JPH0516309A - Manufacture of mold-release film having antistatic performance - Google Patents
Manufacture of mold-release film having antistatic performanceInfo
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- JPH0516309A JPH0516309A JP3198235A JP19823591A JPH0516309A JP H0516309 A JPH0516309 A JP H0516309A JP 3198235 A JP3198235 A JP 3198235A JP 19823591 A JP19823591 A JP 19823591A JP H0516309 A JPH0516309 A JP H0516309A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は帯電防止性能を有する離
型フイルムの製造方法に関し、さらに詳しくは安定した
帯電防止性と優れた平面性、離型性を有する離型フイル
ムを高い生産性で製造する方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a release film having an antistatic property, and more particularly to a release film having a stable antistatic property, excellent flatness and releasability with high productivity. It relates to a method of manufacturing.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、粘着剤、接着剤等の幅広い応用に
従い、その粘着面を保護するシリコーンコーティングの
紙やフイルムの利用が著しく伸びている。また、プラス
チック、ゴム等の材料成形のうち特に塩化ビニル、エポ
キシ、ポリウレタン、ポリエステル樹脂等の成形には硬
化反応、冷却硬化するまでに成形性を保持するためシリ
コーンコーティングの紙やフイルムが応用されている。
また、シリコーンの潤滑性に注目し表面の摩擦係数の低
いシリコーンコーティングフイルムがオーディオカセッ
トのスリップシートとした大量に使用されている。2. Description of the Related Art In recent years, in accordance with a wide range of applications of pressure sensitive adhesives, adhesives, etc., the use of silicone-coated paper or film for protecting the pressure sensitive adhesive surface has been remarkably increased. In addition, for the molding of materials such as plastics and rubber, especially for molding vinyl chloride, epoxy, polyurethane, polyester resin, etc., silicone coated paper or film is applied to maintain moldability until curing reaction and cooling and curing. There is.
Further, paying attention to the lubricity of silicone, a large amount of silicone coating film having a low surface friction coefficient is used as a slip sheet of an audio cassette.
【0003】これらシリコーンコーティングの紙やフイ
ルムに使用されるシリコーンは、一般に、表面粘着を防
止し、背面へのシリコーンの移行を出来るだけ少なくす
るように要求される。そのため、シリコーンとしては末
端に−OH基をもつポリジメチルシロキサンと末端に−
H基をもつポリジメチルシロキサン(ヒドロキシポリジ
メチルシロキサン)を有機錫触媒を用いて縮合反応さ
せ、3次元架橋構造を作るタイプのものや、末端にビニ
ル基を導入したポリジメチルシロキサンとヒドロキシポ
リジメチルシロキサンを有機触媒を用い付加反応させる
タイプのものが主として用いられる。The silicones used in these silicone-coated papers and films are generally required to prevent surface sticking and to minimize backside migration of the silicone. Therefore, as a silicone, polydimethylsiloxane having an -OH group at the terminal and
Polydimethylsiloxane (Hydroxypolydimethylsiloxane) having H group by condensation reaction using an organotin catalyst to form a three-dimensional crosslinked structure, and polydimethylsiloxane and hydroxypolydimethylsiloxane having a vinyl group introduced at the terminal The type in which is subjected to an addition reaction using an organic catalyst is mainly used.
【0004】しかしながら、このような硬化タイプのシ
リコーンは塗膜硬化時に高温条件を必要とし、厚み50
μm以下のフイルムでは該フイルムに熱ジワが発生し、
離型フイルムとしての平面性に欠けてしまう。However, such a curing type silicone requires high temperature conditions when the coating film is cured, and a thickness of 50
If the film is less than μm, heat wrinkles are generated in the film,
The release film lacks the flatness.
