JP2007321014A - Antistatic film, and coating for forming antistatic layer - Google Patents

Antistatic film, and coating for forming antistatic layer Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic film excellent in static prevention, transparency, solvent resistance, waterproof property, printing aptitude, sliding property, processability, close adhesion with a substrate film, etc., and coating for forming the antistatic layer. <P>SOLUTION: This antistatic film consisting of the substrate film and the antistatic layer installed on at least one of the surfaces of the substrate film is characterized in that the antistatic layer is formed by containing (A) a resin having an active hydrogen group in its molecule, (B) a resin consisting of an ion-conductive polymer and a supporting electrolytic salt and (C) a polyisocyanate as film-forming components. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、帯電防止フィルムおよび帯電防止層形成用塗料(以下単に「塗料」と云う場合がある)に関し、さらに詳しくは帯電防止機能、透明性、耐溶剤性、耐水性、印刷適性、適度な滑り性、加工適性、基材フィルムとの密着性に優れた帯電防止フィルムおよび該フィルム形成用の塗料に関する。   The present invention relates to an antistatic film and a coating for forming an antistatic layer (hereinafter sometimes simply referred to as “paint”), and more specifically, an antistatic function, transparency, solvent resistance, water resistance, printability, moderate The present invention relates to an antistatic film excellent in slipperiness, processability, and adhesion to a substrate film, and a coating material for forming the film.

一般的な二軸延伸ポリエステルフィルムは、機械的強度、寸法安定性、均一性、耐熱性、耐薬品性および透明性などの優れた特性を有することから、包装用フィルム、光学用フィルム、記録媒体フィルム、製版用フィルム、剥離フィルム、農業用フィルム、ウインドフィルムおよびラベルを始め、幅広い用途に使用されている。また、ポリオレフィン系樹脂フィルムは、軽量でガスバリア性や防湿性が良好且つ安価であることから、食品、電子部品および精密部品などの幅広い分野の包装材やフィルムなどとして使用されている。その他、ポリカーボネート、ポリアクリレート、トリアセチルセルロースおよびシクロオレフィン系プラスチックなどの素材からなる樹脂フィルムも様々な分野に使用されているが、プラスチックフィルム共通の問題として、静電気が発生して帯電しやすいと云う点が挙げられる。そのためフィルム加工時あるいは加工製品に周囲の埃などが付着するという問題を起こしている。   General biaxially stretched polyester films have excellent properties such as mechanical strength, dimensional stability, uniformity, heat resistance, chemical resistance, and transparency. Therefore, packaging films, optical films, and recording media It is used in a wide range of applications including films, platemaking films, release films, agricultural films, wind films and labels. Polyolefin resin films are lightweight, have good gas barrier properties and moisture-proof properties, and are inexpensive, and are therefore used as packaging materials and films in a wide range of fields such as food, electronic parts and precision parts. In addition, resin films made of materials such as polycarbonate, polyacrylate, triacetyl cellulose, and cycloolefin plastics are also used in various fields. However, as a problem common to plastic films, it is said that they are easily charged by static electricity. A point is mentioned. For this reason, there is a problem that surrounding dust adheres to the processed film or the processed product.

このため、従来では、プラスチックフィルムに非イオン系、アニオン系またはカチオン系などの低分子量界面活性剤や導電性の金属粉末をコーティングあるいは練り込むことにより、表面抵抗値を1.0×1012Ω/cm2以下に下げてフィルムに帯電防止性能を付与することが行われている。 For this reason, conventionally, a surface resistance value is 1.0 × 10 12 Ω by coating or kneading a non-ionic, anionic or cationic low molecular weight surfactant or conductive metal powder on a plastic film. The antistatic performance is imparted to the film by lowering to / cm 2 or less.

しかしながら、このような従来技術では、低分子量の界面活性剤がフィルム作成時に揮散や分解するために、フィルム中の界面活性剤濃度がバラついてフィルム性能が安定しないという問題があった。また、フィルム製膜後には、界面活性剤が経時的にフィルム表面にブリードし、フィルム表面にブリードした界面活性剤が裏移りして経時的に表面抵抗性能が低下したり、透明性、ブロッキング、接着性および印刷適性を損なうといった問題がある。   However, such a conventional technique has a problem in that the low molecular weight surfactant volatilizes or decomposes at the time of film production, so that the surfactant concentration in the film varies and the film performance is not stable. In addition, after film formation, the surfactant bleeds on the film surface over time, the surfactant bleeded on the film surface falls, and the surface resistance performance decreases over time, transparency, blocking, There is a problem that adhesiveness and printability are impaired.

また、帯電防止剤として導電性の金属粉末を用いる場合においては、金属粉末の分散加工が困難であることに加え、フィルム外観が不透明性になるとともに、使用量にもよるが高コストであり、さらに帯電防止フィルムからの導電性金属粉末の脱離などの問題がある。   In addition, in the case of using conductive metal powder as an antistatic agent, in addition to difficulty in dispersion processing of metal powder, the film appearance becomes opaque, and depending on the amount used, it is expensive. Furthermore, there are problems such as detachment of the conductive metal powder from the antistatic film.

両性高分子化合物を含有する塗布液をフィルムに塗布してフィルムに帯電防止性を付与することを特徴とするフィルムが提案されている(特許文献1)。前記両性高分子化合物としては、アニオン性基としてカルボン酸塩を、そしてカチオン性基として4級アンモニウム塩基とを構成成分として持つ化合物が考案されているが、該化合物を用いた場合には、得られる帯電防止フィルムにおいて、低湿度の場合には安定した表面抵抗値が得られない。   There has been proposed a film characterized in that a coating solution containing an amphoteric polymer compound is applied to a film to impart antistatic properties to the film (Patent Document 1). As the amphoteric polymer compound, a compound having a carboxylate as an anionic group and a quaternary ammonium base as a cationic group has been devised. In the antistatic film obtained, a stable surface resistance value cannot be obtained when the humidity is low.

また、アニオン界面活性剤およびカチオン界面活性剤の少なくとも一方が少なくとも1個のポリオキシアルキレン基を含む組成からなる帯電防止組成物が提案されている(特許文献2)。この組成物により処理された帯電防止フィルムは、その表面抵抗値が1.0×1011Ω/cm2程度で実用レベルではあるが、耐久帯電性能としては弱い(経時的に帯電防止性能が低下する)。 Further, an antistatic composition having a composition in which at least one of an anionic surfactant and a cationic surfactant contains at least one polyoxyalkylene group has been proposed (Patent Document 2). The antistatic film treated with this composition has a surface resistance value of about 1.0 × 10 11 Ω / cm 2 and is at a practical level, but has low durability charging performance (antistatic performance decreases with time). To do).

最近、帯電防止フィルムには、帯電防止機能、透明性、耐溶剤性、耐水性および外部環境(湿度)にも影響され難い性能が要求され、かつこのような帯電防止層を形成し得る塗料が求められている。
特開2004−175821号公報 特開平7−233365号公報
Recently, antistatic films are required to have antistatic function, transparency, solvent resistance, water resistance and performance that is hardly affected by the external environment (humidity), and a coating material that can form such an antistatic layer is used. It has been demanded.
JP 2004-175821 A JP 7-233365 A

しかしながら、前記の提案技術では、前記した全ての機能を満足している帯電防止フィルムが得られるわけではない。そのうえ、従来よりもさらに高性能である帯電防止フィルムおよび該フィルムを形成するための塗料が要望されている。   However, the proposed technique does not provide an antistatic film that satisfies all the functions described above. In addition, there is a demand for an antistatic film having higher performance than before and a coating material for forming the film.

従って、本発明の目的は、帯電防止性、透明性、耐溶剤性(ロールを機掃する際に有機溶剤を使用するため、使用溶剤に対して跡残りしないこと)、耐水性(外部環境(湿度)にも影響され難い性能が要求される)、印刷適性(製品の品質管理や製品加工印刷が可能であること)、滑り性(ロール−ロールの場合、適度な滑り性が要求される)、加工適性(複合化フィルム、重ね塗り適性など)および基材フィルムとの密着性などに優れた帯電防止フィルムおよび該フィルムを形成するための塗料を提供することである。   Therefore, the object of the present invention is to provide antistatic properties, transparency, and solvent resistance (the organic solvent is used when cleaning the roll, so that it does not remain in the solvent used), water resistance (external environment ( (Humidity) is required to have a performance that is not easily affected), printability (product quality control and product processing printing is possible), slipperiness (in the case of roll-roll, moderate slipperiness is required) It is to provide an antistatic film excellent in processing suitability (composite film, repeat coat suitability, etc.) and adhesion to a substrate film, and a coating for forming the film.

上記目的は以下の本発明によって達成される。すなわち、本発明は、基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた帯電防止層とからなる帯電防止フィルムにおいて、上記帯電防止層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)(以下単に「樹脂(A)」と云う場合がある)とイオン伝導ポリマーと支持電解塩とからなる樹脂(B)(以下単に「樹脂(B)」と云う場合がある)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする帯電防止フィルムを提供する。   The above object is achieved by the present invention described below. That is, the present invention provides an antistatic film comprising a base film and an antistatic layer provided on at least one surface of the base film, wherein the antistatic layer is a resin having an active hydrogen group in the molecule. (A) (hereinafter sometimes referred to simply as “resin (A)”), a resin (B) composed of an ion conductive polymer and a supporting electrolytic salt (hereinafter also referred to simply as “resin (B)”) and a poly Provided is an antistatic film characterized in that it is formed using isocyanate (C) as a film-forming component.

上記本発明においては、樹脂(A)中の活性水素基が、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基および/またはエポキシ基から選ばれる少なくとも1つの基を主鎖および/または側鎖に有する樹脂であること;樹脂(B)のイオン伝導ポリマーが、親水性セグメントとシロキサンセグメントとを含有する樹脂であること;および樹脂(B)の支持電解塩が、下記一般式で表される塩であることが好ましい。
+-
(M+はLi+、Na+およびK+から選ばれる少なくとも1種であり、X-はClO4 -、BF4 -、PF6 -、CF3SO3 -、CF3CO2 -、CF3SO2 -、(CF3SO22-、(C25SO22-、(CF3SO23-および(C25SO23-から選ばれる少なくとも1種である。)
In the present invention, the active hydrogen group in the resin (A) has at least one group selected from a hydroxyl group, amino group, carboxyl group, thiol group and / or epoxy group in the main chain and / or side chain. The ion conductive polymer of the resin (B) is a resin containing a hydrophilic segment and a siloxane segment; and the supporting electrolytic salt of the resin (B) is a salt represented by the following general formula: It is preferable.
M + X -
(M + is at least one selected from Li + , Na + and K + , and X is ClO 4 , BF 4 , PF 6 , CF 3 SO 3 , CF 3 CO 2 , CF 3. Selected from SO 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N , (CF 3 SO 2 ) 3 C and (C 2 F 5 SO 2 ) 3 C At least one).

