JP2008003595A - 統合熱管理を行うレンズハウジング - Google Patents

統合熱管理を行うレンズハウジング Download PDF

Info

Publication number
JP2008003595A
JP2008003595A JP2007160564A JP2007160564A JP2008003595A JP 2008003595 A JP2008003595 A JP 2008003595A JP 2007160564 A JP2007160564 A JP 2007160564A JP 2007160564 A JP2007160564 A JP 2007160564A JP 2008003595 A JP2008003595 A JP 2008003595A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sil
objective lens
optical receiver
housing
receiver assembly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2007160564A
Other languages
English (en)
Inventor
Birk Lee
リー バーク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Credence Systems Corp
Original Assignee
Credence Systems Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Credence Systems Corp filed Critical Credence Systems Corp
Publication of JP2008003595A publication Critical patent/JP2008003595A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/028Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00Microscopes
    • G02B21/33Immersion oils, or microscope systems or objectives for use with immersion fluids

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Microscoopes, Condenser (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)

Abstract

【課題】光学的プロービングシステムと、効率的な集光を可能にするとともに、標本の熱管理を可能にする方法とを提供する。
【解決手段】標本または被検デバイス111を撮像する光学的受光器100は、対物レンズハウジング110と、対物レンズハウジング110内に取り付けた対物レンズ120と、対物レンズハウジング110上、とくに、対物レンズハウジング110の円錐状部分122の頂部に取り付けた固体浸レンズ(SIL)126と、対物レンズハウジング110の表面、とくに、対物レンズハウジング110の円錐状部分122に装着した熱管理装置114とを備える。熱管理装置114は、冷却剤管路、熱電冷却(TEC)装置等であってもよい。冷却剤スプレーを、撮像する標本111に噴霧することもできる。
【選択図】図1

