JP2007523735A - 空間選択的堆積によるミクロスケール及びナノスケールの加工及び製造 - Google Patents
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Abstract
【選択図】 図1
Description
その最も広義の形態において、本発明は、何等かの予め定められた表面上における、何れか広範な化学物質の空間的に規定された堆積に関する。この物質には、着色物質、染料、薬物、ポリマー、触媒、抗湿潤剤、顔料、エッチング用化学薬品、導電体、金のような金属、固相化学基の脱ブロック、ブロック、保護及び脱保護、誘導化及び活性化のための被覆材及び薬剤が含まれてよいが、これらに限定されない。アレイは、ディスプレーパネルの画素アレイ、デオキシリボ核酸(DNA)、ペプチド、ペプチド核酸(PNA)、リボ核酸(RNA)、及び他の固相化学アレイ及びコンビナトリアルケミストリーによって組立てられるアレイを含むことができる。
本発明のもう一つの目的は、広範な化学物質のうちの何れかの、何れかの予め定められた表面に対する空間的に規定された堆積方法を提供することである。
(a)前記基板上の少なくとも一つの領域に前記基板の他の領域における電荷とは異なる静電荷を形成することによって、前記少なくとも一つの領域を規定する工程と;
(b)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる選択的に堆積されるべき成分を有する工程と;
(c)前記領域の電荷との間の引力又は斥力により、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に向けさせる工程と;
を含んでなるものである。
この方法は、さらに、前記基板上の同じ位置又は別の位置において段階的な堆積プロセスを与えるために、工程(a)〜(c)の反復を実行する工程を含んでもよい。
(a)基板上における静電気的潜像の形成のように、前記基板上の少なくとも一つの領域に前記基板の他の領域における電荷とは異なる静電荷を形成することによって、前記少なくとも一つの領域を規定する工程と;
(b)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持され又は該不連続相を含む固相アレイの形成に寄与する化学試薬を有する工程と;
(c)必要とされない領域における堆積を低減するために、前記領域の静電荷による引力によって、任意にバイアス電圧の使用によって、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に堆積する工程と;
(d)前記少なくとも一つの領域において、化学反応又は物理反応を起こさせる工程と;
(e)前記エマルジョンを除去する工程と;
を含んでなるものである。
あるいは、この方法は、先に空間選択的堆積が生じた場所でのみ反応が生じるさらなる試薬で上記基板を浸漬するさらなる反応工程を含んでもよい。
ホスホロアミダイト法においては、DNAを構成する四つの成分である四つのヌクレオチド、即ち、A,T,G及びCのうちの一つ(ホスホロアミダイト形態で)を逐次的に付加することによって、一本鎖形態のDNAの一部が構築される。各ヌクレオチドは、化学的に除去可能な保護基を有している。脱保護剤として知られる化学試薬は、保護基を除去して反応性ヒドロキシル基を露出させ、次の段階では、ヌクレオシド(活性化されたホスホロアミダイト形態で)が反応性ヒドロキシル基で成長するDNAストリングに結合される。次の段階はキャッピング工程であり、ここでは脱保護され且つヌクレオチドが結合されていない如何なるDNAストリングも、後の結合段階において望まないヌクレオチドが当該分子に加えられるのを防止するために、永久的にキャップされる。最後の工程では、新たに形成されたヌクレオシド間の亜リン酸エステル結合の酸化が行われて、該結合の三リン酸結合への変換が行われる。
(f)基板上における静電気的潜像の形成のように、前記基板上の少なくとも一つの領域に前記基板の他の領域における電荷とは異なる静電荷を形成することによって、前記少なくとも一つの領域を規定する工程と;
(g)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相液滴及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる化学試薬を有する工程と;
(h)必要とされない領域における堆積を低減するために、前記領域の静電荷による引力によって、任意にバイアス電圧の使用によって、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に堆積する工程と;
(i)前記少なくとも一つの領域において、化学反応を起こさせる工程と;
(j)前記エマルジョンを除去する工程と;
(k)前記段階的反応プロセスの後続の工程を実施する工程と;
を含んでなるものである。
本発明の好ましい形態では、前記基板にエマルジョンを塗布する工程は、前記エマルジョンを塗布する前に、前記基板に連続相の液体、又はもう一つの液体のコーティングを塗布する工程を含むことができる。これは、望ましくない領域での無用の堆積を防止する補助となり得るので、有利であることができる。
(l)除去可能な保護基により保護された表面官能基を備えた基板を調製する工程と;
(m)基板上に静電気的潜像の形成のように、前記基板上の少なくとも一つの領域に電界を形成することによって、前記基板の他の領域における電界とは異なる前記一つの領域を規定する工程と;
(n)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相液滴及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる化学的脱保護剤を有する工程と;
(o)必要とされない領域における堆積を低減するために、前記領域の電界による引力によって、任意にバイアス電圧の使用によって、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に堆積する工程と;
(p)前記少なくとも一つの領域において、化学的脱保護を起こさせる工程と;
(q)前記エマルジョンを除去する工程と;
(r)前記段階的カップリングプロセスの後続の工程を実施する工程と;
を含んでなるものである。
段階的カップリングプロセスの後続の工程は、オリゴデオキシヌクレオチドを合成するための標準のホスホロアミダイト化学において実施されるようなものでよいが、先に述べたように、本発明はこの特定の化学に限定されない。
静電画像パターンの形成は、基板が光伝導体であり、且つ静電界の形成が帯電及びその後の選択的放電(例えば選択的光照射によるもの)であってよい。好ましくは、DNAアレイの製造において、短波長紫外領域における放射はDNA分子を損傷する可能性があるので、光照射には含まれない可能性がある。しかし、他の化学チップ又はアレイのアセンブリーの組み立てについてはUV照射が使用されてもよい。
不連続相が炭化水素油である場合、該化学的脱保護剤は、強力な有機又は無機のプロトン酸であってよい。
また、不連続相又はその何れかの成分の選択は、連続層の中に有意に分配されず、それによって連続相の体積抵抗率を有意に低減したり、連続相に化学反応性を付与しないようなものにすべきである。
界面活性剤は、陰イオン性、陽イオン性、非イオン性、又は両イオン性の化合物、ポリマー界面活性剤物質、又はリン脂質から選択されてよい。
例えば、界面活性剤は、アルコール/脂肪酸エステル、アルコキシ化ひまし油、アルキルフェノールエトキシレート、エトキシ化アルコール、ソルビタンエステル、グリセリンエステル、ポリエチレングリコール、及びリン脂質であってよい。
連続相は、ヘキサン、ナフタレン、デカリン、シクロヘキサン、イソオクタン、ヘプタン、芳香族炭化水素、及びイソデカンのような炭化水素、並びにExxonが製造するIsopars(登録商標)及びNorpars(登録商標)のような商業的に入手可能な炭化水素混合物から選択されてよい。連続相はまた、フルオロ炭素化合物を含むフルオロ化学薬品から選択してもよい。これらのフルオロ化学薬品は、一般には、2〜16の炭素原子を含んでなり、線状、環状、又は多環状のパーフルオロアルカン、ビス(パーフルオロアルキル)アルケン、パーフルオロエーテル、パーフルオロアルキルアミン、3Mが製造するFluorinerts(登録商標)のような臭化パーフルオロアルキル及び塩化パーフルオロアルキルが含まれるが、これらに限定されない。連続相はまた、ポリフェニルメチルシロキサン、ジメチルポリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、及び環状ジメチルシロキサン等のようなシリコーン液から選択されてもよい。本発明の方法におけるポリフルオロ化学薬品の使用は、これら化合物が水を吸収しないので、顕著な利点を提供する可能性があり、この特性は望ましいものである。
