JP2008028230A - ホットプレートの温度調節システム - Google Patents

ホットプレートの温度調節システム Download PDF

Info

Publication number
JP2008028230A
JP2008028230A JP2006200643A JP2006200643A JP2008028230A JP 2008028230 A JP2008028230 A JP 2008028230A JP 2006200643 A JP2006200643 A JP 2006200643A JP 2006200643 A JP2006200643 A JP 2006200643A JP 2008028230 A JP2008028230 A JP 2008028230A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refrigerant
temperature
hot plate
flow rate
passage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006200643A
Other languages
English (en)
Inventor
Masuo Yoshioka
万寿男 吉岡
Tomomi Katagiri
智美 片桐
Shoichi Kobayashi
正一 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Orion Machinery Co Ltd
Original Assignee
Orion Machinery Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Orion Machinery Co Ltd filed Critical Orion Machinery Co Ltd
Priority to JP2006200643A priority Critical patent/JP2008028230A/ja
Publication of JP2008028230A publication Critical patent/JP2008028230A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Control Of Temperature (AREA)

Abstract

【課題】基板を加熱するホットプレートのメンテナンスを行う際に、短時間で確実に冷却することができる温度調節システムを提供する。
【解決手段】ホットプレート20内部を通過して設けられ、ホットプレート内部に第1の冷媒を循環させる第1の通路22と、第1の通路22に第1の冷媒を循環させるポンプ36と、第1の通路22内を循環する第1の冷媒の流量を制御する流量制御装置38と、第2の通路25により第2の冷媒を循環させる冷却装置26と、第1の通路22を流れる第1の冷媒と第2の通路25を流れる第2の冷媒との間で熱交換させ、第1の冷媒を冷却する熱交換器24と、熱交換器24から冷却装置26へ戻る第2の冷媒の温度を検出する温度検出部28とを具備し、流量制御装置38は、温度検出部28によって検出された第2の冷媒の温度に基づいて、熱交換器24を通過する第1の冷媒の流量を制御する。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体基板や液晶表示装置用のガラス基板など、基板を加熱する際に用いられるホットプレートの温度を調節するシステムに関する。
液晶表示装置の製造工程においては、液晶表示装置を構成するガラス基板を乾燥させる工程や、ガラス基板をエージングする工程が含まれており、ガラス基板を加熱する必要性がある。
また、半導体基板の製造工程においても、感光性樹脂をウエハ(基板)表面に塗布した後、感光性樹脂膜の乾燥時や硬化時に基板を加熱する必要性がある。
このように種々の基板の製造時には、基板を載置して所定温度に加熱できるようなホットプレートが用いられる。
一般的に、ホットプレートはヒータを具備する金属製の板状体であり、ホットプレートの上面に加熱対象となる基板が載置されることで、基板を加熱するように設けられている。
なお、ホットプレートは2週間に1回程度メンテナンスの必要がある。