また、本発明においては、帯電防止層の表面抵抗値が、105〜1012Ω/cm2であること;帯電防止層のヘイズ値が、3.0%以下であること;および帯電防止層の動摩擦係数が、0.05〜0.30であることが好ましい。 In the present invention, the surface resistance value of the antistatic layer is 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 ; the haze value of the antistatic layer is 3.0% or less; and the antistatic layer The dynamic friction coefficient is preferably 0.05 to 0.30.

また、本発明は、前記樹脂(A)と前記樹脂(B)とを有機溶剤に溶解または分散してなることを特徴とする塗料を提供する。   Moreover, this invention provides the coating material formed by melt | dissolving or disperse | distributing the said resin (A) and the said resin (B) in the organic solvent.

上記本発明の塗料においては、樹脂(A)が、樹脂(A)と樹脂(B)との合計量(100質量%)のうちの5〜95質量%であり、樹脂(B)が95〜5質量%であること;およびさらに使用直前にポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを含有していることが好ましい。   In the coating material of the present invention, the resin (A) is 5 to 95% by mass of the total amount (100% by mass) of the resin (A) and the resin (B), and the resin (B) is 95 to 95%. It is preferable that the polyisocyanate is added immediately before use, or a stabilized polyisocyanate is contained.

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、帯電防止フィルムの帯電防止層を、前記樹脂(A)と前記樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成することで、優れた機能を有する帯電防止フィルムが得られることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have made the antistatic layer of the antistatic film as a film-forming component using the resin (A), the resin (B), and the polyisocyanate (C). It has been found that an antistatic film having an excellent function can be obtained by forming.

上記本発明において、樹脂(A)とポリイソシアネート(C)とで帯電防止層の耐溶剤性、基材との密着性などの表面特性を引き出し、樹脂(B)が親水性セグメントであるエチレンオキシドユニットの酸素原子がイオン解離を行い、ポリマー鎖運動により支持解離塩のイオンが移動して帯電防止層に帯電防止特性を発現する。その際に、樹脂(B)がシロキサンセグメントを有していると、傾斜配向することにより樹脂(B)が帯電防止層の表面側へ配向して帯電防止特性の効果が高まる。   In the present invention, an ethylene oxide unit in which the resin (A) and the polyisocyanate (C) bring out surface properties such as solvent resistance of the antistatic layer and adhesion to the substrate, and the resin (B) is a hydrophilic segment. Oxygen atoms of these ions undergo ion dissociation, and ions of the supporting dissociation salt move due to the movement of the polymer chain, thereby exhibiting antistatic properties in the antistatic layer. At that time, if the resin (B) has a siloxane segment, the resin (B) is oriented toward the surface side of the antistatic layer by tilted orientation, and the effect of antistatic properties is enhanced.

従って本発明によれば、帯電防止性、透明性、耐溶剤性、耐水性、印刷適性、滑り性、加工適性および基材フィルムとの密着性などに優れた帯電防止フィルムおよび該フィルムを形成するための塗料が提供される。   Therefore, according to the present invention, an antistatic film excellent in antistatic properties, transparency, solvent resistance, water resistance, printability, slipperiness, suitability for processing, adhesion to a base film, and the like are formed. A paint is provided for.

次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の帯電防止フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた帯電防止層とからなっている。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments.
The antistatic film of the present invention comprises a base film and an antistatic layer provided on at least one surface of the base film.

次に本発明を特徴づける帯電防止層についてさらに詳しく説明する。帯電防止層は、樹脂(A)と樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されているものであり、これらを溶剤などに溶解させてあるいは無溶剤で塗料とし、基材フィルムの上に塗布および乾燥して形成することが好ましい。この場合の塗料は、樹脂(A)と樹脂(B)とポリイソシアネート(C)からなる組成物である。   Next, the antistatic layer characterizing the present invention will be described in more detail. The antistatic layer is formed using the resin (A), the resin (B), and the polyisocyanate (C) as a film-forming component, and these are dissolved in a solvent or the like to form a paint without solvent. It is preferably formed by applying and drying on a material film. The coating material in this case is a composition comprising resin (A), resin (B), and polyisocyanate (C).

樹脂(A)中の活性水素基は、例えば、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基および/またはエポキシ基であり、これらの中では水酸基が好ましく使用される。前記樹脂(A)が、その分子内に活性水素基を有している場合は、そのまま樹脂(A)として使用できるが、前記樹脂(A)が、その分子内に活性水素基を有していない場合は、変性などの処理を行って活性水素基を付与して樹脂(A)として使用することができる。   The active hydrogen group in the resin (A) is, for example, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group and / or an epoxy group. Among these, a hydroxyl group is preferably used. When the resin (A) has an active hydrogen group in its molecule, it can be used as it is as the resin (A), but the resin (A) has an active hydrogen group in its molecule. If not, it can be used as the resin (A) by applying a treatment such as modification to give an active hydrogen group.

樹脂(A)としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、変性フェノキシ系樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、セルロース類、キトサンおよびウレタン樹脂などが挙げられる。   Examples of the resin (A) include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, acetal group-modified polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol, silanol group-modified polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, Ethylene-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, modified phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, fluorine resin, melamine resin, alkyd resin, phenol Examples include resins, polyethers, polyesters, celluloses, chitosan, and urethane resins.

上記樹脂(A)中で特に好ましいのは、エチレン−ビニルアルコール共重合体、部分けん化ポリビニルアルコールおよびフェノキシ樹脂である。さらに、アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコールなどをフッ素変性シリコーン基または長鎖アルキル基で変性した樹脂も使用できる。   Among the resins (A), ethylene-vinyl alcohol copolymer, partially saponified polyvinyl alcohol, and phenoxy resin are particularly preferable. Furthermore, a resin obtained by modifying an acrylic resin, polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol or the like with a fluorine-modified silicone group or a long-chain alkyl group can also be used.

以上列記した樹脂(A)は本発明において使用する好ましい樹脂であるが、本発明はこれらの例示の樹脂に限定されるものではない。従って上述の例示の樹脂のみならず、その他現在市販されており、市場から容易に入手し得る樹脂(A)はいずれも本発明において好ましく使用することができる。   The resins (A) listed above are preferred resins used in the present invention, but the present invention is not limited to these exemplified resins. Accordingly, not only the above-exemplified resins but also other resins (A) that are currently commercially available and can be easily obtained from the market can be preferably used in the present invention.

本発明で使用する樹脂(B)におけるイオン伝導ポリマーの1例としては、その中に親水性セグメントとポリシロキサンセグメントとを含有しているポリウレタン樹脂が挙げられる。上記ポリシロキサンセグメントは、上記ポリウレタン樹脂の主鎖中に含有あるいは分岐した状態で含有されている。すなわち、上記ポリウレタン樹脂の原料となるポリシロキサンセグメント含有化合物が、両末端反応型であればポリウレタン樹脂の主鎖である幹部分に、ポリシロキサンセグメント含有化合物が、片末端あるいは分岐反応型であれば、ポリウレタン樹脂の主鎖から分岐した状態で含有されることとなる。   One example of the ion conductive polymer in the resin (B) used in the present invention is a polyurethane resin containing a hydrophilic segment and a polysiloxane segment therein. The polysiloxane segment is contained in the main chain of the polyurethane resin or contained in a branched state. That is, if the polysiloxane segment-containing compound that is the raw material of the polyurethane resin is a double-end reactive type, the polysiloxane segment-containing compound is at one end or a branched reactive type at the trunk portion that is the main chain of the polyurethane resin. And contained in a state branched from the main chain of the polyurethane resin.

上記の如きポリウレタン樹脂は、親水性ポリオールおよび/またはポリアミンと有機ポリイソシアネートと少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物とを、鎖伸長剤の不存在下または存在下で反応させて得られる。該ポリウレタン樹脂中における親水性ポリオールおよび/またはポリアミンから構成される親水性セグメントの含有量は樹脂全体中で20〜90質量%を占める量であることが好ましく、また、ポリシロキサンセグメントの含有量は樹脂全体中で0.01〜30質量%を占める量であることが好ましく、さらに上記樹脂の重量平均分子量は3,000〜500,000であることが好ましい。   The polyurethane resin as described above is obtained by reacting a hydrophilic polyol and / or polyamine, an organic polyisocyanate, and a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the absence or presence of a chain extender. . The content of the hydrophilic segment composed of the hydrophilic polyol and / or polyamine in the polyurethane resin is preferably an amount occupying 20 to 90% by mass in the whole resin, and the content of the polysiloxane segment is The amount of the resin is preferably from 0.01 to 30% by mass, and the weight average molecular weight of the resin is preferably from 3,000 to 500,000.

上記ポリウレタン樹脂中に親水性セグメントを導入するために使用する親水性ポリオールまたはポリアミンとしては、水酸基、アミノ基、カルボキシル基などを有する、重量平均分子量が400〜8,000の範囲の化合物が好ましい。末端が水酸基で親水性を有するものとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール/ポリテトラメチレングリコール共重合ポリオール、ポリエチレングリコール/ポリプロピレングリコール共重合ポリオール、ポリエチレングリコールアジペート、ポリエチレングリコールカーボネート、ポリエチレングリコール/ポリ−ε−ラクトン共重合ポリオール、ポリエチレングリコール/ポリ−バレロラクトン共重合ポリオールなどのブロックまたはランダム共重合体、メトキシポリエチレングリコールモノオールとイソシアネートとを反応させウレタン結合で介したものからなる誘導体が挙げられる。   The hydrophilic polyol or polyamine used for introducing the hydrophilic segment into the polyurethane resin is preferably a compound having a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group and the like and having a weight average molecular weight in the range of 400 to 8,000. Examples of those having a terminal hydroxyl group and hydrophilicity include polyethylene glycol, polyethylene glycol / polytetramethylene glycol copolymer polyol, polyethylene glycol / polypropylene glycol copolymer polyol, polyethylene glycol adipate, polyethylene glycol carbonate, polyethylene glycol / poly- Examples include ε-lactone copolymer polyols, block or random copolymers such as polyethylene glycol / poly-valerolactone copolymer polyols, and derivatives formed by reacting methoxypolyethylene glycol monool with isocyanate via urethane bonds.

