JP2008014935A - 表面検査装置及びその方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体レーザのような広帯域のレーザ光源を干渉計に用いた光干渉方式を用いた表面検査装置において、照明光源に可干渉距離の短いスペクトルの幅の広い半導体レーザを使用し、分岐光学要素4と合成光学要素15との間の2つの光路の各々に、互にわずかに異なる周波数で変調する変調光学要素5、10と光路長を調整できる光路長可変光学要素8、13とを設置し、干渉強度を計測しながら、前記光路長可変光学要素8、13を調整して干渉強度が最大となるように構成した。
【選択図】 図1
Description
さらに、光路長調整板8、13をあおり機構部101によって、あおり方向63にφ度傾けることによっても、同様に光路長調整板8、13内部を透過する距離が変化し、式(1)の関係からT’’となり、(T’’−T’)の光路差が発生する。
Claims (18)
- 試料の表面を検査する装置であって、
あるスペクトル幅を有するレーザ光を発射するレーザ光源と、
前記レーザ光源から発射されたレーザ光の光路を2つに分岐する第1の分岐部と、該第1の分岐部で2つに分岐させた双方のレーザ光を互いに異なる周波数で変調する周波数変調部と、前記第1の分岐部で2つに分岐させたレーザ光の互いの光路長を調整する光路長調整部と、該光路長調整部で互いの光路長が調整されたレーザ光を合成する第1の合成部とを備える変調光学系と、
前記変調光学系から合成して出力された互いに異なる周波数で変調したレーザ光を2つに分岐する第2の分岐部と、該第2の分岐部で分岐した一方のレーザ光を試料に照射する試料光照射部と、参照反射板と、前記第2の分岐部で分岐した他方のレーザ光を前記参照反射板に照射する参照光照射部とを備えるレーザ照射光学系と、
該レーザ照射光学系により一方のレーザ光が照射された前記試料から反射してきたレーザ光と前記レーザ照射光学系により他方のレーザ光が照射された前記参照反射板から反射してきたレーザ光を合成する第2の合成部と、該第2の合成部で合成したレーザ光を受光して信号を得るセンサ部とを備えるレーザ検出光学系と、
前記レーザ検出光学系の前記センサ部で受光して得た信号を処理して前記試料の表面の状態の情報を得る信号処理部とを含むことを特徴とする表面検査装置。 - 前記レーザ光源は数nmのスペクトル幅を有する広帯域の半導体レーザであることを特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
- 更に、少なくとも前記変調光学系の第1の合成部で合成されて互いの光路長が調整されたレーザ光の干渉の状態をモニタするモニタ手段を備えることを特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
- 前記光路長調整部は、前記モニタ手段でモニタされるレーザ光の干渉強度が最も強くなるように前記2つに分岐させたレーザ光の互いの光路長を調整することが可能であることを特徴とする請求項3記載の表面検査装置。
- 前記レーザ検出光学系のセンサ部は前記第2の合成部で合成されたレーザの干渉強度を干渉信号として検出するように構成し、
前記信号処理部は前記レーザ検出光学系のセンサ部で検出された干渉信号から該干渉信号の位相差を検出し、該検出した干渉信号の位相差の情報を用いて前記試料の表面の状態の情報を得るように構成することを特徴とする請求項1記載の表面検査装置。 - 前記信号処理部は前記レーザ検出光学系のセンサ部で検出された信号を処理して前記試料の表面の凹凸欠陥の形状を計測するように構成することを特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
- 更に、前記試料を載置して回転と少なくとも一方向への移動が可能なテーブル手段を備えたことを特徴とする請求項1記載の表面検査装置。
- 試料の表面を検査する方法であって、
レーザ光源から発射されたレーザ光の光路を2つに分岐し、該2つに分岐した双方のレーザ光を互いに異なる周波数で変調すると共に前記2つに分岐したレーザ光を光路長調整部を通過させて互いの光路長を調整し、該互いに異なる周波数で変調し互いの光路長が調整されたレーザ光を合成する変調ステップと、
該変調ステップにおいて合成されたレーザ光を分岐して一方のレーザ光を試料に照射すると共に前記分岐した他方のレーザ光を参照反射板に照射し、前記試料に照射したレーザ光による前記試料からの反射したレーザ光と前記参照反射板に照射したレーザ光による前記参照反射板から反射してきたレーザ光とを合成し、該合成したレーザ光をセンサで検出して信号を得る検出ステップと、
該検出ステップで得られた信号を処理して前記試料の表面の状態の情報を得る信号処理ステップとを含むことを特徴とする表面検査方法。 - 前記変調ステップにおいて、前記レーザ光源から発射されるレーザ光は、数nmのスペクトル幅を有する広帯域の半導体レーザであることを特徴とする請求項8記載の表面検査方法。
- 更に、前記変調ステップにおいて前記互いに異なる周波数で変調されて互いの光路長が調整されて合成されたレーザ光の干渉状態をモニタするモニタステップを含むことを特徴とする請求項8記載の表面検査方法。
