JP2007314808A - Polycarbonate resin, its producing method, and electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Polycarbonate resin, its producing method, and electrophotographic photoreceptor Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polycarbonate resin excellent in optical property and mechanical property, particularly in wear resistance, its producing method, and an electrophotographic photoreceptor excellent in durability using the crosslinked polycarbonate. <P>SOLUTION: The polycarbonate resin comprises a repeating unit having at least a hydrolysable group and a polycarbonate bond. Its producing method is also provided. The crosslinked polycarbonate resin is prepared by crosslinking the polycarbonate resin. The electrophotographic photoreceptor comprises a photosensitive layer containing the crosslinked carbonate resin disposed on a conductive substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、機械的性質や光学的性質、電子写真特性に優れた架橋ポリカーボネート樹脂と、その製造方法、ならびにこの架橋ポリカーボネート樹脂を感光層中のバインダー樹脂として含有する耐久性に優れた電子写真感光体に関するものである。   The present invention relates to a crosslinked polycarbonate resin excellent in mechanical properties, optical properties, and electrophotographic characteristics, a method for producing the same, and an electrophotographic photosensitive material excellent in durability containing the crosslinked polycarbonate resin as a binder resin in a photosensitive layer. It is about the body.

ポリカーボネート樹脂は、機械的性質や熱的性質、電気的性質に優れていることから、様々な産業分野において成形品の素材に用いられてきた。近年、さらにこのポリカーボネート樹脂の光学的性質などをも併せて利用した機能的な製品の分野においても多用されている。このような用途分野の拡大に伴って、ポリカーボネート樹脂に対する要求性能も多様化している。このような要請に応えるためには、従来から用いられてきた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンや1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどを原料とするポリカーボネート樹脂のみでは充分な対応ができないことがあることから、様々な化学構造を有するポリカーボネート樹脂が提案されてきている。しかしながら、各種の用途毎に特有の要求特性があることから、それら要請を満足する性能を具備するポリカーボネート樹脂の開発が求められている。   Polycarbonate resins are excellent in mechanical properties, thermal properties, and electrical properties, and thus have been used as raw materials for molded products in various industrial fields. In recent years, it has been frequently used in the field of functional products that also utilize the optical properties of the polycarbonate resin. With the expansion of such application fields, the required performance for polycarbonate resins has also diversified. In order to meet such demands, only polycarbonate resins made from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane or 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, which have been used in the past, are used. Polycarbonate resins having various chemical structures have been proposed because sufficient measures may not be possible. However, since there are required characteristics peculiar to various applications, there is a demand for the development of a polycarbonate resin having performance that satisfies these requirements.

このような機能的な製品として、ポリカーボネート樹脂を有機電荷発生材料や電荷輸送材料用のバインダー樹脂とする感光層を導電性基体上に形成した有機電子写真感光体がある。この電子写真感光体としては、従来、セレンやα−シリコンなどの無機光導電性材料を用いたものが使用されていたが、最近では、前記有機電子写真感光体の性能が向上したことから、その使用割合が拡大している。   As such a functional product, there is an organic electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer using a polycarbonate resin as a binder resin for an organic charge generating material or a charge transporting material is formed on a conductive substrate. As this electrophotographic photoreceptor, conventionally, those using an inorganic photoconductive material such as selenium and α-silicon were used, but recently, the performance of the organic electrophotographic photoreceptor has been improved. Its usage rate is expanding.

この有機電子写真感光体には、適用される電子写真プロセスに応じて、所定の感度や電気特性、光学特性を備えていることが要求される。この電子写真感光体は、その感光層の表面に、コロナ帯電、トナー現像、紙への転写、クリーニング処理などの操作が繰返し行われるため、これら操作を行う度に電気的、機械的な外力が加えられる。したがって、長期間にわたって電子写真の画質を維持するためには、電子写真感光体の表面に設けた感光層に、これら外力に対する耐久性が要求される。   The organic electrophotographic photosensitive member is required to have predetermined sensitivity, electrical characteristics, and optical characteristics according to the applied electrophotographic process. In this electrophotographic photoreceptor, operations such as corona charging, toner development, transfer to paper, and cleaning treatment are repeatedly performed on the surface of the photosensitive layer. Therefore, an electric and mechanical external force is applied each time these operations are performed. Added. Therefore, in order to maintain the electrophotographic image quality for a long period of time, the photosensitive layer provided on the surface of the electrophotographic photosensitive member is required to have durability against these external forces.

このような要請に応えるため、有機電子写真感光体のバインダー樹脂としては、感光層に用いる電荷輸送物質との相溶性がよく光学特性も良好なポリカーボネート樹脂が使用されてきた。しかしながら、従来の2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンや、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンなどを原料とするポリカーボネート樹脂を使用したものでは、電子写真感光体の耐久性の点で充分に満足できるに至っていない。   In order to meet such a demand, a polycarbonate resin having good compatibility with the charge transport material used for the photosensitive layer and good optical characteristics has been used as the binder resin of the organic electrophotographic photoreceptor. However, the durability of the electrophotographic photosensitive member is not obtained using a conventional polycarbonate resin made from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane or 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane. However, it has not been fully satisfied.

そこで、特許文献1においては、バインダー樹脂として炭素−炭素不飽和結合を有する架橋性のポリカーボネート樹脂を用い、これを含む感光層を導電性基体に塗布した後に、該架橋性ポリカーボネート樹脂を架橋させた電子写真感光体が提案されている。ところで、この場合、該架橋性ポリカーボネート樹脂にラジカル開始剤を加えて架橋反応を行うので、ここで発生したラジカルにより、ポリカーボネート樹脂の分子鎖が切断を受けたり、化学変化を受けて黄変することがあるという問題がある。また、ここで発生したラジカルにより、このバインダー樹脂に含有させてある電荷輸送物質が化学変化を受けて、その性能の低下を招くという問題もある。したがって、これら分子切断や化学変化に伴う電子写真感光体の性能や耐久性の低下のため、充分に満足できるには至っていない。   Therefore, in Patent Document 1, a crosslinkable polycarbonate resin having a carbon-carbon unsaturated bond is used as a binder resin, and after the photosensitive layer containing the resin is applied to a conductive substrate, the crosslinkable polycarbonate resin is crosslinked. An electrophotographic photoreceptor has been proposed. By the way, in this case, since a radical initiator is added to the crosslinkable polycarbonate resin to carry out a crosslinking reaction, the radical generated here causes the molecular chain of the polycarbonate resin to be cut or yellowed due to a chemical change. There is a problem that there is. Another problem is that the charge transport material contained in the binder resin undergoes a chemical change due to the radicals generated here, resulting in a decrease in performance. Accordingly, the electrophotographic photosensitive member is not sufficiently satisfied due to the deterioration of the performance and durability of the electrophotographic photosensitive member accompanying these molecular cutting and chemical change.

特開平4−291348号公報JP-A-4-291348

本発明は、上記の事情に基づいてなされてものであり、光学的性質や機械的性質、ことに耐摩耗性に優れた成形品を得ることのできる架橋ポリカーボネート樹脂と、その製造方法、ならびにこの架橋ポリカーボネート樹脂をバインダー樹脂として含有する耐久性に優れた電子写真感光体を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made based on the above circumstances, and a crosslinked polycarbonate resin capable of obtaining a molded article excellent in optical properties and mechanical properties, in particular, abrasion resistance, a production method thereof, An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor excellent in durability containing a crosslinked polycarbonate resin as a binder resin.

本発明者は、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、脂肪族不飽和炭化水素基を有するポリカーボネート樹脂に、珪素原子に結合した水素原子および加水分解性の基を有する珪素化合物を反応させて得られる特定の繰返し単位からなるポリカーボネート樹脂を架橋させることによって、光学的性質や機械的性質、ことに耐摩耗性に優れた性質を有するものが得られ、さらに、これをバインダー樹脂として用いた電子写真感光体が耐久性に優れたものであることを見出し、これら知見に基づいて本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that a polycarbonate compound having an aliphatic unsaturated hydrocarbon group has a silicon compound having a hydrogen atom bonded to a silicon atom and a hydrolyzable group. By crosslinking a polycarbonate resin composed of specific repeating units obtained by reaction, those having optical properties and mechanical properties, particularly excellent wear resistance, can be obtained, and this can be used as a binder resin. The electrophotographic photoreceptor used was found to be excellent in durability, and the present invention was completed based on these findings.

すなわち、本発明の要旨は、下記のとおりである。
(1)下記の一般式〔1〕で表される繰返し単位(1)および一般式〔2〕で表される繰返し単位(2)を、繰返し単位(1)と繰返し単位(2)の合計に対する繰返し単位(1)のモル比〔(1)/((1)+(2))〕が、0.001〜1となる割合で有するポリカーボネート樹脂。
That is, the gist of the present invention is as follows.
(1) The repeating unit (1) represented by the following general formula [1] and the repeating unit (2) represented by the general formula [2] are added to the total of the repeating unit (1) and the repeating unit (2). A polycarbonate resin having a molar ratio of repeating unit (1) [(1) / ((1) + (2))] of 0.001 to 1.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

〔式〔1〕中、Ar1 は、下記の〔1a〕、〔1b〕又は〔1c〕で表される。 [In the formula [1], Ar 1 is represented by the following [1a], [1b] or [1c].

Figure 2007314808
Figure 2007314808

{式〔1a〕中のX1は、単結合、−O−、−CO−、−S−、−SO−、−SO2−、−CR34−(ただし、R3、R4は各々独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、トリフルオロメチル基または炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基である)、炭素数5〜12の置換もしくは無置換のシクロアルキリデン基、炭素数2〜12の置換もしくは無置換のα,ω−アルキレン基、9,9−フルオレニリデン基、1,8−メンタンジイル基、2,8−メンタンジイル基、置換もしくは無置換のピラジリデン基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリーレン基または下記一般式〔3〕、 {X 1 in Formula [1a] is a single bond, —O—, —CO—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —CR 3 R 4 — (where R 3 and R 4 are Each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a trifluoromethyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms), a substituted or unsubstituted cycloalkylidene having 5 to 12 carbon atoms Group, substituted or unsubstituted α, ω-alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, 9,9-fluorenylidene group, 1,8-menthanediyl group, 2,8-menthanediyl group, substituted or unsubstituted pyrazilidene group, carbon A substituted or unsubstituted arylene group of formula 6 to 12, or the following general formula [3],

Figure 2007314808
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(式〔3〕中のR5は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリールオキシ基であり、tは0〜6の整数であり、gは0〜200の整数である。)で表される基であり、式〔1a〕〜〔1c〕中のAは、−(CH2h−、−O−(CH2h−、−CO−(CH2h−、−COO−(CH2h−で表される基(ただし、hは0〜6の整数である)であり、FGは、−SiR7 3-m−Zm(ただし、Zは炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、トリアルキルシロキシ基またはハロゲン原子であり、R7は各々独立に炭素数1〜6の飽和または不飽和炭化水素基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基であり、mは1〜3の整数である)であり、p1、p2は0〜4の整数(ただしp1+p2は1〜8の整数である)であり、qは1または2であり、sは1〜6の整数であり、式〔1a〕〜〔1c〕中のR1は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリールオキシ基であり、rは各々独立に0〜4の整数であり、tは各々独立に0〜6の整数である。]、一般式〔2〕中のAr2は、下記の〔2a〕、〔2b〕、〔2c〕又は〔2d〕で表される。 (In Formula [3], each R 5 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or a carbon number. 1-12 alkoxy group, a C6-C12 substituted or unsubstituted aryloxy group, t is an integer of 0-6, and g is an integer of 0-200. A in the formulas [1a] to [1c] is — (CH 2 ) h —, —O— (CH 2 ) h —, —CO— (CH 2 ) h —, —COO— (CH 2 ) H — (wherein h is an integer of 0-6), FG is —SiR 7 3-m —Z m (where Z is an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms or a trialkyl siloxy group or a halogen atom, R 7 is each independently 1 to carbon atoms Saturated or unsaturated hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, m is is an integer of 1 to 3), p 1, p 2 is an integer from 0 to 4 ( Wherein p 1 + p 2 is an integer of 1 to 8, q is 1 or 2, s is an integer of 1 to 6, and R 1 in the formulas [1a] to [1c] is Independently, hydrogen atom, halogen atom, trifluoromethyl group, alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, 6 to 12 carbon atoms Substituted or unsubstituted aryloxy groups, r is each independently an integer of 0 to 4, and t is each independently an integer of 0 to 6. In general formula [2], Ar 2 is represented by the following [2a], [2b], [2c] or [2d].