液晶表示装置を加熱する場合、ホットプレートの温度は150度程度に上昇しており、面ヒータの電源を切ってもすぐに作業者が作業できる程度の温度には冷却されない。このため、ホットプレートをメンテナンスする際には、冷却用流体を加熱処理部に流入させる構成がすでに知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開平11−340114号公報
上述した特許文献1には、ホットプレートのメンテナンス時にホットプレートを冷却するための冷却用流体としては、外気等の気体や冷却水等の液体であってもよい旨が記載されてはいる。
しかし、ホットプレートが設けられているチャンバー内に単に外気を導入するだけでは冷却効率がよいとはいえず、メンテナンス可能な程度にまでホットプレートが冷却されるまで時間がかかっているという課題があった。
また、冷却水を用いてホットプレートを冷却しようとしても、150度にも温度が上昇しているホットプレートに冷却水を単に接触させれば、水が一瞬に沸騰して蒸発してしまい冷却ができないばかりでなく、冷却水を冷却する冷却装置の破損や故障の危険性もあるという課題がある。
このように、冷却水を用いた冷却方法は従来から問題があったため、特許文献1では冷却水を用いてもよいという程度の記載があるのみであり、具体的な提案は何らなされていない。
本発明者等は、ホットプレートの冷却の際に、外気導入のみでは時間がかかりすぎるので、何らかの冷媒を用いて冷却時間の短縮を図り、且つ冷却装置の破損等を防止すべく鋭意検討を行った結果、本発明に想到した。
すなわち、本発明は上記課題を解決すべくなされ、その目的とするところは、基板を加熱するホットプレートのメンテナンスを行う際に、短時間で確実に冷却することができる温度調節システムを提供することにある。
本発明は上記目的を達成すべく、以下の構成を備える。
すなわち、本発明のホットプレートの温度調節システムによれば、基板を加熱するホットプレートの温度調節を行う温度調節システムであって、ホットプレート内部を通過して設けられ、ホットプレート内部に第1の冷媒を循環させる第1の通路と、第1の通路に第1の冷媒を循環させるポンプと、第1の通路内を循環する第1の冷媒の流量を制御する流量制御装置と、第2の通路により第2の冷媒を循環させる冷却装置と、前記第1の通路を流れる第1の冷媒と前記第2の通路を流れる第2の冷媒との間で熱交換させ、第1の冷媒を冷却する熱交換器と、熱交換器から冷却装置へ戻る第2の冷媒の温度を検出する温度検出部とを具備し、前記流量制御装置は、該温度検出部によって検出された第2の冷媒の温度に基づいて、熱交換器を通過する第1の冷媒の流量を制御することを特徴としている。
この構成を採用することによって、ホットプレートに直接接するのは第1の冷媒であり、冷却装置によって循環する第2の冷媒が第1の冷媒を冷却することで間接的にホットプレートが冷却される。このため、ホットプレートを直接冷却装置の冷媒が冷却する場合に比較して、冷却装置の冷媒の温度が急激に上昇してしまうおそれを減らし、冷却装置の破損や故障を防止できる。
また、冷却装置の第2の冷媒の温度に基づいて、第1の通路を流れる第1の冷媒の流量を制御するので、第2の冷媒の温度が冷却装置のスペックを超えないようにでき、冷却装置の破損や故障を防止できる。
さらに、第2の冷媒の温度が、冷却装置が有する冷却性能を最大限引き出すことができる温度となるように、第1の冷媒の流量を制御できるので、冷却効率を高めて冷却時間の短縮を図ることができる。
また、前記流量制御装置は、前記ポンプの回転数を制御することを特徴としてもよく、前記第1の通路には、第1の通路内を流通する第1の冷媒の流量を制御する流量バルブが設けられ、前記流量制御装置は、該流量バルブの開閉度を制御することを特徴としてもよい。
さらに、前記ホットプレートは、複数設けられ、複数のホットプレート内を通過する第1の通路は、互いに並列に連結されており、且つそれぞれ熱交換器への連結を開閉するバルブを有していることを特徴としてもよい。
この構成によれば、複数のホットプレートのうち、いずれかを選択して冷却することができる。すなわち、冷却しようとするホットプレートに連結された第1の通路のバルブを開き、他のホットプレートに連結された第1の通路のバルブを閉じることにより、冷却しようとするホットプレートのみ熱交換器を介して冷却することができる。
本発明にかかるホットプレートの温度調節システムによれば、冷却装置によって冷却された冷媒がホットプレート内を流通することによって冷却時間の短縮を図ることができ、また冷媒を冷却する冷却装置の故障や破損の防止を図ることができる。
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて詳細に説明する。
