JP2007506862A - Aluminum-magnesium alloy electrodeposition electrolyte - Google Patents
Aluminum-magnesium alloy electrodeposition electrolyte Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007506862A JP2007506862A JP2006527396A JP2006527396A JP2007506862A JP 2007506862 A JP2007506862 A JP 2007506862A JP 2006527396 A JP2006527396 A JP 2006527396A JP 2006527396 A JP2006527396 A JP 2006527396A JP 2007506862 A JP2007506862 A JP 2007506862A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrolyte
- compound
- magnesium
- aluminum
- alkylmagnesium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims abstract description 8
- SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N aluminum magnesium Chemical compound [Mg].[Al] SNAAJJQQZSMGQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 19
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 34
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- -1 alkyl magnesium compound Chemical class 0.000 claims description 8
- QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N iso-pentane Natural products CCC(C)C QWTDNUCVQCZILF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 5
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 claims description 5
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 5
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 5
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims description 4
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 12
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 125000002734 organomagnesium group Chemical group 0.000 description 6
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 229910018134 Al-Mg Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910018467 Al—Mg Inorganic materials 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N dimethyl butane Natural products CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 150000002681 magnesium compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N rubidium atom Chemical compound [Rb] IGLNJRXAVVLDKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 101100058670 Aeromonas hydrophila subsp. hydrophila (strain ATCC 7966 / DSM 30187 / BCRC 13018 / CCUG 14551 / JCM 1027 / KCTC 2358 / NCIMB 9240 / NCTC 8049) bsr gene Proteins 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000005486 organic electrolyte Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/42—Electroplating: Baths therefor from solutions of light metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
本発明は、少なくとも一つの式ＭＡｌＲ4の有機アルミニウム錯体化合物、又はその混合物、及びアルキルマグネシウム化合物を含有し、ここでＭはＮａ、Ｋ、Ｒｂ又はＣｓを表し、かつＲはＣ1−Ｃ10アルキル基、好ましくはＣ1−Ｃ4アルキル基を表す、アルミニウム−マグネシウム合金の電着用電解質に関する。本発明は、電解質の製造方法、被覆方法、及び電解質にも関する。
【選択図】なしThe present invention contains at least one organoaluminum complex compound of formula MAlR 4 , or a mixture thereof, and an alkylmagnesium compound, where M represents Na, K, Rb or Cs, and R is C 1 -C 10. alkyl group, preferably a C 1 -C 4 alkyl group, an aluminum - related electrodeposition electrolytes magnesium alloy. The present invention also relates to an electrolyte production method, a coating method, and an electrolyte.
[Selection figure] None
Description
本発明は、アルミニウム−マグネシウム合金の電着(galvanic deposition)用電解質に関し、該電解質は少なくとも一つの有機アルミニウム錯体化合物及びアルキルマグネシウム化合物を含む。本発明はまた、前記電解質の製造方法、被覆方法、その電解質の使用及び電解キットにも関する。 The present invention relates to an electrolyte for galvanic deposition of an aluminum-magnesium alloy, the electrolyte comprising at least one organoaluminum complex compound and an alkylmagnesium compound. The present invention also relates to a method for producing the electrolyte, a coating method, use of the electrolyte, and an electrolysis kit.
最近、マグネシウム−アルミニウム有機錯体化合物がアルミニウム−マグネシウム合金の電着用に使用されており、これがＷＯ ００／３２８４７Ａ１に記載されている。アルミニウム−マグネシウム層をつけた結果としての優れた耐食保護性故に、そしてその生態的安全性故に、金属加工品のアルミニウム−マグネシウム合金を用いた電解塗装への関心が急速に高まっている。従って、閉鎖系において６０から１５０℃の温度範囲で操作されるマグネシウム−アルミニウム−有機電解質を使用する電気メッキが主要となっており技術的な重要性を高めている。 Recently, magnesium-aluminum organic complex compounds have been used for electrodeposition of aluminum-magnesium alloys, which are described in WO 00/32847 A1. Due to the excellent corrosion protection as a result of applying the aluminum-magnesium layer, and because of its ecological safety, interest in electrolytic coating using aluminum-magnesium alloys in metal workpieces is rapidly increasing. Therefore, electroplating using a magnesium-aluminum-organic electrolyte operated in a temperature range of 60 to 150 ° C. in a closed system has become the main, increasing the technical importance.
ＷＯ ００／３２８４７Ａ１において、一般タイプＭＡｌＲ4の錯体化合物及びアルキルアルミニウムＡｌＲ3を組合せたその混合物が、特に好適な電解質として示唆されている。それらは液状芳香族炭化水素溶液の形で使用される。Ｍはナトリウム、カリウム、ルビジウム及びセシウムのようなアルカリ金属であり得て、Ｒは好ましくは１、２、又は４個の炭素数を有するアルキル残基を表す。 In WO 00/32847 A1, a complex compound of the general type MAlR 4 and a mixture of alkylaluminum AlR 3 is suggested as a particularly suitable electrolyte. They are used in the form of liquid aromatic hydrocarbon solutions. M can be an alkali metal such as sodium, potassium, rubidium and cesium, and R preferably represents an alkyl residue having 1, 2, or 4 carbon atoms.