また、末端がアミノ基で親水性を有するものとしては、例えば、ポリエチレンオキシドジアミン、ポリエチレンオキシドプロピレンオキシドジアミン、ポリエチレンオキシドトリアミン、ポリエチレンオキシドプロピレンオキシドトリアミン、その他、カルボキシル基やビニル基を有したエチレンオキシド付加物などが挙げられる。   Examples of those having an amino group at the end and having hydrophilicity include polyethylene oxide diamine, polyethylene oxide propylene oxide diamine, polyethylene oxide triamine, polyethylene oxide propylene oxide triamine, and other ethylene oxide adducts having a carboxyl group or a vinyl group. Etc.

また、本発明においては、他の性能を付与するため、親水性鎖を有しない他のポリオール、ポリアミン、ポリカルボン酸などを共重合することも可能である。以上列記した活性水素基を有する化合物は本発明において使用する好ましい化合物であるが、本発明はこれらの例示の化合物に限定されるものではない。従って上述の例示の化合物のみならず、その他現在市販されており、市場から容易に入手し得る化合物はいずれも本発明において好ましく使用することができる。   In the present invention, it is also possible to copolymerize other polyols, polyamines, polycarboxylic acids and the like that do not have a hydrophilic chain in order to impart other performance. The compounds having an active hydrogen group listed above are preferable compounds used in the present invention, but the present invention is not limited to these exemplified compounds. Accordingly, not only the above-exemplified compounds but also other compounds that are currently commercially available and can be easily obtained from the market can be preferably used in the present invention.

本発明で使用する前記ポリシロキサンセグメントとなる原料成分について説明する。本発明において使用される活性水素基を少なくとも1個有するポリシロキサン化合物としては、例えば、以下のような化合物を用いることが好ましい(この中には活性水素基を利用して変性されたエポキシ変性ポリシロキサン化合物も含んでいるが、イソシアネート基と反応してポリウレタン樹脂中に含有されることとなるので含めている)。   The raw material component used as the said polysiloxane segment used by this invention is demonstrated. As the polysiloxane compound having at least one active hydrogen group used in the present invention, for example, the following compounds are preferably used (in this, an epoxy-modified polysiloxane modified by using active hydrogen groups). A siloxane compound is also included, but it is included because it reacts with an isocyanate group and is contained in a polyurethane resin).

(1)アミノ変性ポリシロキサン化合物

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(1) Amino-modified polysiloxane compound
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(2)エポキシ変性ポリシロキサン化合物

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(2) Epoxy-modified polysiloxane compound
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(3)アルコール変性ポリシロキサン化合物

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(3) Alcohol-modified polysiloxane compound
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(4)メルカプト変性ポリシロキサン化合物

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(4) Mercapto-modified polysiloxane compound
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上記の他にもエチレンオキシドやプロピレンオキシドで変性したポリエチレンオキシドポリシロキサン化合物や、ポリプロピレンオキシドポリシロキサン化合物など、ポリシロキサン化合物をラクトンで変性したポリラクトン(ポリエステル)−ポリシロキサン化合物が好ましく使用される。特に好ましくは分子内に1個以上の活性水素基を有するポリシロキサン化合物をエチレンオキシド、プロピレンオキシドなどでエーテル変性したポリエーテル−ポリシロキサン化合物である。ここで使用する好ましいオキシアルキレン重合体の分子鎖を得るためのアルキレンオキシド類としては、具体的には、エチレンオキシド、プロピレンオキシド、α−ブチレンオキシド、β−ブチレンオキシド、ヘキセンオキシド、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、α−メチルスチレンオキシドなどが挙げられ、種々の触媒の存在下に開環重合させることによって得られる。   In addition to the above, a polylactone (polyester) -polysiloxane compound obtained by modifying a polysiloxane compound with a lactone such as a polyethylene oxide polysiloxane compound modified with ethylene oxide or propylene oxide or a polypropylene oxide polysiloxane compound is preferably used. Particularly preferred are polyether-polysiloxane compounds obtained by ether-modifying a polysiloxane compound having one or more active hydrogen groups in the molecule with ethylene oxide, propylene oxide or the like. Specific examples of alkylene oxides for obtaining the molecular chain of the preferred oxyalkylene polymer used herein include ethylene oxide, propylene oxide, α-butylene oxide, β-butylene oxide, hexene oxide, cyclohexene oxide, and styrene oxide. , Α-methylstyrene oxide and the like, and can be obtained by ring-opening polymerization in the presence of various catalysts.

以上列記した活性水素基を有するポリシロキサン化合物は本発明において使用する好ましい化合物であるが、本発明はこれらの例示の化合物に限定されるものではない。従って上述の例示の化合物のみならず、その他現在市販されており、市場から容易に入手し得る化合物はいずれも本発明において好ましく使用することができる。本発明において特に好ましい化合物は2個の水酸基またはアミノ基を有するポリシロキサン化合物である。   The polysiloxane compounds having active hydrogen groups listed above are preferred compounds used in the present invention, but the present invention is not limited to these exemplified compounds. Accordingly, not only the above-exemplified compounds but also other compounds that are currently commercially available and can be easily obtained from the market can be preferably used in the present invention. Particularly preferred compounds in the present invention are polysiloxane compounds having two hydroxyl groups or amino groups.

上記ポリウレタン樹脂の製造に使用可能な他のポリオールとしては、好ましくはポリウレタンの製造に従来から使用されている短鎖ジオール、多価アルコールおよび高分子ポリオールなどの従来公知のものが、また、ポリアミンとしてはポリウレタンの製造に従来から使用されている短鎖ジアミンなどが使用できる。   As other polyols that can be used for the production of the polyurethane resin, preferably known ones such as short-chain diols, polyhydric alcohols, and polymer polyols conventionally used for the production of polyurethane are also used as polyamines. The short-chain diamine conventionally used for the production of polyurethane can be used.

上記短鎖ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサメチレングリコールおよびネオペンチルグリコールなどの脂肪族グリコール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)、1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンおよび2−メチル−1,1−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環式系グリコール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)、キシリレングリコールなどの芳香族グリコール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)、ビスフェノールA、チオビスフェノールおよびスルホンビスフェノールなどのビスフェノール類およびそのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)などが挙げられる。   Examples of the short-chain diol include aliphatic glycols such as ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol, and neopentyl glycol. And its alkylene oxide low mole adduct (number average molecular weight less than 500), alicyclic glycols such as 1,4-bishydroxymethylcyclohexane and 2-methyl-1,1-cyclohexanedimethanol, and its alkylene oxide low mole Adducts (number average molecular weight less than 500), aromatic glycols such as xylylene glycol and their alkylene oxide low molar adducts (number average molecular weight less than 500), bisphenol A, thiobisphenol and sulfone bisphenol Phenols and alkylene oxide low mol adduct (number average molecular weight of less than 500), and the like.

また、多価アルコールとしては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、トリス−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、1,1,1−トリメチロールエタンおよび1,1,1−トリメチロールプロパンなどが挙げられる。さらに同一分子内に少なくとも1個の活性水素含有基と水酸基以外の親水性基とを両有する化合物としては、スルホン酸系、カルボン酸系、燐酸系、アミン系などの化合物を用いることができる。   Examples of the polyhydric alcohol include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, tris- (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 1,1,1-trimethylolethane, and 1,1,1- Examples include trimethylolpropane. Furthermore, as a compound having both at least one active hydrogen-containing group and a hydrophilic group other than a hydroxyl group in the same molecule, compounds such as sulfonic acid, carboxylic acid, phosphoric acid, and amine can be used.

例えば、スルホン酸系化合物としては、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−2−アミノエタンスルホン酸などが挙げられる。また、カルボン酸系化合物としては、ジメチロールプロパン酸、ジメチロールブタン酸およびそれらのアルキレンオキシド低モル付加物(数平均分子量500未満)やγ−カプロラクトン低モル付加物(数平均分子量500未満)、酸無水物とグリセリンから誘導されるハーフエステル類、水酸基と不飽和基を含有するモノマーとカルボキシル基と不飽和基を含有するモノマーとをフリーラジカル反応により誘導される化合物などが挙げられる。アミン系であれば、C1〜C18のアルキルジエタノールアミンなどのアルキルジアルカノールアミン類などの化合物が挙げられる。これらは単独あるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。   For example, examples of the sulfonic acid compound include N, N-bis (2-hydroxyethyl) -2-aminoethanesulfonic acid. In addition, as carboxylic acid compounds, dimethylolpropanoic acid, dimethylolbutanoic acid and their alkylene oxide low-mole adducts (number average molecular weight less than 500) and γ-caprolactone low-mole adducts (number average molecular weight less than 500), Examples thereof include half esters derived from an acid anhydride and glycerin, and compounds derived from a monomer containing a hydroxyl group and an unsaturated group and a monomer containing a carboxyl group and an unsaturated group by a free radical reaction. If it is an amine system, compounds, such as alkyl dialkanolamines, such as C1-C18 alkyl diethanolamine, are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

前記高分子ポリオールとしては、例えば、以下のものが例示される。
(1)ポリエーテルポリオール、例えば、アルキレンオキシド(プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなど)および/または、複素環式エーテル(テトラヒドロフランなど)を重合または共重合して得られるものが例示され、具体的にはポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコールおよびポリヘキサメチレングリコールなど、
Examples of the polymer polyol include the following.
(1) Polyether polyols such as those obtained by polymerizing or copolymerizing alkylene oxides (propylene oxide, butylene oxide, etc.) and / or heterocyclic ethers (tetrahydrofuran, etc.), specifically polypropylene Glycol, polytetramethylene ether glycol and polyhexamethylene glycol, etc.

