JP2008010445A - ロードポート装置における配線構造 - Google Patents
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Abstract
【課題】
キャリアベースの可動領域の直下に形成される上下方向の寸法の大きな空間部を利用して、キャリアベース上に配置された着座センサ等の信号線を配線可能にすることである。
【解決手段】
キャリアベースVの可動領域の直下のフレームF内に形成される上下方向の寸法の大きな空間部1を配線空間33として利用して、キャリアベースV上に配置された着座センサ22等の信号線Cを前記配線空間33に垂下状態で配線する。
【選択図】 図4
キャリアベースの可動領域の直下に形成される上下方向の寸法の大きな空間部を利用して、キャリアベース上に配置された着座センサ等の信号線を配線可能にすることである。
【解決手段】
キャリアベースVの可動領域の直下のフレームF内に形成される上下方向の寸法の大きな空間部1を配線空間33として利用して、キャリアベースV上に配置された着座センサ22等の信号線Cを前記配線空間33に垂下状態で配線する。
【選択図】 図4
Description
本発明は、ロードポート装置において、キャリアベース上に配置された着座センサ、クランプセンサ等の各信号線の配線構造に関するものである。
ロードポート装置は、多数枚のウェハをウェハキャリアに収納して、当該ウェハキャリアを載置したキャリアベースを半導体製造装置に対して前後方向に往復移動させ、その前進端位置(ウェハ受渡し位置)においてウェハキャリアの蓋体を取り外して、未処理のウェハを装置内に移載して所定の処理を行なうと共に、処理済のウェハをウェハキャリア内に収納して、後退端位置(待機位置)まで後退させることにより、半導体製造装置との間においてウェハの受け渡しを行なう装置である。そして、所定の処理を終えた多数のウェハを収納したウェハキャリアは、キャリアベースに対するクランプを解いて、そのまま次工程の処理装置に移される。
ロードポート装置を構成するキャリアベースには、その上面にウェハキャリアが載置されたことを検出する着座センサ、キャリアベースに対してウェハキャリアがクランプされたことを検出するクランプセンサ等のセンサ類が設けられており、信号線の一端部は、前記センサ類に接続されている。このため、センサ類の信号線のキャリアベース側の部分は可動部となり、キャリアベースの往復運動による捩れや疲労を受けにくくする必要があり、そのためには、スペース的に余裕のある配線を行なう必要がある。従来は、キャリアベースの直下に、近似蛇腹構造を有するケーブルベアと称されるわん曲配線可能な配線補助具(特許文献1参照)を配置して、信号線の可動部分をわん曲配線させていた。しかし、ケーブルベアには、最小曲げ半径の寸法制約があるため、配線の固定側と可動側との間には、前記最小曲げ半径を超える余裕寸法が必要となる。
ここで、ロードポート装置には、半導体製造装置Aの壁体の外壁面51に全体を着脱可能に装着する壁面着脱型〔図5(ロ)参照〕と、当該壁面着脱型に比較して全高を低く設計することにより、半導体製造装置Aの下端部に通路側に突出した突出部52を設けることを可能にして、当該突出部52の上面53に全体を設置する設置型(当業界において「BOLTS/L型」と称されている)〔図5(ロ)参照〕とがある。なお、前記突出部52は、半導体製造装置Aの内部においてウェハ処理に必要な処理液等を設置するスペースを確保するために設けられる。
図5(イ),(ロ)は、それぞれ本発明に係るロードポート装置B、及び従来のロードポート装置B’の設置状態の側面図である。図5に示されるように、後者の壁面着脱型のロードポート装置B’では、ウェハキャリアKを載置するキャリアベースVとロードポート装置B’の本体61の上面62との間に大きなスペース63を形成することができて、当該スペース63にケーブルベア64を配置することができる。しかし、前者の設置型のロードポート装置Bでは、キャリアベースVとフレームFの上面10との間のスペース63’が極端に制約されて、当該スペース63’にケーブルベア64を配置することができないため、従来のケーブルベアを使用した配線方法を採用できないという問題がある。なお、上記比較は、半導体製造装置Aの設置面71からキャリアベースVまでの高さ(H0)が同一であることを前提としている。
特開2002−36263号公報
本発明は、キャリアベースの可動領域の直下に形成される上下方向の寸法の大きな空間部を利用して、キャリアベース上に配置された着座センサ等の信号線を配線可能にすることを課題としている。
