JP2007525821A - 斜めストライプを有するパワーグリッド構造を形成するための方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】集積回路で使用される斜めストライプを有するパワーグリッド構造を形成するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】斜め電力ストライプ及び斜め接地ストライプを有するＩＣのパワーグリッド構造を規定して生成する方法。ストライプが、得られるＩＣの下部境界に対して４５°又は１３５°の斜め方向に配置されることになるように、ストライプは、ＩＣレイアウトのｘ座標軸に対してそれぞれ４５°又は１３５°の斜め方向に配置される。斜めの電力及び接地ストライプは、斜め信号配線に有益である。ストライプは、ＩＣの一つの層に亘って又はＩＣの一つよりも多い層に亘って配置することができる。斜め電力ストライプは、ＩＣの層上に様々な幅及び／又は様々な間隔幅を有することができる。斜め接地ストライプも、ＩＣの層上に様々な幅及び／又は様々な間隔幅を有することができる。
【選択図】図２

Description

本発明は、集積回路で使用される斜めストライプを有するパワーグリッド構造を形成するための方法及び装置に関する。

集積回路（ＩＣ）は、トランジスタ、抵抗器、ダイオードなどのような多くの電子構成要素を含む装置（例えば、半導体装置）である。これらの構成要素は、ゲート、セル、メモリユニット、演算ユニット、コントローラ、復号器などのような複数の回路構成要素を形成するために相互接続されることが多い。ＩＣは、その電子構成要素及び回路構成要素を相互接続する信号配線の複数の層を含む。従来的に、ＩＣは、それらの配線層の各々について好ましい配線方向を指定する優先方向（ＰＤ）配線モデルを使用する。優先方向配線モデルにおいては、優先方向は、一般的に連続的配線層間で交替する。

ＰＤ配線モデルの一例は、優先方向の水平及び垂直方向配線の交替する層を指定するＰＤマンハッタン配線モデルである。ＰＤ配線モデルの別の例は、優先方向の斜め配線の交替する層を指定するＰＤ斜め配線モデルである。ＰＤ斜め配線モデルは、ＰＤマンハッタン配線モデルよりも短い配線距離を考慮することができ、ＩＣの電子及び回路構成要素を相互接続するのに必要な総ワイヤ長を短縮することができる。ＰＤ斜め配線モデルは、本明細書において引用により組み込まれている２００２年１２月３１日出願の「ルーティングのための方法及び装置」という名称の米国特許出願第１０／３３４，６９０号、及び本明細書において引用により組み込まれている２００１年１２月７日出願の「斜めルートを使用したルーティング方法及び装置」という名称の米国特許出願第１０／０１３，８１９号に詳細に説明されている。

設計エンジニアは、ＩＣの論理又は回路表現をレイアウトと呼ばれる幾何学的表現に変形することによってＩＣを設計する。ＩＣレイアウトは、一般的に、（１）信号ピンを有する回路モジュール（すなわち、電子又は回路ＩＣ構成要素の幾何学的表現）、及び（２）回路モジュールの信号ピンを接続する相互接続線（すなわち、信号配線の幾何学的表現）を含む。信号網は、一般的に、接続する必要のある信号ピンの集合として形成される。

レイアウトを作成するために、設計エンジニアは、一般的に電子設計自動化（ＥＤＡ）アプリケーションを使用する。これらのアプリケーションは、ＩＣ設計レイアウトの作成、編集、及び解析を行うためのコンピュータベースのツールを提供する。ＥＤＡツールの一つに、信号網の信号ピンを接続する相互接続線のためのルートを形成する信号ワイヤルータがある。信号ワイヤルーティングは、一般的に二つの相、すなわち、全体信号ルーティング及び詳細信号ルーティングに分割することができる。各信号網に対して、全体信号ルーティングは、信号網の信号ピンを接続することになる相互接続線用の「緩い」ルートを発生する。全体信号ルートの「緩さ」は、使用される特定の全体信号ルータに依存する。全体信号ルートが作成された後に、詳細信号ルーティングは、各信号網に対して特定の個々のルートを作成する。一定して斜めルーティング方向を探る信号ワイヤルータ（本明細書では斜めワイヤルータと称する）は、「ルーティングのための方法及び装置」という名称の上述の特許出願で説明されている。

各ＩＣはまた、ＩＣの各電子及び回路構成要素に電力及び接地をもたらすパワーグリッド構造を含む。各電子又は回路ＩＣ構成要素は、電力ピンとパワーグリッド構造に接続された接地ピンとを有する。電力網は、一般的に、接続する必要のある電力ピンの集合として形成され、接地網は、一般的に、接続する必要のある接地ピンの集合として形成される。パワーグリッド構造は、ＩＣレイアウト内に表現され、その後、ＩＣレイアウト内の表現に基づいてＩＣ内で使用するために物理的に作成される。ＩＣは複数の層を含むので、ＩＣレイアウトはまた、複数の層の表現を含んでいる。

パワーグリッド構造の構成要素は、設計仕様（すなわち、ＩＣでの使用に対して許容されるようにパワーグリッド構造が満足すべき最低仕様）を満足するためのある一定の強度（すなわち、大きさ）であるべきストライプ、レール、及びバイアを含む。しかし、パワーグリッド構成要素は、信号配線がそうでなければ占有することができたであろうＩＣ層上の区域を占有するので、ＩＣ層上の区域に関して信号配線と競合している。また、パワーグリッド構造構成要素は、特にＰＤ斜め配線モデルを有する層上で、信号配線経路の実質的な妨害を引き起こす可能性がある。

図１は、従来のパワーグリッド構造１００を有するＩＣレイアウトの領域の上面図を示している。パワーグリッド構造１００は、ストライプ１０５及び１０７とレール１１０とを含む。ストライプ１０５及び１０７は、ＩＣの少なくとも一つの上層に亘って一般的に垂直（すなわち、レイアウトのｙ座標軸に平行）又は水平（すなわち、レイアウトのｘ座標軸に平行）に位置決めされ、ＩＣに電力及び接地をもたらすものである。垂直又は水平に位置決めされたパワーグリッドストライプは、マンハッタンパワーグリッドストライプと呼ばれる。電力を運ぶストライプを電力ストライプ１０５と称し、接地を運ぶストライプを接地ストライプ１０７と称する。

レール１１０は、一般的に、ＩＣの少なくとも一つの下層に亘って水平（すなわち、レイアウトのｘ座標軸に平行）又は垂直（すなわち、レイアウトのｙ座標軸に平行）に位置決めされる。各レールは、バイア（図示せず）を通じて電力ストライプ１０５又は接地ストライプ１０７に接続される。バイアは、ＩＣの層に垂直（すなわち、レイアウトのｚ座標軸に平行）に位置決めされ、ストライプからレールへ電力又は接地を分配するものである。