【0005】また、このようにして形成されたシリコー
ン塗膜は、そのシリコーンの主鎖結合ならびに立体構造
によって電荷の漏えいがなく、帯電しやすい欠点をもっ
ている。即ち、主鎖のSi−O−Si結合はC−C結合
に比しイオン性は帯びているものの基本的にはσ結合で
あり、共役二重結合等のように電荷の非局在化はできな
い。また、Siに結合する2つのメチル基は主鎖の外側
に向いていて疎水場を形成し、空気中の水分(H2 O)
および不純物イオンを通しての電荷の漏えいが不可能と
なる。Further, the silicone coating film formed in this manner has a drawback that it is easy to be charged without leakage of charges due to the main chain bond and the three-dimensional structure of the silicone. That is, the Si—O—Si bond of the main chain is basically an σ bond, although it is more ionic than the C—C bond, and delocalization of charges such as a conjugated double bond does not occur. Can not. Further, the two methyl groups bonded to Si face the outside of the main chain to form a hydrophobic field, and moisture in the air (H 2 O)
And it becomes impossible to leak charges through the impurity ions.
【0006】従って、このシリコーン薄膜をコーティン
グしたフイルムは当然帯電性が高く、種々の障害を生ず
る。例えば、離型フイルムを各種樹脂の成形基板として
使用する場合、剥離帯電量が多く、ゴミ等の付着が起こ
り、繰返し使用した場合これらは付着異物により成形樹
脂表面に欠陥を生じる。またオーディオカセットスリッ
プシートとして用いた場合、テープリールとの摩擦によ
り帯電を生じ、走行不良を引起こす可能性がある。Therefore, the film coated with the silicone thin film is naturally highly charged and causes various problems. For example, when the release film is used as a molded substrate of various resins, the amount of peeling charge is large and dust or the like adheres, and when repeatedly used, these cause defects on the surface of the molded resin due to adhered foreign matters. When it is used as an audio cassette slip sheet, friction with the tape reel may cause electrification, which may lead to running failure.
【0007】特公平2−6625号公報には、プラスチ
ックフイルムの少なくとも片面に側鎖及び末端基の8割
以上が水酸基で置換されたポリシロキサンの部分加水分
解物よりなる下塗り層を介してシリコーン樹脂層を形成
する、或はプラスチックフイルムの少なくとも片面に前
記ポリシロキサンの部分加水分解物とシリコーン樹脂を
含む被覆層を形成することで、前記フイルムに帯電防止
性と滑り性及び剥離性を付与することが記載されてい
る。しかし、前記シリコーン樹脂は塗膜硬化時に高温条
件を必要とするものであって、平面性に劣るという欠点
の生じやすいものである。In Japanese Patent Publication No. 2-6625, a silicone resin is provided on at least one side of a plastic film with an undercoat layer made of a partial hydrolyzate of polysiloxane in which 80% or more of side chains and terminal groups are substituted with hydroxyl groups. A layer is formed, or a coating layer containing a partial hydrolyzate of the polysiloxane and a silicone resin is formed on at least one side of the plastic film to impart antistatic property, slipperiness and peeling property to the film. Is listed. However, the silicone resin requires high-temperature conditions when the coating film is cured, and is liable to have the drawback of poor flatness.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、かかる欠
点がなく、安定した帯電防止性と優れた平面性、離型性
を有する離型フイルムを高い生産性で製造する方法につ
いて鋭意研究した結果、本発明に到達した。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventor has earnestly studied a method for producing a release film having stable antistatic property, excellent flatness and releasability without such drawbacks with high productivity. As a result, the present invention has been reached.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明はシラ
ノールの作用で帯電防止性を奏する酸化ケイ素膜をフイ
ルムの少なくとも片面に形成しているポリエステルフイ
ルムを用い、この酸化ケイ素膜の上にシランイソシアネ
ート化合物とこれより小割合を占める、末端水酸基を有
するポリジメチルシロキサンとの混合物を塗布し60〜
130℃の温度で硬化させて離型層を形成することを特
徴とする帯電防止性能を有する離型フイルムの製造方法
である。That is, the present invention uses a polyester film in which a silicon oxide film exhibiting antistatic properties by the action of silanol is formed on at least one side of a film, and silane isocyanate is formed on the silicon oxide film. A mixture of the compound and a polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group, which accounts for a smaller proportion than this, is applied, and
This is a method for producing a release film having antistatic properties, which comprises curing at a temperature of 130 ° C. to form a release layer.
