JP2007324245A - Manufacturing method and transporting container of semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体装置の製造方法およびその輸送容器に関し、特に、半導体ウエハの裏面を研削する際に、当該半導体ウエハを保護し得る製造方法および保護された半導体ウエハの輸送容器に関するものである。 The present invention relates to a method for manufacturing a semiconductor device and a transport container therefor, and more particularly to a manufacturing method capable of protecting a semiconductor wafer when the back surface of the semiconductor wafer is ground and a transport container for a protected semiconductor wafer.
通常、表面に電子回路が形成された半導体ウエハは、その裏面を研削することにより、所定厚さに形成されている。
最近、半導体装置(所謂、半導体チップである)の薄型化を図るために、半導体ウエハの段階において、厚さが100μm、50μm以下というように極めて薄くなるまで、その裏面を研削することが求められている。
Usually, a semiconductor wafer having an electronic circuit formed on the front surface is formed to a predetermined thickness by grinding the back surface thereof.
Recently, in order to reduce the thickness of a semiconductor device (a so-called semiconductor chip), it is required to grind the back surface of the semiconductor wafer until the thickness becomes extremely thin, such as 100 μm or 50 μm or less. ing.
従来、半導体ウエハの裏面を研削する場合、回路面側に保護テープを貼り付けて、回路面の保護および半導体ウエハの固定が行われている。
しかし、半導体ウエハを非常に薄く研削すると、半導体ウエハの強度が著しく低下し、僅かな衝撃によっても半導体ウエハが破損してしまう。
Conventionally, when grinding the back surface of a semiconductor wafer, a protective tape is applied to the circuit surface side to protect the circuit surface and fix the semiconductor wafer.
However, if the semiconductor wafer is ground very thinly, the strength of the semiconductor wafer is remarkably lowered, and the semiconductor wafer is damaged even by a slight impact.
例えば、裏面の研削終了後に、半導体ウエハは後工程に移送されるが、工程間の搬送については、カセットに収納した状態で人手により搬送されることが多い。
この人手による搬送時に、半導体ウエハがカセットの側壁に接触してその端部が欠けたり、また半導体ウエハに亀裂が生じることがあり、これに対処するものとして、例えば半導体ウエハに保護テープを貼り付けるようにした保護構造が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
For example, after the grinding of the back surface is completed, the semiconductor wafer is transferred to a subsequent process. However, the transfer between the processes is often performed manually in a state of being stored in a cassette.
During this manual transfer, the semiconductor wafer may come into contact with the side wall of the cassette and the end thereof may be chipped or the semiconductor wafer may be cracked. For example, a protective tape is applied to the semiconductor wafer. Such a protective structure has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
この保護構造は、半導体ウエハの外径よりも大きい径の保護テープを貼り付けることにより、保護テープのウエハ外周からはみ出た部分が緩衝材となるようにしたものである。
ところで、上記半導体ウエハの保護構造に用いられる保護テープは、基材と粘着剤とから構成されており、また粘着剤については、アクリル系合成樹脂が用いられており、具体的には、紫外線照射などにより樹脂中の結合状態が変化して粘着力が低下するエネルギー線硬化型粘着剤や、ゴム系などの再剥離型の汎用粘着剤であればよいとされている。 By the way, the protective tape used in the protective structure of the semiconductor wafer is composed of a base material and an adhesive, and the adhesive is made of an acrylic synthetic resin. It is said that it may be an energy ray curable pressure-sensitive adhesive whose bonding state in the resin is changed due to the above, or a re-peeling general-purpose pressure-sensitive adhesive such as rubber.
さらに、粘着剤の面積は基材と同一でもよく、またはウエハと略同一でもよいとされている。
粘着剤の面積が基材と同一である場合の製造方法は、粘着剤が基材上に全て均一に形成されている保護テープを半導体ウエハの表面に貼り付けた後、ウエハからはみ出た部分を切り取ればよい。
Further, the area of the adhesive may be the same as that of the base material, or may be substantially the same as that of the wafer.
The manufacturing method when the area of the adhesive is the same as that of the base material is that the part that protrudes from the wafer is applied after the protective tape on which the adhesive is uniformly formed on the base material is affixed to the surface of the semiconductor wafer. Cut it out.