また、連続相はゲル又は高粘性液体であってもよい。
不連続相は、水性又は非水性であってよい。
溶液中に化学的脱保護剤を担持する非水性の不連続相は、アセトン、アセトニトリル、シクロヘキサノン、ジブロモメタン、ジクロロメタン(塩化メチレン、DCM)、トリクロロメタン、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジオキサン、1,2−ジクロロエタン(DCE)、ニトロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン、ジメチルホルムアミド、イソブタノール、プロピレンカーボネート、ジメチルスルホキシド、並びにIsopar(登録商標)及びNorpar(登録商標)を含む商業的に入手可能な炭化水素の混合物、又はイソプロパノール/塩化メチレン、ニトロメタン/メタノール、ニトロメタン/イソプロパノール、トリクロロメタン/メタノール、若しくはイソプロパノール/塩化メチレンのような化合物の混合物から選択されてよい。また、デカリンのような他の炭化水素を使用してもよい。
不連続相は、化学的脱保護剤のような試薬であってよく、又は該活性な化学試薬を担持する溶媒であってもよい。あるいは、該活性な化学試薬は、不連続相の中に分散された個体又は不溶性の液体であってよい。
電荷制御剤は、連続相及び不連続相の主成分との類似性を有するように選択すればよい。例えば、連続相がフルオロ化学薬品である場合、電荷制御剤は以下に列記する化合物のフッ素類縁体を含んでよい。
幾つかの実施形態において、電荷制御剤の機能は界面活性剤によって与えられてよく、又は化学物質、例えば脱保護のための酸を担持するエマルジョン液滴に固有のものであってもよい。
荷電制御剤は、酸及びその塩、有機酸及びその塩又はイオン性若しくは双性イオン性化合物であってもよい。
本発明によるエマルジョンは、ピカリング(Pckering)エマルジョンとして知られる種類のエマルジョンをも含んでよい。これらのエマルジョンは、連続相、微細に分散された不連続相、及び200nmより小さい平均粒子サイズを有し且つ両親媒性の特徴を示す少なくとも一つの種類のミクロ微小粒子の系である。ミクロ微細粒子は、アルミナ、ベントナイト、珪酸マグネシウムアルミニウム、脂肪結晶、酸化マグネシウム、三珪酸マグネシウム、二酸化チタン、処理済みヒュームドシリカ、シリカ及び酸化錫から選択されてよい。ピカリングエマルジョンの安定性は、濡れ接触角、粒子サイズ、粒子濃度、粒子間相互作用及び粘度に依存する。
エマルジョン液滴の帯電機構は完全には理解されていないが、出願人は、連続相と不連続相の間の界面における極性又はイオン性の種の集積に関連していると考えている。エマルジョンの静電的帯電は、電荷制御剤及び界面活性剤を使用する場合も使用しない場合にも認められている。
好ましくは、当該エマルジョンの連続相がフルオロ化学薬品である場合、該フルオロ化学薬品はパーフルオロオクタン、線状、環状又は多環状パーフルオロアルカン、ビス(パーフルオロアルキル)アルケン、パーフルオロエーテル、パーフルオロアルキルアミン、臭化パーフルオロアルキル及び塩化パーフルオロアルキルのような、パーフルオロカーボンである。
あるいは、連続相はシリコーン液又は有機液体、例えばヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン、ヘプタン、デカリン、ナフタレン、芳香族炭化水素、イソデカン、並びにExxonが製造するIsopars(登録商標)及びNorpars(登録商標)等の商業的に入手可能な炭化水素混合物であってよい。
一つの実施形態において、連続相は超臨界二酸化炭素(cCO2)であってよい。この液体は、フッ素化界面活性剤と適合する性質を有している。
フッ素化界面活性剤はまた、疎水性、非イオン性、陰イオン性、陽イオン性、又は双性イオン性の部分を備えていてよい。このような部分には、例えばリン脂質、並びにポリオキシエチレン、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレン型及びポリオキシエチレンソルビタンエステルの共重合体が含まれる。
また、上記で述べた種々の界面活性剤の組合せが使用されてもよい。
上記で述べたように、本発明のこの実施形態によるエマルジョンは、真正エマルジョン又はミニエマルジョン、即ち、震盪、撹拌等の機械的エネルギーの入力によって形成されるエマルジョンであってよい。あるいは、当該エマルジョンは、温度及び化学組成の正確な条件が存在するときに実質的に自然に形成されるミクロエマルジョンであってよい。
あるいは、この実施形態のフルオロ化学薬品はシリコーン液のような別の化合物で置換えられてよく、従って、この場合の界面活性剤は親シリコーン部分を有する化合物から選択されるであろう。
i)複数の画素部位を規定する発光ダイオードアレイをもった基板を準備する工程であって、各画素部位が電極を含む工程と;
ii)選択された画素部位の電極に電荷を印加する工程と;
iii)着色剤を適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は絶縁性液体及び選択された色の帯電された着色剤を含む工程と;
iv)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
v)前記着色剤を前記選択された画素部位に引き寄せる工程と;
vi)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vii)前記着色剤を前記基板に固定する工程と;
viii)他の選択された色のさらなる着色剤を他の選択された画素部位に適用するために、工程ii)から工程vii)を繰り返す工程と;
を含むものである。
好ましくは、前記LEDアレイのうちの選択されたものを活性化することによって、前記電荷は、前記選択された画素部位に印加される。
本発明の一つの形態において、前記発光ダイオードは、有機発光ダイオードであってよい。
好ましくは、前記絶縁性液体は、炭化水素液、シリコーン液、塩素化炭化水素及びパーフルオロカーボンから選択される。
好ましくは、着色剤はエマルジョンの不連続相である帯電した液滴であるか、又は該液滴の中に組込まれる。該着色剤は、活性樹脂及び顔料又は染料を含有してよい。
基板は、ガラス、ポリエステル箔、ポリカーボネート、Mylar(登録商標)、ステンレス鋼等から選択されてよい。
基板は、酸化インジウム錫(ITO)のコーティングを含むことができ、このITOコーティングは電極のアレイにパターンニングすることができる。
i)複数の画素部位を定義する伝導体アレイをもった基板を準備する工程であって、各画素部位が電極を含む工程と;
ii)選択された画素部位の電極に電荷を印加する工程と;
iii)前記選択された画素部位に選択されたポリマーフィルムを適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、ポリマーフィルムを堆積するためのポリマーの帯電した液滴又は該ポリマーを含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
iv)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
v)前記液滴を前記選択された画素部位に引き寄せる工程と;
vi)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vii)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
viii)更なる選択されたポリマーフィルムを他の選択された画素部位に適用するために、工程ii)から工程vii)を繰り返す工程と;
を含むものである。
ポリマーフィルムは、赤、緑及び青の有機発光ダイオードを提供するための増感剤を含むことができる。
好ましくは、電荷は、伝導体アレイの選択された部位を活性化することによって、選択された画素に印加される。
好ましくは、絶縁性液体は炭化水素液、シリコーン液及びパーフルオロカーボンから選択され、また基板はガラス、ポリエステル箔、ポリカーボネート、Mylar又はステンレス鋼から選択される。基板が導電体でなく、且つLEDの電極の一つとして導電体が必要とされる場合、基板は酸化インジウム錫(ITO)のコーティングを含むことができる。
i)複数の画素部位を規定する導電体アレイをもった基板を準備する工程であって、各画素部位が電極を含む工程と;
ii)前記複数の画素部位の全ての電極に電荷を印加する工程と;
iii)選択された画素部位に選択されたポリマーフィルムを適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、ポリマーフィルムを堆積するためのポリマーの帯電した液滴又は該ポリマーを含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