(第1の実施形態)
図1にホットプレートの斜視図を示し、図2に本実施形態の温度調節システム全体の構成を示す。
第1の実施形態の温度調節システムは、液晶表示装置の製造段階においてガラス基板を加熱するホットプレートのメンテナンス時に、ホットプレートを冷却するためのシステムである。
図1に示すように、ホットプレート20は、熱伝導のよい金属製の板状体であり、下面に面ヒータ21が設けられている。面ヒータ21に電源が投入されることによってホットプレート20が加熱される。ホットプレート20は加熱時には150度程度にまで昇温される。
ホットプレート20と熱交換器24との間には、第1の通路(具体的にはパイプ)22が配設されており、第1の冷媒が循環するように設けられている。
ホットプレート20の内部には第1の冷媒が流通する第1の通路22が蛇行して配置されている。ただし、図1では第1の通路22の蛇行の端部であるU字管部分は省略して図示している。
第1の通路22がホットプレート20内に多数配置されていることにより、ホットプレート20と第1の冷媒との接触面積が増加して、より効率的な冷却が行える。なお、本実施形態では、ホットプレート20が第1の通路22によって3枚直列に連結される構成を採用している。
第1の冷媒としては、150度以上の温度変化にも変質せず、且つ沸点が150度よりも高い液体が望まれる。具体的には、オイル、フッ素系熱媒体、イオン性液体(常温溶融塩)などが考えられる。
熱交換器24では、冷却装置26から導入される第2の冷媒と第1の冷媒が熱交換することによって、第1の冷媒が高温から低温に冷却され、第2の冷媒が低温から高温に昇温する。第2の冷媒は、第2の通路25(具体的にはパイプ)を通して冷却装置26と熱交換器24との間を循環する。
熱交換器24としては、円筒形の容器内に複数の管が配置され、第1の冷媒と第2の冷媒がそれぞれ複数の管内および管の周囲を流通するように設けた多管式熱交換器や、二重管式熱交換器や、管を螺旋状に形成して容器内に収納したコイル式熱交換器や、プレート式熱交換器を用いることができる(図示せず)。
冷却装置26としては、冷凍式のチラー、クーリングタワー、工場の冷却水源等を用いることができる。本実施形態の第2の冷媒としては水が用いられているが、特に水に限定するものではない。
冷却装置26は、熱交換器24へ導入する水の温度が20度程度、熱交換器24から導出される高温となった水の温度が24度程度になる程度の温度差となるように水を循環している。
熱交換器24から冷却装置26へ戻る側の第2の通路25においては温度センサ28が設けられており、熱交換によって高温となった第2の冷媒の温度を検出している。
また、第1の通路22には、バッファタンク30が設けられている。バッファタンク30は、第1の冷媒をすべてタンク内に回収可能な容積を持たせている。
バッファタンク30にはフロートスイッチ32が設けられている。フロートスイッチ32は、面ヒータ21の電源のオン−オフを制御する制御回路(図示せず)に接続されており、第1の冷媒が所定量以下に減少した場合には、フロートスイッチ32がオンとなり、面ヒータを制御する制御回路がホットプレート20の加熱を停止するように面ヒータ21の電源を制御すると共にポンプ36(後述する)を停止させる。
さらに、第1の通路22には、安全弁34が設けられており、第1の通路22内の圧力が急激に上昇したような場合であっても、圧力を逃がして第1の通路22の破損を防止することができる。
第1の通路22には、第1の冷媒を第1の通路22内で循環させるためのポンプ36が設けられている。ポンプとしては、羽根車の回転によるターボポンプや、ピストンまたはプランジャの往復動による容積型ポンプなどがあるが、第1の冷媒を循環可能であればどのようなポンプを用いてもよい。
ポンプ36は、流量制御装置38によって駆動制御される。流量制御装置38は、第2の冷媒の温度センサ28からの温度情報が入力されており、第2の冷媒の温度に基づいてポンプ36の駆動を制御するようにしている。
なお、本実施形態によるポンプ36はターボポンプであり羽根車の回転駆動は、モータ(図示せず)により行われている。モータの回転制御はインバータ39によって行われている。
なお、流量制御装置38の機能を内蔵したインバータを使用してもよい。
ここで、流量制御装置38における制御方法について、図3を参照しつつ説明する。
流量制御装置38は、CPU50、ROM51、RAM52、インターフェース部(I/F)54等から構成されており、ROM51内に記憶されている制御プログラムを読み込んだCPU50が、温度センサ28からの温度情報に基づいてポンプ36を制御する制御信号をインバータ39へ出力する。