しかし、粘着剤の面積を半導体ウエハと同一とするためには、半導体ウエハと同一形状の粘着剤を基材上に形成する必要があり、しかもその貼り付け時には、粘着剤と半導体ウエハとの位置合わせを正確に行う必要がある。このため、基材上全て均一に粘着剤を形成する場合に比べて作製する工数が多くなり、コストアップとなり、また半導体ウエハと粘着剤の位置合わせを行うための設備が必要となり、貼付け装置のコストアップに繋がることになる。 However, in order to make the area of the adhesive equal to that of the semiconductor wafer, it is necessary to form an adhesive having the same shape as that of the semiconductor wafer on the base material. It is necessary to perform alignment accurately. For this reason, compared with the case where the adhesive is uniformly formed on the base material, the number of steps for manufacturing is increased, the cost is increased, and facilities for aligning the semiconductor wafer and the adhesive are necessary. It will lead to cost increase.
このため、製造が容易な粘着剤の面積が基材と同一である保護テープが用いられ、一方、粘着剤については、上述したように、研削時に剥がれないような高い粘着力が要求されるとともに半導体ウエハから剥す際に粘着力が低いことが望まれるため、エネルギー線硬化型粘着剤である紫外線硬化型粘着剤が一般に使われている。 For this reason, a protective tape having the same adhesive area as that of the base material is used, while the adhesive is required to have a high adhesive strength that does not peel off during grinding as described above. Since it is desired that the adhesive force is low when peeling from a semiconductor wafer, an ultraviolet ray curable adhesive that is an energy ray curable adhesive is generally used.
しかし、粘着剤の面積が基材と同一にされた保護テープを用いる場合には、半導体ウエハを搬送する際に、例えば吸着パッドにより半導体ウエハの裏面を持ち上げる時に、半導体ウエハからはみ出ている部分が吸着パッドに吸い寄せられたり、またカセットの側壁に接触したときに、粘着剤が吸着パッドや側壁に付着し(貼り付き)、以後の搬送、すなわち以後の製造を続行することができなくなるという問題がある。 However, when using a protective tape in which the area of the adhesive is the same as that of the base material, when the semiconductor wafer is transported, for example, when the back surface of the semiconductor wafer is lifted by a suction pad, the portion protruding from the semiconductor wafer When sucked to the suction pad or touches the side wall of the cassette, the adhesive adheres to the suction pad or the side wall (sticks), and the subsequent transport, that is, the subsequent manufacturing cannot be continued. is there.
また、保護テープが貼り付けられた半導体ウエハの裏面を研削する時、半導体ウエハ外径よりもはみ出ている保護テープ上に高粘着力の紫外線硬化型粘着剤があるため、砥石に保護テープが付着して、砥石と半導体ウエハとの間に保護テープを巻き込むという問題がある。 Also, when grinding the backside of a semiconductor wafer with a protective tape attached, there is a UV-curable adhesive with high adhesive strength on the protective tape that protrudes beyond the outer diameter of the semiconductor wafer, so the protective tape adheres to the grindstone. Thus, there is a problem that a protective tape is wound between the grindstone and the semiconductor wafer.
また、保護テープが貼り付けられた半導体ウエハや、その裏面を研削した半導体ウエハを、別工場に輸送する場合に、輸送容器に半導体ウエハを収納する必要があるが、そのときに半導体ウエハよりもはみ出ている保護テープ上に粘着剤がある場合には、保護テープ同士の付着(貼り付き)、または半導体ウエハ同士間に挿入される層間紙との付着や、輸送容器との付着が起こり、輸送容器からの半導体ウエハを一枚ずつ取り出すのが困難となり、最悪、薄く研削された半導体ウエハの破損を引き起こすという問題もある。 In addition, when transporting a semiconductor wafer with a protective tape attached or a semiconductor wafer ground on its back to another factory, it is necessary to store the semiconductor wafer in a transport container. If there is an adhesive on the protruding protective tape, the protective tape will adhere (stick), adhere to the interlayer paper inserted between the semiconductor wafers, or adhere to the transport container. It becomes difficult to take out the semiconductor wafers one by one from the container, and in the worst case, there is a problem that the thinly ground semiconductor wafer is damaged.
さらに、保護テープは半導体ウエハの外形よりも大きい円形状にされているため、輸送時の振動によって、半導体ウエハが回転してその裏面に傷が付いたり、汚れたりするという問題もある。 Furthermore, since the protective tape has a circular shape larger than the outer shape of the semiconductor wafer, there is a problem that the semiconductor wafer rotates due to vibration during transportation, and the back surface thereof is scratched or soiled.
そこで、本発明は、紫外線硬化型粘着剤付き保護テープで半導体ウエハを保護する際に、搬送および輸送を容易にし得るとともに半導体ウエハが損傷するのを防止し得る半導体装置の製造方法およびその輸送容器を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device and a transport container for the same that can facilitate transport and transportation and prevent damage to the semiconductor wafer when protecting the semiconductor wafer with a UV-curable adhesive-coated protective tape. The purpose is to provide.