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(式〔2a〕〜〔2d〕中のX2、R6、r、t、gは、それぞれ、前記X1、R1、r、t、gと同じ意味を有し、kは0〜6の整数である)〕。 (X 2 , R 6 , r, t and g in the formulas [2a] to [2d] have the same meanings as X 1 , R 1 , r, t and g, respectively, and k is 0 to 6 ))].

(2)下記の一般式(1−1)で表される繰り返し単位(1−1)および一般式(2)で表される繰返し単位(2)を、繰返し単位(1−1)と繰返し単位(2)の合計に対する繰返し単位(1)のモル比〔(1−1)/((1−1)+(2))〕が、0.001〜1となる割合で有するポリカーボネート樹脂。

Figure 2007314808
(式(1−1)中、Ar3は、下記一般式[1d]を表す。
Figure 2007314808
式[1d]中のAは、−(CH23−を表わし、FG及び一般式(2)中のAr2は、上記(1)のFG、Ar2と同じ意味を表わす。)
(3)上記(1)又は(2)に記載のポリカーボネート樹脂を架橋して得られる架橋ポリカーボネート樹脂。
(4)脂肪族不飽和炭化水素基を含有するポリカーボネート樹脂に、珪素原子上に水素原子および加水分解性の基を有する珪素化合物を反応させることを特徴とする上記(1)又は(2)に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
(5) 前記珪素化合物が珪素原子上に水素原子と加水分解性の基および非加水分解性の基を有する珪素化合物である上記(4)に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
(6)前記珪素化合物が下記一般式〔4〕で表される珪素化合物である上記(4)又は(5)に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
Figure 2007314808
〔式〔4〕中のZ、R7は、前記Z、R7と同じ意味を有し、vは1〜3の整数である〕
(7)導電性基体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層に上記(3)記載の架橋ポリカーボネート樹脂を含有していることを特徴とする電子写真感光体。
(8)前記架橋ポリカーボネート樹脂が、請求項5記載の方法で製造したポリカーボネート樹脂を架橋させてなる架橋ポリカーボネート樹脂である上記(7)に記載の電子写真感光体。
(9)前記架橋ポリカーボネート樹脂が、脂肪族不飽和炭化水素基を含有するポリカーボネート樹脂に、トリアルコキシシランを反応させてなるポリカーボネート樹脂の架橋物である上記(7)に記載の電子写真感光体。
(10)前記架橋ポリカーボネート樹脂が、脂肪族不飽和炭化水素基を含有するポリカーボネート樹脂に、トリストリアルキルシロキシシランを反応させてなるポリカーボネート樹脂の架橋物である上記(8)記載の電子写真感光体。
(11)前記感光層が、少なくとも電荷発生物質を含有する電荷発生層と、少なくとも電荷輸送物質およびバインダー樹脂を含有する電荷輸送層からなるものである上記(7)〜(10)のいずれかに記載の電子写真感光体。 (2) The repeating unit (1-1) represented by the following general formula (1-1) and the repeating unit (2) represented by the general formula (2) are substituted with the repeating unit (1-1) and the repeating unit. A polycarbonate resin having a molar ratio [(1-1) / ((1-1) + (2))] of the repeating unit (1) to the sum of (2) in a ratio of 0.001 to 1.
Figure 2007314808
(In the formula (1-1), Ar 3 represents the following general formula [1d].
Figure 2007314808
A in the formula [1d] represents — (CH 2 ) 3 —, and FG and Ar 2 in the general formula (2) have the same meanings as FG and Ar 2 in the above (1). )
(3) A crosslinked polycarbonate resin obtained by crosslinking the polycarbonate resin according to (1) or (2).
(4) The above (1) or (2), wherein a polycarbonate compound containing an aliphatic unsaturated hydrocarbon group is reacted with a silicon compound having a hydrogen atom and a hydrolyzable group on a silicon atom. The manufacturing method of polycarbonate resin of description.
(5) The method for producing a polycarbonate resin according to (4), wherein the silicon compound is a silicon compound having a hydrogen atom, a hydrolyzable group and a non-hydrolyzable group on a silicon atom.
(6) The method for producing a polycarbonate resin according to the above (4) or (5), wherein the silicon compound is a silicon compound represented by the following general formula [4].
Figure 2007314808
[Z and R 7 in formula [4] have the same meaning as Z and R 7, and v is an integer of 1 to 3]
(7) An electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the photosensitive layer contains the crosslinked polycarbonate resin described in (3) above.
(8) The electrophotographic photosensitive member according to (7), wherein the crosslinked polycarbonate resin is a crosslinked polycarbonate resin obtained by crosslinking the polycarbonate resin produced by the method according to claim 5.
(9) The electrophotographic photosensitive member according to (7), wherein the crosslinked polycarbonate resin is a crosslinked product of a polycarbonate resin obtained by reacting a trialkoxysilane with a polycarbonate resin containing an aliphatic unsaturated hydrocarbon group.
(10) The electrophotographic photosensitive member according to the above (8), wherein the crosslinked polycarbonate resin is a crosslinked product of a polycarbonate resin obtained by reacting a tristrialkylsiloxysilane with a polycarbonate resin containing an aliphatic unsaturated hydrocarbon group. .
(11) Any of the above (7) to (10), wherein the photosensitive layer comprises a charge generation layer containing at least a charge generation material and a charge transport layer containing at least a charge transport material and a binder resin. The electrophotographic photosensitive member described.

本発明のポリカーボネート樹脂は、光学的性質や電気的性質、ならびに機械的性質、ことに耐摩耗性に優れているという効果を奏するものである。また、本発明の電子写真感光体は、感光層のバインダー樹脂として上記架橋ポリカーボネート樹脂を用いていることから、電子写真特性はもとより、感光層表面の耐摩耗性が向上するので耐久性に優れているという効果が得られる。   The polycarbonate resin of the present invention has an effect that it is excellent in optical properties, electrical properties, mechanical properties, and particularly wear resistance. In addition, since the electrophotographic photosensitive member of the present invention uses the above-mentioned crosslinked polycarbonate resin as a binder resin for the photosensitive layer, it has excellent durability because the abrasion resistance of the surface of the photosensitive layer is improved as well as electrophotographic characteristics. The effect of being.

本発明のポリカーボネート樹脂は、これを構成する繰返し単位が、前記一般式〔1〕で表される繰返し単位(1)からなる重合体、あるいは前記一般式〔1〕で表される繰返し単位(1)と一般式〔2〕で表される繰返し単位(2)とからなる共重合体であり、その重合体鎖は直鎖状、分岐状、環状のいずれの構造を有するものであってもよく、さらに特殊な末端構造や特殊な分岐構造が導入されたものであってもよい。   In the polycarbonate resin of the present invention, the repeating unit constituting the polymer is a polymer composed of the repeating unit (1) represented by the general formula [1] or the repeating unit represented by the general formula [1] (1 ) And the repeating unit (2) represented by the general formula [2], and the polymer chain may have any of linear, branched, and cyclic structures. Further, a special terminal structure or a special branched structure may be introduced.

これら式〔1〕および〔2〕で表される繰返し単位からなるポリカーボネート樹脂について、さらに具体的に述べると、前記式〔1a〕〜〔1c〕及び式〔2a〕〜〔2d〕において示すX1〜X2、R1 、R3〜R6が表わす炭素数1〜12のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、2−ブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基などが挙げられ、炭素数6〜12のアリール基としては、フェニル基、トリル基、スチリル基、ビフェニリル基、ナフチル基などが挙げられ、炭素数1〜12のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、2−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基などが挙げられ、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、トリルオキシ基、スチリルオキシ基、ナフチルオキシ基、ビフェニルオキシ基などが挙げられる。 The polycarbonate resin composed of the repeating units represented by the formulas [1] and [2] will be described more specifically. X 1 represented by the formulas [1a] to [1c] and the formulas [2a] to [2d]. the to X 2, R 1, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms R 3 to R 6 represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, butyl group, isobutyl group, 2-butyl group, t- Examples include a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group, a nonyl group, a decyl group, an undecyl group, a dodecyl group, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms includes a phenyl group, a tolyl group, and a styryl group. , Biphenylyl group, naphthyl group and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropoxy group, butoxy group, Sobutoxy group, 2-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, undecyloxy group, dodecyloxy group, etc. Examples of the 6-12 substituted or unsubstituted aryloxy group include a phenoxy group, a tolyloxy group, a styryloxy group, a naphthyloxy group, and a biphenyloxy group.

そして、前記繰返し単位(1)と繰返し単位(2)からなる共重合体である場合には、繰返し単位(1)のモル比〔(1)/((1)+(2))〕が、0.01以上であるもの、好ましくは0.05〜0.6の範囲であるものが好適に用いられる。このモル比が、0.01未満のものでは、架橋させた際の架橋密度が低く、機械的強度の向上効果が充分に得られないことがある。   When the copolymer is composed of the repeating unit (1) and the repeating unit (2), the molar ratio of the repeating unit (1) [(1) / ((1) + (2))] is Those that are 0.01 or more, preferably those that are in the range of 0.05 to 0.6 are suitably used. When this molar ratio is less than 0.01, the crosslinking density when crosslinked is low, and the effect of improving the mechanical strength may not be sufficiently obtained.

また、このポリカーボネート樹脂には、本発明の目的達成を阻害しない範囲でこれら繰返し単位(1)および(2)のほか、前記式〔1〕、〔2〕で規定した以外の構造単位を有するポリカーボネート単位や、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、ポリシロキサン構造を有する単位を含有しているものであってもよい。   In addition to the repeating units (1) and (2), the polycarbonate resin has a structural unit other than those defined by the formulas [1] and [2] as long as the object of the present invention is not impaired. It may contain a unit or a unit having a polyester, polyurethane, polyether, or polysiloxane structure.

そして、このポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンを溶媒とする0.5g/デシリットルの濃度、20℃の温度で測定した還元粘度〔ηsp/c〕が0.01〜10デシリットル/gであるものが好ましい。この還元粘度〔ηsp/c〕が、0.01デシリットル/g未満のものでは、架橋後の機械的強度が充分でなく、10デシリットル/gを超えるものでは成形加工性が充分でないことがある。   The polycarbonate resin preferably has a reduced viscosity [ηsp / c] of 0.01 to 10 deciliter / g measured at a concentration of 0.5 g / deciliter using methylene chloride as a solvent and a temperature of 20 ° C. When the reduced viscosity [ηsp / c] is less than 0.01 deciliter / g, the mechanical strength after crosslinking is insufficient, and when it exceeds 10 deciliter / g, the moldability may be insufficient.

つぎに、このような繰返し単位を有するポリカーボネート樹脂を製造する方法については、例えば、炭酸エステル形成性化合物としてホスゲンなどを用い、適当な酸結合剤の存在下に、脂肪族不飽和結合を持つ二価フェノールを単独で、あるいは脂肪族不飽和結合を持つ二価フェノールと脂肪族不飽和結合を持たない二価フェノールとを反応させる方法、あるいは、炭酸エステル形成性化合物としてビスアリールカーボネートを用いてエステル交換法により製造する方法などを採用すればよい。この脂肪族不飽和結合を持つ二価フェノールは、1種単独でも2種以上を併用してもよく、また脂肪族不飽和結合を持たない二価フェノールについても1種単独でも2種以上を併用してもよい。これら反応は、必要に応じて末端停止剤および/または分岐剤の存在下で行われる。   Next, with respect to a method for producing a polycarbonate resin having such a repeating unit, for example, phosgene or the like is used as a carbonate ester-forming compound, and an aliphatic unsaturated bond is formed in the presence of an appropriate acid binder. A method of reacting a monohydric phenol alone or a dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond with a dihydric phenol having no aliphatic unsaturated bond, or ester using bisaryl carbonate as a carbonate-forming compound A method of manufacturing by an exchange method may be employed. These dihydric phenols having an aliphatic unsaturated bond may be used alone or in combination of two or more, and dihydric phenols having no aliphatic unsaturated bond may be used alone or in combination of two or more. May be. These reactions are performed in the presence of a terminal terminator and / or a branching agent as necessary.