流量制御装置38は、予め冷却装置26の第2の冷媒が熱交換器によって昇温した場合の最高限度温度Tmaxを記憶しており、第2の冷媒が最高限度温度Tmaxを超えないようにポンプ36を制御する。
温度センサ28からの温度情報が最高限度温度Tmaxを超えた場合には、流量制御装置38は、ポンプ36の駆動量を減少させて第1の冷媒が熱交換器24を通過する流量を減らす。このような制御によって、第2の冷媒が最高限度温度Tmaxを超えた場合であっても、第2の冷媒の温度が上昇しないように第1の冷媒の流量を減少させるので、第2の冷媒が高温になることによる冷却装置26の故障等を防止できる。
また、流量制御装置38では、第2の冷媒が熱交換器24によって昇温した場合の最低限度温度Tminを記憶しており、第2の冷媒が最低限度温度Tminを下回ることがないようにポンプ36を駆動する。温度センサ28からの温度情報が最低限度温度Tminを下回った場合には、流量制御装置38はポンプ36の駆動量を増加させて第1の冷媒が熱交換器24を通過する流量を増やす。このような制御によって、第2の冷媒が最低限度温度Tminを下回った場合は、第2の冷媒の温度を上昇させるよう第1の冷媒の循環流量を増やすので、冷却装置の冷却性能を十分に引き出して、効率的な冷却を実施できる。
なお、第1の通路22には、熱交換器24をバイパスするバイパス部40が設けられている。バイパス部40には、バイパス部40を開閉するバイパスバルブ41が設けられている。
バイパスバルブ41は、ホットプレート20への流量の調整に使用する。
なお、第1の通路22には、第1の通路22内へ第1の冷媒を注入するための注入口42や、ドレンバルブ44が設けられている。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態について図4に基づいて説明する。なお、上述した実施形態と同一の構成要素については同一の符号を付し、説明を省略する場合もある。
第2の実施形態では、ポンプ36とは別に流量バルブ46を設け、流量制御装置38は流量バルブ46の開閉度を制御している。
ここで、第2の実施形態における制御方法について図3を参照しつつ説明する。
流量制御装置38は、予め冷却装置の第2の冷媒が熱交換器24によって昇温した場合の最高限度温度Tmaxを記憶しており、第2の冷媒が最高限度温度Tmaxを超えないように流量バルブ46を制御する。
温度センサ28からの温度情報が最高限度温度Tmaxを超えた場合には、流量制御装置38は、流量バルブ46によって第1の通路22内の流量を減少させて第1の冷媒が熱交換器24を通過する流量を減らす。このような制御によって、第2の冷媒が最高限度温度Tmaxを超えた場合であっても、第2の冷媒の温度が上昇しないように第1の冷媒の流量を減少させるので、第2の冷媒が高温になることによる冷却装置26の故障等を防止できる。
また、流量制御装置38では、第2の冷媒が熱交換器24によって昇温した場合の最低限度温度Tminを記憶しており、第2の冷媒が最低限度温度Tminを下回ることがないように流量バルブ46を制御する。温度センサ28からの温度情報が最低限度温度Tminを下回った場合には、流量制御装置38は流量バルブによって第1の通路22内の流量を増加させて第1の冷媒が熱交換器24を通過する流量を増やす。このような制御によって、第2の冷媒が最低限度温度Tminを下回った場合は、第2の冷媒の温度を上昇させるよう第1の冷媒の循環流量を増やすので、冷却装置の冷却性能を十分に引き出して、効率的な冷却を実施できる。
(第3、第4の実施形態)
本発明の第3および第4の実施形態について、図5および図6に基づいて説明する。なお、上述した実施形態と同一の構成要素については同一の符号を付し、説明を省略する場合もある。
第3および第4の実施形態では、複数のホットプレート20内に配置される部位の第1の通路22(分岐通路)が並列に接続されている。
本実施形態では、3つのホットプレート20a、20b、20cには、分岐通路22a、22b、22cがそれぞれ設けられている。各分岐通路22a、22b、22cは、互いに並列となるように熱交換器24に接続された第1の通路22に連結されている。
なお、各分岐通路22a、22b、22cの両端には、各分岐通路22a、22b、22cを閉塞するためにバルブ48a、48b、48cがそれぞれ設けられている。