しかしながら、そのような電解質系の使用には、致命的に不利な点がある。最新の公知のこれらの系は、要求される有機マグネシウム錯体化合物が電解質中に最初は存在せず、かつ複雑な電気化学的なその場製造が、電解質を使用したい時点で必要となるという特性を有する。従って、使用状態にある出発混合物は、有機アルミニウム化合物のみを含有し、マグネシウム化合物は含まないのである。例えば、そのような出発混合物の典型的な組成としては、Ｍ１ＡｌＲ４とＭ２ＡｌＲ４のモル比で１：０．１から０．１：１が挙げられ、ここでＭ１はＭ２と異なり、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ特にＮａ、Ｋである。ＡｌＲ３／（Ｍ１ＡｌＲ４＋Ｍ２ＡｌＲ４）／芳香族炭化水素の全成分のモル比は、１：０．１：１から１：２：１０、特に１：１：３から１：１：５の範囲である。 However, the use of such electrolyte systems has a fatal disadvantage. These latest known systems have the property that the required organomagnesium complex compounds are not initially present in the electrolyte, and complex electrochemical in situ production is required at the point where the electrolyte is desired. Have. Thus, the starting mixture in use contains only organoaluminum compounds and no magnesium compounds. For example, a typical composition of such a starting mixture includes a molar ratio of M1AlR4 to M2AlR4 of 1: 0.1 to 0.1: 1, where M1 is different from M2 and Na, K, Rb , Cs, especially Na, K. The molar ratio of all components of AlR3 / (M1AlR4 + M2AlR4) / aromatic hydrocarbon ranges from 1: 0.1: 1 to 1: 2: 10, in particular from 1: 1: 3 to 1: 1: 5.
そのような電解質において、上記のマグネシウムを含まない出発電解質が、塗装に好適な電解セル中に最初に置かれる。その後、別のアルミニウム電極とマグネシウム電極又はアルミニウム−マグシウム混合電極を用い、通電によって、塗装に必要なマグネシウム錯体濃度が電解質中で達成されるまで、要求される有機マグネシウム錯体が電気化学的にその場生成される。 In such an electrolyte, the magnesium-free starting electrolyte is first placed in an electrolytic cell suitable for painting. The required organomagnesium complex is then electrochemically in situ until the magnesium complex concentration required for painting is achieved in the electrolyte by energization using another aluminum electrode and a magnesium electrode or mixed aluminum-magnesium electrode. Generated.
更に、系中では必要なマグシウム錯体濃度に到達するより前の時点で既にアルミニウム−マグシウム層の沈着が起こり、そのことは、これらの層が適切なＡｌとＭｇの組成を有しない故に望ましくない。それ故に、沈着したアルミニウム−マグシウム層を集めるためのダミーの金属シートを系中に取付けなければならない。ダミーの金属シート上への沈着は、要求されるアルミニウム−マグシウム錯体濃度に到達するまで続けられる。その後、このダミーの金属シートが除去され、かつ望みのアルミニウム−マグシウム組成物、例えば、Ａｌ：Ｍｇ＝７５：２５モル％を有する望みの層が基板上に沈着される。ダミーの金属シートは廃棄されるか更なる使用のために複雑な洗浄に回されなければならない。 Furthermore, deposition of aluminum-magnesium layers has already occurred in the system prior to reaching the required magnesium complex concentration, which is undesirable because these layers do not have the proper Al and Mg composition. Therefore, a dummy metal sheet to collect the deposited aluminum-magnesium layer must be installed in the system. Deposition on the dummy metal sheet is continued until the required aluminum-magnesium complex concentration is reached. The dummy metal sheet is then removed and a desired layer having the desired aluminum-magnesium composition, eg, Al: Mg = 75: 25 mol%, is deposited on the substrate. The dummy metal sheet must be discarded or sent to complex cleaning for further use.
上の記述から、この方法が非常に複雑であり、対応する望みのアルミニウム−マグシウム濃度が得られるまでの長い予備的運転時間を要することが容易に分かるであろう。更に、使用されるダミーの金属シートの取付け、取外し及び洗浄によって付加的作業工程が生じる。このため、ＷＯ ００／３２８４７Ａ１において特に有効であると認定されているこの電解質溶液は、上記全ての不利な点を有するため、実際の塗装に先立つ調整段階における有機マグネシウム錯体の上記電気化学的製造を介してのみ採用され得る。 From the above description, it will be readily apparent that this method is very complex and requires a long preliminary run time until the corresponding desired aluminum-magnesium concentration is obtained. In addition, additional work steps occur due to the installation, removal and cleaning of the dummy metal sheets used. For this reason, this electrolyte solution, which is recognized as being particularly effective in WO 00/32847 A1, has all the disadvantages described above, and therefore the electrochemical production of the organomagnesium complex in the adjustment stage prior to actual coating. Can only be adopted through
更に、対応するマグネシウム化合物を電解質に直接添加することは、先行技術ＷＯ ００／３２８４７Ａ１から公知であり、それによると上記調整段階が省略できる。ここでは、マグネシウム−アルキルアルミニウム錯体、Ｍｇ［Ａｌ（Ｅｔ）4］2が電解質中に採用される。この方法は上記錯体が工業的に入手できず、その製造が非常に複雑かつ高価であるため、実験室規模では実施され得る一方、工業規模では実施できないという欠点を有する。 Furthermore, it is known from prior art WO 00/32847 A1 to add the corresponding magnesium compound directly to the electrolyte, whereby the adjustment step can be omitted. Here, a magnesium-alkylaluminum complex, Mg [Al (Et) 4 ] 2 is employed in the electrolyte. This method has the disadvantage that the complex is not commercially available and its production is very complicated and expensive, so that it can be carried out on the laboratory scale but not on the industrial scale.