iv)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
v)前記帯電した液滴を前記選択された画素部位に引き寄せる工程と;
vi)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vii)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
viii)前記複数の画素部位の電極うちの選択された電極に電荷を印加する工程と;
ix)選択された画素部位に染料を適用するために適合された第二の液体組成物を準備する工程であって、該第二の液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、前記ポリマーフィルム上に堆積させる前記染料の帯電した液滴又は該染料を含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
x)前記第二の液体組成物を前記基板上に配置する工程と;
xi)前記帯電した液滴を前記選択された画素部位に引寄せる工程と;
xii)過剰な液体組成物を前記基板から除去する工程と;
xii)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
xiv)更なる選択された染料を他の選択された画素部位に適用するために、工程viii)から工程xiii)を繰り返す工程と;
を含むものである。
好ましくは、前記電荷は、伝導体アレイの選択された部位を活性化することによって、前記選択された画素部位に印加される。
好ましくは、前記絶縁性液体は炭化水素液、シリコーン液及びパーフルオロカーボンから選択される。
好ましくは、前記基板はガラス、ポリエステル箔、ポリカーボネート、Mylar(PET、ポリエチレンテレフタレート)又はステンレス鋼から選択され、また可撓性又は剛性であってよい。
前記電極は、発光ポリマー中で生じた光を前方にできるだけ多く反射するように、銀のような高度に反射性のものであってよい。
i)基板上に静電気アレイのパターンを発生させることによって、前記基板上に複数の画素部位を規定する工程と;
ii)前記規定された画素部位に選択されたポリマーフィルムを適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、ポリマーフィルムを堆積するためのポリマーの帯電した液滴又は該ポリマーを含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
iii)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
iv)前記液滴を前記規定された複数の画素部位に引き寄せる工程と;
v)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vi)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
vii)更なる選択されたポリマーフィルムを他の規定された画素部位に適用するために、工程i)から工程vi)を繰り返す工程と;
を含むものである。
前記連続相は、ヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン、ヘプタン、芳香族炭化水素、デカリン及びイソデカン、並びにExxonが製造するIsopas(登録商標)及びNorpars(登録商標)のような商業的に入手可能な炭化水素混合物から選択されてよい。また、該連続層は、フルオロカーボン化合物を含むフルオロ化学薬品から選択されてもよい。これらのフルオロ化学薬品は、一般には2〜16の炭素原子を含んでなり、これには線状、環状又は多環状のパーフルオロアルカン、ビス(パーフルオロアルキル)アルケン、パーフルオロエーテル、パーフルオロアルキルアミン、臭化パーフルオロアルキル及び塩化パーフルオロアルキルが含まれるが、これらに限定されない。フルオロカーボン溶媒の一つの商品名は、3M社のFluorinet(登録商標)である。連続相もまた、ポリフェニルメチルシロキサン、ジメチルポリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、環状ジメチルシロキサン等のようなシリコーン液から選択されてよい。
連続相はまた、ゲル又は高粘性液体であってもよい。
不連続層は上記で述べた種類の試薬であってよく、又は活性な化学試薬を担持する溶媒であってよい。あるいは、活性な化学試薬は、不連続層中に分散された個体又は不溶性液体であってよい。
また、本発明によるエマルジョンは、上記で述べたような電荷制御剤を含んでいてもよい。
次に、理解を助けるために、幾つかの詳細なプロセスを参照して本発明を一般的に説明するが、本発明はこれらプロセスに限定されるものではない。
本発明によるDNAアレイを形成するプロセスは、一つの実施形態においては下記の工程を含んでなるものである。
(a)基板: 平坦な基板が選択されるが、これは部分的に誘電体又は光伝導体である。即ち、電荷が形成又は印象されることができ、それによって選択された一以上の領域に電荷を形成し、又は選択された一以上の領域で電荷を放電することができる。
(b)基板の調製: 次に、バインダ分子が該基板上に共有結合される。このバインダ分子は一般に、基板の表面に共有結合される一つの部分と、化学的に除去可能な部分又は化学的に脱保護可能な部分を有しており、該部分は、脱保護に際して、化学的に除去可能な末端部分を有するリンカーが結合されている反応基を露出させる。この部分の選択的な除去は、ホスホロアミダイト形態におけるヌクレオシドが、DNAオリゴヌクレオチドを形成するように結合されることを可能にする。リンカー分子は、最終的に組立てられたDNAオリゴヌクレオチド(プローブ)を基板の表面から離間させるように延長させる機能を有し、それによって、蛍光体又は他の検出体に結合された一本鎖DNA又はRNA分子ファミリー等の他の被検DNA分子(ターゲット)へのさらに効率的なアクセスを提供して、ハイブリダイゼーションを促進する。次いで、結合された蛍光体又は他の種が直接分析される。バインダ分子を使用することなく、基板上に直接DNAアレイを構築してよい場合も幾つか存在するかもしれない。
(d)アレイの規定: 空間的に選択されたアレイ部位で電荷を放電させて静電荷パターンを残すために、基板は選択的に光照射される。あるいは、これらの選択された部位以外の基板の全ての部分で電荷を消失させてもよい。選択的光照射は、パルス化され、調節され、ステップ状の若しくは制御されたレーザの使用、又はマスク又は透明体のような種々の光学技術の使用、及び適切な焦点集光の使用によるものであってよい。好ましくは、DNAに対して有害である可能性があるので、該光照射はスペクトルの短波長紫外領域における光照射を含まないが、他のアレイ形態についてはUVを使用してもよい。あるいは、空間的に選択されたアレイ部位は、マスクを用いて、又は用いずに、選択的に帯電されてよい。
(f)脱保護工程: 前記基板上に本発明の帯電された液体エマルジョンを注ぐ。該エマルジョンはその連続相が絶縁性であり、その帯電された不連続相に溶液中の化学的脱保護試薬を有している。該試薬は電気的に帯電された場所に引き付けられ、化学的に除去可能な部分(保護基)と反応して当該部分を除去する。この化学的脱保護試薬は、好ましくはルイス酸、有機酸、又は無機酸である。当該エマルジョンの連続相は好ましくはフルオロ化学薬品であり、また不連続相は好ましくは有機溶媒である。前記界面活性剤は、好ましくはパーフルオロカーボン及び有機化合物の分子であり、パーフルオロカーボン部分はフルオロ化学薬品中に可溶性であり、有機化合物部分は有機溶媒中に可溶性である。当該反応を起こさせた後に、該エマルジョンは適切な溶媒により洗い流される。また、このエマルジョンを洗い流す前に、該エマルジョン中に残っている脱保護試薬を中和して、それが当該アレイの望ましくない部分で反応するのを防止するのが望ましい。
(h)キャッピング工程: 化学的キャッピングプロセスは、先に脱保護されたけれども、これに結合されたヌクレオシドを有していない全てのリンカー分子上に、永久的キャップ(例えばアセチル基)を配置するために使用される。これは、ホスホロアミダイトプロセスの既知の工程である。ヌクレオシド付加工程が完全又は実質的に完全であることが期待される場合は、このキャッピング工程は必要でないかもしれない。
(i)反復工程: 選択的光照射は異なるアレイ領域を放電するように、又は異なるアレイの領域に電荷を残すように構成されてよいこと、また化学的除去工程は、バインダ分子から、又は先に堆積された保護されたヌクレオチドから保護基を除去することを除いて、工程(c)〜(h)が反復される。反復は、おそらく60ヌクレオチド以上が結合されて、一以上の領域にDNAオリゴマーが形成されるまで実行される。これは、何れか一つの部位及び何れか一つのサイクルにおいて、四つのヌクレオチドA,C,G又はTの何れか一つが結合され得ることを保証するために、240サイクルまでを必要とするかもしれない。さらに長いオリゴマーを合成してもよい。