【0010】本発明におけるポリエステルフイルムとし
ては、芳香族ジカルボン酸を主たる酸成分としアルキレ
ングリコールを主たるジオール成分とするポリエステル
よりなる二軸延伸フイルムを主たる対象とするが、該ア
ルキレングリコールは例えば脂環族グリコール、芳香環
を有する脂肪族グリコール、芳香族ジオール等の他のジ
オールで置換することもできる。芳香族ジカルボン酸と
してはテレフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸
を好ましく例示でき、またアルキレングリコールとして
はエチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘ
キサメチレングリコールを好ましく例示できる。ポリエ
ステルの具体例としてポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン−2,6−ナフタレートを好ましく挙げるこ
とができる。The polyester film in the present invention is mainly a biaxially stretched film made of a polyester having an aromatic dicarboxylic acid as a main acid component and an alkylene glycol as a main diol component, and the alkylene glycol is, for example, an alicyclic group. It is also possible to substitute with other diols such as glycol, aliphatic glycol having an aromatic ring, and aromatic diol. Preferable examples of the aromatic dicarboxylic acid are terephthalic acid and 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and preferable examples of the alkylene glycol are ethylene glycol, tetramethylene glycol and hexamethylene glycol. Specific examples of the polyester include polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate.
【0011】ポリエステルフイルムは、その製造方法に
よって制約されることはなく、例えばポリエステルを溶
融押出して未延伸フイルムとし、続いて該未延伸フイル
ムを逐次二軸延伸法で二軸方向に延伸し、熱固定するこ
とで製造することができる。その際、滑剤例えばクレ
ー、カオリン、シリカ、炭酸カルシウム等の粒径、量を
調節することにより、容易に透明性をコントロールでき
る。また、延伸、熱固定条件を調節することにより、熱
的、機械的特性をコントロールできる。ポリエステルフ
イルムは、厚みが4〜50μm、さらには4〜25μ
m、特に6〜16μmであることが好ましい。The polyester film is not restricted by the production method thereof. For example, polyester is melt-extruded to obtain an unstretched film, and then the unstretched film is sequentially stretched in the biaxial direction by a biaxial stretching method, followed by heat treatment. It can be manufactured by fixing. At that time, the transparency can be easily controlled by adjusting the particle size and amount of the lubricant such as clay, kaolin, silica, calcium carbonate and the like. Also, the thermal and mechanical properties can be controlled by adjusting the stretching and heat setting conditions. The polyester film has a thickness of 4 to 50 μm, and further 4 to 25 μm.
m, and particularly preferably 6 to 16 μm.
【0012】本発明においてポリエステルフイルムの少
なくとも片面に形成している酸化ケイ素膜はシラノールIn the present invention, the silicon oxide film formed on at least one side of the polyester film is silanol.
【0013】[0013]
【化1】
の作用で帯電防止性を奏し、三次元的なシロキサン網を
形成している酸化ケイ素膜であり、帯電防止層といえる
ものである。この酸化ケイ素膜は1010Ω/□以下の表
面固有抵抗値を有することが好ましい。[Chemical 1] It is a silicon oxide film that exhibits antistatic properties by the action of, and forms a three-dimensional siloxane network, and can be said to be an antistatic layer. This silicon oxide film preferably has a surface specific resistance value of 10 10 Ω / □ or less.
【0014】酸化ケイ素膜は4官能性ケイ素化合物の加
水分解、縮合反応によって形成するが、この反応に作用
する水分は例えばフイルム表面に付着している水分、空
気中の水分等で十分である。The silicon oxide film is formed by the hydrolysis and condensation reaction of a tetrafunctional silicon compound, and the water acting on this reaction may be, for example, the water adhering to the film surface or the water in the air.
【0015】4官能性ケイ素化合物としては例えば(C
l2 SiO)n 等のクロルポリシロキサン、或は加水分
解を起こし易いアルコキシシランやアルコキシポリシロ
キサン等を挙げることができる。この化合物は、塗布前
に水に作用させて部分加水分解させておくことが好まし
く、特に側鎖及び末端基の8割以上が水酸基で置換され
た部分加水分解物としておくことが好ましい。Examples of the tetrafunctional silicon compound include (C
Examples thereof include chloropolysiloxanes such as l 2 SiO) n , and alkoxysilanes and alkoxypolysiloxanes that easily hydrolyze. This compound is preferably partially hydrolyzed by acting on water before coating, and particularly preferably a partial hydrolyzate in which 80% or more of side chains and terminal groups are substituted with hydroxyl groups.
