JP2007527553A - ファブリ・ペローフィルタを備えた基板およびフィルタを基板に被着するための方法 - Google Patents

ファブリ・ペローフィルタを備えた基板およびフィルタを基板に被着するための方法 Download PDF

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Abstract

薄い被覆層としてシート、たとえば包装シートに被着されるファブリ・ペローフィルタは、関心を引く色効果を得ることができる。本発明は、フィルタの両反射層がアルミニウムから成りかつ両反射層の間の中間層が酸化アルミニウムから成る被覆層の層構造を提案している。このような被覆層の光学的な特性は、中間層として二酸化ケイ素化合物が使用される従来既知の被覆層に類似している。しかし、さらに、本発明による層構造は、フィルタを、ただ1つの蒸発装置を備えた真空被覆設備において1回の作業工程で形成することができるという利点を有している。

Description

本発明は、基板であって、当該基板に被着された、少なくとも3つの層から成るファブリ・ペローフィルタが設けられており、該フィルタの、互いに向かい合った反射性の表面を備えた第1の反射性の層と第2の反射性の層とが、厚さdのギャップによって互いに間隔を置いて配置されていて、該ギャップに位置する光透過性の中間層を閉鎖している形式のものに関する。
このようなファブリ・ペローフィルタ(ファブリ・ペロー層とも呼ばれる)は、たとえば装飾的なシートに蒸着される。欧州特許出願公開第0878899号明細書によれば、フィルタの層システムが、金属反射性の基本層を有している。この基本層には、50〜2000nmの間の層厚さを備えた透明なSiO中間層が被着される。層システムの終端は、0.2〜60nmの間の厚さにおける所定の金属の部分透過性の反射性の層を形成している。このような層によって、確かに、関心を引く色デザインを実現することができる。しかし、この色デザインは、現在使用されている技術では高い製作手間を伴ってしか実現することができない。
つまり、慣用の真空被覆設備は、単に基板の1回の通過で、規定された材料から成るそれぞれ1つの層しか被着することができない。1つの被覆層が複数の層から成っている場合には、複数回の通過が必要となる。この結果、各通過に対して、設備に新たに材料が供給されなければならず、この設備が排気されなければならない。このために必要となる時間と、相応の人手間とは、生産性を低下させ、生産コストを高める。
確かに、1つの真空被覆設備内に複数の被覆ステーションを収納することも可能である。これらの被覆ステーションでは、基板に順次に種々異なる層が設けられる。しかし、この方法は一般的に実用的でない。なぜならば、これには、付加的な著しい投資コストが結び付けられているからである。
したがって、本発明の課題は、基板の被覆層としてのファブリ・ペローフィルタを改良して、ファブリ・ペローフィルタが、従来既知の被覆層に類似の色効果を有しており、この場合、フィルタが、慣用の生産設備によって実現することができるように提供されているようにすることである。
さらに、本発明の課題は、このような1つの被覆層を、ただ1つの蒸発ステーションを備えた設備内で基板に被着することができる方法を提供することである。
第1の課題は、反射性の層が、同一の基本材料から成っており、中間層が、前記基本材料と、別の材料との化合物から成っていることによって解決される。
このような層構造によって、基本材料としてのアルミニウムおよび別の材料としての酸素による試験が示したように、形成されたフィルタが、上述した公知先行技術によるファブリ・ペロー層に類似の色効果を生ぜしめることが分かった。しかし、このフィルタは著しく簡単にかつ一層簡単な手段で基板に被着することができる。被覆設備の蒸発設備には、一種類の基本材料が装備されさえすればよい。この場合、この基本材料の蒸発によって、両反射層が形成される。中間層を形成するためには、金属蒸気に別の材料が供給され、これによって、この別の材料が基本材料と共に第1の反射性の層に堆積させられ得る。