本発明の方法によりエマルジョンの不連続相中の試薬を選択的に適用することによって、基板上のアレイ又はチップ上に形成される一以上のDNAオリゴデオキシヌクレオチドの脱保護のような、空間選択的化学反応を可能にする構成が提供されることが、本発明によって一般に理解されるであろう。
本発明の静電的に帯電されたエマルジョンの空間的プロセスを使用した無電解堆積は、化学的に官能基コートされた光伝導体である基板を用いて達成することができ、あるいは、該基板はガラス又は化学的に抵抗性のポリマープラスチックであってもよい。ガラス若しくはプラスチックの場合、表面は、望ましい静電パターンに静電気的に帯電させ、該パターンに従って、不連続相中に化学触媒(例えば金属誘導体)又はプロモータを含有するエマルジョンを堆積させることができるであろう。静電的に帯電させる別の方法は、コンピュータ制御の電子ビームを用いた誘電体表面への書込みであることができるであろう。更なる方法は、ソフトリソグラフィーを使用して、誘電体基板表面にパターンを帯電させることであることができるであろう。ソフトリソグラフィーとは、導電性エラストマースタンプから、コンホメーション接触した誘電体基板へのパターンの転写に基づく高解像度の帯電技術を言う。
同様に、無電解メッキは半導体工業においても回路の堆積のために使用されており、本発明はこの技術にも同様に適用されるであろう。
次いで、先に脱保護され且つヌクレオシドが結合していない全てのリンカー分子上に、永久的なキャップ(例えばアセチル基)を配置するために、化学的キャッピングプロセス116を使用することができる。
この構成は図6に示されている。この場合、基板120は、例えば図4及び図5に示した方法により、その上に形成された負に帯電した領域122を有している。バイアス電圧プレート204が、負に帯電された液滴208をその中に有するエマルジョンと共に、基板200に近接して配置されている。電源212によって、導電層210に対して負の電圧が該バイアスプレートに印加される。負に帯電した液滴208は、負に帯電された領域202の間の中性領域214へと強制的に着床される。このプロセスは反転堆積と称することができる。
図8Aに示した最初の段階は、電気的に絶縁性の連続相81及び不連続相の液滴82からなるエマルジョン80を示している。この液滴は、リンカーを脱保護するための酸(H+A-)を担持しており、また、また正電荷86を担持しているが、この電荷は該液滴の本来のものであってもよく、又は界面活性剤87若しくは電荷制御剤88によって供給されてもよい。該エマルジョンは基板90上に配置されるが、該基板は、基板の全表面を覆うバインダ分子(B)92が化学的に結合された化学的官能層91を有している。バインダ分子上には、保護されたリンカー93が存在する。この場合、該リンカーはジメチルオキシトリチル(DMTr)基によって保護されている。94で指定された領域は、DNAチップセル又は機能領域である。
連続相 FC40 0.89mL
不連続層 トルエン中の5%ジクロロ酢酸(w/v) 0.1mL
F6H14(FC40中の1%、v/v) 0.01mL
F6H14は、Apollo Scientific Ltd,UKによって供給される半フッ素化アルキルアルカンである、1−(パーフルオロ−n−ヘキシル)テトラデカンである。
酸化亜鉛光伝導体は、アプライドリサーチ・オブ・オーストラリアPty Ltdによって供給されるものであり、アルミニウムメタライズされたPETフィルム上にコーティングされた絶縁性樹脂に結合された酸化亜鉛を含んでいる。
この実施例は、第一に、本発明の新規な帯電エマルジョンが基板上に選択的に堆積され得ることを示している。
エマルジョンは下記の成分を含有していた:
連続相 FC40 0.99mL
不連続相 DMSO中の1%Butvar72(w/v),
0.1%(w/v)クリスタルバイオレット 0.005mL
DMSO中の1%(w/v)Atlox4912 0.005mL
クリスタルバイオレットは、George T. Gurr、 Searle Scientific Services, Bucks, UKによって供給される。
FC40は、3Mが製造するフルオロカーボン溶媒である。
Butvar72は、Solutiaが製造するポリビニルブチラールである。
Atlox 4912は、 ICIのUniqema businessが製造する12−ヒドロキシステアリン酸ポリエチレングリコール共重合体である。
DMSOは、Ajax Fine Chemicals, Australiaによって供給された。
不連続相は、露光されなかった電荷パターンの領域にのみ堆積されて、紫色の着色を与えることが分かった。
エマルジョンは下記の成分を含有していた:
連続相 FC40 0.99mL
不連続相 両者共にDMSO中の1%Butvar72(w/v),
0.1%(w/v)ローダミンB 0.005mL
DMSO中の10%(w/v)AOT 0.005mL
ローダミンBは、SigmaAldrich Chemical Co.によって供給された。
不連続相は、露光されなかった電荷パターンの領域にのみ堆積されて、蛍光性のピンクの着色を与えることが分かった。
連続相 FC40 0.99mL
不連続相 DMSO中の1%Butvar72(w/v),
0.1%(w/v)クリスタルバイオレット 0.005mL
DMSO中の10%(w/v)SDS 0.005mL
SDSは、SigmaAldrich Chemicalsによって供給された。
不連続相は、露光されなかった電荷パターンの領域にのみ堆積されて、紫色の着色を与えることが分かった。
連続相 FC40 0.99mL
不連続相 DMSO中の1%Butvar72(w/v),
0.1%(w/v)クリスタルバイオレット 0.005mL
DMSO中の10%(w/v)FC134 0.005mL
FC134は、一般構造RfSO2NHC3H6N+(CH3)3I-の陽イオン性界面活性剤であり、ここでRf=CnF2n+1であり、nは大部分は8である。
不連続相は、露光されなかった電荷パターンの領域にのみ堆積されて、紫色の着色を与えることが分かった。
連続相 FC40 0.995mL
不連続相 DMSO中の10%クロロ金酸(w/v) 0.005mL
金溶液の選択的堆積は、白色の光伝導体上での紫のパターンとして現れた。
連続相 FC40 0.995mL
不連続相 DMSO中の10%クロロ金酸(w/v) 0.005mL
金溶液の選択的堆積は、透明なカバースリップ上の紫のパターンとして現れたが、加熱後に、該パターンは反射された光の中で金色に見えた。
連続相 FC40 0.995mL
不連続相 DMSO中の10%クロロ金酸(w/v) 0.005mL
金溶液の選択的堆積は、透明なカバースリップ上の紫のパターンとして現れたが、加熱後に、該パターンは反射された光の中で金色に見えた。
・誘電体表面上のオリゴデオキシヌクレオチド(その上に化学的ブロック基を持つ)の存在は、それが電荷パターンを受取ることを妨げないこと;
・予め作製されたオリゴデオキシヌクレオチド(保護基が除去されたもの)は、体積抵抗率に影響することなく、空間的に規定されたパターンで堆積され得ること;
・光伝導体表面は、それに結合された化学薬品(オリゴデオキシヌクレオチド)を空間的に規定されたパターンで有するように修飾され得ること。
次いで、製造業者のインストラクションに従ってエポキシスライドへのオリゴデオキシヌクレオチドの結合を行い、またGenePix 4000B(Axon Instruments Inc., Australia)の中で該スライドを走査することにより、それがマスクパターンの形態で存在することを確認した。
酸化亜鉛光伝導体のストリップに、無水アセトニトリル中のデオキシアデノシン−ホスホロアミダイト(ジメチルトリチル保護されたもの)の50mM溶液をドープし、55℃で30分間乾燥した。ジトリチル化エマルジョンは、次のようにして調製した:
連続相: FC−40 0.99mL
不連続相: テトラヒドロフラン中の50%(w/w)臭化亜鉛 0.01mL
これら成分を、Sonics & Materials Vibra−cell Model CV−17プローブシステム(USA)の1/4”l/4インチプローブを使用して、パワー設定4で4秒間超音波処理することにより乳化した。前記アミダイトドープした酸化亜鉛ストリップを負に帯電させ、続いてマスクを通しての光照射によりその上に電荷パターンの潜像を形成した後に、このエマルジョンのアリコートを塗布した。該ストリップは、エマルジョンを塗布する直前に、その表面の全体をFC−40で予め湿潤化した。アミダイトの脱保護の結果として生じる強いオレンジ色のジメトキシトリチル陽イオンの形成として、パターン化された脱トリチル化を観察した。ルイス酸である臭化亜鉛を担持したエマルジョン液滴が光照射に露出されなかったゾーン(それにより該ゾーンは負の電荷を維持している)に堆積されることによって示されるように、この脱トリチル化エマルジョンの液滴は正に帯電された。