この脂肪族不飽和結合を持つ二価フェノールとしては、4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジビニルビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジアリルビフェニル、3,3',5,5'−テトラアリル−4,4'−ジヒドロキシビフェニル、ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、1,1−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−フェニルフェニル)プロパン、2,2−ビス〔3−(3−ブテニル)−4−ヒドロキシフェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−(4−ペンテニル)−4−ヒドロキシフェニル〕プロパン、2,2−ビス〔3−(5−ヘキセニル)−4−ヒドロキシフェニル〕プロパン、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジアリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン、3,3−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、3,3−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、1,1−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、3,3'−ジビニル−4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、4,4'−ジヒドロキシベンザルアセトフェノン、9,9−ビス(3−ビニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)フルオレン、1,3−ビス〔2−(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロピル〕ベンゼン、1,4−ビス〔2−(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロピル〕ベンゼン、1,3−ジヒドロキシ−4−アリルベンゼン、4,4'−ジヒドロキシ−3−アリルビフェニル、2,7−ジヒドロキシ−3,6−ジアリルナフタレン、4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,6−ヘプタジエン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−ブテン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロペン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−ビニルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−アリルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−(1−シクロヘキセニル)シクロヘキサン、さらに次式で表される化合物などが挙げられる。   Examples of the dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond include 4,4′-dihydroxy-3,3′-divinylbiphenyl, 4,4′-dihydroxy-3,3′-diallylbiphenyl, 3,3 ′, 5. , 5′-tetraallyl-4,4′-dihydroxybiphenyl, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) ) Diphenylmethane, 1,1-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxy) Phenyl) -1-phenylethane, 2,2-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) Enyl) propane, 2,2-bis (3-vinyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propane, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propane, 2,2- Bis (3-allyl-4-hydroxy-5-phenylphenyl) propane, 2,2-bis [3- (3-butenyl) -4-hydroxyphenyl] propane, 2,2-bis [3- (4-pentenyl) ) -4-hydroxyphenyl] propane, 2,2-bis [3- (5-hexenyl) -4-hydroxyphenyl] propane, 2- (4-hydroxyphenyl) -2- (3-allyl-4-hydroxyphenyl) ) Propane, 2,2-bis (3,5-diallyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) butane, 2,2- (3-allyl-4-hydroxyphenyl) butane, 3,3-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) pentane, 3,3-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) pentane, 1,1 -Bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) ether, bis (3-allyl- 4-hydroxyphenyl) ether, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) sulfoxide, bis (3- Allyl-4-hydroxyphenyl) sulfoxide, bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) Sulfone, bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, 3,3′-divinyl-4,4′-dihydroxybenzophenone, 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxybenzophenone, 4,4′- Dihydroxybenzalacetophenone, 9,9-bis (3-vinyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-allyl-4) -Hydroxy-5-methylphenyl) fluorene, 1,3-bis [2- (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propyl] benzene, 1,4-bis [2- (3-allyl-4-hydroxyphenyl) Propyl] benzene, 1,3-dihydroxy-4-allylbenzene, 4,4′-dihydroxy-3-allylbiphenyl, 2,7-dihy Droxy-3,6-diallylnaphthalene, 4,4-bis (4-hydroxyphenyl) -1,6-heptadiene, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-butene, 1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) -2-propene, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-vinylcyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2-allylcyclohexane, 1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) -2- (1-cyclohexenyl) cyclohexane, and a compound represented by the following formula.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

これら二価フェノールの中でも、好ましいものとしては、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシビフェニル、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,7−ジヒドロキシ−3,6−ジアリルナフタレン、1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、2−アリル−1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4,4'−ジヒドロキシベンザルアセトフェノンなどが挙げられる。   Among these dihydric phenols, preferred are 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxybiphenyl, 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis ( 3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propane, 2,7-dihydroxy-3,6-diallylnaphthalene, 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 2-allyl-1 , 1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 4,4′-dihydroxybenzalacetophenone, and the like.

また、前記の脂肪族不飽和結合を持たない二価フェノールとしては、例えば、4,4'−ジヒドロキシビフェニル、3,3'−ジフルオロ−4,4'−ジヒドロキシビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジメチルビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−2,2'−ジメチルビフェニル、4,4'−ジヒドロキシ−3,3'−ジシクロヘキシルビフェニルなどの4,4'−ジヒドロキシビフェニル類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−ノニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、ビス(2−ヒドロキシフェニル)メタン、2−ヒドロキシフェニル−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシ−4メチルフェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシ−4−メチル−6−tert−ブチルフェニル)メタン、ビス(2−ヒドロキシ−4,6−ジメチルフェニル)メタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)−1−フェニルエタン、2−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−2−(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エタン、1−フェニル−1,1−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)エタン、1,1−ビス(2−ヒドロキシ−4−メチルフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−イソプロピル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−sec−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−クロロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)プロパン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジフルオロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ブロモ−4−ヒドロキシ−5−クロロフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−4−sec−ブチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(2−ヒドロキシ−4,6−ジメチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−メチルプロパン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)−2−メチルプロパン、1,1−ビス(2−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−tert−ペンチルフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジクロロフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジブロモフェニル)ブタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3−メチルブタン、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘプタン、2,2−ビス(2−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ヘプタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)オクタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ノナン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)デカン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−シクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサンなどのビス(ヒドロキシフェニル)アルカン類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(3−フルオロ−4−ヒドロキシフェニル)エーテルなどのビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィドなどのビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホキシドなどのビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホキシド類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)スルホンなどのビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン類;4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノンなどのビス(4−ヒドロキシフェニル)ケトン類;9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレンなどのビス(ヒドロキシフェニル)フルオレン類;4,4"−ジヒドロキシ−p−ターフェニルなどのジヒドロキシ−p−ターフェニル類;4,4'''−ジヒドロキシ−p−クォーターフェニルなどのジヒドロキシ−p−クォーターフェニル類;2,5−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ピラジン、2,5−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,6−ジメチルピラジン、2,5−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2,6−ジエチルピラジンなどのビス(ヒドロキシフェニル)ピラジン類;1,8−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メンタン、2,8−ビス(4−ヒドロキシフェニル)メンタン、1,8−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)メンタン、1,8−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)メンタンなどのビス(ヒドロキシフェニル)メンタン類;1,4−ビス〔2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル〕ベンゼン、1,3−ビス〔2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル〕ベンゼンなどのビス〔2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル〕ベンゼン類;1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレンなどのジヒドロキシナフタレン類;レゾルシン、ヒドロキノン、カテコールなどのジヒドロキシベンゼン類;α,ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキサン、α,ω−ビス〔3−(2−ヒドロキシフェニル)プロピル〕ポリジメチルシロキサンなどのポリシロキサン類;1,1,8,8−テトラヒドロ−1,8−ジヒドロキシパーフルオロオクタン、1,1,6,6−テトラヒドロ−1,6−ジヒドロキシパーフルオロヘキサンなどのジヒドロパーフルオロアルカン類などが挙げられる。   Examples of the dihydric phenol having no aliphatic unsaturated bond include 4,4′-dihydroxybiphenyl, 3,3′-difluoro-4,4′-dihydroxybiphenyl, and 4,4′-dihydroxy- 4,4′-dihydroxybiphenyls such as 3,3′-dimethylbiphenyl, 4,4′-dihydroxy-2,2′-dimethylbiphenyl, 4,4′-dihydroxy-3,3′-dicyclohexylbiphenyl; 4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-nonyl-4-hydroxyphenyl) Methane, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3,5-dibromo -4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) methane, bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) methane, bis (2-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) phenylmethane, Bis (2-hydroxyphenyl) methane, 2-hydroxyphenyl-4-hydroxyphenyl) methane, bis (2-hydroxy-4methylphenyl) methane, bis (2-hydroxy-4-methyl-6-tert-butylphenyl) Methane, bis (2-hydroxy-4,6-dimethylphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,2-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (4 -Hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methyl) Enyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1-phenylethane, 2- (4-hydroxy-3-methylphenyl) -2- (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-3-methylphenyl) ethane, 1-phenyl-1,1-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) ethane, 1,1-bis (2-hydroxy-4-methylphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (2 -Methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-isopropyl-4-) Droxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-sec-butyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3- Cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-chloro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3 -Bromo-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) Propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-diflu) Olophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) propane, 2,2-bis (3-bromo-4-hydroxy-5-chlorophenyl) propane, 2,2-bis (4 -Hydroxyphenyl) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, 2,2-bis (2-hydroxy-4-sec-butylphenyl) propane, 2,2-bis (2-hydroxy-) 4,6-dimethylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2- (3-methyl-4-hydroxyphenyl) butane 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -2 -Methylpropane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) -2-methylpropane, 1,1-bis (2-butyl-4-) Droxy-5-methylphenyl) butane, 1,1-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) butane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-) Pentylphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dibromophenyl) butane, 2,2-bis (4- Hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3-methylbutane, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) hexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) heptane, 2,2-bis (2-tert-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) hept 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) nonane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) decane, 1,1-bis (4-hydroxy) Phenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxy-3,5-dimethyl) Phenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-cyclohexyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl)- 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -3, Bis (hydroxyphenyl) alkanes such as 3,5-trimethylcyclohexane; Bis (4-hydroxyphenyl) ethers such as bis (4-hydroxyphenyl) ether and bis (3-fluoro-4-hydroxyphenyl) ether; Bis (4-hydroxyphenyl) sulfides such as (4-hydroxyphenyl) sulfide and bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfide; bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxide, bis (3-methyl-4-hydroxy) Bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxides such as phenyl) sulfoxide; bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, etc. Screw ( -Hydroxyphenyl) sulfones; bis (4-hydroxyphenyl) ketones such as 4,4′-dihydroxybenzophenone; 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-methyl-4) -Hydroxyphenyl) fluorene, bis (hydroxyphenyl) fluorenes such as 9,9-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) fluorene; dihydroxy-p-ter such as 4,4 "-dihydroxy-p-terphenyl Phenyls; dihydroxy-p-quarterphenyls such as 4,4 ′ ″-dihydroxy-p-quaterphenyl; 2,5-bis (4-hydroxyphenyl) pyrazine, 2,5-bis (4-hydroxyphenyl) -3,6-dimethylpyrazine, 2,5-bis (4-hydroxyphenyl) -2,6 Bis (hydroxyphenyl) pyrazines such as diethylpyrazine; 1,8-bis (4-hydroxyphenyl) menthane, 2,8-bis (4-hydroxyphenyl) menthane, 1,8-bis (3-methyl-4) -Hydroxyphenyl) menthane, bis (hydroxyphenyl) menthanes such as 1,8-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) menthane; 1,4-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -2 -Propyl] benzene, bis [2- (4-hydroxyphenyl) -2-propyl] benzenes such as 1,3-bis [2- (4-hydroxyphenyl) -2-propyl] benzene; 1,3-dihydroxy Naphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene, 2, Dihydroxynaphthalenes such as dihydroxynaphthalene; dihydroxybenzenes such as resorcin, hydroquinone and catechol; α, ω-dihydroxypolydimethylsiloxane, α, ω-bis [3- (2-hydroxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane Polysiloxanes; 1,1,8,8-tetrahydro-1,8-dihydroxyperfluorooctane, dihydroperfluoroalkanes such as 1,1,6,6-tetrahydro-1,6-dihydroxyperfluorohexane, etc. Can be mentioned.

これら各種の二価フェノール類の中でも、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)プロパン、4,4'−ジヒドロキシビフェニル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、4,4'−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メトキシフェニル)1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、α,ω−ビス〔3−(2−ヒドロキシフェニル)プロピル〕ポリジメチルシロキサン、レゾルシン、2,7−ジヒドロキシナフタレンなどが好ましく、特に2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンが好ましい。   Among these various dihydric phenols, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) propane, 4,4 ′ -Dihydroxybiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, 2,2-bis (3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl) propane, 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) pentane, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, bis (4-hydroxyphenyl) ether, 4,4 ′ Dihydroxybenzophenone, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane, α, ω-bis [3- (2-hydroxyphenyl) propyl] Polydimethylsiloxane, resorcin, 2,7-dihydroxynaphthalene and the like are preferable, and 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane is particularly preferable.

