JP2008011928A - Sterilization system - Google Patents

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JP2008011928A
JP2008011928A JP2006183809A JP2006183809A JP2008011928A JP 2008011928 A JP2008011928 A JP 2008011928A JP 2006183809 A JP2006183809 A JP 2006183809A JP 2006183809 A JP2006183809 A JP 2006183809A JP 2008011928 A JP2008011928 A JP 2008011928A
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sterilization
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Yoshihiro Sasaki
義弘 佐々木
Masaichi Shibuya
政一 渋谷
Shuichi Hario
秀一 針生
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Daikin Industries Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To increase sterilizing effects in a treatment chamber for carrying in and out equipment. <P>SOLUTION: A sterilization system circuit (50) is equipped with a sterilizing gas supply main flow passage (52) for distributing a sterilizing gas and for supplying to each treatment chamber (2a, 2b, 2c). Furthermore, the sterilization system circuit (50) is equipped with a fourth sterilizing gas supply passage (68) for supplying the sterilizing gas only to the first treatment chamber (2a) at a large flow volume and a circulating flow passage (95) for a pass box (PB) for returning a part of the sterilizing gas supplied to the first treatment chamber (2a) to the fourth sterilizing gas supply passage (68). Since the sterilizing gas is supplied to and discharged from the first treatment chamber (2a) at a large flow volume, the sterilizing gas spreads over the details of the equipment. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、機材搬入出用の処理室を含む複数の処理室に対して滅菌処理を行う滅菌システムに関するものである。     The present invention relates to a sterilization system that sterilizes a plurality of processing chambers including processing chambers for loading and unloading equipment.

従来より、密閉可能な処理室(例えば、医薬品製造室等)に対し、過酸化水素蒸気を供給して該処理室内を滅菌処理する滅菌システム(滅菌装置)が知られている。例えば、特許文献1の滅菌装置は、過酸化水素蒸気を発生させる過酸化水素蒸気発生器が設けられた過酸化水素供給通路と、処理室に無菌空気を供給する空気供給通路とを備えている。この滅菌装置では、過酸化水素供給通路から処理室へ過酸化水素蒸気が供給される。その後、空気供給通路から処理室へ無菌空気が導入されて処理室の過酸化水素が分散されることにより、処理室の滅菌処理が行われる。
特開平10−328276号公報
2. Description of the Related Art Conventionally, a sterilization system (sterilization apparatus) is known that supplies hydrogen peroxide vapor to a sealable processing chamber (for example, a pharmaceutical manufacturing chamber) to sterilize the processing chamber. For example, the sterilization apparatus of Patent Document 1 includes a hydrogen peroxide supply passage provided with a hydrogen peroxide vapor generator that generates hydrogen peroxide vapor, and an air supply passage that supplies aseptic air to the processing chamber. . In this sterilizer, hydrogen peroxide vapor is supplied from the hydrogen peroxide supply passage to the processing chamber. Thereafter, aseptic air is introduced into the processing chamber from the air supply passage and hydrogen peroxide in the processing chamber is dispersed, so that the processing chamber is sterilized.
JP-A-10-328276

ところで、この種の滅菌装置では、並列に配置された複数の処理室を対象とすることも考えられる。その場合、上記特許文献1の滅菌装置を適用すると、過酸化水素供給通路や空気供給通路が途中で分岐して各処理室へ接続される。そして、過酸化水素蒸気や無菌空気が各処理室へ分配供給される。     By the way, in this kind of sterilizer, it is also possible to target a plurality of processing chambers arranged in parallel. In that case, if the sterilization apparatus of the said patent document 1 is applied, a hydrogen peroxide supply path and an air supply path will branch on the way, and will be connected to each process chamber. Then, hydrogen peroxide vapor and aseptic air are distributed and supplied to each processing chamber.

ここで、処理室の1つとして、他の処理室で用いるための機材を搬入し、その機材に対して滅菌処理を行うものが設けられる場合がある。このような処理室では、機材を確実に滅菌するため、その機材の隅々まで滅菌ガスを行き渡らせることが重要である。ところが、上述したように、この処理室には、他の処理室との間で過酸化水素蒸気が分配供給されるため、過酸化水素蒸気の拡散量が不足して機材の滅菌効果が不足するという問題があった。その結果、過酸化水素蒸気が機材の細部にまで行き渡らず、機材の滅菌処理が確実に行えないという問題があった。     Here, as one of the processing chambers, there may be provided a device for carrying in equipment for use in another processing chamber and performing sterilization processing on the equipment. In such a processing chamber, in order to sterilize the equipment reliably, it is important to distribute the sterilization gas to every corner of the equipment. However, as described above, since the hydrogen peroxide vapor is distributed and supplied to other processing chambers in this processing chamber, the diffusion amount of the hydrogen peroxide vapor is insufficient and the sterilization effect of the equipment is insufficient. There was a problem. As a result, there was a problem that hydrogen peroxide vapor did not reach the details of the equipment, and the equipment could not be sterilized reliably.

本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、機材搬入出用の処理室を含む並列配置された複数の処理室に対して過酸化水素蒸気による滅菌処理を行う滅菌システムにおいて、機材搬入用の処理室の滅菌処理能力を増大させ、機材を確実に滅菌処理することである。     The present invention has been made in view of such points, and an object thereof is sterilization in which sterilization is performed with hydrogen peroxide vapor on a plurality of processing chambers arranged in parallel including processing chambers for loading and unloading equipment. In the system, it is to increase the sterilization capacity of the processing room for carrying in the equipment and to sterilize the equipment reliably.

第1の発明は、過酸化水素ガスを発生させる過酸化水素発生部(110)を備え、並列に配置された複数の処理室(2a,2b,2c)に対して上記過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスの供給および排出を行うことにより処理室(2a,2b,2c)の滅菌処理を行う滅菌系統回路(50)を備えた滅菌システムを前提としている。そして、上記滅菌系統回路(50)は、上記過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスを各処理室(2a,2b,2c)へ分配して供給する供給流路(52)と、各処理室(2a,2b,2c)から排出した過酸化水素ガスが合流する排出流路(57)とを備える一方、上記滅菌系統回路(50)は、複数の処理室(2a,2b,2c)のうち第1処理室(2a)に対してのみ過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスを供給し、且つ、その過酸化水素ガスの濃度が上記供給流路(52)から第1処理室(2a)へ供給される過酸化水素ガスの濃度より高くなっている第1処理室専用供給路(68)を備えているものである。     The first invention includes a hydrogen peroxide generator (110) for generating hydrogen peroxide gas, and the hydrogen peroxide generator (2a, 2b, 2c) is disposed in parallel with the hydrogen peroxide generator (110). The sterilization system is equipped with a sterilization system circuit (50) that performs sterilization of the processing chambers (2a, 2b, 2c) by supplying and discharging hydrogen peroxide gas of 110). The sterilization system circuit (50) includes a supply flow path (52) that distributes and supplies the hydrogen peroxide gas of the hydrogen peroxide generation section (110) to the processing chambers (2a, 2b, 2c), On the other hand, the sterilization system circuit (50) includes a plurality of processing chambers (2a, 2b, 2c), and a discharge channel (57) through which hydrogen peroxide gas discharged from each processing chamber (2a, 2b, 2c) joins. ), The hydrogen peroxide gas from the hydrogen peroxide generator (110) is supplied only to the first processing chamber (2a), and the concentration of the hydrogen peroxide gas is changed from the supply flow path (52) to the first treatment chamber (2a). The first processing chamber dedicated supply path (68) having a concentration higher than that of the hydrogen peroxide gas supplied to the one processing chamber (2a) is provided.

上記の発明では、第1処理室(2a)が例えば機材搬入出用のものである。第1処理室(2a)を含む全ての処理室(2a,2b,2c)に対して同時に滅菌処理を行う場合、過酸化水素発生部(110)で発生した過酸化水素ガスは、空気と混合し、供給流路(52)から各処理室(2a,2b,2c)へ分配供給される。そして、各処理室(2a,2b,2c)から排出した過酸化水素ガスが排出流路(57)へ合流する。また、第1処理室(2a)に対してのみ滅菌処理を行う場合、過酸化水素発生部(110)で発生した過酸化水素ガスが第1処理室専用供給路(68)を通って第1処理室(2a)へ供給される。その際、第1処理室(2a)への過酸化水素ガスの濃度が高くなっている。つまり、第1処理室(2a)において、過酸化水素ガスの供給量が多くなり、室内の過酸化水素ガスの濃度が高くなる。これにより、第1処理室(2a)の全体に過酸化水素ガスが行き渡り、そして機材の隅々まで行き渡る。したがって、機材の滅菌効果が向上する。     In the above invention, the first processing chamber (2a) is, for example, for loading / unloading equipment. When sterilizing all the processing chambers (2a, 2b, 2c) including the first processing chamber (2a) at the same time, the hydrogen peroxide gas generated in the hydrogen peroxide generator (110) is mixed with air. Then, it is distributed and supplied from the supply channel (52) to each processing chamber (2a, 2b, 2c). Then, the hydrogen peroxide gas discharged from each processing chamber (2a, 2b, 2c) joins the discharge flow path (57). Further, when the sterilization process is performed only on the first processing chamber (2a), the hydrogen peroxide gas generated in the hydrogen peroxide generating section (110) passes through the first processing chamber dedicated supply path (68) and passes through the first processing chamber (2a). It is supplied to the processing chamber (2a). At that time, the concentration of the hydrogen peroxide gas into the first processing chamber (2a) is high. That is, in the first processing chamber (2a), the supply amount of the hydrogen peroxide gas increases, and the concentration of the hydrogen peroxide gas in the chamber increases. As a result, the hydrogen peroxide gas spreads throughout the first processing chamber (2a) and reaches every corner of the equipment. Therefore, the sterilization effect of the equipment is improved.

このように、本発明では、過酸化水素ガスを高濃度で供給する第1処理室(2a)の専用供給路が設けられるので、他の処理室(2b,2c)に影響を与えることなく、確実に機材の滅菌を行うことができる。     As described above, in the present invention, since the dedicated supply path for the first processing chamber (2a) for supplying the hydrogen peroxide gas at a high concentration is provided, the other processing chambers (2b, 2c) are not affected. Equipment can be sterilized reliably.

第2の発明は、上記第1の発明において、上記排出流路(57)は、合流した過酸化水素ガスが室外へ排出されるように構成されている。一方、上記滅菌系統回路(50)は、第1処理室(2a)から排出した過酸化水素ガスが排出流路(57)へ流れる流路とは別に、第1処理室(2a)の過酸化水素ガスを排出して第1処理室専用供給路(68)へ戻す循環流路(95)を備えているものである。     In a second aspect based on the first aspect, the discharge channel (57) is configured such that the combined hydrogen peroxide gas is discharged to the outside. On the other hand, in the sterilization system circuit (50), the peroxide in the first processing chamber (2a) is separated from the flow path of the hydrogen peroxide gas discharged from the first processing chamber (2a) to the discharge flow path (57). A circulation channel (95) for discharging the hydrogen gas and returning it to the first processing chamber dedicated supply channel (68) is provided.

上記の発明では、第1処理室専用供給路(68)から第1処理室(2a)へ供給された過酸化水素ガスの一部が循環流路(95)を通って再び第1処理室専用供給路(68)へ戻る。この戻った過酸化水素ガスは、過酸化水素発生部(110)からの新たな過酸化水素ガスと合流して第1処理室(2a)へ供給される。したがって、第1処理室(2a)の過酸化水素ガスの全てが排出流路(57)を通じて室外へ排出させる場合に比べて、過酸化水素発生部(110)における過酸化水素ガスの発生量が少なくてすむ。     In the above invention, part of the hydrogen peroxide gas supplied from the first processing chamber dedicated supply path (68) to the first processing chamber (2a) passes through the circulation channel (95) and is again dedicated to the first processing chamber. Return to supply channel (68). The returned hydrogen peroxide gas merges with new hydrogen peroxide gas from the hydrogen peroxide generating section (110) and is supplied to the first processing chamber (2a). Therefore, compared with the case where all of the hydrogen peroxide gas in the first processing chamber (2a) is discharged outside the discharge channel (57), the amount of hydrogen peroxide gas generated in the hydrogen peroxide generating portion (110) is smaller. Less.

第3の発明は、上記第1または第2の発明において、上記第1処理室専用供給路(68)には、過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスを第1処理室(2a)へ間欠的に供給する供給ファン(89)が設けられている。     According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the hydrogen peroxide gas from the hydrogen peroxide generating section (110) is supplied to the first processing chamber (2a) into the first processing chamber dedicated supply path (68). A supply fan (89) is provided for intermittent supply to ().

上記の発明では、第1処理室専用供給路(68)に設けられた供給ファン(89)が運転と停止を交互に繰り返す。これにより、第1処理室(2a)において、過酸化水素ガスが間欠的に供給され、過酸化水素ガスを含む空気流の脈動が生じる。したがって、第1処理室(2a)における過酸化水素ガスの拡散が促進される。その結果、過酸化水素ガスが機材の隅々まで確実に行き渡る。     In said invention, the supply fan (89) provided in the 1st process chamber exclusive supply path (68) repeats an operation | movement and a stop alternately. Thereby, in the 1st processing chamber (2a), hydrogen peroxide gas is intermittently supplied and the pulsation of the air flow containing hydrogen peroxide gas arises. Accordingly, diffusion of hydrogen peroxide gas in the first processing chamber (2a) is promoted. As a result, hydrogen peroxide gas spreads to every corner of the equipment.

第4の発明は、上記第1乃至第3の何れか1の発明において、上記第1処理室(2a)が、外部から搬入した機材に対して滅菌処理を行う処理室である。     According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the first processing chamber (2a) is a processing chamber for performing sterilization processing on the equipment carried from the outside.

上記の発明では、第1処理室(2a)以外で用いられる機材が第1処理室(2a)へ搬入され、その機材が隅々まで滅菌処理される。これにより、機材が他の処理室(2b,2c)へ持ち込まれても、その処理室(2b,2c)内を汚染するおそれはない。     In the above invention, the equipment used outside the first processing chamber (2a) is carried into the first processing chamber (2a), and the equipment is sterilized to every corner. Thereby, even if equipment is brought into another processing chamber (2b, 2c), there is no possibility that the inside of the processing chamber (2b, 2c) will be contaminated.