上記課題を解決するために、本発明の請求項1に係る半導体装置の製造方法は、半導体ウエハの回路面側の表面とは反対側の裏面を研削する際に、その表面に保護テープを貼り付けて当該半導体装置を保護するようにした半導体装置の製造方法であって、
上記保護テープとして紫外線硬化型粘着剤付きで且つ半導体ウエハよりも大きいものを用いるとともに、
上記保護テープを半導体ウエハの表面に貼り付けた後、半導体ウエハの裏面から紫外線を照射する方法である。
In order to solve the above-mentioned problems, a method for manufacturing a semiconductor device according to
As the protective tape, with a UV curable adhesive and larger than the semiconductor wafer,
In this method, the protective tape is applied to the front surface of the semiconductor wafer and then irradiated with ultraviolet rays from the back surface of the semiconductor wafer.
また、本発明の請求項2に係る半導体装置の製造方法は、半導体ウエハの回路面側の表面とは反対側の裏面を研削する際に、その表面に保護テープを貼り付けて当該半導体装置を保護するようにした半導体装置の製造方法であって、
上記保護テープとして紫外線硬化型粘着剤付きで且つ半導体ウエハよりも大きいものを用いるとともに、
上記保護テープを半導体ウエハの表面に貼り付け、
次にこの保護テープの外周部分の一部を直線状の切断線に沿って切断した後、半導体ウエハの裏面から紫外線を照射する方法である。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a semiconductor device, wherein when a back surface opposite to a circuit surface side of a semiconductor wafer is ground, a protective tape is attached to the surface of the semiconductor device. A method of manufacturing a semiconductor device to be protected,
As the protective tape, with a UV curable adhesive and larger than the semiconductor wafer,
Affix the protective tape to the surface of the semiconductor wafer,
Next, after a part of the outer peripheral portion of the protective tape is cut along a linear cutting line, ultraviolet rays are irradiated from the back surface of the semiconductor wafer.
さらに、本発明の請求項3に係る半導体装置の輸送容器は、請求項1に記載の製造方法により得られた保護テープが貼り付けられた半導体ウエハを輸送する輸送容器であって、
複数の半導体ウエハを積層状態で保持し得る容器本体と、
この容器本体の外周を上方から覆うようにされた蓋体と、
上記容器本体を蓋体で覆った状態で、外方から蓋体を挿通されるとともに積層状態の各半導体ウエハに貼り付けられた保護テープの外周部分を貫通し得る針状の固定部材とを具備したものである。
Furthermore, a transport container for a semiconductor device according to
A container body capable of holding a plurality of semiconductor wafers in a stacked state; and
A lid that covers the outer periphery of the container body from above;
A needle-like fixing member that is inserted through the lid body from the outside in a state where the container body is covered with the lid body and that can penetrate the outer peripheral portion of the protective tape attached to each semiconductor wafer in the laminated state. It is a thing.
さらに、本発明の請求項4に係る半導体装置の輸送容器は、請求項2に記載の製造方法により得られた保護テープが貼り付けられた半導体ウエハを輸送する輸送容器であって、
複数の半導体ウエハを積層状態で保持し得るとともに各半導体ウエハに貼り付けられた保護テープの直線状の切断面に接触してその移動を阻止し得る当接部材が設けられた容器本体と、
この容器本体の外周を上方から覆うようにされた蓋体とを具備したものである。
Furthermore, a transport container for a semiconductor device according to
A container main body provided with an abutting member capable of holding a plurality of semiconductor wafers in a stacked state and contacting a linear cut surface of a protective tape attached to each semiconductor wafer to prevent its movement;
And a lid that covers the outer periphery of the container body from above.
上記各半導体装置の製造方法によると、半導体ウエハの研削を行う際に、その回路面側の表面に、当該半導体ウエハより大きい保護テープを貼り付けた後、裏面から紫外線を照射して、そのはみ出た外周部分の粘着力を低下させるようにしたので、研削時およびその後の搬送時、輸送時などにおいて、例えば吸着パッドなどの搬送具または輸送容器などが保護テープに付着することがなく、したがって半導体ウエハの製造が中断するのを防止することができる。 According to the manufacturing method of each semiconductor device described above, when grinding a semiconductor wafer, a protective tape larger than the semiconductor wafer is applied to the surface of the circuit surface side, and then the ultraviolet light is irradiated from the back surface to protrude the semiconductor wafer. Since the adhesive strength of the outer peripheral portion is reduced, a carrier such as a suction pad or a transport container, for example, does not adhere to the protective tape at the time of grinding and subsequent transport, transport, etc. It is possible to prevent the wafer production from being interrupted.