ストライプ１０５及び１０７は、ＩＣの層上にある一定の区域を占有し、ＩＣの電子及び回路構成要素を相互接続するのに必要な信号配線の妨害を引き起こす可能性がある。配線妨害の量は、層のＰＤ配線モデルに応じて各層によって異なっている。しかし、従来のマンハッタンパワーグリッドストライプは、斜め信号配線のほぼ完全な妨害を引き起こす可能性がある。図１に示すように、４５°斜め方向の矢印１３０と１３５°斜め方向の矢印１３２とは、いかに斜め配線経路が従来のパワーグリッド構造１００のストライプ１０５及び１０７によって妨害されるかを示している。従って、パワーグリッド構造のストライプによって引き起こされる斜め配線妨害を低減すると同時に、依然としてパワーグリッド構造に対する設計仕様を満足するような方法及び装置に対する必要性が存在する。

米国特許出願第１０／３３４，６９０号 米国特許出願第１０／０１３，８１９号 米国特許出願代理人ドケット番号ＣＤＮ．Ｐ００９０ 米国特許出願代理人ドケット番号ＣＤＮ．Ｐ００９１

本発明の工程は、斜め電力及び接地ストライプを有するパワーグリッド構造をＩＣレイアウト内に規定して生成する方法を提供する。本方法は、電力ストライプ幅、電力ストライプ開始間隔、電力ストライプ間隔幅、及び電力ストライプ終了間隔を含む、パワーグリッド構造の電力ストライプに対する値を判断する段階を含む。本方法はまた、接地ストライプ幅、接地ストライプ開始間隔、接地ストライプ間隔幅、及び接地ストライプ終了間隔を含む、パワーグリッド構造の接地ストライプに対する値を判断する段階を含む。

一部の実施形態では、ストライプは、得られるＩＣの下部境界に対して４５°斜め方向にストライプが配置されることになるように、レイアウトのｘ座標軸に対して４５°斜め方向に配置される。他の実施形態では、ストライプは、得られるＩＣの下部境界に対して１３５°斜め方向にストライプが配置されることになるように、レイアウトのｘ座標軸に対して１３５°斜め方向に配置される。ストライプは、ＩＣの一つの層に亘って又はＩＣの一つよりも多い層に亘って配置することができる。

更に別の実施形態は、様々な幅を有する斜め電力ストライプ及び／又は様々な幅を有する斜め接地ストライプを有するパワーグリッド構造を含む。本発明のパワーグリッド構造はまた、様々な間隔幅を有する斜め電力ストライプ及び／又は様々な間隔幅を有する斜め接地ストライプを有することができる。本発明のパワーグリッド構造はまた、上述の特徴のあらゆる組合せを有することができる。
本発明の新しい特徴は、特許請求の範囲に示されている。しかし、説明上、本発明のいくつかの実施形態を以下の図に示すものとする。

以下の説明においては、説明する目的で多くの詳細を示している。しかし、当業者は、本発明がこれらの特定の詳細を利用しなくても実施することができることを認めるであろう。他の事例では、不必要な詳細で本発明の説明を曖昧にしないように、公知の構造及び装置をブロック図の形で示している。
本発明の工程は、斜め電力ストライプ及び斜め接地ストライプを有するパワーグリッド構造をＩＣレイアウト内に規定して生成する方法を提供する。本方法は、電力ストライプ幅、電力ストライプ開始間隔、電力ストライプ間隔幅、及び電力ストライプ終了間隔を含むパワーグリッド構造の電力ストライプの値を判断する段階を含む。本方法はまた、接地ストライプ幅、接地ストライプ開始間隔、接地ストライプ間隔幅、及び接地ストライプ終了間隔を含むパワーグリッド構造の接地ストライプの値を判断する段階を含む。

一部の実施形態では、ストライプは、得られるＩＣの下部境界に対して４５°斜め方向にストライプが配置されることになるように、レイアウトのｘ座標軸に対して４５°斜め方向に配置される。他の実施形態では、ストライプは、得られるＩＣの下部境界に対して１３５°斜め方向にストライプが配置されることになるように、レイアウトのｘ座標軸に対して１３５°斜め方向に配置される。ストライプは、ＩＣの一つの層に亘って又はＩＣの一つよりも多い層に亘って配置することができる。

本発明の上述の実施形態をＩ節に関連して以下で説明する。本発明の更に別の実施形態は、様々な幅を有する斜め電力ストライプ及び／又は様々な幅を有する斜め接地ストライプを有するパワーグリッド構造を含む。また、本発明のパワーグリッド構造は、様々な間隔幅を有する斜め電力ストライプ及び／又は様々な間隔幅を有する斜め接地ストライプを有することができる。また、本発明のパワーグリッド構造は、上述の特徴のあらゆる組合せを有することができる。これらの実施形態は、ＩＩ節に関連して以下で説明する。

以下で説明する実施形態では、パワーグリッド構造は、配線層１上の水平優先信号配線、配線層２上の垂直信号配線、配線層３上の水平優先信号配線、配線層４上の４５°斜め優先信号配線、配線層５上の１３５°斜め優先信号配線、及び配線層６上の垂直優先配線を有する６層配線モデルに関して説明される。当業者は、パワーグリッド構造が他の実施形態では他の配線モデルで使用することができることを認めるであろう。

一部の実施形態では、相互接続線又はパワーグリッドストライプは、それが一般的にレイアウトの境界及び／又はレイアウトの予想ＩＣの境界と平行であるＩＣレイアウトの直交座標軸に対して０°又は９０°以外の角度を成す場合は「斜め」である。相互接続線又はパワーグリッドストライプは、それがレイアウトの座標軸の一つに対して０°又は９０°の角度を成す場合は「水平」又は「垂直」である。

ＩＣレイアウトの（又は、レイアウトの領域の）座標軸又は境界に対して「斜め」であるパワーグリッドストライプはまた、ストライプが配置された得られるＩＣの境界と得られる層の境界とに対して「斜め」である（すなわち、０°又は９０°以外の角度を成す）。同様に、ＩＣレイアウトの（又は、レイアウトの領域の）座標軸又は境界に対して「水平」又は「垂直」であるパワーグリッドストライプはまた、ストライプが配置された得られるＩＣの境界と得られる層の境界とに対して「水平」又は「垂直」である（すなわち、０°又は９０°の角度を成す）。一部の実施形態では、４５°又は１３５°の特定の斜め方向のストライプを有するパワーグリッド構造について説明する。しかし、他の実施形態は、他の斜め方向を有するストライプを有するパワーグリッド構造を含んでいる。

本明細書で使用される時の「交差点」という用語は、ストライプとレールがＩＣレイアウトのｘ座標軸及びｙ座標軸に関して交差する位置を指し、ストライプとレールの実際の物理的な交差点を指すものではない。本明細書で使用される時の「ＩＣレイアウトの領域」という用語は、ＩＣレイアウトの一部分又は斜めワイヤのＩＣレイアウトの全体を指す場合がある。また、以下で説明するいくつかの実施形態では、距離（例えば、ストライプの幅又は長さ、ストライプ間の間隔幅など）は、実施形態のいずれかを実施するために一貫して同じ方法を用いる限り、当業技術で公知の異なる方法を用いて測定することができる。

