JP2008030467A - 光学プレート用金型とその製造方法、及び光学プレートの製造方法とこれによって製造された光学プレート - Google Patents

光学プレート用金型とその製造方法、及び光学プレートの製造方法とこれによって製造された光学プレート Download PDF

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Abstract

【課題】射出物の外観不良を最小化できる光学プレート用金型を提供する。
【解決手段】
本発明は、光学プレート用金型とその製造方法、及び光学プレートの製造方法とこれによって製造された光学プレートに関する。本発明による光学プレート用金型は、互いに対向配置されて成型空間を形成する第1コアと第2コアを含む。第1コアは第1面を有し、第2コアは第2面を有し、第1面と第2面とは成型空間を挟んで対向していて、第1面と第2面のうちの少なくとも一つに形成されている鏡面層とを含むことを特徴とする。
【選択図】図1

Description

本発明は、光学プレートとその製造方法、及び光学プレートの製造方法とこれによって製造された光学プレートに関する。
一般に、射出成型機は、熱可塑性樹脂のような成形物質に多様な添加剤を混合した後、溶融状態の成形物質をモールドまたはコア(core)によって形成された成型空間の内部に注入させることにより、所望の形状の射出物を製造する装置である。
このような射出成形装置は、第1コアと、第1コアに対して相対昇降運動を行い第1コアと共に成型空間を形成する第2コアと、第1コアと第2コアとの間に配置されて成型空間の内部に成形物質を注入するランナー及びゲートと、第1コア及び第2コアに形成された少なくとも一つ以上の冷却流路とを含む。ここで、第1コアと第2コアは射出物の形状を製造するための金型である。
前記第1及び第2コアによって所定の形状に成型された射出物は、冷却流路を通過する冷却水によって固化した後、第1及び第2コアから取り出される。
一方、液晶表示装置に用いられる種々の部品のうち、導光板と拡散板などは射出成型機によって製作される。ここで、導光板は、光源から照射される光を液晶パネルに誘導する構成要素であって、導光板の内部には複数の気泡が散布され得る。このような気泡は、成形物質の内部にガスを注入して形成される。このように形成された気泡によって導光板を通過した光は、拡散して均一に液晶パネルの背面に誘導される。
しかし、このような気泡の生成に用いられるガスによって導光板の表面に流れ跡が発生することがあり、気泡が導光板の内部に位置せずに表面に露出されることによって導光板の外観不良を引き起こすという問題点がある。
そこで、本発明の目的は、射出物の外観不良を最小化できる光学プレート用金型とその製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、外観不良が最小化され、光学性能が改善された光学プレートとその製造方法を提供することにある。
本発明1は、互いに対向配置され成型空間を形成する第1コアと第2コアとを備える光学プレート用金型であって、
前記第1コアは第1面を有し、
前記第2コアは第2面を有し、
前記第1面と前記第2面とは前記成型空間を挟んで対向していて、
前記第1面及び前記第2面のうちの少なくとも一つに鏡面層が形成されている、光学プレート用金型を提供する。
本発明2は、発明1において、前記鏡面層は金属を含む、光学プレート用金型を提供する。
本発明3は、発明2において、前記鏡面層は、金、銀、アルミニウム、銅、及びニッケルからなる群より選択された少なくとも一つを含む、光学プレート用金型を提供する。
本発明4は、発明2において、前記鏡面層は、200μm〜300μmの厚さを有する、光学プレート用金型を提供する。
本発明5は、発明3または4において、前記鏡面層の表面は、鏡面加工によって実質的に平坦である、光学プレート用金型を提供する。
本発明6は、発明5において、
前記第1コア及び前記第2コアのうちの少なくとも一つはセラミックを含む、光学プレート用金型を提供する。