経済的かつ効果的に実施できる、基板をＡｌ−Ｍｇで塗装するための工業的方法のための適切な電解質は、今日まで知られていない。アルミニウム−マグネシウム合金の電着用電解質の更なる開発が経済的かつ生態的問題において、大きな技術的重要性を有し、かつ、大きな関心の的である。 To date, no suitable electrolyte for industrial methods for coating substrates with Al—Mg that can be implemented economically and effectively is known. The further development of aluminum-magnesium alloy electrodeposition electrolytes has great technical importance and is of great interest in economic and ecological problems.
従って、本発明の技術的目的は、好ましくは簡単に、効率的にかつ安価に製造できそして、アルミニウム−マグネシウムの被覆方法の商業的導入を可能ならしめ、かつ、有機Ｍｇ錯体を形成するための上記調整段階の必要がない電解質を供することである。 The technical object of the present invention is therefore preferably to be simple, efficient and inexpensive to manufacture, to enable commercial introduction of an aluminum-magnesium coating method and to form organic Mg complexes. It is to provide an electrolyte that does not require the adjustment step.
少なくとも一つの式ＭＡｌＲ4の有機アルミニウム錯体化合物、又はその混合物、及びアルキルマグネシウム化合物を含有し、ここでＭはナトリウム、カリウム、ルビジウム又はセシウムを表し、かつＲはＣ1−Ｃ10アルキル基、好ましくはＣ1−Ｃ4アルキル基を表す、アルミニウム−マグネシウム合金の電着用電解質の手段によって、上記の技術的目的が達成される。特に、好ましい態様においては、本電解質がトリアルキルアルミニウム化合物を追加して含有する。 Containing at least one organoaluminum complex compound of formula MAlR 4 , or a mixture thereof, and an alkyl magnesium compound, wherein M represents sodium, potassium, rubidium or cesium, and R is a C 1 -C 10 alkyl group, preferably represents a C 1 -C 4 alkyl group, aluminum - by means of electrodeposition the electrolyte of the magnesium alloy, the above-mentioned technical objects are achieved. In particular, in a preferred embodiment, the electrolyte additionally contains a trialkylaluminum compound.
特に好ましい態様においては、ＡｌＲ3、Ｍ1ＡｌＲ4、Ｍ2ＡｌＲ4及びＭｇ（Ｒ1）x（Ｒ2）yを含み、ここでＭ1とＭ2は互いに異なり、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ又はＣｓを表し、ＲはＣ1−Ｃ10アルカリ基、好ましくはＣ1−Ｃ4アルカリ基を表し、Ｒ1とＲ2は独立してＣ1−Ｃ20、好ましくはＣ2−Ｃ10アルカリ基を表し、かつｘ＝０から２、かつｙ＝０から２、かつｘ＋ｙ＝２である、電解質が使用される。 In a particularly preferred embodiment, it comprises AlR 3 , M 1 AlR 4 , M 2 AlR 4 and Mg (R 1 ) x (R 2 ) y , where M 1 and M 2 are different from each other and Na, K, Rb or represents cs, R is C 1 -C 10 alkali group, preferably represents a C 1 -C 4 alkali group, C 1 -C 20 R 1 and R 2 are independently preferably C 2 -C 10 alkali group And x = 0 to 2, y = 0 to 2, and x + y = 2 are used.
驚くべきことに、本発明の電解質が、実際の被覆プロセスの前の、時間がかかりかつ高価な調製段階において、有機マグネシウム錯体のその場製造を必要としないで、アルミニウム−マグネシウム合金による材料の被覆に使用できることが分かった。 Surprisingly, the electrolyte of the present invention can be used to coat materials with aluminum-magnesium alloys without the need for in situ production of organomagnesium complexes in a time-consuming and expensive preparation stage prior to the actual coating process. It was found that it can be used.
好ましい態様においては、アルキルマグネシウム化合物が、アルミニウム錯体に対して０．０１から１０モル％、好ましくは０．１から１モル％の量で電解質中に含まれる。特に好ましくは、電解質中で使用されるアルキルマグネシウム化合物が、ブチル1.5オクチル0.5マグネシウム、ブチル1.0エチル1.0マグネシウム、ｓｅｃ−ブチル1.0ｎ−ブチル1.0マグネシウム又はそれらの混合物のグループから選ばれる。 In a preferred embodiment, the alkylmagnesium compound is included in the electrolyte in an amount of 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 1 mol%, relative to the aluminum complex. Particularly preferably, the alkylmagnesium compound used in the electrolyte is selected from the group of butyl 1.5 octyl 0.5 magnesium, butyl 1.0 ethyl 1.0 magnesium, sec-butyl 1.0 n-butyl 1.0 magnesium or mixtures thereof.
この有機アルミニウム錯体化合物とアルキルマグネシウム化合物は好ましくは有機溶媒中に存在する。特に好ましい態様においては、この有機溶媒が芳香族溶媒であり、その場合ベンゼン、トルエン又はキシレン又はそれらの混合物のような溶媒が使用できる。 The organoaluminum complex compound and the alkylmagnesium compound are preferably present in an organic solvent. In a particularly preferred embodiment, the organic solvent is an aromatic solvent, in which case a solvent such as benzene, toluene or xylene or mixtures thereof can be used.
