kgf).

ポリカーボネート樹脂(C7)としては、ビスフェノール(C12〜20、例えばビスフェノールA、−Fおよび−S、4,4’−ジヒドロキシジフェニル−2,2−ブタン)系およびジヒドロキシビフェニル系ポリカーボネート、例えば上記ビスフェノールとホスゲンまたは炭酸ジエステルとの縮合物が挙げられる。上記ビスフェノールのうち(A)の分散性の観点から好ましいのはビスフェノールAである。
(C7)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリカーボネート樹脂の場合は280℃、荷重2.16kgf)測定される。
Polycarbonate resins (C7) include bisphenols (C12-20, such as bisphenol A, -F and -S, 4,4'-dihydroxydiphenyl-2,2-butane) and dihydroxybiphenyl polycarbonates such as bisphenol and phosgene. Or the condensate with a carbonic acid diester is mentioned. Of the above bisphenols, bisphenol A is preferred from the viewpoint of the dispersibility of (A).
The MFR of (C7) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polycarbonate resin, 280 ° C., load 2.16 kgf).

ポリアセタール樹脂(C8)としては、ホルムアルデヒドまたはトリオキサンのホモポリマー(ポリオキシメチレンホモポリマー)、およびホルムアルデヒドまたはトリオキサンと環状エーテル[前記AO(EO、PO、ジオキソラン等)等]との共重合体(ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレンコポリマー[ポリオキシメチレン/ポリオキシエチレン(重量比)=90/10〜99/1のブロック共重合体等]等が挙げられる。
(C8)のMFRは、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.5〜150、さらに好ましくは1〜100である。MFRは、JIS K7210(1994年)に準じ
て(ポリアセタール樹脂の場合は190℃、荷重2.16kgf)測定される。
(C8)の固有粘度[η]は、樹脂物性、帯電防止性の観点から好ましくは0.1〜4、さらに好ましくは0.2〜3.5、とくに好ましくは0.3〜3である。
Examples of the polyacetal resin (C8) include formaldehyde or trioxane homopolymer (polyoxymethylene homopolymer), and a copolymer of formaldehyde or trioxane and a cyclic ether [the above-mentioned AO (EO, PO, dioxolane, etc.)] (polyoxy). And methylene / polyoxyethylene copolymer [polyoxymethylene / polyoxyethylene (weight ratio) = 90/10 to 99/1 block copolymer, etc.].
The MFR of (C8) is preferably 0.5 to 150, more preferably 1 to 100, from the viewpoint of resin physical properties and antistatic properties. The MFR is measured according to JIS K7210 (1994) (in the case of polyacetal resin, 190 ° C., load 2.16 kgf).
The intrinsic viscosity [η] of (C8) is preferably from 0.1 to 4, more preferably from 0.2 to 3.5, particularly preferably from 0.3 to 3, from the viewpoints of resin physical properties and antistatic properties.

本発明の樹脂組成物には、本発明の効果を阻害しない範囲において、必要により(B)以外の、帯電防止性向上剤(D1)、相溶化剤(D2)、難燃剤(D3)およびその他の樹脂用添加剤(D4)からなる群から選ばれる1種または2種以上の添加剤(D)を含有させてもよい。
帯電防止性向上剤(D1)には、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の塩(D11)、界面活性剤(D12)および/またはイオン性液体(D13)からなる群から選ばれる1種または2種以上が含まれる。
In the resin composition of the present invention, an antistatic property improver (D1), a compatibilizing agent (D2), a flame retardant (D3), and others other than (B) as necessary, as long as the effects of the present invention are not impaired. One or two or more additives (D) selected from the group consisting of the additive for resin (D4) may be contained.
The antistatic property improver (D1) includes one or two selected from the group consisting of an alkali metal or alkaline earth metal salt (D11), a surfactant (D12) and / or an ionic liquid (D13). The above is included.

(D11)としては、前記(B)を除く、アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)および/またはアルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム等)の有機酸(C1〜7のモノ−およびジ−カルボン酸、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、コハク酸;C1〜7のスルホン酸、例えば、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸;チオシアン酸)の塩、および無機酸(ハロゲン化水素酸、例えば塩酸、臭化水素酸;過塩素酸;硫酸;硝酸;リン酸)の塩が使用できる。   As (D11), organic acids (C1-7 mono- and di-carboxylic acids) of alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.) and / or alkaline earth metals (magnesium, calcium, etc.) excluding (B) above Salts of acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, oxalic acid, succinic acid; C1-7 sulfonic acids such as methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid; thiocyanic acid, and inorganic acids (hydrohalic acid, For example, salts of hydrochloric acid, hydrobromic acid; perchloric acid; sulfuric acid; nitric acid; phosphoric acid) can be used.

(D11)の具体例としては、ハライド[フッ化物(フッ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、塩化物(塩化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、臭化物(臭化リチウム、−
ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)およびヨウ化物(ヨウ化リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)等]、過塩素酸塩(過塩素酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、フッ化スルホン酸塩(フルオロスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、メタンスルホン酸塩(メタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリフルオロメタンスルホン酸塩(トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ペンタフルオロエタンスルホン酸塩(ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ノナフルオロブタンスルホン酸塩(ノナフルオロブタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸塩(ウンデカフルオロペンタンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸塩(トリデカフルオロヘキサンスルホン酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、酢酸塩(酢酸リチウム、−ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、硫酸塩(硫酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、燐酸塩(燐酸ナトリウム、−カリウム、−マグネシウムおよび−カルシウム等)、チオシアン酸塩(チオシアン酸カリウム等)等が挙げられる。
これらのうち帯電防止性の観点から好ましいのは、ハライド、過塩素酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸塩、酢酸塩、さらに好ましいのは塩化リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、過塩素酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、−カリウムおよび−ナトリウム、酢酸カリウムである。
Specific examples of (D11) include halides [fluorides (lithium fluoride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), chlorides (lithium chloride, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.) ), Bromide (lithium bromide, −
Sodium, -potassium, -magnesium and -calcium, etc.) and iodide (lithium iodide, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), etc.], perchlorates (lithium perchlorate, -sodium,- Potassium, -magnesium and -calcium, etc.), fluorinated sulfonic acid salts (lithium fluorosulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), methanesulfonate (lithium methanesulfonate, -sodium, -potassium) , -Magnesium and -calcium), trifluoromethanesulfonate (lithium trifluoromethanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium etc.), pentafluoroethanesulfonate (pentafluoroethane) Lithium fonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), nonafluorobutanesulfonate (lithium nonafluorobutanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium and -calcium), undecafluoropentane Sulfonates (lithium undecafluoropentanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), tridecafluorohexanesulfonate (lithium tridecafluorohexanesulfonate, -sodium, -potassium, -magnesium) And -calcium, etc.), acetates (lithium acetate, -sodium, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.), sulfates (sodium sulfate, -potassium, -magnesium, -calcium, etc.) Phosphate (sodium phosphate, - potassium - magnesium and - calcium, etc.), and the like thiocyanates (potassium thiocyanate, etc.).
Of these, from the viewpoint of antistatic properties, preferred are halides, perchlorates, trifluoromethanesulfonates, acetates, and more preferred are lithium chloride, -potassium and -sodium, lithium perchlorate, -potassium and -Sodium, lithium trifluoromethanesulfonate,-potassium and-sodium, potassium acetate.

(D11)の使用量は、樹脂表面に析出せず良好な外観の樹脂成形品を与える観点から、(A)、(B)、(C)の合計重量に基づいて、好ましくは0.001〜3%、さらに好ましくは0.01〜2.5%、特に好ましくは0.1〜2%、最も好ましくは0.15〜1%である。
(D11)を添加する方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散のさせ易さから、親水性ポリマー(A)中に予め分散させておくことが好ましい。
また、(A)中へ(D11)を分散させる場合、(A)の製造(重合)時に予め(D11)を添加し分散させておくのが特に好ましい。(D11)を(A)の製造時に添加するタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよい。
The use amount of (D11) is preferably 0.001 to 0.001 based on the total weight of (A), (B), and (C) from the viewpoint of giving a resin molded article having a good appearance without precipitating on the resin surface. It is 3%, more preferably 0.01 to 2.5%, particularly preferably 0.1 to 2%, and most preferably 0.15 to 1%.
The method of adding (D11) is not particularly limited, but it is preferable to disperse it in advance in the hydrophilic polymer (A) because it is easy to effectively disperse it in the composition.
When (D11) is dispersed in (A), it is particularly preferable to add (D11) in advance during the production (polymerization) of (A). The timing for adding (D11) during the production of (A) is not particularly limited, and may be any before, during or after polymerization.

界面活性剤(D12)としては、前記(B)を除く、非イオン性、アニオン性、カチオン性および両性の界面活性剤、並びにこれらの混合物が挙げられる。
非イオン性界面活性剤としては、例えばEO付加型非イオン性界面活性剤[例えば高
級アルコール(C8〜18、以下同じ)、高級脂肪酸(C8〜24、以下同じ)または高級アルキルアミン(C8〜24)のEO付加物(分子量158以上かつMn200,000以下);グリコールのEO付加物であるポリアルキレングリコール(分子量150以上かつMn6,000以下)の高級脂肪酸エステル;多価アルコール(C2〜18の2価〜8価またはそれ以上、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ペンタエリスリトールおよびソルビタン)高級脂肪酸エステルのEO付加物(分子量250以上かつMn30,000以下);高級脂肪酸アミドのEO付加物(分子量200以上かつMn30,000以下);および多価アルコール(前記のもの)アルキル(C3〜60)エーテルのEO付加物(分子量120以上かつMn30,000以下)]、および多価アルコ−ル(C3〜60)型非イオン性界面活性剤[例えば多価アルコールの脂肪酸(C3〜60)エステル、多価アルコールのアルキル(C3〜60)エーテルおよび脂肪酸(C3〜60)アルカノールアミド]が挙げられる。
Examples of the surfactant (D12) include nonionic, anionic, cationic and amphoteric surfactants excluding (B), and mixtures thereof.
Nonionic surfactants include, for example, EO addition type nonionic surfactants [for example, higher alcohol (C8-18, the same hereinafter), higher fatty acid (C8-24, same hereinafter) or higher alkylamine (C8-24). ) EO adduct (molecular weight 158 or more and Mn 200,000 or less); higher fatty acid ester of polyalkylene glycol (molecular weight 150 or more and Mn 6,000 or less) which is an EO adduct of glycol; polyhydric alcohol (C2-18) EO adduct of higher fatty acid ester (molecular weight of 250 or more and Mn of 30,000 or less); EO adduct of higher fatty acid amide (molecular weight 200) And Mn 30,000 or less); And polyhydric alcohol (as described above) EO adduct of alkyl (C3-60) ether (molecular weight of 120 or more and Mn30,000 or less)], and polyhydric alcohol (C3-60) type nonionic surfactant [For example, fatty acid (C3-60) ester of polyhydric alcohol, alkyl (C3-60) ether of polyhydric alcohol and fatty acid (C3-60) alkanolamide].