ボロ珪酸塩ガラスのカバースリップ(24mm×50mm×0.13mm)をクロム酸で洗浄し、メトキシ基の前加水分解を可能にするために15分間混合しながら放置したトルエン中の5%(v/v)3−アミノプロピルトリメトキシシラン(APS)中で15分間インキュベーションすることによって、APSで誘導体化した。さらにトルエン中で15分間濯いだ後に、該カバースリップを110℃で60分間乾燥した。
次いで、該カバースリップを、Perspex(登録商標)の前面及びポリプロピレンの剛性背面を含んでなる反応チャンバの中にサンドイッチした。該チャンバの容積(0.25mL)は、試薬の導入及び排出を可能にするためにポリプロピレンを貫通する孔が加工されたViton(登録商標)「O」リングによって定義された。導入ポート及び排出ポートは、反応ブロックが、標準のオリゴ合成カラムの代りに、アプライド・バイオシステムズ394DNA/RNAシンセサイザーにインラインで適合され得るように設計された。
Sonics and MaterialsのVibra−cell Model CV−17プローブシステム:電力600ワット、 制御された電力及び一定時間で出力する乳化1/4”超音波処理器プローブのために使用される。
本明細書及び特許請求の範囲の全体を通して、文脈がそれ以外の解釈を必要としない限り、「具備する」及び「含む」の語、並びに「具備している」及び「含んでいる」のような変形は、記載された整数又は一群の整数を含むことを意味し、記載されていない整数又は一群の整数を排除しないことを意味するように理解されるであろう。
Claims (52)
- 基板上におけるマイクロメートル規模及びナノメートル規模の空間選択的な化学物質の堆積による製造方法であって:該方法は、
(a)前記基板上の少なくとも一つの領域に前記基板の他の領域における電荷とは異なる静電荷を形成することによって、前記少なくとも一つの領域を規定する工程と;
(b)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる選択的に堆積されるべき成分を含んでなる工程と;
(c)前記領域の電荷との間の引力又は斥力により、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に向けさせる工程と;
を具備する方法。 - 請求項1に記載の方法において、前記選択的に堆積されるべき成分が、生体活性剤、活性化されたヌクレオシドアミダイト(A,C,G又はT)、活性化されたオリゴヌクレオチド、酸及び塩基を含む試薬若しくは反応体、ブロッキング化学薬品、脱ブロッキング化学薬品、有機若しくは無機の誘導体化化学薬品、触媒、医薬、染料若しくは顔料からなる群から選択される方法。
- 請求項1に記載の方法であって、さらに、前記基板上の同じ位置又は別の位置において段階的な堆積プロセスを与え、また前記基板上でのコンビナトリアル合成を達成するために、工程(a)〜(c)の反復を実行する工程を含んでなる方法。
- 基板上におけるマイクロメートル規模及びナノメートル規模の空間選択的な化学物質の堆積による製造方法であって:該方法は、
(a)前記基板上の少なくとも一つの領域に前記基板の他の領域における電荷とは異なる静電荷を形成することによって、前記少なくとも一つの領域を規定する工程と;
(b)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる固相アレイの形成に寄与する化学試薬を有する工程と;
(c)必要とされない領域における堆積を低減するために、前記領域の静電荷による引力によって、任意にバイアス電圧の使用によって、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に堆積する工程と;
(d)前記少なくとも一つの領域において、化学反応又は物理反応を起こさせる工程と;
(e)前記エマルジョンを除去する工程と;
を具備する方法。 - 請求項4に記載の方法であって、さらに、前記基板上の同じ位置又は別の位置において段階的な堆積プロセスを与えるために、工程(a)〜(e)の反復を実行する工程を含んでなる方法。
- 請求項4に記載の方法であって、さらに、前記基板に更なる試薬を注ぐ工程を含んでなり、ここで前記更なる試薬の反応は、先に空間選択的堆積が生じた場所でのみ生じる方法。
- 段階的反応プロセスを使用することにより、基板上に固相化学アレイを形成する方法であって:該方法は、
(a)前記基板上の少なくとも一つの領域に前記基板の他の領域における電荷とは異なる静電荷を形成することによって、前記少なくとも一つの領域を規定する工程と;
(b)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相液滴及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる化学試薬を有する工程と;
(c)必要とされない領域における堆積を低減するために、前記領域の静電荷によって、任意にバイアス電圧の使用によって、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に堆積する工程と;
(d)前記少なくとも一つの領域において、化学反応を起こさせる工程と;
(e)前記エマルジョンを除去する工程と;
(f)前記段階的反応プロセスの後続の工程を実施する工程と;
を具備する方法。 - 請求項6に記載の方法であって、前記基板にエマルジョンを塗布する工程は、該エマルジョンを塗布する前に、前記基板に連続相の液体又はもう一つの液体のコーティングを塗布する工程を含んでなる方法。
- 各結合工程の前に脱保護工程を備えた段階的結合プロセスを使用して、基板上にDNAアレイを形成する方法であって:該方法は、
(a)除去可能な保護基により保護された表面官能基を備えた基板を調製する工程と;
(b)前記基板上の少なくとも一つの領域に、前記基板の他の領域における電界とは異なる電界を形成することによって、前記一つの領域を規定する工程と;
(c)前記基板にエマルジョンを塗布し、該エマルジョンは、帯電した不連続相液滴及び該不連続相の中に担持された化学的脱保護剤を有する工程と;
(d)必要とされない領域における堆積を低減するために、前記領域の電界によって、任意にバイアス電圧の使用によって、前記エマルジョンの不連続相を前記少なくとも一つの領域に堆積する工程と;
(e)前記少なくとも一つの領域において、化学的脱保護を起こさせる工程と;
(f)前記エマルジョンを除去する工程と;
(g)前記段階的結合プロセスの後続の工程を実施する工程と;
を含んでなる方法。 - 請求項9に記載の方法であって、前記段階的結合プロセスの後続の工程が、オリゴデオキシヌクレオチドを合成するためのホスホロアミダイト化学における工程である方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンの連続相は、約1×106オーム・cm以上の体積抵抗率を有する電気的に絶縁性の液体を含んでなる方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンの連続相が、ヘキサン、シクロヘキサン、イソオクタン、デカリン、ヘプタン、芳香族炭化水素、及びイソデカンのような炭化水素並びに炭化水素の混合物;線状、環状、又は多環状のパーフルオロアルカン、ビス(パーフルオロアルキル)アルケン、パーフルオロエーテル、パーフルオロアルキルアミン、臭化パーフルオロアルキル及び塩化パーフルオロアルキルを含むフルオロ炭素化合物を含むフルオロ化学薬品;ポリフェニルメチルシロキサン、ジメチルポリシロキサン、ポリジメチルシロキサン、及び環状ジメチルシロキサンのようなシリコーン液を含んでなる群から選択される方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンの連続相が、ゲル又は高粘性液体である方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンの不連続相は、非水性で前記連続相と混和せず又は連続相中に実質的に不溶性である方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンの不連続相は、試薬、活性化学試薬を担持する溶媒、又は該不連続相中に分散された固体又は不溶性液体のためのキャリア液を含んでなる群から選択される方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンの不連続相は、アセトン、アセトニトリル、シクロヘキサノン、ジブロモメタン、ジクロロメタン(塩化メチレン、DCM)、トリクロロメタン、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジオキサン、1,2−ジクロロエタン(DCE)、ニトロメタン、テトラヒドロフラン、トルエン、デカリン、ジメチルホルムアミド、イソブタノール、プロピレンカーボネート、ジメチルスルホキシド、並びにIsopar(登録商標)及びNorpar(登録商標)を含む商業的に入手可能な炭化水素の混合物、又はイソプロパノール/塩化メチレン、ニトロメタン/メタノール、ニトロメタン/イソプロパノール、トリクロロメタン/メタノール、若しくはイソプロパノール/塩化メチレンのような化合物の混合物を含んでなる群から選択される方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンはさらに電荷制御剤を含んでなる方法。