Ｉ．図２は、本発明による４５°斜めストライプ２０５及び２０７を有するパワーグリッド構造２００を有するＩＣレイアウトの領域の上面図を示している。パワーグリッド構造２００は、ストライプ２０５及び２０７、及びレール２１０を含む。ストライプ２０５及び２０７は、ＩＣの上層に亘って互いに平行に位置決めされ、ＩＣに電力及び接地をもたらしている。ストライプ２０５及び２０７は、レイアウトのｘ座標軸つまり下部境界に対して４５°斜め方向に配置されている。従って、ストライプ２０５及び２０７は、ストライプ２０５及び２０７が配置された得られるＩＣの下部境界及び得られる層の下部境界に対して４５°斜め方向に配置されることになる。

電力を運ぶストライプを電力ストライプ２０５と称する。電力ストライプ２０５の幅を電力ストライプ幅２２５と称する。電力ストライプ２０５の位置は、レイアウト領域の縁部から第１の電力ストライプ２０５までの第１の距離（ｘ又はｙ座標に関して）、その後の電力ストライプ２０５間の第２の距離（すなわち、電力ストライプ２０５を次の電力ストライプ２０５から分離する間隔幅）、及びレイアウト領域の縁部から最終電力ストライプ２０５までの第３の距離（ｘ又はｙ座標に関して）によって形成される。第１の距離を電力ストライプ開始間隔２４０と称し、第２の距離を電力ストライプ間隔幅２３５と称し、第３の距離を電力ストライプ終了間隔２４５と称する。

接地を運ぶストライプを接地ストライプ２０７と称する。接地ストライプ２０７の幅を接地ストライプ幅２２７と称する。接地ストライプ２０７の位置は、レイアウト領域の縁部から第１の接地ストライプ２０７までの第１の距離（ｘ又はｙ座標に関して）、その後の接地ストライプ２０７間の第２の距離（すなわち、接地ストライプ２０７を次の接地ストライプ２０７から分離する間隔幅）、及びレイアウト領域の縁部から最終接地ストライプ２０７までの第３の距離（ｘ又はｙ座標に関して）によって形成される。第１の距離を接地ストライプ開始間隔２４２と称し、第２の距離を接地ストライプ間隔幅２３７と称し、第３の距離を接地ストライプ終了間隔２４７と称する。
レール２１０は、互いに平行かつＩＣの少なくとも一つの下層に亘って水平（すなわち、レイアウトのｘ座標軸に平行）に位置決めされる。各レールは、バイア（図示せず）を通じて電力ストライプ又は接地ストライプに接続され、ＩＣの各電子及び回路構成要素（図示せず）に電力又は接地を分配するものである。

ストライプ２０５及び２０７が配置される層上には、ストライプ２０５及び２０７間の区域により、ＩＣレイアウトに必要とされる信号配線（すなわち、配線需要）をルーティングすることができる配線トラック（すなわち、配線容量）が形成される。レイアウト上の水平、垂直、又は斜めの配線を可能にする配線トラックを、それぞれ、水平配線トラック、垂直配線トラック、又は斜め配線トラックと称する。本発明のパワーグリッド構造２００は、ストライプ２０５及び２０７間で４５°斜め配線トラックを可能にする４５°斜めストライプを有する。二つの４５°斜め方向矢印２３０は、４５°斜め信号配線をルーティングすることができるストライプ２０５及び２０７間に４５°斜め配線トラックが形成される方法を示している。一部の実施形態では、ストライプ２０５及び２０７は、６層配線モデルの層４上に配置され、層４は、４５°斜め優先配線を有する。他の実施形態では、ストライプ２０５及び２０７は、別の層上に配置される。

図３は、本発明による１３５°斜めストライプ３０５及び３０７を有するパワーグリッド構造３００を有するＩＣレイアウトの領域の上面図を示している。パワーグリッド構造３００は、パワーグリッド構造３００の１３５°斜めストライプ３０５及び３０７がレイアウトのｘ座標軸つまり下部境界に対して１３５°斜め方向に配置される点を除き、図２のパワーグリッド構造２００と類似のものである。従って、１３５°斜めストライプ３０５及び３０７は、１３５°斜めストライプ３０５及び３０７が配置された得られるＩＣの下部境界及び得られる層の下部境界に対して１３５°斜め方向に配置されることになる。

パワーグリッド構造３００は、１３５°斜めストライプ３０５及び３０７間に１３５°斜め配線トラックを可能にする１３５°斜めストライプを有する。二つの１３５°斜め方向矢印３３０は、１３５°斜め信号配線をルーティングすることができる１３５°斜めストライプ３０５及び３０７間に１３５°斜め配線トラックが形成される方法を示している。一部の実施形態では、１３５°斜めストライプ３０５及び３０７は、６層配線モデルの層５上に配置され、層５は、１３５°斜め優先配線を有する。他の実施形態では、１３５°斜めストライプ３０５及び３０７は、別の層上に配置される。

図２及び図３は、ＩＣの上層に亘って斜めパワーグリッドストライプを有するパワーグリッド構造を示している。一部の実施形態では、上層上に配置された全てのパワーグリッドストライプは、斜めパワーグリッドストライプである。また、他の実施形態では、ＩＣの上層は、マンハッタンパワーグリッドストライプを含み、斜めパワーグリッドストライプは、上層上に配置されたパワーグリッドストライプの総数のある一定の部分を含む。一部の実施形態では、斜めパワーグリッドストライプの数は、上層上のパワーグリッドストライプの総数の１／４よりも多く、１／３よりも多く、又は１／２よりも多い数を含む。他の実施形態では、斜めパワーグリッドストライプの数は、上層上のパワーグリッドストライプの総数の他の値の一部分を含む。

図４は、斜めパワーグリッドストライプを有するパワーグリッド構造を規定して生成する一般的工程４００を示している。パワーグリッド構造は、ＩＣレイアウト内に形成された後にＩＣにおいて使用されるように物理的に生成されたパワーグリッド構造構成要素（すなわち、電力及び接地ストライプ、レール、及びバイア）を含む。斜めパワーグリッドストライプは、ＩＣレイアウト及び得られるＩＣの１以上の層上に配置することができる（図５に対して以下で説明するように）。一般的工程４００は、パワーグリッド計画装置、パワーグリッドルータ、及びパワーグリッド確認装置の工程を含み、これらは、パワーグリッド構造を規定して生成するために反復的に使用される。

一般的工程４００が始まる時にパワーグリッド計画装置は、ＩＣレイアウト内のどの層にパワーグリッド構造の電力ストライプ及び接地ストライプを配置するかを判断する（４０５で）。一部の実施形態では、電力ストライプ及び接地ストライプをレイアウトの層４及び／又は層５上に配置する。その後、パワーグリッド計画装置は、ストライプが配置される各層について電力ストライプ及び接地ストライプの斜め方向を判断する（４１０で）。一部の実施形態では、ストライプを層４に配置する場合には、ストライプをレイアウトのｘ座標軸つまり下部境界に対して４５°斜め方向に配置する。一部の実施形態では、ストライプを層５に配置する場合には、ストライプをレイアウトｘ座標軸つまり下部境界に対して１３５°斜め方向に配置する。