本発明によれば、第1処理室(2a)のみへ高濃度の過酸化水素ガスを供給する第1処理室専用供給路(68)を設けるようにしたので、他の処理室(2b,2c)に影響を与えることなく、第1処理室(2a)内に過酸化水素ガスを確実に拡散させることができる。したがって、機材の細部に亘って過酸化水素ガスを行き渡らせることができ、機材の滅菌効果を高めることができる。その結果、機材の持ち込みによる他の処理室(2b,2c)の汚染を確実に防止することができる。     According to the present invention, the dedicated supply path (68) for supplying the high-concentration hydrogen peroxide gas only to the first processing chamber (2a) is provided, so that the other processing chambers (2b, 2c) are provided. The hydrogen peroxide gas can be reliably diffused into the first processing chamber (2a) without affecting the above. Therefore, the hydrogen peroxide gas can be spread over the details of the equipment, and the sterilization effect of the equipment can be enhanced. As a result, it is possible to reliably prevent contamination of the other processing chambers (2b, 2c) due to the introduction of equipment.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。     Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

本実施形態の滅菌システム(1)は、医薬品等に関する処理室内の空調と滅菌処理とを行うものである。図1に示すように、この滅菌システム(1)は、順に隣接する3つの処理室(2a,2b,2c)を対象としている。本実施形態において、第1処理室(2a)は製造機器や検査機器等を搬入出するためのパスボックスPB(パスルームともいう)であり、第2処理室(2b)は医薬品の製造等を行う主室であり、第3処理室(2c)は作業者が出入りする附室である。そして、これら処理室(2a,2b,2c)には、出入りするための開閉扉(3)が設けられ、該開閉扉(3)の開放によって処理室(2a,2b,2c)同士が連通する。また、これら処理室(2a,2b,2c)は、無菌室を構成している。     The sterilization system (1) of the present embodiment performs air conditioning and sterilization in a processing chamber related to pharmaceuticals and the like. As shown in FIG. 1, the sterilization system (1) is directed to three processing chambers (2a, 2b, 2c) adjacent to each other in order. In the present embodiment, the first processing chamber (2a) is a pass box PB (also referred to as a “passroom”) for carrying in and out manufacturing equipment, inspection equipment, and the like, and the second processing chamber (2b) is for manufacturing pharmaceuticals and the like. The third processing chamber (2c) is an auxiliary chamber where workers enter and exit. The processing chambers (2a, 2b, 2c) are provided with an opening / closing door (3) for entering and exiting, and the processing chambers (2a, 2b, 2c) communicate with each other by opening the opening / closing door (3). . Further, these processing chambers (2a, 2b, 2c) constitute an aseptic chamber.

この滅菌システム(1)は、空調系統回路(5)と滅菌系統回路(50)を備えている。空調系統回路(5)は、各処理室(2a,2b,2c)へ空気を供給する給気系統(10)と、各処理室(2a,2b,2c)から空気が排出する排気系統(30)とを備えている。     The sterilization system (1) includes an air conditioning system circuit (5) and a sterilization system circuit (50). The air conditioning system circuit (5) includes an air supply system (10) that supplies air to each processing chamber (2a, 2b, 2c) and an exhaust system (30) that discharges air from each processing chamber (2a, 2b, 2c). ).

上記給気系統(10)は、給気側主流路(11)と、3つの給気流路(12,13,14)とを備えている。     The air supply system (10) includes an air supply side main flow path (11) and three air supply flow paths (12, 13, 14).

上記給気側主流路(11)は、外気が取り込まれて流れる。この給気側主流路(11)には、上流側から順に、外気処理空調機(21)と顕熱空調機(23)が設けられている。外気処理空調機(21)は、上流側から順に、中性能フィルタ(21a)、HEPAフィルタ(high efficiency particulate air filter)(21b)および給気ファン(21c)が配設されている。この外気処理空調機(21)では、取り込まれた空気が中性能フィルタ(21a)およびHEPAフィルタ(21b)によって塵埃等が除去される。顕熱空調機(23)は、上流側から順に、冷却コイル(23a)、電気ヒータ(23b)、加湿器(23c)および給気ファン(23d)が配設されている。この顕熱空調機(23)では、外気処理空調機(21)を出た空気が取り込まれ、必要に応じて冷却コイル(23a)で冷却され、電気ヒータ(23b)で加熱され、加湿器(23c)で加湿される。また、給気側主流路(11)における外気処理空調機(21)と顕熱空調機(23)の間には、主遮断ダンパ(22)が設けられている。この主遮断ダンパ(22)は、流路の開放と遮断とを行う切り換えるように構成されている。なお、後述する各種遮断ダンパについても同様の構成である。     The supply-side main flow path (11) flows through the outside air. The air supply side main flow path (11) is provided with an outside air processing air conditioner (21) and a sensible heat air conditioner (23) in order from the upstream side. In the outside air processing air conditioner (21), a medium performance filter (21a), a HEPA filter (high efficiency particulate air filter) (21b), and an air supply fan (21c) are arranged in this order from the upstream side. In the outside air processing air conditioner (21), dust and the like are removed from the taken-in air by the medium performance filter (21a) and the HEPA filter (21b). The sensible heat air conditioner (23) is provided with a cooling coil (23a), an electric heater (23b), a humidifier (23c) and an air supply fan (23d) in order from the upstream side. In this sensible heat air conditioner (23), the air that has exited the outside air treatment air conditioner (21) is taken in, cooled by the cooling coil (23a) as necessary, heated by the electric heater (23b), and the humidifier ( Humidified in 23c). A main cutoff damper (22) is provided between the outside air processing air conditioner (21) and the sensible heat air conditioner (23) in the supply side main flow path (11). The main cutoff damper (22) is configured to perform switching to open and shut off the flow path. The same applies to various cutoff dampers described later.

上記各給気流路(12,13,14)は、給気側主流路(11)における顕熱空調機(23)よりも下流部分に互いに並列接続されている。そして、第1給気流路(12)は第1処理室(2a)に、第2給気流路(13)は第2処理室(2b)に、第3給気流路(14)は第3処理室(2c)にそれぞれ繋がっている。各給気流路(12,13,14)は、上流側から順に、遮断ダンパ(25)および定風量装置(26)を有し、給気側主流路(11)から処理室(2a,2b,2c)へ空気を供給する。定風量装置(26)は、図示しないが、バルブと風速センサを備えた給気量調節手段である。つまり、この定風量装置(26)は、処理室(2a,2b,2c)への給気量(風量)が一定になるように、風速センサの計測値に基づいてバルブの開度が調節される。なお、各処理室(2a,2b,2c)の給気流路(12,13,14)が繋がる入口部には、HEPAフィルタ(27)が設けられている。     Each of the air supply channels (12, 13, 14) is connected in parallel to the downstream portion of the sensible heat air conditioner (23) in the air supply side main channel (11). The first air supply channel (12) is in the first processing chamber (2a), the second air supply channel (13) is in the second processing chamber (2b), and the third air supply channel (14) is in the third processing. It is connected to each room (2c). Each air supply flow path (12, 13, 14) has a shut-off damper (25) and a constant air volume device (26) in order from the upstream side, and from the air supply side main flow path (11) to the processing chamber (2a, 2b, Supply air to 2c). Although not shown, the constant air volume device (26) is an air supply amount adjusting means including a valve and a wind speed sensor. In other words, the constant air volume device (26) adjusts the valve opening based on the measured value of the air speed sensor so that the air supply volume (air volume) to the processing chamber (2a, 2b, 2c) is constant. The In addition, the HEPA filter (27) is provided in the inlet part which the air supply flow path (12,13,14) of each process chamber (2a, 2b, 2c) connects.

上記排気系統(30)は、排気側主流路(31)と、3つの排気流路(32,33,34)とを備えている。     The exhaust system (30) includes an exhaust side main flow path (31) and three exhaust flow paths (32, 33, 34).

上記排気側主流路(31)には、排気ファン(43)が設けられ、その下流側に主排気用遮断ダンパ(44)が設けられている。各排気流路(32,33,34)は、排気側主流路(31)における排気ファン(43)よりも上流部分に互いに並列接続されている。そして、第1排気流路(32)は第1処理室(2a)に、第2排気流路(33)は第2処理室(2b)に、第3排気流路(34)は第3処理室(2c)にそれぞれ繋がっている。各排気流路(32,33,34)は、遮断ダンパ(42)が設けられている。なお、第1排気流路(32)だけは、遮断ダンパ(42)が2つ直列に設けられている。この排気系統(30)では、排気ファン(43)によって各処理室(2a,2b,2c)の空気が各排気流路(32,33,34)および排気側主流路(31)を通って室外へ排出される。なお、各処理室(2a,2b,2c)の給気流路(12,13,14)および排気流路(32,33,34)は、本発明に係る空気の供給路および排出路を構成している。     The exhaust side main flow path (31) is provided with an exhaust fan (43), and a main exhaust cutoff damper (44) is provided downstream thereof. The exhaust passages (32, 33, 34) are connected in parallel to each other upstream of the exhaust fan (43) in the exhaust side main passage (31). The first exhaust channel (32) is in the first processing chamber (2a), the second exhaust channel (33) is in the second processing chamber (2b), and the third exhaust channel (34) is in the third processing chamber. It is connected to each room (2c). Each exhaust passage (32, 33, 34) is provided with a blocking damper (42). Only the first exhaust flow path (32) is provided with two blocking dampers (42) in series. In the exhaust system (30), the exhaust fan (43) causes the air in the processing chambers (2a, 2b, 2c) to pass through the exhaust flow paths (32, 33, 34) and the exhaust side main flow path (31). Is discharged. Note that the air supply passage (12, 13, 14) and the exhaust passage (32, 33, 34) of each processing chamber (2a, 2b, 2c) constitute an air supply passage and a discharge passage according to the present invention. ing.

上記排気系統(30)には、遮断ダンパ(42)以外に、開度可変に構成された調節ダンパが設けられている。具体的に、各排気流路(32,33,34)には、遮断ダンパ(42)の上流側に排気量調節手段としての調節ダンパ(41)が1つずつ設けられている。また、排気側主流路(31)には、主遮断ダンパ(44)の下流側に主調節ダンパ(45)が設けられている。この排気系統(30)では、各調節ダンパ(41)の開度調節によって、各処理室(2a,2b,2c)の排気量が調節され、その処理室(2a,2b,2c)の室圧制御が行われる。また、各処理室(2a,2b,2c)の排気流路(32,33,34)が繋がる出口部には、HEPAフィルタ(46)が設けられている。なお、本実施形態において、給気系統(10)の定風量装置(26)および排気系統(30)の調節ダンパ(41)が、それぞれ本発明に係る給気量調節手段および排気量調節手段を構成している。     In the exhaust system (30), in addition to the shutoff damper (42), an adjustment damper having a variable opening is provided. Specifically, each of the exhaust flow paths (32, 33, 34) is provided with one adjustment damper (41) as an exhaust amount adjusting means on the upstream side of the shut-off damper (42). The exhaust-side main flow path (31) is provided with a main adjustment damper (45) on the downstream side of the main cutoff damper (44). In this exhaust system (30), the exhaust amount of each processing chamber (2a, 2b, 2c) is adjusted by adjusting the opening of each adjusting damper (41), and the chamber pressure of that processing chamber (2a, 2b, 2c) is adjusted. Control is performed. Moreover, the HEPA filter (46) is provided in the exit part which the exhaust flow path (32, 33, 34) of each process chamber (2a, 2b, 2c) connects. In the present embodiment, the constant air volume device (26) of the air supply system (10) and the adjustment damper (41) of the exhaust system (30) respectively provide the air supply amount adjusting means and the exhaust amount adjusting means according to the present invention. It is composed.

上記給気系統(10)と排気系統(30)の間には、調節ダンパ(37)を有する還気流路(36)が接続されている。この還気流路(36)の入口側である一端は、排気側主流路(31)における排気ファン(43)と主遮断ダンパ(44)との間に接続されている。還気流路(36)の出口側である他端は、給気側主流路(11)における主遮断ダンパ(22)と顕熱空調機(23)との間に接続されている。つまり、還気流路(36)は、処理室(2a,2b,2c)から排気系統(30)に排出された空気の一部または全部を給気系統(10)に戻す循環流路を構成している。     A return air flow path (36) having a regulating damper (37) is connected between the air supply system (10) and the exhaust system (30). One end on the inlet side of the return air flow path (36) is connected between the exhaust fan (43) and the main shutoff damper (44) in the exhaust side main flow path (31). The other end on the outlet side of the return air flow path (36) is connected between the main cutoff damper (22) and the sensible heat air conditioner (23) in the supply air main flow path (11). That is, the return air flow path (36) constitutes a circulation flow path for returning part or all of the air discharged from the processing chambers (2a, 2b, 2c) to the exhaust system (30) to the air supply system (10). ing.

上記滅菌系統回路(50)は、滅菌ガス循環流路(51)と、滅菌ガス供給主流路(52)と、3つの滅菌ガス供給路(53,54,55)と、滅菌ガス戻し主流路(57)と、3つの滅菌ガス戻し路(58,59,61)とを備えている。     The sterilization system circuit (50) includes a sterilization gas circulation channel (51), a sterilization gas supply main channel (52), three sterilization gas supply channels (53, 54, 55), and a sterilization gas return main channel ( 57) and three sterilization gas return paths (58, 59, 61).

上記滅菌ガス循環流路(51)の下流端は、滅菌側空調機(85)を介して滅菌ガス供給主流路(52)に接続されている。滅菌ガス循環流路(51)の上流端は、滅菌ガス循環ファン(86)を介して滅菌ガス戻し主流路(57)に接続されている。また、滅菌ガス循環流路(51)の途中には、滅菌ガス発生機(81)が設けられ、その滅菌ガス発生器(81)の入口側および出口側に入口遮断ダンパ(74)および出口遮断ダンパ(73)が設けられている。ている。滅菌ガス発生機(81)および滅菌側空調機(85)の詳細については、後述する。     The downstream end of the sterilization gas circulation channel (51) is connected to the sterilization gas supply main channel (52) via the sterilization side air conditioner (85). The upstream end of the sterilization gas circulation channel (51) is connected to the sterilization gas return main channel (57) via the sterilization gas circulation fan (86). A sterilization gas generator (81) is provided in the middle of the sterilization gas circulation channel (51), and an inlet shut-off damper (74) and an outlet shut-off are provided on the inlet side and the outlet side of the sterilization gas generator (81). A damper (73) is provided. ing. Details of the sterilization gas generator (81) and the sterilization side air conditioner (85) will be described later.

上記3つの滅菌ガス供給路(53,54,55)は、滅菌ガス供給主流路(52)と給気系統(10)の各給気流路(12,13,14)との間に接続されている。具体的に、第1〜第3滅菌ガス供給路(53,54,55)の各上流端は、滅菌ガス供給主流路(52)に接続されている。第1〜第3滅菌ガス供給路(53,54,55)の各下流端は、各給気流路(12,13,14)における遮断ダンパ(25)と定風量装置(26)との間に接続されている。また、各滅菌ガス供給路(53,54,55)には、遮断ダンパ(56)が1つずつ設けられている。     The three sterilization gas supply paths (53, 54, 55) are connected between the sterilization gas supply main flow path (52) and the air supply flow paths (12, 13, 14) of the air supply system (10). Yes. Specifically, each upstream end of the first to third sterilization gas supply paths (53, 54, 55) is connected to the sterilization gas supply main flow path (52). Each downstream end of the first to third sterilization gas supply passages (53, 54, 55) is located between the shut-off damper (25) and the constant air flow device (26) in each of the air supply passages (12, 13, 14). It is connected. Each sterilization gas supply path (53, 54, 55) is provided with one shut-off damper (56).

上記3つの滅菌ガス戻し路(58,59,61)は、滅菌ガス戻し主流路(57)と排気系統(30)の各排気流路(32,33,34)との間に接続されている。具体的に、第1〜第3滅菌ガス戻し路(58,59,61)の各上流端は、各排気流路(32,33,34)における調節ダンパ(41)と遮断ダンパ(42)との間に接続されている。第1〜第3滅菌ガス戻し路(58,59,61)の各下流端は、滅菌ガス戻し主流路(57)に接続されている。また、各滅菌ガス戻し路(58,59,61)には、遮断ダンパ(63)が1つずつ設けられている。なお、滅菌ガス供給主流路(52)は、滅菌ガスを各処理室(2a,2b,2c)へ分配して供給する供給流路を構成し、滅菌ガス戻し主流路(57)は、各処理室(2a,2b,2c)から排出した滅菌ガスが合流する排出流路を構成している。     The three sterilization gas return paths (58, 59, 61) are connected between the sterilization gas return main flow path (57) and the exhaust flow paths (32, 33, 34) of the exhaust system (30). . Specifically, the upstream ends of the first to third sterilization gas return paths (58, 59, 61) are respectively connected to the adjustment damper (41) and the cutoff damper (42) in each exhaust flow path (32, 33, 34). Connected between. Each downstream end of the first to third sterilization gas return channels (58, 59, 61) is connected to the sterilization gas return main channel (57). Each sterilization gas return path (58, 59, 61) is provided with one shut-off damper (63). The sterilization gas supply main channel (52) constitutes a supply channel that distributes and supplies the sterilization gas to each processing chamber (2a, 2b, 2c), and the sterilization gas return main channel (57) A discharge flow path is formed in which the sterilized gas discharged from the chambers (2a, 2b, 2c) joins.