- 請求項17に記載の方法であって、前記電荷制御剤は、無機酸及びその塩、有機酸及びその塩、又はイオン性若しくは双性イオン性化合物を含んでなる群から選択される方法。
- 請求項17に記載の方法であって、前記電荷制御剤は金属及び酸を含んでなる金属石鹸から選択され、ここでの金属はバリウム、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウム、亜鉛、カドミウム、アルミニウム、ガリウム、鉛、クロム、マンガン、鉄、ニッケル、ジルコニウム、及びコバルトが含まれ、また前記酸部分はカルボン酸、カプロン酸、オクタン(カプリル)酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、エルカ酸、タリチン酸(tallitic acid)、レシン酸(resinic acid)、ナフテン酸、及びコハク酸;リン脂質又はアルキルスクシンイミドから選択される方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンが約20〜99.99容量パーセントの範囲で存在する連続相、約0.01〜80容量パーセントの範囲で存在する不連続層、任意に0.01〜20重量パーセントの範囲で存在する界面活性剤、及び任意に0.01〜10重量パーセントの範囲で存在する電荷制御剤を含んでなる方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンが、約100μm〜0.2μmの液滴サイズを有する不連続相を含んでなる方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンが、500ナノメートル〜約50ナノメートルの液滴サイズを有する不連続相を備えたミニエマルジョンを含んでなる方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンが、200ナノメートル〜1ナノメートルの液滴サイズを有する不連続相を備えたミクロエマルジョンを含んでなる方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記基板上に静電荷を形成することによって前記基板の少なくとも一つの領域を規定する工程は、非帯電領域における堆積を可能にする画像反転の工程を含む方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記静電画像パターンの形成工程は静電気的手段によるものであり、ここで前記基板は光伝導体であり、また前記静電界の形成は帯電及びその後の選択的光照射による放電によるものである方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンを除去する工程は、前記エマルジョン中に残留する何れかの化学的脱キャッピング剤を、それが前記アレイの望ましくない部分において反応するのを防止するために中和する工程を含んでいる方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記化学的脱保護剤が、ルイス酸、プロトン酸、臭化亜鉛、四塩化チタン、硝酸セリンアンモニウム、希鉱酸、トリクロロ酢酸(TCA)、ジクロロ酢酸(DCA)、ベンゼンスルホン酸、トリフルオロ酢酸(TFA)、ジフルオロ酢酸、過塩素酸、オルトリン酸、トルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、及びジフェニル酸ホスフェートを含んでなる群から選択される方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記エマルジョンはさらに界面活性剤を含み、該界面活性剤は連続相と相溶性の第一の部分及び不連続相と相溶性の第二の部分を有し、また該界面活性剤は前記連続相の体積低効率を有意に低下させないように選択される方法。
- 請求項28に記載の方法であって、前記界面活性剤は、陰イオン性、陽イオン性、非イオン性、又は両イオン性の化合物、ポリマー界面活性剤物質、リン脂質、又はこれらのフッ素化類縁体を含んでなる群から選択される方法。
- 請求項9に記載の方法であって、前記基板は、支持体、該支持体上の伝導体層、電荷を保持する材料の誘電体若しくは光伝導体層、及び化学的官能層を含んでなる方法。
- 請求項30に記載の方法であって、前記基板は、金属、ガラス、セラミック、又はポリマー材料を含んでなる群から選択される方法。
- 請求項30に記載の方法であって、前記伝導体層は、金属のスパッタ層、酸化インジウムスズ、又は第四級アンモニウム塩のような塩を含んでなる群から選択される方法。
- 請求項30に記載の方法であって、前記誘電体層又は光伝導体層は、ガラス、Mylar(PET,ポリエチレンテレフタレート)のようなポリマー樹脂、酸化亜鉛、硫化カドミウム、非晶質セレン、又はセレン−テルル、セレン化鉛、セレン−砒素のようなセレン合金、及びポリビニルカルバゾール(PVK)を含んでなる群から選択される方法。
- 別々に照明可能な画素を有するタイプのフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって:該方法は、
i)複数の画素部位を規定する発光ダイオードアレイをもった基板を準備する工程であって、各画素部位が電極を含む工程と;
ii)選択された画素部位の電極に電荷を印加する工程と;
iii)着色剤を適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は絶縁性液体及び選択された色の帯電された着色剤を含む工程と;
iv)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
v)前記着色剤を前記選択された画素部位に引き寄せる工程と;
vi)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vii)前記着色剤を前記基板に固定する工程と;
viii)他の選択された色の更なる着色剤を他の選択された画素部位に適用するために、工程ii)から工程vii)を繰り返す工程と;
を具備する方法。 - 請求項34に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記選択された色には、赤色、緑色及び青色が含まれる方法。
- 請求項34に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記LEDアレイのうちの選択されたものを活性化させることによって、前記電荷が前記選択された画素部位に印加される方法。
- 請求項34に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記発光ダイオードが有機発光ダイオードである方法。
- 請求項34に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記絶縁性液体が、炭化水素液、シリコーン液、塩素化炭化水素及びパーフルオロカーボンから選択される方法。
- 請求項34に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記着色剤はエマルジョンの不連続相である帯電した液滴であるか、又は該液滴の中に組込まれる方法。
- 請求項34に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記基板は、ガラス、ポリエステル箔、ポリカーボネート、Mylar(登録商標)、ステンレス鋼等から選択される方法。
- 請求項34に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記基板は、酸化インジウム錫(ITO)のコーティングを含んでいる方法。
- 別々に照明可能な画素を有するタイプのフラットスクリーンンディスプレーを製造する方法であって:該方法は、
i)複数の画素部位を規定する伝導体アレイをもった基板を準備する工程であって、各画素部位が電極を含む工程と;
ii)選択された画素部位の電極に電荷を印加する工程と;
iii)前記選択された画素部位に選択されたポリマーフィルムを適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、ポリマーフィルムを堆積するためのポリマーの帯電した液滴又は該ポリマーを含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