前記末端停止剤としては、一価のカルボン酸とその誘導体や、一価のフェノールを用いることができる。例えば、p−tert−ブチル−フェノール、p−フェニルフェノール、p−クミルフェノール、p−パーフルオロノニルフェノール、p−(パーフルオロノニルフェニル)フェノール、p−(パーフルオロキシルフェニル)フェノール、p−tert−パーフルオロブチルフェノール、1−(P−ヒドロキシベンジル)パーフルオロデカン、p−〔2−(1H,1H−パーフルオロトリドデシルオキシ)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロピル〕フェノール、3,5−ビス(パーフルオロヘキシルオキシカルボニル)フェノール、p−ヒドロキシ安息香酸パーフルオロドデシル、p−(1H,1H−パーフルオロオクチルオキシ)フェノール、2H,2H,9H−パーフルオロノナン酸、1,1,1,3,3,3−テトラフロロ−2−プロパノールなどが好適に用いられる。これら末端停止剤の添加割合は、共重合組成比として、1〜30モル%、さらに好ましくは1〜10モル%であり、この割合が30モル%を超えると機械的強度の低下を招くことがあり、1モル%未満であると成形性の低下を招くことがある。   As the terminal terminator, monovalent carboxylic acid and derivatives thereof, and monovalent phenol can be used. For example, p-tert-butyl-phenol, p-phenylphenol, p-cumylphenol, p-perfluorononylphenol, p- (perfluorononylphenyl) phenol, p- (perfluoroxylphenyl) phenol, p-tert -Perfluorobutylphenol, 1- (P-hydroxybenzyl) perfluorodecane, p- [2- (1H, 1H-perfluorotridodecyloxy) -1,1,1,3,3,3-hexafluoropropyl] Phenol, 3,5-bis (perfluorohexyloxycarbonyl) phenol, perfluorododecyl p-hydroxybenzoate, p- (1H, 1H-perfluorooctyloxy) phenol, 2H, 2H, 9H-perfluorononanoic acid, 1,1,1,3,3,3-tetraflo Such as 2-propanol is preferably used. The addition ratio of these end terminators is 1 to 30 mol%, more preferably 1 to 10 mol% as a copolymer composition ratio. If this ratio exceeds 30 mol%, mechanical strength may be lowered. Yes, if it is less than 1 mol%, the moldability may be lowered.

また、分岐剤の具体例としては、フロログリシン、ピロガロール、4,6−ジメチル−2,4,6−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−2−ヘプテン、2,6−ジメチル−2,4,6−トリス(4−ヒドロキシフェニル)−3−ヘプテン、2,4−ジメチル−2,4,6−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ヘプタン、1,3,5−トリス(2−ヒドロキシフェニル)ベンゼン、1,3,5−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ベンゼン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、トリス(4−ヒドロキシフェニル)フェニルメタン、2,2−ビス〔4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキシル〕プロパン、2,4−ビス〔2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−2−プロピル〕フェノール、2,6−ビス(2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェノール、2−(4−ヒドロキシフェニル)−2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)プロパン、テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、テトラキス〔4−(4−ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノキシ〕メタン、2,4−ジヒドロキシ安息香酸、トリメシン酸、シアヌル酸、3,3−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)−2−オキソ−2,3−ジヒドロインドール、3,3−ビス(4−ヒドロキシアリール)オキシインドール、5−クロロイサチン、5,7−ジクロロイサチン、5−ブロモイサチンなどが挙げられる。   Specific examples of the branching agent include phloroglysin, pyrogallol, 4,6-dimethyl-2,4,6-tris (4-hydroxyphenyl) -2-heptene, 2,6-dimethyl-2,4,6. -Tris (4-hydroxyphenyl) -3-heptene, 2,4-dimethyl-2,4,6-tris (4-hydroxyphenyl) heptane, 1,3,5-tris (2-hydroxyphenyl) benzene, , 3,5-tris (4-hydroxyphenyl) benzene, 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) ethane, tris (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, 2,2-bis [4,4-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexyl] propane, 2,4-bis [2-bis (4-hydroxyphenyl) -2-propyl] phenol, 2,6-bis (2 Hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenol, 2- (4-hydroxyphenyl) -2- (2,4-dihydroxyphenyl) propane, tetrakis (4-hydroxyphenyl) methane, tetrakis [4- (4- Hydroxyphenylisopropyl) phenoxy] methane, 2,4-dihydroxybenzoic acid, trimesic acid, cyanuric acid, 3,3-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) -2-oxo-2,3-dihydroindole, 3 , 3-bis (4-hydroxyaryl) oxindole, 5-chloroisatin, 5,7-dichloroisatin, 5-bromoisatin and the like.

これら分岐剤の添加量は、共重合組成比で30モル%以下、好ましくは5モル%以下であり、これが30モル%を超えると成形性の低下を招くことがある。炭酸エステル形成性化合物としては、ホスゲンなどの各種ジハロゲン化カルボニルや、クロロホーメートなどのハロホーメート、炭酸エステル化合物などを用い、酸結合剤の存在下に重縮合を行う反応は、通常、溶媒中で行う。ホスゲンなどのガス状の炭酸エステル形成性化合物を使用する場合、これを反応系に吹き込む方法が好適に採用できる。この炭酸エステル形成性化合物の使用割合は、反応の化学量論比(当量)を考慮して適宜調整すればよい。   The addition amount of these branching agents is 30 mol% or less, preferably 5 mol% or less in terms of the copolymer composition ratio, and if this exceeds 30 mol%, moldability may be deteriorated. As the carbonate ester-forming compound, various dihalogenated carbonyls such as phosgene, haloformates such as chloroformate, carbonate ester compounds, etc., and the reaction of performing polycondensation in the presence of an acid binder are usually carried out in a solvent. Do. When a gaseous carbonate-forming compound such as phosgene is used, a method of blowing it into the reaction system can be suitably employed. The proportion of the carbonate ester-forming compound used may be appropriately adjusted in consideration of the stoichiometric ratio (equivalent) of the reaction.

酸結合剤としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化セシウムなどのアルカリ金属水酸化物や、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩、ピリジンなどの有機塩基、あるいはこれらの混合物を用いることができる。この酸結合剤の使用割合も反応の化学量論比(当量)を考慮して適宜調整すればよい。具体的には、原料の二価フェノールの水酸基1モル当たり、1当量もしくはそれより過剰量、好ましくは1〜5当量の酸結合剤を使用すればよい。   Examples of the acid binder include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide and cesium hydroxide, alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate, organic bases such as pyridine, or Mixtures of these can be used. The use ratio of the acid binder may be appropriately adjusted in consideration of the stoichiometric ratio (equivalent) of the reaction. Specifically, 1 equivalent or an excess amount, preferably 1 to 5 equivalents of acid binder may be used per 1 mol of hydroxyl group of the raw material dihydric phenol.

ここで用いる溶媒としては、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素や、塩化メチレン、クロロホルム、1.1−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエタン、1,1,1−トリクロロエタン、1,1,2−トリクロロエタン、1,1,1,2−テトラクロロエタン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、ペンタクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、アセトフェノンなどが好適なものとして挙げられる。これら溶媒は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。さらに、互いに混ざり合わない2種の溶媒を用いて界面重縮合反応を行ってもよい。   Solvents used here include aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, methylene chloride, chloroform, 1.1-dichloroethane, 1,2-dichloroethane, 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane. 1,1,1,2-tetrachloroethane, 1,1,2,2-tetrachloroethane, pentachloroethane, halogenated hydrocarbons such as chlorobenzene, acetophenone, and the like are preferable. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Further, the interfacial polycondensation reaction may be performed using two kinds of solvents that are not mixed with each other.

また、前記触媒としては、トリメチルアミンや、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、ジメチルアニリンなどの三級アミン、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、トリブチルベンジルアンモニウムクロライド、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイドなどの四級アンモニウム塩、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイドなどの四級ホスホニウム塩などが好適である。さらに、所望により、この反応系に亜硫酸ナトリウムやハイドロサルファイドなどの酸化防止剤を少量添加してもよい。   Examples of the catalyst include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylcyclohexylamine, tertiary amines such as pyridine and dimethylaniline, trimethylbenzylammonium chloride, triethylbenzylammonium chloride, tributylbenzylammonium chloride, trioctyl. Quaternary ammonium salts such as methylammonium chloride, tetrabutylammonium chloride and tetrabutylammonium bromide, and quaternary phosphonium salts such as tetrabutylphosphonium chloride and tetrabutylphosphonium bromide are preferred. Furthermore, if desired, a small amount of an antioxidant such as sodium sulfite or hydrosulfide may be added to this reaction system.

つぎに、前記重縮合反応を行う際の反応条件については、反応温度は、通常、0〜150℃、好ましくは5〜40℃であり、反応圧力は減圧、常圧、加圧のいずれでもよいが、通常は常圧もしくは反応系の自圧程度の加圧下に行うことができる。反応時間については、反応温度により左右されるが、0.5分間〜10時間、好ましくは1分間〜2時間程度である。   Next, as for the reaction conditions for carrying out the polycondensation reaction, the reaction temperature is usually 0 to 150 ° C., preferably 5 to 40 ° C., and the reaction pressure may be any of reduced pressure, normal pressure, and increased pressure. However, it can usually be carried out under normal pressure or a pressure of about the pressure of the reaction system. The reaction time depends on the reaction temperature, but is about 0.5 minutes to 10 hours, preferably about 1 minute to 2 hours.

ポリカーボネート樹脂の分子量の調節をするには、例えば前記反応条件の選択、前記末端停止剤や分岐剤の使用量の増減などにより行うことができる。また、場合によっては、得られた重合体に適宜物理的処理(混合、分画など)および/または化学的処理(ポリマー反応、部分分解処理など)を施して所望の分子量範囲のものを得るようにしてもよい。   The molecular weight of the polycarbonate resin can be adjusted, for example, by selecting the reaction conditions and increasing / decreasing the amount of the terminal terminator or branching agent used. In some cases, the obtained polymer is appropriately subjected to physical treatment (mixing, fractionation, etc.) and / or chemical treatment (polymer reaction, partial decomposition treatment, etc.) to obtain a polymer having a desired molecular weight range. It may be.

このポリカーボネート樹脂の製造法は、様々な態様で実施可能であり、例えば脂肪族不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または脂肪族不飽和結合を有さない二価フェノールとホスゲンなどを反応させて、ポリカーボネートオリゴマーを製造し、ついでこのポリカーボネートオリゴマーに、上記の脂肪族不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または脂肪族不飽和結合を有さない二価フェノールを、前記溶媒および酸結合剤のアルカリ水溶液の混合液の存在下に反応させる方法を採用してもよい。また、前記の脂肪族不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または脂肪族不飽和結合を有さない二価フェノールとホスゲンを、前記溶媒とアルカリ水溶液との混合液中で反応させる方法を採用してもよい。通常は、前者の、予めポリカーボネートオリゴマーを製造する方法が効率的であることから好ましい。   This polycarbonate resin can be produced in various ways, for example, by reacting a dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond and / or a dihydric phenol not having an aliphatic unsaturated bond with phosgene. Then, a polycarbonate oligomer is produced, and then a dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond and / or a dihydric phenol having no aliphatic unsaturated bond is added to the polycarbonate oligomer and an alkali of the solvent and the acid binder. You may employ | adopt the method made to react in presence of the liquid mixture of aqueous solution. Further, a method is adopted in which the dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond and / or the dihydric phenol not having an aliphatic unsaturated bond and phosgene are reacted in a mixed solution of the solvent and an aqueous alkaline solution. May be. Usually, the former method of producing a polycarbonate oligomer in advance is preferable because it is efficient.

ポリカーボネートオリゴマーを製造するには、まず、アルカリ水溶液に脂肪族不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または脂肪族不飽和結合を有さない二価フェノール(必要に応じて分岐剤を含めて)を溶解し、二価フェノールのアルカリ水溶液を調製する。ついで、このアルカリ水溶液と塩化メチレンなどの有機溶媒との混合液に、ホスゲンを導入して反応させ、脂肪族不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または脂肪族不飽和結合を有さない二価フェノールのポリカーボネートオリゴマーを合成する。ついで、反応溶液を水相と有機相とに分離し、ポリカーボネートオリゴマーを含む有機相を得る。この際、アルカリ水溶液のアルカリ濃度は、1〜15重量%の範囲が好ましく、また有機相と水相との容積比は、10:1〜1:10、好ましくは5:1〜1:5の範囲である。反応温度は、冷却下に通常0〜70℃、好ましくは5〜65℃であり、反応時間は15分間〜4時間、好ましくは30分間〜3時間程度である。このようにして得られるポリカーボネートオリゴマーの平均分子量は2000以下、重合度は,通常20以下、好ましくは2〜10量体のものである。   In order to produce a polycarbonate oligomer, first, a dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond and / or a dihydric phenol not having an aliphatic unsaturated bond (including a branching agent if necessary) in an alkaline aqueous solution. Dissolve to prepare an alkaline aqueous solution of dihydric phenol. Next, phosgene is introduced into the mixed solution of the alkaline aqueous solution and an organic solvent such as methylene chloride to cause the reaction, thereby causing dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond and / or divalent phenol having no aliphatic unsaturated bond. Synthesize phenolic polycarbonate oligomers. Next, the reaction solution is separated into an aqueous phase and an organic phase to obtain an organic phase containing a polycarbonate oligomer. At this time, the alkali concentration of the aqueous alkali solution is preferably in the range of 1 to 15% by weight, and the volume ratio of the organic phase to the aqueous phase is 10: 1 to 1:10, preferably 5: 1 to 1: 5. It is a range. The reaction temperature is usually 0 to 70 ° C., preferably 5 to 65 ° C. under cooling, and the reaction time is about 15 minutes to 4 hours, preferably about 30 minutes to 3 hours. The polycarbonate oligomer thus obtained has an average molecular weight of 2000 or less and a polymerization degree of usually 20 or less, preferably 2 to 10-mer.