このような構成を採用することにより、ホットプレート20a、20b、20cを1枚ずつ冷却することができる。このとき、冷却しようとするホットプレートの分岐通路に設けられたバルブを開け、他のホットプレートのバルブは閉じておく。
そして、バルブが開けられたホットプレートを第1の冷媒が循環するので、このホットプレートが冷却される。そして、冷却されたホットプレートのバルブを閉じ、次に冷却させようとするホットプレートのバルブを開けるようにして、ホットプレートは1枚ずつ冷却作業される。
このように、複数のホットプレート20を個別に冷却していくことにより、複数のホットプレート20を直列に接続した場合よりも1枚あたりの冷却時間は短縮される。そこで、1枚ずつホットプレート20を冷却してメンテナンスを行う場合には、冷却が終了したホットプレート20から順次メンテナンスを行うことができ、複数のホットプレート20が同時に冷却完了されるのを待つよりも、メンテナンス時の作業効率を上げることができる。
なお、図5に示した温度調節システムは、第1の実施形態のように流量制御装置38が冷却装置26の第2の冷媒の温度情報に基づいて、ポンプ36を制御する形態である。
図6に示した調節システムは、第2の実施形態のように流量制御装置38が冷却装置26の第2の冷媒の温度情報に基づいて、流量バルブ46を制御する形態である。
上述してきた各実施形態では、流量制御装置38は、第2の冷媒の温度が、常に最低限度温度Tminと最高限度温度Tmaxの間にあるように、第1の冷媒の流量を制御するものであった。
しかし、流量制御装置38の制御方法としては、上記のような方法に限定されることはない。例えば、第2の冷媒の温度が最高限度温度Tmaxを超えないようにするだけであって、最低限度温度Tminについては関知しないような制御であってもよい。
さらに、流量制御装置38は、第2の冷媒の温度が常に予め決められた一定の温度となるように第1の冷媒の流量を制御してもよい。
以上本発明につき好適な実施形態を挙げて種々説明したが、本発明はこの実施形態に限定されるものではなく、発明の精神を逸脱しない範囲内で多くの改変を施し得るのはもちろんである。
ホットプレートを説明する斜視図である。 第1の実施形態のホットプレートの温度調節システムの概略説明図である。 流量制御装置を説明するブロック図である。 第2の実施形態のホットプレートの温度調節システムの概略説明図である。 第3の実施形態のホットプレートの温度調節システムの概略説明図である。 第4の実施形態のホットプレートの温度調節システムの概略説明図である。
符号の説明
20 ホットプレート
21 面ヒータ
22 第1の通路
24 熱交換器
25 第2の通路
26 冷却装置
28 温度センサ
30 バッファタンク
32 フロートスイッチ
34 安全弁
36 ポンプ
38 流量制御装置
39 インバータ
40 バイパス部
41 バイパスバルブ
42 注入口
44 ドレンバルブ
46 流量バルブ
48 バルブ
Tmax 最高限度温度
Tmin 最低限度温度

Claims (4)

  1. 基板を加熱するホットプレートの温度調節を行う温度調節システムであって、
    ホットプレート内部を通過して設けられ、ホットプレート内部に第1の冷媒を循環させる第1の通路と、
    第1の通路に第1の冷媒を循環させるポンプと、
    第1の通路内を循環する第1の冷媒の流量を制御する流量制御装置と、
    第2の通路により第2の冷媒を循環させる冷却装置と、
    前記第1の通路を流れる第1の冷媒と前記第2の通路を流れる第2の冷媒との間で熱交換させ、第1の冷媒を冷却する熱交換器と、
    熱交換器から冷却装置へ戻る第2の冷媒の温度を検出する温度検出部とを具備し、
    前記流量制御装置は、該温度検出部によって検出された第2の冷媒の温度に基づいて、熱交換器を通過する第1の冷媒の流量を制御することを特徴とするホットプレートの温度調節システム。
  2. 前記流量制御装置は、前記ポンプの回転数を制御することを特徴とする請求項1記載のホットプレートの温度調節システム。
  3. 前記第1の通路には、第1の通路内を流通する第1の冷媒の流量を制御する流量バルブが設けられ、
    前記流量制御装置は、該流量バルブの開閉度を制御することを特徴とする請求項1記載のホットプレートの温度調節システム。
  4. 前記ホットプレートは、複数設けられ、
    複数のホットプレート内を通過する第1の通路は、互いに並列に連結されており、且つそれぞれ熱交換器への連結を開閉するバルブを有していることを特徴とする請求項1〜請求項3のうちのいずれか1項記載のホットプレートの温度調節システム。