アニオン性界面活性剤としては、前記(B1)および(D11)を除くもので、前記(B1)のうち、疎水基部分が直鎖ではないものが挙げられ、例えば、分岐ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、分岐ドデシルスルホン酸ナトリウム等が挙げられる。   Examples of the anionic surfactant are those excluding the (B1) and (D11), and among the (B1), those in which the hydrophobic group portion is not linear are exemplified. For example, branched sodium dodecylbenzenesulfonate, Examples include branched sodium dodecyl sulfonate.

カチオン性界面活性剤としては、前記(B2)を除くもので、前記(B2)のうち、疎水基部分が直鎖ではないものが挙げられる。   Examples of the cationic surfactant include those excluding the above (B2), and among the above (B2), those in which the hydrophobic group portion is not linear.

両性界面活性剤としては、前記(B3)を除くもので、前記(B3)のうち、疎水基部分が直鎖ではないものが挙げられる。   Examples of the amphoteric surfactant are those excluding the above (B3), and among the above (B3), those in which the hydrophobic group portion is not linear are exemplified.

上記のアニオン性および両性界面活性剤における塩には、金属塩、例えばアルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)、アルカリ土類金属(カルシウム、マグネシウム等)およびIIB族金属(亜鉛等)の塩;アンモニウム塩;並びに、アミン塩[アルキルアミン(C1〜720)塩およびアルカノールアミン(C2〜12、例えばモノ−、ジ−およびトリエタノールアミン)塩等]および4級アンモニウム塩が含まれる。   Salts in the above anionic and amphoteric surfactants include metal salts, such as salts of alkali metals (lithium, sodium, potassium, etc.), alkaline earth metals (calcium, magnesium, etc.) and group IIB metals (zinc, etc.); And ammonium salts [alkylamine (C1-720) salts and alkanolamine (C2-12, such as mono-, di- and triethanolamine) salts] and quaternary ammonium salts.

(D12)の使用量は、(A)、(B)、(C)の合計重量に基づいて、好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%、特に好ましくは0.1〜2.5%である。
(D12)を添加する方法についても特に限定はないが、樹脂組成物中へ効果的に分散させるためには、(A)中に予め分散させておくことが好ましい。また、(A)中へ(D12)を分散させる場合、(A)の製造(重合)時に該(D12)を予め添加し分散させておくのが特に好ましい。(D12)を(A)の製造時に添加するタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合後の何れでもよい。
The amount of (D12) used is preferably 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%, and particularly preferably 0.001% based on the total weight of (A), (B) and (C). 1 to 2.5%.
The method of adding (D12) is also not particularly limited, but it is preferable to disperse in (A) in advance in order to effectively disperse it in the resin composition. Further, when (D12) is dispersed in (A), it is particularly preferable to add (D12) in advance during the production (polymerization) of (A). The timing for adding (D12) during the production of (A) is not particularly limited, and may be any before, during or after polymerization.

イオン性液体(D13)は、上記(D11)および(D12)を除く化合物で、室温以下の融点を有し、(D13)を構成するカチオンまたはアニオンのうち少なくとも一つが有機物イオンで、初期電導度が1〜200ms/cm(好ましくは10〜200ms/cm)である常温溶融塩であって、例えばWO95/15572公報に記載の常温溶融塩が挙げられる。(D13)を構成するカチオンとしては、例えばアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンが挙げられる。   The ionic liquid (D13) is a compound other than the above (D11) and (D12), has a melting point of room temperature or lower, and at least one of cations or anions constituting (D13) is an organic ion, and has an initial conductivity. Is a room temperature molten salt of 1 to 200 ms / cm (preferably 10 to 200 ms / cm), for example, a room temperature molten salt described in WO95 / 15572. Examples of the cation constituting (D13) include an amidinium cation, a guanidinium cation, and a tertiary ammonium cation.

アミジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウムカチオン[1,2,3,4−テトラメチルイミダゾリニウム、1,3,4−トリメチル−2−エチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチルイミダゾリニウム、1,3−ジメチル−2,4−ジエチルイミダゾリニウムなど]、イミダゾリウムカチオン[1,3−ジメチルイミダゾリウム、1,3−ジエチルイミダゾリウム、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム、1,2,3−トリメチルイミダゾリウムなど]、テトラヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1
,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、1,2,3,5−テトラメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウムなど]、およびジヒドロピリミジニウムカチオン[1,3−ジメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、1,2,3,4−テトラメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウムなど]が挙げられる。
Examples of the amidinium cation include imidazolinium cation [1,2,3,4-tetramethylimidazolinium, 1,3,4-trimethyl-2-ethylimidazolinium, 1,3-dimethylimidazolinium. 1,3-dimethyl-2,4-diethylimidazolinium, etc.], imidazolium cation [1,3-dimethylimidazolium, 1,3-diethylimidazolium, 1-ethyl-3-methylimidazolium, 1, 2,3-trimethylimidazolium, etc.], tetrahydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1
, 4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4,5 6-tetrahydropyrimidinium, 1,2,3,5-tetramethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and dihydropyrimidinium cation [1,3-dimethyl-1,4- Or 1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 1,2,3,4-tetramethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium and the like].

グアニジニウムカチオンとしては、例えばイミダゾリニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエ
チルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリニウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジ
エチルイミダゾリニウムなど]、イミダゾリウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチルイミダゾリウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチルイミダゾリウム、2−ジメチルアミノ−1−メチル−3,4−ジエチルイミダゾリウムなど]、テトラヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4,5,6−テトラヒドロピリミジニウムなど]、およびジヒドロピリミジニウム骨格を有するグアニジニウムカチオン[2−ジメチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3,4−トリメチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウム、2−ジエチルアミノ−1,3−ジメチル−4−エチル−1,4−もしくは−1,6−ジヒドロピリミジニウムなど]が挙げられる。
Examples of the guanidinium cation include a guanidinium cation having an imidazolinium skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolinium, 2-dimethylamino-1-methyl-3,4-diethylimidazolinium, etc.], guanidinium cation having an imidazolium skeleton [2-dimethyl Amino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethylimidazolium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethylimidazolium, 2-dimethylamino-1-methyl -3,4-diethylimidazolium, etc.], tetrahydropyrimidi Guanidinium cation having a skeleton [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4 , 5,6-tetrahydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4,5,6-tetrahydropyrimidinium, etc.], and guanidinium having a dihydropyrimidinium skeleton Cation [2-dimethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3,4-trimethyl-1,4- or -1, 6-dihydropyrimidinium, 2-diethylamino-1,3-dimethyl-4-ethyl-1,4- or -1,6-dihydropyrimidinium Etc.], and the like.

3級アンモニウムカチオンとしては、例えばメチルジラウリルアンモニウムが挙げられる。   Examples of the tertiary ammonium cation include methyl dilauryl ammonium.

上記のアミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンは1種単独でも、また2種以上を併用してもいずれでもよい。
これらのうち、初期電導度の観点から好ましいのはアミジニウムカチオン、さらに好ましいのはイミダゾリウムカチオン、特に好ましいのは1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。
The amidinium cation, guanidinium cation and tertiary ammonium cation may be used alone or in combination of two or more.
Of these, from the viewpoint of initial conductivity, an amidinium cation is preferable, an imidazolium cation is more preferable, and a 1-ethyl-3-methylimidazolium cation is particularly preferable.

イオン性液体(D13)において、アニオンを構成する有機酸または無機酸としては下記のものが挙げられる。
有機酸としては、例えばカルボン酸、硫酸エステル、高級アルキルエーテル硫酸エステル、スルホン酸およびリン酸エステルが挙げられる。
無機酸としては、例えば超強酸(例えばホウフッ素酸、四フッ化ホウ素酸、過塩素酸、六フッ化リン酸、六フッ化アンチモン酸および六フッ化ヒ素酸)、リン酸およびホウ酸が挙げられる。
上記有機酸および無機酸は1種単独でも2種以上の併用でもいずれでもよい。
上記有機酸および無機酸のうち、(D13)の初期電導度の観点から好ましいのは(D13)を構成するアニオンのHamett酸度関数(−H0)が12〜100である、超
強酸の共役塩基、超強酸の共役塩基以外のアニオンを形成する酸およびこれらの混合物である。
In the ionic liquid (D13), examples of the organic acid or inorganic acid constituting the anion include the following.
Examples of the organic acid include carboxylic acid, sulfate ester, higher alkyl ether sulfate ester, sulfonic acid and phosphate ester.
Examples of the inorganic acid include super strong acids (for example, borofluoric acid, tetrafluoroboric acid, perchloric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluoroantimonic acid and hexafluoroarsenic acid), phosphoric acid and boric acid. It is done.
The organic acid and inorganic acid may be used alone or in combination of two or more.
Among the organic and inorganic acids, Hamett acidity function initial conductivity standpoint preferred from of the anion constituting the (D13) of (D13) (-H 0) is 12 to 100, the superacid conjugate base , Acids that form anions other than the conjugate bases of super strong acids, and mixtures thereof.

超強酸の共役塩基以外のアニオンとしては、例えばハロゲン(例えばフッ素、塩素および臭素)イオン、アルキル(C1〜12)ベンゼンスルホン酸(例えばp−トルエンスルホン酸およびドデシルベンゼンスルホン酸)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(例えばウンデカフルオロペンタンスルホン酸)イオンが挙げられる。   Examples of the anion other than the conjugate base of the super strong acid include halogen (for example, fluorine, chlorine and bromine) ions, alkyl (C1-12) benzenesulfonic acid (for example, p-toluenesulfonic acid and dodecylbenzenesulfonic acid) ions and poly (n = 1-25) Fluoroalkanesulfonic acid (for example, undecafluoropentanesulfonic acid) ion.