Description

本発明は、光学レンズを収容するとともに、熱制御を行うシステムに関するものである。
種々の顕微鏡が、従来技術において種々の微細構造の撮像、検査および試験のために用いられる。これらの顕微鏡の共通する特徴は、得られる分解能(解像度)が被検物からの効率的集光に依存しているということである。屈折率マッチング流体又は固体浸レンズ(SIL)を、対物レンズとともに、使用することにより集光効率を高めることは、当業界で知られている。
集光効率は種々の顕微鏡にとって非常に重要であるが、集光効率は、半導体マイクロチップの探触子チェック(プロービング)および検査を行う、特定分野において必須である。マイクロチップは、設計中、及び製造段階の間に、検査する必要がある。各種のプローブ装置は、マイクロチップから反射又は放射された光を使用する。検査装置の一つの例は、マイクロチップ上のいかなるデバイス、例えばトランジスタ、が状態遷移する度に発生するマイクロチップからの光放射に基づく一方で、他の例では、レーザー光線をマイクロチップ上へ当て、反射光の変調を検出する。使用する装置及びプロービング方法に関係なく、SILの使用により、集光効率の向上を促進にすることができる。
マイクロチップの種々の検査中に、上記の通りに、種々の検査信号をマイクロチップに供給して、マイクロチップに各種の動作を実行するように促す。これにより、マイクロチップ温度が上昇し、これがマイクロチップの初期不良、または歪曲した検査結果をもたらすことがある。したがって、マイクロチップの温度が制御できれば有益である。
本発明は、光学的プロービングシステムと、効率的な集光を可能にするとともに、標本の熱管理を可能にする方法とを提供するものである。
本発明の一つの態様は、光学的プローバまたは受光器であり、ハウジング、ハウジング内に配置した対物レンズ、ハウジング上に取り付けたSIL、及びハウジングに固定した熱管理素子を有する。熱管理素子は、ハウジングの温度を変化させて、間接的にSILの温度を変化させる。
本発明の一つの態様において、熱管理素子を、ハウジングと物理的に接触し、かつ内部で流体が循環する管路とする。
本発明の他の態様において、熱管理素子を、ハウジングに固定した熱交換器、例えば、抵抗素子や熱電冷却(TEC)装置等とする。
本発明の特別な特徴によれば、熱管理素子は、内部で流体が循環する管路を組み合わせた熱交換器、例えば抵抗素子、熱電冷却(TEC)装置とする。
本発明の一つの態様において、SILハウジングを対物レンズハウジングに移動可能に取り付け、熱管理素子をSILハウジングに取り付ける。
本発明の他の態様は、半導体の被測定素子(DUT)を撮像する方法を提供する。この方法は、DUTに検査信号を供給するステップと、DUTを固体浸レンズ(SIL)に接触させるステップと、及び、SILを冷却するステップと、を有する。一つの態様によれば、SILは、SILのハウジングに固定した導管内で冷却剤流体を循環させることによって冷却する。
以下、本発明を、図面に例示される特定の実施形態を参照して説明する。しかし、図面に示す各種実施形態例は例示的なものであり、添付の特許請求の範囲に定義する本発明を限定するものではないことを、理解されたい。
本発明は、SILおよび熱制御を用いて標本から集光する光学システムを提供する。このシステムは、集光光学素子の様々な構成に用いることができ、通常は被検素子(DUT)と称される、例えばマイクロチップからの微弱光放射の検出用に設計した顕微鏡に使用するのに特に有益である。本発明の種々の実施例は、SILを用いて標本を撮像し、また標本温度の制御が重要である場合に、特に有用である。
図1は、撮像すべき標本111に関連させて、本発明の実施例による主な構成要素を示す概略図である。図1において、標本、例えばDUT111を、キャリア125、例えばDUTアダプタ又は装填(ロード)ボードなど、に取り付ける。集光光学システム100は、内部に対物レンズ120を配置した対物レンズハウジング110を有する。SILは、対物レンズハウジング110の円錐状部分122の先端に取り付ける。撮像中、SILは標本に「結合」し、エバネセント波を捕える。換言すれば、SILは標本に結合し、臨界角(臨界角とは全反射が起こる角度である)より大きい角度で標本内を伝播している光線を捕える。当業界で知られているように、この結合は、例えば、被撮像物との物理的接触、被撮像物に対する極めて近い位置での近接配置(約200ナノメートルにも達する近接位置)、又は、屈折率マッチング材料または屈折率マッチング流体の使用、によって得られる。
しかしながら、本発明の発明者は、SIL126が標本111、特にDUT、に結合されるとき、DUT内に温度勾配があるゾーンを生じて、温度がDUT全体で均一でないということを観測した。これは、DUTが検査(テスト)目的で刺激されるときに、温度勾配が検査(テスト)結果を変えてしまうかもしれないため、特に有害である。したがって、発明者は、温度勾配を減少する又は回避するために、種々の方法を考案した。図示のように、ハウジング120の上部の円錐状部分122に、温度制御素子114を設け、この素子の動作を、コントローラ180、例えば詳細にプログラムされた汎用コンピュータ、によって制御する。代案として、温度制御素子は、特別に設計した制御回路、ソフトウェアまたはその組合せによって制御することができる。温度制御素子は、加熱素子、冷却素子またはその両方であってもよい。温度制御素子の種々の実施例を以下に示すが、これらの実施例は本発明を限定するものではなく、他の温度制御素子を用いてもよい。