上記のマグネシウム−エチルアルミニウム錯体、Ｍｇ［Ａｌ（Ｅｔ）4］2と比較して、上記特定のアルキルマグネシウム化合物は、工業的に入手でき、かつ容易にかつ安価に製造できるという利点を有する。この電解質の製造は、以下の工程に従って進行する。最初、式ＭｇＡｌＲ4の有機アルミニウム錯体化合物又はその混合物が、所望ならばトリアルキルアルミニウムと組合せて供給される。次いで、上記のようにアルキルマグネシウム化合物が添加される。ＭとＲは上記と同じ意味を有する。電解質の製造中にアルキルマグネシウム化合物を秤量供給することは、マグネシウムとアルミニウム必要な濃度が直接調整でき、上記特定された調整段階なしで完全に実施できるという利点を有する。更に、被覆段階中においてさえも、被覆に望ましくかつ必要な適切なマグネシウム濃度を維持するためにアルキルマグネシウム化合物を添加することが可能である。 Compared to the magnesium-ethylaluminum complex, Mg [Al (Et) 4 ] 2 , the specific alkylmagnesium compound has an advantage that it is industrially available and can be easily and inexpensively produced. The manufacture of this electrolyte proceeds according to the following steps. Initially, an organoaluminum complex compound of formula MgAlR 4 or a mixture thereof is provided in combination with a trialkylaluminum if desired. The alkyl magnesium compound is then added as described above. M and R have the same meaning as above. Weighing the alkylmagnesium compound during the manufacture of the electrolyte has the advantage that the required concentrations of magnesium and aluminum can be adjusted directly and can be carried out completely without the specified adjustment steps. Furthermore, it is possible to add alkylmagnesium compounds to maintain the appropriate magnesium concentration desired and required for coating, even during the coating stage.
特に好ましい態様においては、このアルキルマグネシウム化合物は、式Ｍｇ（Ｒ1）x（Ｒ2）yのアルキルマグネシウム化合物の混合物であり、ここでＲ1とＲ2は独立してＣ1−Ｃ20、好ましくはＣ2−Ｃ10アルカリ基を表し、かつｘ＝０から２、かつｙ＝０から２、かつｘ＋ｙ＝２を表す。特に好ましい態様においては、このアルキルマグネシウム化合物が炭化水素中に溶解されて添加され、かつこのアルキルアルミニウム錯体が芳香族炭化水素中に溶解されて添加される。このアルミニウム化合物用の炭化水素は、ｉ−ペンタン、ｎ−ペンタン、ヘキサン、ｎ−ヘキサン、ヘプタン、ｎ−ヘプタン、トルエン及びキシレンのグループから選ばれる。 In a particularly preferred embodiment, the alkylmagnesium compound is a mixture of alkylmagnesium compounds of formula Mg (R 1 ) x (R 2 ) y , wherein R 1 and R 2 are independently C 1 -C 20 , Preferably, it represents a C 2 -C 10 alkali group, and x = 0 to 2, y = 0 to 2, and x + y = 2. In a particularly preferred embodiment, the alkylmagnesium compound is added dissolved in a hydrocarbon, and the alkylaluminum complex is added dissolved in an aromatic hydrocarbon. The hydrocarbon for the aluminum compound is selected from the group of i-pentane, n-pentane, hexane, n-hexane, heptane, n-heptane, toluene and xylene.
本発明に従う電解質を使用すると、一連の種々の濃度のアルミニウムとマグネシウムのアルミニウム−マグネシウム層が、有機マグネシウム化合物の添加量を簡単に自由に選択することにより、一つの操作で製造できる。アルミニウム−マグネシウムの適切な濃度は、有機マグネシウム化合物の添加量を介して調節される。本発明に従う電解質は、良好な導電性と均一電着性という利点も有する。 Using the electrolyte according to the invention, a series of different concentrations of aluminum and magnesium aluminum-magnesium layers can be produced in one operation by simply and freely selecting the amount of organomagnesium compound added. The appropriate concentration of aluminum-magnesium is adjusted through the amount of organomagnesium compound added. The electrolyte according to the invention also has the advantage of good electrical conductivity and throwing power.
本発明に従う電解質は、幾何学的に複雑な形状の部品の被覆に使用される不関陽極(indifferent anode)を用いる操作を可能ならしめる。不関陽極とは、被覆段階で溶出しない、つまり、Ａｌ又はＭｇ又はそれらの合金から成らない電極である。不関陽極を用いて被覆する場合、有機マグネシウム化合物及び有機アルミニウム化合物は、従って電解質溶液中に秤量供給されねばならない。アルミニウム−マグネシウムの適切な濃度は、有機マグネシウム化合物と有機アルミニウム化合物の添加量を介して調節される。従来技術に従えば、有機マグネシウム錯体のその場製造において不関陽極を用いて作業することは概ね除外されており、これは種々のアルミニウム−マグネシウム組成物の層の単一操作における製造に対してもいえる。電解質中のマグネシウム濃度を付与するための調整工程を用いる上記その場方法においてもこれは不可能である。 The electrolyte according to the invention makes it possible to operate with an indifferent anode that is used to coat geometrically complex shaped parts. An indifferent anode is an electrode that does not elute at the coating stage, that is, does not consist of Al or Mg or their alloys. When coating with an indifferent anode, the organomagnesium and organoaluminum compounds must therefore be weighed into the electrolyte solution. The appropriate concentration of aluminum-magnesium is adjusted via the amount of organomagnesium compound and organoaluminum compound added. According to the prior art, working with indifferent anodes in the in situ production of organomagnesium complexes has been largely ruled out, which is in contrast to the production of various aluminum-magnesium composition layers in a single operation. It can also be said. This is not possible even in the above-mentioned in-situ method using an adjustment step for providing the magnesium concentration in the electrolyte.