また、上記各半導体装置の輸送容器によると、半導体ウエハを容器内に収納して輸送する際に、保護テープの外周部分を、針状の固定部材により串刺し状態で固定するようにしたので、または保護テープの切断面を当接部材に接触させるようにしたので、例えば人手による輸送を行った際に当該輸送容器が揺れた場合でも、半導体ウエハが移動するのを阻止することができ、したがって半導体ウエハが損傷するのを防止することができる。 In addition, according to the transport container of each semiconductor device, when the semiconductor wafer is housed in the container and transported, the outer peripheral portion of the protective tape is fixed in a skewered state by a needle-shaped fixing member, or Since the cut surface of the protective tape is brought into contact with the contact member, the semiconductor wafer can be prevented from moving even if the transport container is shaken when transported by hand, for example. It is possible to prevent the wafer from being damaged.
以下、本発明の実施の形態における半導体装置の製造方法およびその輸送容器について説明する。
なお、半導体装置の製造方法においては、多数の工程が具備されているが、本発明の要旨が、半導体装置すなわち半導体ウエハの裏面を研削(研磨)する際に、その回路面を保護するとともに、この半導体ウエハを輸送容器にて輸送する際の保護に関するものであるため、以下に示す各実施の形態では、この部分に着目して説明する。
[実施の形態1]
以下、実施の形態1における半導体装置の製造方法およびその輸送容器を、図1〜図4に基づき説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing a semiconductor device and its transport container according to an embodiment of the present invention will be described.
The semiconductor device manufacturing method includes a number of processes. The gist of the present invention is to protect the circuit surface when grinding (polishing) the back surface of the semiconductor device, that is, the semiconductor wafer, Since this semiconductor wafer is related to protection when it is transported in a transport container, in the following embodiments, description will be given focusing on this part.
[Embodiment 1]
Hereinafter, a method for manufacturing a semiconductor device and a transport container thereof according to the first embodiment will be described with reference to FIGS.
まず、半導体装置の製造方法を、図1および図2に基づき説明する。
図1(a)および(e)に示すように、円形の半導体ウエハ1の回路面2側である表面に保護テープ3を貼り付ける。この保護テープ3は円形にされるとともに、その大きさ(外径)は半導体ウエハ1の外形(外径)よりも大きくされている。
First, a method for manufacturing a semiconductor device will be described with reference to FIGS.
As shown in FIGS. 1A and 1E, a
この保護テープ3は、図1(a)に示すように、PETやポリオレフィンなどの基材4の表面にアクリル系合成樹脂などの粘着剤5が設けられたもので、勿論、粘着剤5が半導体ウエハ1の回路面2側の表面に密着される。なお、この粘着剤5は紫外線照射により樹脂中の結合状態が変化して粘着力(接着力)が低下する特徴を有するものである。
As shown in FIG. 1 (a), this
次に、図1(b)に示すように、保護テープ3が貼り付けられた半導体ウエハ1に、その裏面側から紫外線11を照射する。
このように、裏面から紫外線11が照射されると、半導体ウエハ1の表面に貼り付けられている保護テープ3のウエハからはみ出た外周部分(所謂、露出部である)3aの粘着力が低下する。
Next, as shown in FIG. 1B, the
Thus, when the ultraviolet rays 11 are irradiated from the back surface, the adhesive force of the outer peripheral portion (so-called exposed portion) 3a protruding from the wafer of the
したがって、半導体ウエハ1を例えば吸着パッド(搬送具)により保持して工程間で搬送する場合、その裏面を吸着パッドで吸着する際に、保護テープ3の外周部分3aが吸着パッドに吸い寄せられて、保護テープ3の粘着剤5が吸着パッドに付着し(貼り付き、または引っ付き)、ウエハの搬送が妨げられるというような心配がなくなる。
Therefore, when the
次に、図1(c)に示すように、半導体ウエハ1の裏面をバックグラインド用砥石12を用いて研削することにより、図1(d)に示すような所定厚さの半導体ウエハ1すなわち半導体装置が得られる。
Next, as shown in FIG. 1C, the back surface of the
このように、半導体ウエハ1の研削を行う際に、その回路面2側の表面に、当該半導体ウエハ1より大きい保護テープ3を貼り付けた後、裏面から紫外線11を照射して、そのはみ出た外周部分3aの粘着力を低下させるようにしたので、研削時およびその後の搬送時、輸送時などにおいて、例えば吸着パッドなどの搬送具または輸送容器などが保護テープ3に付着することがなく、したがって半導体ウエハ1の製造が中断するのを防止することができる。
As described above, when grinding the
なお、図2のフローチャートに本発明の要旨に係る製造方法を工程形式にて示しておく。簡単に言えば、保護テープを半導体ウエハの表面に貼り付ける保護テープ貼付け工程と、この貼付け工程で保護テープが貼り付けられた半導体ウエハに裏面から紫外線を照射する紫外線照射工程と、この紫外線照射工程で照射された後の半導体ウエハの裏面を研削するウエハ研削工程とが具備されている。勿論、保護テープ貼付け工程の前には、所定の前工程が設けられており、またウエハ研削工程の後にも、所定の後工程が設けられている。 In addition, the manufacturing method which concerns on the summary of this invention is shown with a flowchart in the flowchart of FIG. Simply put, a protective tape affixing process for affixing a protective tape to the surface of a semiconductor wafer, an ultraviolet irradiation process for irradiating the semiconductor wafer with the protective tape affixed in this affixing process from the back surface, and this ultraviolet irradiation process And a wafer grinding step of grinding the back surface of the semiconductor wafer after being irradiated with the wafer. Of course, a predetermined pre-process is provided before the protective tape attaching process, and a predetermined post-process is also provided after the wafer grinding process.