上記課題を解決するための請求項1の発明は、マッピングセンサ装置の駆動部、ウェハキャリアの蓋体を開閉する蓋体開閉装置の駆動部等を内部に収容したフレームと、当該フレームの僅かに上方に前後動可能に配置されたキャリアベースとを備え、ウェハキャリアを位置決めして載置した前記キャリアベースを前後動させて、当該キャリアベースの前進端であるウェハ受渡し位置において当該ウェハキャリアと半導体製造装置との間でウェハの受け渡しを行なう構成のロードポート装置であって、前記キャリアベースの直下のフレーム内における前後方向、及び上下方向の双方に沿って連続した空間が形成されている部分を配線空間にして、前記キャリアベースに対してウェハキャリアが載置されたことを確認する着座センサ、キャリアベースに対してウェハキャリアをクランプしたことを確認するクランプセンサ等の各信号線が上下方向に沿って僅かな弛みを有して前記配線空間に垂下状態で配線されて、前記各信号線の空間配線部の上端は、前記キャリアベースの裏面に固定されたブラケットに連結されていると共に、前記空間配線部の下端は、前記配線空間の最も低い部分に固定されたブラケットに連結されていることを特徴としている。
請求項1の発明によれば、信号線の空間配線部は、上下方向に沿ってフレームの高さと同等の長さを有していて、信号線の空間配線部の上端部の可動距離(キャリアベースのストローク)に比較して相当に長い。よって、キャリアベースの裏面のブラケットに連結された信号線の空間配線部の上端部は、当該信号線の空間配線部の自重によって、キャリアベースの可動範囲内において常にほぼ垂直に垂れ下がっていると共に、信号線の空間配線部の下端部は、当該空間配線部が僅かの弛みを有して配線されているため、大きくわん曲又は屈曲することなく、キャリアベースの可動範囲内において常にほぼ垂直を維持している。
これに加えて、信号線の空間配線部の長さは、その上端部の可動距離(キャリアベースのストローク)に比較して相当に長いので、キャリアベースの前後移動の各端部において信号線の空間配線部が形成する角度も小さくなって、空間配線部の移動に伴う全体形状の変化が少なくて、信号線の空間配線部は、捩じられたり、わん曲されたりすることなく、常にほぼ直線状を維持しているため、変形負荷が小さくなる。よって、キャリアベースが多数回前後移動しても、信号線の空間配線部、特に、その上端部、及び下端部の損傷が少ないか、或いは殆どないために、キャリアベースが多数回往復動しても、信号線の空間配線部の上下端部の折損の恐れはない。
また、請求項2の発明は、請求項1の発明において、前記信号線の空間配線部は、キャリアベースの前後動のストロークの全域において、前記空間配線部の下端部がほぼ垂直を維持し得る程度の弛みを有していることを特徴としている。
請求項2の発明によれば、信号線の空間配線部の長さを最小にして、その弛みを最小にできるので、最も変形負荷の大きい空間配線部の下端部を常にほぼ垂直に維持できる最良の空間配線形態である。
また、請求項3の発明は、請求項1又は2の発明において、前記信号線の空間配線部の長さは、その上端部の可動部の可動距離のほぼ3倍であることを特徴としている。
請求項3の発明によれば、キャリアベースの前後の各移動端において信号線の空間配線部が形成する角度がほぼ30°程度となるため、前記空間配線部の変形負荷が少なくなる。
本発明は、ロードポート装置のキャリアベースに設けられた各種センサに接続される信号線を配線するに際して、キャリアベースの直下のフレーム内に形成される空間部が、キャリアベースの前後動のストロークの数倍の高さを有することに着目して、当該空間部に前記信号線を僅かな弛みを有した状態で垂れ下げて配線してある。よって、信号線の空間配線部の上端部は、自重作用により常にほぼ垂直を維持すると共に、空間配線部の高さがキャリアベースの前後動のストローク(空間配線部の上端部の可動距離)の数倍であって、キャリアベースの前後端における前記空間配線部の各配線位置により形成される角度が小さくなって、前記空間配線部の下端部も常にほぼ垂直を維持する。この結果、キャリアベースの前後動によっても、信号線の空間配線部の上下の各端部は、常にほぼ垂直を維持して、信号線の空間配線部が大きく捩じられたり、わん曲されたりすることがなくなる。
よって、キャリアベースの直下にケーブルベアを配置するスペースが確保できない場合においても、上面にキャリアベースを支持していて、内部に各種装置の駆動部が配置されているフレームにおけるキャリアベースの直下の空間部を利用して、信号線の空間配線部を前記空間部に単に垂れ下げて配線することにより、キャリアベースの直下における信号線の配線が可能となる。