【0016】4官能性ケイ素化合物の加水分解、縮合反
応は、例えばアルコキシシラン[Si(OR)4 、R=
低級アルキル]で説明すると、温和な反応条件で、The hydrolysis and condensation reaction of the tetrafunctional silicon compound can be carried out, for example, by alkoxysilane [Si (OR) 4 , R =
Lower alkyl], under mild reaction conditions,
【0017】[0017]
【化2】
の反応によってシラノールを生成し、このシラノール同
士が[Chemical 2] Silanol is produced by the reaction of
【0018】[0018]
【化3】
の反応によって縮合して三次元構造をもつ酸化ケイ素の
ガラス状膜を形成する。この反応は室温ないし120℃
以下の温度で十分に進行すると共に、反応副生成物はガ
ス状となり、反応残渣のない利点をもつ。[Chemical 3] Is condensed by the reaction to form a glassy film of silicon oxide having a three-dimensional structure. This reaction is from room temperature to 120 ° C
With sufficient progress at the following temperature, the reaction by-product becomes a gas and has an advantage that there is no reaction residue.
【0019】4官能性ケイ素化合物の部分加水物をフイ
ルム表面に塗布すると、上述から理解できるように、温
湿度の影響を受けて硬化し、フイルムと強固に接着する
と共に、それ自体優れた帯電防止性をもつようになる。When the partial hydrolyzate of a tetrafunctional silicon compound is applied to the surface of a film, as can be understood from the above, the film is cured under the influence of temperature and humidity to firmly adhere to the film and, at the same time, has excellent antistatic properties. To become sexual.
【0020】本発明においては、かかる酸化ケイ素膜の
上にシランイソシアネート化合物とこれより小割合を占
める、末端水酸基を有するポリジメチルシロキサンとの
混合物を塗布し60〜130℃の温度で硬化させて離型
層を形成する。In the present invention, a mixture of a silane isocyanate compound and polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group, which accounts for a smaller proportion than the above, is applied onto such a silicon oxide film, and the mixture is cured at a temperature of 60 to 130 ° C. and released. Form a mold layer.
【0021】このシランイソシアネート化合物は、分子
中にThis silane isocyanate compound has a molecule
【0022】[0022]
【化4】
結合を有する化合物であり、例えばSi(NCO)4 、
Rn Si(NCO)4-n 、(RO)n Si(NCO)
4-n 、これらの予備縮合体等を挙げることができる。こ
こで、Rはメチル、エチル、フェニル、ビニル等の如き
炭化水素基であり、nは1,2又は3の数である。具体
的な化合物としては、メチルシラントリイソシアネー
ト、エトキシシラントリイソシアネート、シランテトラ
イソシアネート等を好ましく挙げることができる。さら
にシランイソシアネート化合物は、上記化合物と無水硅
酸やポリシロキサン化合物とを縮合し、分子内にシラン
元素(Si)に2個以上のイソシアネート基(−NC
O)が結合した化合物を包含することができる。シラン
イソシアネート化合物は1種でもよく、また2種以上を
用いてもよい。これらのうちメチルシラントリイソシア
ネートが特に好ましい。[Chemical 4] A compound having a bond, such as Si (NCO) 4 ,
R n Si (NCO) 4-n , (RO) n Si (NCO)
4-n , these precondensates and the like can be mentioned. Here, R is a hydrocarbon group such as methyl, ethyl, phenyl, vinyl, etc., and n is a number of 1, 2, or 3. Preferable examples of specific compounds include methylsilane triisocyanate, ethoxysilane triisocyanate, and silane tetraisocyanate. Further, the silane isocyanate compound is obtained by condensing the above compound with silicic acid anhydride or a polysiloxane compound to form two or more isocyanate groups (-NC) in the silane element (Si) in the molecule.
O) may be included in the compound. The silane isocyanate compound may be used alone or in combination of two or more. Of these, methylsilane triisocyanate is particularly preferred.