(2)ポリエステルポリオール、例えば、脂肪族系ジカルボン酸類(例えば、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸およびアゼライン酸など)および/または芳香族系ジカルボン酸(例えば、イソフタル酸およびテレフタル酸など)と低分子量グリコール類(例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコールおよび1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンなど)とを縮重合したものが例示され、具体的にはポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリネオペンチルアジペートジオール、ポリエチレン/ブチレンアジペートジオール、ポリネオペンチル/ヘキシルアジペートジオール、ポリ−3−メチルペンタンアジペートジオールおよびポリブチレンイソフタレートジオールなど、 (2) Polyester polyols such as aliphatic dicarboxylic acids (eg succinic acid, adipic acid, sebacic acid, glutaric acid and azelaic acid) and / or aromatic dicarboxylic acids (eg isophthalic acid and terephthalic acid) And low molecular weight glycols (for example, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol, neopentyl glycol and 1,4-bishydroxy For example, polyethylene adipate diol, polybutylene adipate diol, polyhexamethylene adipate diol, polyneopentyl adipate diol, polyethylene / butyle. Adipate diol, polyneopentyl / hexyl adipate diol, poly-3-methylpentane adipate diol, and polybutylene isophthalate diol, etc.,

(3)ポリラクトンポリオール、例えば、ポリカプロラクトンジオールまたはポリカプロラクトントリオールおよびポリ−3−メチルバレロラクトンジオールなど、
(4)ポリカーボネートジオール、例えば、ポリヘキサメチレンカーボネートジオールなど、
(5)ポリオレフィンポリオール、例えば、ポリブタジエングリコールおよびポリイソプレングリコール、または、その水素化物など、
(6)ポリメタクリレートジオール、例えば、α,ω−ポリメチルメタクリレートジオールおよびα,ω−ポリブチルメタクリレートジオールなどが挙げられる。
(3) Polylactone polyols such as polycaprolactone diol or polycaprolactone triol and poly-3-methylvalerolactone diol,
(4) Polycarbonate diol, such as polyhexamethylene carbonate diol,
(5) Polyolefin polyol, such as polybutadiene glycol and polyisoprene glycol, or a hydride thereof,
(6) Polymethacrylate diols such as α, ω-polymethylmethacrylate diol and α, ω-polybutylmethacrylate diol are exemplified.

これらのポリオールの構造および分子量は特に限定されないが、前記親水性ポリオールおよび/またはポリアミンと併用して使用することができる。   The structure and molecular weight of these polyols are not particularly limited, but they can be used in combination with the hydrophilic polyol and / or polyamine.

前記ポリアミンとして好ましいポリアミンは、例えば、短鎖ジアミン、脂肪族系、芳香族系ジアミン、長鎖ジアミン類およびヒドラジン類などが挙げられる。短鎖ジアミンとしては、例えば、メチレンジアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンおよびオクタメチレンジアミンなどの脂肪族ジアミン化合物、フェニレンジアミン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−メチレンビス(フェニルアミン)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルおよび4,4’−ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族ジアミン化合物、シクロペンタンジアミン、シクロヘキシルジアミン、4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノシクロヘキサンおよびイソホロンジアミンなどの脂環式ジアミン化合物などが挙げられる。   Preferred polyamines as the polyamine include, for example, short chain diamines, aliphatic, aromatic diamines, long chain diamines and hydrazines. Examples of the short-chain diamine include aliphatic diamine compounds such as methylene diamine, ethylene diamine, trimethylene diamine, hexamethylene diamine and octamethylene diamine, phenylene diamine, 3,3′-dichloro-4,4′-diaminodiphenyl methane, 4 , 4′-methylenebis (phenylamine), 4,4′-diaminodiphenyl ether and aromatic diamine compounds such as 4,4′-diaminodiphenylsulfone, cyclopentanediamine, cyclohexyldiamine, 4,4-diaminodicyclohexylmethane, And alicyclic diamine compounds such as 4-diaminocyclohexane and isophoronediamine.

長鎖ジアミンとしては、アルキレンオキシド(プロピレンオキシド、ブチレンオキシドなど)を重合または共重合して得られるものが例示され、具体的にはポリプロピレンジアミンなどが挙げられる。また、ヒドラジン、カルボヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジドおよびフタル酸ジヒドラジドなどのヒドラジン類が挙げられる。これらは単独であるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。ポリオールおよびポリアミンとしては、前記親水性ポリオールおよび/またはポリアミンと併用して使用することができるジオール化合物およびジアミン化合物としてはポリエーテル系が好ましい。   Examples of the long-chain diamine include those obtained by polymerization or copolymerization of alkylene oxide (such as propylene oxide and butylene oxide), and specific examples include polypropylene diamine. Further, hydrazines such as hydrazine, carbohydrazide, adipic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide and phthalic acid dihydrazide can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. As the polyol and the polyamine, the diol compound and the diamine compound that can be used in combination with the hydrophilic polyol and / or the polyamine are preferably polyethers.

前記本発明で使用するポリウレタン樹脂の合成に使用するポリイソシアネート化合物としては、従来公知のポリウレタンの製造に使用されているものがいずれも使用でき特に限定されない。ポリイソシアネート化合物として好ましいものは、例えば、トルエン−2,4−ジイソシアネート、4−メトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−イソプロピル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−クロル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−ブトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアネートジフェニルエーテル、4,4’−メチレンビス(フェニレンイソシアネート)(MDI)、ジュリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ベンジジンジイソシアネート、o−ニトロベンジジンジイソシアネートおよび4,4’−ジイソシアネートジベンジルなどの芳香族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートおよび1,10−デカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,5−テトラヒドロナフタレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添MDIおよび水添XDIなどの脂環式ジイソシアネートなど、あるいはこれらのジイソシアネート化合物と低分子量のポリオールやポリアミンを末端がイソシアネートとなるように反応させて得られるポリウレタンプレポリマーなども当然使用することができる。   As the polyisocyanate compound used for the synthesis of the polyurethane resin used in the present invention, any of those conventionally used for producing polyurethane can be used and is not particularly limited. Preferred examples of the polyisocyanate compound include toluene-2,4-diisocyanate, 4-methoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 4-isopropyl-1,3-phenylene diisocyanate, and 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate. 4-butoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 2,4-diisocyanate diphenyl ether, 4,4′-methylenebis (phenylene isocyanate) (MDI), jurylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), 1, Aromatic diisocyanates such as 5-naphthalene diisocyanate, benzidine diisocyanate, o-nitrobenzidine diisocyanate and 4,4′-diisocyanate dibenzyl, methyl Diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,10-decamethylene diisocyanate and other aliphatic diisocyanates, 1,4-cyclohexylene diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) 1,5-tetrahydronaphthalene diisocyanate, isophorone diisocyanate, alicyclic diisocyanates such as hydrogenated MDI and hydrogenated XDI, etc., or these diisocyanate compounds and low molecular weight polyols or polyamines are reacted so as to be isocyanates. Naturally, the obtained polyurethane prepolymer can also be used.

上記の原料を用いるポリウレタン樹脂の製造方法については特に限定されず、従来公知のポリウレタンの製造方法を用いることができる。例えば、分子内に活性水素を含まない有機溶剤の存在下、または不存在下に、親水性ポリオールおよび/またはポリアミンと少なくとも1個の活性水素基とポリシロキサンセグメントが同一分子内に共存する化合物と、ポリオールおよび/またはポリアミンと、ポリイソシアネートと、必要に応じて低分子ジオールもしくは低分子ジアミンを鎖伸長剤とし、イソシアネート基と活性水素含有官能基との当量比が、通常、1.0となる配合で、ワンショット法、または多段法により、通常、20〜150℃、好ましくは30〜110℃で、イソシアネート基が殆どなくなるまで反応させることでポリウレタン樹脂を得ることができる。   A method for producing a polyurethane resin using the above raw materials is not particularly limited, and a conventionally known method for producing polyurethane can be used. For example, a compound in which a hydrophilic polyol and / or polyamine, at least one active hydrogen group, and a polysiloxane segment coexist in the same molecule in the presence or absence of an organic solvent that does not contain active hydrogen in the molecule. , Polyol and / or polyamine, polyisocyanate, and optionally a low molecular diol or low molecular diamine as a chain extender, and the equivalent ratio of isocyanate group to active hydrogen-containing functional group is usually 1.0. By blending, a polyurethane resin can be obtained by reacting at 20 to 150 ° C., preferably 30 to 110 ° C. until there is almost no isocyanate group, by a one-shot method or a multistage method.

なお、上記ポリウレタン樹脂は、無溶剤で合成しても、有機溶剤を用いて合成してもよい。有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルおよびシクロヘキサノンなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートおよびN−メチル−2−ピロリドンなども使用することができる。   The polyurethane resin may be synthesized without a solvent or may be synthesized using an organic solvent. Preferable organic solvents include, for example, methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and cyclohexanone. Further, acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate and N-methyl-2- Pyrrolidone and the like can also be used.

ポリウレタン樹脂を製造する場合には、それぞれ前記の親水性ポリオールおよび/またはポリアミンは20〜95質量%、好ましくは30〜80質量%、少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物を同一分子内に有する化合物は0.01〜30質量%、好ましくは0.1〜20質量%、鎖伸長剤は0〜50質量%、好ましくは0〜40質量%(これらの成分の合計は100質量%である。)の割合で使用し、ポリイソシアネートの比は、NCO/OH(NH2)=1.0で樹脂(B)を合成する。 In the case of producing a polyurethane resin, the hydrophilic polyol and / or polyamine is 20 to 95% by mass, preferably 30 to 80% by mass, and a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the same molecule. The compound is contained in 0.01 to 30% by mass, preferably 0.1 to 20% by mass, the chain extender is 0 to 50% by mass, preferably 0 to 40% by mass (the total of these components is 100% by mass). The resin (B) is synthesized with a polyisocyanate ratio of NCO / OH (NH 2 ) = 1.0.

なお、上記の反応成分において、親水性ポリオールおよび/またはポリアミンが多いと(95質量%を超えると)、帯電防止フィルムにおいて帯電防止層の耐水性の低下および外気の湿度制御が不可能となり好ましくない。一方、親水性ポリオールおよび/またはポリアミンが少ないと(20質量%未満であると)、帯電防止フィルムの帯電防止性能が低下するので好ましくない(帯電防止機構が、親水性セグメント(イオン解離ポリマー)と支持電解塩からなるイオン伝導性ポリマーのため)。   In the above reaction component, if the amount of the hydrophilic polyol and / or polyamine is large (exceeding 95% by mass), the antistatic film in the antistatic film is not preferable because the water resistance of the antistatic layer is lowered and humidity control of the outside air is impossible. . On the other hand, when the amount of the hydrophilic polyol and / or polyamine is small (less than 20% by mass), the antistatic performance of the antistatic film is deteriorated, which is not preferable (the antistatic mechanism is a hydrophilic segment (ion dissociation polymer)). For ion-conducting polymer consisting of a supporting electrolyte salt).

また、上記の反応成分において、ポリシロキサン化合物が多いと(30質量%を超えると)、帯電防止層を形成した帯電防止フィルム同士が滑りすぎて問題が発生する。また、未反応ポリシロキサン成分の残留がある場合には、製品の汚れ(シロキサン成分に手の油などの汚染物が付着する)や印刷加工、重ね塗り加工する際には使用するインキ・塗料をはじく現象が起きたりするので好ましくない。一方、ポリシロキサン化合物が少ないと(0.01質量%未満)、帯電防止層を形成した帯電防止フィルム同士の滑り不足や外気の湿度制御が不可能となり好ましくない。   Further, in the above reaction component, when the amount of the polysiloxane compound is large (exceeding 30% by mass), the antistatic films on which the antistatic layer is formed slip too much to cause a problem. Also, if there is residual unreacted polysiloxane component, the ink / paint used for product stains (contaminants such as hand oil adhere to the siloxane component), printing and overcoating should be selected. It is not preferable because a repelling phenomenon occurs. On the other hand, when the amount of the polysiloxane compound is small (less than 0.01% by mass), it is not preferable because slippage between the antistatic films formed with the antistatic layer is insufficient and humidity control of the outside air is impossible.