本発明は、（ａ）請求項１から３及び１、３、５、６記載の有機アルミニウム錯体化合物又はアルキルアルミニウム化合物；及び（ｂ）請求項１、３、５、６記載のアルキルマグネシウム化合物を含む、導電性の材料又は導電性の層の上でのアルミニウム−マグネシウム合金の電着用電解キットにも関する。 The present invention comprises (a) an organoaluminum complex compound or an alkylaluminum compound according to claims 1 to 3 and 1, 3, 5, 6; and (b) an alkylmagnesium compound according to claims 1, 3, 5, 6. It also relates to an electroplating electroplating kit of an aluminum-magnesium alloy on a conductive material or conductive layer.
好ましい態様においては、本化合物（ａ）と（ｂ）は有機溶媒中に溶解される。 In a preferred embodiment, the compounds (a) and (b) are dissolved in an organic solvent.
本発明は、請求項１から９記載の電解質を使用して、導電性の材料又は層をアルミニウム−マグネシウム合金で被覆する方法にも関し、該方法において、望みのマグネシウム及びアルミニウム濃度を得て維持するために、請求項１、３、５及び６記載アルキルマグネシウム化合物が被覆段階において望みの量に秤量供給される。 The invention also relates to a method of coating a conductive material or layer with an aluminum-magnesium alloy using the electrolyte of claims 1-9, wherein the desired magnesium and aluminum concentrations are obtained and maintained. For this purpose, the alkylmagnesium compounds according to claims 1, 3, 5 and 6 are weighed in the desired amount in the coating stage.
本発明は、導電性の材料又は導電性の層の上でアルミニウム合金の層を製造するための、本発明に従う電解質の使用にも関する。 The invention also relates to the use of an electrolyte according to the invention for producing a layer of aluminum alloy on a conductive material or layer.
本発明を以下の実施例を用いてより詳細に説明する。 The invention is explained in more detail using the following examples.
[実施例１]
ブチル1.5オクチル0.5マグネシウムの２０％ヘプタン溶液（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ社の製品、ＢＯＭＡＧ（登録商標））の使用
[Example 1]
Use of 20% heptane solution of butyl 1.5 octyl 0.5 magnesium (Cropton product, BOMAG®)
本反応は全てアルゴン保護ガス下で実施された。 All the reactions were carried out under argon protective gas.
工程１：凝縮によるヘプタンの除去に続いて、トルエンを用いてＢＯＭＡＧ（登録商標）／ヘプタン溶液を含有量０．３２ｍｍｏｌ／ｇに調整した。 Step 1: Following removal of heptane by condensation, the BOMAG® / heptane solution was adjusted to a content of 0.32 mmol / g using toluene.
工程２：次の組成：０．８Ｋ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋０．２Ｎａ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋１．１７Ａｌ（Ｅｔ）3＋３．８５トルエン、を有する電解質５５．４ｇに２．８５ｇのＢＯＭＡＧ／トルエン溶液（電解質配合に対して約１．０モル％）を添加した。 Step 2: The following composition: 0.8K [Al (Et) 4 ] + 0.2Na [Al (Et) 4 ] +1.17 Al (Et) 3 +3.85 Toluene, 2.5.4 g of electrolyte in 55.4 g A BOMAG / toluene solution (about 1.0 mol% with respect to the electrolyte formulation) was added.
約５８ｇの電解質が得られた。
被覆試験
一般条件：
全ての沈積試験は標準条件下で実施された。マグネシウム成分は電解質中に直接ピペットで注入された。
陽極材料：２合金電極、ＡｌＭｇ、２５．５５×１０×５ｍｍ
陰極：六角形ねじ、８．８、Ｍ８×２５
陰極前処理：超音波浴中で８％ＨＣｌを用いて脱脂、スケール除去、水洗、真空乾燥、アルゴン下で貯蔵
陰極浸漬深さ：完全
陰極回転数：６０ｒｐｍ
陽極までの距離：１０ｍｍ
有効陰極面積：約１０ｃｍ2
浴撹拌：ガラスジャケット中、２ｃｍマグネットで２５０ｒｐｍ
浴温度：９４−９８℃
About 58 g of electrolyte was obtained.
Coverage test General conditions:
All deposition tests were performed under standard conditions. The magnesium component was pipetted directly into the electrolyte.
Anode material: 2 alloy electrodes, AlMg, 25.55 × 10 × 5 mm
Cathode: Hexagon screw, 8.8, M8 × 25
Cathode pretreatment: Degreasing using 8% HCl in ultrasonic bath, descaling, water washing, vacuum drying, storage cathode immersion depth under argon: complete cathode rotation speed: 60 rpm
Distance to anode: 10mm
Effective cathode area: about 10 cm 2
Bath stirring: 250rpm with 2cm magnet in glass jacket
Bath temperature: 94-98 ° C
０．０５Ａ／ｄｍ2の電流密度で沈積を開始した。数分後、被覆されるべき部品上に明色オーバーレイが見られた。電流密度を徐々に３．０Ａ／ｄｍ2まで上げた。５μｍの層厚に対応する１．４９９ｍＦの電流量になった後、沈積を終了
した。その層は明るい銀色である。
層のＲＦ解析：２６．７９重量％のＭｇ、７３．２１重量％のＡｌ
It began deposition at a current density of 0.05 A / dm 2. After a few minutes, a light overlay was seen on the part to be coated. Current density gradually was raised up to 3.0A / dm 2. The deposition was terminated after a current amount of 1.499 mF corresponding to a layer thickness of 5 μm. The layer is bright silver.