【0023】末端水酸基を有するポリジメチルシロキサ
ンとしては水酸基を2個有するもの、いわゆるシリコー
ンジオールが特に好ましい。このものの重合度は40以
下、さらには20〜40が好ましい。またこの重合度は
10以上であることが好ましい。As the polydimethylsiloxane having terminal hydroxyl groups, those having two hydroxyl groups, so-called silicone diols are particularly preferable. The degree of polymerization of this product is 40 or less, more preferably 20 to 40. The degree of polymerization is preferably 10 or more.
【0024】末端水酸基を有するポリジメチルシロキサ
ンの使用割合は、シランイソシアネート化合物との総量
に対し、5〜30重量%が好ましい。末端水酸基を有す
るポリジメチルシロキサンの割合が大きすぎると、薄膜
の密着性が低下し、好ましくない。The polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group is preferably used in an amount of 5 to 30% by weight based on the total amount of the silane isocyanate compound. If the proportion of the polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group is too large, the adhesion of the thin film will deteriorate, which is not preferable.
【0025】シランイソシアネート化合物と末端水酸基
を有するポリジメチルシロキサンの混合物を含む塗液の
塗布は、例えばスピンナーコート法、スプレーコート
法、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート
法等の各種の塗布方法を用いて行うことができる。シラ
ンイソシアネート化合物と末端水酸基を有するポリジメ
チルシロキサンとは、低温反応性にすぐれ、例えば特別
な触媒を用いなくても空気中の水分やポリエステルフイ
ルム表面に付着している水分等でかつ温和な条件で反応
が十分に進むことから、塗布後の乾燥温度を低くするこ
とができ、従ってフイルムにシワ、特に縦ジワを発生さ
せずに離型性硬化膜を形成できる利点を有する。乾燥温
度は通常60〜130℃であり、好ましくは80〜12
0℃である。この温度が低すぎると、硬化時間が長くな
り、生産性が低下するので好ましくない。一方、この温
度が高すぎると、フイルムにシワが生じるようになり、
好ましくない。上記の利点はポリエステルフイルムの厚
みが薄いほど顕著となる。The coating liquid containing a mixture of a silane isocyanate compound and a polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group can be coated by various coating methods such as spinner coating method, spray coating method, bar coating method, gravure coating method and reverse coating method. Can be done using. The silane isocyanate compound and the polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group are excellent in low-temperature reactivity, for example, in a mild condition such as moisture in the air or moisture adhering to the polyester film surface without using a special catalyst. Since the reaction proceeds sufficiently, the drying temperature after coating can be lowered, so that there is an advantage that a releasable cured film can be formed without generating wrinkles, especially vertical wrinkles on the film. The drying temperature is usually 60 to 130 ° C, preferably 80 to 12
It is 0 ° C. If the temperature is too low, the curing time becomes long and the productivity is lowered, which is not preferable. On the other hand, if this temperature is too high, the film will wrinkle,
Not preferable. The above advantage becomes more remarkable as the thickness of the polyester film is smaller.
【0026】シランイソシアネート化合物は、乾燥段階
で、例えば空気中の水分と、下記のように反応して加水
分解し、The silane isocyanate compound is hydrolyzed by reacting with moisture in the air in the drying step as described below,
【0027】[0027]
【化5】
さらに加水分解物は下記のように反応して酸化ケイ素薄
膜を形成する、と考えられる。[Chemical 5] Furthermore, it is considered that the hydrolyzate reacts as described below to form a silicon oxide thin film.
【0028】[0028]
【化6】
その際、ポリジメチルシロキサンとシランイソシアネー
ト化合物との反応も進み、酸化ケイ素薄膜にポリジメチ
ルシロキサン鎖を結合させることができる。このポリジ
メチルシロキサン鎖はその特性として薄膜の表面に存在
し、該薄膜に離型性を付与する。[Chemical 6] At that time, the reaction between the polydimethylsiloxane and the silane isocyanate compound also proceeds, and the polydimethylsiloxane chain can be bonded to the silicon oxide thin film. This polydimethylsiloxane chain is characteristically present on the surface of the thin film and imparts releasability to the thin film.