以下、図1ないし図3を参照にして、本発明について更に詳細に説明する。図1は、ロードポート装置Bの側面断面図であり、図2は、同じく平面図であり、図3は、図1のX−X線矢視図である。図1に示されるように、本発明に係るロードポート装置Bは、半導体製造装置Aの外壁面51の下端部に通路側に突出した突出部52が設けられて、当該突出部52の上面53に設置される「BOLTS/L型」である。図1ないし図3において、半導体製造装置Aの突出部52の上面52a(図5参照)に設置されるフレームFは、全体形状が直方体状をなしていて、内部の空間部1に後述する蓋体着脱装置J、マッピング装置M等の駆動部等が配置される。フレームFの上面の大部分は覆板2,3で覆われているが、フレームFの中央部には、キャリアベースVの裏面側に配置される機器との干渉を回避すると共に、後述する信号線Cを配線可能にするための干渉回避開口4が設けられている。図2において、干渉回避開口4は、符号(R)で示される範囲においてキャリアベースVの往復移動方向Pに沿って形成されている。
また、フレームFの上面の覆板2における前記干渉回避開口4の周縁部には、キャリアベースVの往復移動方向Pに沿って一対のスライドガイド5が取付けられて、ウェハキャリアKを位置決めして載置させるためのキャリアベースVは、その裏面に取付けられた一対のスライド体6が前記一対のスライドガイド5に案内されて半導体製造装置Aに対して接近・離間する方向Pに往復移動するように構成されている。覆板2の干渉回避開口4に臨む部分に固定された取付ブロック7にはブラケット8が取付けられて、当該ブラケット8にキャリアベースVを往復移動させるエアシリンダ9がキャリアベースVの往復移動方向Pに沿って水平に取付けられ、当該エアシリンダ9のロッド9aの先端部と、キャリアベースVの裏面に取付けられたブラケット11とが連結され、エアシリンダ9のロッド9aの出入りにより、キャリアベースVが矢印Pの方向に往復移動する。また、キャリアベースVの前進端位置、即ち、当該キャリアベースVに載置されたウェハキャリアKの前進端位置は、ウェハキャリアKの前進により透過光が遮断される光センサ(図示せず)により検出される。
また、他方の覆板2における干渉回避開口4に臨む部分には、ブラケット19が取付けられて、当該ブラケット19にストッパーボルト12がキャリアベースVの往復移動方向Pに沿って取付けられている。ウェハキャリアKの後退端位置は、エアシリンダ9のロッド9aの突出により、キャリアベースVの裏面に取付けた当接体13が前記ストッパーボルト12に当接することにより定められる。なお、エアシリンダ9のロッド9aが引っ込んでウェハキャリアKが前進する場合には、ロードポート装置Bのウェハ移載窓65を成形する枠体66とウェハキャリアKの前面のフランジ部Kaとの間に異物、或いは作業者の手が挟まれた場合において、これらの異常事態を前記ブラケット11に取付けたリミットスイッチ(図示せず)により検出可能なように、エアシリンダ9のロッド9aの引張力は、前記ブラケット8に対して前記ロッド9aと反対側に同心に配置された圧縮バネ部14を介して作用するように構成されている。
また、キャリアベースVには、当該キャリアベースVに対してウェハキャリアKを位置決めするための複数の位置決めピン21と、当該キャリアベースVにウェハキャリアKが載置されたことを検出する複数の着座センサ22とが上面から突出して設けられている。キャリアベースVの幅方向(キャリアベースVの往復移動方向Pと直交する横方向Q)の中央部には、当該キャリアベースVに複数の位置決めピン21により位置決めされて載置されたウェハキャリアKをキャリアベースVに対してクランプするためのクランプ装置Eが一体に設けられている。即ち、クランプ装置Eは、キャリアベースVの裏面に取付けられたブラケット23にクランプレバー24が支点ピン25を中心に回動可能に支承されていて、キャリアベースVの裏面に取付けられたエアシリンダ26の作用によりクランプレバー24が支点25を中心に回動して、クランプレバー24のクランプ部24aが、キャリアベースVに設けられた開口27から出入り可能となっている。なお、図1ないし図3において、28は、キャリアベースVの上面、及びその全周囲を覆っているカバー体を示し、29は、エアシリンダ26をキャリアベースVの裏面に取付けているブラケットを示す。