JP2006200643A 2006-07-24 2006-07-24 ホットプレートの温度調節システム Pending JP2008028230A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006200643A JP2008028230A (ja) 2006-07-24 2006-07-24 ホットプレートの温度調節システム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006200643A JP2008028230A (ja) 2006-07-24 2006-07-24 ホットプレートの温度調節システム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008028230A true JP2008028230A (ja) 2008-02-07

Family

ID=39118544

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006200643A Pending JP2008028230A (ja) 2006-07-24 2006-07-24 ホットプレートの温度調節システム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008028230A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009022736A1 (ja) 2007-08-16 2009-02-19 Fujifilm Corporation ヘテロ環化合物、紫外線吸収剤及びこれを含む組成物
CN110351987A (zh) * 2019-07-15 2019-10-18 珠海格力电器股份有限公司 散热器、控制器、光伏用电设备和散热方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009022736A1 (ja) 2007-08-16 2009-02-19 Fujifilm Corporation ヘテロ環化合物、紫外線吸収剤及びこれを含む組成物
CN110351987A (zh) * 2019-07-15 2019-10-18 珠海格力电器股份有限公司 散热器、控制器、光伏用电设备和散热方法
CN110351987B (zh) * 2019-07-15 2024-02-23 珠海格力电器股份有限公司 散热器、控制器、光伏用电设备和散热方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101222331B1 (ko) 히트 펌프식 급탕기
KR101109730B1 (ko) 반도체 공정용 칠러 장치 및 이의 온도제어 방법
KR100844001B1 (ko) 온도제어장치 및 그 운전방법
KR101058575B1 (ko) 태양열을 이용한 난방장치
JP5524571B2 (ja) ヒートポンプ装置
JP2008121923A (ja) ヒートポンプ式給湯機
JP2010175136A (ja) 地中熱ヒートポンプ装置
CN111957991B (zh) 对工具机主轴提供升降温效果的辅助装置
KR100511242B1 (ko) 공기 조화 장치
WO2010131516A1 (ja) 給湯システム
JP2008028230A (ja) ホットプレートの温度調節システム
JP2007315621A (ja) 水冷ヒートポンプ式空調熱源装置
JP5455338B2 (ja) 冷却塔及び熱源機システム
JP5563521B2 (ja) 地中熱ヒートポンプ装置
KR101762264B1 (ko) 공냉식 냉각기가 적용된 온도제어장치 및 이에 의한 온도제어방법
CN206251537U (zh) 可控制循环水温度的循环冷却装置
JP2009264714A (ja) ヒートポンプ温水システム
KR100653455B1 (ko) 고온용 및 저온용 열교환기를 구비한 반도체 공정용 칠러
CN107269598B (zh) 油冷机
JP2004150664A (ja) 冷却装置
JP2011114279A (ja) 温調装置
JP2009014305A (ja) チラー装置
JP6983429B2 (ja) 4方向電磁弁を介して工作機械の部材に昇降温効果を生じる補助装置
JP2003202175A (ja) チラー装置
JP3632502B2 (ja) ヒートポンプ風呂給湯機