図2Aは、図1の光学ヘッドに用いることができる、本発明の実施例の側面図、図2Bは頂面図を示す。図2A及び2Bに示すように、円錐状部分222は管路又は導管214を装着し、この管路はこの実施例において熱伝導材料、例えば銅により形成し、例えばはんだ付けによって円錐状部分222に物理的に接触させる。管路に流入口232及び流出口234を設け、この管路を通って流体が流動する。流体は所望の温度及び圧力に調節し、円錐状部分222の温度を制御し、またこれにより、SIL226の温度を制御する。このように、例えば、SILがDUTから熱を奪うことにより、DUTとの接触位置で温度降下を生じる場合、流体は加熱されてSILの温度を上昇させる。同様に、SILを冷却する必要がある場合は、冷却剤が管路214内を循環して、円錐状部分222を冷却することによりSILを冷却する。当然のことながら、管路214は円錐状部分222の外面に取り付けて示されるが、同様の効果は管路214を円錐状部分222の内面に取り付けることによっても達成することができる。当然のことながら、SILの温度は、冷却剤流体の温度及び/又は圧力を変化させることにより制御することができる。
図3は、本発明の他の実施例を示す断面図である。特に、図3は、例えば図1に示すような、対物レンズハウジングの円錐状部分322の断面を示す。SIL326は円錐状部分322の頂部に示す。この実施例において、熱交換器316、例えば抵抗デバイス又は熱電冷却(TEC)装置を、円錐状部分322の内面に取り付けるが、外面またはその双方に取り付けることができる。既知のように、熱電冷却はペルチェ効果を利用して、2種類の互いに異なる材料の接合部間に熱流束を発生させる。このようにして、円錐状部分322の温度を制御することができ、これにより、SIL326の温度を制御する。図示のように、随意に導管314を設け、この導管内で流体を循環させ、熱交換装置316に対してヒートシンク又は熱源として機能させる。
図4は、本発明の他の実施例を示す。特に、図4において、TECを円錐状部分422の外面に取り付ける。管路又は導管414を、TECに対して物理的に接触するよう設け、熱伝導接触を形成する。流体を、流入口432及び流出口434を経て管路414内で循環させる。循環流体を有する管路414は、TECに対するヒートシンク又は熱源をなす。このようにして、円錐状部分422の温度を制御し、これにより、SIL426の温度を制御する。
図5は、TECを使用する本発明の他の実施例を示す。この実施例において、TEC装置516を円錐状部分522の外面に取り付ける。この実施例において、光学システムはDUTのような標本511を検査するために用い、それは1個又はそれ以上のインジェクタ546から噴出されるスプレージェットすなわち冷却剤スプレー556によって冷却する。インジェクタ546を、標本511上に冷却剤流体の微細ミストまたは微細スプレーを生ずるアトマイザとして構成することができる。この種の実施例において、SIL526と標本511との接触は、SILが冷却剤の接触域への到達を妨げ、また、SILが接触ポイントでヒートシンク/熱源としても作用するため、温度勾配を生じさせ、得る。従って、接触ポイント付近の領域は、標本の残りの部分に対して温度勾配を有することがある。この種の勾配を減少する又は回避するために、SILの温度は、冷却剤スプレー556により調節される標本511の温度に近づけなければならない。この実施例において、このことをTEC装置によって行う。図5に示すように、冷却剤スプレー556自体は、TEC装置に対するヒートシンク/熱源として作用することができる。代案としてまた随意に、より強力なヒートシンク/熱源が必要な場合、図4の実施例で示したものと同様に、管路514を追加することができる。
図6は、本発明の他の実施例を示す。図6において、光学的受光器600は2個の部分、すなわち、対物レンズハウジング610と、双頭矢印Sで示すように対物レンズハウジング610に摺動可能に連結するSILハウジング640とを有する。すなわち、SILハウジング640は対物レンズハウジング610上で摺動可能となり、例えばより良好な焦点を得るために、距離Dfを変化することができる。ある任意の実施例において、SILハウジング640を、対物レンズハウジング610に対して弾性的に押圧偏倚させる。これは、例えばばね650または他の弾性手段により、行うことができる。円錐状部分622は、上述の実施例のうちから選択した温度管理装置614、または他の操作手段を設け、円錐状部分622の温度を制御し、したがって、SIL626の温度を制御する。図示のように、図6の実施例は、インジェクタ546からの冷却剤スプレー556の有無にかかわらず実施することができる。
本発明は、特定の実施例に関して説明したが、これらの実施例に限定されるものではない。具体的には、様々な変更及び改変は、添付の特許請求の範囲に記載の、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく、当業者によって行うことができる。引用したいずれの先行技術文献も、参考として本明細書に付記したものである。
本発明の一実施例による光学的受光器を示す線図的説明図である。 (A)は、図1の光学的受光器(光学ヘッド)に用いることができる、本発明の実施例の側面図、(B)は頂面図である。 本発明の他の実施例を示す断面図である。 本発明の他の実施例を示す。 TEC装置を使用する本発明の他の実施例を示す。 2部分構成の対物レンズハウジングを有する、本発明の他の実施例の説明図である。
符号の説明
100 集光光学システム(光学的受光器)
110 対物レンズハウジング
111 標本(DUT)
114 温度制御素子
120 対物レンズ
122 円錐状部分
125 キャリア
126 SIL(固体浸レンズ)
180 コントローラ
214 管路
222 円錐状部分
226 SIL(固体浸レンズ)
232 流入口
234 流出口
314 導管
316 熱交換器
322 円錐状部分
326 SIL(固体浸レンズ)
414 管路
416 熱交換器
422 円錐状部分
426 SIL(固体浸レンズ)
511 標本
514 管路
516 TEC(熱電冷却)装置
522 円錐状部分
526 SIL(固体浸レンズ)
532 流入口
534 流出口
546 インジェクタ
556 冷却剤スプレー
600 光学的受光器
610 対物レンズハウジング
611 標本
614 温度管理装置
620 対物レンズ
622 円錐状部分
625 キャリア
626 SIL(固体浸レンズ)
640 SILハウジング
650 ばね