超強酸としては、プロトン酸およびプロトン酸とルイス酸との組み合わせから誘導されるもの、およびこれらの混合物が挙げられる。
超強酸としてのプロトン酸としては、例えばビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド酸、ビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸、トリス(トリフルオロメチルスルホニル)メタン、過塩素酸、フルオロスルホン酸、アルカン(C1〜30)スルホン酸[例えばメタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸など)、ポリ(n=1〜30)フルオロアルカン(C1〜30)スルホン酸(例えばトリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸、ノナフルオロブタンス
ルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸およびトリデカフルオロヘキサンスルホン酸)、ホウフッ素酸および四フッ化ホウ素酸が挙げられる。
これらのうち合成の容易さの観点から好ましいのはホウフッ素酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびビス(ペンタフルオロエチルスルホニル)イミド酸である。
Super strong acids include those derived from protonic acids and combinations of protonic acids and Lewis acids, and mixtures thereof.
Examples of the protonic acid as the super strong acid include bis (trifluoromethylsulfonyl) imidic acid, bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid, tris (trifluoromethylsulfonyl) methane, perchloric acid, fluorosulfonic acid, alkane (C1 -30) sulfonic acid [eg methane sulfonic acid, dodecane sulfonic acid etc.], poly (n = 1-30) fluoroalkane (C1-30) sulfonic acid (eg trifluoromethane sulfonic acid, pentafluoroethane sulfonic acid, heptafluoropropane) Sulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid and tridecafluorohexanesulfonic acid), borofluoric acid and tetrafluoroboric acid.
Of these, borofluoric acid, trifluoromethanesulfonic acid and bis (pentafluoroethylsulfonyl) imidic acid are preferred from the viewpoint of ease of synthesis.

ルイス酸と組合せて用いられるプロトン酸としては、例えばハロゲン化水素(例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素)、過塩素酸、フルオロスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ペンタフルオロエタンスルホン酸、ノナフルオロブタンスルホン酸、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸およびこれらの混合物が挙げられる。
これらのうち(F3)の初期電導度の観点から好ましいのはフッ化水素である。
Examples of the protonic acid used in combination with the Lewis acid include hydrogen halides (for example, hydrogen fluoride, hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide), perchloric acid, fluorosulfonic acid, methanesulfonic acid, and trifluoromethanesulfonic acid. , Pentafluoroethanesulfonic acid, nonafluorobutanesulfonic acid, undecafluoropentanesulfonic acid, tridecafluorohexanesulfonic acid and mixtures thereof.
Of these, hydrogen fluoride is preferred from the viewpoint of the initial conductivity of (F3).

ルイス酸としては、例えば三フッ化ホウ素、五フッ化リン、五フッ化アンチモン、五フッ化ヒ素、五フッ化タンタルおよびこれらの混合物が挙げられる。これらのうちで、(D13)の初期電導度の観点から好ましいのは三フッ化ホウ素および五フッ化リンである。
プロトン酸とルイス酸の組み合わせは任意であるが、これらの組み合わせからなる超強酸としては、例えばテトラフルオロホウ酸、ヘキサフルオロリン酸、六フッ化タンタル酸、六フッ化アンチモン酸、六フッ化タンタルスルホン酸、四フッ化ホウ素酸、六フッ化リン酸、塩化三フッ化ホウ素酸、六フッ化ヒ素酸およびこれらの混合物が挙げられる。
Examples of the Lewis acid include boron trifluoride, phosphorus pentafluoride, antimony pentafluoride, arsenic pentafluoride, tantalum pentafluoride, and mixtures thereof. Of these, boron trifluoride and phosphorus pentafluoride are preferable from the viewpoint of the initial conductivity of (D13).
The combination of the protonic acid and the Lewis acid is arbitrary, but as the super strong acid comprising these combinations, for example, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, hexafluorotantalic acid, hexafluoroantimonic acid, tantalum hexafluoride Examples include sulfonic acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, chloroboron trifluoride, arsenic hexafluoride, and mixtures thereof.

上記のアニオンのうち、(D13)の初期電導度の観点から好ましいのは超強酸の共役塩基(プロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸とルイス酸との組合せからなる超強酸)、さらに好ましいのはプロトン酸からなる超強酸およびプロトン酸と、三フッ化ホウ素および/または五フッ化リンとからなる超強酸の共役塩基である。   Of the above anions, (D13) from the viewpoint of the initial conductivity, a super strong acid conjugate base (a super strong acid comprising a proton acid and a super strong acid comprising a combination of a proton acid and a Lewis acid), more preferably It is a conjugate base of a super strong acid consisting of a super strong acid consisting of a proton acid and a proton acid and boron trifluoride and / or phosphorus pentafluoride.

(D13)の使用量は、(A)、(B)、(C)の合計重量に基づいて、通常10%以下、成形品の良好な外観と帯電防止効果、および機械特性の観点から好ましくは0.001〜5%、さらに好ましくは0.01〜3%である。
(D13)を添加する方法についても特に限定はないが、樹脂中への効果的な分散の観点から、(A)中に予め分散させておくことが好ましく、(A)の製造(重合)後に(D13)を予め添加し分散させておくのがさらに好ましい。
The amount of (D13) used is usually 10% or less based on the total weight of (A), (B) and (C), preferably from the viewpoint of good appearance and antistatic effect of the molded product, and mechanical properties. 0.001 to 5%, more preferably 0.01 to 3%.
The method for adding (D13) is not particularly limited, but from the viewpoint of effective dispersion in the resin, it is preferably preliminarily dispersed in (A), and after the production (polymerization) of (A). More preferably, (D13) is added and dispersed in advance.

(D13)の製造法としては、例えばジメチルカーボネート等で4級化して得られるアミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンのジメチルカーボネート塩に、酸[(D13)においてアニオンを構成する前記の有機酸または無機酸]を加えて酸交換を行う方法、または、アミジニウムカチオンおよび/またはグアニジニウムカチオンを一旦加水分解してモノアミドアミンを生成した後、そのモノアミドアミンを酸(前記に同じ)で中和する方法が挙げられる。   The production method of (D13) is, for example, an amidatenium cation and / or a dimethyl carbonate salt of a guanidinium cation obtained by quaternization with dimethyl carbonate or the like, and an acid [(D13) above, which constitutes an anion. Acid or inorganic acid] to perform acid exchange, or after amidinium cation and / or guanidinium cation is hydrolyzed to form monoamidoamine, the monoamidoamine is converted to acid (same as above) The method of neutralizing with is mentioned.

相溶化剤(D2)としては、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、ヒドロキシル基およびポリオキシアルキレン基からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基(極性基)を有する変性ビニル重合体等が使用でき、例えば、特開平3−258850号公報に記載の重合体が挙げられる。また、例えば、特開平6−345927号公報に記載のスルホニル基を有する変性ビニル重合体、ポリオレフィン部分と芳香族ビニル重合体部分とを有するブロック重合体等も使用できる。
(D2)の使用量は、(A)、(B)、(C)の合計重量に基づいて通常20%以下、相溶化効果および成形品の機械物性の観点から、好ましくは0.1〜15%、さらに好ましくは1〜10%、特に好ましくは1.5〜8%である。
(D2)を添加する方法については特に限定はないが、組成物中への効果的な分散もしくは溶解のさせ易さから、親水性ポリマー(A)中に予め分散させておくことが好ましい

また、(A)中へ(D2)を分散もしくは溶解させる場合、(A)の製造(重合)時に予め(D2)を添加しておくのが特に好ましい。(D2)を(A)の製造時に添加するタイミングは特に制限なく、重合前、重合中および重合後のいずれでもよい。
As the compatibilizing agent (D2), a modified vinyl polymer having at least one functional group (polar group) selected from the group consisting of a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group and a polyoxyalkylene group is used. Examples thereof include polymers described in JP-A-3-258850. Further, for example, a modified vinyl polymer having a sulfonyl group described in JP-A-6-345927, a block polymer having a polyolefin portion and an aromatic vinyl polymer portion, and the like can be used.
The amount of (D2) used is usually 20% or less based on the total weight of (A), (B) and (C), preferably from 0.1 to 15 from the viewpoint of the compatibilizing effect and the mechanical properties of the molded product. %, More preferably 1 to 10%, particularly preferably 1.5 to 8%.
The method for adding (D2) is not particularly limited, but it is preferable to disperse it in advance in the hydrophilic polymer (A) from the viewpoint of ease of effective dispersion or dissolution in the composition.
When (D2) is dispersed or dissolved in (A), it is particularly preferable to add (D2) in advance during the production (polymerization) of (A). The timing for adding (D2) during the production of (A) is not particularly limited, and may be any before, during or after polymerization.

難燃剤(D3)には、ハロゲン含有難燃剤(D31)、窒素含有難燃剤(D32)、硫黄含有難燃剤(D33)、珪素含有難燃剤(D34)およびリン含有難燃剤(D35)からなる群から選ばれる1種または2種以上の難燃剤が含まれる。   The flame retardant (D3) includes a halogen-containing flame retardant (D31), a nitrogen-containing flame retardant (D32), a sulfur-containing flame retardant (D33), a silicon-containing flame retardant (D34), and a phosphorus-containing flame retardant (D35). 1 type or 2 types or more of flame retardants chosen from these are included.

ハロゲン含有難燃剤(D31)としては、ヘキサクロロペンタジエン、ヘキサブロモジフェニル、オクタブロモジフェニルオキシド、トリブロモフェノキシメタン、デカブロモジフェニル、デカブロモジフェニルオキシド、テトラブロモビスフェノールA、テトラブルモフタルイミド、ヘキサブロモブテン、ヘキサブロモシクロドデカン等;   Examples of the halogen-containing flame retardant (D31) include hexachloropentadiene, hexabromodiphenyl, octabromodiphenyl oxide, tribromophenoxymethane, decabromodiphenyl, decabromodiphenyl oxide, tetrabromobisphenol A, tetromophthalimide, hexabromobutene, Hexabromocyclododecane, etc .;

窒素含有難燃剤(D32)としては、尿素化合物、グアニジン化合物またはトリアジン化合物(メラミン、グアナミン等)と、シアヌール酸またはイソシアヌル酸との塩等;
硫黄含有難燃剤(D33)としては、硫酸エステル、有機スルホン酸、スルファミン酸、有機スルファミン酸、およびそれらの、塩、エステルおよびアミド等;
珪素含有難燃剤(D34)としては、ポリオルガノシロキサン等;
Examples of the nitrogen-containing flame retardant (D32) include a salt of urea compound, guanidine compound or triazine compound (melamine, guanamine, etc.) and cyanuric acid or isocyanuric acid;
Examples of the sulfur-containing flame retardant (D33) include sulfate ester, organic sulfonic acid, sulfamic acid, organic sulfamic acid, and salts, esters and amides thereof;
Examples of the silicon-containing flame retardant (D34) include polyorganosiloxane;

リン含有難燃剤(D35)としては、リン含有の酸およびそのエステル(C2〜20)、例えばリン酸、ホスフェート、ハロゲン含有ホスフェート、亜リン酸、ホスホネート、およびリン酸アンモニウム塩等が挙げられる。 Examples of the phosphorus-containing flame retardant (D35) include phosphorus-containing acids and esters thereof (C2-20) such as phosphoric acid, phosphate, halogen-containing phosphate, phosphorous acid, phosphonate, and ammonium phosphate.