また、ロードポート装置Bは、キャリアベースVに載置されたウェハキャリアKの前進端であるウェハ受渡し位置において、ウェハキャリアKの前面開口を覆う蓋体の着脱装置J、及び処理後の各ウェハをウェハキャリアKに収納した状態において、ウェハの傾斜支持、ウェハの二枚重ね、特定の段部におけるウェハの欠落等を検出するためのマッピング装置Mが設けられている。前者の蓋体着脱装置Jは、フレームFにおける半導体製造装置Aの壁体に近接する側にガイドレール、及び駆動用のエアシリンダが上下方向に配置され、蓋体着脱時には、エアシリンダにより装置本体41をウェハキャリアKの開口と対向する位置まで上昇させて、蓋体の着脱操作を行なう。このように、蓋体着脱装置Jの駆動部は、フレームF内において半導体製造装置Aの壁体に近接する側であって、しかも横方向Qの中央部に配置されている。
また、マッピング装置Mは、ボールネジ装置Dによって装置本体42を、ウェハキャリアK内の各段のピッチ分だけ上下動させて、前記装置本体42内に収納された一対のアームを突出させて、その先端のセンサ(いずれも図示せず)により、各段のウェハの存否を検出する装置である。このマッピング装置Mの駆動部であるボールネジ装置Dは、フレームF内において半導体製造装置Aの壁体に近接する側であって、しかも前記蓋体着脱装置Jの駆動部との干渉を回避して横方向Qの一端部に配置されている。なお、図1及び図3において、蓋体着脱装置Jの本体41、及びマッピング装置Mの本体42は、いずれも下降端に位置している状態である。
上記したように、本発明に係る設置型のロードポート装置Bは、キャリアベースVとフレームFの上面10との間にケーブルベア64を配置するスペースがないため、着座センサ22、クランプ装置EによるキャリアベースVに対するウェハキャリアKのクランプを検出するためのクランプセンサ30等の各センサの信号線Cは、キャリアベースVの直下のフレームF内の空間部1において、キャリアベースVの往復移動方向P、及び横方向Qに連続した空間が存在する部分に垂れ下げた状態で配線される。
即ち、キャリアベースVの裏面において、横方向Qに沿ってクランプ装置Eと当接体13との間であって、しかもキャリアベースVの往復移動方向Pに沿って前記クランプ装置Eの側方に第1信号線ブラケット31が取付けられていると共に、当該信号線ブラケット31の前後動範囲のほぼ中間部の直下のフレームベース15に第2信号線ブラケット32が取付けられている。そして、キャリアベースVに取付けられた各センサの信号線Cは、フラット状に束ねられて、当該信号線Cの可動部の上端部は、前記第1信号線ブラケット31に連結されていると共に、前記信号線Cの可動部の下端部は、前記第2信号線ブラケット32に連結されている。この結果、フレームFの空間部1の特定部分が信号線Cの可動部の配線空間33となって、信号線Cのうち前記配線空間33に配線された部分は、空間配線部Caとなる。
このため、図4に示されるように、第1信号線ブラケット31に連結された信号線Cの空間配線部Caの上端部は、キャリアベースVに載置されたウェハキャリアKの前後往復動によって、当該キャリアベースVのストローク(S)だけ前後動するが、前記空間配線部Caの下端部は移動しない。本実施例では、信号線Cの空間配線部Caの長さ(L)と、当該空間配線部Caの上端部のストローク(S)との比は、6.5程度である。なお、空間配線部Caの上端部のストローク(S)は、キャリアベースVのストロークに等しい。
このため、信号線Cの空間配線部Caの上端部は、自重作用により常にほぼ垂直を維持すると共に、空間配線部Caの長さ(L)が、その上端部の可動距離(キャリアベースVのストロークSに等しい)よりも遥かに大きいために、キャリアベースVの前後端における前記空間配線部Caの各配線位置により形成される角度(θ)が小さくなって、前記空間配線部Caの下端部も常にほぼ垂直を維持する。本実施例では、前記角度(θ)は、ほぼ10°であって、前記空間配線部Caの下端部が常にほぼ垂直を維持することが解る。この結果、キャリアベースVの前後動によっても、信号線Cの空間配線部Caの上下の各端部は、常にほぼ垂直を維持して、信号線Cの空間配線部Caが大きく捩じられたり、わん曲されたりすることがなくなる。
また、フレームFの空間部1に配線される信号線Cの位置は、前後方向(キャリアベースVの往復移動方向P)及び上下方向の双方に沿って、キャリアベースVのストローク(S)分だけ連続した空間が形成されている部分が選択可能な位置であり、キャリアベースVの裏面に取付けられる部材、及びフレームFの空間部1に配置される装置、機器等との干渉が避けられる部分であれば、その位置であってもよい。