このようにして得られるポリカーボネートオリゴマーを含む有機相に、前記脂肪族不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または脂肪族不飽和結合を有さない二価フェノールを加えて反応させる。反応温度は、通常10〜50℃、好ましくは20〜40℃であり、反応時間は、通常30分間〜2時間程度である。この反応にあたって、脂肪族不飽和結合を有する二価フェノールおよび/または脂肪族不飽和結合を有さない二価フェノールは有機溶媒溶液および/またはアルカリ水溶液として添加するのが望ましい。その添加順序については、特に制限はない。なお、触媒、末端停止剤および分岐剤などは、上記の製造法において、必要に応じ、ポリカーボネートオリゴマーの製造時、その後の高分子量化の反応時のいずれか、またはその両方において添加して用いることができる。   The organic phase containing the polycarbonate oligomer thus obtained is reacted by adding the dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond and / or the dihydric phenol not having an aliphatic unsaturated bond. The reaction temperature is usually 10 to 50 ° C., preferably 20 to 40 ° C., and the reaction time is usually about 30 minutes to 2 hours. In this reaction, it is desirable to add a dihydric phenol having an aliphatic unsaturated bond and / or a dihydric phenol not having an aliphatic unsaturated bond as an organic solvent solution and / or an alkaline aqueous solution. There is no restriction | limiting in particular about the addition order. In addition, a catalyst, a terminal terminator, a branching agent, and the like are added and used in the above production method, if necessary, at the time of producing the polycarbonate oligomer, at the time of the subsequent high molecular weight reaction, or both. Can do.

つぎに、このようにして得られた脂肪族不飽和結合を有するポリカーボネート樹脂に、下記一般式〔4〕で表される珪素化合物を反応させる。この式〔4〕の珪素化合物においてZで表される置換基は、加水分解性の基であり、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、トリアルキルシロキシ基、トリアリールシロキシ基およびハロゲン原子である。さらに具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、2−ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、フェノキシ基、ナフトキシ基、ビフェニルオキシ基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、フッ素、塩素、臭素などが挙げられる。また、同式中のR7 で表される置換基は、非加水分解性の基であり、炭素数1〜6の飽和または不飽和炭化水素基、炭素数6〜12の置換または無置換のアリール基である。これらの具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、2−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、アリル基、3−ブテニル基、4−ペンテニル基、5−ヘキセニル基、イソプロペニル基、エチニル基、プロパギル基、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられる。   Next, the thus obtained polycarbonate resin having an aliphatic unsaturated bond is reacted with a silicon compound represented by the following general formula [4]. In the silicon compound of the formula [4], the substituent represented by Z is a hydrolyzable group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, a trialkylsiloxy group, A triarylsiloxy group and a halogen atom; More specifically, methoxy, ethoxy, proxy, isopropoxy, butoxy, 2-butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, phenoxy, naphthoxy, biphenyloxy, trimethylsilyl, triethylsilyl Group, triphenylsilyl group, fluorine, chlorine, bromine and the like. The substituent represented by R7 in the formula is a non-hydrolyzable group, a saturated or unsaturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms. It is a group. Specific examples thereof include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, 2-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, vinyl group, allyl group, and 3-butenyl. Group, 4-pentenyl group, 5-hexenyl group, isopropenyl group, ethynyl group, propargyl group, phenyl group, naphthyl group, biphenyl group and the like.

Figure 2007314808
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〔式〔4〕中のZ、R7は、前記Z、R7と同じ意味を有し、vは1〜3の整数である〕 [Z and R 7 in formula [4] have the same meaning as Z and R 7, and v is an integer of 1 to 3]

このような珪素化合物の具体例を示せば、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、トリブトキシシラン、メチルジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、トリフェノキシシラン、メチルジフェノキシシラン、フェニルジメトキシシラン、フェニルジエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルフェノキシシラン、ジエチルメトキシシラン、ジエチルエトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、トリス(トリメチルシロキシ)シラン、トリス(トリエチルシロキシ)シラン、メチルビス(トリメチルシロキシ)シラメチルビス(トリエチルシロキシ)シラン、ジメチル(トリメチルシロキシ)シラン、ジメチル(トリエチルシロキシ)シランなどが挙げられる。   Specific examples of such silicon compounds include trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, triisopropoxysilane, tributoxysilane, methyldiethoxysilane, methyldimethoxysilane, triphenoxysilane, and methyldiphenoxysilane. , Phenyldimethoxysilane, phenyldiethoxysilane, ethyldiethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylphenoxysilane, diethylmethoxysilane, diethylethoxysilane, diphenylethoxysilane, tris (trimethylsiloxy) silane, tris (triethylsiloxy) ) Silane, methylbis (trimethylsiloxy) silamethylbis (triethylsiloxy) silane, dimethyl (trimethylsiloxy) silane, dimethyl (tri Chirushirokishi) silane and the like.

これら珪素化合物を前記ポリカーボネート樹脂に導入する方法については、この珪素化合物をポリカーボネート樹脂の合成前に加えて反応させてもよいし、高分子反応により導入してもよいが、上記で得られた脂肪族不飽和結合を有するポリカーボネート樹脂にこの珪素化合物を反応させる方法が好適である。前記脂肪族不飽和結合とこの珪素化合物を反応させる方法としては、遷移金属触媒、塩基系触媒およびラジカル化学種から選択される1種または2種以上の物質の存在下に反応させてヒドロシリル化する。これらの中でも、遷移金属触媒を用いる方法が、反応の収率、副反応の少なさならびに触媒添加量の少なさから最も好ましい。この遷移金属触媒としては、周期率表の第VII族〜第X族の遷移金属触媒が好ましく、具体的には、鉄触媒〔Fe(CO)5〕、ルテニウム触媒〔RuCl3〕、コバルト触媒〔Co2 (CO)8 〕、ロジウム触媒〔(Ph3P)3 RhCl、(Rh(C242Cl2〕、イリジウム触媒〔IrCl3〕、ニッケル触媒〔(Ph3 P)2Ni、(Ph3P)2NiCl2〕、パラジウム触媒〔(Ph3 P)4Pd、(Ph3P)2PdCl2〕、白金触媒〔H2PtCl6・6H2O、(Ph3P)4Pt、(Pt(C24)Cl22、(Ph3P)2PtCl2 、Pt(C24)(Ph3P)Cl2、(PhCN)2PtCl2、K2PtCl4、Pt−Al23、Pt−C、白金−1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサン錯体、白金カルボニル錯体、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体〕などが挙げられる。これらの中でも、Speier触媒(H2PtCl6・6H2O−イソプロパノール溶液)および白金−1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサン錯体、白金カルボニル錯体、白金−シクロビニルメチルシロキサン錯体が特に好ましい。 Regarding the method of introducing these silicon compounds into the polycarbonate resin, the silicon compound may be added and reacted before the synthesis of the polycarbonate resin, or may be introduced by a polymer reaction. A method of reacting this silicon compound with a polycarbonate resin having a group unsaturated bond is preferred. As a method for reacting the aliphatic unsaturated bond with this silicon compound, the reaction is carried out in the presence of one or more substances selected from a transition metal catalyst, a base catalyst and a radical chemical species to hydrosilylate. . Among these, a method using a transition metal catalyst is most preferable from the viewpoint of the reaction yield, the small amount of side reactions, and the small amount of catalyst added. As the transition metal catalyst, a transition metal catalyst of Group VII to Group X in the periodic table is preferable. Specifically, an iron catalyst [Fe (CO) 5 ], a ruthenium catalyst [RuCl 3 ], a cobalt catalyst [ Co 2 (CO) 8 ], rhodium catalyst [(Ph 3 P) 3 RhCl, (Rh (C 2 H 4 ) 2 Cl 2 ], iridium catalyst [IrCl 3 ], nickel catalyst [(Ph 3 P) 2 Ni, (Ph 3 P) 2 NiCl 2 ], palladium catalyst [(Ph 3 P) 4 Pd, (Ph 3 P) 2 PdCl 2 ], platinum catalyst [H 2 PtCl 6 · 6H 2 O, (Ph 3 P) 4 Pt , (Pt (C 2 H 4 ) Cl 2 ) 2 , (Ph 3 P) 2 PtCl 2 , Pt (C 2 H 4 ) (Ph 3 P) Cl 2 , (PhCN) 2 PtCl 2 , K 2 PtCl 4 , Pt-Al 2 O 3, Pt -C, platinum-1,1,3,3-tetramethyl-1,3 Divinyl siloxane complex, platinum-carbonyl complex, a platinum -. Etc. cyclovinylmethylsiloxane complex] and the like Among these, Speier catalyst (H 2 PtCl 6 · 6H 2 O- isopropanol solution) and platinum -1,1,3, Particularly preferred are 3-tetramethyl-1,3-divinyldisiloxane complex, platinum carbonyl complex, and platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex.

また、塩基系触媒としては、例えばトリメチルアミンやトリエチルアミンなどの各種トリアルキルアミンを用いることができる。さらに、ラジカル化学種としては、たとえばベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキシド、アゾビスイソブチロニトリルなどのパーオキサイドを用いることができる。   As the base catalyst, for example, various trialkylamines such as trimethylamine and triethylamine can be used. Furthermore, as radical chemical species, for example, peroxides such as benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, and azobisisobutyronitrile can be used.

そして、これら触媒の添加量は、前記ポリカーボネート樹脂の脂肪族不飽和結合に対し、1wtPPM〜1wt%、好ましくは100〜1000wtPPMの範囲において、反応性を考慮して適宜選択する。この触媒の添加量が、1wtPPM未満であると反応速度が遅く、架橋反応が進行しないことがある。また、これが1wt%を超えると得られる製品が着色するおそれがあるので、上記範囲内とするのが適当である。   And the addition amount of these catalysts is suitably selected in consideration of the reactivity in the range of 1 wtPPM-1 wt% with respect to the aliphatic unsaturated bond of the said polycarbonate resin, Preferably it is 100-1000 wtPPM. If the amount of the catalyst added is less than 1 wt PPM, the reaction rate may be slow and the crosslinking reaction may not proceed. Moreover, since there exists a possibility that the product obtained when this exceeds 1 wt% may be contained, it is appropriate to make it into the said range.

さらに、この反応時の温度は、20〜200℃、好ましくは50〜150℃において行うのが適している。反応温度を20℃よりも低くすると、反応速度が低下し、またこれを200℃以上で行ってもそれに見合う効果はなく、かえって不経済である。反応時間については、1秒間〜24時間、好ましくは1分間〜12時間である。この反応時間を1秒間未満としたのでは充分に反応が進行しないことがあり、また24時間を超える時間をかけるのは経済的でない。   Furthermore, it is suitable that the temperature during this reaction is 20 to 200 ° C, preferably 50 to 150 ° C. If the reaction temperature is lower than 20 ° C., the reaction rate decreases, and even if this is carried out at 200 ° C. or higher, there is no effect corresponding to it, which is uneconomical. The reaction time is 1 second to 24 hours, preferably 1 minute to 12 hours. If the reaction time is less than 1 second, the reaction may not proceed sufficiently, and it is not economical to spend more than 24 hours.