本発明7は、発明6において、前記第1コア及び前記第2コアのうちの少なくとも一つは、本体部と、前記本体部を覆っているセラミック層と、を含み、前記鏡面層は、前記セラミック層上に形成されている、光学プレート用金型を提供する。
本発明8は、発明7において、前記第1コア及び前記第2コアのうちの少なくとも一つには、冷却流路が形成されている、光学プレート用金型を提供する。
本発明9は、発明7において、前記第1コア及び前記第2コアのそれぞれに前記鏡面層が形成されていて、前記第1コア及び前記第2コアは、それぞれ前記鏡面層上に形成されているパターン形成層をさらに含む、光学プレート用金型を提供する。
本発明10は、発明9において、前記パターン形成層には、凹刻のドットパターンまたは凹刻のプリズム山が形成されている、光学プレート用金型を提供する。
本発明11は、発明9において、前記第1コア及び前記第2コアと共に前記成型空間を外部空間から遮断する複数のコアブロックをさらに備える、光学プレート用金型を提供する。
本発明12は、発明11において、前記複数のコアブロックのうちの少なくとも一つに形成され、前記成型空間と前記外部空間を連結するゲートをさらに備える、光学プレート用金型を提供する。
本発明13は、成型空間を有する光学プレート用金型の製造方法であって、セラミック素材を加工して板状のコアを形成する段階と、前記成型空間を形成する前記コアの内壁面を研磨加工する段階と、研磨加工された前記コアの面を鏡面加工する段階と、鏡面加工された前記コアの面に鏡面層を形成する段階と、前記鏡面層を研磨加工する段階と、研磨加工された前記鏡面層を鏡面加工する段階と、を備える光学プレート用金型の製造方法を提供する。
本発明14は、発明13において、前記鏡面層の形成と前記鏡面層の加工工程を、2回以上反復実施する、光学プレート用金型の製造方法を提供する。
本発明15は、発明14において、前記鏡面層を、金、銀、アルミニウム、銅、及びニッケルからなる群より選択された少なくとも一つを用いて形成する、光学プレート用金型の製造方法を提供する。
本発明16は、発明14において、前記鏡面層の厚さを、200μm〜300μmに調整する、光学プレート用金型の製造方法を提供する。
本発明17は、発明14において、前記鏡面層上にパターン形成層を形成する段階をさらに備え、前記パターン形成層に、凹刻のドットパターンまたは凹刻のプリズム山を形成する、光学プレート用金型の製造方法。
本発明18は、光学プレートの製造方法であって、前記請求項1乃至請求項11のうちのいずれか一項に記載の光学プレート用金型によって形成された成型空間に樹脂を注入する樹脂注入段階と、前記成型空間にガスを注入するガス注入段階と、前記樹脂を固化させる固化段階と、を備え、前記樹脂注入段階では、前記成型空間の内部に注入される前記樹脂の温度を実質的に均一に維持する、光学プレートの製造方法を提供する。
本発明19は、発明18において、前記前記樹脂注入段階では、前記成型空間の内部の前記樹脂の温度偏差は、実質的に10℃以内となるように前記樹脂の温度を維持する、光学プレートの製造方法を提供する。
本発明20は、発明18において、前記樹脂はアクリル系樹脂を含む、光学プレートの製造方法を提供する。
本発明21は、発明20において、前記樹脂は、ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)、ポリカーボネート(polycarbonate、PC)、スチレン−アクリロニトリル(styreneacrylonitrile、SAN)、及びMS(methyl−styrene)からなる群より選択される少なくとも一つを含む、光学プレートの製造方法を提供する。
本発明22は、発明18において、前記ガスは、二酸化炭素及び窒素のうちの少なくとも一つを含む、光学プレートの製造方法を提供する。
本発明23は、複数の気泡が分散されているコア部と、前記コア部の少なくとも一部を覆っており、前記コア部と比べて相対的に気泡の密度が少ない表層部と、を備え、前記表層部の表面は実質的に平坦である光学プレートを提供する。
本発明24は、発明23において、前記表層部における前記気泡の密度に対する前記コア部における前記気泡の密度の割合は、1:100以上である、光学プレートを提供する。