本発明で使用するポリウレタン樹脂の分子量は、重量平均分子量(GPCで測定、標準ポリスチレン換算)で5,000〜500,000の範囲が好ましい。   The molecular weight of the polyurethane resin used in the present invention is preferably in the range of 5,000 to 500,000 in terms of weight average molecular weight (measured by GPC, converted to standard polystyrene).

上記樹脂(B)におけるイオン伝導ポリマーの他の例として、少なくとも1個の活性水素基とシロキサンセグメントを有する化合物とエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシド化合物とを反応させて得られるシロキサン変性ポリアルキレンオキシド樹脂も有用である。該樹脂について以下に説明する。   Another example of the ion conductive polymer in the resin (B) is a siloxane-modified polyalkylene oxide resin obtained by reacting a compound having at least one active hydrogen group and a siloxane segment with an ethylene oxide and / or propylene oxide compound. Useful. The resin will be described below.

上記シロキサン変性ポリアルキレンオキシド樹脂は、少なくとも1個の活性水素基含有シロキサン化合物として前記例示のシロキサン化合物を使用し、該化合物にエチレンオキシド、プロピレンオキシド、α−ブチレンオキシド、β−ブチレンオキシド、ヘキセンオキシド、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキシド、α−メチルスチレンオキシドなどを種々の触媒の存在下に開環重合させることによって得られる。この重合の触媒としてはKOH、NaOHなどのアルカリ触媒などが挙げられる。ここで特に好ましいポリアルキレンオキシド化合物はエチレンオキシドとプロピレンオキシドであり、特に好ましいのはエチレンオキシドである。また、反応して得られた樹脂の末端基(水酸基)は、帯電防止フィルムの帯電防止層を形成する際にポリイソシアネート反応させるために、2官能以上が好ましい(耐溶剤性、ブリードアウトが少ない)。下記にポリシロキサンにエチレンオキシドを反応させて得られた樹脂(化合物)を例示する。   The siloxane-modified polyalkylene oxide resin uses the siloxane compound exemplified above as at least one active hydrogen group-containing siloxane compound, and ethylene oxide, propylene oxide, α-butylene oxide, β-butylene oxide, hexene oxide, It can be obtained by ring-opening polymerization of cyclohexene oxide, styrene oxide, α-methylstyrene oxide or the like in the presence of various catalysts. Examples of the polymerization catalyst include alkali catalysts such as KOH and NaOH. Particularly preferred polyalkylene oxide compounds here are ethylene oxide and propylene oxide, and particularly preferred is ethylene oxide. Further, the terminal group (hydroxyl group) of the resin obtained by the reaction is preferably bifunctional or more in order to cause polyisocyanate reaction when forming the antistatic layer of the antistatic film (solvent resistance and bleed out are low). ). Examples of resins (compounds) obtained by reacting polysiloxane with ethylene oxide are shown below.

Figure 2007321014
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その他のシロキサン変性ポリアルキレンオキシド樹脂としては、
(1)メチルハイドロジェンポリシロキサン化合物(SiH)とポリオキシエチレンアリルエーテル化合物(CH2=CH−CH2O〜)とを白金触媒などを使用してヒドロシリル化反応により得られるポリエーテルシロキサン共重合体、
(2)両末端エステル基含有シロキサン化合物とポリエチレングリコールとをテトラブチルチタン酸エステル触媒などを使用して重縮合反応により得られるポリエーテルシロキサン共重合体、および
(3)活性水素基を有するポリシロキサン化合物とメトキシポリエチレングリコールとをジイソシアネートを用いて(ウレタン結合で介して)反応して得られるポリエーテルシロキサン共重合体などが挙げられる。
As other siloxane-modified polyalkylene oxide resins,
(1) methyl hydrogen polysiloxane compound (SiH) and polyoxyethylene allyl ether compound (CH 2 = CH-CH 2 O~) and polyether siloxane co obtainable by hydrosilylation reaction using a platinum catalyst to heavy Coalescence,
(2) A polyether siloxane copolymer obtained by polycondensation reaction between a siloxane compound containing both terminal ester groups and polyethylene glycol using a tetrabutyl titanate ester catalyst, and (3) a polysiloxane having an active hydrogen group Examples thereof include polyether siloxane copolymers obtained by reacting a compound and methoxypolyethylene glycol with diisocyanate (via a urethane bond).

上記樹脂(B)におけるイオン伝導ポリマーのさらに他の例としては、シロキサンマクロモノマー((メタ)アクリル基含有シロキサンマクロマー)とメトキシポリエチレンオキシドメタクリレートやメトキシポリエチレンオキシドアクリレートなどを使用したポリシロキサン・アルキレン変性アクリル樹脂が挙げられる。該樹脂について説明する。該樹脂の製造に使用する、分子内に(メタ)アクリル基を少なくとも1個有するポリシロキサン化合物としては、例えば、以下のような化合物が挙げられる。   Another example of the ion conductive polymer in the resin (B) is a polysiloxane / alkylene-modified acrylic using a siloxane macromonomer ((meth) acrylic group-containing siloxane macromer) and methoxypolyethylene oxide methacrylate or methoxypolyethylene oxide acrylate. Resin. The resin will be described. Examples of the polysiloxane compound having at least one (meth) acryl group in the molecule used for the production of the resin include the following compounds.

Figure 2007321014
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上記樹脂の製造に使用する分子内に(メタ)アクリル基および/またはアクリル基を少なくとも1個有する親水性化合物としては、例えば、以下のような化合物が挙げられる。   Examples of the hydrophilic compound having at least one (meth) acrylic group and / or acrylic group in the molecule used for the production of the resin include the following compounds.

Figure 2007321014
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上記シロキサンマクロモノマーなどと共重合させてもよいアクリルモノマー化合物としては、例えば、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸トリメチルシリルプロピルなどのメタクリル酸およびそのエステル単量体や、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシルなどのアルキル基の炭素数が1〜12のアクリル酸アルキルエステル、スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル単量体、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアン化ビニル単量体などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。前記のシロキサンマクロモノマーなどとアクリルモノマーとを共重合させる重合方法は特に限定されず、従来公知のアクリルモノマーの重合方法と類似の方法を用いることができる。   Examples of acrylic monomer compounds that may be copolymerized with the siloxane macromonomer include, for example, methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, benzyl methacrylate, trimethylsilylpropyl methacrylate, and the like. Methacrylic acid and ester monomers thereof, alkyl acrylates having 1 to 12 carbon atoms in alkyl groups such as methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Examples thereof include aromatic vinyl monomers such as styrene and α-methylstyrene, and vinyl cyanide monomers such as acrylonitrile and methacrylonitrile. These may be used alone or in combination of two or more. The polymerization method for copolymerizing the siloxane macromonomer or the like with an acrylic monomer is not particularly limited, and a method similar to a conventionally known polymerization method for an acrylic monomer can be used.

本発明で使用する支持電解塩としては、下記一般式で表される塩が挙げられる。
+-
(M+はLi+、Na+およびK+から選ばれる1種であり、X-はClO4 -、BF4 -、PF6 -、CF3SO3 -、CF3CO2 -、CF3SO2 -、(CF3SO22-、(C25SO22-、(CF3SO23-および(C25SO23-から選ばれる1種である。)
Examples of the supporting electrolytic salt used in the present invention include salts represented by the following general formula.
M + X -
(M + is one selected from Li + , Na + and K + , and X is ClO 4 , BF 4 , PF 6 , CF 3 SO 3 , CF 3 CO 2 , CF 3 SO 1 selected from 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N , (CF 3 SO 2 ) 3 C and (C 2 F 5 SO 2 ) 3 C Seeds.)

支持電解塩の具体例としては、例えば、過塩素酸リチウム、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、ホウフッ化リチウム、六フッ化リン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、リチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、ホウフッ化テトラエチルアンモニウム、六フッ化リン酸テトラエチルアンモニウムおよびカリウムビストリフルオロメタンスルホンイミドなどを挙げることができる。   Specific examples of the supporting electrolyte salt include, for example, lithium perchlorate, lithium bistrifluoromethanesulfonimide, lithium borofluoride, lithium hexafluorophosphate, lithium trifluoromethanesulfonate, lithium pentafluoroethanesulfonate, lithium bispenta Examples thereof include fluoroethanesulfonimide, tetraethylammonium borofluoride, tetraethylammonium hexafluorophosphate, and potassium bistrifluoromethanesulfonimide.

前記イオン伝導ポリマーに対する上記支持電解塩の使用量は、前記イオン伝導ポリマー100質量部あたり1〜30質量部の割合が好ましい。支持電解塩の使用量が1質量部未満では、形成される帯電防止層の帯電防止性が不十分であり、一方、支持電解塩の使用量が30質量部を超えて使用しても特に利点はない。   The amount of the supporting electrolytic salt used with respect to the ion conductive polymer is preferably 1 to 30 parts by mass per 100 parts by mass of the ion conductive polymer. When the amount of the supporting electrolyte salt used is less than 1 part by mass, the antistatic property of the formed antistatic layer is insufficient. On the other hand, even when the amount of the supporting electrolyte salt used exceeds 30 parts by mass, it is particularly advantageous. There is no.

前記樹脂(A)と前記樹脂(B)の使用量は、樹脂(A)および樹脂(B)の合計量(100質量%)のうち、樹脂(A)が5〜95質量%であり、樹脂(B)が95〜5質量%である。樹脂(A)の使用量が95質量%を超えると、本発明で使用する塗料の可使時間(ポットライフ)および帯電防止層の基材フィルムへの密着性が低下するので好ましくなく、一方、樹脂(A)の使用量が5質量%未満では、形成される帯電防止層の架橋密度および耐溶剤性が低下するので好ましくない。また、樹脂(B)の使用量が95質量%を超えると、形成される帯電防止層の耐水性、耐溶剤性の低下が懸念されるので好ましくなく、一方、樹脂(B)の使用量が5質量%未満では帯電防止層の帯電防止効果が希薄になるので好ましくない。   The resin (A) and the resin (B) are used in an amount of 5 to 95% by mass of the resin (A) in the total amount (100% by mass) of the resin (A) and the resin (B). (B) is 95-5 mass%. If the amount of the resin (A) used exceeds 95% by mass, the pot life of the paint used in the present invention (pot life) and the adhesion of the antistatic layer to the substrate film are unfavorable, When the amount of the resin (A) used is less than 5% by mass, the crosslink density and solvent resistance of the antistatic layer to be formed are lowered, which is not preferable. On the other hand, if the amount of the resin (B) used exceeds 95% by mass, the water resistance and solvent resistance of the formed antistatic layer may be lowered, which is not preferable. On the other hand, the amount of the resin (B) used is not preferable. If it is less than 5% by mass, the antistatic effect of the antistatic layer becomes diluted, which is not preferable.