iv)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
v)前記液滴を前記選択された画素部位に引き寄せる工程と;
vi)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vii)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
viii)更なる選択されたポリマーフィルムを他の選択された画素部位に適用するために、工程ii)から工程vii)を繰り返す工程と;
を具備する方法。 - 請求項42に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記ポリマーは、ポリ(フェニレンビニレン)(PPV)、パリレン、ポリビニルカルバゾール(PVK)及びポリフルオレンを含んでなる群から選択される、エレクトロルミネッセンスを示す材料である方法。
- 別々に照明可能な画素を有するタイプのフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって:該方法は、
i)複数の画素部位を規定する導電体アレイをもった基板を準備する工程であって、各画素部位が電極を含む工程と;
ii)前記複数の画素部位の全ての電極に電荷を印加する工程と;
iii)選択された画素部位に選択されたポリマーフィルムを適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、ポリマーフィルムを堆積するためのポリマーの帯電した液滴又は該ポリマーを含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
iv)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
v)前記帯電した液滴を前記選択された画素部位に引き寄せる工程と;
vi)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vii)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
viii)前記複数の画素部位の電極うちの選択された電極に電荷を印加する工程と;
ix)選択された画素部位に染料を適用するために適合された第二の液体組成物を準備する工程であって、該第二の液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、前記ポリマーフィルム上に堆積させる前記染料の帯電した液滴又は該染料を含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
x)前記第二の液体組成物を前記基板上に配置する工程と;
xi)前記帯電した液滴を前記選択された画素部位に引寄せる工程と;
xii)過剰な液体組成物を前記基板から除去する工程と;
xiii)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
xiv)更なる選択された染料を他の選択された画素部位に適用するために、工程iii)から工程xiii)を繰り返す工程と;
を具備する方法。 - 請求項44に記載のフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって、前記基板に固定化されるポリマーフィルムは光伝導体であり、前記工程ix)は画素部位の選択的光照射によって達成される方法。
- 別々に照明可能な画素を有するタイプのフラットスクリーンディスプレーを製造する方法であって:該方法は、
i)基板上に静電気アレイのパターンを発生させることによって、前記基板上に複数の画素部位を規定する工程と;
ii)前記規定された画素部位に選択されたポリマーフィルムを適用するために適合された液体組成物を準備する工程であって、該液体組成物は、絶縁性液体を含有する連続相と、ポリマーフィルムを堆積するためのポリマーの帯電した液滴又は該ポリマーを含む帯電した液滴を含有する不連続相とを具備したエマルジョンを含んでなる工程と;
iii)前記基板上に前記液体組成物を配置する工程と;
iv)前記液滴を前記規定された複数の画素部位に引き寄せる工程と;
v)前記基板から過剰な液体組成物を除去する工程と;
vi)前記ポリマーを前記基板に固定する工程と;
vii)更なる選択されたポリマーフィルムを他の規定された画素部位に適用するために、工程i)から工程vi)を繰り返す工程と;
を具備する方法。 - 請求項34の方法により形成されたフラットスクリーンpディスプレーパネル。
- 請求項42の方法により形成されたフラットスクリーンディスプレーパネル。
- 請求項43の方法により形成されたフラットスクリーンディスプレーパネル。
- 請求項45の方法により形成されたフラットスクリーンディスプレーパネル。
- 請求項8の方法により形成された基板上のDNAアレイ。
- 請求項1の方法により形成された基板上における、マイクロメートル規模及びナノメートル規模での化学物質の空間選択的堆積。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007525554A (ja) * | 2003-06-30 | 2007-09-06 | ロウステック プロプライエタリー リミテッド | マイクロ及びナノスケールでの物質の位置特異的な沈着のための帯電したエマルション |
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Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8084400B2 (en) | 2005-10-11 | 2011-12-27 | Intermolecular, Inc. | Methods for discretized processing and process sequence integration of regions of a substrate |
US8691667B1 (en) * | 2004-12-30 | 2014-04-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method and apparatus for depositing a pattern on a substrate |
WO2006133265A2 (en) * | 2005-06-07 | 2006-12-14 | Northeastern University | Directed assembly of a conducting polymer |
US7902063B2 (en) | 2005-10-11 | 2011-03-08 | Intermolecular, Inc. | Methods for discretized formation of masking and capping layers on a substrate |
US8776717B2 (en) | 2005-10-11 | 2014-07-15 | Intermolecular, Inc. | Systems for discretized processing of regions of a substrate |
US8772772B2 (en) | 2006-05-18 | 2014-07-08 | Intermolecular, Inc. | System and method for increasing productivity of combinatorial screening |
US7595150B2 (en) * | 2006-06-30 | 2009-09-29 | Searete Llc | Method of applying an elongated molecule to a surface |
US8815013B2 (en) | 2006-07-19 | 2014-08-26 | Intermolecular, Inc. | Method and system for isolated and discretized process sequence integration |
US8011317B2 (en) | 2006-12-29 | 2011-09-06 | Intermolecular, Inc. | Advanced mixing system for integrated tool having site-isolated reactors |
US8366974B2 (en) * | 2008-12-04 | 2013-02-05 | Northwestern University | Nanoscale lamellar photoconductor hybrids and methods of making same |