通常、基本材料は金属であり、別の材料は酸素である。この酸素は相応の供給部を介して、排気された蒸発チャンバ内に導入することができる。このために必要となるシステムと手段とは既知である。酸素の供給によって、いわゆる「反応性被覆」が生ぜしめられる。なぜならば、酸素が、一部では、金属蒸発クラウド内の金属原子または金属イオンもしくは分子に化学的に結合し、一部では、この金属蒸発クラウドと共に基板に堆積させられ、そこで初めて金属との結合が生ぜしめられるからである。しかし、この場合、反応は完全には進行せず、これによって、関与する反応パートナの化学量論的な分配を必ずしも有していない不自然な被覆層が形成される。
基本材料としてのアルミニウムは特に簡単に処理することができ、これによって、中間層が、構造式Alを備えた酸化アルミニウムから成っている。
酸素の代わりに、窒素が使用されてもよく、これによって、中間層として金属−窒素化合物が付与されるかもしくは、金属がアルミニウムである場合には、窒化アルミニウムが付与される。
幾つかの事例、たとえば、特に基板がシートもしくは包装シートである場合には、フィルタ材料を全体的に光透過性にしたくない。このことは、基板に続く第1の反射性の層が光透過性でなく、外側に位置する第2の反射性の層が部分透過性であることによって達成される。このことは、各層の適宜な厚さによって達成される。このために考慮される値は、第1の反射性の層に対して50〜200nmの間にあり、第2の反射性の層に対して1〜20nmの間にある。この場合、中間層は、フィルタの所望の特性に応じて、50〜2000nmの間の厚さを有している。
第2の課題を解決するためには、本発明が、フィルタを被着するための方法を提案している。この方法は、以下のステップを有している。
−排気可能な真空チャンバに設けられた蒸発装置と、材料供給装置とを備えた真空被覆設備を準備する。
−蒸発装置に基本材料を供給する。
−真空チャンバを閉鎖し、該真空チャンバ内に真空を発生させる。
−基本材料を専ら蒸発させ、これによって、該基本材料を基板に堆積させて、第1の層を形成する。
−基本材料の蒸発と同時に別の材料を真空チャンバ内に供給し、これによって、第1の層を備えた基板に、基本材料と、別の材料とから成る中間層を反応性蒸着する。
−基本材料を専ら蒸発させ、これによって、該基本材料を中間層に堆積させて、第2の反射性の層を形成する。
−被覆チャンバを開放し、フィルタを備えた基板を取り出す。
この方法ステップから知ることができるように、ただ1つの蒸発装置を備えた真空被覆設備は、被覆を1回の排気サイクルで実施することができる。設備は1回排気されさえすればよい。3つの層から成るファブリ・ペローフィルタが完全に形成された後に初めて、被覆設備が再び開放され、被覆された基板が取り出される。
すでに上述したように、別の材料としてガス、特に酸素が供給されるので、材料供給装置は、ガスを蒸発クラウドの領域に案内するランスを備えたガス接続部から成っている。
シートの被覆のためには、被覆設備が、冷却された被覆ローラを有している。この被覆ローラでは、シートが展開され、この場合、蒸発被覆ローラの下方に配置された蒸発装置によって被覆される。さらに、真空チャンバは2つのストックローラを有している。この場合、シートが、まず、第1のストックローラから繰り出され、第2のストックローラに巻き上げられる。中間層の被着のためには、両ローラがその機能を交換する。第1の工程で巻き上げられたローラから、シートが再び繰り出され、これによって、第1のローラが再び充填される。第3の工程では、第2の反射層が被着される。この場合、シートが再び第1のローラから繰り出され、第2のローラに巻き上げられる。
したがって、説明から明らかであるように、既知の簡単な被覆設備が著しく変更される必要はない。付加的に設けられた、ストックローラにシートを供給するための案内ローラを、システムが一方向だけでなく多方向でもシートによって通走され得るように配置しかつ使用しさえすればよい。
したがって、以下に、実施例につき本発明を詳しく説明する。