このようにして得られたポリカーボネート樹脂は、前記式〔1〕および〔2〕で表されるように、珪素化合物の残基を有する構造となっている。そして、このポリカーボネート樹脂は、架橋処理することにより、優れた機械的強度を発現する。この架橋処理は、空気中の湿気による加水分解とこれに伴う脱水により縮合させる方法を好適に採用することができる。この架橋反応に際しては、オクチル酸スズ、ジブチルジアセチルオキシスズ、ジブチルジオシチル酸スズ、ジブチルジドデシル酸スズなどのスズ化合物や、テトラブチルチタネート、テトラプロピルチタネート、ジプロポキシビス(アセト酢酸エチルキレート)チタンなどのチタン化合物、金属脂肪酸塩、金属アルコラートなどの触媒を添加してもよい。架橋処理条件は、このポリカーボネート樹脂の化学構造や上記触媒の種類によって最適条件を異にするが、前記触媒を使用する場合にはその濃度が10〜50000wtppm、好ましくは100〜10000wtppmとなるように添加し、処理温度を0〜160℃、好ましくは60〜140℃とし、処理時間を1秒間〜24時間、好ましくは1分間〜12時間とすればよい。この架橋反応の進行の度合は、塩化メチレンやジメチルスルホキシドなどの溶媒に対する不溶性成分の含有割合から定量的に確認することができる。   The polycarbonate resin thus obtained has a structure having a silicon compound residue, as represented by the formulas [1] and [2]. And this polycarbonate resin expresses the outstanding mechanical strength by carrying out a crosslinking process. For this crosslinking treatment, a method of condensing by hydrolysis with moisture in the air and dehydration associated therewith can be suitably employed. In this crosslinking reaction, tin compounds such as tin octylate, dibutyl diacetyloxy tin, tin dibutyl dicytylate, tin dibutyl didodecylate, tetrabutyl titanate, tetrapropyl titanate, dipropoxy bis (ethyl acetoacetate chelate) A catalyst such as a titanium compound such as titanium, a metal fatty acid salt, or a metal alcoholate may be added. The crosslinking treatment conditions vary depending on the chemical structure of the polycarbonate resin and the type of the catalyst, but when the catalyst is used, the concentration is 10 to 50000 wtppm, preferably 100 to 10000 wtppm. The treatment temperature is 0 to 160 ° C., preferably 60 to 140 ° C., and the treatment time is 1 second to 24 hours, preferably 1 minute to 12 hours. The degree of progress of this crosslinking reaction can be quantitatively confirmed from the content ratio of insoluble components with respect to a solvent such as methylene chloride or dimethyl sulfoxide.

本発明の架橋ポリカーボネート樹脂の架橋構造は、珪素化合物残基を有するポリカーボネート樹脂の化学構造、とくに珪素化合物残基のポリカーボネート分子鎖への結合部位とその数、珪素化合物残基の化学構造によって、様々な形態を有するものとなっている。本発明の架橋ポリカーボネート樹脂の構造について、具体例を示すと、たとえば下記のものがある。   The cross-linked structure of the cross-linked polycarbonate resin of the present invention varies depending on the chemical structure of the polycarbonate resin having a silicon compound residue, particularly the bonding site and number of silicon compound residues to the polycarbonate molecular chain, and the chemical structure of the silicon compound residue. It has become a form. Specific examples of the structure of the crosslinked polycarbonate resin of the present invention include the following.

Figure 2007314808
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Figure 2007314808
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Figure 2007314808
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〔上記式中、Ar2 、X1 、R1 、p、q、r、sは、前記式〔1〕〜〔3〕におけるものと同じ意味を有し、Wは、 [In the above formula, Ar 2 , X 1 , R 1 , p, q, r, s have the same meaning as in the above formulas [1] to [3], and W is

Figure 2007314808
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(式中、R7 、tは、前記式〔4〕におけるR7 、tと同じ意味を有し、uは0〜2の整数である)で表される基である。〕
このようにして得られる架橋ポリカーボネート樹脂は、高い透明性を保持しているので、高度の透明性の要求される素材に適している。また、架橋密度を高めても脆性が低下するという問題を生ずることなく、耐熱性や耐衝撃性、耐摩耗性などの機械的性質、さらに電気絶縁性に優れていることから、このような諸性質を兼ね備えていることが要求される電気機器、電子機器、光学機器などの構成部材や部品、自動車部品、金属あるいは木工製品のコート材、塗料など広い産業分野において、有用性の高い素材として利用することができる。
(Wherein, R 7, t has the same meaning as R 7, t in Formula (4), u is an integer of 0 to 2) is a group represented by. ]
The cross-linked polycarbonate resin thus obtained maintains high transparency and is suitable for a material that requires a high degree of transparency. In addition, it is excellent in mechanical properties such as heat resistance, impact resistance, wear resistance, and electrical insulation without causing the problem that brittleness decreases even if the crosslink density is increased. Used as a highly useful material in a wide range of industrial fields such as components and parts such as electrical equipment, electronic equipment, and optical equipment, automobile parts, metal or woodwork coating materials, and paints that are required to have properties can do.

つぎに、本発明の電子写真感光体は、導電性基体上に感光層を設けた電子写真感光体であって、その感光層が上記架橋ポリカーボネート樹脂を含有する表面層を有するものである。本発明の電子写真感光体は、このような感光層が導電性基体上に形成されたものである限り、その構造に特に制限はなく、単層型、積層型などの公知の種々の形式の電子写真感光体はもとより、どのようなものとしてもよい。通常は、感光層が少なくとも1層の電荷発生層と、表面層を形成する少なくとも1層の電荷輸送層を有する積層型電子写真感光体が好ましく、少なくとも1層の電荷輸送層中に、上記架橋ポリカーボネート樹脂がバインダー樹脂としておよび/または前記表面保護層として用いられていることが好ましい。   Next, the electrophotographic photosensitive member of the present invention is an electrophotographic photosensitive member in which a photosensitive layer is provided on a conductive substrate, and the photosensitive layer has a surface layer containing the crosslinked polycarbonate resin. The electrophotographic photoreceptor of the present invention is not particularly limited in its structure as long as such a photosensitive layer is formed on a conductive substrate. Various known types such as a single layer type and a multilayer type are available. The electrophotographic photosensitive member may be of any type. In general, a laminated electrophotographic photosensitive member having at least one charge generation layer as a photosensitive layer and at least one charge transport layer forming a surface layer is preferable, and the cross-linking is performed in at least one charge transport layer. A polycarbonate resin is preferably used as a binder resin and / or as the surface protective layer.

本発明の電子写真感光体において、上記架橋ポリカーボネート樹脂をバインダー樹脂として用いる場合、この架橋ポリカーボネート樹脂を1種のみまたは2種以上を組合せて用いてもよいし、また、所望に応じて本発明の目的達成を阻害しない範囲で、他のポリカーボネート樹脂などの樹脂成分と併用してもよい。本発明の電子写真感光体に用いられる導電性基体としては、公知のものなど各種のものを使用することができ、具体的には、アルミニウムやニッケル、クロム、パラジウム、チタン、モリブデン、インジウム、金、白金、銀、銅、亜鉛、真鍮、ステンレス、酸化鉛、酸化錫、酸化インジウム、ITOもしくはグラファイトからなる板やドラム、シート、ならびに蒸着、スパッタリング、塗布などによりコーティングするなどして導電処理したガラス、布、紙もしくはプラスチックのフィルム、シートおよびシームレスベルト、ならびにアルミニウムなどの金属箔を積層したプラスチックのフィルム、シートおよびシームレスベルトならびに金属板のフィルム状シートおよびシームレスベルト、ならびに電極酸化などにより金属酸化処理した金属ドラムなどを使用することができる。   In the electrophotographic photoreceptor of the present invention, when the above-mentioned crosslinked polycarbonate resin is used as a binder resin, the crosslinked polycarbonate resin may be used alone or in combination of two or more thereof. You may use together with resin components, such as another polycarbonate resin, in the range which does not inhibit achievement of the objective. As the conductive substrate used in the electrophotographic photosensitive member of the present invention, various substrates such as known ones can be used. Specifically, aluminum, nickel, chromium, palladium, titanium, molybdenum, indium, gold , Platinum, silver, copper, zinc, brass, stainless steel, lead oxide, tin oxide, indium oxide, ITO or graphite plates, drums, sheets, and glass that has been electrically conductively coated by vapor deposition, sputtering, coating, etc. , Cloth, paper or plastic film, sheet and seamless belt, and plastic film, sheet and seamless belt laminated with metal foil such as aluminum, metal sheet film and seamless belt, and metal oxidation treatment by electrode oxidation, etc. Gold It can be used such as a drum.

積層型電子写真感光体の電荷発生層は、少なくとも電荷発生物質を含むものであり、この電荷発生層はその下地となる基体上に、真空蒸着法や化学蒸着法、スパッタリング法によって、電荷発生物質の層を形成するか、またはその下地となる層上に電荷発生物質をバインダー樹脂を用いて結着してなる層を形成せしめることによって得ることができる。バインダー樹脂を用いる電荷発生層の形成方法としては公知の方法など、各種の方法を使用することができるが、通常、たとえば、電荷発生物質をバインダー樹脂と共に適当な溶媒により分散もしくは溶解した塗工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥せしめる方法が好適に用いられる。このようにして得られる電荷発生層の厚さは、0.01〜2.0ミクロン、好ましくは0.1〜0.8ミクロンである。電荷発生層の厚さを0.01ミクロン未満にすると均一な厚さに層を形成することが困難であり、また、2.0ミクロンを超えると電子写真特性の低下を招くことがあるからである。   The charge generation layer of the multilayer electrophotographic photosensitive member contains at least a charge generation material, and this charge generation layer is formed on the base substrate by a vacuum evaporation method, a chemical vapor deposition method, or a sputtering method. Or a layer formed by binding a charge generating substance using a binder resin on the underlying layer. Various methods such as a known method can be used as a method for forming a charge generation layer using a binder resin. For example, a coating solution in which a charge generation material is dispersed or dissolved in a suitable solvent together with a binder resin is usually used. Is preferably applied to a layer serving as a predetermined base and dried. The charge generation layer thus obtained has a thickness of 0.01 to 2.0 microns, preferably 0.1 to 0.8 microns. If the thickness of the charge generation layer is less than 0.01 microns, it is difficult to form a uniform thickness, and if it exceeds 2.0 microns, electrophotographic characteristics may be deteriorated. is there.

ここで用いる電荷発生物質としては、たとえば特開平8−225639号公報等で公知の各種化合物を使用することができる。具体的な化合物としては、非晶性セレンや三方晶セレンなどのセレン単体、テルル単体、セレン−テルル合金、セレン−ヒ素合金などのセレン合金、As2Se3などのセレン化合物もしくはセレン含有組成物、酸化亜鉛、硫化カドミウム、硫化アンチモン、硫化亜鉛、CdS−Seなどの合金、第12族および第16族元素からなる無機材料、酸化チタンなどの酸化物系半導体、アモルファスシリコンなどのシリコン系材料、τ型無金属フタロシアニン、χ型無金属フタロシアニンなどの無金属フタロシアニン顔料、α型銅フタロシアニン、β型銅フタロシアニン、γ型銅フタロシアニン、ε型銅フタロシアニン、X型銅フタロシアニン、A型チタニルフタロシアニン、B型チタニルフタロシアニン、C型チタニルフタロシアニン、D型チタニルフタロシアニン、E型チタニルフタロシアニン、F型チタニルフタロシアニン、G型チタニルフタロシアニン、H型チタニルフタロシアニン、K型チタニルフタロシアニン、L型チタニルフタロシアニン、M型チタニルフタロシアニン、N型チタニルフタロシアニン、Y型チタニルフタロシアニン、オキソチタニルフタロシアニン、X線回折図におけるブラック角2θが27.3±0.2度に強い回折ピークを示すチタニルフタロシアニンなどの金属フタロシアニン顔料、シアニン染料、アントラセン顔料、ビスアゾ顔料、ピレン顔料、多環キノン顔料、キナクリドン顔料、インジゴ顔料、ペリレン顔料、ピリリウム染料、スクェアリウム顔料、アントアントロン顔料、ベンズイミダゾール顔料、アゾ顔料、チオインジゴ顔料、キノリン顔料、レーキ顔料、オキサジン顔料、ジオキサジン顔料、トリフェニルメタン顔料、アズレニウム染料、トリアリールメタン染料、キサンチン染料、チアジン染料、チアピリリウム染料、ポリビニルカルバゾール、ビスベンゾイミダゾール顔料などが挙げられる。 As the charge generating material used here, for example, various compounds known in JP-A-8-225639 can be used. Specific compounds include selenium such as amorphous selenium and trigonal selenium, tellurium alone, selenium alloys such as selenium-tellurium alloy, selenium-arsenic alloy, selenium compounds such as As 2 Se 3 or selenium-containing compositions. , Zinc oxide, cadmium sulfide, antimony sulfide, zinc sulfide, alloys such as CdS-Se, inorganic materials composed of Group 12 and Group 16 elements, oxide-based semiconductors such as titanium oxide, silicon-based materials such as amorphous silicon, Metal-free phthalocyanine pigments such as τ-type metal-free phthalocyanine, χ-type metal-free phthalocyanine, α-type copper phthalocyanine, β-type copper phthalocyanine, γ-type copper phthalocyanine, ε-type copper phthalocyanine, X-type copper phthalocyanine, A-type titanyl phthalocyanine, B-type Titanyl phthalocyanine, C-type titanyl phthalocyanine, D-type titani Phthalocyanine, E-type titanyl phthalocyanine, F-type titanyl phthalocyanine, G-type titanyl phthalocyanine, H-type titanyl phthalocyanine, K-type titanyl phthalocyanine, L-type titanyl phthalocyanine, M-type titanyl phthalocyanine, N-type titanyl phthalocyanine, Y-type titanyl phthalocyanine, oxo titanyl phthalocyanine , Metal phthalocyanine pigments such as titanyl phthalocyanine, cyanine dyes, anthracene pigments, bisazo pigments, pyrene pigments, polycyclic quinone pigments, quinacridones, which show a strong diffraction peak at a black angle 2θ of 27.3 ± 0.2 degrees in the X-ray diffraction pattern Pigments, indigo pigments, perylene pigments, pyrylium dyes, squalium pigments, anthanthrone pigments, benzimidazole pigments, azo pigments, thioindigo pigments, quinoline pigments Lake pigments, oxazine pigments, dioxazine pigments, triphenylmethane pigments, azulenium dyes, triarylmethane dyes, xanthine dyes, thiazine dyes, thiapyrylium dyes, polyvinylcarbazole, and the like bisbenzimidazole pigments.