上記ホスフェートとしては、ホスフェートおよび縮合ホスフェート(ジ−およびポリホスフェート)が挙げられる。
ホスフェートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスフェート[トリメチル−、トリエチル−、トリブチル−およびトリオクチルホスフェート等]、トリアルコキシ(アルコキシ基はC1〜6)ホスフェート[トリエトキシ−およびトリブトキシホスフェート等]、トリアリールホスフェート[トリフェニルホスフェート等]、アルキル(アルキル基はC1〜10)アリールホスフェート[トリクレジル−、クレジルジフェニル−、オクチルジフェニル−、ジイソプロピルフェニル−およびレゾルシノール−ビス(ジ−2,6−ジメチルフェニル)ホスフェート等]等が挙げられる。
Examples of the phosphate include phosphates and condensed phosphates (di- and polyphosphates).
Examples of the phosphate include trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphate [trimethyl-, triethyl-, tributyl- and trioctylphosphate etc.], trialkoxy (alkoxy group is C1-6) phosphate [triethoxy- and tributoxyphosphate etc. ], Triaryl phosphate [triphenyl phosphate and the like], alkyl (alkyl group is C1-10) aryl phosphate [tricresyl-, cresyldiphenyl-, octyldiphenyl-, diisopropylphenyl- and resorcinol-bis (di-2,6- Dimethylphenyl) phosphate, etc.].

縮合ホスフェートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスフェート、フェニルレゾルシンポリ(n=2〜30)ホスフェート、レゾルシンポリ(n=2〜30)ホスフェート[レゾルシンビスホスフェート、クレジルレゾルシンポリホスフェート等]、ヒドロキノンポリ(n=2〜30)ホスフェート[ヒドロキノンビスホスフェート、ヒドロキノンポリホスフェート等]、ビスフェノールAビスホスフェート、トリオキシベンゼントリホスフェート等が挙げられる。   Examples of the condensed phosphate include trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2-30) phosphate, phenyl resorcinol poly (n = 2-30) phosphate, resorcinol poly (n = 2-30) phosphate [resorcin bis. Phosphate, cresyl resorcinol polyphosphate, etc.], hydroquinone poly (n = 2-30) phosphate [hydroquinone bisphosphate, hydroquinone polyphosphate, etc.], bisphenol A bisphosphate, trioxybenzene triphosphate and the like.

上記含ハロゲンホスフェートとしては、トリスハロゲン化アルキル(アルキル基はC2〜4)ホスフェート[トリスクロロエチルホスフェート、トリスジクロロプロピルホスフェート、トリス−β−クロロプロピルホスフェート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスフェート等]、トリスハロゲン化アリールホスフェート[トリス(トリブロモフェニル)ホスフェート、トリス(ジブロモフェニル)ホスフェート等]等が挙げられる。   Examples of the halogen-containing phosphate include tris halogenated alkyl (alkyl group is C2-4) phosphate [trischloroethyl phosphate, trisdichloropropyl phosphate, tris-β-chloropropyl phosphate, tris (tribromoneopentyl) phosphate, etc.], And tris-halogenated aryl phosphate [tris (tribromophenyl) phosphate, tris (dibromophenyl) phosphate, etc.].

上記ホスホネートとしては、ホスホネートおよび縮合ホスホネートが挙げられる。
ホスホネートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ホスホネート[トリメチルホスホネート、トリエチルホスホネート、トリブチルホスホネート、トリオクチル
ホスホネート等]、トリアルコキシ(アルコキシ基はC1〜6)ホスホネート[トリエトキシホスホネート、トリブトキシホスホネート等]、トリアリールホスホネート[トリフェニルホスホネートなど]、アルキル(アルキル基はC1〜10)アリールホスホネート[トリクレジルホスホネート、クレジルジフェニルホスホネート、オクチルジフェニルホスホネート、ジイソプロピルフェニルホスホネート、レゾルシノール−ビス(ジ−2,6−ジメチルフェニル)ホスホネート等]等が挙げられる。
Examples of the phosphonate include phosphonates and condensed phosphonates.
As phosphonates, trialkyl (alkyl group is C1-12) phosphonate [trimethylphosphonate, triethylphosphonate, tributylphosphonate, trioctylphosphonate, etc.], trialkoxy (alkoxy group is C1-6) phosphonate [triethoxyphosphonate, tributoxyphosphonate Etc.], triaryl phosphonate [triphenyl phosphonate etc.], alkyl (alkyl group is C1-10) aryl phosphonate [tricresyl phosphonate, cresyl diphenyl phosphonate, octyl diphenyl phosphonate, diisopropyl phenyl phosphonate, resorcinol-bis (di-2) , 6-dimethylphenyl) phosphonate and the like.

縮合ホスホネートとしては、トリアルキル(アルキル基はC1〜12)ポリ(n=2〜30)ホスホネート、フェニルレゾルシンポリ(n=2〜30)ホスホネート、レゾルシンポリ(n=2〜30)ホスホネート[レゾルシンビスホスフェート、クレジルレゾルシンポリホスホネート等]、ヒドロキノンポリ(n=2〜30)ホスホネート[ヒドロキノンビスホスホネート、ヒドロキノンポリホスホネート等]、ビスフェノールAビスホスホネート、トリオキシベンゼントリホスホネート等が挙げられる。   As the condensed phosphonate, trialkyl (alkyl group is C1-12) poly (n = 2 to 30) phosphonate, phenyl resorcinol poly (n = 2 to 30) phosphonate, resorcinol poly (n = 2 to 30) phosphonate [resorcinbis Phosphate, cresyl resorcinol polyphosphonate, etc.], hydroquinone poly (n = 2-30) phosphonate [hydroquinone bisphosphonate, hydroquinone polyphosphonate, etc.], bisphenol A bisphosphonate, trioxybenzene triphosphonate and the like.

上記含ハロゲンホスホネートとしては、トリスハロゲン化アルキル(アルキル基はC2〜4)ホスホネート[トリスクロロエチルホスホネート、トリスジクロロプロピルホスホネート、トリス−β−クロロプロピルホスホネート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスホネート等]、トリスハロゲン化アリールホスホネート[トリス(トリブロモフェニル)ホスホネート、トリス(ジブロモフェニル)ホスホネート等]等が挙げられる。   Examples of the halogen-containing phosphonate include tris halogenated alkyl (alkyl group is C2-4) phosphonate [trischloroethyl phosphonate, tris dichloropropyl phosphonate, tris-β-chloropropyl phosphonate, tris (tribromoneopentyl) phosphonate, etc.], And tris-halogenated aryl phosphonate [tris (tribromophenyl) phosphonate, tris (dibromophenyl) phosphonate, etc.].

上記リン酸アンモニウム塩としては通常難燃剤用に市販されているものを用いることができる。これらは、必要に応じてメラミン化合物(例えばメラミン単体)、ペンタエリスリトール化合物(例えばペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール)、アミド(例えばナイロン6、ナイロン66)等を併用してもよい。   As said ammonium phosphate, what is marketed normally for flame retardants can be used. These may be used in combination with a melamine compound (for example, melamine alone), a pentaerythritol compound (for example, pentaerythritol, dipentaerythritol), an amide (for example, nylon 6, nylon 66) or the like, if necessary.

これらの難燃剤は、必要に応じて難燃助剤[ドリップ防止剤(例えばポリテトラフルオロエチレン)、金属酸化物(例えば酸化亜鉛)等]を併用してもよい。   These flame retardants may be used in combination with a flame retardant aid [anti-drip agent (for example, polytetrafluoroethylene), metal oxide (for example, zinc oxide), etc.] as necessary.

これらの難燃剤のうち難燃性、および焼却時におけるダイオキシン発生等の環境汚染がないとの観点から好ましいのは(D32)である。   Of these flame retardants, (D32) is preferable from the viewpoint of flame retardancy and the absence of environmental pollution such as dioxin generation during incineration.

(D3)の合計使用量は、(A)、(B)、(C)の合計重量に基づいて通常30%以下、成形品の難燃性および機械物性の観点から好ましくは0.1〜20%、さらに好ましくは1〜10%である。   The total amount of (D3) used is usually 30% or less based on the total weight of (A), (B) and (C), preferably from 0.1 to 20 from the viewpoint of flame retardancy and mechanical properties of the molded product. %, More preferably 1 to 10%.

また、本発明の樹脂組成物には、種々の用途に応じ、本発明の効果を阻害しない範囲でその他の樹脂用添加剤(D4)を任意に添加することができる。
(D4)としては、顔料、染料、核剤、滑剤、可塑剤、離型剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤および抗菌剤からなる群から選ばれる1種または2種以上の添加剤が挙げられる。
Moreover, according to various uses, the other resin additive (D4) can be arbitrarily added to the resin composition of this invention in the range which does not inhibit the effect of this invention.
(D4) includes one or more additives selected from the group consisting of pigments, dyes, nucleating agents, lubricants, plasticizers, mold release agents, antioxidants, ultraviolet absorbers and antibacterial agents. .