本発明において使用するポリイソシアネート(C)は、従来から使用されている公知のものが使用でき特に限定されない。例えば、2,4−トルイレンジイソシアネートの二量体、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス−(p−イソシアネートフェニル)チオフォスファイト、多官能芳香族イソシアネート、多官能芳香族脂肪族イソシアネート、多官能脂肪族イソシアネート、脂肪酸変性多官能脂肪族イソシアネート、ブロック化多官能脂肪族イソシアネートなどのブロック型ポリイソシアネート、ポリイソシアネートプレポリマーなどが挙げられる。これらのうち、芳香族系あるいは脂肪族系のどちらでも使用可能であり、好ましくは芳香族系ではジフェニルメタンジイソシアネートおよびトリレンジイソシアネート、脂肪族系ではヘキサメチレンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネートなどの変性体であり、分子中にイソシアネート基を3個以上含むものが好ましく、前記ポリイソシアネートの多量体や他の化合物との付加体、さらには低分子量のポリオールやポリアミンとを末端イソシアネートになるように反応させたウレタンプレポリマーなども好ましく使用される。それらを下記に構造式を挙げて例示するが、これらに限定されるものではない。   As the polyisocyanate (C) used in the present invention, known ones used conventionally can be used and are not particularly limited. For example, dimer of 2,4-toluylene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris- (p-isocyanatephenyl) thiophosphite, polyfunctional aromatic isocyanate, polyfunctional aromatic aliphatic isocyanate, polyfunctional aliphatic Examples thereof include blocked polyisocyanates such as isocyanate, fatty acid-modified polyfunctional aliphatic isocyanate, and blocked polyfunctional aliphatic isocyanate, and polyisocyanate prepolymers. Of these, it is possible to use either aromatic or aliphatic, preferably modified compounds such as diphenylmethane diisocyanate and tolylene diisocyanate for aromatic systems, hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate for aliphatic systems, and molecules. A urethane prepolymer obtained by reacting a polyisocyanate multimer or an adduct with another compound, or a low molecular weight polyol or polyamine so as to be a terminal isocyanate is preferable. Etc. are also preferably used. These are exemplified below with structural formulas, but are not limited thereto.

Figure 2007321014
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本発明の塗料における上記のポリイソシアネート(C)の使用量は、前記の樹脂(A)および樹脂(B)とを合わせて100質量部に対して5〜80質量部、好ましくは5〜60質量部である。ポリイソシアネート(C)の使用量が80質量部を超えると、使用する塗料の可使時間の短縮などが起きるので好ましくなく、一方、ポリイソシアネート(C)の使用量が5質量部未満では、形成される帯電防止層の架橋密度が低下するので好ましくない。   The amount of the polyisocyanate (C) used in the paint of the present invention is 5 to 80 parts by mass, preferably 5 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A) and the resin (B). Part. If the amount of the polyisocyanate (C) used exceeds 80 parts by mass, it is not preferable because the working time of the paint used is shortened. On the other hand, if the amount of the polyisocyanate (C) used is less than 5 parts by mass, formation occurs. This is not preferable because the crosslink density of the antistatic layer is lowered.

塗料には、必要に応じて、さらに硬化触媒、反応抑制剤やその他の添加剤を適宜使用することができる。硬化触媒としては、例えば、ジブチルチンラウレート、ジオクチルチンラウレート、スタナスオクトエート、オクチル酸鉛、テトラ−n−ブチルチタネートおよびビスマスなどの金属と有機または無機酸の塩および有機金属誘導体、トリエチルアミンなどの有機アミンおよびジアザビシクロウンデセン系触媒などが挙げられる。反応抑制剤としては、例えば、燐酸、酢酸、酒石酸、フタル酸およびギ酸エステルなどが挙げられる。   In the coating material, a curing catalyst, a reaction inhibitor, and other additives can be appropriately used as necessary. Examples of the curing catalyst include dibutyltin laurate, dioctyltin laurate, stannous octoate, lead octylate, tetra-n-butyl titanate, and salts of organic or inorganic acids and organometallic derivatives such as triethylamine. And organic amines such as diazabicycloundecene catalysts. Examples of the reaction inhibitor include phosphoric acid, acetic acid, tartaric acid, phthalic acid, and formic acid ester.

さらに帯電防止層への滑り性付与や耐水化を目的として、例えば、シリコーンオイルおよび/または変性シリコーンオイル(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンおよびアラルキル変性ポリジメチルシロキサンなど)、各種ワックス、アクリル系ポリマー、長鎖アルキル変性ポリマー、フッ素変性ポリマーおよびシロキサン変性ポリマーなどの添加剤を加えることができる。   Further, for the purpose of imparting slipperiness to the antistatic layer and water resistance, for example, silicone oil and / or modified silicone oil (for example, polydimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyester-modified polydimethylsiloxane and aralkyl-modified polydimethyl) are used. Siloxane etc.), various waxes, acrylic polymers, long chain alkyl modified polymers, fluorine modified polymers and siloxane modified polymers.

さらに本発明の塗料においては、前記支持電解塩に加えて、他の帯電防止剤を併用することができる。これらの帯電防止剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アルカリ金属塩含有ポリエーテル、アルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン、ポリアミン、4級カチオン塩含有アクリル系樹脂、特殊変性ポリエステル、特殊カチオン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンおよびスルホン化ポリアニリンなどの有機導電性材料、カーボンナノチューブ、カーボンブラック、酸化スズ、酸化亜鉛および酸化チタンなどの金属酸化物および各種金属アルコキシドおよびITO粉末などの導電性フィラー含有高分子などの添加剤を加えることができる。   Furthermore, in the coating material of this invention, in addition to the said supporting electrolytic salt, another antistatic agent can be used together. Examples of these antistatic agents include polyvinyl alcohol, cation-modified polyvinyl alcohol, alkali metal salt-containing polyether, alkali metal salt-containing ether polyurethane, polyamine, quaternary cation salt-containing acrylic resin, specially modified polyester, and special cation. Resin, cellulose derivatives, polyacetylene, polyparaphenylene, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, sulfonated polyaniline and other organic conductive materials, carbon nanotubes, carbon black, tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, and other metal oxides and various metals Additives such as conductive filler-containing polymers such as alkoxides and ITO powders can be added.

なお、本発明において帯電防止層を形成するには、前記樹脂(A)と樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを含む塗料を使用する。この塗料の使用に際してはその使用前に前記のポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを予め添加しておくことが好ましい。該塗料は、無溶剤で調製したものでもよいし、有機溶剤を用いて調製したものでもよい。有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケトン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、N−メチル−2−ピロリドン、ジオキサン、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブおよびセロソルブアセテートなども使用することができる。有機溶剤を用いて調製した塗料の固形分は、特に限定されないが、3〜95質量%程度が好ましい。   In addition, in order to form an antistatic layer in this invention, the coating material containing the said resin (A), resin (B), and polyisocyanate (C) is used. When using this paint, it is preferable to add the above-mentioned polyisocyanate before use or to add a stabilized polyisocyanate in advance. The paint may be prepared without a solvent or may be prepared using an organic solvent. Preferable examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diethyl ketone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate. Acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, N-methyl-2-pyrrolidone, dioxane, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve and cellosolve acetate can also be used. Although the solid content of the coating material prepared using the organic solvent is not particularly limited, it is preferably about 3 to 95% by mass.

基材フィルムは、例えば、ポリエステル、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアクリレート、トリアセチルセルロース、シクロオレフィン系プラスチックなどを成分とするフィルムが用いられる。特に好ましいのは、二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムであり、帯電防止フィルムに適合した適正且つ必要な強度を有している。基材フィルムの膜厚は、好ましくは4〜300μmであり、より好ましくは、10〜200μmである。これらの基材フィルムは、必要に応じて、コロナ処理、帯電防止処理あるいは易接着処理などを施してもよい。   As the base film, for example, a film containing polyester, polyimide, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, polyacrylate, triacetyl cellulose, cycloolefin plastic, or the like as a component is used. Particularly preferred is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, which has an appropriate and necessary strength suitable for an antistatic film. The film thickness of the base film is preferably 4 to 300 μm, more preferably 10 to 200 μm. These base films may be subjected to corona treatment, antistatic treatment or easy adhesion treatment as necessary.

本発明の帯電防止フィルムは、上記の塗料を用い、従来公知の方法で製造することができ、製造方法自体は特に限定されない。また、帯電防止層形成用材料以外の材料は、いずれも公知の材料が使用でき、特に限定されない。本発明の帯電防止フィルムの帯電防止層の形成に際しては、本発明の塗料を、従来公知の方法によって、基材フィルムの表面(および/または両面)に、乾燥厚さが0.01〜1μm程度となるよう塗布して被膜を形成させる。   The antistatic film of this invention can be manufactured by a conventionally well-known method using said coating material, and manufacturing method itself is not specifically limited. In addition, any material other than the antistatic layer forming material can be a known material, and is not particularly limited. In forming the antistatic layer of the antistatic film of the present invention, the coating material of the present invention is dried on the surface (and / or both surfaces) of the base film by a conventionally known method with a dry thickness of about 0.01 to 1 μm. The film is formed by coating.

このようにして得られた帯電防止層は、樹脂(A)とポリイソシアネート(C)が、帯電防止層形成用材料内の成分を架橋するので、帯電防止層の耐溶剤性および耐スクラッチ性(表面硬度アップ)をさらに向上させることができる。また、樹脂(B)においてエチレンオキシドユニットの酸素原子がイオン解離を行い、ポリマー鎖運動により支持電解塩のイオンが移動して帯電防止特性を発現する。その際に、シロキサンセグメントを有すると傾斜配向することにより樹脂(B)が、帯電防止層の表面側へ配向して帯電防止特性の効果が付与される。   In the antistatic layer thus obtained, the resin (A) and the polyisocyanate (C) crosslink the components in the antistatic layer forming material, so that the solvent resistance and scratch resistance ( The surface hardness can be further improved. Further, in the resin (B), the oxygen atom of the ethylene oxide unit undergoes ion dissociation, and the ions of the supporting electrolyte salt move due to the polymer chain movement, thereby exhibiting antistatic properties. In that case, when it has a siloxane segment, the resin (B) is oriented to the surface side of the antistatic layer by being inclined and the effect of antistatic properties is imparted.