そして、これら化合物のなかでも染料や顔料については、前記特開平8−225639号公報で具体的に例示されている化合物がことに好適に用いられる。また、これら化合物は、1種単独で、あるいは2種以上のものを混合して、電荷発生物質として用いることができる。また、電荷発生層に用いるバインダー樹脂としては、特に制限はなく、公知の各種のものを使用することができる。具体的には、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアセタール、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリロニトリル、ポリカーボネート、ポリウレタン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリケトン、ポリアクリルアミド、ブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニリデン−塩化ビニル共重合体、メタクリル樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、メラミン樹脂、ポリエーテル樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリスルホン、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、エチルセルロース、ニトロセルロース、カルボキシ−メチルセルロース、塩化ビニリデン系ポリマーラテックス、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ビニルトルエン−スチレン共重合体、大豆油変性アルキッド樹脂、ニトロ化ポリスチレン、ポリメチルスチレン、ポリイソプレン、ポリチオカーボネート、ポリアリレート、ポリハロアリレート、ポリアリルエーテル、ポリビニルアクリレート、ポリエステルアクリレートなどが挙げられる。上記電荷発生層におけるバインダー樹脂として、本発明の架橋ポリカーボネート樹脂を使用することもできる。   Of these compounds, the compounds specifically exemplified in JP-A-8-225639 are preferably used for dyes and pigments. In addition, these compounds can be used as a charge generation material alone or in combination of two or more. Moreover, there is no restriction | limiting in particular as binder resin used for an electric charge generation layer, A well-known various thing can be used. Specifically, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetal, alkyd resin, acrylic resin, polyacrylonitrile, polycarbonate, polyurethane, epoxy resin, phenol resin, polyamide, polyketone, Polyacrylamide, butyral resin, polyester resin, vinylidene chloride-vinyl chloride copolymer, methacrylic resin, styrene-butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone Resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, melamine resin, polyether resin, benzoguanamine resin, epoxy acrylate resin, urea Acrylate resin, poly-N-vinyl carbazole, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polysulfone, casein, gelatin, polyvinyl alcohol, ethyl cellulose, nitrocellulose, carboxy-methyl cellulose, vinylidene chloride polymer latex, acrylonitrile-butadiene copolymer, vinyl toluene- Examples include styrene copolymers, soybean oil-modified alkyd resins, nitrated polystyrene, polymethylstyrene, polyisoprene, polythiocarbonate, polyarylate, polyhaloarylate, polyallyl ether, polyvinyl acrylate, and polyester acrylate. As the binder resin in the charge generation layer, the crosslinked polycarbonate resin of the present invention can also be used.

つぎに、電荷輸送層は、下地となる層(例えば電荷発生層)上に、電荷輸送物質をバインダー樹脂で結着してなる層を形成することによって得ることができる。この電荷輸送層の形成方法としては、公知の方法などの各種の方式を使用することができるが、通常、電荷輸送物質を本発明における架橋前のポリカーボネート樹脂と共に、適当な溶媒に分散もしくは溶解した塗工液を、所定の下地となる層上に塗布し、乾燥させる方式などが使用される。電荷輸送層形成に用いられる電荷輸送物質とポリカーボネート樹脂との配合割合は、好ましくは重量比で20:80〜80:20、さらに好ましくは30:70〜70:30である。   Next, the charge transport layer can be obtained by forming a layer formed by binding a charge transport material with a binder resin on a base layer (for example, a charge generation layer). As a method for forming the charge transport layer, various methods such as a known method can be used. Usually, the charge transport material is dispersed or dissolved in a suitable solvent together with the polycarbonate resin before crosslinking in the present invention. A method of applying the coating liquid on a predetermined base layer and drying it is used. The blending ratio of the charge transport material used for forming the charge transport layer and the polycarbonate resin is preferably 20:80 to 80:20, more preferably 30:70 to 70:30, by weight.

この電荷輸送層において、上記ポリカーボネート樹脂は、1種単独で用いることもできるし、また2種以上を混合して用いることもできる。また、本発明の目的達成を阻害しない範囲で前記電荷発生層に用いられるバインダー樹脂として挙げたような樹脂を、上記ポリカーボネート樹脂と併用することもできる。このようにして形成される電荷輸送層の厚さは、5〜100ミクロン、好ましくは10〜30ミクロンである。この厚さが5ミクロン未満にすると初期電位が低くなり、100ミクロンを超えると電子写真特性が低下することがある。   In the charge transport layer, the polycarbonate resin can be used alone or in combination of two or more. In addition, resins such as those mentioned as the binder resin used in the charge generation layer can be used in combination with the polycarbonate resin as long as the object of the present invention is not impaired. The charge transport layer thus formed has a thickness of 5 to 100 microns, preferably 10 to 30 microns. When the thickness is less than 5 microns, the initial potential is lowered, and when it exceeds 100 microns, the electrophotographic characteristics may be deteriorated.

この電荷輸送物質として用いることのできる化合物についても、前記特開平8−225639号公報等において公知の各種の化合物を使用することができる。このような化合物としては、カルバゾール化合物、インドール化合物、イミダゾール化合物、オキサゾール化合物、ピラゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ピラゾリン化合物、チアジアゾール化合物、アニリン化合物、ヒドラゾン化合物、芳香族アミン化合物、脂肪族アミン化合物、スチルベン化合物、フルオレノン化合物、キノン化合物、キノジメタン化合物、チアゾール化合物、トリアゾール化合物、イミダゾロン化合物、イミダゾリジン化合物、ビスイミダゾリジン化合物、オキサゾロン化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンズイミダゾール化合物、キナゾリン化合物、ベンゾフラン化合物、アクリジン化合物、フェナジン化合物、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニルアントラセン、ポリビニルアクリジン、ポリ−9−ビニルフェニルアントラセン、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチルカルバゾール樹脂、あるいはこれら構造を主鎖や側鎖に有する重合体などが好適に用いられる。   As the compound that can be used as the charge transport material, various compounds known in JP-A-8-225639 can be used. Such compounds include carbazole compounds, indole compounds, imidazole compounds, oxazole compounds, pyrazole compounds, oxadiazole compounds, pyrazoline compounds, thiadiazole compounds, aniline compounds, hydrazone compounds, aromatic amine compounds, aliphatic amine compounds, stilbenes. Compound, fluorenone compound, quinone compound, quinodimethane compound, thiazole compound, triazole compound, imidazolone compound, imidazolidine compound, bisimidazolidine compound, oxazolone compound, benzothiazole compound, benzimidazole compound, quinazoline compound, benzofuran compound, acridine compound, phenazine Compound, poly-N-vinylcarbazole, polyvinylpyrene, polyvinylanthracene, polyvinyla Lysine, poly-9-vinylphenyl anthracene, pyrene - formaldehyde resin, ethylcarbazole resin, or the like polymers having these structures in the main chain or side chain is preferably used.

これら化合物のなかでも、前記特開平8−225639号公報において具体的に例示されている化合物がことに好適に用いられる。これら化合物は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。本発明の電子写真感光体においては、前記導電性基体と感光層との間に、通常使用されるような下引き層を設けることができる。この下引き層としては、酸化チタンや酸化アルミニウム、ジルコニア、チタン酸、ジルコン酸、ランタン鉛、チタンブラック、シリカ、チタン酸鉛、チタン酸バリウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化珪素などの微粒子、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、カゼイン、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、セルロース、ニトロセルロース、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール樹脂などの成分を使用することができる。また、この下引き層に用いる樹脂として、前記バインダー樹脂を用いてもよいし、本発明のポリカーボネート樹脂を用いてもよい。これら微粒子や樹脂は単独または種々混合して用いることができる。これらの混合物として用いる場合には、無機質微粒子と樹脂を併用すると、平滑性のよい皮膜が形成されることから好適である。   Among these compounds, compounds specifically exemplified in the above-mentioned JP-A-8-225639 are particularly preferably used. These compounds may be used alone or in combination of two or more. In the electrophotographic photosensitive member of the present invention, an undercoat layer that is usually used can be provided between the conductive substrate and the photosensitive layer. As this undercoat layer, fine particles such as titanium oxide, aluminum oxide, zirconia, titanic acid, zirconic acid, lanthanum lead, titanium black, silica, lead titanate, barium titanate, tin oxide, indium oxide, silicon oxide, polyamide Components such as resin, phenol resin, casein, melamine resin, benzoguanamine resin, polyurethane resin, epoxy resin, cellulose, nitrocellulose, polyvinyl alcohol, and polyvinyl butyral resin can be used. Further, as the resin used for the undercoat layer, the binder resin may be used, or the polycarbonate resin of the present invention may be used. These fine particles and resins can be used alone or in various mixtures. In the case of using these as a mixture, it is preferable to use inorganic fine particles and a resin together because a film having good smoothness is formed.

この下引き層の厚みは、0.01〜10ミクロン、好ましくは0.01〜1ミクロンである。この厚みが0.01ミクロン未満であると、下引き層を均一に形成することが困難であり、また10ミクロンを超えると電子写真特性が低下することがある。また、前記導電性基体と感光層との間には、通常使用されるような公知のブロッキング層を設けることができる。このブロッキング層としては、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いることができる。また本発明のポリカーボネート樹脂を用いてもよい。このブロッキング層の厚みは、0.01〜20ミクロン、好ましくは0.1〜10ミクロンである。この厚みが0.01ミクロン未満であると、ブロッキング層を均一に形成することが困難であり、また20ミクロンを超えると電子写真特性が低下することがある。   The thickness of this undercoat layer is 0.01 to 10 microns, preferably 0.01 to 1 microns. If the thickness is less than 0.01 microns, it is difficult to form the undercoat layer uniformly. If the thickness exceeds 10 microns, the electrophotographic characteristics may be deteriorated. Further, a known blocking layer that is usually used can be provided between the conductive substrate and the photosensitive layer. As this blocking layer, the same kind of resin as the binder resin can be used. Moreover, you may use the polycarbonate resin of this invention. The blocking layer has a thickness of 0.01 to 20 microns, preferably 0.1 to 10 microns. If the thickness is less than 0.01 microns, it is difficult to form a blocking layer uniformly. If the thickness exceeds 20 microns, the electrophotographic characteristics may be deteriorated.

さらに、本発明の電子写真感光体には、感光層の上に、保護層を積層してもよい。この保護層には、前記のバインダー樹脂と同種の樹脂を用いることができる。また、本発明のポリカーボネート樹脂を用いることが特に好ましい。この保護層の厚みは、0.01〜20ミクロン、好ましくは0.1〜10ミクロンである。そして、この保護層には、前記電荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤、金属やその酸化物、窒化物、塩、合金、カーボンブラック、有機導電性化合物などの導電性材料を含有していてもよい。   Furthermore, a protective layer may be laminated on the photosensitive layer in the electrophotographic photoreceptor of the present invention. For this protective layer, the same kind of resin as the binder resin can be used. Moreover, it is particularly preferable to use the polycarbonate resin of the present invention. The thickness of this protective layer is 0.01 to 20 microns, preferably 0.1 to 10 microns. The protective layer contains a conductive material such as the charge generating substance, charge transporting substance, additive, metal or oxide thereof, nitride, salt, alloy, carbon black, or organic conductive compound. Also good.