US8753498B2 (en) | 2009-06-25 | 2014-06-17 | Purdue Research Foundation | Open optoelectrowetting droplet actuation device and method |
US10060851B2 (en) | 2013-03-05 | 2018-08-28 | Plexense, Inc. | Surface plasmon detection apparatuses and methods |
KR101592241B1 (ko) | 2013-04-15 | 2016-02-05 | (주)플렉센스 | 나노 입자 어레이의 제조 방법, 표면 플라즈몬 공명 기반의 센서, 및 이를 이용한 분석 방법 |
KR101712660B1 (ko) * | 2015-09-14 | 2017-03-06 | 안성룡 | 레진을 이용한 소재 합착 방법 |
CN107162056B (zh) * | 2017-06-16 | 2019-05-31 | 常州大学 | 细乳液胶体内可控形成纳米核壳硫化金属盐的制备方法 |
CN108088792B (zh) * | 2017-11-27 | 2021-04-02 | 中国船舶重工集团公司第七二五研究所 | 一种中间垢样及其制备方法与应用 |
US20220380928A1 (en) * | 2021-05-29 | 2022-12-01 | Nissan North America, Inc. | Method and system of powder coating a vehicle component |
CN113804656B (zh) * | 2021-09-15 | 2023-09-12 | 西南石油大学 | 一种多方向固相沉积激光测定装置和方法 |
KR20230114045A (ko) * | 2022-01-24 | 2023-08-01 | 재단법인 멀티스케일 에너지시스템 연구단 | 전도성 부유 마스크를 이용한 3차원 구조물의 제조방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0486602A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
WO2003002675A1 (en) * | 2001-06-26 | 2003-01-09 | 3M Innovative Properties Company | Selective deposition of circuit-protective polymers |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1008101A (en) | 1961-04-14 | 1965-10-27 | Rank Xerox Ltd | Improvements in xerographic development |
US6866760B2 (en) * | 1998-08-27 | 2005-03-15 | E Ink Corporation | Electrophoretic medium and process for the production thereof |
DE69841614D1 (de) * | 1997-06-20 | 2010-05-27 | Univ New York | Elektrosprühen von lösungen zur massenherstellung von chips und molekülbibliotheken |
US6093302A (en) * | 1998-01-05 | 2000-07-25 | Combimatrix Corporation | Electrochemical solid phase synthesis |
US6203985B1 (en) | 1998-09-08 | 2001-03-20 | Motorola, Inc. | Bio-molecule analyzer with photosensitive material and fabrication |
US6326149B1 (en) | 1998-11-03 | 2001-12-04 | Sarnoff Corporation | Method for controlled electrostatic adherent deposition of particles on a substrate |
US20020094528A1 (en) * | 2000-11-29 | 2002-07-18 | Salafsky Joshua S. | Method and apparatus using a surface-selective nonlinear optical technique for detection of probe-target interations |
EP1409128A2 (de) | 2001-07-17 | 2004-04-21 | Frieder Breitling | Verfahren und anordnung zum anbringen von in transportmitteln immobilisierten substanzen sowie monomerpartikel |
US7455757B2 (en) * | 2001-11-30 | 2008-11-25 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Deposition method for nanostructure materials |
ES2191553B2 (es) | 2002-01-22 | 2005-02-01 | Universitat Rovira I Virgili | Metodo para la fabricacion de chips para la deteccion de analitos. |
US7147763B2 (en) | 2002-04-01 | 2006-12-12 | Palo Alto Research Center Incorporated | Apparatus and method for using electrostatic force to cause fluid movement |
US20040050701A1 (en) * | 2002-09-13 | 2004-03-18 | Mcentee John Francis | Electrostatically guiding ionized droplets in chemical array fabrication |
-
2004
- 2004-06-30 KR KR1020057025436A patent/KR101222564B1/ko not_active IP Right Cessation
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0486602A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-19 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
WO2003002675A1 (en) * | 2001-06-26 | 2003-01-09 | 3M Innovative Properties Company | Selective deposition of circuit-protective polymers |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007525554A (ja) * | 2003-06-30 | 2007-09-06 | ロウステック プロプライエタリー リミテッド | マイクロ及びナノスケールでの物質の位置特異的な沈着のための帯電したエマルション |
JP2013515361A (ja) * | 2009-12-22 | 2013-05-02 | メルク パテント ゲーエムベーハー | 機能性材料を含む調合物 |
JP2018104392A (ja) * | 2016-12-28 | 2018-07-05 | ポーラ化成工業株式会社 | 粉体粒子表面の改質方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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---|---|---|
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