顔料としては、無機顔料[白色顔料(酸化チタン、リトポン、鉛白、亜鉛華等)、コバルト化合物(オーレオリン、コバルトグリーン等)、鉄化合物(酸化鉄、紺青等)、クロム化合物(酸化クロム、クロム酸鉛等)および硫化物(硫化カドミウム、ウルトラマリン等)等]、有機顔料[アゾ顔料(アゾレーキ系、モノアゾ系、ジスアゾ系、キレートアゾ系等)、多環式顔料(ベンゾイミダゾロン系、フタロシアニン系、イソインドリノン系、アンスラキノン系等);染料としては、アゾ系、インジゴイド系、硫化系、アリザリン系、アクリジン系、チアゾール系、ニトロ系、アニリン系等;
核剤としては、有機核剤[1,3,2,4−ジ−ベンジリデン−ソルビトール、アルミニウム−モノ−ヒドロキシ−ジ−p−t−ブチルベンゾエート、安息香酸ナトリウム等]および無機核剤[グラファイト、カーボンブラック、酸化マグネシウム、タルク、カオリン
、炭酸カルシウム、アルミナ、硫酸カルシウム等];
滑剤としては、ワックス(カルナバロウワックス、パラフィンワックス、ポリオレフィンワックス等)、高級脂肪酸(C8〜24、例えばステアリン酸、オレイン酸)、高級アルコール(C8〜18、例えばステアリルアルコール、ラウリルアルコール)および高級脂肪酸アミド(C8〜24、例えばステアリン酸アミド、オレイン酸アミド)等;
Examples of pigments include inorganic pigments [white pigments (titanium oxide, lithopone, lead white, zinc white, etc.), cobalt compounds (aureolin, cobalt green, etc.), iron compounds (iron oxide, bitumen, etc.), chromium compounds (chromium oxide, chromium, etc.) Lead acid, etc.) and sulfides (cadmium sulfide, ultramarine, etc.)], organic pigments [azo pigments (azo lakes, monoazos, disazos, chelate azos, etc.), polycyclic pigments (benzoimidazolones, phthalocyanines) Examples of the dye include azo, indigoid, sulfide, alizarin, acridine, thiazole, nitro, and aniline.
Examples of nucleating agents include organic nucleating agents [1,3,2,4-di-benzylidene-sorbitol, aluminum-mono-hydroxy-di-pt-butylbenzoate, sodium benzoate, etc.] and inorganic nucleating agents [graphite, Carbon black, magnesium oxide, talc, kaolin, calcium carbonate, alumina, calcium sulfate, etc.];
Examples of lubricants include waxes (carnauba wax, paraffin wax, polyolefin wax, etc.), higher fatty acids (C8-24, such as stearic acid, oleic acid), higher alcohols (C8-18, such as stearyl alcohol, lauryl alcohol) and higher fatty acid amides. (C8-24, such as stearamide, oleamide) and the like;

可塑剤としては、芳香族カルボン酸エステル[フタル酸エステル(ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート等)等]、脂肪族モノカルボン酸エステル[メチルアセチルリシノレート、トリエチレングリコールジベンゾエート等]、脂肪族ジカルボン酸エステル[ジ(2−エチルヘキシル)アジペート、アジピン酸−プロピレングリコール系ポリエステル(Mn200〜2,000)等]、脂肪族トリカルボン酸エステル[クエン酸エステル(クエン酸トリエチル等)]、リン酸トリエステル[トリフェニルホスフェート等]および石油樹脂等;
離型剤としては、高級脂肪酸(上記のもの)の低級(C1〜4)アルコールエステル(ステアリン酸ブチル等)、脂肪酸(C2〜18)の多価(2価〜4価またはそれ以上)アルコールエステル(硬化ヒマシ油等)、脂肪酸(C2〜18)のグリコール(C2〜8)エステル(エチレングリコールモノステアレート等)および流動パラフィン等;
Examples of plasticizers include aromatic carboxylic acid esters [phthalic acid esters (dioctyl phthalate, dibutyl phthalate, etc.)], aliphatic monocarboxylic acid esters [methyl acetyl ricinolate, triethylene glycol dibenzoate, etc.], aliphatic dicarboxylic acid esters. [Di (2-ethylhexyl) adipate, adipic acid-propylene glycol-based polyester (Mn 200 to 2,000), etc.], aliphatic tricarboxylic acid ester [citrate ester (triethyl citrate, etc.)], phosphoric acid triester [triphenyl Phosphate etc.] and petroleum resin etc .;
Release agents include lower fatty acid (C1-4) alcohol esters (such as butyl stearate) of higher fatty acids (above) and polyhydric (divalent to tetravalent or higher) alcohol esters of fatty acids (C2-18). (Hardened castor oil etc.), glycol (C2-8) ester of fatty acid (C2-18) (ethylene glycol monostearate etc.) and liquid paraffin etc .;

酸化防止剤としては、フェノール系〔単環フェノール(2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール等)、ビスフェノール[2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)等]、多環フェノール[1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン等]等〕、硫黄系(ジラウリル3,3’−チオジプロピオネート等)、リン系(トリフェニルホスファイト等)、アミン系(オクチル化ジフェニルアミン等)等;
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系[2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等]、ベンゾフェノン系[2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン等]、サリチレート系[フェニルサリチレート等]、アクリレート系[2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3’1−ジフェニルアクリレート等]等;
抗菌剤としては、安息香酸、ソルビン酸、ハロゲン化フェノール、有機ヨウ素、ニトリル(2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリル等)、チオシアノ(メチレンビスチアノシアネート)、N−ハロアルキルチオイミド、銅剤(8−オキシキノリン銅等)、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、トリハロアリル、トリアゾール、有機窒素硫黄化合物(スラオフ39等)、4級アンモニウム化合物、ピリジン系化合物等、が挙げられる。
Antioxidants include phenolic [monocyclic phenol (2,6-di-t-butyl-p-cresol, etc.), bisphenol [2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), etc.] Polycyclic phenol [1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene etc.], etc.], sulfur-based (dilauryl 3,3 ′ -Thiodipropionate etc.), phosphorus (triphenyl phosphite etc.), amine (octylated diphenylamine etc.), etc .;
Examples of ultraviolet absorbers include benzotriazole [2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, etc.], benzophenone [2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, etc.], salicylate [phenyl salicylate]. Etc.], acrylate-based [2-ethylhexyl-2-cyano-3,3′1-diphenyl acrylate etc.] and the like;
Antibacterial agents include benzoic acid, sorbic acid, halogenated phenol, organic iodine, nitriles (2,4,5,6-tetrachloroisophthalonitrile, etc.), thiocyano (methylene bisthianocyanate), N-haloalkylthioimide, Examples thereof include copper agents (such as 8-oxyquinoline copper), benzimidazole, benzothiazole, trihaloallyl, triazole, organic nitrogen sulfur compounds (such as Suraoff 39), quaternary ammonium compounds, and pyridine compounds.

(D4)の合計使用量は、(A)、(B)、(C)の合計重量に基づいて通常45%以下、各添加剤の効果および成形品の機械物性の観点から好ましくは0.001〜40%、さらに好ましくは0.01〜35%、とくに好ましくは0.05〜30%である。   The total amount of (D4) used is usually 45% or less based on the total weight of (A), (B) and (C), and preferably 0.001 from the viewpoint of the effect of each additive and the mechanical properties of the molded product. -40%, more preferably 0.01-35%, particularly preferably 0.05-30%.

本発明の帯電防止性樹脂組成物は、(A)および(B)からなる本発明の帯電防止剤、(C)および必要により(D)を溶融混合することにより得られる。溶融混合する方法としては、一般的にはペレット状または粉体状の成分を適切な混合機、例えばヘンシェルミキサー等で混合した後、押出機で溶融混合してペレット化する方法が適用できる。
溶融混合時の各成分の添加順序には特に限定はないが、例えば、(1)帯電防止剤、(C)および必要により(D)を一括して溶融混合する方法、(2)本発明の帯電防止剤、および(C)の一部を予め溶融混合して帯電防止剤の高濃度樹脂組成物(マスターバッチ樹脂組成物)を作成し、その後、残りの(C)並びに必要により(D)を溶融混合する方法、が挙げられる。
(2)の方法におけるマスターバッチ樹脂組成物中の本発明の帯電防止剤の濃度は好ましくは40〜80重量%、さらに好ましくは50〜70重量%である。
これらのうち(2)の方法は、マスターバッチ法またはマスターペレット法と呼ばれる方法で、本発明の帯電防止剤の(C)への効率的な分散の観点から好ましい方法である。
The antistatic resin composition of the present invention can be obtained by melt-mixing the antistatic agent of the present invention comprising (A) and (B), (C) and, if necessary, (D). As a method of melt mixing, generally, a method in which pellets or powdery components are mixed with an appropriate mixer such as a Henschel mixer, and then melt mixed with an extruder to be pelletized can be applied.
There are no particular limitations on the order of addition of each component during melt mixing. For example, (1) a method in which (1) an antistatic agent, (C) and, if necessary, (D) are melt mixed together, (2) An antistatic agent and a part of (C) are previously melt-mixed to prepare a high-concentration resin composition (masterbatch resin composition) of the antistatic agent, and then the remaining (C) and if necessary (D) And a method of melt mixing.
The concentration of the antistatic agent of the present invention in the masterbatch resin composition in the method (2) is preferably 40 to 80% by weight, more preferably 50 to 70% by weight.
Among these, the method (2) is a method called a master batch method or a master pellet method, which is a preferable method from the viewpoint of efficient dispersion of the antistatic agent of the present invention in (C).

本発明の成形品は、上記帯電防止性樹脂組成物を成形して得られる。該成形方法としては、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、発泡成形、フィルム成形(キャスト法、テンター法、インフレーション法等)等が挙げられ、目的に応じて任意の方法で成形できる。   The molded product of the present invention can be obtained by molding the antistatic resin composition. Examples of the molding method include injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding, foam molding, film molding (casting method, tenter method, inflation method, etc.). Depending on the method, it can be formed by any method.

上記成形品は、優れた機械特性、耐熱性および永久帯電防止性を有すると共に、良好な塗装性および印刷性を有する。
該成形品を塗装する方法としては、エアスプレー法、エアレススプレー法、静電スプレー法、浸漬法、ローラー法、刷毛塗り法等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。塗料としては、ポリエステルメラミン、エポキシメラミン、アクリルメラミンおよびアクリルウレタン樹脂塗料等の種々の塗料が挙げられる。
塗装膜厚(乾燥後膜厚)は、目的に応じて適宜選択することができるが塗膜物性の観点から好ましくは10〜50μm、さらに好ましくは15〜40μmである。
また、該成形品に印刷する方法としては、種々の印刷法、例えばグラビア印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷およびオフセット印刷が挙げられる。印刷インキとしてはプラスチックの印刷に通常用いられるものが挙げられる。
The molded article has excellent mechanical properties, heat resistance, and permanent antistatic properties, as well as good paintability and printability.
Examples of the method for coating the molded product include, but are not limited to, an air spray method, an airless spray method, an electrostatic spray method, a dipping method, a roller method, and a brush coating method. Examples of the paint include various paints such as polyester melamine, epoxy melamine, acrylic melamine, and acrylic urethane resin paint.
Although a coating film thickness (film thickness after drying) can be appropriately selected according to the purpose, it is preferably 10 to 50 μm, more preferably 15 to 40 μm from the viewpoint of physical properties of the coating film.
Examples of the method for printing on the molded product include various printing methods such as gravure printing, flexographic printing, screen printing, and offset printing. Examples of the printing ink include those usually used for printing plastics.