パワーグリッド計画装置は、ストライプが配置される各層について電力ストライプの初期値を判断する（４１５で）。これらの初期値としては、電力ストライプ幅、電力ストライプ開始間隔、電力ストライプ間隔幅、及び電力ストライプ終了間隔（図２に関して上述したような）がある。また、パワーグリッド計画装置は、ストライプが配置される各層について接地ストライプの初期値を判断する（４２０で）。これらの初期値としては、接地ストライプ幅、接地ストライプ開始間隔、接地ストライプ間隔幅、及び接地ストライプ終了間隔（図２に関して上述したような）がある。パワーグリッド計画装置は、更に、レール及びバイアの寸法及び位置を判断する（４２５で）。

パワーグリッドルータは、次に、パワーグリッド構成要素（すなわち、電力ストライプ及び接地ストライプ、レール、バイア）の寸法及び位置を受け取り（４３０で）、受け取った寸法及び位置に従ってＩＣの各層についてパワーグリッド構成要素を物理的に配置する。その後、パワーグリッド確認装置は、得られるパワーグリッド構造を試験して、パワーグリッド構造が設計仕様（すなわち、ＩＣ内での使用が許容可能であるためにパワーグリッド構造が満足すべき最低仕様）を満足するか否かを判断する（４３５で）。パワーグリッド確認装置は、例えば、「スパイス」ベースのシミュレータで構成することができる。パワーグリッド確認装置が、パワーグリッド構造が設計仕様を満足すると判断した場合（４４０でイエス）、一般的工程４００は終了する。

パワーグリッド確認装置が、パワーグリッド構造が設計仕様を満足していないと判断した場合（４４０でノー）、パワーグリッド計画装置は、電力ストライプ及び／又は接地ストライプの１以上の値を修正する（４４５で）。例えば、パワーグリッド計画装置は、設計仕様を満足するために、電力ストライプ幅又は接地ストライプ幅を大きくしてパワーグリッド構造を強化することができる。代替的に、パワーグリッド計画装置は、電力ストライプ又は接地ストライプの開始間隔、間隔幅、又は終了間隔を小さくしてより多くの電力ストライプ又は接地ストライプをレイアウト上に配置することを可能にすることができる（これはまた、設計仕様を満足するためのパワーグリッド構造を強化する）。代替的に、パワーグリッド計画装置は、上述の修正のあらゆる組合せを実行することができる。

パワーグリッド計画装置は、パワーグリッドの正確な寸法及び位置をもたらすために電力ストライプ及び／又は接地ストライプの１以上の値を修正する（４４５で）。その後、一般的工程４００は、段階４３０から段階４４０までを繰り返す。従って、パワーグリッド構成要素の寸法及び位置は、パワーグリッド構造が設計仕様を満足するまで、パワーグリッド計画装置、パワーグリッドルータ、及びパワーグリッド確認装置間で反復工程を通じて精緻化される。

図４は、レイアウト又はＩＣの１以上の層上に斜めパワーグリッドストライプを有するパワーグリッド構造を規定して生成する一般的工程４００を示している。図２及び図３は、ＩＣの上層に亘って斜めパワーグリッドストライプを有するパワーグリッド構造を示している。一部の実施形態では、斜めパワーグリッドストライプは、ＩＣの一つよりも多い上層上に配置される。図５は、４５°斜めストライプ５０５がレイアウトの一つの層上にあり、１３５°斜めストライプ５１０が別の層上にあるパワーグリッド構造５００を有するＩＣの領域の上面図を示している。

パワーグリッド構造５００は、それぞれ図２及び図３のパワーグリッド構造２００及び３００と類似のものであり、異なる要素のみをここで詳細に説明する。一部の実施形態では、４５°斜めストライプ５０５は、６層配線モデルの層４（４５°斜め優先配線を有する層４）上に配置され、１３５°斜めストライプ５１０は、６層配線モデルの層５（１３５°斜め優先配線を有する層５）上に配置される。他の実施形態では、４５°斜めストライプ５０５及び１３５°斜めストライプ５１０は、他の層上に配置される。更に別の実施形態では、マンハッタンパワーグリッドストライプは、６層配線モデルの層６上に配置され、層６は、マンハッタン優先配線を有する。

ＩＣの一つよりも多い層の上にパワーグリッドストライプを分布させることにより、各層上のパワーグリッドストライプを厚くし、同時に依然としてＩＣに対する設計仕様を満足させることができる。例えば、一つの層上に配置されたＷの幅を有する２０個のパワーグリッドストライプが設計仕様を満足した場合、Ｗの一部分の幅を有する２０個のパワーグリッドストライプを２以上の層の各々に配置することができ、同時に依然として設計仕様を満足する。従って、パワーグリッドストライプ及びパワーグリッドストライプによって占有された区域によって引き起こされた信号配線妨害は、ＩＣの一つよりも多い層により分配又は共有することができる。これによって、ＩＣのいかなる一つの層もパワーグリッドストライプによって引き起こされた過度の信号配線妨害を受けることが防止され、ＩＣの異なる層を通じて信号配線妨害が分配される。

ＩＩ．上述のように、パワーグリッド構造の設計仕様は、ＩＣでの使用が許容可能であるためにパワーグリッド構造が満足すべき最低仕様である。異なる設計仕様を電力網（ＩＣ内で接続する必要のある電力ピンの集合）及び接地網（ＩＣ内で接続する必要のある接地ピンの集合）に指定することができる。設計仕様としては、例えば、パワーグリッド構造に亘る最大電圧降下、ＩＣの電子又は回路構成要素の各電力ピンで必要とされる閾値電圧、及び／又はＩＣのスイッチング周波数閾値を含むことができる。

パワーグリッド構造に亘る最大電圧降下は、ＩＣの各電子及び回路構成要素が十分な電源電圧及び所定の最大閾値よりも小さい接地ノイズを有することを保証するための重要な設計仕様である。最大電圧降下は、方程式Ｖ＝ＩＲによって規定され、Ｒは、一般的に式Ｒ＝Ｉ（ｐＬ／Ｗ）によって規定され、ここで、Ｉはストライプによって運ばれる電流、Ｒはストライプの抵抗値、ｐは定数、Ｌはストライプの長さ、Ｗはストライプの幅である。従って、ストライプの長さが大きくなる時に、ストライプの抵抗値（Ｒ）は大きくなり、電圧降下も大きくなる。ストライプの長さが大き過ぎた場合、電圧降下は、ＩＣについて許容された最大電圧降下を超えることになる（ストライプの幅は一定のままであると仮定して）。