上記滅菌ガス発生器(81)には、外気処理空調機(91)を有する給気流路(92)が接続されている。この給気流路(92)の外気処理空調機(91)は、上述した空調系統回路(5)の外気処理空調機(21)と同様に、中性能フィルタ(91a)とHEPAフィルタ(91b)と給気ファン(91c)を備えている。また、給気流路(92)には、外気処理空調機(91)の下流に定風量装置(93)が設けられている。つまり、給気流路(92)では、外気処理空調機(91)によって取り込まれた外気が定風量装置(93)で一定風量に制御された後、滅菌ガス発生器(81)へ供給される。     An air supply channel (92) having an outside air processing air conditioner (91) is connected to the sterilization gas generator (81). The outside air processing air conditioner (91) of the air supply flow path (92) is similar to the above-described outside air processing air conditioner (21) of the air conditioning system circuit (5), with a medium performance filter (91a) and a HEPA filter (91b). An air supply fan (91c) is provided. Further, a constant air volume device (93) is provided in the air supply passage (92) downstream of the outside air processing air conditioner (91). That is, in the air supply flow path (92), the outside air taken in by the outside air processing air conditioner (91) is controlled to a constant air volume by the constant air volume device (93) and then supplied to the sterilization gas generator (81).

ここで、滅菌ガス発生器(81)の内部構成について、図2を参照しながら説明する。滅菌ガス発生器(81)は、第1通路(101)と第2通路(102)と戻し通路(103)を有している。第1通路(101)の上流端は入口側の滅菌ガス循環流路(51)および給気流路(92)の双方に繋がっており、下流端は出口側の滅菌ガス循環流路(51)に繋がっている。第2通路(102)の上下流端は、何れも室外に開口している。第1通路(101)には、上流側から順に、第1ファン(104)、一次冷却器(105)、吸着ロータ(106)、二次冷却器(107)、加熱器(108)、加湿器(108)および過酸化水素発生部(110)が設けられている。吸着ロータ(106)は、水分を吸脱着可能な吸着剤が担持され、回転可能に構成されている。第2通路(102)には、上流側から順に、再生加熱器(111)、上述した吸着ロータ(106)および第2ファン(112)が設けられている。つまり、吸着ロータ(106)は、第1通路(101)と第2通路(102)の双方に跨って配置されている。そして、戻し通路(103)は、第1通路(101)に接続されている。具体的に、戻し通路(103)の一端は加湿器(108)と過酸化水素発生部(110)の間に接続され、他端は第1ファン(104)の上流に接続されている。過酸化水素発生部(110)は、過酸化水素の水溶液から過酸化水素ガスを発生させ、第1通路(101)の空気に付与して滅菌ガスを生成するように構成されている。     Here, the internal structure of the sterilization gas generator (81) will be described with reference to FIG. The sterilization gas generator (81) has a first passage (101), a second passage (102), and a return passage (103). The upstream end of the first passage (101) is connected to both the inlet-side sterilization gas circulation channel (51) and the air supply channel (92), and the downstream end is connected to the outlet-side sterilization gas circulation channel (51). It is connected. Both the upstream and downstream ends of the second passage (102) are open to the outside of the room. In the first passage (101), the first fan (104), primary cooler (105), adsorption rotor (106), secondary cooler (107), heater (108), humidifier are arranged in order from the upstream side. (108) and a hydrogen peroxide generator (110) are provided. The adsorption rotor (106) carries an adsorbent capable of adsorbing and desorbing moisture, and is configured to be rotatable. In the second passage (102), a regenerative heater (111), the above-described adsorption rotor (106), and the second fan (112) are provided in this order from the upstream side. That is, the adsorption rotor (106) is disposed across both the first passage (101) and the second passage (102). The return passage (103) is connected to the first passage (101). Specifically, one end of the return passage (103) is connected between the humidifier (108) and the hydrogen peroxide generator (110), and the other end is connected upstream of the first fan (104). The hydrogen peroxide generator (110) is configured to generate a hydrogen peroxide gas from an aqueous solution of hydrogen peroxide and apply it to the air in the first passage (101) to generate a sterilization gas.

上記第1通路(101)では、一次冷却器(105)で冷却された空気が吸着ロータ(106)を通過する際にその空気中の水分が吸着されて除湿される。除湿後の空気は、必要に応じて、二次冷却器(107)および加熱器(108)で温度が調節され、加湿器(108)で湿度が調節される。また、第2通路(102)では、室外より取り込まれた空気が再生加熱器(111)で加熱されて吸着ロータ(106)を通過するため、吸着ロータ(106)における第1通路(101)で吸着した部分が再生される。この吸着ロータ(106)の再生部分は、回転して再び第1通路(101)へ移動し、その第1通路(101)の空気を除湿する。この滅菌ガス発生器(81)において、吸着ロータ(106)、冷却器(105,107)、加熱器(108)、加湿器(108)および再生加熱器(111)は、空気の温湿度調整部(114)を構成している。このように、滅菌ガス発生器(81)は、温湿度調整した、また過酸化水素ガスを付与した空気を滅菌ガス循環流路(51)へ流すように構成されている。なお、滅菌ガス発生器(81)は、適宜、過酸化水素発生部(110)および温湿度調整部(114)の一方だけを運転または停止させることができる。     In the first passage (101), when the air cooled by the primary cooler (105) passes through the adsorption rotor (106), moisture in the air is adsorbed and dehumidified. If necessary, the temperature of the dehumidified air is adjusted by the secondary cooler (107) and the heater (108), and the humidity is adjusted by the humidifier (108). Further, in the second passage (102), the air taken in from the outside is heated by the regenerative heater (111) and passes through the adsorption rotor (106), so that the first passage (101) in the adsorption rotor (106) The adsorbed part is regenerated. The regeneration portion of the adsorption rotor (106) rotates and moves again to the first passage (101), and dehumidifies the air in the first passage (101). In this sterilization gas generator (81), the adsorption rotor (106), the cooler (105, 107), the heater (108), the humidifier (108) and the regenerative heater (111) are connected to the temperature / humidity adjusting unit (114 ). As described above, the sterilization gas generator (81) is configured to flow the temperature / humidity-adjusted air to which the hydrogen peroxide gas is applied to the sterilization gas circulation channel (51). The sterilization gas generator (81) can appropriately operate or stop only one of the hydrogen peroxide generation unit (110) and the temperature / humidity adjustment unit (114).

上記滅菌側空調機(85)は、上流側から順に、冷却コイル(85a)、電気ヒータ(85b)および供給ファン(85c)が設けられている。そして、供給ファン(85c)が上述した滅菌ガス供給主流路(52)に接続されている。     The sterilization side air conditioner (85) is provided with a cooling coil (85a), an electric heater (85b), and a supply fan (85c) in order from the upstream side. And the supply fan (85c) is connected to the sterilization gas supply main flow path (52) mentioned above.

また、上記滅菌系統回路(50)は、分解用流路(65)と、除湿用流路(66)と、バイパス流路(67)と、第4滅菌ガス供給路(68)と、滅菌ガス排出路(69)を備えている。     The sterilization system circuit (50) includes a decomposition channel (65), a dehumidification channel (66), a bypass channel (67), a fourth sterilization gas supply channel (68), and a sterilization gas. A discharge channel (69) is provided.

上記分解用流路(65)と除湿用流路(66)とバイパス流路(67)は、滅菌ガス循環流路(51)に互いに並列に接続されている。つまり、分解用流路(65)と除湿用流路(66)とバイパス流路(67)は、何れも、上流端が滅菌ガス循環ファン(86)と入口遮断ダンパ(74)との間に接続され、下流端が滅菌側空調機(85)と出口遮断ダンパ(73)との間に接続されている。そして、分解用流路(65)には、Pt触媒により構成された過酸化水素分解器(82)が設けられている。この過酸化水素分解器(82)は、通過する滅菌ガスから過酸化水素ガスを分解除去するように構成されている。除湿用流路(66)には、除湿器(84)が設けられている。この除湿器(84)は、取り込んだ外気(空気)を除湿して除湿用流路(66)へ流すように構成されている。また、分解用流路(65)および除湿用流路(66)には、過酸化水素分解器(82)および除湿器(84)の入口側および出口側に入口遮断ダンパ(72,76)および出口遮断ダンパ(71,75)がそれぞれ設けられている。バイパス流路(67)には、遮断ダンパ(77)が設けられている。     The decomposition channel (65), the dehumidification channel (66), and the bypass channel (67) are connected in parallel to the sterilization gas circulation channel (51). That is, the decomposition channel (65), the dehumidification channel (66), and the bypass channel (67) are all located between the sterilization gas circulation fan (86) and the inlet shut-off damper (74) at the upstream end. The downstream end is connected between the sterilization side air conditioner (85) and the outlet shut-off damper (73). The decomposition channel (65) is provided with a hydrogen peroxide decomposer (82) composed of a Pt catalyst. The hydrogen peroxide decomposer (82) is configured to decompose and remove hydrogen peroxide gas from the passing sterilizing gas. A dehumidifier (84) is provided in the dehumidifying channel (66). The dehumidifier (84) is configured to dehumidify the taken outside air (air) and flow it to the dehumidifying channel (66). Further, the decomposition channel (65) and the dehumidification channel (66) include an inlet blocking damper (72, 76) and an inlet side outlet and an outlet side of the hydrogen peroxide decomposer (82) and the dehumidifier (84). Outlet blocking dampers (71, 75) are provided, respectively. The bypass passage (67) is provided with a cutoff damper (77).

上記第4滅菌ガス供給路(68)の上流端は、滅菌ガス循環流路(51)における滅菌ガス発生器(81)と出口遮断ダンパ(73)との間に接続されている。第4滅菌ガス供給路(68)の下流端は、給気系統(10)の第1給気流路(12)における遮断ダンパ(25)と定風量装置(26)との間に接続されている。この第4滅菌ガス供給路(68)には、上流側から順に、遮断ダンパ(78)、ミキシングチャンバ(88)、滅菌ガス供給ファン(89)および遮断ダンパ(79)が設けられている。また、第4滅菌ガス供給路(68)には、PB用循環流路(95)が接続されている。このPB用循環流路(95)は、上流端が第1処理室(2a)における出口部のHEPAフィルタ(46)に接続され、下流端がミキシングチャンバ(88)に接続されている。このミキシングチャンバ(88)は、第1処理室(2a)からPB用循環流路(95)へ排出した滅菌ガスと滅菌ガス発生器(81)からの滅菌ガスとを混合させるものである。なお、第4滅菌ガス供給路(68)は、本発明に係る第1処理室専用供給路を構成している。     The upstream end of the fourth sterilization gas supply path (68) is connected between the sterilization gas generator (81) and the outlet shut-off damper (73) in the sterilization gas circulation path (51). The downstream end of the fourth sterilization gas supply path (68) is connected between the shutoff damper (25) and the constant air volume device (26) in the first air supply path (12) of the air supply system (10). . The fourth sterilization gas supply path (68) is provided with a cutoff damper (78), a mixing chamber (88), a sterilization gas supply fan (89), and a cutoff damper (79) in this order from the upstream side. In addition, a PB circulation channel (95) is connected to the fourth sterilization gas supply channel (68). The PB circulation channel (95) has an upstream end connected to the HEPA filter (46) at the outlet of the first processing chamber (2a) and a downstream end connected to the mixing chamber (88). The mixing chamber (88) mixes the sterilized gas discharged from the first processing chamber (2a) into the PB circulation channel (95) and the sterilized gas from the sterilization gas generator (81). In addition, the 4th sterilization gas supply path (68) comprises the 1st process chamber exclusive supply path which concerns on this invention.

上記滅菌ガス排出路(69)の上流端は、排気系統(30)の第1排気流路(32)における調節ダンパ(41)と遮断ダンパ(42)との間に接続されている。滅菌ガス排出路(69)の下流端は、室外へ開口している。この滅菌ガス排出路(69)には、上流側から順に、遮断ダンパ(94)、滅菌ガス排気ファン(87)および過酸化水素分解器(83)が設けられている。この過酸化水素分解器(83)は、上述した分解用流路(65)に設けられたものと同様に構成されている。     The upstream end of the sterilization gas discharge path (69) is connected between the adjustment damper (41) and the shutoff damper (42) in the first exhaust flow path (32) of the exhaust system (30). The downstream end of the sterilization gas discharge channel (69) opens to the outside of the room. The sterilization gas discharge path (69) is provided with a cutoff damper (94), a sterilization gas exhaust fan (87), and a hydrogen peroxide decomposer (83) in this order from the upstream side. The hydrogen peroxide decomposer (83) is configured in the same manner as that provided in the decomposition flow path (65) described above.

上記分解用流路(65)と滅菌ガス排出路(69)とには、遮断ダンパ(97)を有する接続流路(96)が接続されている。この接続流路(96)は、一端が分解用流路(65)における入口遮断ダンパ(72)の上流側に接続され、他端が滅菌ガス排出路(69)における滅菌ガス排気ファン(87)と過酸化水素分解器(83)との間に接続されている。     A connection channel (96) having a shut-off damper (97) is connected to the decomposition channel (65) and the sterilization gas discharge channel (69). One end of the connection channel (96) is connected to the upstream side of the inlet blocking damper (72) in the disassembly channel (65), and the other end is a sterilization gas exhaust fan (87) in the sterilization gas discharge channel (69). And a hydrogen peroxide decomposer (83).

この滅菌システム(1)は、コントローラ(120)と各種センサ(131,132)を備えている。     The sterilization system (1) includes a controller (120) and various sensors (131, 132).

各処理室(2a,2b,2c)には、ドアスイッチ(131)が設けられている。このドアスイッチ(131)は、開閉扉(3)の開状態および閉状態を検知するものであり、各開閉扉(3)毎に設けられている。また、各処理室(2a,2b,2c)には、室圧を検出する圧力検出手段としての圧力センサ(132)が設けられている。     Each processing chamber (2a, 2b, 2c) is provided with a door switch (131). The door switch (131) detects an open state and a closed state of the open / close door (3), and is provided for each open / close door (3). Each processing chamber (2a, 2b, 2c) is provided with a pressure sensor (132) as pressure detecting means for detecting the chamber pressure.

コントローラ(120)は、モード切換部(121)と滅菌時制御部(122)と定常時制御部(123)を備えている。モード切換部(121)は、後述する各種運転モードを切り換えるように構成されている。滅菌時制御部(122)および定常時制御部(123)は、外部から処理室(2a,2b,2c)への菌類の侵入防止のために、処理室(2a,2b,2c)の室圧が外気より僅かに陽圧(微陽圧)になるように制御する。     The controller (120) includes a mode switching unit (121), a sterilization control unit (122), and a steady-state control unit (123). The mode switching unit (121) is configured to switch various operation modes described later. The sterilization control unit (122) and the steady-state control unit (123) are designed to prevent the entry of fungi from outside into the processing chamber (2a, 2b, 2c). Is controlled to be slightly positive pressure (slight positive pressure) from outside air.