- 前記変調ステップにおいて、前記モニタステップでモニタされたレーザの干渉強度が最も強くなるように前記2つに分岐させたレーザ光の互いの光路長を調整することを特徴とする請求項10記載の表面検査方法。
- 前記検出ステップにおいて、前記合成されたレーザ光の干渉強度を前記センサで検出して干渉信号を得、
前記信号処理ステップにおいて、前記得られた干渉信号から該干渉信号の位相差を検出し、該検出した干渉信号の位相差の情報を用いて前記試料の表面の状態の情報を得ることを特徴とする請求項8記載の表面検査方法。 - 前記信号処理ステップにおいて、前記得られた信号を処理して前記試料の表面の凹凸欠陥の形状を計測することを特徴とする請求項8記載の表面検査方法。
- 前記検出ステップにおいて、前記分岐した一方のレーザ光を試料に照射する際、該試料は回転すると共に少なくとも一方向へ移動することを特徴とする請求項8記載の表面検査方法。
- 試料の表面を検査する方法であって、
レーザ光源から発射されたレーザ光を2つの光路に分岐し、該分岐したレーザ光を互いに異なる周波数で変調させ分岐した互いの光路長を調整した後に合成する変調ステップと、
該変調ステップにおいて合成されたレーザ光を再度分岐して一方のレーザ光を回転しながら1方向に移動している試料に照射すると共に他方のレーザ光を固定された参照反射板に照射し、該照射による前記回転しながら1方向に移動している試料から反射したレーザ光と前記固定された参照反射板から反射してきたレーザ光とを再度合成し、該再度合成したレーザ光をセンサで検出して信号を得る検出ステップと、
該検出ステップにおいて前記センサで検出して得た信号を処理して前記試料の表面の状態の情報を得る信号処理ステップとを含むことを特徴とする表面検査方法。 - 前記変調ステップにおいて、前記レーザ光源から発射されるレーザは、数nmのスペクトル幅を有する広帯域の半導体レーザであることを特徴とする請求項15記載の表面検査方法。
- 前記検出ステップにおいて、前記センサは前記再度合成されたレーザ光の干渉強度を干渉信号として検出し、
前記信号処理ステップにおいて、前記検出ステップで検出した干渉信号から該干渉信号の位相差を検出し、該検出した干渉信号の位相差の情報を用いて前記試料の表面の状態の情報を得ることを特徴とする請求項15記載の表面検査方法。 - 前記信号処理ステップにおいて、前記検出ステップにおいて前記センサで検出して得た信号を処理して前記試料の表面の凹凸欠陥の形状を計測することを特徴とする請求項15記載の表面検査方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8502988B2 (en) | 2009-09-15 | 2013-08-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Pattern inspection apparatus and pattern inspection method |
US8643845B2 (en) | 2009-12-01 | 2014-02-04 | Samsung Display Co., Ltd. | Interferometric surface inspection using a slit-shaped reference beam from inspection surface |
JP2022505869A (ja) * | 2018-10-26 | 2022-01-14 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレーション | 共焦点光学分度器および構造化光照明によって角度を判定するための方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH02236102A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Hitachi Ltd | レーザ干渉測長器 |
JP2000065931A (ja) * | 1998-08-18 | 2000-03-03 | Ono Sokki Co Ltd | レーザ干渉測定装置 |
JP2000121318A (ja) * | 1998-10-12 | 2000-04-28 | Hitachi Electronics Eng Co Ltd | 光干渉計の干渉位相検出方式 |
-
2007
- 2007-05-29 JP JP2007142257A patent/JP2008014935A/ja active Pending
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JP7372968B2 (ja) | 2018-10-26 | 2023-11-01 | ノースロップ グラマン システムズ コーポレーション | 共焦点光学分度器および構造化光照明によって角度を判定するための方法 |
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