本発明25は、発明23において、前記気泡の直径は、5μm〜50μmである、光学プレートを提供する。
本発明26は、発明23において、前記気泡は、二酸化炭素及び窒素のうちの少なくとも一つを含む、光学プレートを提供する。
本発明によれば、射出物の外観不良を最小化できる光学プレート用金型とその製造方法を提供することができる。
また、外観不良が最小化され、光学性能が改善された光学プレートとその製造方法が提供される。
以下、本発明による光学プレート用金型を含む射出成型機と光学プレートの製造方法についてまず説明する。次に、本発明によって製造された光学プレートとその製造方法について順次に説明する。
図1は、本発明の第1実施形態による射出成型機100の要部断面図である。本発明による射出成型機100は、図1に示すように、第1コア110と、第1コア110に対向配置されている第2コア120と、第1コア110と第2コア120の両側に備えられている一対のコアブロック140、150とを含む。第1コア110、第2コア120、及び一対のコアブロック140、150によって成型空間sが形成され、一側のコアブロック140には、外部で連結された樹脂供給部(図示せず)から樹脂の供給を受け、成型空間sの内部に樹脂を注入するゲート160が備えられている。ここで、第1コア110、第2コア120、及び一対のコアブロック140、150は、射出物を形成するための金型であって、本発明においては導光板または拡散板などの光学プレートを製造するためのものである。
第1コア110と第2コア120は、射出物10を製作する枠が備えられている金型であって、第1コア110は固定されており、第2コア120は第1コア110に対して相対昇降運動できるように結合されている。このような構造によって、図2に示すように、射出物10が完成されれば、射出物10を取り出すために第2コア120が上昇し、押出しピン(図示せず)が射出物10のゲート部を押し上げて射出物10を第1コア110から分離させる。分離された射出物10は、図3に示すような形状を有する。そして、第1コア110及び第2コア120には、成型空間sに存在する樹脂を固化させるための少なくても一つの冷却流路111、121が形成されている。また、本発明による第1コア110及び第2コア120は、断熱性能の良いセラミックを含む。これは、成型空間sの内に存在する樹脂の温度が全体的に一定に維持されるようにすることで、射出物10の固化及び気泡の形成の際に発生し得る射出物10の外観不良を最小化するためである。これについては、後述する光学プレートを製造する方法を説明する段落で具体的に説明する。
第1コア110と第2コア120は、成型空間sと対向する第1面と第2面を有し、第1面と第2面に形成されている鏡面層130a、130bを含む。鏡面層130a、130bは、金属を含み、より詳しくは、金(Au)、銀(Ag)、アルミニウム(Al)、銅(Cu)、及びニッケル(Ni)からなる群より選択された少なくとも一つを含む。鏡面層130a、130bが金属を含む理由は、金属が研磨及び鏡面工程によって表面を実質的に平坦で美麗に製作できるからである。本発明による鏡面層130a、130bの厚さrは、約200μm〜300μmであり、メッキ法または蒸着法によって形成される。鏡面層130a、130bの厚さrが200μmより薄ければ、研磨及び鏡面工程の進行に不適合であり、300μmより厚ければ鏡面層130a、130bの形成に長時間がかかって好ましくない。
第1コア110及び第2コア120は、鏡面層130a、130b上に形成されているパターン形成層135a、135bを含む。パターン形成層135a、135bは、射出物10の表面に形成するパターンに対応するパターンが形成されている。より詳しくは、いずれか一つの鏡面層130aには凹刻のドットパターン(dot pattern)が形成されており、他の一つの鏡面層130bには凹刻のプリズム山が形成されている。これにより、射出物10の一面にはドットパターンが形成され、他の面にはプリズム山が形成される。他の実施形態によれば、プリントレス(Printless)形状を形成しても良い。