以下実施例をもって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例中の部は重量部。%は重量%を表す。
実施例1
ステンレス製オートクレーブに、ε−カプロラクタム103部、テレフタル酸21.8部、酸化防止剤[商品名「イルガノックス1010」、チバスペシャリティーケミカルズ(株)製、以下同じ。]0.4部および水7部を仕込み、オートクレーブ内を窒素置換後、220℃で加圧(0.3〜0.5MPa)密閉下4時間加熱撹拌し、両末端にカルボキシル基を有する酸価118のポリアミド(a−1)120部を得た。
次にビスフェノールAのEO付加物(Mn1,600)119部、ビスフェノールAのEO付加物(Mn310)16部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、240℃、0.13kPa以下の減圧下で6時間重合させて粘稠なブロックポリマー(A−1)を得た。(A−1)の表面固有抵抗値は4×109Ω、Mnは22,000であった。
次に、(A−1)245部に対して直鎖ドデシルベンゼンスルホン酸リチウム(B−1)[結晶化ピーク温度(98℃)における結晶化熱は3mJ/mg]16.1部を加え、1時間撹拌し、(A−1)と(B−1)からなる帯電防止剤(X−1)を得た。(X−1)は取り出して冷却ロールでシート状に成形し、ペレット化した。(X−1)の表面固有抵抗値は1×108Ωであった。また、後述の方法で評価されるカッティング性は、(X
−1)は、良好形状のペレットの割合が82%であった。
EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In addition, the part in an Example is a weight part. % Represents% by weight.
Example 1
In a stainless steel autoclave, 103 parts of ε-caprolactam, 21.8 parts of terephthalic acid, an antioxidant [trade name “Irganox 1010”, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., and so on. ] 0.4 parts and 7 parts of water were charged, the inside of the autoclave was purged with nitrogen, and then heated and stirred at 220 ° C. under pressure (0.3 to 0.5 MPa) for 4 hours under sealed conditions. Acid value having carboxyl groups at both ends 120 parts of 118 polyamide (a-1) were obtained.
Next, 119 parts of an EO adduct of bisphenol A (Mn1,600), 16 parts of an EO adduct of bisphenol A (Mn310) and 0.5 part of zirconyl acetate were added, and the mixture was heated at 240 ° C. under a reduced pressure of 0.13 kPa or less for 6 hours. A viscous block polymer (A-1) was obtained by polymerization. The surface specific resistance value of (A-1) was 4 × 10 9 Ω, and Mn was 22,000.
Next, 16.1 parts of linear dodecylbenzenesulfonate lithium (B-1) [crystallization heat at crystallization peak temperature (98 ° C.) is 3 mJ / mg] is added to 245 parts of (A-1). The mixture was stirred for 1 hour to obtain an antistatic agent (X-1) composed of (A-1) and (B-1). (X-1) was taken out, formed into a sheet shape with a cooling roll, and pelletized. The surface specific resistance value of (X-1) was 1 × 10 8 Ω. Further, the cutting property evaluated by the method described later is (X
In the case of -1), the proportion of pellets having a good shape was 82%.

実施例2
実施例1のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム103部、テレフタル酸21.8部に代えて、12−アミノドデカン酸104部、アジピン酸21部を用いた以外は実施例1と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価126のポリアミド(a−2)120部を得た。
別のステンレス製のオートクレーブにテレフタル酸ジメチル87.3部、EG37部および酢酸亜鉛0.2部を仕込み、所定量のメタノールを留出させながら210℃まで昇温した。室温まで冷却後、ポリエチレングリコール(Mn3,000)128部、(a−2)106部および酢酸ジルコニル0.3部を加え、240℃、0.13kPa以下の減圧下で6時間重合させ、粘稠なブロックポリマー(A−2)を得た。(A−2)の表面固有抵抗値は1×1011Ω、Mnは15,000であった。
次に、(A−2)314部に対して直鎖ステアリン酸ナトリウム[結晶化ピーク温度(101、122および183℃)における結晶化熱の合計は49mJ/mg](B−2)17.5部を加え、1時間撹拌し、(A−2)と(B−2)からなる帯電防止剤(X−2)を得た。以下、実施例1と同様に(X−2)をペレット化した。(X−2)の表面固有抵抗値は8×108Ω、カッティング性は、良好形状のペレットの割合が93%であった
Example 2
In the production of the polyamide of Example 1, in the same manner as in Example 1 except that 103 parts of ε-caprolactam and 21.8 parts of terephthalic acid were used, 104 parts of 12-aminododecanoic acid and 21 parts of adipic acid were used. 120 parts of polyamide (a-2) having an acid value of 126 having carboxyl groups at both ends were obtained.
In another stainless steel autoclave, 87.3 parts of dimethyl terephthalate, 37 parts of EG, and 0.2 part of zinc acetate were charged, and the temperature was raised to 210 ° C. while distilling a predetermined amount of methanol. After cooling to room temperature, 128 parts of polyethylene glycol (Mn 3,000), 106 parts of (a-2) and 0.3 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 240 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 6 hours. A block polymer (A-2) was obtained. The surface resistivity of (A-2) was 1 × 10 11 Ω, and Mn was 15,000.
Next, with respect to 314 parts of (A-2), linear sodium stearate [total crystallization heat at crystallization peak temperatures (101, 122 and 183 ° C.) is 49 mJ / mg] (B-2) 17.5 Part was added and stirred for 1 hour to obtain an antistatic agent (X-2) composed of (A-2) and (B-2). Thereafter, (X-2) was pelletized in the same manner as in Example 1. The surface specific resistance value of (X-2) was 8 × 10 8 Ω, and the cutting property was 93% in the proportion of well-shaped pellets.

実施例3
ステンレス製オートクレーブに、ビスフェノールAのEO付加物(Mn310)56.8部、テレフタル酸23.5部、ジブチルスズオキサイド0.4部を仕込み、235℃、3kPa以下の減圧下で12時間加熱撹拌し、両末端に水酸基を有するポリエステル(水酸基価53)(c−1)75部を得た。
次にビスフェノールAのEO付加物(Mn1,600)140部、(a−1)116部および酢酸ジルコニル0.4部を加え、240℃、0.13kPa以下の減圧下で6時間重合させ、粘稠なブロックポリマー(A−3)を得た。(A−3)の表面固有抵抗値は4×1010Ω、Mnは28,000であった。
次に、(A−3)320部に対して直鎖ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウム[結晶化ピーク温度(6および180℃)における結晶化熱の合計は25mJ/mg](B−3)11.7部を加え、1時間撹拌し、(A−3)と(B−3)からなる帯電防止剤(X−3)を得た。以下、実施例1と同様に(X−3)をペレット化した。(X−3)の表面固有抵抗値は7×108Ω、カッティング性は、良好形状のペレットの割合が87%で
あった。
Example 3
A stainless steel autoclave was charged with 56.8 parts of EO product of bisphenol A (Mn310), 23.5 parts of terephthalic acid, and 0.4 parts of dibutyltin oxide, and heated and stirred at 235 ° C. under a reduced pressure of 3 kPa or less for 12 hours. 75 parts of a polyester having hydroxyl groups at both ends (hydroxyl value 53) (c-1) was obtained.
Next, 140 parts of EO product of bisphenol A (Mn1,600), 116 parts of (a-1) and 0.4 part of zirconyl acetate were added and polymerized at 240 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 6 hours. A thick block polymer (A-3) was obtained. The surface specific resistance value of (A-3) was 4 × 10 10 Ω, and Mn was 28,000.
Next, linear sodium lauryl alcohol sulfate ester (total sum of crystallization heat at crystallization peak temperatures (6 and 180 ° C.) is 25 mJ / mg) with respect to 320 parts of (A-3) (B-3) 11.7 Part was added and stirred for 1 hour to obtain an antistatic agent (X-3) composed of (A-3) and (B-3). Thereafter, (X-3) was pelletized in the same manner as in Example 1. The surface specific resistance value of (X-3) was 7 × 10 8 Ω, and the cutting property was 87% in a well-shaped pellet.

実施例4
ステンレス製オートクレーブに、熱減成法で得られた低分子量ポリプロピレン(Mn2,500、密度0.89、C1,000個当たりの二重結合量10.5個、1分子当たりの二重結合の平均数1.9個、両末端変性可能なポリオレフィンの含有量95%)170部と無水マレイン酸30部を仕込み、窒素ガス雰囲気下(密閉下)、200℃で溶融し、200℃、20時間反応させた。
その後、未反応の無水マレイン酸を0.67kPa以下の減圧下、200℃、3時間で留去して、酸変性ポリプロピレン(a−3)を得た。(a−3)は、酸価41であった。
次に、別のステンレス製オートクレーブに、(a−3)120部、ポリエチレングリコール(Mn3,000)130部、酸化防止剤0.6部および酢酸ジルコニル1部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で3時間重合させ、粘稠なポリマー(A−4)を得た。(A−4)の表面固有抵抗値は5×109Ω、Mnは10,000であった。
次に、(A−4)238部に対して直鎖セチルトリメチルアンモニウムクロライド[結晶化ピーク温度(11および43℃)における結晶化熱の合計は12mJ/mg](B−4)20.8部を加え、1時間撹拌し、(A−4)と(B−4)からなる帯電防止剤(X−4)を得た。以下、実施例1と同様に(X−4)をペレット化した。(X−4)の表面固有抵抗値は5×108Ω、カッティング性は、良好形状のペレットの割合が80%であ
った。
Example 4
Low molecular weight polypropylene obtained by a thermal degradation method (Mn 2,500, density 0.89, 10.5 double bonds per 1,000 C, average of double bonds per molecule) 1.9 parts, content of polyolefin that can be modified at both ends (95%) 170 parts and 30 parts of maleic anhydride are charged, melted at 200 ° C. in a nitrogen gas atmosphere (sealed), and reacted at 200 ° C. for 20 hours. I let you.
Thereafter, unreacted maleic anhydride was distilled off under reduced pressure of 0.67 kPa or less at 200 ° C. for 3 hours to obtain acid-modified polypropylene (a-3). (A-3) had an acid value of 41.
Next, another stainless steel autoclave was charged with 120 parts of (a-3), 130 parts of polyethylene glycol (Mn3,000), 0.6 part of antioxidant and 1 part of zirconyl acetate, and 230 ° C. and 0.13 kPa or less. The mixture was polymerized for 3 hours under reduced pressure to obtain a viscous polymer (A-4). The surface resistivity of (A-4) was 5 × 10 9 Ω, and Mn was 10,000.
Next, linear cetyltrimethylammonium chloride [total crystallization heat at crystallization peak temperatures (11 and 43 ° C.) is 12 mJ / mg] (B-4) 20.8 parts relative to 238 parts (A-4) And stirred for 1 hour to obtain an antistatic agent (X-4) composed of (A-4) and (B-4). Thereafter, (X-4) was pelletized in the same manner as in Example 1. The surface specific resistance value of (X-4) was 5 × 10 8 Ω, and the cutting property was 80% of a well-shaped pellet.