具体的に、滅菌時制御部(122)は、後述する滅菌運転時において、全ての処理室(2a,2b,2c)の室圧が同じ設定圧力(微陽圧)で維持されるように各調節ダンパ(41)の開度を制御する。一方、定常時制御部(123)は、後述する定常運転時において、処理室(2a,2b,2c)の室圧が重要度に応じて定められた異なる設定圧力(設定値)で維持されるように各調節ダンパ(41)の開度を制御する。つまり、定常運転時において、各処理室(2a,2b,2c)の設定室圧は、その処理室(2a,2b,2c)の重要度(滅菌レベルまたは無菌レベル)が高い程高く設定される。本実施形態の場合、第2処理室(2b)の設定室圧が最も高く、第1処理室(2a)および第3処理室(2c)の設定室圧が同圧に設定される。滅菌時制御部(122)および定常時制御部(123)は、各処理室(2a,2b,2c)の圧力センサ(132)の検出値に基づいて調節ダンパ(41)の開度制御を行う。     Specifically, the sterilization control unit (122) is configured so that the chamber pressures of all the processing chambers (2a, 2b, 2c) are maintained at the same set pressure (slight positive pressure) during the sterilization operation described later. Controls the opening of the adjustment damper (41). On the other hand, the steady state control unit (123) maintains the chamber pressures of the processing chambers (2a, 2b, 2c) at different set pressures (set values) determined in accordance with the importance during the steady operation described later. Thus, the opening degree of each adjustment damper (41) is controlled. That is, during steady operation, the set chamber pressure of each processing chamber (2a, 2b, 2c) is set higher as the importance (sterilization level or aseptic level) of the processing chamber (2a, 2b, 2c) is higher. . In the case of this embodiment, the setting chamber pressure of the second processing chamber (2b) is the highest, and the setting chamber pressures of the first processing chamber (2a) and the third processing chamber (2c) are set to the same pressure. The sterilization control unit (122) and the steady-state control unit (123) control the opening of the adjustment damper (41) based on the detected value of the pressure sensor (132) of each processing chamber (2a, 2b, 2c). .

さらに、定常時制御部(123)は、定常運転時において開閉扉(3)が開状態になると行う「特別モード」を備えている。例えば、処理室(2a,2b,2c)間の開閉扉(3)が開くと、第1所定時間の間、その開放によって連通する設定室圧の高い処理室(2a,2b,2c)の調節ダンパ(41)の開度が減少され、設定室圧の低い処理室(2a,2b,2c)の調節ダンパ(41)の開度が増大される。また、室外に面する開閉扉(3)(即ち、図1における第1処理室(2a)の左側の開閉扉(3)、または第3処理室(2c)の右側の開閉扉(3))が開くと、所定時間の間、第1処理室(2a)または第3処理室(2c)の調節ダンパ(41)の開度が減少される。そして、この特別モードでは、上記第1所定時間が経過してから第2所定時間が経過するまで、圧力センサ(132)の検出値に基づいて調節ダンパ(41)の開度制御が行われる。この調節ダンパ(41)の開度制御は、開閉扉(3)が閉状態であるときの制御に比べて、圧力センサ(132)の検出値に対する応答性が遅れるように構成されている。さらに、この特別モードでは、上記第2所定時間が経過してから開閉扉(3)が閉状態になるまで、調節ダンパ(41)の開度制御が停止される。なお、定常時制御部(123)は、ドアスイッチ(131)の検出信号が入力され、その信号によって開閉扉(3)の開状態および閉状態を判別する。     Furthermore, the steady-state control unit (123) includes a “special mode” that is performed when the open / close door (3) is opened during steady operation. For example, when the open / close door (3) between the processing chambers (2a, 2b, 2c) is opened, adjustment of the processing chamber (2a, 2b, 2c) having a high set chamber pressure communicated by the opening for the first predetermined time. The opening degree of the damper (41) is decreased, and the opening degree of the adjustment damper (41) of the processing chambers (2a, 2b, 2c) having a low set chamber pressure is increased. The open / close door (3) facing the outside (that is, the open / close door (3) on the left side of the first processing chamber (2a) in FIG. 1 or the open / close door (3) on the right side of the third processing chamber (2c)). When is opened, the opening degree of the adjustment damper (41) of the first processing chamber (2a) or the third processing chamber (2c) is decreased for a predetermined time. In this special mode, the opening control of the adjustment damper (41) is performed based on the detection value of the pressure sensor (132) until the second predetermined time elapses after the first predetermined time elapses. The opening degree control of the adjustment damper (41) is configured such that the response to the detection value of the pressure sensor (132) is delayed as compared with the control when the open / close door (3) is in the closed state. Further, in this special mode, the opening control of the adjustment damper (41) is stopped until the opening / closing door (3) is closed after the second predetermined time has elapsed. The steady state control unit (123) receives the detection signal of the door switch (131), and determines the open state and the closed state of the open / close door (3) based on the signal.

−運転動作−
次に、この滅菌システム(1)の運転動作について説明し、続いて処理室(2a,2b,2c)の室圧制御について詳細に説明する。
-Driving action-
Next, the operation of the sterilization system (1) will be described, and then the chamber pressure control of the processing chambers (2a, 2b, 2c) will be described in detail.

滅菌システム(1)では、各種運転モードが切換可能に構成されている。具体的に、コントローラ(120)のモード切換部(121)は、「準備モード」、「調整モード」、「滅菌モード」、「第1稀釈モード」、「第2稀釈モード」、「定常モード」および「PB単独滅菌モード」の運転モードを切り換える。     In the sterilization system (1), various operation modes can be switched. Specifically, the mode switching unit (121) of the controller (120) includes the “preparation mode”, “adjustment mode”, “sterilization mode”, “first dilution mode”, “second dilution mode”, and “steady mode”. And the operation mode of "PB independent sterilization mode" is switched.

〈準備モード〉
この準備モードは、後の調整モードや滅菌モードによる滅菌効果を高めるため、処理室(2a,2b,2c)の温度と湿度を適切な値(目標値)にする運転である。例えば、その目標温度は25℃に設定され、目標湿度は相対湿度30%に設定される。
<Preparation mode>
This preparation mode is an operation in which the temperature and humidity of the processing chambers (2a, 2b, 2c) are set to appropriate values (target values) in order to enhance the sterilization effect by the subsequent adjustment mode or sterilization mode. For example, the target temperature is set to 25 ° C., and the target humidity is set to 30% relative humidity.

図3示すように、この準備モードでは、太線で示すラインの遮断ダンパ(56,63,・・・)が開状態に設定され、それ以外の遮断ダンパ(22,25,・・・)が閉状態に設定される。また、各滅菌ガス戻し路(58,59,61)の調節ダンパ(41)が適切な開度に設定される。この状態で、滅菌系統回路(50)で運転が行われる。具体的に、滅菌ガス発生器(81)の温湿度調整部(114)、除湿器(84)、滅菌側空調機(85)、外気処理空調機(91)および滅菌ガス循環ファン(86)が運転される。なお、滅菌ガス発生器(81)の過酸化水素発生部(110)は停止している。     As shown in FIG. 3, in this preparation mode, the cutoff dampers (56, 63,...) Of the lines indicated by bold lines are set to the open state, and the other cutoff dampers (22, 25,...) Are closed. Set to state. Moreover, the adjustment damper (41) of each sterilization gas return path (58, 59, 61) is set to an appropriate opening degree. In this state, operation is performed in the sterilization system circuit (50). Specifically, the temperature / humidity adjustment unit (114), dehumidifier (84), sterilization side air conditioner (85), outside air treatment air conditioner (91) and sterilization gas circulation fan (86) of the sterilization gas generator (81) Driven. In addition, the hydrogen peroxide generation part (110) of the sterilization gas generator (81) is stopped.

先ず、室外から外気処理空調機(91)へ取り込まれた空気は、定風量装置(93)によって一定風量で滅菌ガス発生器(81)へ供給される。滅菌ガス発生器(81)へ供給された空気は、温湿度調整部(114)で温度および湿度が調節されて、滅菌ガス循環流路(51)へ流れる。一方、除湿器(84)において、室外から取り込まれた空気が除湿され、除湿用流路(66)へ流れる。この除湿用流路(66)の空気は、滅菌ガス循環流路(51)へ流れ、滅菌ガス発生器(81)からの空気と合流する。合流後の空気は、滅菌側空調機(85)へ流れて温度調節される。温度調節された空気は、滅菌ガス供給主流路(52)から各滅菌ガス供給路(53,54,55)へ流れ、定風量装置(26)およびHEPAフィルタ(27)を介して各処理室(2a,2b,2c)へ供給される。なお、各処理室(2a,2b,2c)へ供給される空気は、定風量装置(26)によって一定風量に制御される。     First, the air taken into the outside air processing air conditioner (91) from the outside is supplied to the sterilization gas generator (81) with a constant air volume by the constant air volume device (93). The temperature and humidity of the air supplied to the sterilization gas generator (81) are adjusted by the temperature / humidity adjustment unit (114), and flow into the sterilization gas circulation channel (51). On the other hand, in the dehumidifier (84), the air taken in from the outside is dehumidified and flows to the dehumidifying channel (66). The air in the dehumidifying channel (66) flows into the sterilizing gas circulation channel (51) and merges with the air from the sterilizing gas generator (81). The combined air flows to the sterilization side air conditioner (85) and the temperature is adjusted. The temperature-adjusted air flows from the sterilization gas supply main channel (52) to each sterilization gas supply channel (53, 54, 55), and passes through each constant chamber (26) and the HEPA filter (27) to each processing chamber ( 2a, 2b, 2c). Note that the air supplied to the processing chambers (2a, 2b, 2c) is controlled to a constant air volume by the constant air volume device (26).

続いて、各処理室(2a,2b,2c)内の空気は、滅菌ガス循環ファン(86)により、HEPAフィルタ(46)および調節ダンパ(41)を順に介して滅菌ガス戻し路(58,59,61)へ排出され、滅菌ガス戻し主流路(57)へ流れる。その後、空気は、滅菌ガス循環流路(51)へ流れ、分解用流路(65)と除湿用流路(66)とバイパス流路(67)とに分流する。分解用流路(65)へ流れた空気は、接続流路(96)を通って滅菌ガス排出路(69)へ流れ、過酸化水素分解器(83)で過酸化水素が分解除去されて室外へ排出される。除湿用流路(66)へ流れた空気は、除湿器(84)で外気と混合し、再び除湿される。バイパス流路(67)へ流れた空気は、滅菌ガス循環流路(51)へ流れて、滅菌ガス発生器(81)および除湿器(84)からの空気と合流する。     Subsequently, the air in each processing chamber (2a, 2b, 2c) is sterilized by a sterilizing gas circulation fan (86) through a HEPA filter (46) and an adjustment damper (41) in that order (58, 59). , 61) and flows to the sterilization gas return main flow path (57). Thereafter, the air flows to the sterilization gas circulation channel (51) and is divided into the decomposition channel (65), the dehumidification channel (66), and the bypass channel (67). The air that has flowed to the decomposition channel (65) flows to the sterilization gas discharge channel (69) through the connection channel (96), and the hydrogen peroxide is decomposed and removed by the hydrogen peroxide decomposer (83). Is discharged. The air that has flowed to the dehumidifying channel (66) is mixed with the outside air by the dehumidifier (84) and dehumidified again. The air that has flowed to the bypass flow path (67) flows to the sterilization gas circulation flow path (51), and merges with the air from the sterilization gas generator (81) and the dehumidifier (84).

このように、滅菌ガス発生器(81)、除湿器(84)および滅菌側空調機(85)で温度と湿度が調節された空気が各処理室(2a,2b,2c)へ供給される。そして、各処理室(2a,2b,2c)の温度および湿度が目標値に達すると、準備モードが終了する。つまり、第1処理室(2a)では、他の処理室(2b,2c)に比べて、滅菌ガスがHEPAフィルタ(27,46)を通過する度合いが多くなるので、滅菌ガスの塵埃等の除去率が向上する。     In this manner, air whose temperature and humidity are adjusted by the sterilization gas generator (81), the dehumidifier (84), and the sterilization side air conditioner (85) is supplied to the processing chambers (2a, 2b, 2c). When the temperature and humidity of each processing chamber (2a, 2b, 2c) reach the target values, the preparation mode ends. That is, in the first processing chamber (2a), the degree of passage of the sterilizing gas through the HEPA filter (27, 46) is higher than in the other processing chambers (2b, 2c), so that the sterilizing gas dust and the like are removed. The rate is improved.

〈調整モードおよび滅菌モード〉
コントローラ(120)のモード切換部(121)は、準備モードが終了すると、調整モードおよび滅菌モードへ順に切り換える。先ず、調整モードは、滅菌ガス発生器(81)で生成した滅菌ガスを各処理室(2a,2b,2c)へ供給し、処理室(2a,2b,2c)内の過酸化水素の濃度を目標濃度(例えば、300ppm)にする。そして、滅菌モードは、過酸化水素の濃度を所定範囲(例えば、目標濃度−10%〜目標濃度+10%)内で所定時間維持する。なお、処理室(2a,2b,2c)には、過酸化水素の濃度を検出する濃度センサ(図示せず)が設けられている。
<Adjustment mode and sterilization mode>
When the preparation mode ends, the mode switching unit (121) of the controller (120) sequentially switches to the adjustment mode and the sterilization mode. First, in the adjustment mode, the sterilization gas generated by the sterilization gas generator (81) is supplied to each processing chamber (2a, 2b, 2c), and the concentration of hydrogen peroxide in the processing chamber (2a, 2b, 2c) is adjusted. A target concentration (for example, 300 ppm) is set. In the sterilization mode, the concentration of hydrogen peroxide is maintained within a predetermined range (for example, target concentration −10% to target concentration + 10%) for a predetermined time. The processing chambers (2a, 2b, 2c) are provided with concentration sensors (not shown) for detecting the concentration of hydrogen peroxide.

図4に示すように、調整モードでは、除湿器(84)が停止されると共に、除湿用流路(66)の入口遮断ダンパ(76)および出口遮断ダンパ(75)が閉状態に設定される。また、滅菌ガス発生器(81)の入口遮断ダンパ(74)が開状態に設定される。そして、滅菌ガス発生器(81)において、温湿度調整部(114)が停止される一方、過酸化水素発生部(110)が運転される。その他は、準備モードと同じ状態である。     As shown in FIG. 4, in the adjustment mode, the dehumidifier (84) is stopped, and the inlet blocking damper (76) and the outlet blocking damper (75) of the dehumidifying channel (66) are set in a closed state. . Further, the inlet shut-off damper (74) of the sterilization gas generator (81) is set to an open state. In the sterilization gas generator (81), the temperature / humidity adjustment unit (114) is stopped, while the hydrogen peroxide generation unit (110) is operated. Others are the same as in the preparation mode.