以上の如き本発明の帯電防止フィルムにおいては、帯電防止層の表面抵抗値が105〜1012Ω/cm2であることが好ましい。表面抵抗値が上記範囲を超えると、帯電防止性が不十分であり、一方、表面抵抗値が上記範囲未満であっても特に利益はない。 In the antistatic film of the present invention as described above, the surface resistance value of the antistatic layer is preferably from 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 . When the surface resistance value exceeds the above range, the antistatic property is insufficient. On the other hand, even if the surface resistance value is less than the above range, there is no particular advantage.

また、上記帯電防止層のヘイズ値は3.0%以下であることが好ましい。ヘイズ値が3.0%を超えると、本発明の帯電防止フィルムを光学用フィルムの基材として使用した場合に、透明性が不足する場合がある。なお、用途が他の用途であれば、ヘイズ値は3.0%を超えても問題はない。   The haze value of the antistatic layer is preferably 3.0% or less. When the haze value exceeds 3.0%, transparency may be insufficient when the antistatic film of the present invention is used as a substrate for an optical film. If the usage is other usage, there is no problem even if the haze value exceeds 3.0%.

また、上記帯電防止層の動摩擦係数は0.05〜0.30であることが好ましい。動摩擦係数が0.05未満であると、得られる帯電防止フィルムが滑り過ぎて、該フィルムの加工時に巻き皺が発生したり、経時的にシリコーン成分の裏移りや後加工(成形、重ね刷り、複合化など)に不都合があり、一方、動摩擦係数が0.30を超えると、該帯電防止フィルムの塗工処理に際し、塗工スピードが上がらないことに加え、後加工性も悪くなる傾向がある。   The dynamic friction coefficient of the antistatic layer is preferably 0.05 to 0.30. When the coefficient of dynamic friction is less than 0.05, the resulting antistatic film is too slippery, and curling occurs when the film is processed, or the silicone component is backed out or processed over time (molding, overprinting, On the other hand, if the coefficient of dynamic friction exceeds 0.30, the coating speed of the antistatic film does not increase and the post-processability tends to deteriorate. .

以上の本発明の帯電防止フィルムは、例えば、光学用保護フィルムの基材フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、導光板(バックライト部材)、キャリヤーテープやカバーテープ(電子部品搬送用)、バックグラウンドテープ、ダイシングテープ、帯電防止付与リリースフィルム、OHPシート、写真フィルム、フレキシブルプリント配線板などの帯電防止付与保護フィルム、トリアセチルセルロース保護フィルム、タッチパネル、各種包装材・袋、ディスプレイ、ベルト、ロールなどの用途に有用であり、また、本発明の塗料は上記各種物品の製造の他に、例えば、光学レンズや光ディスク基板などの光学材料などの表面処理剤、繊維コーティング剤および汚れ防止(帯電防止)塗料などとしても有用である。   The above-described antistatic film of the present invention includes, for example, a base film of an optical protective film, a light diffusing film, a reflective film, an antireflection film, a light guide plate (backlight member), a carrier tape and a cover tape (for transporting electronic components) ), Background tape, dicing tape, antistatic imparting release film, OHP sheet, photographic film, flexible printed wiring board and other antistatic imparting protective films, triacetylcellulose protective film, touch panel, various packaging materials and bags, displays, belts In addition to the production of the above-mentioned various articles, the coating of the present invention is useful for surface treatment agents such as optical materials such as optical lenses and optical disk substrates, fiber coating agents, and antifouling ( It is also useful as an antistatic coating.

以下に合成例、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。また、以下の文中の「部」は質量部、「%」は質量%を示す。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to synthesis examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto. Moreover, in the following sentence, “part” indicates mass part, and “%” indicates mass%.

[合成例1〜4]
攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込み管およびマンホールを備えた反応容器を窒素ガスで置換した後、水酸基を有するポリエーテル変性ポリシロキサン化合物、ポリオール化合物、鎖伸長剤化合物および溶剤を所定量加え、均一に溶解させ、最終溶液濃度を30%になるように調節した。続いてジイソシアネート化合物を所定量(活性水素基1モルに対して等モル)加えて80℃で反応を行い、赤外吸収スペクトルで2,270cm-1の遊離イソシアネート基による吸収が認められなくなるまで反応を行った。得られたシロキサン含有ポリウレタン樹脂の原料組成、性状および物性を表1に示す。
[Synthesis Examples 1 to 4]
After replacing the reaction vessel equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, nitrogen blowing tube and manhole with nitrogen gas, add a predetermined amount of polyether-modified polysiloxane compound having a hydroxyl group, polyol compound, chain extender compound and solvent. The solution was uniformly dissolved and the final solution concentration was adjusted to 30%. Subsequently, a predetermined amount of diisocyanate compound (equal mole to 1 mole of active hydrogen groups) is added and the reaction is carried out at 80 ° C., and the reaction is continued until no absorption due to 2,270 cm −1 free isocyanate groups is observed in the infrared absorption spectrum. Went. Table 1 shows the raw material composition, properties and physical properties of the obtained siloxane-containing polyurethane resin.

Figure 2007321014
Figure 2007321014

・(a−1)

Figure 2007321014
・ (A-1)
Figure 2007321014

・(a−2)

Figure 2007321014
・PEG:ポリエチレンオキシドジオール
(東邦化学工業社製、商品名PEG−2000、平均分子量2,000)
・1,3−BD:1,3−ブタンジオール
・DBA:N,N−ジヒドロキシエチル−n−ブチルアミン
・TEG:トリエチレングリコール
・HDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
・MEK:メチルエチルケトン ・ (A-2)
Figure 2007321014
PEG: polyethylene oxide diol (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd., trade name PEG-2000, average molecular weight 2,000)
-1,3-BD: 1,3-butanediol-DBA: N, N-dihydroxyethyl-n-butylamine-TEG: triethylene glycol-HDI: hexamethylene diisocyanate-MEK: methyl ethyl ketone

[合成例5]
攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込み管およびマンホールを備えた反応容器を窒素ガスで置換した後、下記式(a−3)の両末端エステル基含有シロキサン化合物100g(0.1モル)とポリエチレンオキシドジオール(東邦化学工業社製、商品名PEG−1000、平均分子量1,000)220g(0.22モル)とを150℃に加熱した後、テトラブチルチタン酸エステル1gを添加して常圧で1時間、続いて180℃/10mmHgの条件で4時間反応させて水酸基価37のポリエーテル変性ポリシロキサン化合物を得た。
[Synthesis Example 5]
After replacing the reaction vessel equipped with a stirrer, a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen blowing tube and a manhole with nitrogen gas, 100 g (0.1 mol) of a siloxane compound containing both ester groups of the following formula (a-3): After heating 220 g (0.22 mol) of polyethylene oxide diol (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd., trade name PEG-1000, average molecular weight 1,000) to 150 ° C., 1 g of tetrabutyl titanate was added and normal pressure was added. For 1 hour followed by 4 hours at 180 ° C./10 mmHg to obtain a polyether-modified polysiloxane compound having a hydroxyl value of 37.

・(a−3)シロキサン化合物

Figure 2007321014
(A-3) Siloxane compound
Figure 2007321014

[合成例6]
攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込み管およびマンホールを備えた反応容器を窒素ガスで置換した後、メタクリル酸メチル30g、2−ヒドロキシエチルメタアクリレート2g、アクリル酸n−ブチル18gおよびシロキサンマクロモノマー((メタ)アクリル基含有シロキサンマクロマー)(a−4)10g、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート(b−1)40gを仕込み、不揮発分30%となるようにトルエン/メチルエチルケトン=1/1の混合溶剤を加え、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを1.0g加え、窒素をバブリングしながら70℃に加熱、8時間攪拌してシロキサン変性アクリル樹脂を合成した。
[Synthesis Example 6]
After replacing the reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, nitrogen blowing tube and manhole with nitrogen gas, 30 g of methyl methacrylate, 2 g of 2-hydroxyethyl methacrylate, 18 g of n-butyl acrylate and siloxane macromonomer ((Meth) acrylic group-containing siloxane macromer) (a-4) (10 g) and methoxypolyethylene glycol methacrylate (b-1) (40 g) were added, and a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone = 1/1 was added so that the nonvolatile content was 30%. Then, 1.0 g of azobisisobutyronitrile was added as an initiator, and the mixture was heated to 70 ° C. and stirred for 8 hours while bubbling nitrogen to synthesize a siloxane-modified acrylic resin.

・(a−4)

Figure 2007321014
・ (A-4)
Figure 2007321014

・(b−1)

Figure 2007321014
(B-1)
Figure 2007321014

[実施例1〜7、比較例1〜2]
実施例および比較例の塗料(固形分5%)を表2、3の組成により作製した。
[Examples 1-7, Comparative Examples 1-2]
The paints of Examples and Comparative Examples (solid content 5%) were prepared according to the compositions shown in Tables 2 and 3.