次に、上記保護テープ3が貼り付けられた半導体ウエハ1を、例えば別工場に輸送するための輸送容器および輸送方法について説明する。
まず、輸送容器を図3に基づき説明する。
Next, a transport container and a transport method for transporting the
First, the transport container will be described with reference to FIG.
図3の(a)〜(c)に示すように、この輸送容器21は、容器本体22と、蓋体23と、容器本体22に蓋体23が覆われた(被せられた)状態で、蓋体23を容器本体22に保持(固定)するための保持具24とから構成されている。なお、この保持具24は側面視がコの字形状にされたもので、その周囲に複数箇所(例えば、2〜4箇所)に設けられて両者を上下から一体的に把持するものである。
As shown in (a) to (c) of FIG. 3, the
上記容器本体22は、円形の底板(支持板でもある)31と、この底板31の上面の左右にそれぞれ所定高さでもって立設された平面視が円弧状の保持部材(位置決め部材ともいえる)32とから構成されている。これら両保持部材32の内側に、複数個の半導体ウエハ1が積層して収納されるようにされており、したがってその内面同士間の距離(直径)は、半導体ウエハ1の外形(外径)よりも少しだけ大きくされている。
The container
また、上記蓋体23は、円形の蓋板35と、この蓋板35の下面に設けられて上記左右の保持部材32を外側から且つ全周囲に亘って囲うようにされた円筒状の側壁部材36とから構成されている。なお、この側壁部材36は、容器本体22の保持部材32と略同一高さにされている。
The
さらに、輸送容器21には、その輸送時において、保護テープ3の外周部分3aに対応する位置で且つ蓋板35に形成された穴部35aから底板31側に向かって挿入されて、すなわち各保護テープ3の外周部分3aを貫通されて半導体ウエハ1を固定するための針状の固定部材25が具備されている。
Further, the
次に、上記輸送容器により半導体装置すなわち半導体ウエハを、例えば別の工場に輸送する方法について、図4に基づき説明する。
まず、図4(a)に示すように、空状態の容器本体22を準備し、次に図4(b)および(f)に示すように、その底板31の上面(容器内底面である)にポリエチレンフォームなどで構成された円形の下部クッション材41を割れ防止用として配置した後、半導体ウエハ1を、その表面に貼り付けられた保護テープ3が下側となるように、両保持部材32,32同士間に、複数個重ねて収納する。
Next, a method for transporting a semiconductor device, that is, a semiconductor wafer, for example, to another factory using the transport container will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 4A, an
次に、図4(c)に示すように、積層された最上部の半導体ウエハ1の上面に円形の上部クッション材42を配置した後、蓋体23で半導体ウエハ1の全体を覆う(蓋体を被せる)。勿論、蓋体23は、その側壁部材36が両保持部材32の外周を覆うように配置される。
Next, as shown in FIG. 4C, a circular
次に、図4(d)に示すように、複数個の固定具24により、蓋体23を容器本体22に対して固定する(把持させる)。
そして、最後に、図4(e)に示すように、針状の固定部材25を蓋板35に形成されている穴部35aから内側に挿入するとともに、積層された半導体ウエハ1の保護テープ3の外周部分3aを順次貫通させ、そしてその下端部を下部クッション材41に突き刺して(挿入して)串刺し状態にすることにより、各半導体ウエハ1同士を保護テープ3を介して輸送容器21側に固定すればよい。
Next, as shown in FIG. 4 (d), the
Finally, as shown in FIG. 4E, the needle-like fixing
なお、積層された半導体ウエハ1,1同士の間に、半導体ウエハ1の裏面を保護するために、層間紙を挿入してもよい。
勿論、輸送容器21から半導体ウエハ1を取り出す際には、針状の固定部材25を抜き出した後、固定具24を取り外せばよい。
An interlayer paper may be inserted between the
Of course, when the
このように、輸送容器21にて複数個の半導体ウエハ1を積層状態で輸送する際に、それぞれの保護テープ3の外周部分3aの粘着力が紫外線照射により低下されているため、半導体ウエハ1,1同士または半導体ウエハ1と輸送容器21とが互いに付着することがなく、正確に言えば、保護テープ3,3同士または保護テープ3と輸送容器21とが互いに付着することがなく、したがって半導体ウエハ1を輸送容器21から支障なく取り出すことができる。
As described above, when the plurality of