一対のコアブロック140、150は、第1及び第2コア130a、130bと共に成型空間sを形成し、第1コア110を支持する。いずれか一つのコアブロック、本実施例ではコアブロック140には、成型空間sに樹脂を注入するためのゲート160が備えられている。ゲート160は、ランナー170とスプルー175を通じて樹脂供給部(図示せず)から樹脂の供給を受け、成型空間sの内部に樹脂を注入する。
上述した射出成型機100を利用して樹脂を成型空間sに注入し、樹脂を固化させた後、固化した樹脂を取り出せば、大体図3のような形状の射出物10が得られる。ここで、押出しピン(図示せず)が射出物10のゲート部の下端を押し上げて、射出物10が第1コア100から取り出される。射出物10を第1コア110から完全に分離した後、射出物10とゲート160との連結部の切断面をカッティング(cutting)して光学プレートを完成する。
以下、図4を参照して本発明の第2実施形態による光学プレート用金型について説明する。以下の説明においては、第1実施形態と区別される特徴的な部分だけ抜粋して説明し、説明が省略または要約された部分は第1実施形態による。そして、説明の便宜上、同一の構成要素については同一の図面番号を付けて説明する。
本発明の第2実施形態による光学プレート用金型は、図4に示すように、本体部115と、本体部115を覆っているセラミック層116とからなるコア110とを含む。セラミック層116は、成型空間の一領域と他領域で樹脂の温度を均一に維持するための断熱部材である。本体部115は、通常の熱処理コアであって、STAVAX、NAK55、NAK80またはプリハードン鋼を用いることができる。セラミック層116の一面には、第1実施形態による鏡面層130aとパターン形成層135aが順次に形成されている。このようなセラミック層116は、高圧を利用して本体部115の表面にバインダーと混合した焼結されたセラミック粉末を融着させることによって形成される。セラミック層116の厚さwは、約0.1mm〜1mmであり得る。セラミック層116の厚さwが0.1mmより薄い場合には断熱部材としての役割を確かに果たすことができず、1mmより厚い場合にはセラミック層116の形成工程に長時間がかかって好ましくない。
以下、図5を参照して、本発明による光学プレート用金型を製造する方法について説明する。より詳しくは、成型空間を形成する第1コア110、第2コア120、コアブロック140、150(図1参照)の製造方法について説明する。
まず、セラミック素材を加工して所定の形状を有するコアを備える(S10)。ここでは、例えば一般セラミック素材を切削し、切削面または角、傾斜面を加工する。
続いて、加工されたコアの少なくとも一面を研磨加工する(S20)。研磨加工は、コアの面を滑らかで平坦に処理する表面加工工程であって、成型空間と対向するコアの面を研磨加工する。
次に、研磨加工されたコアの面を鏡面加工する(S30)。鏡面加工とは、コアの面に外観不良がないように美麗に形成する工程であって、ポリシング(polishing)工程を含む。これにより、コアの一面は実質的に平坦で滑らかに加工される。
以上のセラミック素材のコアのコア形成加工、研磨、鏡面加工は、後述する鏡面層を形成するための前処理工程であって、鏡面層の形成の際に高い収率の表面状態を有する鏡面層を形成するための先行工程である。
続いて、鏡面加工されたコアの面に鏡面層を形成する(S40)。鏡面層は金属を含み、メッキ法または蒸着法によって形成されることができる。具体的には、鏡面層は金、銀、銅、アルミニウム及びニッケルを含むことができる。形成された鏡面層の厚さr(図1参照)は約200μm〜300μmである。
次に、形成された鏡面層を研磨加工する(S50)。そして、研磨加工された鏡面層を鏡面加工(S60)して、表面が実質的に平坦な鏡面層を完成する。このような鏡面層の研磨加工と鏡面加工は2回以上反復でき、鏡面層の形成過程も2回以上反復できる。
このように鏡面層が完成されれば、鏡面層上にパターン形成層を形成する(S70)。この工程は必要によって省略され得る。鏡面層上にパターン形成層を形成する方法は、射出または押出工程によって予め備えられたパターン形成層を鏡面層上に付着する方法が適用できる。