RF analysis of layer: 26.79 wt% Mg, 73.21 wt% Al
[実施例２]
エチル1.0ブチル1.0マグネシウムの２０％ヘプタン溶液（ＢＥＭ、Ａｋｚｏ−Ｎｏｂｅｌ社製）の使用
[Example 2]
Use of 20% heptane solution of ethyl 1.0 butyl 1.0 magnesium (BEM, manufactured by Akzo-Nobel)
本反応はアルゴン保護ガス下で実施された。 The reaction was performed under an argon protective gas.
工程１：凝縮によるヘプタンの除去に続いて、トルエンを用いてＢＥＭ／ヘプタン溶液を含有量０．４１ｍｍｏｌ／ｇに調整した。 Step 1: Following removal of heptane by condensation, the BEM / heptane solution was adjusted to a content of 0.41 mmol / g using toluene.
工程２：次の組成：０．８Ｋ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋０．２Ｎａ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋１．１７Ａｌ（Ｅｔ）3＋３．８５トルエン、を有する電解質６０．６ｇに２．０ｍｌのＢＥＭ／トルエン溶液（電解質配合に対して約０．９モル％）を添加した。約６２ｇの電解質が得られた。 Step 2: The following composition: 0.8 K [Al (Et) 4 ] + 0.2Na [Al (Et) 4 ] +1.17 Al (Et) 3 +3.85 toluene, 60.6 g of electrolyte, 2.0 ml A BEM / toluene solution (about 0.9 mol% based on the electrolyte formulation) was added. About 62 g of electrolyte was obtained.
被覆試験
沈積条件は実施例１においてと同じであった。２．０Ａ／ｄｍ2の電流密度で沈積を直接開始し、全電解中その値を変えずに保持した。即座にＡｌ／Ｍｇの明色沈積があった。１１μｍの層厚に対応する３．３８ｍＦの電流量になった後で沈積を終了した。認知できる欠陥が全くなく、優れた高度に均一な銀層が得られた。
層のＲＦ解析：２６．７８重量％のＭｇ、７３．２２重量％のＡｌ
Coating test The deposition conditions were the same as in Example 1. The deposition was started directly at a current density of 2.0 A / dm 2 and was kept unchanged during the entire electrolysis. Immediately there was a light deposit of Al / Mg. The deposition was terminated after a current amount of 3.38 mF corresponding to a layer thickness of 11 μm. There was no discernible defect and an excellent highly uniform silver layer was obtained.
Layer RF analysis: 26.78 wt% Mg, 73.22 wt% Al
[実施例３]
エチル1.0ブチル1.0マグネシウムの２０％イソペンタン溶液（Ａｌｂｅｍａｒｌｅ社製のＢＥＭ）の使用
[Example 3]
Use of 20% isopentane solution of ethyl 1.0 butyl 1.0 magnesium (BEM from Albemarle)
本反応はアルゴン保護ガス下で実施された。 The reaction was performed under an argon protective gas.
工程１：１．８５ｍｍｏｌ／ｇのＭｇ成分含有量のＢＥＭ／イソペンタン溶液を、更に前処理せずに使用する。 Step 1: A BEM / isopentane solution with an Mg component content of 1.85 mmol / g is used without further pretreatment.
工程２：次の組成：０．８Ｋ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋０．１５Ｎａ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋１．０８Ａｌ（Ｅｔ）3＋３．１５トルエン、を有する電解質７０．０４ｇに０．５ｇのＢＥＭ／イソペンタン溶液（電解質配合に対して約０．８モル％）を添加した。 Step 2: The following composition: 0.8K [Al (Et) 4 ] + 0.15Na [Al (Et) 4 ] +1.08 Al (Et) 3 +3.15 Toluene A BEM / isopentane solution (about 0.8 mol% based on the electrolyte formulation) was added.
被覆試験
沈積条件は実施例１においてと同じであった。１．０から３．０Ａ／ｄｍ2の電流密度で沈積を実施した。２０μｍの層厚に対応する６．８ｍＦの電流量になった後で沈積を終了した。高度に均一な銀層が得られた。
層のＲＦ解析：４１．４重量％のＭｇ、５８．９重量％のＡｌ
Coating test The deposition conditions were the same as in Example 1. It was performed deposition at a current density of 3.0A / dm 2 and 1.0. The deposition was terminated after a current amount of 6.8 mF corresponding to a layer thickness of 20 μm. A highly uniform silver layer was obtained.
Layer RF analysis: 41.4 wt% Mg, 58.9 wt% Al
[比較例１]
アルキルマグネシウム溶液（調整用電解質）を直接添加しない、Ａｌｂｅｍａｒｌｅ社製のＡｌ−Ｍｇ沈積用電解質の使用
[Comparative Example 1]
Use of Albemarle Al-Mg deposition electrolyte without direct addition of alkylmagnesium solution (conditioning electrolyte)
次の組成：０．８Ｋ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋０．２Ｎａ［Ａｌ（Ｅｔ）4］＋１．１７Ａｌ（Ｅｔ）3＋３．８５トルエン、を有する電解質６５．０ｇを、上記一般的条件下で予備調整をして使用した。ただし、従来技術に従って要求される如く、Ａｌ−Ｍｇ合金の沈積において電解質が使用できる状態に準備される前の調整段階において、Ｍｇ錯体化合物が電気化学的に生成されねばならないが、そのようなアルキルマグネシウム溶液の予備添加は実施しなかった。 65.0 g of an electrolyte having the following composition: 0.8K [Al (Et) 4 ] + 0.2Na [Al (Et) 4 ] +1.17 Al (Et) 3 +3.85 toluene under the above general conditions Preliminary adjustment was used. However, as required in accordance with the prior art, Mg complex compounds must be produced electrochemically in the conditioning stage before the electrolyte is ready for use in Al-Mg alloy deposition, but such alkyl No pre-addition of magnesium solution was performed.