また、半導体ウエハ1を輸送する際に、保護テープ3の外周部分3aを針状の固定部材25により串刺し状態で固定しているので、例えば人手による輸送を行った際に輸送容器21が揺れた場合でも、半導体ウエハ1が移動(回転も含む)するのを阻止することができ、したがって半導体ウエハが損傷するのを防止することができる。
[実施の形態2]
次に、実施の形態2における半導体装置の製造方法およびその輸送容器を、図5〜図8に基づき説明する。
Further, when the
[Embodiment 2]
Next, a method for manufacturing a semiconductor device and its transport container according to the second embodiment will be described with reference to FIGS.
なお、本実施の形態2と上述した実施の形態1と異なる箇所は、輸送容器にて半導体ウエハを輸送する際の固定の仕方にあるため、本実施の形態2においては、この部分に着目して説明するとともに、実施の形態1と同一の構成部材については、同一の部材番号を付して、その説明を省略する。 Note that the difference between the second embodiment and the first embodiment described above is the way to fix the semiconductor wafer in the transport container, so in this second embodiment, pay attention to this part. In addition, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same member numbers, and the description thereof is omitted.
簡単に言えば、実施の形態1では、半導体ウエハを輸送する際に、保護テープの外周部分を針状の固定部材で串刺しすることにより固定するようにしたが、本実施の形態2においては、保護テープの外周部分の一部を直線状に切断するとともに、この切断面を介して、半導体ウエハが移動(回転も含む)するのを阻止するようにしたものである。 Briefly speaking, in the first embodiment, when the semiconductor wafer is transported, the outer peripheral portion of the protective tape is fixed by skewering with a needle-shaped fixing member, but in the second embodiment, A part of the outer peripheral portion of the protective tape is cut into a straight line, and the semiconductor wafer is prevented from moving (including rotating) through the cut surface.
すなわち、図5(a)および(b)に示すように、本実施の形態2に係る半導体ウエハ1の回路面2側の表面に貼り付けられた保護テープ3の外周部分3aの一部が直線の切断線でもって割円状に切り取られたものである。
That is, as shown in FIGS. 5A and 5B, a part of the outer
ここで、上記半導体装置の製造方法を、図6に基づき説明しておく。
まず、図6(a)に示すように、半導体ウエハ1の回路面2側の表面に保護テープ3を貼り付けた後、その外周部分3aの一部(仮想線で示す)を直線の切断線でもって切り取る。
Here, a method of manufacturing the semiconductor device will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 6A, after the
次に、図6(b)に示すように、保護テープ3が貼り付けられた半導体ウエハ1に、その裏面から紫外線11を照射して外周部分3aの粘着力を低下させる。
次に、図6(c)に示すように、半導体ウエハ1の裏面をバックグラインド用砥石12を用いて研削することにより、図6(d)に示すような所定厚さの半導体ウエハ1すなわち半導体装置が得られる。
Next, as shown in FIG. 6B, the
Next, as shown in FIG. 6 (c), the back surface of the
勿論、このようにして製造された半導体装置についても、上記実施の形態1と同様の効果が得られる。
次に、上記保護テープ3が貼り付けられた半導体ウエハ1を、例えば別工場に輸送するための輸送容器および輸送方法について説明する。
Of course, the semiconductor device manufactured in this way can achieve the same effects as those of the first embodiment.
