JP2007316072A - 集積回路の非破壊ナビゲーションおよび処理のための高解像度光学チャネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光学チャネル・システムは、イメージ収集部分と、光ファイバ・イメージ伝送部分と、検出器部分とを含む。イメージ収集部分は、微小光学コンポーネントを含み、ミリメートル未満の寸法を有し、したがって、イオン/電子ビーム・ツールの作動距離内に容易に収容される。
【選択図】図2
Description
1)微小対物レンズ32は、短い作動距離および高い開口数とともに、サンプル21に対して直角(垂直)の入射角を有する。これにより、(撮像するためあるいは光化学または熱化学プロセスを実行するための)ミクロン未満の範囲の空間解像度が可能になる。
2)サンプル21のインラインかつ同軸照明により、短い作動距離を有する小さい空間内での高解像度の撮像が可能になる。
3)様々な光学コンポーネント(たとえば、偏光フィルタ、開口、微小ビーム・スプリッタ、および検出器)をこのシステム50に統合することができる(たとえば、イメージを検出器に転送しながら照明を伝送する微小立方体43)。
4)微小対物レンズ32と照明源との距離を低減することにより、ソース・イメージングが最小限になる(したがって、照明の均一性が最大限になる)。
5)光ファイバ・イメージ伝送ガイド45は、他の光学コンポーネントが都合よく位置することができるツール・チャンバの領域にイメージ47を並進する。
6)観察/撮像デバイス(たとえば、レーザ照明48、微小立方体43)付近でイメージ伝送チャネル45およびビーム・スプリッタ41を使用することにより、原板処理(photo-processing)のための光源を容易にシステムに追加することができる。
7)高い開口数は、非接触赤外線高温測定(サンプル温度を感知し制御するため)および可視部分または赤外線における非接触分光測定(原位置で化学プロセスを感知し制御するため)に適している。
21:サンプル
22:XYZ運動ステージ
25:光学チャネル・システム
26:イメージ収集部分
27:光ファイバ・イメージ伝送部分
28:検出器部分
Claims (20)
- 加工物に対する作動距離を特徴とする荷電粒子ビーム・デバイスのチャンバ内に配置された加工物のある領域の高解像度イメージを形成するためのシステムにおいて、
前記加工物に対して垂直な軸を有するイメージ収集部分と、
実質的に前記加工物に平行な軸を有する光学チャネルと、前記イメージ収集部分から前記光学チャネルにイメージ情報を方向付けるためのその遠心端の光学コンポーネントとを含むイメージ伝送部分と、
前記イメージ情報を検出するための検出器部分と、
を有し、
前記イメージ収集部分および前記イメージ伝送部分が前記作動距離内に位置し、
前記イメージ伝送部分が前記加工物の前記領域に照明を伝送する、システム。 - 前記イメージ収集部分を前記加工物の前記領域まで伸長し、前記イメージ収集部分をそこから収縮するための並進デバイスをさらに有する、請求項1に記載のシステム。
- 前記イメージ伝送部分が、
前記イメージ情報を伝送するための第1の光学チャネルと、
前記照明を伝送するための第2の光学チャネルと、
をさらに有し、前記第1の光学チャネルおよび前記第2の光学チャネルが実質的に平行である、請求項1に記載のシステム。 - 前記光学チャネルが光ファイバを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記第1の光学チャネルおよび前記第2の光学チャネルがそれぞれ光ファイバを含む、請求項3に記載のシステム。
- 前記第1の光学チャネルが前記第2の光学チャネルより大きい径を有する、請求項3に記載のシステム。
- 前記光学チャネルが光ファイバのコヒーレント・バンドルを有する、請求項4に記載のシステム。
- 前記第1の光学チャネルが前記加工物に照明を伝送するように適合され、したがって、前記第1の光学チャネルおよび前記第2の光学チャネルの両方を使用して、前記加工物が照らされる、請求項3に記載のシステム。
- 前記加工物の前記領域に反応物を送出するためのガス送出システムをさらに有し、前記光学チャネルからの照明が前記反応物と加工物材料との化学反応を促進する、請求項1に記載のシステム。
- 前記並進デバイスが、前記チャンバの壁面の取外し可能部分に取り付けられる、請求項2に記載のシステム。
- 前記イメージ収集部分および前記イメージ伝送部分が前記加工物から約5mm以内にある、請求項1に記載のシステム。
- 前記イメージ収集部分および前記イメージ伝送部分が前記検出器に赤外線イメージ情報を送出するように適合され、それにより、前記加工物の前記領域の温度を示す、請求項1に記載のシステム。
- 前記光学コンポーネントが、90度の角度で前記イメージ情報を方向付けるためのプリズムを有する、請求項1に記載のシステム。
- 前記光学コンポーネントがビーム・スプリッタを含む、請求項1に記載のシステム。
- 前記イメージ情報を前記検出器部分に方向付けるための第2の光学コンポーネントをさらに有する、請求項1に記載のシステム。
- 前記光ファイバが屈折率分布型ファイバである、請求項4に記載のシステム。
- 前記屈折率分布型ファイバが前記イメージ情報の位相を保持する、請求項16に記載のシステム。
- 前記光学チャネルが柔軟な光ファイバを含み、前記並進デバイスが前記イメージ収集部分を収縮するときに前記光ファイバが曲がる、請求項2に記載のシステム。
- 前記荷電粒子ビーム・デバイスが、集束イオン・ビーム(FIB)ツールおよび走査電子顕微鏡(SEM)のうちの1つである、請求項1に記載のシステム。
- 前記加工物の前記領域が、前記ビーム・デバイスの前記ビームの中心に芯合わせされている、請求項19に記載のシステム。
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---|---|---|---|---|
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Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7961397B2 (en) * | 2008-08-29 | 2011-06-14 | Omniprobe, Inc | Single-channel optical processing system for energetic-beam microscopes |
US8781219B2 (en) | 2008-10-12 | 2014-07-15 | Fei Company | High accuracy beam placement for local area navigation |
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EP2591490B1 (en) * | 2010-07-08 | 2016-02-03 | FEI Company | Charged particle beam processing system with visual and infrared imaging |
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US8455822B2 (en) | 2010-08-31 | 2013-06-04 | Fei Company | Navigation and sample processing using an ion source containing both low-mass and high-mass species |
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Family Cites Families (7)
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---|---|---|---|---|
JPS55117388A (en) * | 1979-03-05 | 1980-09-09 | Hitachi Ltd | Scanning electronic microscope or its similar device |
US4929041A (en) * | 1989-01-09 | 1990-05-29 | Johnston Pump/General Valve, Inc. | Cathodoluminescence system for use in a scanning electron microscope including means for controlling optical fiber aperture |
US5825043A (en) * | 1996-10-07 | 1998-10-20 | Nikon Precision Inc. | Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus |
US6373070B1 (en) * | 1999-10-12 | 2002-04-16 | Fei Company | Method apparatus for a coaxial optical microscope with focused ion beam |
US6621275B2 (en) * | 2001-11-28 | 2003-09-16 | Optonics Inc. | Time resolved non-invasive diagnostics system |
US7248353B2 (en) * | 2003-05-30 | 2007-07-24 | Ebara Corporation | Method and apparatus for inspecting samples, and method for manufacturing devices using method and apparatus for inspecting samples |
WO2005116577A1 (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Nikon Corporation | 結像光学系の調整方法、結像装置、位置ずれ検出装置、マ-ク識別装置及びエッジ位置検出装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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