これによって、射出物の外観不良の発生を最小化できる光学プレート用金型が完成される。
以下、図6を参照して、本発明による光学プレート用金型によって製造された光学プレートについて説明する。ここで、光学プレートは導光板223と拡散板(図示せず)などを含む構成要素であって、以下の説明では導光板223を含む液晶表示装置について説明する。
一般に、液晶表示装置(Liquid Crystal Display)は、マトリックス(Matrix)状に配列された液晶セルの光透過率を画像信号情報によって調節して所望の画像を表示する装置であって、バックライトユニットから照射される光を利用して液晶パネルに画像を形成する。
図6に示すように、このような液晶表示装置200は、画素単位を構成する液晶セルがマトリックス状に配列されている液晶パネル210、液晶パネル210に対して光を均一に供給するバックライトユニット220、及び相互結合して内部に液晶パネル210とバックライトユニット220を収容する下部カバー230と上部カバー240を含む。
液晶パネル210は、薄膜トランジスタ基板211、薄膜トランジスタ基板211に対向して付着されているカラーフィルタ基板212、及び両基板211、212の間に位置する液晶層(図示せず)を含む。薄膜トランジスタ基板211には、複数の薄膜トランジスタと外部から駆動信号の印加を受ける複数の信号線とが備えられている。カラーフィルタ基板212には、バックライトユニット220から照射された光に色相を付与する赤色、緑色及び青色のカラーフィルタが備えられている。このような液晶パネル210は画素単位を構成する液晶セルがマトリックス状に配列されており、駆動部(図示せず)から伝達される駆動信号によって液晶セルの光透過率を調節することにより画像を形成するようになる。
そして、バックライトユニット220は、液晶パネル210の背面に配置される光学シート類221、液晶パネル210の背面に光を均一に供給する導光板223、導光板223の一側に配置される光源部225、及び導光板223の後方に位置する反射板227を含む。
ここで、光学シート類221は、保護シート221a、プリズムシート221b、及び拡散シート221cを含む。保護シート221aはスクラッチに弱いプリズムシート221bを保護する。そして、プリズムシート221bは、拡散シート221cで拡散した光を上部の液晶パネル210の平面に垂直した方向に集光する役割を果たす。拡散シート221cは、光源部225からの光を拡散させて液晶パネル210に供給する役割を果たす。
上述した液晶表示装置200をなす構成要素のうち、導光板223は所定の厚さを有する射出物であって、詳述する射出成型機100によって製造される。
導光板223は略四角形状を有するプレート(plate)であり、液晶パネル210の背面に配置されて光源部235から発生した光を液晶パネル210の背面に誘導する。導光板223は、光源部235から光を受ける入射面aと、入射面aから延長されて液晶パネル210と対向する出射面bと、光源部235から入射面aに照射された光が出射面bに進行するようにパターンが形成された背面c(図7参照)とを有する。導光板223は導光板223の一側辺に沿って、つまり、入射面aに隣接して配置された光源部235から入射面aに照射された光を平面光に変え、出射面bを通じて液晶パネル210に均等に伝達するようになる。
導光板223の材質としては、強度が高くて容易に変形したり割れたりせず、透過率の良いアクリル系樹脂が用いられ、具体的には、PMMA(polymethylmethacrylate、)、PC(polycarbonate)、SAN(styrene acrylonitrile)、及びMS(methyl−styrene)などを用いることができる。実施形態とは異なって、導光板223は、下部面が傾いていて、上部面が平坦な楔状(wedge type)であり得る。ノートブックPCや携帯電話などの小型製品に適用される液晶表示装置200の場合には、楔状の導光板223が適用でき、厚さが厚い方の側辺に光源部235を備えることができる。
このような導光板223は所定の厚さを有し、均一でかつ効果的に光を液晶パネル210の背面に誘導するために、液晶パネル210に向かう面には多数のエムボシングまたはドットパターンが形成されており、下部カバー230に向かう面には多数のプリズム山が形成されている。