Claims (20)

  1. 対物レンズハウジングと、
    前記対物レンズハウジング内に取り付けた対物レンズと、
    前記対物レンズハウジング上に取り付けた固体浸レンズ(SIL)と、
    前記対物レンズハウジングの表面に固定した熱管理装置と
    を備えたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  2. 請求項1に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理装置は、前記表面に固定し、かつ内部で流体が循環する管路を有する構成としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  3. 請求項2に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記流体を冷却剤流体としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  4. 請求項1に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理装置は、熱電冷却(TEC)装置を有する構成としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  5. 請求項4に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理装置は、前記TECと物理的に接触し、かつ内部で流体が循環する管路を有する構成としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  6. 請求項1に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記対物レンズハウジングは、内部に前記対物レンズを取り付けたベースハウジングと、前記SILを取り付けたSILハウジングとを具えてなり、前記SILハウジングを前記ベースハウジングに摺動可能に連結したことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  7. 請求項6に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記SILハウジングを前記ベースハウジングに弾性的に取り付けたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  8. 標本を撮像するための光学的受光器アセンブリであって、
    対物レンズハウジングと、
    前記対物レンズハウジング内に取り付けた対物レンズと、
    前記対物レンズハウジング上に取り付けた固体浸レンズ(SIL)と、
    前記対物レンズハウジングの表面に固定した熱管理素子と、
    前記標本に流体を注入するインジェクタと
    を備えたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  9. 請求項8に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記流体を冷却剤流体としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  10. 請求項9に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理素子は、前記対物レンズハウジングの温度を変化させることにより、前記SILの温度を制御する構成としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  11. 請求項9に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理素子は、前記表面に取り付け、かつ内部で前記冷却剤流体が循環する管路を有する構成としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  12. 請求項8に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、さらに、前記熱管理素子の動作を制御するコントローラを備え、対物レンズハウジングの温度を変化させることにより、前記SILの温度を制御する構成とした光学的受光器アセンブリ。
  13. 請求項12に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理素子は、前記表面に取り付け、かつ内部で流体が循環する管路を有する構成としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  14. 請求項12に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理素子は、熱電冷却(TEC)装置を具えてなることを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  15. 請求項14に記載の光学的受光器アセンブリにおいて、前記熱管理素子は、前記TECと物理的に接触し、かつ内部で流体が循環する管を有する構成としたことを特徴とする光学的受光器アセンブリ。
  16. 半導体の被検素子(DUT)を撮像する方法において、
    前記DUTに検査信号を供給するステップと、
    前記DUTを固体浸レンズ(SIL)に接触させるステップと、
    前記SILを冷却するステップと
    を有することを特徴とする方法。
  17. 請求項16に記載の方法において、さらに、前記DUTに冷却流体を吹き付けるステップを有する方法。
  18. 請求項16に記載の方法において、さらに、前記SILのハウジングに固定した管路内で冷却剤流体を循環させるステップを有する方法。
  19. 請求項18に記載の方法において、さらに、前記冷却剤流体の圧力を変化させて、前記SILの温度を制御するステップを有する方法。
  20. 請求項18に記載の方法において、さらに、前記冷却剤流体の温度を変化させて、前記SILの温度を制御するステップを有する方法。
JP2007160564A 2006-06-19 2007-06-18 統合熱管理を行うレンズハウジング Withdrawn JP2008003595A (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/471,060 US20070291361A1 (en) 2006-06-19 2006-06-19 Lens housing with integrated thermal management