Next, a transport container and a transport method for transporting the
まず、輸送容器を図7に基づき説明する。
図7に示すように、この輸送容器21は、容器本体22と、蓋体23と、容器本体22に蓋体23が覆われた(被せられた)状態で、蓋体23を容器本体22に保持(固定)するための保持具24とから構成されている。なお、この保持具24は側面視がコの字形状にされたもので、その周囲に複数箇所(例えば、2〜4箇所)に設けられて両者を上下から一体的に把持するものである。
First, the transport container will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 7, the
上記容器本体22は、円形の底板(支持板でもある)31と、この底板31の上面の左右にそれぞれ所定高さでもって立設された平面視が円弧状の保持部材(位置決め部材ともいえる)32と、同じく底板31の上面で且つ一方の保持部材32寄り位置で立設されて、両保持部材32,32同士の間に積層された半導体ウエハ1の保護テープ3の切断面Sに接触(当接)して半導体ウエハ1の移動を阻止し得る板状の当接部材33とから構成されている。
The container
上記蓋体23については、実施の形態1と同様に、円形の蓋板35と、この蓋板35の下面に設けられて上記左右の保持部材32を外側から且つ全周囲に亘って囲うようにされた円筒状の側壁部材36とから構成されている。また、この側壁部材36は、容器本体22の保持部材32と略同一高さにされている。なお、蓋板35には、実施の形態1とは異なり、針状の固定部材25を挿入する穴部は形成されていない。
As with the first embodiment, the
次に、上記輸送容器により半導体装置すなわち半導体ウエハを、例えば別の工場に輸送する方法について、図8に基づき説明する。
まず、図8(a)および(e)に示すように、空状態の容器本体22を準備し、次に図8(b)に示すように、その底板31の上面(容器内底面ともいえる)にポリエチレンフォームなどで構成された円形の下部クッション材41を割れ防止用として配置した後、半導体ウエハ1を、その表面に貼り付けられた保護テープ3が下側となるように、且つ保護テープ3の切断面Sが当接部材33の表面33aに接触するように両保持部材32,32同士間に、複数個重ねて収納する。
Next, a method for transporting a semiconductor device, that is, a semiconductor wafer by the transport container to, for example, another factory will be described with reference to FIG.
First, as shown in FIGS. 8A and 8E, an
次に、図8(c)に示すように、積層された最上部の半導体ウエハ1の上面に円形の上部クッション材42を配置した後、蓋体23で半導体ウエハ1の全体を覆う(蓋体を被せる)。勿論、蓋体23は、その側壁部材36が両保持部材32の外周を覆うように配置される。
Next, as shown in FIG. 8C, a circular
次に、図8(d)に示すように、複数個の固定具24により、蓋体23を容器本体22に対して固定する(把持させる)。
勿論、この場合も、積層された半導体ウエハ1,1同士の間に、半導体ウエハ1の裏面を保護するために、層間紙を挿入してもよい。
Next, as shown in FIG. 8 (d), the
Of course, in this case, interlayer paper may be inserted between the
このように、上記実施の形態1と同様に、輸送容器21にて複数個の半導体ウエハ1を積層状態で輸送する際に、それぞれの保護テープ3の外周部分3aの粘着力が紫外線照射により低下されているため、半導体ウエハ1,1同士または半導体ウエハ1と輸送容器21とが互いに付着することがなく、正確に言えば、保護テープ3,3同士または保護テープ3と輸送容器21とが互いに付着することがなく、したがって半導体ウエハ1を輸送容器21から支障なく取り出すことができる。
As described above, when the plurality of
また、半導体ウエハ1を輸送する際に、保護テープ3の外周部分3aの切断面Sが当接部材33の表面33aに接触しているので、例えば人手による輸送を行った際に輸送容器21が揺れた場合でも、半導体ウエハ1が移動(回転も含む)するのを阻止することができ、したがって半導体ウエハが損傷するのを防止することができる。
Further, when the
本発明に係る半導体装置の製造方法によると、半導体ウエハに貼り付けられる紫外線硬化型粘着剤つき保護テープの当該ウエハよりはみ出た部分の粘着力を低下させるようにしているので、研削時、搬送時、輸送時などに、研削具、搬送具、輸送容器などに保護テープが付着するのを防止することができ、したがって半導体ウエハを薄く研削する場合、または薄い半導体ウエハを搬送または輸送する場合などに有用である。 According to the method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention, the adhesive force of the portion of the protective tape with an ultraviolet curable adhesive that is attached to a semiconductor wafer is reduced from the wafer. It can prevent the protective tape from adhering to the grinding tool, transport tool, transport container, etc. during transportation, so when semiconductor wafer is thinly ground, or when transporting or transporting thin semiconductor wafer, etc. Useful.