先ず、外気処理空調機(91)から滅菌ガス発生器(81)へ供給された空気は、過酸化水素発生部(110)によって過酸化水素ガスが付与され、滅菌ガスとなる。この滅菌ガスは、滅菌ガス循環流路(51)から滅菌側空調機(85)へ流入して温度調節される。その後、滅菌ガスは、各滅菌ガス供給路(53,54,55)から処理室(2a,2b,2c)へ供給される。各処理室(2a,2b,2c)の空気は、滅菌ガス戻し路(58,59,61)へ排出されて滅菌ガス循環流路(51)へ流れる。そして、この空気は、一部が滅菌ガス発生器(81)へ流入し、残りが分解用流路(65)とバイパス流路(67)とに分流する。滅菌ガス発生器(81)へ流入した空気は、外気処理空調機(91)からの空気と混合し、過酸化水素ガスが付与された後、滅菌ガス循環流路(51)へ流れる。この滅菌ガスは、バイパス流路(67)からの空気と合流して滅菌側空調機(85)へ流れ、この循環を繰り返される。なお、分解用流路(65)へ流れた空気は、準備モードと同様に、過酸化水素分解器(83)を通って室外へ排出される。     First, the air supplied from the outside air processing air conditioner (91) to the sterilization gas generator (81) is provided with hydrogen peroxide gas by the hydrogen peroxide generation unit (110) to become sterilization gas. The sterilization gas flows from the sterilization gas circulation channel (51) into the sterilization side air conditioner (85), and the temperature is adjusted. Thereafter, the sterilization gas is supplied from the respective sterilization gas supply paths (53, 54, 55) to the processing chambers (2a, 2b, 2c). The air in each processing chamber (2a, 2b, 2c) is discharged to the sterilization gas return path (58, 59, 61) and flows to the sterilization gas circulation path (51). A part of this air flows into the sterilization gas generator (81), and the remaining part is divided into the decomposition channel (65) and the bypass channel (67). The air that has flowed into the sterilization gas generator (81) is mixed with the air from the outside air treatment air conditioner (91), and after being provided with hydrogen peroxide gas, it flows into the sterilization gas circulation channel (51). This sterilizing gas merges with the air from the bypass channel (67) and flows to the sterilization side air conditioner (85), and this circulation is repeated. Note that the air that has flowed into the decomposition channel (65) is discharged to the outside through the hydrogen peroxide decomposer (83), as in the preparation mode.

このように、調整モードでは、処理室(2a,2b,2c)へ滅菌ガスが供給される一方、処理室(2a,2b,2c)内の空気が排出されるため、処理室(2a,2b,2c)内の過酸化水素濃度が次第に高くなる。そして、その過酸化水素濃度が目標値へ達すると、調整モードが終了し、滅菌モードが開始される。     As described above, in the adjustment mode, the sterilization gas is supplied to the processing chamber (2a, 2b, 2c), while the air in the processing chamber (2a, 2b, 2c) is discharged, so that the processing chamber (2a, 2b) , 2c) the hydrogen peroxide concentration gradually increases. When the hydrogen peroxide concentration reaches the target value, the adjustment mode ends and the sterilization mode is started.

図5に示すように、滅菌モードでは、滅菌ガス発生器(81)の入口遮断ダンパ(74)が閉状態に設定される。また、滅菌ガス発生器(81)において、温湿度調整部(114)が過酸化水素発生部(110)と共に運転される。その他は、調整モードと同じ状態である。     As shown in FIG. 5, in the sterilization mode, the inlet shut-off damper (74) of the sterilization gas generator (81) is set in a closed state. In the sterilization gas generator (81), the temperature / humidity adjustment unit (114) is operated together with the hydrogen peroxide generation unit (110). Others are the same as in the adjustment mode.

この場合、滅菌ガス発生器(81)において、各処理室(2a,2b,2c)から排出した滅菌ガスは流入せず、外気処理空調機(91)からの新たな空気のみが供給される。そして、滅菌ガス発生器(81)へ流入した空気は、過酸化水素ガスが付与されると共に、温度および湿度が適切に調節される。つまり、調整モードとは異なり、温湿度が適切に調節された滅菌ガスが各処理室(2a,2b,2c)へ供給される。これにより、各処理室(2a,2b,2c)において、過酸化水素濃度が所定の範囲で維持され、さらに温度および湿度が滅菌に適した値(温度25℃、相対湿度30%)に維持される。したがって、滅菌効果が効果的に発揮される。そして、滅菌モードは、所定時間が行われると終了する。     In this case, in the sterilization gas generator (81), the sterilization gas discharged from each processing chamber (2a, 2b, 2c) does not flow, and only new air from the outside air processing air conditioner (91) is supplied. The air flowing into the sterilization gas generator (81) is provided with hydrogen peroxide gas, and the temperature and humidity are appropriately adjusted. That is, unlike the adjustment mode, a sterilizing gas whose temperature and humidity are appropriately adjusted is supplied to each processing chamber (2a, 2b, 2c). As a result, in each processing chamber (2a, 2b, 2c), the hydrogen peroxide concentration is maintained within a predetermined range, and the temperature and humidity are maintained at values suitable for sterilization (temperature 25 ° C., relative humidity 30%). The Therefore, the sterilization effect is effectively exhibited. Then, the sterilization mode ends when a predetermined time is performed.

〈第1稀釈モード〉
コントローラ(120)のモード切換部(121)は、滅菌モードが終了すると、第1稀釈モードに切り換える。この第1稀釈モードは、処理室(2a,2b,2c)の過酸化水素の濃度を所定値(例えば、10ppm)以下に低下させるための運転である。
<First dilution mode>
When the sterilization mode ends, the mode switching unit (121) of the controller (120) switches to the first dilution mode. The first dilution mode is an operation for reducing the concentration of hydrogen peroxide in the processing chamber (2a, 2b, 2c) to a predetermined value (for example, 10 ppm) or less.

図6に示すように、この第1希釈モードでは、分解用流路(65)の入口遮断ダンパ(72)および出口遮断ダンパ(71)が開状態に設定される。また、滅菌ガス発生器(81)において、過酸化水素発生部(110)が停止される。その他は、滅菌モードと同じ状態である。     As shown in FIG. 6, in the first dilution mode, the inlet cutoff damper (72) and the outlet cutoff damper (71) of the decomposition channel (65) are set in the open state. Further, in the sterilization gas generator (81), the hydrogen peroxide generator (110) is stopped. The other conditions are the same as in the sterilization mode.

この状態では、各処理室(2a,2b,2c)から排出された滅菌ガスが滅菌ガス循環流路(51)へ流れる。この滅菌ガスは、分解用流路(65)とバイパス流路(67)とに分流する。分解用流路(65)へ流入した滅菌ガスの一部は、そのまま分解用流路(65)の過酸化水素分解器(82)へ流れて過酸化水素が分解除去された後、滅菌ガス循環流路(51)へ流れる。分解用流路(65)へ流入した滅菌ガスの残りは、接続流路(96)から滅菌ガス排出路(69)へ流れ、過酸化水素分解器(83)で過酸化水素が分解除去されて室外へ排出される。     In this state, the sterilization gas discharged from each processing chamber (2a, 2b, 2c) flows into the sterilization gas circulation channel (51). This sterilizing gas is divided into the decomposition channel (65) and the bypass channel (67). Part of the sterilization gas that has flowed into the decomposition channel (65) flows directly into the hydrogen peroxide decomposer (82) of the decomposition channel (65), where hydrogen peroxide is decomposed and removed, and then sterilized gas circulation It flows to the channel (51). The remainder of the sterilization gas that flowed into the decomposition channel (65) flows from the connection channel (96) to the sterilization gas discharge channel (69), where hydrogen peroxide is decomposed and removed by the hydrogen peroxide decomposer (83). It is discharged outside the room.

一方、滅菌ガス発生器(81)で温湿度が適切に調節された空気は、滅菌ガス循環流路(51)へ流れる。バイパス流路(67)へ流入した滅菌ガスは、滅菌ガス循環流路(51)において、滅菌ガス発生器(81)および過酸化水素分解器(82)からの空気と合流し、稀釈される。稀釈された滅菌ガスは、各処理室(2a,2b,2c)へ供給され、この循環が繰り返される。これにより、各処理室(2a,2b,2c)内の過酸化水素濃度が次第に低下する。そして、各処理室(2a,2b,2c)内の過酸化水素濃度が所定値(10ppm)以下になると、第1稀釈モードが終了する。     On the other hand, the air whose temperature and humidity are appropriately adjusted by the sterilization gas generator (81) flows to the sterilization gas circulation channel (51). The sterilizing gas that has flowed into the bypass channel (67) is combined with the air from the sterilizing gas generator (81) and the hydrogen peroxide decomposer (82) in the sterilizing gas circulation channel (51) and diluted. The diluted sterilization gas is supplied to each processing chamber (2a, 2b, 2c), and this circulation is repeated. Thereby, the hydrogen peroxide concentration in each processing chamber (2a, 2b, 2c) gradually decreases. Then, when the hydrogen peroxide concentration in each processing chamber (2a, 2b, 2c) falls below a predetermined value (10 ppm), the first dilution mode ends.

〈第2稀釈モード〉
コントローラ(120)のモード切換部(121)は、第1稀釈モードが終了すると、第2稀釈モードに切り換える。この第2稀釈モードは、処理室(2a,2b,2c)の過酸化水素濃度をさらに低い値(例えば、1ppm)にするための運転である。つまり、このモードは、無菌空気を処理室(2a,2b,2c)へ供給すると共に、処理室(2a,2b,2c)内の低濃度の滅菌ガスを直接室外へ排出させる運転である。さらに、この第2稀釈モードによれば、処理室(2a,2b,2c)の温度および湿度が目標値に制御される。例えば、その目標温度は22℃に設定され、目標湿度は相対湿度50%に設定される。
<Second dilution mode>
When the first dilution mode ends, the mode switching unit (121) of the controller (120) switches to the second dilution mode. The second dilution mode is an operation for setting the hydrogen peroxide concentration in the processing chamber (2a, 2b, 2c) to a lower value (for example, 1 ppm). That is, in this mode, aseptic air is supplied to the processing chambers (2a, 2b, 2c), and low-concentration sterilization gas in the processing chambers (2a, 2b, 2c) is directly discharged to the outside of the chamber. Furthermore, according to the second dilution mode, the temperature and humidity of the processing chambers (2a, 2b, 2c) are controlled to target values. For example, the target temperature is set to 22 ° C., and the target humidity is set to 50% relative humidity.

図7に示すように、この第2稀釈モードでは、滅菌系統回路(50)の運転を停止し、空調系統回路(5)のみを運転させる。具体的に、滅菌系統回路(50)において、全ての遮断ダンパ(56,58,・・・)が閉状態に設定される。そして、空調系統回路(5)において、図7に太線で示すラインの遮断ダンパ(25,42,・・・)が開状態に設定され、主調節ダンパ(45)および調節ダンパ(37,41)が適切な開度に設定される。     As shown in FIG. 7, in the second dilution mode, the operation of the sterilization system circuit (50) is stopped and only the air conditioning system circuit (5) is operated. Specifically, in the sterilization system circuit (50), all the shut-off dampers (56, 58,...) Are set in a closed state. In the air conditioning system circuit (5), the cutoff dampers (25, 42,...) Indicated by the thick lines in FIG. 7 are set to the open state, and the main adjustment damper (45) and the adjustment damper (37, 41). Is set to an appropriate opening.

この状態で、外気処理空調機(21)、顕熱空調機(23)および排気ファン(43)を運転させる。そうすると、先ず、室外から給気側主流路(11)へ取り込まれた空気は、外気処理空調機(21)で塵埃等が除去され、顕熱空調機(23)へ流入する。顕熱空調機(23)では、空気の温度および湿度が調節される。この調節された空気は、各給気流路(12,13,14)へ流れ、HEPAフィルタ(27)を通過して各処理室(2a,2b,2c)へ供給される。ここで、供給された空気は、外気処理空調機(21)やHEPAフィルタ(27)によって無菌空気となっている。また、第2給気流路(13)および第3給気流路(14)へ流れた空気は、レヒートコイル(24)によって温度が微調整される。     In this state, the outside air processing air conditioner (21), the sensible heat air conditioner (23), and the exhaust fan (43) are operated. Then, first, the air taken into the air supply side main flow path (11) from the outside is removed by the outside air processing air conditioner (21) and flows into the sensible heat air conditioner (23). In the sensible heat air conditioner (23), the temperature and humidity of the air are adjusted. The adjusted air flows to the air supply passages (12, 13, 14), passes through the HEPA filter (27), and is supplied to the processing chambers (2a, 2b, 2c). Here, the supplied air is aseptic air by the outside air processing air conditioner (21) and the HEPA filter (27). The temperature of the air flowing into the second air supply channel (13) and the third air supply channel (14) is finely adjusted by the reheat coil (24).

各処理室(2a,2b,2c)の空気(低濃度の滅菌ガス)は、排気ファン(43)によって、HEPAフィルタ(46)を通過して排気流路(32,33,34)へ排出され、排気側主流路(31)へ流れる。この排気側主流路(31)の空気は、一部が還気流路(36)へ流れ、残りが主調節ダンパ(45)を通って室外へ排出される。還気流路(36)へ流れた空気は、給気側主流路(11)へ流れて外気処理空調機(21)からの空気と合流する。ここで、室外へ排出される空気量および還気流路(36)へ流れる空気量は、主調節ダンパ(45)および調節ダンパ(37)の開度制御によって調節される。     Air (low-concentration sterilized gas) in each processing chamber (2a, 2b, 2c) is exhausted by the exhaust fan (43) through the HEPA filter (46) to the exhaust flow path (32, 33, 34). , Flows to the exhaust side main flow path (31). Part of the air in the exhaust-side main flow path (31) flows to the return air flow path (36), and the remaining air passes through the main adjustment damper (45) and is discharged to the outside. The air that has flowed to the return air flow path (36) flows to the supply-side main flow path (11) and merges with the air from the outside air processing air conditioner (21). Here, the amount of air discharged to the outside and the amount of air flowing to the return air flow path (36) are adjusted by opening control of the main adjustment damper (45) and the adjustment damper (37).

このように、処理室(2a,2b,2c)において、新たな無菌空気が供給される一方、滅菌ガスが室外へ排出されるので、処理室(2a,2b,2c)内の過酸化水素濃度がさらに低下する。そして、処理室(2a,2b,2c)において、過酸化水素濃度が所定値(1ppm)以下になり、且つ、温度および湿度が目標値(温度22℃、相対湿度50%)になると、第2稀釈モードが終了する。本実施形態では、準備モードから第2稀釈モードまでの一連の運転が行われて処理室(2a,2b,2c)の滅菌処理が完了する。     Thus, in the processing chamber (2a, 2b, 2c), new sterile air is supplied while sterilization gas is discharged outside the chamber, so the concentration of hydrogen peroxide in the processing chamber (2a, 2b, 2c) Is further reduced. Then, in the processing chambers (2a, 2b, 2c), when the hydrogen peroxide concentration becomes a predetermined value (1 ppm) or less and the temperature and humidity reach the target values (temperature 22 ° C., relative humidity 50%), the second Dilution mode ends. In the present embodiment, a series of operations from the preparation mode to the second dilution mode is performed, and the sterilization processing of the processing chambers (2a, 2b, 2c) is completed.