本発明による導光板223は、図7に示すように、コア部223aと、コア部223aを覆っている表層部223bと、コア部223aに分散されている気泡223cとを含む。コア部223aと表層部223bは実質的に同一の材質からなり、気泡223cの密度によって互いに区分される。表層部223bは気泡223cの密度がコア部223aと比べて相対的に非常に低い所であって、表層部223bにおける気泡223cの密度に対するコア部223aにおける気泡223cの密度の割合は1:100以上である。ここで、密度とは、導光板220で単位面積当たり気泡223cが占める面積の割合である。光源部235からの光を効果的に拡散させるために、気泡223cの直径dの平均は、約5μm〜50μmであることが適切である。気泡223cの直径dが5μmより小さければ、数多くの小さい気泡223cによって拡散が効果的に起きないことがあり、あまりにも多い拡散効果によって光の輝度が低下することもあり得る。一方、50μmより大きければ、気泡223cが導光板223の内部に存在する割合が小さくて拡散が確かに行われないことがある。
気泡223cは、導光板223の製造過程でガスの注入によって生成され、気泡223cの内には二酸化炭素CO及び窒素Nのうちの少なくとも一つを含む。本発明による導光板223の外観は実質的に平坦で美麗である。つまり、表層部223bの表面には、導光板223の製造に用いられる樹脂の流れ跡や気泡223cが表面に露出されることによる導光板223の外観不良が最小化されている。これは、図1に示すように、射出成型機100の第1及び第2コア110、120に鏡面層130a、130bを形成しており、第1及び第2コア110、120の材質を断熱性能の良いセラミックで製作したからである。これについては、導光板223の製造方法を説明する部分でさらに具体的に説明する。そして、気泡223cの生成によって導光板223の重量を減少させることができ、気泡223cによって導光板223の光学特性が向上する。
光源部235は、導光板223の入射面aに隣接して配置されている。光源部235は光を発生させ、通常、冷陰極蛍光ランプ(Cold Cathode Fluorescent Lamp、CCFL)、外部電極蛍光ランプ(External Electrode Fluorescent Lamp、EEFL)及び発光ダイオード(LED)が用いられる。
反射板227は、光源部235の光を反射させて拡散フィルム221cの方向に供給する役割を果たす。反射板227の材質は、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリカーボネート(PC)であり得る。
このようなバックライトユニット220は下部カバー230に収容し、上部カバー240と結合される。
上部カバー240は、液晶パネル210の有効面が外部に露出されるように表示窓を有し、下部カバー230と結合して液晶パネル210を収容する。
以下、本発明による光学プレート用金型を利用して、外観の不良が最小化された光学プレートを製造する方法について説明する。ここで、光学プレートは導光板と拡散板などを含むものであって、以下では導光板を製造する方法を例に挙げて説明する。
図8は本発明による光学プレートの製造方法を説明するための流れ図である。
まず、本発明による射出成型機の成型空間に樹脂を注入する(S100)。樹脂はアクリル系樹脂を含み、PMMA(polymethylmethacrylate、)、PC(polycarbonate)、SAN(styrene acrylonitrile)、及びMS(methyl−styrene)を用いることができる。そして、樹脂は、外部で連結された樹脂供給部を通じて注入される。ここで、本発明による射出成型機は、断熱性能の良いセラミックからなるコアを含むので、成型空間の内部に注入される樹脂の温度は成型空間の一領域と他領域で実質的に同一に維持される。つまり、最初に注入される樹脂の温度と最後に注入される樹脂の温度は均一に維持された状態で樹脂が成型空間の内部に注入されるようになる。そのため、樹脂の注入過程において、一領域に位置する樹脂が先に固化しながら発生する樹脂の流れ跡などの外観不良が最小化される。ここで、成型空間の内部の樹脂の温度偏差は実質的に10℃以内であることが好ましい。