実施例5
実施例1において、ブロックポリマー(A−1)に(B−1)を後添加するのに代えて、(A−1)の製造時に(B−1)を16.1部仕込み、(B−1)の存在下で(A−1)を製造したこと以外は、実施例1と同様にして(A−1)と(B−1)からなる帯電防止剤(X−5)を得、ペレット化した。(X−5)の表面固有抵抗値は8×107Ωであった。また、(X−5)のカッティング性は、良好形状のペレットの割合が91%であった。
Example 5
In Example 1, instead of post-adding (B-1) to the block polymer (A-1), 16.1 parts of (B-1) was charged during the production of (A-1), (B- The antistatic agent (X-5) comprising (A-1) and (B-1) was obtained in the same manner as in Example 1 except that (A-1) was produced in the presence of 1), and pellets were obtained. Turned into. The surface specific resistance value of (X-5) was 8 × 10 7 Ω. Further, regarding the cutting property of (X-5), the proportion of pellets having a good shape was 91%.

実施例6
実施例1のポリアミドの製造において、ε−カプロラクタム103部、テレフタル酸21.8部に代えて、12−アミノドデカン酸207部、トリメリット酸16.2部を用いた以外は実施例1と同様にして、両末端にカルボキシル基を有する酸価41のポリアミドイミド(a−6)204部を得た。
次に、ポリオキシエチレンジプロピルアミン(Mn10,000)5.6部、ビスフェノールAのEO付加物(Mn310)22部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、240℃、0.13kPa以下の減圧下で6時間重合させて粘稠なブロックポリマー(A−6)を得た。(A−6)の表面固有抵抗値は1×1013Ω、Mnは17,000であった。
次に、(A−6)180部に対して(B−1)0.2部を加え、1時間撹拌し、(A−6)と(B−1)からなる帯電防止剤(X−6)を得た。以下、実施例1と同様に(X−6)をペレット化した。(X−6)の表面固有抵抗値は1×1012Ω、カッティング性は、良好形状のペレットの割合が90%であった。
Example 6
In the production of the polyamide of Example 1, in place of 103 parts of ε-caprolactam and 21.8 parts of terephthalic acid, 207 parts of 12-aminododecanoic acid and 16.2 parts of trimellitic acid were used. Thus, 204 parts of polyamideimide (a-6) having an acid value of 41 having carboxyl groups at both ends were obtained.
Next, 5.6 parts of polyoxyethylenedipropylamine (Mn10,000), 22 parts of EO adduct of bisphenol A (Mn310) and 0.5 part of zirconyl acetate were added, and the mixture was subjected to reduced pressure at 240 ° C. and 0.13 kPa or less. For 6 hours to obtain a viscous block polymer (A-6). The surface resistivity of (A-6) was 1 × 10 13 Ω, and Mn was 17,000.
Next, 0.2 part of (B-1) is added to 180 parts of (A-6), and the mixture is stirred for 1 hour, and the antistatic agent (X-6) comprising (A-6) and (B-1) is added. ) Thereafter, (X-6) was pelletized in the same manner as in Example 1. The surface specific resistance value of (X-6) was 1 × 10 12 Ω, and the cutting property was 90% of a well-shaped pellet.

実施例7
ステンレス製のオートクレーブに、アジピン酸78部、キシリレングリコール75部およびジブチルスズオキシド0.2部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で2時間重合させた。室温まで冷却後、(a−6)140部、ポリオキシポリエチレンプロピルアミン(Mn10,000)24部および酢酸ジルコニル0.5部を加え、240℃、0.13kPa以下の減圧下で6時間重合させ、粘稠なブロックポリマー(A−7)を得た。(A−7)の表面固有抵抗値は7×1011Ω、Mnは44,000であった。
次に、(A−7)240部に対して(B−2)27部を加え、1時間撹拌し、(A−7)と(B−2)からなる帯電防止剤(X−7)を得た。以下、実施例1と同様に(X−7)をペレット化した。(X−7)の表面固有抵抗値は8×109Ω、カッティング性は、良好形状のペレットの割合が89%であった。
Example 7
A stainless steel autoclave was charged with 78 parts of adipic acid, 75 parts of xylylene glycol and 0.2 part of dibutyltin oxide, and polymerized at 230 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 2 hours. After cooling to room temperature, 140 parts of (a-6), 24 parts of polyoxypolyethylenepropylamine (Mn10,000) and 0.5 part of zirconyl acetate are added and polymerized for 6 hours at 240 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less. A viscous block polymer (A-7) was obtained. The surface resistivity of (A-7) was 7 × 10 11 Ω, and Mn was 44,000.
Next, 27 parts of (B-2) is added to 240 parts of (A-7), and the mixture is stirred for 1 hour, and an antistatic agent (X-7) comprising (A-7) and (B-2) is added. Obtained. Thereafter, (X-7) was pelletized in the same manner as in Example 1. The surface specific resistance value of (X-7) was 8 × 10 9 Ω, and the cutting property was 89% of the pellets having a good shape.

実施例8
ステンレス製のオートクレーブに、(a−3)110部、12−アミノドデカン酸35部、酸化防止剤0.6部を仕込み210℃、0.13kPa以下の減圧下で1時間重合させた。室温まで冷却後、ポリオキシポリエチレンプロピルアミン(Mn10,000)62部、ポリエチレングリコール(Mn3,000)102部、硫酸ナトリウム1部およびジブチルスズオキシド1部を仕込み、230℃、0.13kPa以下の減圧下で6時間重合させ、粘稠なポリマー(A−8)を得た。(A−8)の表面固有抵抗値は1×106Ω、Mnは26,000であった。
次に、(A−8)280部に対して(B−4)70部を加え、1時間撹拌し、(A−8)と(B−4)からなる帯電防止剤(X−8)を得た。以下、実施例1と同様に(X−8)をペレット化した。(X−8)の表面固有抵抗値は7×105Ω、カッティング性は、良好形状のペレットの割合が79%であった。
Example 8
In a stainless steel autoclave, 110 parts of (a-3), 35 parts of 12-aminododecanoic acid, and 0.6 part of an antioxidant were charged and polymerized at 210 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 1 hour. After cooling to room temperature, 62 parts of polyoxypolyethylenepropylamine (Mn10,000), 102 parts of polyethylene glycol (Mn3,000), 1 part of sodium sulfate and 1 part of dibutyltin oxide were charged, and the pressure was reduced to 230 ° C. and 0.13 kPa or less. For 6 hours to obtain a viscous polymer (A-8). The surface resistivity of (A-8) was 1 × 10 6 Ω, and Mn was 26,000.
Next, 70 parts of (B-4) is added to 280 parts of (A-8), and the mixture is stirred for 1 hour, and antistatic agent (X-8) comprising (A-8) and (B-4) is added. Obtained. Thereafter, (X-8) was pelletized in the same manner as in Example 1. The surface specific resistance value of (X-8) was 7 × 10 5 Ω, and the cutting property was 79% of the pellets having a good shape.

実施例9
ステンレス製のオートクレーブに、(a−3)135部、2−アミノエタノール3.1部を仕込み210℃、0.13kPa以下の減圧下で1時間反応させた。窒素にて常圧にした後、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)17部およびジブチルチンジラウレート0.1部を加え、180℃で1時間反応させた。さらに、ポリエチレングリコール(Mn3,000)148部およびジブチルスズオキシド1部を加え、230℃、0.13kPa以下の減圧下で3時間重合させ、粘稠なポリマー(A−9)を得た。(A−9)の表面固有抵抗値は3×109Ω、Mnは19,000であった。
次に、(A−9)240部に対して(B−4)1.2部を加え、1時間撹拌し、(A−9)と(B−4)からなる帯電防止剤(X−9)を得た。以下、実施例1と同様に(X−9)をペレット化した。(X−9)の表面固有抵抗値は5×108Ω、カッティング性は、良好形状のペレットの割合が87%であった。
Example 9
A stainless steel autoclave was charged with 135 parts of (a-3) and 3.1 parts of 2-aminoethanol, and reacted at 210 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 1 hour. After normal pressure with nitrogen, 17 parts of hexamethylene diisocyanate (HDI) and 0.1 part of dibutyltin dilaurate were added and reacted at 180 ° C. for 1 hour. Furthermore, 148 parts of polyethylene glycol (Mn3,000) and 1 part of dibutyltin oxide were added and polymerized at 230 ° C. under reduced pressure of 0.13 kPa or less for 3 hours to obtain a viscous polymer (A-9). The surface resistivity of (A-9) was 3 × 10 9 Ω, and Mn was 19,000.
Next, 1.2 parts of (B-4) is added to 240 parts of (A-9), and the mixture is stirred for 1 hour. The antistatic agent (X-9) comprising (A-9) and (B-4) ) Thereafter, (X-9) was pelletized in the same manner as in Example 1. The surface specific resistance value of (X-9) was 5 × 10 8 Ω, and the cutting property was 87% in a well-shaped pellet.

比較例1
実施例1において、直鎖ドデシルベンゼンスルホン酸リチウム(B−1)16.1部に代えて、分岐ドデシルベンゼンスルホン酸リチウム[結晶化ピーク温度(85℃)における結晶化熱は1mJ/mg](比B−1)16.1部を用いたこと以外は実施例1と同様に行い、(A−1)と(比B−1)からなる帯電防止剤(比X−1)を得、ペレット化した。(比X−1)の表面固有抵抗値は1×108Ω、カッティング性は、良好形状のペレ
ットの割合が61%であった。
Comparative Example 1
In Example 1, instead of 16.1 parts of linear lithium dodecylbenzenesulfonate (B-1), branched lithium dodecylbenzenesulfonate [crystallization heat at crystallization peak temperature (85 ° C.) is 1 mJ / mg] ( Comparative B-1) Except that 16.1 parts were used, the same procedure as in Example 1 was performed to obtain an antistatic agent (Ratio X-1) consisting of (A-1) and (Ratio B-1). Turned into. The surface specific resistance value of (Ratio X-1) was 1 × 10 8 Ω, and the cutting property was 61% in a well-shaped pellet.