〈定常モード〉
コントローラ(120)のモード切換部(121)は、第2稀釈モードが終了すると、定常モードに切り換える。この定常モードは、各処理室(2a,2b,2c)の温度および湿度を第2稀釈モードで設定した値(温度22℃、相対湿度50%)に維持すると共に、処理室(2a,2b,2c)内の無菌状態を維持する空調運転である。
<Stationary mode>
When the second dilution mode ends, the mode switching unit (121) of the controller (120) switches to the steady mode. In this steady mode, the temperature and humidity of each processing chamber (2a, 2b, 2c) are maintained at the values set in the second dilution mode (temperature 22 ° C., relative humidity 50%) and the processing chambers (2a, 2b, 2c) Air-conditioning operation that maintains the sterility of

具体的に、この定常モードでは、図7に示す第2稀釈モードと同様に空気が流れる。つまり、室外から取り込まれた空気は、外気処理空調機(21)やHEPAフィルタ(27)によって無菌化され、顕熱空調機(23)やレヒートコイル(24)によって温度および湿度が調節される。そして、この調節された無菌空気が各処理室(2a,2b,2c)へ供給され、処理室(2a,2b,2c)の空気が室外へ排出される。したがって、定常モードの運転により、処理室(2a,2b,2c)の温度と湿度が設定値に維持されるとともに、無菌状態が維持される。     Specifically, in this steady mode, air flows as in the second dilution mode shown in FIG. That is, the air taken in from the outside is sterilized by the outside air processing air conditioner (21) and the HEPA filter (27), and the temperature and humidity are adjusted by the sensible heat air conditioner (23) and the reheat coil (24). Then, the adjusted aseptic air is supplied to each processing chamber (2a, 2b, 2c), and the air in the processing chamber (2a, 2b, 2c) is discharged to the outside. Therefore, by the operation in the steady mode, the temperature and humidity of the processing chambers (2a, 2b, 2c) are maintained at the set values and the aseptic state is maintained.

−単独運転−
次に、本実施形態の滅菌システム(1)は、何れかの処理室(2a,2b,2c)に対して単独で滅菌処理を行ったり、空調を行うことができる。
-Single operation-
Next, the sterilization system (1) of the present embodiment can perform sterilization processing or air conditioning for any of the processing chambers (2a, 2b, 2c) alone.

例えば、第2処理室(2b)のみを単独で滅菌処理する場合、第1滅菌ガス供給路(53)および第3滅菌ガス供給路(55)の遮断ダンパ(25)と、第1滅菌ガス戻し路(58)および第3滅菌ガス戻し路(61)の遮断ダンパ(63)がそれぞれ閉状態に設定される。この状態において、上述した準備モード〜第2稀釈モードの運転が順次行われる。この場合、例えば滅菌モードでは、図8に示す状態となる。滅菌側空調機(85)から滅菌ガス供給主流路(52)へ流れた滅菌ガスは、第2滅菌ガス供給路(54)のみを通って第2処理室(2b)へ供給される。そして、第2処理室(2b)の空気は、第2滅菌ガス戻し路(59)へ排出されて、滅菌ガス戻し主流路(57)から滅菌ガス循環流路(51)へ流れる。したがって、第2処理室(2b)に対してのみ滅菌ガスを供給することができ、単独で滅菌処理を行うことができる。     For example, when only the second processing chamber (2b) is sterilized alone, the shut-off damper (25) of the first sterilization gas supply path (53) and the third sterilization gas supply path (55) and the first sterilization gas return The shut-off dampers (63) of the path (58) and the third sterilization gas return path (61) are each set to a closed state. In this state, the above-described operation from the preparation mode to the second dilution mode is sequentially performed. In this case, for example, in the sterilization mode, the state shown in FIG. 8 is obtained. The sterilization gas that has flowed from the sterilization side air conditioner (85) to the sterilization gas supply main channel (52) is supplied to the second processing chamber (2b) only through the second sterilization gas supply channel (54). Then, the air in the second processing chamber (2b) is discharged to the second sterilization gas return path (59) and flows from the sterilization gas return main channel (57) to the sterilization gas circulation channel (51). Therefore, sterilization gas can be supplied only to the second processing chamber (2b), and sterilization can be performed alone.

このように、処理室(2a,2b,2c)の各滅菌ガス供給路(53,54,55)および各滅菌ガス戻し路(58,59,61)に遮断ダンパ(56,63)を設けたので、その遮断ダンパ(56,63)を切り換えるだけで処理室(2a,2b,2c)の何れかを単独で滅菌処理することができる。したがって、滅菌処理の必要がない処理室(2a,2b,2c)まで対象としなくてもよいため、運転の煩雑化を避けることができる。また、過酸化水素発生部(110)における過酸化水素ガスの発生量は、第2処理室(2b)で必要な分だけですむ、即ち対象とする処理室(2a,2b,2c)の分だけですむ。したがって、過酸化水素発生部(110)において、無駄な過酸化水素ガスを発生させなくてもく、経済的な運転を行うことができる。     As described above, the shut-off dampers (56, 63) are provided in the sterilization gas supply paths (53, 54, 55) and the sterilization gas return paths (58, 59, 61) of the processing chamber (2a, 2b, 2c). Therefore, any one of the processing chambers (2a, 2b, 2c) can be sterilized independently by simply switching the shut-off damper (56, 63). Therefore, since it is not necessary to make it into the processing chamber (2a, 2b, 2c) which does not need sterilization processing, complication of operation can be avoided. In addition, the amount of hydrogen peroxide gas generated in the hydrogen peroxide generating part (110) is only as much as necessary in the second processing chamber (2b), that is, in the target processing chamber (2a, 2b, 2c). Just do it. Therefore, economical operation can be performed without generating wasteful hydrogen peroxide gas in the hydrogen peroxide generating section (110).

なお、定常モードでの空調運転についても同様である。つまり、処理室(2a,2b,2c)の各給気流路(12,13,14)および各排気流路(32,33,34)に遮断ダンパ(25,42)を設けたので、必要な処理室(2a,2b,2c)に対応する遮断ダンパ(25,42)のみを開状態にすればその処理室(2a,2b,2c)に対して単独で空調運転を行うことができる。     The same applies to the air conditioning operation in the steady mode. That is, since the shutoff dampers (25, 42) are provided in the air supply channels (12, 13, 14) and the exhaust channels (32, 33, 34) of the processing chamber (2a, 2b, 2c), it is necessary. If only the shut-off dampers (25, 42) corresponding to the processing chambers (2a, 2b, 2c) are opened, the air conditioning operation can be performed independently for the processing chambers (2a, 2b, 2c).

さらに、図示しないが、本実施形態では、何れかの処理室(2a,2b,2c)に対して滅菌処理を行いつつ、その他の処理室(2a,2b,2c)に対して空調運転を行うこともできる。例えば、第1処理室(2a)に対して滅菌処理を行いつつ、第2処理室(2b)および第3処理室(2c)に対して空調運転を行う場合について説明する。この場合、第1給気流路(12)および第1排気流路(32)の遮断ダンパ(25,42)が閉状態に、第1滅菌ガス供給路(53)および第1滅菌ガス戻し路(58)の遮断ダンパ(56,63)が開状態にそれぞれ設定される。また、第2給気流路(13)、第3給気流路(14)、第2排気流路(33)および第3排気流路(34)の遮断ダンパ(25,42)が開状状態に設定され、第2滅菌ガス供給路(54)、第3滅菌ガス供給路(55)、第2滅菌ガス戻し路(59)および第3滅菌ガス戻し路(61)の遮断ダンパ(56,63)が閉状態に設定される。これにより、第1処理室(2a)には過酸化水素ガスが供給され、第2処理室(2b)および第3処理室(2c)には無菌空気が供給される。     Further, although not shown, in the present embodiment, the air conditioning operation is performed on the other processing chambers (2a, 2b, 2c) while performing the sterilization processing on any of the processing chambers (2a, 2b, 2c). You can also For example, a case where air conditioning operation is performed on the second processing chamber (2b) and the third processing chamber (2c) while performing sterilization processing on the first processing chamber (2a) will be described. In this case, the shutoff dampers (25, 42) of the first air supply passage (12) and the first exhaust passage (32) are closed, and the first sterilization gas supply passage (53) and the first sterilization gas return passage ( 58) The shut-off dampers (56, 63) are respectively set to the open state. Further, the shutoff dampers (25, 42) of the second air supply passage (13), the third air supply passage (14), the second exhaust passage (33), and the third exhaust passage (34) are opened. Set and shut off dampers (56, 63) of the second sterilization gas supply path (54), the third sterilization gas supply path (55), the second sterilization gas return path (59) and the third sterilization gas return path (61) Is set to the closed state. Thereby, hydrogen peroxide gas is supplied to the first processing chamber (2a), and aseptic air is supplied to the second processing chamber (2b) and the third processing chamber (2c).

−室圧制御−
次に、各処理室(2a,2b,2c)の室圧制御について説明する。
-Room pressure control-
Next, the chamber pressure control of each processing chamber (2a, 2b, 2c) will be described.

上述した準備モードから第2稀釈モードまでの運転中(以下、滅菌運転時という)には、コントローラ(120)の滅菌時制御部(122)によって処理室(2a,2b,2c)の室圧が制御される。また、定常モードの運転中(以下、定常運転時という)には、コントローラ(120)の定常時制御部(123)によって処理室(2a,2b,2c)の室圧が制御される。     During operation from the above-described preparation mode to the second dilution mode (hereinafter referred to as sterilization operation), the chamber pressure in the processing chamber (2a, 2b, 2c) is controlled by the sterilization control unit (122) of the controller (120). Be controlled. Further, during operation in the steady mode (hereinafter referred to as steady operation), the chamber pressures in the processing chambers (2a, 2b, 2c) are controlled by the steady-state control unit (123) of the controller (120).

滅菌運転時では、滅菌時制御部(122)によって、全ての処理室(2a,2b,2c)の室圧が同じ設定圧力(微陽圧:15〜20Pa)になるように各排気流路(32,33,34)の調節ダンパ(41)の開度が制御される。具体的に、この調節ダンパ(41)の開度は、上記設定圧力と圧力センサ(105)の検出値との偏差が第1所定量(例えば、所定値の10%)以上になると調節される。例えば、圧力センサ(105)の検出値が設定圧力よりその12%分だけ低い場合、その処理室(2a,2b,2c)に対応する調節ダンパ(41)の開度を小さくして処理室(2a,2b,2c)からの排気量を減少させる。これにより、処理室(2a,2b,2c)の室圧が上昇する。逆に、圧力センサ(105)の検出値が設定圧力よりその12%分だけ高い場合、その処理室(2a,2b,2c)に対応する調節ダンパ(41)の開度を大きくして処理室(2a,2b,2c)からの排気量を増大させる。これにより、処理室(2a,2b,2c)の室圧が低下する。また、圧力センサ(132)の検出値と設定圧力との偏差が第1所定量未満(例えば、設定圧力の8%)である場合、調節ダンパ(41)の開度は調節されない。このように、各処理室(2a,2b,2c)への給気量が定風量装置(26)によって一定制御されているため、各処理室(2a,2b,2c)からの排気量を変更することにより室圧が調節される。この室圧制御によって、処理室(2a,2b,2c)が微陽圧に維持されるので、外部からの菌類の侵入を防止することができる。     At the time of sterilization operation, each exhaust flow path (15 to 20 Pa) is set so that the chamber pressure of all the processing chambers (2a, 2b, 2c) becomes the same set pressure (micro positive pressure: 15 to 20 Pa) by the sterilization control unit (122). The opening degree of the adjustment damper (41) of 32, 33, 34) is controlled. Specifically, the opening degree of the adjustment damper (41) is adjusted when the deviation between the set pressure and the detected value of the pressure sensor (105) becomes a first predetermined amount (for example, 10% of the predetermined value) or more. . For example, when the detected value of the pressure sensor (105) is lower than the set pressure by 12%, the opening of the adjustment damper (41) corresponding to the processing chamber (2a, 2b, 2c) is reduced and the processing chamber ( Reduce the displacement from 2a, 2b, 2c). As a result, the chamber pressure in the processing chamber (2a, 2b, 2c) increases. Conversely, if the detected value of the pressure sensor (105) is 12% higher than the set pressure, the opening of the adjustment damper (41) corresponding to the processing chamber (2a, 2b, 2c) is increased and the processing chamber is increased. Increase the displacement from (2a, 2b, 2c). Thereby, the chamber pressure of the processing chamber (2a, 2b, 2c) is lowered. Further, when the deviation between the detected value of the pressure sensor (132) and the set pressure is less than the first predetermined amount (for example, 8% of the set pressure), the opening degree of the adjustment damper (41) is not adjusted. In this way, the amount of air supplied to each processing chamber (2a, 2b, 2c) is constantly controlled by the constant air volume device (26), so the amount of exhaust from each processing chamber (2a, 2b, 2c) is changed. By doing so, the chamber pressure is adjusted. By this chamber pressure control, the processing chambers (2a, 2b, 2c) are maintained at a slightly positive pressure, so that invasion of fungi from the outside can be prevented.

定常運転時では、定常時制御部(123)によって、第1処理室(2a)および第3処理室(2c)の室圧が第1設定圧力(微陽圧:15〜20Pa)になるように、第2処理室(2b)の室圧が第1設定圧力よりも高い第2設定圧力(微陽圧:35〜40Pa)になるように調節ダンパ(41)の開度が制御される。具体的に、全ての開閉扉(3)が閉状態である場合、この調節ダンパ(41)の開度は、滅菌時制御部(122)と同様に、上記設定圧力と圧力センサ(105)の検出値との偏差が第1所定量(例えば、所定値の10%)以上になると調節される。     During steady operation, the steady state controller (123) causes the chamber pressures of the first processing chamber (2a) and the third processing chamber (2c) to become the first set pressure (slight positive pressure: 15 to 20 Pa). The opening degree of the adjustment damper (41) is controlled so that the chamber pressure of the second processing chamber (2b) becomes a second set pressure (slight positive pressure: 35 to 40 Pa) higher than the first set pressure. Specifically, when all the open / close doors (3) are in the closed state, the opening degree of the adjustment damper (41) is the same as that of the sterilization control unit (122) and the set pressure and the pressure sensor (105). Adjustment is made when the deviation from the detected value is equal to or greater than a first predetermined amount (for example, 10% of the predetermined value).

ここで、例えば、第1処理室(2a)および第2処理室(2b)の間の開閉扉(3)が開くと、そのドアスイッチ(131)から検出信号が定常時制御部(123)へ入力される。入力されると、定常時制御部(123)は、特別モードで処理室(2a,2b,2c)の室圧制御を行う。具体的に、開閉扉(3)の開放直後、第1処理室(2a)用の調節ダンパ(41)の開度が数%増大され、第2処理室(2b)用の調節ダンパ(41)の開度が数%減少される。そうすると、第1処理室(2a)においては排気量が増大して室圧が低下する傾向になり、第2処理室(2b)においては排気量が減少して室圧が上昇する傾向になる。つまり、設定圧力の高い処理室(2b)の排気量を減少させ、設定圧力の低い処理室(2a)の排気量を増大させる。これにより、開閉扉(3)の開放直後において、第2処理室(2b)の室圧を第1処理室(2a)の室圧より高い状態に確実に維持することができる。したがって、第2処理室(2b)から第1処理室(2a)へ向かう空気流れ(気流)を確実に形成することができる。つまり、重要度(滅菌レベル)の高い第2処理室(2b)において、重要度(滅菌レベル)の低い第1処理室(2a)からの空気の侵入を防止できる。     Here, for example, when the open / close door (3) between the first processing chamber (2a) and the second processing chamber (2b) is opened, a detection signal is sent from the door switch (131) to the steady-state control unit (123). Entered. When input, the steady-state control unit (123) performs chamber pressure control of the processing chambers (2a, 2b, 2c) in a special mode. Specifically, immediately after the opening / closing door (3) is opened, the opening degree of the adjustment damper (41) for the first processing chamber (2a) is increased by several percent, and the adjustment damper (41) for the second processing chamber (2b) is increased. Is reduced by several percent. Then, the exhaust amount increases in the first processing chamber (2a) and the chamber pressure tends to decrease, and in the second processing chamber (2b), the exhaust amount decreases and the chamber pressure tends to increase. That is, the exhaust amount of the processing chamber (2b) having a high set pressure is decreased and the exhaust amount of the processing chamber (2a) having a low set pressure is increased. Accordingly, immediately after the opening / closing door (3) is opened, the chamber pressure in the second processing chamber (2b) can be reliably maintained higher than the chamber pressure in the first processing chamber (2a). Therefore, an air flow (air flow) from the second processing chamber (2b) toward the first processing chamber (2a) can be reliably formed. That is, intrusion of air from the first processing chamber (2a) having a low importance (sterilization level) can be prevented in the second processing chamber (2b) having a high importance (sterilization level).