続いて、樹脂の注入が完了すれば、成型空間にガスを注入する(S200)。ガスは超臨界状態であって、二酸化炭素及び窒素のうちの少なくとも一つを含む。一方、ガスは樹脂に混合された状態で成型空間に注入することもできる。注入されたガスによって樹脂内には複数の気泡が形成される。
次に、成型空間にガスが注入されれば、すぐ樹脂を固化させる(S300)。樹脂の固化は、冷却流路を流れる冷却水を利用してより迅速に進行することができる。ここで、セラミックを含むコアにより、樹脂は全体的に温度が均一に維持された状態で固化する。特に、金属からなる鏡面層は熱伝導度が良いので、鏡面層に接する樹脂を迅速に固化させる。つまり、樹脂の外部面が迅速に固化される。これにより、樹脂の内部で発生する気泡は樹脂の外部表面に露出できなくなる。したがって、気泡の生成による導光板の外観不良が最小化される。
また、鏡面層は実質的に滑らかで平坦に備えられているので、鏡面層に接触する樹脂の表面も実質的に滑らかで平坦に備えられ、導光板の外観が美麗になる。また、気泡の生成によって用いられる樹脂の量を節減することができ、重量を減少させることができる。これに加え、気泡によって導光板の光学特性が向上する。
最後に、樹脂が完全に固化すれば、射出物を成型空間から取り出し、図3の切断線を切断して導光板を完成する(S400)。
本発明の第1実施形態による射出成型機の要部断面図である。 本発明の第1実施形態による射出成型機から射出物を分離する方法を説明するための図面である。 本発明の第1実施形態による射出成型機によって得られた射出物の斜視図である。 本発明の第2実施形態による光学プレート用金型の要部断面図である。 本発明の第1実施形態による光学プレート用金型を製造する方法を説明するための流れ図である。 本発明の一実施形態による液晶表示装置の分解斜視図である。 図6のVII−VII線に沿った断面図である。 本発明による光学プレートの製造方法を説明するための流れ図である。
符号の説明
100 射出成型機
110 第1コア
120 第2コア
130a、130b 鏡面層
135a、135b パターン形成層
140、150 コアブロック
160 ゲート
170 ランナー
200 液晶表示装置
210 液晶パネル
211 薄膜トランジスタ基板
212 カラーフィルタ基板
220 バックライトユニット
221 光学シート類
223 導光板
223a コア部
223b 表層部
223c 気泡
225 光源部
227 反射板
230 下部カバー
240 上部カバー

Claims (26)

  1. 互いに対向配置され成型空間を形成する第1コアと第2コアとを備える光学プレート用金型であって、
    前記第1コアは第1面を有し、
    前記第2コアは第2面を有し、
    前記第1面と前記第2面とは前記成型空間を挟んで対向していて、
    前記第1面及び前記第2面のうちの少なくとも一つに鏡面層が形成されている、光学プレート用金型。
  2. 前記鏡面層は金属を含む、請求項1に記載の光学プレート用金型。
  3. 前記鏡面層は、金、銀、アルミニウム、銅、及びニッケルからなる群より選択された少なくとも一つを含む、請求項2に記載の光学プレート用金型。
  4. 前記鏡面層は、200μm〜300μmの厚さを有する、請求項2に記載の光学プレート用金型。
  5. 前記鏡面層の表面は、鏡面加工によって実質的に平坦である、請求項3または4に記載の光学プレート用金型。
  6. 前記第1コア及び前記第2コアのうちの少なくとも一つはセラミックを含む、請求項5に記載の光学プレート用金型。
  7. 前記第1コア及び前記第2コアのうちの少なくとも一つは、本体部と、前記本体部を覆っているセラミック層と、を含み、
    前記鏡面層は、前記セラミック層上に形成されている、請求項6に記載の光学プレート用金型。
  8. 前記第1コア及び前記第2コアのうちの少なくとも一つには、冷却流路が形成されている、請求項7に記載の光学プレート用金型。