上記におけるカッティング性および表面固有抵抗値(帯電防止性)は、下記方法によりそれぞれ評価した。カッティング性と併せて結果を表1に示す。
[カッティング性]
帯電防止剤を製造後、取り出して冷却ロールで、厚み約3mmのシート状に成形し、樹脂温度約50℃まで冷却後、角ペレタイザー[商品名「SGG−220」、(株)ホーライ製]で4mm角のペレット状にカッティングし、50g(ペレット個数約1,000個)をサンプリングして良好形状(4mm角形状)のペレットと不良形状(不定形およびカットし切れずに数ペレットがつながったものも含む)のペレットに選別する。該選別された良好形状のペレットの割合(%)を算出した。
The cutting property and the surface resistivity (antistatic property) in the above were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 1 together with the cutting properties.
[Cutting properties]
After producing the antistatic agent, it is taken out, formed into a sheet of about 3 mm thickness with a cooling roll, cooled to a resin temperature of about 50 ° C., and then with a square pelletizer [trade name “SGG-220”, manufactured by Horai Co., Ltd.] Cutting into 4 mm square pellets, sampling 50 g (about 1,000 pellets), good shape (4 mm square shape) pellets and defective shape (indefinite shape and several pellets connected without being cut completely) Are also included). The ratio (%) of the selected well-shaped pellets was calculated.

[表面固有抵抗値]
上記の各帯電防止剤のペレットを、加圧プレス機(200℃)で成形して、厚み1mm×直径約100mmの試験片を作成した。(但し、後述する成形品についてはそのまま試験片とした。)該試験片について、超絶縁計[DSM−8103(平板試料用電極SME−8310)、東亜電波工業(株)製]により23℃、湿度50%RHの雰囲気下でASTM D257に準拠して表面固有抵抗値(帯電防止性)を評価した。
[Surface specific resistance]
Each of the above-mentioned antistatic agent pellets was molded with a pressure press (200 ° C.) to prepare a test piece having a thickness of 1 mm and a diameter of about 100 mm. (However, the molded article to be described later was used as a test piece as it was.) About the test piece, 23 ° C. was measured by a superinsulator [DSM-8103 (plate sample electrode SME-8310), manufactured by Toa Denpa Kogyo Co., Ltd.]. The surface specific resistance value (antistatic property) was evaluated in accordance with ASTM D257 under an atmosphere with a humidity of 50% RH.

実施例10〜22、比較例2
表1に示す配合処方(部)に従って、上記帯電防止剤および熱可塑性樹脂(C)[後述の(C−1)または(C−2)]を、場合により添加剤(D)と共に、ヘンシェルミキサーで3分間ブレンドした後、ベント付き2軸押出機にて、230℃、100rpm、滞留時間5分の条件で溶融混練して、樹脂組成物(実施例10〜22、比較例2)を得た。
Examples 10-22, Comparative Example 2
According to the formulation (parts) shown in Table 1, the antistatic agent and the thermoplastic resin (C) [described later (C-1) or (C-2)] are optionally combined with the additive (D) in a Henschel mixer. And then blended for 3 minutes in a twin screw extruder with a vent at 230 ° C., 100 rpm, residence time 5 minutes to obtain a resin composition (Examples 10-22, Comparative Example 2). .

上記樹脂組成物について、射出成形機[PS40E5ASE、日精樹脂工業(株)製]を用い、シリンダー温度230℃、金型温度50℃で成形品(試験片)(100×100×2mm)を作成し、これらを用い、表面固有抵抗値を測定した。結果を表1に示す。   Using the injection molding machine [PS40E5ASE, manufactured by Nissei Plastic Industry Co., Ltd.], a molded product (test piece) (100 × 100 × 2 mm) was prepared at a cylinder temperature of 230 ° C. and a mold temperature of 50 ° C. These were used to measure the surface resistivity. The results are shown in Table 1.

(C−1):ABS樹脂[商品名「セビアン−V320」、ダイセルポリマー(株)製]
(C−2):PP樹脂「商品名「チッソポリプロ K1008」、チッソ(株)製]
(D−1):オクチルアルコールEO付加物(Mn400)
(D−2):相溶化剤[商品名「ユーメックス1001」、三洋化成工業(株)製]
(D−3):難燃剤[商品名「アデカスタブFP−2200」、(株)ADEKA製]
(C-1): ABS resin [trade name “Cebian-V320”, manufactured by Daicel Polymer Co., Ltd.]
(C-2): PP resin “trade name“ Chisso Polypro K1008 ”, manufactured by Chisso Corporation]
(D-1): Octyl alcohol EO adduct (Mn400)
(D-2): Compatibilizer [trade name “Yumex 1001”, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.]
(D-3): Flame retardant [trade name “ADK STAB FP-2200”, manufactured by ADEKA Corporation]

Figure 2008031460
Figure 2008031460

表1の結果から、本発明の帯電防止剤(X−1)〜(X−9)は、比較の(比X−1)に比べていずれもカッティング性、即ち生産性に優れることがわかる。   From the results of Table 1, it can be seen that the antistatic agents (X-1) to (X-9) of the present invention are all excellent in cutting property, that is, productivity, as compared with the comparative (ratio X-1).

本発明の帯電防止剤は、生産性(カッティング性)および永久帯電防止性の付与特性に優れ、該帯電防止剤を熱可塑性樹脂に含有させてなる樹脂組成物を成形してなる成形品は、優れた永久帯電防止性を有すると共に、塗装性および印刷特性に優れる。このことから、本発明の帯電防止性樹脂組成物は、射出成形、圧縮成形、カレンダ成形、スラッシュ成形、回転成形、押出成形、ブロー成形、発泡成形およびフィルム成形(例えばキャスト法、テンター法およびインフレーション法)等の各種成形法で成形される、家電・OA機器、ゲーム機器および事務機器などのハウジング製品、ICトレー等クリーンルームで使用されるトレーや容器等の各種プラスチック容器材、各種緩衝材、各種包材用フィルム、保護フィルム等の被覆材、床材用シート、人工芝、マット、半導体製造プロセス用等のテープ基材、並びに自動車部品等の各種成形品用の材料として幅広く用いることができる。   The antistatic agent of the present invention is excellent in productivity (cutting properties) and permanent antistatic properties, and a molded product obtained by molding a resin composition containing the antistatic agent in a thermoplastic resin, It has excellent permanent antistatic properties and excellent paintability and printing characteristics. Therefore, the antistatic resin composition of the present invention is produced by injection molding, compression molding, calendar molding, slush molding, rotational molding, extrusion molding, blow molding, foam molding and film molding (for example, casting method, tenter method and inflation method). ), Etc., housing products such as home appliances / OA equipment, game machines and office equipment, various plastic container materials such as trays and containers used in clean rooms such as IC trays, various cushioning materials, etc. It can be widely used as a material for various moldings such as coating materials for packaging materials, protective films, etc., flooring sheets, artificial turf, mats, tape base materials for semiconductor manufacturing processes, and automobile parts.

Claims (7)

1×106〜1×1013Ωの表面固有抵抗値を有する親水性ブロックポリマー(A)と、示差走査熱量計による結晶化ピーク温度において2〜100mJ/mgの結晶化熱を有するイオン性界面活性剤(B)からなることを特徴とする帯電防止剤。 Hydrophilic block polymer (A) having a surface resistivity of 1 × 10 6 to 1 × 10 13 Ω and an ionic interface having a crystallization heat of 2 to 100 mJ / mg at the crystallization peak temperature measured by a differential scanning calorimeter An antistatic agent comprising the activator (B). (A)が、下記の(A1)、(A2)および(A3)からなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1記載の帯電防止剤。
(A1):ポリアミド(a11)および/またはポリアミドイミド(a12)からなるアミド基含有疎水性ポリマー(a1)、ポリエーテルジオール(b11)および/またはポリエーテルジアミン(b12)からなるポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)および芳香環含有ポリエステル(c1)から構成されるブロックポリマー
(A2):ポリオレフィン(a21)のブロックとポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(a22)のブロックとがエステル結合、アミド結合、エーテル結合、イミド結合およびウレタン結合からなる群から選ばれる少なくとも1種の結合を介して繰り返し交互に結合した構造を有するブロックポリマー
(A3):ポリアミド(a11)および/またはポリアミドイミド(a12)からなるアミド基含有疎水性ポリマー(a1)、およびポリエーテルジオール(b11)および/またはポリエーテルジアミン(b12)からなるポリエーテル鎖含有親水性ポリマー(b1)から構成されるブロックポリマー
The antistatic agent according to claim 1, wherein (A) is at least one selected from the group consisting of the following (A1), (A2) and (A3).
(A1): Hydrophobic amide group-containing hydrophobic polymer (a1) composed of polyamide (a11) and / or polyamideimide (a12), polyether chain-containing hydrophilic composed of polyether diol (b11) and / or polyether diamine (b12) Block polymer (A2) composed of the functional polymer (b1) and the aromatic ring-containing polyester (c1): the polyolefin (a21) block and the polyether chain-containing hydrophilic polymer (a22) block are ester bonds, amide bonds, A block polymer having a structure in which the structure is repeatedly and alternately bonded through at least one bond selected from the group consisting of an ether bond, an imide bond and a urethane bond (A3): composed of polyamide (a11) and / or polyamideimide (a12) Amide group containing sparse Sex polymer (a1), and polyether diols (b11) and / or block polymer composed of polyether chains containing hydrophilic polymer (b1) consisting of polyether diamine (b12)
(A)と(B)の重量比が、99.9/0.1〜80/20である請求項1または2記載の帯電防止剤。 The antistatic agent according to claim 1 or 2, wherein the weight ratio of (A) to (B) is 99.9 / 0.1 to 80/20. 請求項1〜3のいずれか記載の帯電防止剤を熱可塑性樹脂(C)に含有させてなる帯電防止性樹脂組成物。 The antistatic resin composition which makes the thermoplastic resin (C) contain the antistatic agent in any one of Claims 1-3. さらに、(B)以外の、帯電防止性向上剤、相溶化剤、難燃剤およびその他の樹脂用添加剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の添加剤(D)を含有させてなる請求項4記載の組成物。 Further, at least one additive (D) selected from the group consisting of an antistatic improver, a compatibilizer, a flame retardant, and other additives for resin other than (B) is contained. The composition as described. 請求項4または5記載の組成物を成形してなる帯電防止性樹脂成形品。 An antistatic resin molded product obtained by molding the composition according to claim 4 or 5. 請求項6記載の成形品に塗装および/または印刷を施してなる成形物品。 A molded article obtained by coating and / or printing the molded article according to claim 6.
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