この制御が行われない場合、開閉扉(3)の開放直後、室圧差によって一時的に第2処理室(2b)から第1処理室(2a)へ空気が流れるが、直ぐに双方の室圧が平衡状態になる。そうすると、第2処理室(2b)から第1処理室(2a)へ空気が侵入する恐れがあり、第2処理室(2b)の滅菌状態が損なわれる恐れがある。ところが、上記の制御を行うことにより、第2処理室(2b)の滅菌状態を確実に確保することができる。     If this control is not performed, immediately after opening of the open / close door (3), air temporarily flows from the second processing chamber (2b) to the first processing chamber (2a) due to the difference in the chamber pressure. It becomes an equilibrium state. Then, air may enter the first processing chamber (2a) from the second processing chamber (2b), and the sterilization state of the second processing chamber (2b) may be impaired. However, by performing the above control, the sterilization state of the second processing chamber (2b) can be reliably ensured.

次に、開閉扉(3)が開いてから所定時間が経過しても開閉扉(3)が未だ開いている場合、第1処理室(2a)および第2処理室(2b)のそれぞれに対応する調節ダンパ(41)の開度が圧力センサ(132)の検出値に基づいて制御される。具体的に、調節ダンパ(41)の開度は、設定圧力と圧力センサ(105)の検出値との偏差が上記第1所定量より大きい第2所定量(例えば、所定値の20%)以上になると調節される。つまり、圧力センサ(132)の検出値に基づく調節ダンパ(41)の開度制御の応答性が遅れ、処理室(2a,2b)の室圧が多少増減しても調節ダンパ(41)の開度が変化しないようにした。     Next, if the open / close door (3) is still open after a certain period of time has elapsed since the open / close door (3) is opened, it corresponds to each of the first processing chamber (2a) and the second processing chamber (2b). The opening degree of the adjusting damper (41) is controlled based on the detected value of the pressure sensor (132). Specifically, the opening degree of the adjustment damper (41) is equal to or greater than a second predetermined amount (for example, 20% of the predetermined value) in which the deviation between the set pressure and the detected value of the pressure sensor (105) is greater than the first predetermined amount. Will be adjusted. In other words, the responsiveness of the opening control of the adjustment damper (41) based on the detection value of the pressure sensor (132) is delayed, and the adjustment damper (41) can be opened even if the chamber pressure in the processing chamber (2a, 2b) slightly increases or decreases. The degree was not changed.

ここで、設定圧力との偏差を第1所定量のままとした場合に生じる問題点について説明する。第2処理室(2b)から第1処理室(2a)へ空気が流れている状態では、第1処理室(2a)の室圧が第1設定圧力より高くなり、第2処理室(2b)の室圧が第2設定圧力より低くなっている。そうすると、第1処理室(2a)用の調節ダンパ(41)の開度が増大されて該第1処理室(2a)の室圧が低下し、第2処理室(2b)用の調節ダンパ(41)の開度が減少されて該第2処理室(2b)の室圧が上昇する。ところが、室圧差が生じても、その分だけ第2処理室(2b)から第1処理室(2a)へ向かう空気の流速が増大し、双方の室圧が設定圧力になかなか近づかない。したがって、第1処理室(2a)の調節ダンパ(41)の開度がさらに増大され、第2処理室(2b)の調節ダンパ(41)の開度がさらに減少され、最終的に調節ダンパ(41)の開度が最小開度または最大開度になる。この状態で開閉扉(3)が閉まると、第1処理室(2a)では過剰な陰圧状態に、第2処理室(2b)では過剰な高圧状態になってしまう。その結果、第1処理室(2a)においては菌類が侵入する恐れがあり、第2処理室(2b)においては作業環境の悪化を招く。また、開閉扉(3)の開放中は、第2処理室(2b)から第1処理室(2a)へ向かう過剰な空気流れが生じてしまい、やはり作業環境が悪化する。ところが、本実施形態のように、調節ダンパ(41)の開度制御の応答性を遅らすことにより、開閉扉(3)の開放中に調節ダンパ(41)の開度が極端に小さくまたは大きくなるのを抑制することができる。その結果、開閉扉(3)が閉じられた直後、処理室(2a,2b)において過度の高圧または低圧状態になるのを抑制することができ、菌類の侵入や作業環境の悪化を抑制できる。これは、開閉扉(3)の開放時間が長いほど、その抑制効果が大きい。     Here, a problem that occurs when the deviation from the set pressure remains at the first predetermined amount will be described. In a state where air flows from the second processing chamber (2b) to the first processing chamber (2a), the chamber pressure of the first processing chamber (2a) becomes higher than the first set pressure, and the second processing chamber (2b) The chamber pressure is lower than the second set pressure. Then, the opening degree of the adjustment damper (41) for the first processing chamber (2a) is increased, the chamber pressure of the first processing chamber (2a) is decreased, and the adjustment damper (2) for the second processing chamber (2b) 41) is decreased, and the chamber pressure in the second processing chamber (2b) is increased. However, even if a chamber pressure difference occurs, the flow velocity of air from the second processing chamber (2b) to the first processing chamber (2a) increases correspondingly, and the chamber pressures of both do not readily approach the set pressure. Therefore, the opening degree of the adjustment damper (41) in the first processing chamber (2a) is further increased, the opening degree of the adjustment damper (41) in the second processing chamber (2b) is further reduced, and finally the adjustment damper ( 41) is the minimum or maximum opening. When the open / close door (3) is closed in this state, the first processing chamber (2a) is in an excessive negative pressure state, and the second processing chamber (2b) is in an excessively high pressure state. As a result, fungi may enter the first processing chamber (2a), and the working environment is deteriorated in the second processing chamber (2b). Further, while the open / close door (3) is opened, an excessive air flow from the second processing chamber (2b) to the first processing chamber (2a) is generated, and the working environment is deteriorated. However, as in this embodiment, the opening degree of the adjustment damper (41) becomes extremely small or large while the opening / closing door (3) is opened by delaying the responsiveness of the opening control of the adjustment damper (41). Can be suppressed. As a result, immediately after the open / close door (3) is closed, an excessively high pressure or low pressure state in the processing chamber (2a, 2b) can be suppressed, and fungus intrusion and deterioration of the working environment can be suppressed. The longer the opening time of the open / close door (3), the greater the suppression effect.

また、上述した特別モードの室圧制御は、室外に面する開閉扉(3)を開いた場合も同様に行われる。例えば、第1処理室(2a)の室外に面する開閉扉(3)が開くと、第1処理室(2a)用の調節ダンパ(41)の開度が数%減少される。そうすると、第1処理室(2a)において、排気量が増大して室圧が上昇する傾向になる。したがって、開閉扉(3)の開放直後において、第1処理室(2a)から室外へ排出する空気流れ(気流)が確実に形成される。これにより、第1処理室(2a)における菌類の侵入を防止でき、滅菌状態を確保できる。そして、調節ダンパ(41)の開度が数%減少してから所定時間が経過すると、第1処理室(2a)用の調節ダンパ(41)が圧力センサ(132)の検出値に基づいて制御される。このままでは、調節ダンパ(41)の開度が次第に減少されて最小開度になってしまうが、調節ダンパ(41)の制御応答性を遅らしているため、それを抑制することができる。これにより、開閉扉(3)が閉じられた直後、第1処理室(2a)が過度の高圧状態になるのを抑制でき、作業環境の悪化を抑制できる。     The room pressure control in the special mode described above is performed in the same manner when the open / close door (3) facing the outside is opened. For example, when the open / close door (3) facing the outside of the first processing chamber (2a) is opened, the opening degree of the adjustment damper (41) for the first processing chamber (2a) is reduced by several percent. Then, in the first processing chamber (2a), the exhaust amount increases and the chamber pressure tends to increase. Therefore, immediately after the opening / closing door (3) is opened, an air flow (air flow) discharged from the first processing chamber (2a) to the outside is surely formed. Thereby, invasion of fungi in the first processing chamber (2a) can be prevented, and a sterilized state can be secured. When a predetermined time elapses after the opening degree of the adjustment damper (41) decreases by several percent, the adjustment damper (41) for the first processing chamber (2a) is controlled based on the detection value of the pressure sensor (132). Is done. In this state, the opening degree of the adjustment damper (41) is gradually reduced to the minimum opening degree. However, since the control response of the adjustment damper (41) is delayed, it can be suppressed. Thereby, immediately after the opening / closing door (3) is closed, it is possible to suppress the first processing chamber (2a) from being in an excessively high pressure state, and it is possible to suppress deterioration of the working environment.

〈PB単独滅菌モード〉
コントローラ(120)のモード切換部(121)は、定常運転時において、適宜、PB単独滅菌モードに切り換えることができる。
<PB single sterilization mode>
The mode switching unit (121) of the controller (120) can be appropriately switched to the PB single sterilization mode during steady operation.

このPB単独滅菌モードは、第2処理室(2b)および第3処理室(2c)において定常運転が行われつつ、第1処理室(2a)において単独で滅菌運転が行われるものである。例えば、このモードは、外部から第1処理室(2a)へ搬入した機材等に対して滅菌処理を行うためのものである。この場合、機材の確実な滅菌を図るため、単に第1処理室(2a)へ滅菌ガスを供給するだけでは足りず、滅菌ガスを機材の隙間等に行き渡らせることが重要である。このモードでは、その点を考慮した特別な運転が行われる。     In the PB single sterilization mode, the sterilization operation is performed independently in the first processing chamber (2a) while the steady operation is performed in the second processing chamber (2b) and the third processing chamber (2c). For example, this mode is for performing sterilization processing on the equipment and the like carried into the first processing chamber (2a) from the outside. In this case, in order to surely sterilize the equipment, it is not necessary to simply supply the sterilization gas to the first processing chamber (2a), and it is important to distribute the sterilization gas to the gaps between the equipment. In this mode, special operation is performed in consideration of this point.

具体的に、このモードは、滅菌ガス発生器(81)の滅菌ガスを第1処理室(2a)のみへ供給し、第1処理室(2a)内の過酸化水素の濃度を目標濃度にし、その後過酸化水素の濃度を所定範囲(例えば、目標濃度−10%〜目標濃度+10%)内で所定時間維持する運転である。そして、目標濃度は、上述した滅菌モードにおける目標濃度(300ppm)よりも高濃度(例えば、800ppm)に設定されている。これにより、搬入した機材の滅菌効果を高めている。     Specifically, in this mode, the sterilization gas of the sterilization gas generator (81) is supplied only to the first processing chamber (2a), the concentration of hydrogen peroxide in the first processing chamber (2a) is set to the target concentration, Thereafter, the hydrogen peroxide concentration is maintained within a predetermined range (for example, target concentration −10% to target concentration + 10%) for a predetermined time. The target concentration is set to a higher concentration (for example, 800 ppm) than the target concentration (300 ppm) in the sterilization mode described above. This enhances the sterilization effect of the imported equipment.

図9に示すように、PB単独滅菌モードは、定常モードの状態から、第1給気流路(12)および第1排気流路(32)の各遮断ダンパ(25,42)が閉状態に設定される。これにより、第1処理室(2a)が空調系統回路(5)から独立する。また、滅菌系統回路(50)において、第4滅菌ガス供給路(68)および滅菌ガス排出路(69)の各遮断ダンパ(68,79,94)が開状態に設定される。この状態において、外気処理空調機(91)、滅菌ガス発生器(81)における温湿度調整部(114)と過酸化水素発生部(110)、滅菌ガス供給ファン(89)および滅菌ガス排気ファン(87)が運転される。     As shown in FIG. 9, in the PB single sterilization mode, the shutoff dampers (25, 42) of the first air supply passage (12) and the first exhaust passage (32) are set to the closed state from the steady mode state. Is done. Thereby, the first processing chamber (2a) is independent from the air conditioning system circuit (5). Further, in the sterilization system circuit (50), the shut-off dampers (68, 79, 94) of the fourth sterilization gas supply path (68) and the sterilization gas discharge path (69) are set in the open state. In this state, the outside air processing air conditioner (91), the temperature / humidity adjustment unit (114) and the hydrogen peroxide generation unit (110) in the sterilization gas generator (81), the sterilization gas supply fan (89) and the sterilization gas exhaust fan ( 87) is driven.

上記の状態において、外気処理空調機(91)から滅菌ガス発生器(81)へ供給された空気は、温湿度調整部(114)で温度および湿度が調整され、過酸化水素発生部(110)から過酸化水素ガスが付与されて滅菌ガスとなる。ここで、この運転の特徴として、過酸化水素発生部(110)から空気へ付与される過酸化水素ガス量が上述した滅菌モード時よりも多くなっている。つまり、滅菌ガス発生器(81)で生成される滅菌ガスは、過酸化水素ガスの濃度が上述した滅菌モード時よりも高い。     In the above state, the temperature and humidity of the air supplied from the outside air treatment air conditioner (91) to the sterilization gas generator (81) are adjusted by the temperature / humidity adjustment unit (114), and the hydrogen peroxide generation unit (110) Hydrogen peroxide gas is applied from the sterilization gas to become a sterilization gas. Here, as a feature of this operation, the amount of hydrogen peroxide gas applied to the air from the hydrogen peroxide generating part (110) is larger than that in the sterilization mode described above. That is, the concentration of the hydrogen peroxide gas in the sterilization gas generated by the sterilization gas generator (81) is higher than that in the sterilization mode described above.

滅菌ガス発生器(81)の滅菌ガスは、滅菌ガス供給路(53,54,55)を通って第1給気流路(12)へ流れ、定風量装置(26)およびHEPAフィルタ(27)を通過して第1処理室(2a)へ供給される。第1処理室(2a)の空気は、第1排気流路(32)とPB用循環流路(95)とに排出される。第1排気流路(32)へ排出された空気は、滅菌ガス排出路(69)へ流れ、過酸化水素分解器(83)で過酸化水素が分解除去された後、室外へ排出される。PB用循環流路(95)へ排出された空気は、ミキシングボックス(88)へ流れ、滅菌ガス発生器(81)からの滅菌ガスと混合する。混合した滅菌ガス(空気)は、再び、第1給気流路(12)から第1処理室(2a)へ供給され、この循環を繰り返す。そして、第1処理室(2a)内の過酸化水素濃度が目標濃度(800ppm)に達し、その後目標濃度を維持しながら所定時間運転されると滅菌運転が終了する。なお、この運転の際、滅菌時制御部(122)は、第1処理室(2a)の室圧が設定圧力(微陽圧:15〜20Pa)になるように、第1排気流路(32)の調節ダンパ(41)の開度を制御する。     The sterilization gas of the sterilization gas generator (81) flows through the sterilization gas supply path (53, 54, 55) to the first supply air flow path (12), and passes through the constant air volume device (26) and the HEPA filter (27). It passes through and is supplied to the first processing chamber (2a). The air in the first processing chamber (2a) is discharged to the first exhaust passage (32) and the PB circulation passage (95). The air discharged to the first exhaust flow path (32) flows to the sterilization gas discharge path (69), and after the hydrogen peroxide is decomposed and removed by the hydrogen peroxide decomposer (83), it is discharged outside the room. The air discharged to the PB circulation flow path (95) flows to the mixing box (88) and is mixed with the sterilization gas from the sterilization gas generator (81). The mixed sterilization gas (air) is again supplied from the first air supply channel (12) to the first processing chamber (2a), and this circulation is repeated. The sterilization operation ends when the hydrogen peroxide concentration in the first processing chamber (2a) reaches the target concentration (800 ppm) and is operated for a predetermined time while maintaining the target concentration. During this operation, the sterilization control unit (122) controls the first exhaust flow path (32) so that the chamber pressure of the first processing chamber (2a) becomes a set pressure (micro positive pressure: 15 to 20 Pa). ) Of the adjustment damper (41) is controlled.