図２及び図３に示すように、パワーグリッド構造２００及び３００は、様々な長さの斜めストライプを有する。パワーグリッド構造２００及び３００の一部のストライプは、電圧降下がＩＣについて許容された最大電圧降下を超えるのに十分なほど大きな長さを有する場合がある。一部の実施形態では、パワーグリッド構造２００の特定の電力及び／又は接地ストライプの幅（Ｗ）が増大される。ストライプの幅（Ｗ）を大きくすることにより、ストライプの抵抗値（Ｒ）は小さくなり、電圧降下も小さくなる。従って、幅（Ｗ）が大きくなると、ＩＣに許容された最大電圧降下を満足させるために、相対的に大きな長さを有するストライプの電圧降下を小さくすることができる。一部の実施形態では、パワーグリッド構造２００及び３００の全ての電力ストライプではなく少なくとも一つの幅（Ｗ）が増大されて、ＩＣ層上に様々な幅を有する電力ストライプを有するパワーグリッド構造を生成する。一部の実施形態では、パワーグリッド構造２００及び３００の全ての接地ストライプではなく少なくとも一つの幅（Ｗ）が増大されて、ＩＣ層上に様々な幅を有する接地ストライプを有するパワーグリッド構造を生成する。

図６は、レイアウトの層上に様々な（すなわち、不均一な）幅を有する斜め電力ストライプを有するパワーグリッド構造を有するＩＣレイアウトの領域の上面図を示している。図６に示すように、第１の電力ストライプ６０５は、第１の電力ストライプ幅６２５及び第１の電力ストライプ長６２７を有し、第２の電力ストライプ６０７は、第２の電力ストライプ幅６３０及び第２の電力ストライプ長６３２を有し、第３の電力ストライプ６０９は、第３の電力ストライプ幅６３５及び第３の電力ストライプ長６３７を有する。第３の電力ストライプ幅６３５及びストライプ長６３７は、それぞれ、第２の電力ストライプ幅６３０及びストライプ長６３２よりも大きく、第２の電力ストライプ幅６３０及びストライプ長６３２は、それぞれ、第１の電力ストライプ幅６２５及びストライプ長６２７よりも大きい。第２及び第３の電力ストライプは、ＩＣの設計仕様を満足させるために、それぞれのストライプのより大きな長さによって引き起こされた電圧降下をより大きく低減するためにより大きな幅を有する。

例証する目的で、パワーグリッド構造６００の電力ストライプのみを示している。しかし、上述の同じ原理はまた、パワーグリッド構造６００の接地ストライプにも関連する。従って、他の実施形態では、パワーグリッド構造６００は、様々な幅を有する斜め接地ストライプを有する。
パワーグリッド構造の電圧降下はまた、パワーグリッド構造内のストライプ数を大きくすることにより、設計仕様を満足させるために小さくすることができる。ストライプ数を大きくすると、各ストライプは、運ぶ電流（Ｉ）が少なくて済み、従って、これにより電圧降下（方程式Ｖ＝ＩＲによって規定される）が小さくなる。

図２及び図３に示すように、パワーグリッド構造２００及び３００は、様々な長さの斜めストライプを有する。一部の実施形態では、相対的により大きな長さを有するストライプの近くで少なくとも一つのストライプがパワーグリッド構造２００及び３００に追加される。付加的なストライプをパワーグリッド構造の特定の区域で追加するために、電力ストライプ間の間隔幅及び接地ストライプ間の間隔幅をパワーグリッド構造の層に沿って変える必要がある。一部の実施形態では、パワーグリッド構造２００及び３００は、様々な（すなわち、不均一な）間隔幅を有する電力ストライプ及び／又は接地ストライプをＩＣ層上に有する。また、更に別の実施形態では、パワーグリッド構造２００及び３００は、様々な（すなわち、不均一な）幅を有する電力ストライプ及び／又は接地ストライプを有する。

図７は、レイアウトの層上に様々な（すなわち、不均一な）間隔幅を有する斜め電力ストライプを有するパワーグリッド構造７００を有するＩＣレイアウトの領域の上面図を示している。図７に示すように、第１の間隔幅７２５は、第１の電力ストライプ７０５と第２の電力ストライプ７０７とを分離し、第２の間隔幅７３０は、第２の電力ストライプ７０７と第３の電力ストライプ７０９とを分離し、第３の間隔幅７３５は、第３の電力ストライプ７０９と第４の電力ストライプ７１１とを分離する。第３の間隔幅７３５は、第２の間隔幅７３０よりも小さく、この第２の間隔幅は、第１の間隔幅７２５よりも小さい。電力ストライプ間の間隔幅が変わると、付加的な電力ストライプ（例えば、第３の電力ストライプ７０９）をパワーグリッド構造７００内の特定の位置に追加することができる（例えば、相対的により大きな長さを有する第４の電力ストライプ７１１の近くに）。
例証する目的で、パワーグリッド構造７００の電力ストライプのみを示している。しかし、上述の同じ原理はまた、パワーグリッド構造７００の接地ストライプにも関連する。従って、他の実施形態では、パワーグリッド構造７００は、様々な（すなわち、不均一な）幅を有する斜め接地ストライプを有する。

図８は、様々な幅及び／又は様々な間隔幅を有する斜めストライプを有するパワーグリッド構造を規定して生成する一般的工程８００を示している。一般的工程８００は、図４の一般的工程４００に示す段階を含むので、異なる段階のみをここで詳細に説明する。
一般的工程８００は、パワーグリッド計画装置、パワーグリッドルータ、及びパワーグリッド確認装置の工程を含み、これらは、パワーグリッド構造を規定して生成するために反復的に使用される。一般的工程８００が始まる時に、パワーグリッド計画装置は、ＩＣレイアウト内のどの層にパワーグリッド構造のストライプを配置するかを判断する（４０５で）。その後、パワーグリッド計画装置は、電力ストライプ及び接地ストライプの斜め方向を判断する（４１０で）。

パワーグリッド計画装置は、電力ストライプ幅、電力ストライプ開始間隔、電力ストライプ間隔幅、及び電力ストライプ終了間隔を含む電力ストライプに対する初期値を判断する（４１５で）。一部の実施形態では、パワーグリッド計画装置は、少なくとも一つの電力ストライプが同じ層上の他の電力ストライプの幅に等しくない幅を有するような不均一な初期電力ストライプ幅を判断する。他の実施形態では、パワーグリッド計画装置は、電力ストライプ間の少なくとも一つの間隔幅が同じ層上の他の電力ストライプ間の他の間隔幅の幅に等しくないような不均一な初期電力ストライプ間隔幅を判断する。更に別の実施形態では、パワーグリッド計画装置は、不均一な初期電力ストライプ幅及び電力ストライプ間隔幅を判断する。