また、キャリアベースVの往復移動の前後端位置に対応する信号線Cの空間配線部Caの各位置の形成角度(θ)は、キャリアベースVのストローク(S)が小さい程、前記空間配線部Caの長さ(L)が長い程小さくなって、信号線Cの空間配線部Caの下端部が垂直に近い状態を維持することになる。よって、キャリアベースVのストローク(S)は、信号線Cの配線位置とは無関係に定められるが、信号線Cの空間配線部Caの長さ、即ち、空間配線部Caの下端部の位置は低い程望ましいことになる。
また、信号線Cの空間配線部Caの上下の各端部の連結位置に関しては、空間配線部Caの下端部の連結位置は、その上端部の前後端のほぼ中央直下であることが望ましいと共に、当該空間配線部Caの弛みに関しては、当該空間配線部Caの上端部の前後端において張力が発生しない僅かな弛みを有していることが望ましい。上記実施例は、上記した2つの条件を満足しているため、信号線Cの空間配線部Caが、その下端部を中心にして前後に「逆振子運動状態」で配置位置が変更されても、空間配線部Caの下端部は、常にほぼ垂直を維持していて、空間配線部Caの変形負荷を最も少なくできる。
A:半導体製造装置
C:信号線
Ca:信号線の空間配線部
D:マッピング装置のボールネジ装置
F:フレーム
J:蓋体着脱装置
K:ウェハキャリア
L:信号線の空間配線部の長さ
M:マッピング装置
P:キャリアベースの往復移動方向(前後方向)
Q:横方向
S:キャリアベースのストローク
V:キャリアベース
1:フレームの空間部(配線空間) 4:干渉回避開口
22:着座センサ
30:クランプセンサ
31:第1信号線ブラケット
32:第2信号線ブラケット
33:配線空間
C:信号線
Ca:信号線の空間配線部
D:マッピング装置のボールネジ装置
F:フレーム
J:蓋体着脱装置
K:ウェハキャリア
L:信号線の空間配線部の長さ
M:マッピング装置
P:キャリアベースの往復移動方向(前後方向)
Q:横方向
S:キャリアベースのストローク
V:キャリアベース
1:フレームの空間部(配線空間) 4:干渉回避開口
22:着座センサ
30:クランプセンサ
31:第1信号線ブラケット
32:第2信号線ブラケット
33:配線空間
Claims (3)
- マッピングセンサ装置の駆動部、ウェハキャリアの蓋体を開閉する蓋体開閉装置の駆動部等を内部に収容したフレームと、当該フレームの僅かに上方に前後動可能に配置されたキャリアベースとを備え、ウェハキャリアを位置決めして載置した前記キャリアベースを前後動させて、当該キャリアベースの前進端であるウェハ受渡し位置において当該ウェハキャリアと半導体製造装置との間でウェハの受け渡しを行なう構成のロードポート装置であって、
前記キャリアベースの直下のフレーム内における前後方向、及び上下方向の双方に沿って連続した空間が形成されている部分を配線空間にして、
前記キャリアベースに対してウェハキャリアが載置されたことを確認する着座センサ、キャリアベースに対してウェハキャリアをクランプしたことを確認するクランプセンサ等の各信号線が上下方向に沿って僅かな弛みを有して前記配線空間に垂下状態で配線されて、前記各信号線の空間配線部の上端は、前記キャリアベースの裏面に固定されたブラケットに連結されていると共に、前記空間配線部の下端は、前記配線空間の最も低い部分に固定されたブラケットに連結されていることを特徴とするロードポート装置における配線構造。 - 前記信号線の空間配線部は、キャリアベースの前後動ストロークの全域において、前記空間配線部の下端部がほぼ垂直を維持し得る程度の弛みを有していることを特徴とする請求項1に記載のロードポート装置における配線構造。
- 前記信号線の空間配線部の長さは、その上端部の可動部の可動距離のほぼ3倍であることを特徴とする請求項1又は2に記載のロードポート装置における配線構造。
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JP2012019046A (ja) * | 2010-07-07 | 2012-01-26 | Sinfonia Technology Co Ltd | ロードポート |
JP2021122062A (ja) * | 2019-11-07 | 2021-08-26 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 容器パージ装置 |
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JP7193755B2 (ja) | 2019-11-07 | 2022-12-21 | シンフォニアテクノロジー株式会社 | 容器パージ装置 |
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