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008003595A true JP2008003595A (ja) 2008-01-10

Family

ID=38508739

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007160564A Withdrawn JP2008003595A (ja) 2006-06-19 2007-06-18 統合熱管理を行うレンズハウジング

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20070291361A1 (ja)
EP (1) EP1870752A1 (ja)
JP (1) JP2008003595A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010217586A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Olympus Corp 顕微鏡装置

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018532122A (ja) * 2015-10-28 2018-11-01 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated 基板上で材料を処理するための装置、処理装置のための冷却構成、及び基板上で処理される材料の特性を測定するための方法
DE102015118641A1 (de) * 2015-10-30 2017-05-04 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vorrichtung zum optischen Untersuchen einer Probe, Verfahren zum Untersuchen einer Probe und Verfahren zum Versetzen einer Vorrichtung in einen betriebsbereiten Zustand
WO2018068009A1 (en) * 2016-10-07 2018-04-12 Hutchinson Technology Incorporated On-axis and diffuse illumination for inspection systems
EP3460558A1 (en) 2017-09-20 2019-03-27 Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V. Cryo-light microscope and immersion medium for cryo-light microscopy
DE102018126527A1 (de) * 2018-10-24 2020-04-30 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Aufbringen eines flüssigen Immersionsmittels in einen Spalt zwischen einem Mikroskopobjektiv und einer zu mikroskopierenden Probe

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5675788A (en) * 1979-11-26 1981-06-23 Sony Corp Processing circuit for chroma signal
US4680635A (en) * 1986-04-01 1987-07-14 Intel Corporation Emission microscope
US4811090A (en) * 1988-01-04 1989-03-07 Hypervision Image emission microscope with improved image processing capability
US5070040A (en) * 1990-03-09 1991-12-03 University Of Colorado Foundation, Inc. Method and apparatus for semiconductor circuit chip cooling
CA2070062C (en) * 1991-05-30 1997-01-07 Hironobu Ikeda Cooling structure for integrated circuits
JPH05136305A (ja) * 1991-11-08 1993-06-01 Hitachi Ltd 発熱体の冷却装置
US5220804A (en) * 1991-12-09 1993-06-22 Isothermal Systems Research, Inc High heat flux evaporative spray cooling
US5361032A (en) * 1992-01-27 1994-11-01 Motorola, Inc. Method of troubleshooting electronic circuit board assemblies using temperature isolation
US5343018A (en) * 1992-10-30 1994-08-30 Wisconsin Alumni Research Foundation Microscope lens and stage heater with flexible objective lens casing heater sleeve
US5410429A (en) * 1993-04-06 1995-04-25 Daniel C. Focht Heater assembly for microscope objectives
US5515910A (en) * 1993-05-03 1996-05-14 Micro Control System Apparatus for burn-in of high power semiconductor devices
US5475316A (en) * 1993-12-27 1995-12-12 Hypervision, Inc. Transportable image emission microscope
US5511415A (en) * 1994-01-18 1996-04-30 Cambridge Aeroflow, Inc. Gas flow and temperature probe and gas flow and temperature monitor system including one or more such probes
US5785754A (en) * 1994-11-30 1998-07-28 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Substrate, semiconductor device, element-mounted device and preparation of substrate
US5940545A (en) * 1996-07-18 1999-08-17 International Business Machines Corporation Noninvasive optical method for measuring internal switching and other dynamic parameters of CMOS circuits
US5895972A (en) * 1996-12-31 1999-04-20 Intel Corporation Method and apparatus for cooling the backside of a semiconductor device using an infrared transparent heat slug
DE59905452D1 (de) * 1998-02-17 2003-06-18 Leica Microsystems Mikroskop
US6140141A (en) * 1998-12-23 2000-10-31 Sun Microsystems, Inc. Method for cooling backside optically probed integrated circuits
KR20020054598A (ko) * 2000-12-28 2002-07-08 엘지전자 주식회사 근접장용 광헤드의 오염 방지 장치
US6498725B2 (en) * 2001-05-01 2002-12-24 Mainstream Engineering Corporation Method and two-phase spray cooling apparatus
US6621275B2 (en) * 2001-11-28 2003-09-16 Optonics Inc. Time resolved non-invasive diagnostics system
US6594086B1 (en) * 2002-01-16 2003-07-15 Optonics, Inc. (A Credence Company) Bi-convex solid immersion lens
US7123035B2 (en) * 2002-04-10 2006-10-17 Credence Systems Corporation Optics landing system and method therefor
US7102374B2 (en) * 2002-08-16 2006-09-05 Credence Systems Corporation Spray cooling thermal management system and method for semiconductor probing, diagnostics, and failure analysis
US6836131B2 (en) * 2002-08-16 2004-12-28 Credence Systems Corp. Spray cooling and transparent cooling plate thermal management system
JP4532835B2 (ja) * 2003-02-13 2010-08-25 キヤノン株式会社 冷却装置、それを有する光学部材並びに露光装置
JP4458323B2 (ja) * 2003-02-13 2010-04-28 キヤノン株式会社 保持装置、当該保持装置を有する露光装置、及びデバイス製造方法
EP1611482B1 (en) * 2003-04-10 2015-06-03 Nikon Corporation Run-off path to collect liquid for an immersion lithography apparatus
JP2004363559A (ja) * 2003-05-14 2004-12-24 Canon Inc 光学部材保持装置
JP4658565B2 (ja) * 2004-10-28 2011-03-23 オリンパス株式会社 顕微鏡及び顕微鏡の加温方法
DE102005001102B4 (de) * 2005-01-08 2021-04-29 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Temperierbares Objektiv für Mikroskope
JP2006269941A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Canon Inc 導光装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
US7417707B2 (en) * 2005-06-29 2008-08-26 Corbett Blaise L Introduction of an intermediary refractive layer for immersion lithography