調整工程１：初期電流密度０．０５Ａ／ｄｍ2で開始し、最大可能な値である１．０Ａ／ｄｍ2まで電流密度を上げながら電解を行った。電流量が７．２０ｍＦになった後、均一電着性が悪い状態で、鈍い灰色の塗膜が得られた。 Adjustment step 1: Electrolysis was performed while starting at an initial current density of 0.05 A / dm 2 and increasing the current density to 1.0 A / dm 2 which is the maximum possible value. After the amount of current reached 7.20 mF, a dull gray paint film was obtained with poor throwing power.
調整工程２：陰極を交換した後、１．０から１．２Ａ／ｄｍ2で調整を続けた。電流量が７．２４ｍＦになった後、均一電着性が全く改善されることなく、著しくより明るく、かすかに光沢がある層が得られた。 Adjustment step 2: After replacing the cathode, the adjustment was continued at 1.0 to 1.2 A / dm 2 . After the amount of current was 7.24 mF, a significantly brighter and slightly glossy layer was obtained without any improvement in throwing power.
調整工程３：再度、陰極を交換した後、ただし今度は電流密度を最大可能な１．２３Ａ／ｄｍ2を大きく越えて１．５そして２．０Ａ／ｄｍ2まで上げ、均一で光沢があり、均一電着性が著しく改善された塗膜を得た。使用電流量は４．９６ｍＦであった。 Adjustment step 3: After replacing the cathode again, but this time, the current density is greatly increased from 1.23 A / dm 2, which can be maximized, to 1.5 and 2.0 A / dm 2 , uniform and glossy, A coating film with significantly improved throwing power was obtained. The amount of current used was 4.96 mF.
調整工程４：電流密度３．０Ａ／ｄｍ2を使用して最終条件に達すると、均一電着性は工程３と比較して変わらずに、光沢ある塗膜が得られた。電流量は３．７３ｍＦであった。 Adjustment step 4: When the final condition was reached using a current density of 3.0 A / dm 2 , the uniform electrodeposition was unchanged compared to step 3, and a glossy coating film was obtained. The amount of current was 3.73 mF.
電解質は、この手順の後でのみ調整されて操作状態になる。 The electrolyte is adjusted to the operating state only after this procedure.
Claims (20)
−所望ならばトリアルキルアルミニウムと組合せて、式ＭＡｌＲ4の有機アルミニウム錯体化合物又はその混合物を供給する、
−アルキルマグネシウム化合物を添加する、
ここで、ＭはＮａ、Ｋ、Ｒｂ又はＣｓを表し、かつＲはＣ1−Ｃ10アルキル基、好ましくはＣ1−Ｃ4アルキル基を表す、
によって特徴付けられる、請求項１から８記載の電解質の製造方法。 The following steps:
Providing an organoaluminum complex compound of formula MAlR 4 or a mixture thereof in combination with a trialkylaluminum if desired;
-Adding an alkylmagnesium compound,
Wherein M represents Na, K, Rb or Cs, and R represents a C 1 -C 10 alkyl group, preferably a C 1 -C 4 alkyl group,
The method for producing an electrolyte according to claim 1, characterized by:
（ｂ）請求項１、３、５記載のアルキルマグネシウム化合物
を含む、導電性の材料又は層の上でアルミニウム−マグネシウム合金を電着するための電解キット。 (A) an organoaluminum complex compound or alkylaluminum compound according to claims 1 to 3; and (b) an aluminum-on-conductive material or layer comprising the alkylmagnesium compound according to claims 1, 3, 5; Electrolysis kit for electrodeposition of magnesium alloys.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP03021877A EP1518945A1 (en) | 2003-09-27 | 2003-09-27 | Electrolyte for the galvanic deposition of aluminium magnesium alloys |
| PCT/EP2004/052113 WO2005033374A1 (en) | 2003-09-27 | 2004-09-09 | Electrolyte for the galvanic deposition of aluminum-magnesium alloys |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007506862A true JP2007506862A (en) | 2007-03-22 |
Family
ID=34178513
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006527396A Pending JP2007506862A (en) | 2003-09-27 | 2004-09-09 | Aluminum-magnesium alloy electrodeposition electrolyte |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20070108061A1 (en) |
| EP (2) | EP1518945A1 (en) |
| JP (1) | JP2007506862A (en) |
| KR (1) | KR20060090816A (en) |
| CN (1) | CN1860257A (en) |
| RU (1) | RU2347857C2 (en) |
| WO (1) | WO2005033374A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020522615A (en) * | 2017-06-01 | 2020-07-30 | ルミシールド テクノロジーズ インコーポレイテッドＬｕｍｉｓｈｉｅｌｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ， Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | Methods and compositions for electrochemical deposition of metal-rich layers in aqueous solution |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1524336A1 (en) * | 2003-10-18 | 2005-04-20 | Aluminal Oberflächtentechnik GmbH & Co. KG | Workpieces coated with an aluminum magnesium alloy |
| CN103334132B (en) * | 2013-07-17 | 2016-05-25 | 沈阳大学 | The method of almag film is prepared in room temperature electro-deposition |
| CN103510136B (en) * | 2013-09-22 | 2015-08-19 | 电子科技大学 | A kind of method at ultra-fine tungsten wires surface electrical deposition of aluminum magnesium alloy film |
| CN106435706B (en) * | 2015-08-04 | 2019-02-26 | 张无量 | The electrochemical polishing method of magnesium intravascular stent |
| CN113846353B (en) * | 2021-10-13 | 2023-03-28 | 东北大学 | Method for preparing aluminum magnesium alloy by using polar aprotic organic solvent |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3028319A (en) * | 1960-02-01 | 1962-04-03 | Ethyl Corp | Manufacture of magnesium organo compounds |
| CH576006A5 (en) * | 1971-05-07 | 1976-05-31 | Siemens Ag | |
| US4778575A (en) * | 1988-01-21 | 1988-10-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Electrodeposition of magnesium and magnesium/aluminum alloys |