まず、図1に関連して説明する。この図1には、基板2に設けられたファブリ・ペローフィルタ1が横断面図で示してある。このフィルタ1は3つの層、つまり、アルミニウムから成る第1の反射層4と、この第1の反射層4に被着された、酸化アルミニウムAlから成る厚さdの中間層5と、この中間層5に被着された、同じくアルミニウムから成る第2の反射層6とから成っている。認められるように、第1の反射層4は第2の反射層6よりも著しく厚く形成されている。したがって、第1の反射層4が光透過性でないのに対して、外側に位置する第2の層6は部分透過性である。
フィルタ1に入射した光7は、反射性の層4,6の反射性の面8,9の間で繰返し反射される。この場合、中間層5の厚さdに相当する波長を備えた光は干渉によって部分的に吸収される。これによって、図2の線図に示したスペクトル10,11が生ぜしめられる。
線図のX軸には、400〜800nmの間の波長が示してあり、Y軸には、フィルタの反射率がパーセントで示してある。両スペクトル10,11の根底には、それぞれ第1の反射性の層4が100nmの厚さを有しかつ第2の反射性の層6が10nmの厚さを有するフィルタがある。一方のスペクトル10(実線の曲線)では、中間層の厚さが200nmであり、これによって、530nmの範囲内の波長が著しく吸収される、すなわち、反射されない。62.5nmの厚さの中間層では、430nm付近の波長に対する反射最小値を備えた他方のスペクトル11(破線の曲線)が生ぜしめられる。
したがって、一方のスペクトル10による層は、低減された反射を緑色の範囲に有しており、これによって、明確に紫赤色の反射が生ぜしめられる。他方のスペクトル11に対して、黄緑色の色反射が生ぜしめられる。
被覆層は、図3に概略的に示したように、被覆設備によってシートに被着される。
この設備20は、下側の真空チャンバ22と上側の真空チャンバ22′とを備えた二分割された真空チャンバ21を有している。この場合、下側のチャンバ22内には、蒸発装置23が配置されている。この蒸発装置23は、たとえば坩堝であってよい。この坩堝は、蒸発させたい材料を収容している。この材料は坩堝内で電子銃(図示せず)によって蒸発させられる。蒸気24はシート25に衝突する。このシート25は、両真空チャンバ22,22′の間の分離壁27に設けられた開口内に位置する冷却された被覆ローラ26を介して展開される。下側の真空チャンバ22内には、付加的にランス28が位置している。このランス28と外側接続部29とを介して、ガス、たとえば酸素を蒸発クラウド24内に案内することができる。上側の第2の真空チャンバ22′内には、第1のストックローラ30と第2のストックローラ31とが位置している。第1の工程では、第1のストックローラ30からシート25が繰り出され、このシートが第2のストックローラ31に巻き上げられる。この場合、坩堝内で蒸発した材料、すなわち、たとえばアルミニウムがシートに被着される。この場合、層厚さは、特にシートの搬送速度によって規定される。第2の工程では、巻き過程が逆転される。シート25が第2のストックローラ31から繰り出され、再び第1のストックローラ30に戻される。この第2の工程では、酸素がランス28を介して蒸発クラウド24内に供給される。この場合、この蒸発クラウド24には、さらに、マイクロ波界が重畳されてよい。酸素は、蒸発させられた金属原子に結合し、この金属原子と共に第1の反射層4に中間層5として堆積する。化学的な結合により形成される酸化アルミニウムは、両材料が層として堆積させられた場合に初めて部分的に生ぜしめられる。この過程は、反応性被覆とも呼ばれる。
第3の工程では、ストックローラ30,31の搬送方向が再び逆転され、専ら金属の蒸発によって、第2の反射性の層が被着される。
基板に設けられたファブリ・ペローフィルタの典型的な構造を示す図である。 種々異なる波長と、中間層の厚さdとに関するフィルタの反射特性を備えた線図である。 真空被覆設備の概略図である。
符号の説明
1 ファブリ・ペローフィルタ、 2 基板、 4 反射層、 5 中間層、 6 反射層、 7 光、 8 面、 9 面、 10 スペクトル、 11 スペクトル、 20 設備、 21 真空チャンバ、 22,22′ 真空チャンバ、 23 蒸発装置、 24 蒸発クラウド、 25 シート、 26 被覆ローラ、 27 分離壁、 28 ランス、 29 外側接続部、 30 ストックローラ、 31 ストックローラ