【0029】[0029]
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説
明する。なお、フイルムの各種特性測定は下記の方法に
より行なった。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The various properties of the film were measured by the following methods.
【0030】1)表面固有抵抗値
ASTM D−257に準拠した超絶縁抵抗計(横河電
機製RM−214)にて表面固有抵抗を測定する。1) Surface resistivity The surface resistivity is measured with a super insulation resistance meter (RM-214 manufactured by Yokogawa Electric) according to ASTM D-257.
【0031】2)離型性
酸化ケイ素薄膜層の上にポリエステル粘着テープ(ニッ
トー31B)を貼り合せ、2kgの圧着ローラーで圧着後
20分放置したのち、テープ幅(1インチ)に裁断し、
インストロン型引張り試験機にて180°方向に剥離
し、この時の抵抗値(g/インチ)をもって表示する。2) A polyester adhesive tape (Knit-31B) was stuck on the releasable silicon oxide thin film layer, and after being pressure bonded with a 2 kg pressure roller for 20 minutes, it was cut into a tape width (1 inch),
Peel in 180 ° direction with an Instron type tensile tester, and display the resistance value (g / inch) at this time.
【0032】3)摩擦係数
ASTM D−1894に準拠し、フイルムの処理面と
非処理との静摩擦および動摩擦係数を測定する。3) Coefficient of Friction According to ASTM D-1894, the coefficient of static friction and the coefficient of dynamic friction between the treated surface and the non-treated surface of the film are measured.
【0033】4)ラブオフテスト
コーティング面を指先で数回摩擦し、薄膜の脱落、密着
性を見る。4) Love-off test The coated surface is rubbed several times with a fingertip, and the thin film is removed and the adhesion is checked.
【0034】5)平面性 フイルム表面に発生した熱ジワを目視判定する: ○:発生なし ×:多数発生5) Flatness Visually check for heat wrinkles on the film surface: ○: No occurrence ×: Many occurrences
【0035】[0035]
【比較例1】ポリジメチルシロキサンとメチルハイドロ
ゲンポリシロキサンの混合液に白金触媒を加えて付加反
応させ硬化させるタイプの信越化学(株)製の商品名K
S−772をトルエンに溶解させ、固形分濃度2%の溶
液を作った。[Comparative Example 1] A trade name K manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. of a type in which a platinum catalyst is added to a mixed solution of polydimethylsiloxane and methylhydrogenpolysiloxane to cause an addition reaction and curing.
S-772 was dissolved in toluene to prepare a solution having a solid content concentration of 2%.
【0036】この塗液をポリエステルフイルム(厚さ6
μm)に10g/m2 (wet)の塗布量でコーティン
グし、乾燥温度110℃、滞留時間1分で硬化反応を行
ない乾燥膜厚0.2μmの離型フイルムを作った。この
離型フイルムの特性は表1に示す。This coating solution was applied to a polyester film (thickness 6
μm) at a coating amount of 10 g / m 2 (wet), and a curing reaction was performed at a drying temperature of 110 ° C. and a residence time of 1 minute to prepare a release film having a dry film thickness of 0.2 μm. The characteristics of this release film are shown in Table 1.
【0037】[0037]
【比較例2】硬化反応を乾燥温度140℃、滞留時間1
分で行なう以外は比較例1と同様に行った。得られた離
型フイルムの特性は表1に示す。[Comparative Example 2] The curing reaction was performed at a drying temperature of 140 ° C and a residence time of 1
The same procedure as in Comparative Example 1 was performed except that the procedure was performed in minutes. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.
【0038】[0038]
【実施例1】ポリシロキサンの加水分解物であるコルコ
ート社(株)製の商品名コルコートPをイソプロピルア
ルコール(IPA)により希釈し、固形分1.5%の溶
液を作った。Example 1 A polysiloxane hydrolyzate, Colcoat P, manufactured by Colcoat Co., Ltd., was diluted with isopropyl alcohol (IPA) to prepare a solution having a solid content of 1.5%.