Figure 2007321014
Figure 2007321014

Figure 2007321014
Figure 2007321014

・熟成条件;40℃、2日
・EVOH;エチレンビニルアルコール、商品名:DC4212(エチレン共重合比率=32mol%、ガラス転移温度=61℃、日本合成化学工業(株)製)
・PVA;部分けん化ポリビニルアルコール、商品名:PVA−217(けん化度=87〜89、重合度=1,700、(株)クラレ製)
・YP−50S;フェノキシ樹脂、商品名:フェノトートYP−50S、重量平均分子量=40,000、東都化成工業(株)製)
・BL−S;ブチラール基/アセチル基含有ポリビニルアルコール共重合体、商品名:BL−S、水酸基=22mol%、アセチル基=3〜5mol%、ブチラール化度=70mol%以下、積水化学工業(株)製)
・PHDI;HDIのビウレット型、商品名:デュラネート24A−100、旭化成ケミカルズ(株)製)
・C−1;アルキレン変性ポリシロキサン/リチウム化合物、商品名:PC−3600、丸菱油化工業(株)製)
・DMF;ジメチルフォルムアミド
・アノン;シクロヘキサノン
Aging condition: 40 ° C., 2 days EVOH; ethylene vinyl alcohol, trade name: DC4212 (ethylene copolymerization ratio = 32 mol%, glass transition temperature = 61 ° C., manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
-PVA; partially saponified polyvinyl alcohol, trade name: PVA-217 (degree of saponification = 87-89, degree of polymerization = 1,700, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
YP-50S; phenoxy resin, trade name: phenototo YP-50S, weight average molecular weight = 40,000, manufactured by Toto Kasei Kogyo Co., Ltd.)
BL-S; butyral group / acetyl group-containing polyvinyl alcohol copolymer, trade name: BL-S, hydroxyl group = 22 mol%, acetyl group = 3 to 5 mol%, butyral degree = 70 mol% or less, Sekisui Chemical Co., Ltd. ) Made)
・ PHDI; HDI biuret type, trade name: Duranate 24A-100, manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation)
C-1; alkylene-modified polysiloxane / lithium compound, trade name: PC-3600, manufactured by Maruhishi Oil Chemical Co., Ltd.)
DMF; dimethylformamide anone; cyclohexanone

[支持電解塩]
・L−1;過塩素酸リチウム
・L−2;リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド
[Supported electrolytic salt]
L-1: lithium perchlorate L-2: lithium bistrifluoromethanesulfonimide

本発明の帯電防止フィルムの製造に使用する前記塗料は、イオン伝導ポリマーと支持電解塩からなる樹脂(B)とを有機溶剤に溶解または分散した後、樹脂(A)と混合して作製した。上記各成分の溶解または分散方法としては、公知のいずれの方法を使用してもよく、特に限定されない。   The paint used for the production of the antistatic film of the present invention was prepared by dissolving or dispersing an ion conductive polymer and a resin (B) comprising a supporting electrolytic salt in an organic solvent, and then mixing the resin (A). Any known method may be used as a method for dissolving or dispersing each of the above components, and is not particularly limited.

前記表2、3に記載の各塗料を用い、グラビア印刷により、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(東レ製)の表面に、乾燥後の厚みが0.5μmになるように塗布した後、乾燥機中で前記表中に記載の条件で溶剤を乾燥させた。乾燥後、40℃のオーブンにて48時間熟成させて帯電防止層を形成させた。   After applying each paint described in Tables 2 and 3 to the surface of a 38 μm thick polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by Toray) by gravure printing so that the thickness after drying is 0.5 μm. The solvent was dried in a dryer under the conditions described in the above table. After drying, an antistatic layer was formed by aging in an oven at 40 ° C. for 48 hours.

[試験例]
上記で得られた実施例および比較例の帯電防止層の塗膜および帯電防止フィルムの性能を以下の項目について試験し、表4の結果を得た。
[Test example]
The performance of the antistatic layer coating film and antistatic film obtained in the above examples and comparative examples was tested for the following items, and the results shown in Table 4 were obtained.

<表面抵抗値>
三菱化学(株)製のMCP−HT450を使用して帯電防止フィルムの帯電防止性の測定を行う。測定条件は、温度23℃、湿度65%RH、印加電圧100V、30秒で行った。帯電防止効果を発揮するには、表面抵抗値が1×1012Ω/cm2以下が望ましい。
<Surface resistance value>
The antistatic property of the antistatic film is measured using MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. The measurement conditions were as follows: temperature 23 ° C., humidity 65% RH, applied voltage 100 V, 30 seconds. In order to exhibit the antistatic effect, the surface resistance value is desirably 1 × 10 12 Ω / cm 2 or less.

<透明性>
スガ試験機(株)製直読ヘーズコンピューターHGM−2DPを使用し、帯電防止フィルムのヘイズ値を測定した。
ヘイズ値=測定値−基材のヘイズ値
ヘイズ値は1.0%未満であれば透過性が高く、帯電防止フィルムに適する。
<Transparency>
Using a direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the haze value of the antistatic film was measured.
Haze value = Measured value−Haze value of base material If the haze value is less than 1.0%, the transparency is high and it is suitable for an antistatic film.

<耐溶剤性>
帯電防止フィルム表面に1gの酢酸エチルを垂らし、荷重50g/cm2でラビングした際の帯電防止層の塗膜の外観を観察した。
○:帯電防止層の塗膜外観の変化がない。
△:帯電防止層の塗膜外観がやや変化している。
×:帯電防止層の塗膜外観が変化している。
<Solvent resistance>
1 g of ethyl acetate was dropped on the surface of the antistatic film, and the appearance of the coating film of the antistatic layer was observed when rubbed with a load of 50 g / cm 2 .
○: No change in coating film appearance of the antistatic layer.
(Triangle | delta): The coating-film external appearance of an antistatic layer has changed a little.
X: The coating film appearance of the antistatic layer is changed.

<耐傷付き性>
帯電防止フィルムの帯電防止層の塗膜を約10g/cm2の荷重にてスコッチブライト(住友スリーエム(株)製)で擦り、表面の傷付きを目視にて確認した。
○:確認できる傷が0本以上5本未満。
△:確認できる傷が5本以上10本未満。
×:確認できる傷が10本以上。
<Scratch resistance>
The coating film of the antistatic layer of the antistatic film was rubbed with Scotch Bright (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) under a load of about 10 g / cm 2 , and surface damage was visually confirmed.
○: 0 or less and less than 5 scratches that can be confirmed.
Δ: There are 5 or more and less than 10 scratches that can be confirmed.
X: 10 or more scratches that can be confirmed.

<密着性>
帯電防止フィルムの帯電防止層の塗膜と基材PETフィルムとの接着性を碁盤目試験(セロハンテープ剥離クロスカット法)にて行った。
<Adhesion>
The adhesion between the coating film of the antistatic layer of the antistatic film and the substrate PET film was measured by a cross cut test (cellophane tape peeling cross-cut method).

<滑り性>
新東科学(株)製のHEIDON−14DRを使用して帯電防止フィルムの動摩擦係数の測定を行う。測定条件は、温度23℃、湿度65%RH、測定数5回の平均値で行った。動摩擦係数は、0.18〜0.30の範囲が望ましい。
<Slipperiness>
The dynamic friction coefficient of the antistatic film is measured using HEIDON-14DR manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. The measurement conditions were a temperature of 23 ° C., a humidity of 65% RH, and an average value of 5 measurements. The dynamic friction coefficient is preferably in the range of 0.18 to 0.30.

<印刷適性>
寺西化学工業(株)製マジックインキNo.500を使用して帯電防止層の塗膜面に記載し、インキの筆記状況を観察した。
○:マジックインキの筆記状況が良好である。
△:ややインキのハジキがあるが問題ないレベルである。
×:インキがはじき筆記できない。
<Printability>
Magic Ink No. manufactured by Teranishi Chemical Industry Co., Ltd. 500 was written on the coating surface of the antistatic layer, and the writing state of the ink was observed.
○: The writing situation of magic ink is good.
Δ: Slight ink repellency but no problem.
X: Ink cannot be repelled and written.

Figure 2007321014
Figure 2007321014

Figure 2007321014
Figure 2007321014

以上のように、本発明によれば、帯電防止性、透明性、耐溶剤性、耐水性、印刷適性、滑り性、加工適性、および基材フィルムとの密着性などに優れた帯電防止フィルムおよび塗料が提供される。
As described above, according to the present invention, an antistatic film excellent in antistatic properties, transparency, solvent resistance, water resistance, printability, slipperiness, processability, adhesion to a substrate film, and the like, and A paint is provided.

Claims (10)

基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた帯電防止層とからなる帯電防止フィルムにおいて、上記帯電防止層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とイオン伝導ポリマーと支持電解塩とからなる樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする帯電防止フィルム。   An antistatic film comprising a base film and an antistatic layer provided on at least one surface of the base film, wherein the antistatic layer is ionically conductive with a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule. An antistatic film comprising a resin (B) comprising a polymer and a supporting electrolyte salt and a polyisocyanate (C) as a film-forming component. 樹脂(A)中の活性水素基が、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基および/またはエポキシ基から選ばれる少なくとも1つの基を主鎖および/または側鎖に有する樹脂である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The active hydrogen group in the resin (A) is a resin having at least one group selected from a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group and / or an epoxy group in a main chain and / or a side chain. The antistatic film as described. 樹脂(B)のイオン伝導ポリマーが、親水性セグメントとシロキサンセグメントとを含有する樹脂である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The antistatic film according to claim 1, wherein the ion conductive polymer of the resin (B) is a resin containing a hydrophilic segment and a siloxane segment. 樹脂(B)の支持電解塩が、下記一般式で表される塩である請求項1に記載の帯電防止フィルム。
+-
(M+はLi+、Na+およびK+から選ばれる少なくとも1種であり、X-はClO4 -、BF4 -、PF6 -、CF3SO3 -、CF3CO2 -、CF3SO2 -、(CF3SO22-、(C25SO22-、(CF3SO23-および(C25SO23-から選ばれる少なくとも1種である。)
The antistatic film according to claim 1, wherein the supporting electrolytic salt of the resin (B) is a salt represented by the following general formula.
M + X -
(M + is at least one selected from Li + , Na + and K + , and X is ClO 4 , BF 4 , PF 6 , CF 3 SO 3 , CF 3 CO 2 , CF 3. Selected from SO 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N , (C 2 F 5 SO 2 ) 2 N , (CF 3 SO 2 ) 3 C and (C 2 F 5 SO 2 ) 3 C At least one).
帯電防止層の表面抵抗値が、105〜1012Ω/cm2である請求項1に記載の帯電防止フィルム。 The antistatic film according to claim 1, wherein the antistatic layer has a surface resistance value of 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 . 帯電防止層のヘイズ値が、3.0%以下である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The antistatic film according to claim 1, wherein the antistatic layer has a haze value of 3.0% or less. 帯電防止層の動摩擦係数が、0.05〜0.30である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The antistatic film according to claim 1, wherein the antistatic layer has a dynamic friction coefficient of 0.05 to 0.30. 樹脂(A)と樹脂(B)とを有機溶剤に溶解または分散してなることを特徴とする帯電防止層形成用塗料。   A paint for forming an antistatic layer, wherein the resin (A) and the resin (B) are dissolved or dispersed in an organic solvent. 樹脂(A)が、樹脂(A)と樹脂(B)との合計量(100質量%)のうちの5〜95質量%であり、樹脂(B)が95〜5質量%である請求項8に記載の塗料。   The resin (A) is 5 to 95 mass% of the total amount (100 mass%) of the resin (A) and the resin (B), and the resin (B) is 95 to 5 mass%. The paint described in 1. さらに使用直前にポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを含有している請求項8に記載の塗料。
Furthermore, the polyisocyanate is added just before use, or the coating material of Claim 8 containing the stabilized polyisocyanate.
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