1 半導体ウエハ
2 回路面
3 保護テープ
3a 外周部分
4 基材
5 粘着剤
11 紫外線
21 輸送容器
22 容器本体
23 蓋体
24 固定具
25 固定部材
31 底板
32 保持部材
33 当接部材
33a 表面
35 蓋板
35a 穴部
36 側壁部材
DESCRIPTION OF
Claims (4)
上記保護テープとして紫外線硬化型粘着剤付きで且つ半導体ウエハよりも大きいものを用いるとともに、
上記保護テープを半導体ウエハの表面に貼り付けた後、半導体ウエハの裏面から紫外線を照射する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 When grinding the back surface opposite to the circuit surface side of the semiconductor wafer, a semiconductor device manufacturing method in which a protective tape is attached to the surface to protect the semiconductor device,
As the protective tape, with a UV curable adhesive and larger than the semiconductor wafer,
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising: attaching the protective tape to a surface of a semiconductor wafer, and then irradiating ultraviolet rays from the back surface of the semiconductor wafer.
上記保護テープとして紫外線硬化型粘着剤付きで且つ半導体ウエハよりも大きいものを用いるとともに、
上記保護テープを半導体ウエハの表面に貼り付け、
次にこの保護テープの外周部分の一部を直線状の切断線に沿って切断した後、半導体ウエハの裏面から紫外線を照射する
ことを特徴とする半導体装置の製造方法。 When grinding the back surface opposite to the circuit surface side of the semiconductor wafer, a semiconductor device manufacturing method in which a protective tape is attached to the surface to protect the semiconductor device,
As the protective tape, with a UV curable adhesive and larger than the semiconductor wafer,
Affix the protective tape to the surface of the semiconductor wafer,
Next, a part of the outer peripheral portion of the protective tape is cut along a linear cutting line, and then irradiated with ultraviolet rays from the back surface of the semiconductor wafer.
複数の半導体ウエハを積層状態で保持し得る容器本体と、
この容器本体の外周を上方から覆うようにされた蓋体と、
上記容器本体を蓋体で覆った状態で、外方から蓋体を挿通されるとともに積層状態の各半導体ウエハに貼り付けられた保護テープの外周部分を貫通し得る針状の固定部材と
を具備したことを特徴とする半導体装置の輸送容器。 A transport container for transporting a semiconductor wafer to which a protective tape obtained by the manufacturing method according to claim 1 is attached,
A container body capable of holding a plurality of semiconductor wafers in a stacked state; and
A lid that covers the outer periphery of the container body from above;
A needle-like fixing member that can pass through the outer peripheral portion of the protective tape attached to each semiconductor wafer in a stacked state while the cover body is inserted from the outside while the container body is covered with the lid body. A transport container for a semiconductor device.
複数の半導体ウエハを積層状態で保持し得るとともに各半導体ウエハに貼り付けられた保護テープの直線状の切断面に接触してその移動を阻止し得る当接部材が設けられた容器本体と、
この容器本体の外周を上方から覆うようにされた蓋体と
を具備したことを特徴とする半導体装置の輸送容器。 A transport container for transporting a semiconductor wafer to which a protective tape obtained by the manufacturing method according to claim 2 is attached,
A container main body provided with an abutting member capable of holding a plurality of semiconductor wafers in a stacked state and contacting a linear cut surface of a protective tape attached to each semiconductor wafer to prevent its movement;
A transport container for a semiconductor device, comprising: a lid body configured to cover the outer periphery of the container body from above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006150764A JP2007324245A (en) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | Manufacturing method and transporting container of semiconductor device |
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JP2006150764A JP2007324245A (en) | 2006-05-31 | 2006-05-31 | Manufacturing method and transporting container of semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007324245A true JP2007324245A (en) | 2007-12-13 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2007324245A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013065888A (en) * | 2012-12-25 | 2013-04-11 | Hitachi Chemical Co Ltd | Semiconductor device manufacturing method |
JP2013219096A (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-24 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Protective tape for semiconductor wafer and sticking method thereof |
US10872802B2 (en) | 2017-11-13 | 2020-12-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of debonding a carrier substrate from a device substrate, apparatus for performing the same, and method of singulating semiconductor chips including the same |
-
2006
- 2006-05-31 JP JP2006150764A patent/JP2007324245A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2013065888A (en) * | 2012-12-25 | 2013-04-11 | Hitachi Chemical Co Ltd | Semiconductor device manufacturing method |
US10872802B2 (en) | 2017-11-13 | 2020-12-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Method of debonding a carrier substrate from a device substrate, apparatus for performing the same, and method of singulating semiconductor chips including the same |
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