  9. 前記第1コア及び前記第2コアのそれぞれに前記鏡面層が形成されていて、前記第1コア及び前記第2コアは、それぞれ前記鏡面層上に形成されているパターン形成層をさらに含む、請求項7に記載の光学プレート用金型。
  10. 前記パターン形成層には、凹刻のドットパターンまたは凹刻のプリズム山が形成されている、請求項9に記載の光学プレート用金型。
  11. 前記第1コア及び前記第2コアと共に前記成型空間を外部空間から遮断する複数のコアブロックをさらに備える、請求項9に記載の光学プレート用金型。
  12. 前記複数のコアブロックのうちの少なくとも一つに形成され、前記成型空間と前記外部空間を連結するゲートをさらに備える、請求項11に記載の光学プレート用金型。
  13. 成型空間を有する光学プレート用金型の製造方法であって、
    セラミック素材を加工して板状のコアを形成する段階と、
    前記成型空間を形成する前記コアの内壁面を研磨加工する段階と、
    研磨加工された前記コアの面を鏡面加工する段階と、
    鏡面加工された前記コアの面に鏡面層を形成する段階と、
    前記鏡面層を研磨加工する段階と、
    研磨加工された前記鏡面層を鏡面加工する段階と、
    を備える光学プレート用金型の製造方法。
  14. 前記鏡面層の形成と前記鏡面層の加工工程を、2回以上反復実施する、請求項13に記載の光学プレート用金型の製造方法。
  15. 前記鏡面層を、金、銀、アルミニウム、銅、及びニッケルからなる群より選択された少なくとも一つを用いて形成する、請求項14に記載の光学プレート用金型の製造方法。
  16. 前記鏡面層の厚さを、200μm〜300μmに調整する、請求項14に記載の光学プレート用金型の製造方法。
  17. 前記鏡面層上にパターン形成層を形成する段階をさらに備え、
    前記パターン形成層に、凹刻のドットパターンまたは凹刻のプリズム山を形成する、請求項14に記載の光学プレート用金型の製造方法。
  18. 光学プレートの製造方法であって、
    前記請求項1乃至請求項11のうちのいずれか一項に記載の光学プレート用金型によって形成された成型空間に樹脂を注入する樹脂注入段階と、
    前記成型空間にガスを注入するガス注入段階と、
    前記樹脂を固化させる固化段階と、
    を備え、
    前記樹脂注入段階では、前記成型空間の内部に注入される前記樹脂の温度を実質的に均一に維持する、光学プレートの製造方法。
  19. 前記前記樹脂注入段階では、前記成型空間の内部の前記樹脂の温度偏差は、実質的に10℃以内となるように前記樹脂の温度を維持する、請求項18に記載の光学プレートの製造方法。
  20. 前記樹脂はアクリル系樹脂を含む、請求項18に記載の光学プレートの製造方法。
  21. 前記樹脂は、ポリメチルメタクリレート(polymethylmethacrylate、PMMA)、ポリカーボネート(polycarbonate、PC)、スチレン−アクリロニトリル(styreneacrylonitrile、SAN)、及びMS(methyl−styrene)からなる群より選択される少なくとも一つを含む、請求項20に記載の光学プレートの製造方法。
  22. 前記ガスは、二酸化炭素及び窒素のうちの少なくとも一つを含む、請求項18に記載の光学プレートの製造方法。
  23. 複数の気泡が分散されているコア部と、
    前記コア部の少なくとも一部を覆っており、前記コア部と比べて相対的に気泡の密度が少ない表層部と、
    を備え、
    前記表層部の表面は実質的に平坦である光学プレート。
  24. 前記表層部における前記気泡の密度に対する前記コア部における前記気泡の密度の割合は、1:100以上である、請求項23に記載の光学プレート。
  25. 前記気泡の直径は、5μm〜50μmである、請求項23に記載の光学プレート。
  26. 前記気泡は、二酸化炭素及び窒素のうちの少なくとも一つを含む、請求項23に記載の光学プレート。
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