また、この運転では、上述した定常モードや滅菌モード時よりも大風量の滅菌ガスが第1処理室(2a)へ供給されるように、滅菌ガス供給ファン(89)が制御されている。そして、供給された滅菌ガスの大部分がPB用循環流路(95)へ排出される。つまり、第1処理室(2a)において滅菌ガスの換気量が増大する。この高濃度且つ大風量の滅菌ガスの換気作用により、滅菌ガスが確実に機材の隙間に行き渡り、滅菌効果が高められる。     In this operation, the sterilization gas supply fan (89) is controlled such that a larger amount of sterilization gas is supplied to the first processing chamber (2a) than in the above-described steady mode and sterilization mode. And most of the supplied sterilization gas is discharged | emitted to the circulation flow path (95) for PB. That is, the amount of ventilation of the sterilizing gas increases in the first processing chamber (2a). By the ventilation action of the sterilization gas having a high concentration and a large air volume, the sterilization gas surely reaches the gaps between the equipments, and the sterilization effect is enhanced.

さらに、この運転では、滅菌ガス供給ファン(89)が連続運転ではなく間欠運転が行われる。つまり、滅菌ガス供給ファン(89)は、大風量運転および停止が所定時間毎に交互に繰り返される。これにより、第1処理室(2a)において、滅菌ガスが間欠的に供給され、滅菌ガスの脈動が生じる。この脈動効果により、第1処理室(2a)における滅菌ガスの拡散が促進される。したがって、滅菌効果が一層高められる。     Further, in this operation, the sterilization gas supply fan (89) is operated intermittently rather than continuously. That is, the sterilization gas supply fan (89) is repeatedly operated and stopped at a large air flow rate every predetermined time. Thereby, in the 1st processing chamber (2a), sterilization gas is intermittently supplied and pulsation of sterilization gas arises. Due to this pulsation effect, diffusion of sterilization gas in the first processing chamber (2a) is promoted. Therefore, the sterilization effect is further enhanced.

また、この滅菌ガスの拡散が促進されることにより、第1処理室(2a)の過酸化水素濃度が早く目標濃度に達する。したがって、第1処理室(2a)は、頻繁に機材の搬入等が行われるため、頻繁に滅菌運転を行う必要があるが、運転を短時間で終了させることができ、頻繁に行うことの煩わしさを解消することができる。     Further, by promoting the diffusion of the sterilizing gas, the hydrogen peroxide concentration in the first processing chamber (2a) quickly reaches the target concentration. Therefore, since the first processing chamber (2a) is frequently loaded with equipment and the like, it is necessary to frequently perform sterilization operation. However, the operation can be completed in a short time, and the frequent operation is troublesome. Can be eliminated.

また、本実施形態では、PB用循環流路(95)によって滅菌ガスを循環させるようにしている。つまり、第1処理室(2a)において、滅菌ガスの過酸化水素ガスの一部は分解して滅菌ガス排出路(69)へ排出されるが、残りの過酸化水素ガスはPB用循環流路(95)を通って再び第1処理室(2a)へ供給される。したがって、PB用循環流路(95)による滅菌ガスの循環量の分だけ、滅菌ガス発生器(81)における滅菌ガスの生成量、また外気処理空調機(91)における外気の取り込み量も少なくてすむ。その結果、低コストな運転が可能となる。     In this embodiment, the sterilization gas is circulated by the PB circulation channel (95). That is, in the first processing chamber (2a), a part of the sterilization gas hydrogen peroxide gas is decomposed and discharged to the sterilization gas discharge passage (69), but the remaining hydrogen peroxide gas is discharged into the PB circulation passage. (95) is supplied again to the first processing chamber (2a). Therefore, the amount of sterilization gas generated in the sterilization gas generator (81) and the amount of outside air taken up in the outside air treatment air conditioner (91) are reduced by the amount of sterilization gas circulation through the PB circulation channel (95). I'm sorry. As a result, low-cost operation is possible.

なお、図示しないが、この滅菌運転の前には、上述した準備モードに相当する準備運転が行われる。この準備運転は、滅菌ガス発生器(81)の過酸化水素発生部(110)が停止され、他は上記滅菌運転と同じ状態で行われる。つまり、滅菌運転の効果を高めるため、滅菌ガス発生器(81)の温湿度調整部(114)で温度および湿度が調整された空気を第1処理室(2a)へ供給し、第1処理室(2a)の温度および相対湿度を目標値(25℃、20%)にする。また、図示しないが、滅菌運転の終了後には、上述した第1および第2稀釈モードに相当する稀釈運転が行われる。この稀釈運転は、上記準備運転時と同じ状態で行われる。そして、この稀釈運転が終了すると、滅菌系統回路(50)の運転を停止すると共に、第1給気流路(12)および第1排気流路(32)の各遮断ダンパ(25,42)が開状態に設定され、第1処理室(2a)に対して定常運転が復帰される。     Although not shown, a preparatory operation corresponding to the above-described preparatory mode is performed before this sterilization operation. This preparatory operation is performed in the same state as the sterilization operation except that the hydrogen peroxide generator (110) of the sterilization gas generator (81) is stopped. In other words, in order to enhance the effect of the sterilization operation, air whose temperature and humidity are adjusted by the temperature / humidity adjusting unit (114) of the sterilization gas generator (81) is supplied to the first processing chamber (2a), and the first processing chamber is supplied. The temperature and relative humidity of (2a) are set to target values (25 ° C., 20%). Although not shown, after the sterilization operation is completed, a dilution operation corresponding to the first and second dilution modes described above is performed. This dilution operation is performed in the same state as in the preparation operation. When this dilution operation is completed, the operation of the sterilization system circuit (50) is stopped and the shutoff dampers (25, 42) of the first air supply passage (12) and the first exhaust passage (32) are opened. The state is set, and the steady operation is returned to the first processing chamber (2a).

−実施形態の効果−
以上説明したように、本実施形態によれば、第1処理室(2a)専用の第4滅菌ガス供給路(68)を設けて高濃度の過酸化水素ガスを供給するようにしたので、第1処理室(2a)内のみの過酸化水素ガス濃度を高めることができる。したがって、他の処理室(2b,2c)に影響を与えることなく、第1処理室(2a)内の全体に過酸化水素ガスを拡散させることができる。これにより、機材の細部に亘って過酸化水素ガスを行き渡らせることができ、機材の滅菌効果を高めることができる。その結果、機材の持ち込みによる他の処理室(2b,2c)の汚染を確実に防止することができる。
-Effect of the embodiment-
As described above, according to the present embodiment, the fourth sterilization gas supply path (68) dedicated to the first processing chamber (2a) is provided to supply the high concentration hydrogen peroxide gas. The concentration of hydrogen peroxide gas in only one processing chamber (2a) can be increased. Therefore, the hydrogen peroxide gas can be diffused throughout the first processing chamber (2a) without affecting the other processing chambers (2b, 2c). Thereby, hydrogen peroxide gas can be spread over the details of the equipment, and the sterilization effect of the equipment can be enhanced. As a result, it is possible to reliably prevent contamination of the other processing chambers (2b, 2c) due to the introduction of equipment.

さらに、本実施形態では、第1処理室(2a)における滅菌ガスの換気量を通常の滅菌モード時より増大させるようにしたので、この換気作用により第1処理室(2a)における過酸化水素ガスの拡散を促進することができる。その結果、機材の滅菌効果を一層高めることができる。     Furthermore, in this embodiment, since the ventilation amount of the sterilizing gas in the first processing chamber (2a) is increased from that in the normal sterilization mode, the hydrogen peroxide gas in the first processing chamber (2a) is caused by this ventilation action. Can be promoted. As a result, the sterilization effect of the equipment can be further enhanced.

《その他の実施形態》
上記実施形態については、以下のような構成としてもよい。
<< Other Embodiments >>
About the said embodiment, it is good also as the following structures.

例えば、上記実施形態では、処理室(2a,2b,2c)が3室の場合について説明したが、2室または4室以上の場合でも本発明は適用される。     For example, in the above-described embodiment, the case where there are three processing chambers (2a, 2b, 2c) has been described, but the present invention is also applied to the case where there are two or four or more chambers.

なお、以上の実施形態は、本質的に好ましい例示であって、本発明、その適用物、あるいはその用途の範囲を制限することを意図するものではない。     In addition, the above embodiment is an essentially preferable illustration, Comprising: It does not intend restrict | limiting the range of this invention, its application thing, or its use.

以上説明したように、本発明は、並列に配置された複数の処理室に対して滅菌処理を行う滅菌システムとして有用である。     As described above, the present invention is useful as a sterilization system that sterilizes a plurality of processing chambers arranged in parallel.

実施形態に係る滅菌システムの全体構成を示す配管系統図である。It is a piping system figure showing the whole sterilization system composition concerning an embodiment. 実施形態に係る滅菌ガス発生器の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the sterilization gas generator which concerns on embodiment. 準備モード時の空気流れを示す配管系統図である。It is a piping system diagram which shows the air flow at the time of preparation mode. 調整モード時の空気流れを示す配管系統図である。It is a piping system diagram which shows the air flow at the time of adjustment mode. 滅菌モード時の空気流れを示す配管系統図である。It is a piping system diagram which shows the air flow at the time of sterilization mode. 第1稀釈モード時の空気流れを示す配管系統図である。It is a piping system figure showing the air flow at the time of the 1st dilution mode. 第2稀釈モード時および定常モード時の空気流れを示す配管系統図である。It is a piping system diagram which shows the air flow at the time of the 2nd dilution mode and a steady mode. 単独運転時の空気流れを示す配管系統図である。It is a piping system diagram which shows the air flow at the time of a single operation. PB単独滅菌モード時の空気流れを示す配管系統図である。It is a piping system diagram which shows the air flow at the time of PB independent sterilization mode.

符号の説明Explanation of symbols

1 滅菌システム
50 滅菌系統回路
52 滅菌ガス供給主流路(供給流路)
57 滅菌ガス戻し主流路(排出流路)
68 第4滅菌ガス供給路(第1処理室専用供給路)
89 滅菌ガス供給ファン(供給ファン)
95 PB用循環流路(循環流路)
110 過酸化水素発生部
2a,2b,2c 処理室
1 Sterilization system
50 Sterilization system circuit
52 Sterile gas supply main channel (supply channel)
57 Sterile gas return main channel (discharge channel)
68 Fourth sterilization gas supply path (Supply path dedicated to the first processing chamber)
89 Sterile gas supply fan (supply fan)
95 PB circulation channel (circulation channel)
110 Hydrogen peroxide generator
2a, 2b, 2c processing chamber

Claims (4)

過酸化水素ガスを発生させる過酸化水素発生部(110)を備え、並列に配置された複数の処理室(2a,2b,2c)に対して上記過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスの供給および排出を行うことにより処理室(2a,2b,2c)の滅菌処理を行う滅菌系統回路(50)を備えた滅菌システムであって、
上記滅菌系統回路(50)は、上記過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスを各処理室(2a,2b,2c)へ分配して供給する供給流路(52)と、各処理室(2a,2b,2c)から排出した過酸化水素ガスが合流する排出流路(57)とを備える一方、
上記滅菌系統回路(50)は、複数の処理室(2a,2b,2c)のうち第1処理室(2a)に対してのみ過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスを供給し、且つ、その過酸化水素ガスの濃度が上記供給流路(52)から第1処理室(2a)へ供給される過酸化水素ガスの濃度より高くなっている第1処理室専用供給路(68)を備えている
ことを特徴とする滅菌システム。
A hydrogen peroxide generator (110) for generating hydrogen peroxide gas is provided, and the hydrogen peroxide in the hydrogen peroxide generator (110) is disposed in parallel with respect to a plurality of processing chambers (2a, 2b, 2c) arranged in parallel. A sterilization system comprising a sterilization system circuit (50) for performing sterilization of a processing chamber (2a, 2b, 2c) by supplying and discharging gas,
The sterilization system circuit (50) includes a supply channel (52) that distributes and supplies the hydrogen peroxide gas from the hydrogen peroxide generation section (110) to the treatment chambers (2a, 2b, 2c), and each treatment. A discharge channel (57) through which the hydrogen peroxide gas discharged from the chamber (2a, 2b, 2c) joins,
The sterilization system circuit (50) supplies the hydrogen peroxide gas of the hydrogen peroxide generation part (110) only to the first processing chamber (2a) among the plurality of processing chambers (2a, 2b, 2c), And the supply path (68) for exclusive use of the 1st processing chamber in which the concentration of the hydrogen peroxide gas is higher than the concentration of the hydrogen peroxide gas supplied to the 1st processing chamber (2a) from the supply channel (52). A sterilization system comprising:
請求項1において、
上記排出流路(57)は、合流した過酸化水素ガスが室外へ排出されるように構成される一方、
上記滅菌系統回路(50)は、第1処理室(2a)から排出した過酸化水素ガスが排出流路(57)へ流れる流路とは別に、第1処理室(2a)の過酸化水素ガスを排出して第1処理室専用供給路(68)へ戻す循環流路(95)を備えている
ことを特徴とする滅菌システム。
In claim 1,
The discharge channel (57) is configured so that the combined hydrogen peroxide gas is discharged to the outside,
In the sterilization system circuit (50), the hydrogen peroxide gas in the first processing chamber (2a) is separated from the flow path for the hydrogen peroxide gas discharged from the first processing chamber (2a) to the discharge flow path (57). A sterilization system comprising a circulation flow path (95) for discharging the gas and returning it to the first processing chamber dedicated supply path (68).
請求項1または2において、
上記第1処理室専用供給路(68)には、過酸化水素発生部(110)の過酸化水素ガスを第1処理室(2a)へ間欠的に供給する供給ファン(89)が設けられている
ことを特徴とする滅菌システム。
In claim 1 or 2,
A supply fan (89) for intermittently supplying the hydrogen peroxide gas from the hydrogen peroxide generator (110) to the first processing chamber (2a) is provided in the first processing chamber dedicated supply path (68). A sterilization system characterized in that
請求項1乃至3の何れか1項において、
上記第1処理室(2a)は、外部から搬入した機材に対して滅菌処理を行う処理室である
ことを特徴とする滅菌システム。
In any one of Claims 1 thru | or 3,
The first processing chamber (2a) is a sterilization system characterized in that it is a processing chamber for performing sterilization processing on equipment carried from outside.
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