【0039】この塗液をポリエステルフイルム(厚さ1
6μm)のフイルムに塗布量6g/m2 (wet)でコ
ーティングし、乾燥温度100℃、滞留時間1分で乾燥
させた。This coating solution was applied to a polyester film (thickness 1
(6 μm) film was coated at a coating amount of 6 g / m 2 (wet) and dried at a drying temperature of 100 ° C. and a residence time of 1 minute.
【0040】さらにコルコートPを塗設したフイルム上
に、シラントリイソシアネート化合物とポリジメチルシ
ロキサンの混合物である松本製薬工業(株)製の商品名
オルガチックスSIC−003をIPAにより希釈した
固形分3.3%の溶液を塗布し、乾燥温度110℃、滞
留時間1分で硬化反応を行った。得られた離型フイルム
の特性を表1に示す。Further, on the film coated with Colcoat P, a solid content obtained by diluting IPA with a brand name Organix SIC-003 manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd., which is a mixture of a silane triisocyanate compound and polydimethylsiloxane. A 3% solution was applied, and a curing reaction was performed at a drying temperature of 110 ° C. and a residence time of 1 minute. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.
【0041】[0041]
【実施例2】ポリエステルフイルムとして厚み6μmの
ものを用いる以外は実施例1と同様に行なった。得られ
た離型フイルムの特性を表1に示す。Example 2 Example 1 was repeated except that a polyester film having a thickness of 6 μm was used. The properties of the obtained release film are shown in Table 1.
【0042】[0042]
【表1】 [Table 1]
【0043】[0043]
【発明の効果】本発明に方法によれば、例えば1012Ω
/□以下の表面固有抵抗値を示して安定した帯電防止性
を有し、かつ平面性、離型性に優れた離型フイルムを高
い生産性で製造することができる。殊に、本発明は広幅
の薄物離型フイルムの製造に有効である。According to the method of the present invention, for example, 10 12 Ω
It is possible to manufacture a release film having a surface specific resistance value of / □ or less, a stable antistatic property, and excellent flatness and releasability with high productivity. In particular, the present invention is effective for producing a wide thin film release film.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B32B 27/36 7016−4F C08J 7/04 CFD 7258−4F C09J 7/02 JKV 6770−4J ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI Technical display location B32B 27/36 7016-4F C08J 7/04 CFD 7258-4F C09J 7/02 JKV 6770-4J
Claims (4)
化ケイ素膜をフイルムの少なくとも片面に形成している
ポリエステルフイルムを用い、この酸化ケイ素膜の上に
シランイソシアネート化合物とこれより小割合を占め
る、末端水酸基を有するポリジメチルシロキサンとの混
合物を塗布し60〜130℃の温度で硬化させて離型層
を形成することを特徴とする帯電防止性能を有する離型
フイルムの製造方法。1. A polyester film in which a silicon oxide film exhibiting antistatic properties by the action of silanol is formed on at least one side of the film is used, and a silane isocyanate compound and a small proportion thereof are used on the silicon oxide film. A method for producing a release film having an antistatic property, which comprises applying a mixture with a polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group and curing the mixture at a temperature of 60 to 130 ° C. to form a release layer.
ンの割合が、シランイソシアネート化合物との合計量当
り、5〜30重量%である請求項1記載の帯電防止性能
を有する離型フイルムの製造方法。2. The method for producing a release film having antistatic properties according to claim 1, wherein the proportion of the polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group is 5 to 30% by weight based on the total amount of the silane isocyanate compound.
ンが重合度40以下のシリコーンジオールである請求項
1又は2記載の帯電防止性能を有する離型フイルムの製
造方法。3. The method for producing a release film having antistatic properties according to claim 1, wherein the polydimethylsiloxane having a terminal hydroxyl group is a silicone diol having a polymerization degree of 40 or less.
少なくとも片面に側鎖及び末端基の8割以上が水酸基で
置換されたポリシロキサンの部分加水分解物を塗布し硬
化させることで形成している請求項1記載の帯電防止性
能を有する離型フイルムの製造方法。4. A silicon oxide film is formed by applying a partial hydrolyzate of polysiloxane in which at least 80% of side chains and terminal groups are substituted with hydroxyl groups to at least one side of a polyester film and curing the film. Item 2. A method for producing a release film having an antistatic property according to item 1.
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