Claims (11)

  1. 基板であって、当該基板に被着された、少なくとも3つの層から成るファブリ・ペローフィルタが設けられており、該フィルタの、互いに向かい合った反射性の表面を備えた第1の反射性の層と第2の反射性の層とが、厚さdのギャップによって互いに間隔を置いて配置されていて、該ギャップに位置する光透過性の中間層を閉鎖している形式のものにおいて、反射性の層(4,6)が、同一の基本材料から成っており、中間層(5)が、前記基本材料と、別の材料との化合物から成っていることを特徴とする、基板。
  2. 基本材料が、金属であり、別の材料が、酸素であり、これによって、反射性の層(4,6)が、金属性の層であり、中間層(5)が、化学量論的な組成または化学量論的でない組成における金属酸化物から形成されている、請求項1記載の基板。
  3. 金属が、アルミニウムであり、これによって、中間層(5)が、酸化アルミニウムから成っている、請求項1記載の基板。
  4. 基本材料が、金属であり、別の材料が、窒素であり、これによって、反射性の層(4,6)が、金属性の層であり、中間層(5)が、化学量論的な組成または化学量論的でない組成における金属−窒素化合物から形成されている、請求項1記載の基板。
  5. 金属が、アルミニウムであり、これによって、中間層(5)が、窒化アルミニウムから成っている、請求項4記載の基板。
  6. 当該基板(2)に続く第1の反射性の層(4)が光透過性でなく、外側に位置する第2の反射性の層(6)が部分透過性である、請求項1から5までのいずれか1項記載の基板。
  7. 当該基板(2)に続く第1の反射性の層(4)が、10〜200nmの間の厚さを有しており、第2の反射性の層(6)が、1〜20nmの間の厚さを有しており、中間層(5)が、フィルタ(1)の所望の特性に応じて、50〜2000nmの間の厚さを有している、請求項6記載の基板。
  8. 請求項1から7までのいずれか1項記載の基板にフィルタを被着するための方法において、当該方法が、以下のステップ:すなわち、
    −排気可能な真空チャンバに設けられた蒸発装置と、材料供給装置とを備えた真空被覆設備を準備し;
    −蒸発装置に基本材料を供給し;
    −真空チャンバを閉鎖し、該真空チャンバ内に真空を発生させ;
    −基本材料を専ら蒸発させ、これによって、該基本材料を基板に堆積させて、第1の層を形成し;
    −基本材料の蒸発と同時に別の材料を真空チャンバ内に供給し、これによって、第1の層を備えた基板に、基本材料と、別の材料とから成る中間層を反応性蒸着し;
    −基本材料を専ら蒸発させ、これによって、該基本材料を中間層に堆積させて、第2の反射性の層を形成し;
    −被覆チャンバを開放し、被覆された基板を取り出す;
    を有していることを特徴とする、基板にフィルタを被着するための方法。
  9. 材料供給装置が、ガス接続部である、請求項8記載の方法。
  10. 被覆したい基板が、シート(25)であり、該シート(25)を、蒸発装置の上方に位置する被覆ローラ(26)を介して展開する、請求項8または9記載の方法。
  11. 真空チャンバが、2つのストックローラを有しており、シートを、個々の層の蒸着のために、交互に一方のストックローラ(30,31)から繰り出し、それぞれ他方のストックローラ(31,30)に巻き上げる、請求項10記載の方法。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2067063A1 (de) * 2006-09-22 2009-06-10 Alcan Technology & Management Ltd. Mit sicherheitsmerkmalen ausgerüstete substrate und verfahren zu deren herstellung
CN102798917B (zh) 2011-05-25 2015-02-25 苏州大学 一种彩色图像制作方法及使用该方法制作的彩色滤光片
EP2641665A1 (en) * 2012-03-19 2013-09-25 Deceuninck NV Multi-step process for fully coloured construction elements

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2590906A (en) * 1946-11-22 1952-04-01 Farrand Optical Co Inc Reflection interference filter
US3011383A (en) * 1957-04-30 1961-12-05 Carpenter L E Co Decorative optical material
US4526132A (en) * 1982-11-24 1985-07-02 Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. Evaporator
US5218472A (en) * 1989-03-22 1993-06-08 Alcan International Limited Optical interference structures incorporating porous films
US5182670A (en) * 1991-08-30 1993-01-26 Apa Optics, Inc. Narrow band algan filter
RU2054639C1 (ru) 1992-12-24 1996-02-20 Кожеватов Илья Емельянович Оптический фильтр фабри - перо
US5363398A (en) * 1993-09-30 1994-11-08 At&T Bell Laboratories Absorption resonant rare earth-doped micro-cavities
EP0860513A3 (en) * 1997-02-19 2000-01-12 Canon Kabushiki Kaisha Thin film forming apparatus and process for forming thin film using same
US6200431B1 (en) * 1997-02-19 2001-03-13 Canon Kabushiki Kaisha Reactive sputtering apparatus and process for forming thin film using same
JPH10313566A (ja) 1997-05-12 1998-11-24 Jii M C:Kk リニアモータ
DE19834734C2 (de) 1998-07-31 2002-07-18 Fraunhofer Ges Forschung Bauteil mit einer Effektoberfläche und Verfahren zu dessen Herstellung
US6165598A (en) * 1998-08-14 2000-12-26 Libbey-Owens-Ford Co. Color suppressed anti-reflective glass
US6034813A (en) * 1998-08-24 2000-03-07 Southwall Technologies, Inc. Wavelength selective applied films with glare control
DE19845268C1 (de) * 1998-10-01 2000-01-05 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
US6234166B1 (en) * 1999-06-30 2001-05-22 Acktar Ltd. Absorber-reflector for solar heating
FR2798738B1 (fr) * 1999-09-16 2001-10-26 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent muni d'un empilement de couches reflechissant la chaleur
US6777085B1 (en) * 2002-04-19 2004-08-17 Optical Coating Laboratory, Inc. Article and method of preparing pigments using multiple deposition sources
EP1593754B1 (en) * 2002-12-26 2018-05-23 Toppan Printing Co., Ltd. Vacuum deposition apparatus and method of producing vapor-deposited film

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