パワーグリッド計画装置はまた、接地ストライプ幅、接地ストライプ開始間隔、接地ストライプ間隔幅、及び接地ストライプ終了間隔を含む接地ストライプに対する初期値を判断する（４２０で）。一部の実施形態では、パワーグリッド計画装置は、少なくとも一つの接地ストライプが同じ層上の他の接地ストライプの幅に等しくない幅を有するような不均一な初期接地ストライプ幅を判断する。他の実施形態では、パワーグリッド計画装置は、接地ストライプ間の少なくとも一つの間隔幅が同じ層上の他の接地ストライプ間の他の間隔幅の幅に等しくないような不均一な初期接地ストライプ間隔幅を判断する。更に別の実施形態では、パワーグリッド計画装置は、不均一な初期接地ストライプ幅及び接地ストライプ間隔幅を判断する。

パワーグリッド計画装置は、更に、レール及びバイアの寸法及び位置を判断する（４２５で）。その後、パワーグリッドルータは、パワーグリッド構成要素の寸法及び位置を受け取り（４３０で）、受け取った寸法及び位置に従ってＩＣの各層についてパワーグリッド構成要素を物理的に配置する。その後、パワーグリッド確認装置は、得られるパワーグリッド構造を試験して、パワーグリッド構造が設計仕様を満足するか否かを判断する（４３５で）。パワーグリッド確認装置が、パワーグリッド構造が設計仕様を満足すると判断した場合（４４０でイエス）、一般的工程８００は終了する。

パワーグリッド確認装置が、パワーグリッド構造が設計仕様を満足していないと判断した場合（４４０でノー）、パワーグリッド計画装置は、電力ストライプ及び／又は接地ストライプの１以上の値を修正する（８４５で）。例えば、パワーグリッド計画装置は、１以上の電力ストライプ又は接地ストライプの幅を大きくすることができる。一部の実施形態では、相対的により大きな長さを有する電力ストライプ又は接地ストライプの幅が増大される。更に別の例として、パワーグリッド計画装置は、１以上の電力ストライプ及び／又は接地ストライプを特定の既存のストライプの近くに追加することができる。一部の実施形態では、電力ストライプ及び／又は接地ストライプは、相対的により大きな長さを有する既存のストライプの近くに追加される。１以上の電力ストライプ及び／又は接地ストライプを追加するために、パワーグリッド計画装置は、パワーグリッド構造の特定の区域に付加的なストライプを配置するように電力ストライプ間の間隔幅を変え、及び／又は接地ストライプ間の間隔幅を変えることができる。更に別の実施形態では、パワーグリッド計画装置は、上述の修正のあらゆる組合せを実行することができる。

パワーグリッド計画装置は、パワーグリッドの正確な寸法及び位置をもたらすために電力ストライプ及び／又は接地ストライプの１以上の値を修正する（８４５で）。その後、一般的工程８００は、段階４３０から段階４４０までを繰り返す。従って、パワーグリッド構成要素の寸法及び位置は、パワーグリッド構造が設計仕様を満足するまで、パワーグリッド計画装置、パワーグリッドルータ、及びパワーグリッド確認装置間で反復工程を通じて精緻化される。

上述の実施形態では、パワーグリッド構造は、配線層１上の水平信号配線、配線層２上の垂直信号配線、配線層３上の水平信号配線、配線層４上の４５°斜め信号配線、配線層５上の１３５°斜め信号配線、及び配線層６上の垂直配線を有する６層配線モデルに関して説明している。当業者は、他の実施形態では、パワーグリッド構造を他の配線モデルで使用することができることを認めるであろう。
一部の実施形態では、パワーグリッド構造は、一般的にレイアウトの境界及び／又はレイアウトの予想ＩＣの境界と平行であるＩＣレイアウトの直交座標軸に対して０°又は９０°以外の角度を成す場合は「斜め」である。ＩＣレイアウト（又は、レイアウトの領域）座標軸つまり境界に対して「斜め」であるパワーグリッド構造は、ストライプが配置された得られるＩＣ境界及び得られる層の境界に対しても「斜め」である（すなわち、０°又は９０°以外の角度を成す）。一部の実施形態では、４５°又は１３５°の特定の斜め方向のストライプを有するパワーグリッド構造が説明されている。しかし、他の実施形態は、他の斜め方向のストライプを有するパワーグリッド構造を含んでいる。

以上、斜めストライプを有するパワーグリッド構造に関していくつかの実施形態を説明した。これらの実施形態は、パワーグリッド構造区域が最小にされ、かつパワーグリッド構造によって生じた斜め配線妨害が最小にされ、同時に依然として設計仕様を満足するパワーグリッド構造を形成する方法と組み合わせることができる。上述の実施形態はまた、パワーグリッド公式と、パワーグリッド計画装置、パワーグリッドルータ、パワーグリッド確認装置、及び全体信号ルータを伴う反復工程で使用されるような一組の制約条件とを用いてパワーグリッド構成要素の寸法及び位置を判断する方法とも組み合わせることができる。このような方法は、本明細書において引用により明示的に組み込まれている、本出願と共に出願された「斜め信号配線に有益なマンハッタンパワーグリッド構造を形成するための方法及び装置」という名称の米国特許出願番号第［ ］号、代理人ドケット番号ＣＤＮ．Ｐ００９０に説明されている。

更に、上述の実施形態は、パワーグリッド構造内でバイアの数を少なくする（同時に依然として設計仕様を満足する）方法、及び、特に４５°又は１３５°斜め配線経路に有益であるような方法でパワーグリッド構造内にバイアの位置を見つける方法と組み合わせることができる。このような方法は、本明細書において引用により明示的に組み込まれている。本出願と共に出願された「バイア数を少なくしたマンハッタンパワーグリッド構造を形成するための方法及び装置」という名称の米国特許出願第［ ］号、代理人ドケット番号ＣＤＮ．Ｐ００９１に説明されている。上述の実施形態はまた、「バイア数を少なくしたマンハッタンパワーグリッド構造を形成するための方法及び装置」という名称の上述の米国特許出願で説明されているような斜め配線経路がバイアアレイの縁部の近くで容易にされているバイアアレイ内のバイアの配置とも組み合わせることができる。
本発明を多くの特定の詳細に関連して説明したが、当業者は、本発明の精神から逸脱することなく本発明を他の特定の形態に具現化することができることを認識するであろう。すなわち、当業者は、本発明が上述の例示的な詳細により制限されず、むしろ特許請求の範囲により規定されることを理解すると考えられる。

従来のパワーグリッド構造を有するＩＣレイアウトの領域の上面図である。 本発明による４５°斜めストライプを有するパワーグリッド構造を有するＩＣレイアウトの領域の上面図である。 本発明による１３５°斜めストライプを有するパワーグリッド構造を有するＩＣレイアウトの領域の上面図である。 斜めパワーグリッドストライプを有するパワーグリッド構造を規定して生成する一般的工程を示す図である。 レイアウトの一つの層上に４５°斜めストライプと別の層上に１３５°斜めストライプとを有するパワーグリッド構造を有するＩＣレイアウトの領域の上面図である。 斜め電力ストライプがレイアウトの層上に様々な幅を有するパワーグリッド構造を有するＩＣレイアウトの領域の上面図である。 斜め電力ストライプがレイアウトの層上に様々な間隔幅を有するパワーグリッド構造を有するＩＣレイアウトの領域の上面図である。 様々な幅及び／又は様々な間隔幅を有する斜めストライプを有するパワーグリッド構造を規定して生成する一般的工程を示す図である。