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010217586A (ja) * 2009-03-17 2010-09-30 Olympus Corp 顕微鏡装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20070291361A1 (en) 2007-12-20
EP1870752A1 (en) 2007-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006519359A (ja) 光学的に検査される集積回路を冷却する装置及び方法
JP2008003595A (ja) 統合熱管理を行うレンズハウジング
KR100872751B1 (ko) 양면-볼록 고체 침지 렌즈
AU2018201388B2 (en) Laser Line Illuminator For High Throughput Sequencing
US20090173476A1 (en) Spray cooling thermal management system and method for semiconductor probing, diagnostics, and failure analysis
JP2010113355A (ja) スプレー冷却を伴う可変倍率光学系
JP2008070351A (ja) 温度管理および温度勾配低減のためのシステムおよび方法
KR20040071686A (ko) 시간분해 비침투 진단시스템
TW201009345A (en) Laser cleaning apparatus and laser cleaning method
US20100039117A1 (en) Temperature control system for a device under test
JP2013104667A (ja) 半導体装置の検査装置及び検査方法
US8072699B2 (en) Solid immersion lens optics assembly
US20090002855A1 (en) Thermally controlled solid immersion lens fixture
US9217855B1 (en) Multi-magnification high sensitivity optical system for probing electronic devices
JP4772394B2 (ja) 対物レンズソケット
CN111201107A (zh) 用于激光加工系统的设备、具有该设备的激光加工系统及用于调节光学元件的焦点位置的方法
JP6736651B2 (ja) 冷却ユニット、対物レンズモジュール、半導体検査装置、半導体検査方法
US9030658B1 (en) Multi-resolution optical probing system having reliable temperature control and mechanical isolation
EP2790185B1 (en) Light source alignment for heat assisted magnetic recording
US20150036137A1 (en) Alignment of optical components
JP2012222263A (ja) 半導体装置の不良解析方法、チップ状半導体装置の不良解析方法及び半導体装置の動的不良解析装置
JP7227193B2 (ja) 冷却ユニット、対物レンズモジュール、半導体検査装置、半導体検査方法
JP2004020404A (ja) 半導体デバイスの計測または観察方法およびその装置
JP2003177285A (ja) 光モジュールの組立における調芯方法及び調芯装置並びに調芯用撮像装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20100907