| DE19855666A1 (en) * | 1998-12-01 | 2000-06-08 | Studiengesellschaft Kohle Mbh | Organoaluminum electrolytes and processes for electrolytic coating with aluminum or aluminum-magnesium alloys |
| WO2002088434A1 (en) * | 2001-04-30 | 2002-11-07 | Alumiplate Incorporated | Aluminium electroplating formulations |
| US7250102B2 (en) * | 2002-04-30 | 2007-07-31 | Alumiplate Incorporated | Aluminium electroplating formulations |
-
2003
- 2003-09-27 EP EP03021877A patent/EP1518945A1/en not_active Withdrawn
-
2004
- 2004-09-09 US US10/573,519 patent/US20070108061A1/en not_active Abandoned
- 2004-09-09 WO PCT/EP2004/052113 patent/WO2005033374A1/en active Application Filing
- 2004-09-09 RU RU2006116263/02A patent/RU2347857C2/en not_active IP Right Cessation
- 2004-09-09 KR KR1020067005934A patent/KR20060090816A/en not_active Application Discontinuation
- 2004-09-09 JP JP2006527396A patent/JP2007506862A/en active Pending
- 2004-09-09 EP EP04787118A patent/EP1664389A1/en not_active Withdrawn
- 2004-09-09 CN CNA2004800280473A patent/CN1860257A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020522615A (en) * | 2017-06-01 | 2020-07-30 | ルミシールド テクノロジーズ インコーポレイテッドＬｕｍｉｓｈｉｅｌｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ， Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | Methods and compositions for electrochemical deposition of metal-rich layers in aqueous solution |
| JP7179358B2 (en) | 2017-06-01 | 2022-11-29 | ルミシールド テクノロジーズ インコーポレイテッド | Methods and compositions for electrochemical deposition of metal-rich layers in aqueous solutions |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2006116263A (en) | 2007-11-27 |
| KR20060090816A (en) | 2006-08-16 |
| CN1860257A (en) | 2006-11-08 |
| WO2005033374A1 (en) | 2005-04-14 |
| US20070108061A1 (en) | 2007-05-17 |
| EP1518945A1 (en) | 2005-03-30 |
| RU2347857C2 (en) | 2009-02-27 |
| EP1664389A1 (en) | 2006-06-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Lunder et al. | Formation and characterisation of Ti–Zr based conversion layers on AA6060 aluminium | |
| CN101243211B (en) | Pretreatment of magnesium substrates for electroplating | |
| US20040054231A1 (en) | Ionic liquids and their use | |
| Zhu et al. | Electrochemical behaviors of the magnesium alloy substrates in various pretreatment solutions | |
| EP2662478B1 (en) | Aluminium or aluminium alloy molten salt electroplating bath having good throwing power, and electroplating method and pretreatment method using same | |
| EP3088571B1 (en) | Environmentally friendly aluminum coatings as sacrificial coatings for high strength steel alloys | |
| Guo et al. | Characterization of highly corrosion-resistant nanocrystalline Ni coating electrodeposited on Mg–Nd–Zn–Zr alloy from a eutectic-based ionic liquid | |
| JPS6122038B2 (en) | ||
| JPWO2010044305A1 (en) | Electro-aluminum plating solution and method for forming aluminum plating film | |
| US6652730B1 (en) | Aluminum organic electrolytes and method for electrolytic coating with aluminum or aluminum-magnesium-alloys | |
| JP6211712B2 (en) | Cyan-free pre-treatment electrolytic copper plating solution and method for producing the same | |
| Huang et al. | Electrochemical etching of AA5083 aluminium alloy in trihexyl (tetradecyl) phosphonium bis (trifluoromethylsulfonyl) amide ionic liquid | |
| JP2007506862A (en) | Aluminum-magnesium alloy electrodeposition electrolyte | |
| CN103789803A (en) | Cyanide-free copper-tin alloy electroplate liquid and preparation method thereof | |
| CN103436921A (en) | Method for forming aluminum-manganese-titanium alloy through electrodeposition of ionic liquid | |
| WO2018222977A1 (en) | Methods and compositions for electrochemical deposition of metal rich layers in aqueous solutions | |
| Niu et al. | A aluminum coating with chromium-free passivating film formed on AZ91D magnesium alloy | |
| US8282808B2 (en) | Use of phosphinic acids and/or phosphonic acids in redox processes | |
| CN103789801A (en) | Cyanide-free copper pre-plating electroplating liquid and preparation method thereof | |
| AU2018278343B2 (en) | Methods and compositions for electrochemical deposition of metal rich layers in aqueous solutions | |
| RU2775044C1 (en) | Electrolytic method for obtaining coatings and products from niobium doped with tantalum | |
| JPH03134193A (en) | Low-melting point composition and electric aluminum plating method | |
| US2902416A (en) | Method and bath for electrodeposition of aluminum | |
| JP2689274B2 (en) | Electric aluminum plating bath | |
| RU2623514C2 (en) | Electrolyte for galvanic sedimentation of nickel-aluminium coatings |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070305 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090813 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090825 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100209 |