符号の説明

２００ パワーグリッド構造
２０５ 電力ストライプ
２０７ 接地ストライプ
２２５ 電力ストライプ幅
２２７ 接地ストライプ幅

Claims (45)

1. 集積回路のためのパワーグリッド構造であって、
   集積回路の第１の層上に位置し、該集積回路の境界に対して斜め方向に位置決めされた第１の複数のストライプと、
   複数のレールと、
   前記第１の複数のストライプを前記複数のレールに接続する複数のバイアと、
   を含むことを特徴とする構造。
2. 前記第１の複数のストライプは、前記集積回路の境界に対して４５°斜め方向に位置決めされることを特徴とする請求項１に記載のパワーグリッド構造。
3. 前記第１の層は、４５°斜め優先信号配線を有することを特徴とする請求項２に記載のパワーグリッド構造。
4. 前記第１の複数のストライプは、前記集積回路の境界に対して１３５°斜め方向に位置決めされることを特徴とする請求項１に記載のパワーグリッド構造。
5. 前記第１の層は、１３５°斜め優先信号配線を有することを特徴とする請求項４に記載のパワーグリッド構造。
6. 前記集積回路の第２の層上に位置し、該集積回路の境界に対して斜め方向に位置決めされた第２の複数のストライプ、
   を更に含むことを特徴とする請求項１に記載のパワーグリッド構造。
7. 前記第１の層上に位置した第１の複数のストライプは、前記集積回路の境界に対して４５°斜め方向に位置決めされ、該第１の層は、４５°斜め優先信号配線を有することを特徴とする請求項６に記載のパワーグリッド構造。
8. 前記第２の層上に位置した第２の複数のストライプは、前記集積回路の境界に対して１３５°斜め方向に位置決めされ、該第２の層は、１３５°斜め優先信号配線を有することを特徴とする請求項７に記載のパワーグリッド構造。
9. 前記第１の複数のストライプは、前記第１の層上に位置した全てのストライプを含むことを特徴とする請求項１に記載のパワーグリッド構造。
10. 前記第１の複数のストライプは、前記第１の層上に位置した全てのストライプの一部分を含むことを特徴とする請求項１に記載のパワーグリッド構造。
11. 前記第１の複数のストライプは、前記第１の層上に位置した全てのストライプの１／４よりも多く、１／３よりも多く、又は１／２よりも多くを含むことを特徴とする請求項１に記載のパワーグリッド構造。
12. 集積回路のレイアウトの領域内に形成された集積回路のためのパワーグリッド構造であって、
    集積回路の層上に位置し、レイアウトの境界に対して斜め方向に形成された複数のストライプと、
    複数のレールと、
    前記複数のストライプを前記複数のレールに接続する複数のバイアと、
    を含むことを特徴とする構造。
13. 前記複数のストライプは、前記レイアウトの境界に対して４５°斜め方向に形成されることを特徴とする請求項１２に記載のパワーグリッド構造。
14. 前記複数のストライプは、前記レイアウトの境界に対して１３５°斜め方向に形成されることを特徴とする請求項１２に記載のパワーグリッド構造。
15. 集積回路のためのパワーグリッド構造であって、
    集積回路の第１の層上に位置し、不均一な幅を有する第１の複数の電力ストライプと、
    複数のレールと、
    前記第１の複数の電力ストライプを前記複数のレールに接続する複数のバイアと、
    を含むことを特徴とする構造。
16. 前記集積回路の前記第１の層上に位置し、不均一な幅を有する複数の接地ストライプ、
    を更に含むことを特徴とする請求項１５に記載のパワーグリッド構造。
17. 前記第１の複数の電力ストライプは、前記集積回路の境界に対して斜め方向に位置決めされることを特徴とする請求項１５に記載のパワーグリッド構造。
18. 前記集積回路の第２の層上に位置し、不均一な幅を有する第２の複数の電力ストライプ、
    を更に含むことを特徴とする請求項１５に記載のパワーグリッド構造。
19. 集積回路のためのパワーグリッド構造であって、
    集積回路の第１の層上に位置し、第１の電力ストライプと第２の電力ストライプを含み、該第１の電力ストライプの幅が該第２の電力ストライプの幅よりも大きい複数の電力ストライプと、
    複数のレールと、
    前記複数の電力ストライプを前記複数のレールに接続する複数のバイアと、
    を含むことを特徴とする構造。
20. 前記第１の電力ストライプの長さは、前記第２の電力ストライプの長さよりも長いことを特徴とする請求項１９に記載のパワーグリッド構造。
21. 集積回路のためのパワーグリッド構造であって、
    集積回路の第１の層上に位置し、電力ストライプを次の電力ストライプから分離する不均一な間隔幅を有する第１の複数の電力ストライプと、
    複数のレールと、
    前記複数の電力ストライプを前記複数のレールに接続する複数のバイアと、
    を含むことを特徴とする構造。
22. 前記集積回路の前記第１の層上に位置し、接地ストライプを次の接地ストライプから分離する不均一な間隔幅を有する複数の接地ストライプ、
    を更に含むことを特徴とする請求項２１に記載のパワーグリッド構造。
23. 前記第１の複数の電力ストライプは、前記集積回路の境界に対して斜め方向に位置決めされることを特徴とする請求項２１に記載のパワーグリッド構造。
24. 前記集積回路の第２の層上に位置し、電力ストライプを次の電力ストライプから分離する不均一な間隔幅を有する第２の複数の電力ストライプ、
    を更に含むことを特徴とする請求項２１に記載のパワーグリッド構造。
25. 集積回路のためのパワーグリッド構造であって、
    集積回路の第１の層上に位置し、第１の電力ストライプ、第２の電力ストライプ、及び第３の電力ストライプを含み、該第１の電力ストライプと該第２の電力ストライプの間の第１の間隔幅が、該第２の電力ストライプと該第３の電力ストライプの間の第２の間隔幅よりも大きい複数の電力ストライプと、
    複数のレールと、
    前記複数の電力ストライプを前記複数のレールに接続する複数のバイアと、
    を含むことを特徴とする構造。
26. 前記第１の電力ストライプの長さは、前記第３の電力ストライプの長さよりも短いことを特徴とする請求項２５に記載のパワーグリッド構造。
27. 第１の複数の電力ストライプ及び第１の複数の接地ストライプから成るパワーグリッド構造をレイアウトの領域内に形成する方法であって、
    第１の複数の電力ストライプ及び第１の複数の接地ストライプが配置される、レイアウト内の第１の層を判断する段階と、
    前記第１の複数の電力ストライプ及び前記第１の複数の接地ストライプが位置決めされる、前記レイアウトの境界に対する第１の斜め方向を判断する段階と、
    電力ストライプ幅、電力ストライプ開始間隔、電力ストライプ間隔幅、及び電力ストライプ終了間隔に対する値を含む前記第１の複数の電力ストライプに対する値を判断する段階と、
    接地ストライプ幅、接地ストライプ開始間隔、接地ストライプ間隔幅、及び接地ストライプ終了間隔に対する値を含む前記第１の複数の接地ストライプに対する値を判断する段階と、
    を含むことを特徴とする方法。
28. 前記第１の斜め方向は、前記レイアウトの境界に対する４５°斜め方向であることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
29. 前記第１の層は、４５°斜め優先信号配線を有することを特徴とする請求項２８に記載の方法。
30. 前記第１の斜め方向は、前記レイアウトの境界に対する１３５°斜め方向であることを特徴とする請求項２７に記載の方法。
31. 前記第１の層は、１３５°斜め優先信号配線を有することを特徴とする請求項３０に記載の方法。
32. 前記電力ストライプ開始間隔は、前記レイアウトの前記領域の縁部から前記第１の複数の電力ストライプ内の第１の電力ストライプまでの距離であり、
    前記電力ストライプ間隔幅は、前記第１の複数の電力ストライプの電力ストライプと次の電力ストライプとを分離する距離であり、
    前記電力ストライプ終了間隔は、前記レイアウトの前記領域の縁部から前記第１の複数の電力ストライプの最終電力ストライプまでの距離であり、
    前記接地ストライプ開始間隔は、前記レイアウトの前記領域の縁部から前記第１の複数の接地ストライプ内の第１の接地ストライプまでの距離であり、
    前記接地ストライプ間隔幅は、前記第１の複数の接地ストライプの接地ストライプと次の接地ストライプとを分離する距離であり、
    前記接地ストライプ終了間隔は、前記レイアウトの前記領域の縁部から前記第１の複数の接地ストライプの最終接地ストライプまでの距離である、
    ことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
33. 前記パワーグリッド構造は、更に、第２の複数の電力ストライプ及び第２の複数の接地ストライプから成り、
    前記第２の複数の電力ストライプ及び前記第２の複数の接地ストライプが配置される、前記レイアウト内の第２の層を判断する段階と、
    前記第２の複数の電力ストライプ及び前記第２の複数の接地ストライプが位置決めされる、前記レイアウトの境界に対する第２の斜め方向を判断する段階と、
    を更に含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
34. 前記第１の層は、４５°斜め優先信号配線を有し、前記第１の斜め方向は、前記レイアウトの境界に対する４５°斜め方向であることを特徴とする請求項３３に記載の方法。
35. 前記第２の層は、１３５°斜め優先信号配線を有し、前記第２の斜め方向は、前記レイアウトの境界に対する１３５°斜め方向であることを特徴とする請求項３４に記載の方法。
36. 第１の複数の電力ストライプ及び第１の複数の接地ストライプから成るパワーグリッド構造をレイアウトの領域内に形成する方法であって、
    第１の複数の電力ストライプ及び第１の複数の接地ストライプが配置される、レイアウト内の第１の層を判断する段階と、
    前記第１の複数の電力ストライプに対する幅値を判断する段階と、
    を含み、
    前記電力ストライプの前記幅値は、少なくとも一つの電力ストライプが前記第１の複数の電力ストライプの他の電力ストライプの幅値に等しくない幅値を有するように不均一である、
    ことを特徴とする方法。
37. 前記第１の複数の接地ストライプに対する幅値を判断する段階、
    を更に含み、
    前記接地ストライプの前記幅値は、少なくとも一つの接地ストライプが前記第１の複数の接地ストライプの他の接地ストライプの幅値と等しくない幅値を有するように不均一である、
    ことを特徴とする請求項３６に記載の方法。
38. 前記第１の複数の電力ストライプの間隔幅を判断する段階、
    を更に含み、
    前記電力ストライプの前記間隔幅は、電力ストライプ間の少なくとも一つの間隔幅が前記第１の複数の電力ストライプの他の電力ストライプ間の他の間隔幅に等しくないように不均一である、
    ことを特徴とする請求項３６に記載の方法。
39. 前記第１の複数の電力ストライプ及び前記第１の複数の接地ストライプが位置決めされる、前記レイアウトの境界に対する第１の斜め方向を判断する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項３６に記載の方法。
40. 前記パワーグリッド構造は、更に、第２の複数の電力ストライプ及び第２の複数の接地ストライプから成り、
    前記第２の複数の電力ストライプ及び前記第２の複数の接地ストライプが配置される、前記レイアウト内の第２の層を判断する段階と、
    前記第２の複数の電力ストライプに対する幅値を判断する段階と、
    を更に含み、
    前記電力ストライプの前記幅値は、少なくとも一つの電力ストライプが前記第２の複数の電力ストライプの他の電力ストライプの幅値に等しくない幅値を有するように不均一である、
    ことを特徴とする請求項３６に記載の方法。
41. 第１の複数の電力ストライプ及び第１の複数の接地ストライプから成るパワーグリッド構造をレイアウトの領域内に形成する方法であって、
    第１の複数の電力ストライプ及び第１の複数の接地ストライプが配置される、レイアウト内の第１の層を判断する段階と、
    前記第１の複数の電力ストライプに対する間隔幅を判断する段階と、
    を含み、
    前記電力ストライプの前記間隔幅は、電力ストライプ間の少なくとも一つの間隔幅が前記第１の複数の電力ストライプの他の電力ストライプ間の他の間隔幅に等しくないように不均一である、
    ことを特徴とする方法。
42. 前記第１の複数の接地ストライプに対する間隔幅を判断する段階、
    を更に含み、
    前記接地ストライプの前記間隔幅は、接地ストライプ間の少なくとも一つの間隔幅が前記第１の複数の接地ストライプの他の接地ストライプ間の他の間隔幅に等しくないように不均一である、
    ことを特徴とする請求項４１に記載の方法。
43. 前記第１の複数の電力ストライプに対する幅値を判断する段階、
    を更に含み、
    前記電力ストライプの前記幅値は、少なくとも一つの電力ストライプが前記第１の複数の電力ストライプの他の電力ストライプの幅値に等しくない幅値を有するように不均一である、
    ことを特徴とする請求項４１に記載の方法。
44. 前記第１の複数の電力ストライプ及び前記第１の複数の接地ストライプが位置決めされる、前記レイアウトの境界に対する第１の斜め方向を判断する段階、
    を更に含むことを特徴とする請求項４１に記載の方法。
45. 前記パワーグリッド構造は、更に、第２の複数の電力ストライプ及び第２の複数の接地ストライプから成り、
    前記第２の複数の電力ストライプ及び前記第２の複数の接地ストライプが配置される、前記レイアウト内の第２の層を判断する段階と、
    前記第２の複数の電力ストライプに対する間隔幅を判断する段階と、
    を更に含み、
    前記電力ストライプの前記間隔幅は、電力ストライプ間の少なくとも一つの間隔幅が前記第２の複数の電力ストライプの他の電力ストライプ間の他の間隔幅に等しくないように不均一である、
    ことを特徴とする請求項４１に記載の方法。

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