さらに、この電子写真感光体の性能向上のために、前記電荷発生層および電荷輸送層には、結合剤、可塑剤、硬化触媒、流動性付与剤、ピンホール制御剤、分光感度増感剤(増感染料)を添加してもよい。また、繰返し使用に対しての残留電位の増加、帯電電位の低下、感度の低下を防止する目的で種々の化学物質、酸化防止剤、界面活性剤、カール防止剤、レベリング剤などの添加剤を添加することができる。   Further, in order to improve the performance of the electrophotographic photosensitive member, the charge generation layer and the charge transport layer include a binder, a plasticizer, a curing catalyst, a fluidity imparting agent, a pinhole control agent, a spectral sensitivity sensitizer ( Sensitizing dye) may be added. In addition, various chemical substances, antioxidants, surfactants, anti-curling agents, leveling agents, and other additives are added for the purpose of preventing increase in residual potential, decrease in charging potential, and reduction in sensitivity due to repeated use. Can be added.

前記結合剤としては、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクリレート樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリイソブレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリクロロプレン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ホルマール樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニル/塩化ビニル共重合樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂などが挙げられる。また、熱および/または光硬化性樹脂も使用できる。いずれにしても、電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成し得る樹脂であれば、特に制限はない。   Examples of the binder include silicone resin, polyamide resin, polyurethane resin, polyester resin, epoxy resin, polyketone resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polymethacrylate resin, polyacrylamide resin, polybutadiene resin, polyisobrene resin, melamine resin, benzoguanamine resin, Polychloroprene resin, polyacrylonitrile resin, ethyl cellulose resin, nitrocellulose resin, urea resin, phenol resin, phenoxy resin, polyvinyl butyral resin, formal resin, vinyl acetate resin, vinyl acetate / vinyl chloride copolymer resin, polyester carbonate resin, etc. It is done. Also, heat and / or photocurable resins can be used. In any case, any resin that is electrically insulating and can form a film in a normal state is not particularly limited.

この結合剤は電荷輸送物質に対して、5〜200重量%の配合割合で添加することが好ましく、10〜100重量%がより好ましい。この結合剤の配合割合が5重量%未満では感光層の皮膜が不均一になりやすく、画質が劣る傾向があり、200重量%を超えると感度が低下し、残留電位が高くなる傾向がある。前記可塑剤の具体例としては、ビフェニル、塩化ビフェニル、o−ターフェニル、ハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタレン、ジメチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチレングリコールフタレート、トリフェニルフォスフェート、ジイソブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジブチルセバケート、ラウリル酸ブチル、メチルフタリールエチルグリコレート、ジメチルグリコールフタレート、メチルナフタレン、ベンゾフェノン、ポリプロピレン、ポリスチレン、フルオロ炭化水素などが挙げられる。   This binder is preferably added in a proportion of 5 to 200% by weight, more preferably 10 to 100% by weight, based on the charge transport material. When the blending ratio of the binder is less than 5% by weight, the coating of the photosensitive layer tends to be non-uniform, and the image quality tends to be inferior. Specific examples of the plasticizer include biphenyl, biphenyl chloride, o-terphenyl, halogenated paraffin, dimethyl naphthalene, dimethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, diethylene glycol phthalate, triphenyl phosphate, diisobutyl adipate, dimethyl sebacate, Examples include dibutyl sebacate, butyl laurate, methyl phthalyl ethyl glycolate, dimethyl glycol phthalate, methyl naphthalene, benzophenone, polypropylene, polystyrene, and fluorohydrocarbon.

前記硬化触媒の具体例としては、メタンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸などが挙げられ、流動性付与剤としては、モダフロー、アクロナール4Fなどが挙げられ、ピンホール制御剤としては、ベンゾイン、ジメチルフタレートが挙げられる。これら可塑剤や硬化触媒、流動付与剤、ピンホール制御剤は、前記電荷輸送物質に対して、5重量%以下で用いることが好ましい。   Specific examples of the curing catalyst include methanesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, dinonylnaphthalenedisulfonic acid, and the like. Examples of the fluidity imparting agent include modaflow, acronal 4F, and the like. , Benzoin, and dimethyl phthalate. These plasticizers, curing catalysts, flow imparting agents, and pinhole control agents are preferably used in an amount of 5% by weight or less based on the charge transport material.

また、分光感度増感剤としては、増感染料を用いる場合には,例えばメチルバイオレット、クリスタルバイオレット、ナイトブルー、ビクトリアブルーなどのトリフェニルメタン系染料、エリスロシン、ローダミンB、ローダミン3R、アクリジンオレンジ、フラペオシンなどのアクリジン染料、メチレンブルー、メチレングリーンなどのチアジン染料、カプリブルー、メルドラブルーなどのオキサジン染料、シアニン染料、メロシアニン染料、スチリル染料、ピリリュウム塩染料、チオピリリュウム塩染料などが適している。   Further, as a spectral sensitizer, when using a sensitizing dye, for example, triphenylmethane dyes such as methyl violet, crystal violet, knight blue, and victoria blue, erythrosin, rhodamine B, rhodamine 3R, acridine orange, Acridine dyes such as frappeocin, thiazine dyes such as methylene blue and methylene green, oxazine dyes such as capri blue and meldra blue, cyanine dyes, merocyanine dyes, styryl dyes, pyrylium salt dyes and thiopyrylium salt dyes are suitable.

感光層には、感度の向上、残留電位の減少、反復使用時の疲労低減などの目的で、電子受容性物質を添加することができる。その具体例としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロモ無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、テトラブロモ無水フタル酸、3−ニトロ無水フタル酸、4−ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、o−ジニトロベンゼン、m−ジニトロベンゼン、1,3,5−トリニトロベンゼン、p−ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、2,3−ジクロロベンゾキノン、ジクロロジシアノパラベンゾキノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、1−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、4−ニトロベンゾフェノン、4,4'−ジニトロベンゾフェノン、4−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−シアノ−β−(p−シアノフェニル)アクリル酸エチル、9−アントラセニルメチルマロンジニトリル、1−シアノ−(p−ニトロフェニル)−2−(p−クロロフェニル)エチレン、2,7−ジニトロフルオレノン、2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロフルオレノン、9−フルオレニリデン−(ジシアノメチレンマロノニトリル)、ポリニトロ−9−フルオレニリデン−(ジシアノメチレンマロノジニトリル)、ピクリン酸、o−ニトロ安息香酸、p−ニトロ安息香酸、3,5−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、5−ニトロサリチル酸、3,5−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸などの電子親和力の大きい化合物が好ましい。これら化合物は電荷発生層、電荷輸送層のいずれに加えてもよく、その配合割合は、電荷発生物質または電荷輸送物質に対して0.01〜200重量%、好ましくは0.1〜50重量%である。   An electron-accepting substance can be added to the photosensitive layer for the purpose of improving sensitivity, reducing residual potential, and reducing fatigue during repeated use. Specific examples thereof include succinic anhydride, maleic anhydride, dibromomaleic anhydride, phthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, 3-nitrophthalic anhydride, 4-nitrophthalic anhydride, pyroanhydride Merit acid, merit anhydride, tetracyanoethylene, tetracyanoquinodimethane, o-dinitrobenzene, m-dinitrobenzene, 1,3,5-trinitrobenzene, p-nitrobenzonitrile, picryl chloride, quinone chloride, Chloranil, bromanyl, benzoquinone, 2,3-dichlorobenzoquinone, dichlorodicyanoparabenzoquinone, naphthoquinone, diphenoquinone, tropoquinone, anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, dinitroanthraquinone, 4-nitrobenzophenone, 4,4'-dinito Lobenzophenone, 4-nitrobenzalmalondinitrile, ethyl α-cyano-β- (p-cyanophenyl) acrylate, 9-anthracenylmethylmalondinitrile, 1-cyano- (p-nitrophenyl) -2 -(P-chlorophenyl) ethylene, 2,7-dinitrofluorenone, 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitrofluorenone, 9-fluorenylidene- (dicyanomethylenemalononitrile), polynitro- 9-fluorenylidene- (dicyanomethylenemalonodinitrile), picric acid, o-nitrobenzoic acid, p-nitrobenzoic acid, 3,5-dinitrobenzoic acid, pentafluorobenzoic acid, 5-nitrosalicylic acid, 3,5-dinitro Compounds with high electron affinity such as salicylic acid, phthalic acid, and merit acid are preferred. Good. These compounds may be added to either the charge generation layer or the charge transport layer, and the blending ratio is 0.01 to 200% by weight, preferably 0.1 to 50% by weight, based on the charge generation material or charge transport material. It is.

また、表面性の改良のため、四フッ化エチレン樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン六フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体、フッ素系グラフトポリマーを用いてもよい。これら表面改質剤の配合割合は、前記バインダー樹脂に対して、0.1〜60重量%、好ましくは5〜40重量%である。この配合割合が0.1重量%より少ないと、表面耐久性、表面エネルギー低下などの表面改質が充分でなく、60重量%より多いと、電子写真特性の低下を招くことがある。   In order to improve surface properties, tetrafluoroethylene resin, trifluoroethylene chloride resin, tetrafluoroethylene hexafluoropropylene resin, vinyl fluoride resin, vinylidene fluoride resin, difluorodiethylene chloride resin and Those copolymers and fluorine-based graft polymers may be used. The blending ratio of these surface modifiers is 0.1 to 60% by weight, preferably 5 to 40% by weight, based on the binder resin. When the blending ratio is less than 0.1% by weight, surface modification such as surface durability and surface energy reduction is not sufficient, and when the blending ratio is more than 60% by weight, electrophotographic characteristics may be deteriorated.

前記酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、芳香族アミン系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、スルフィド系酸化防止剤、有機リン酸系酸化防止剤などが好ましい。これら酸化防止剤のなかでも、前記特開平8−225639号公報に具体的に例示されている化合物がとくに好適に用いることができる。これら酸化防止剤の配合割合は、前記電荷輸送物質に対して、通常、0.01〜10重量%、好ましくは0.1〜2重量%である。   As the antioxidant, a hindered phenol antioxidant, an aromatic amine antioxidant, a hindered amine antioxidant, a sulfide antioxidant, an organic phosphate antioxidant, and the like are preferable. Among these antioxidants, the compounds specifically exemplified in the above-mentioned JP-A-8-225639 can be used particularly preferably. The mixing ratio of these antioxidants is usually 0.01 to 10% by weight, preferably 0.1 to 2% by weight, based on the charge transport material.

そして、これら酸化防止剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。さらに、これらは前記感光層のほか、表面保護層や下引き層、ブロッキング層に添加して用いてもよい。前記電荷発生層、電荷輸送層の形成の際に用いる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼンなどの芳香族系溶媒や、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類、酢酸エチル、エチルセロソルブなどのエステル類、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルホルムアミドなどが挙げられる。これら溶媒は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   And these antioxidants may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them. Furthermore, these may be added to the surface protective layer, the undercoat layer, or the blocking layer in addition to the photosensitive layer. Examples of the solvent used for forming the charge generation layer and the charge transport layer include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, and chlorobenzene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and cyclohexanone, methanol, ethanol, and isopropanol. Alcohols such as ethyl acetate, ethyl cellosolve, etc., halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, dichloromethane, tetrachloroethane, ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, diethylformamide, etc. Can be mentioned. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

つぎに、前記電荷輸送層を形成する方法としては、前記電荷輸送物質、添加剤、バインダー樹脂の形成に用いる前記シリル基含有ポリカーボネート樹脂を溶媒に分散または溶解させてなる塗工液を調製し、これを所定の下地となる例えば前記電荷発生層の上に塗工し、前記ポリカーボネート樹脂が架橋化したポリカーボネート樹脂がバインダー樹脂として電荷輸送物質と共存する形態の電荷輸送層を形成する。ここで、前記硬化触媒は、未添加でも、塗工液中に添加しても、塗工液中に添加することなく電荷輸送層を形成した後に、これを添加してもよい。   Next, as a method for forming the charge transport layer, a coating liquid prepared by dispersing or dissolving the silyl group-containing polycarbonate resin used for forming the charge transport material, additives, and binder resin in a solvent, This is applied onto, for example, the charge generation layer serving as a predetermined base, and a charge transport layer in a form in which the polycarbonate resin cross-linked with the polycarbonate resin coexists with the charge transport material as a binder resin is formed. Here, the curing catalyst may be not added, or may be added to the coating liquid, or may be added after forming the charge transport layer without being added to the coating liquid.

前記塗工液を調製する方法としては、前記の調合原料をボールミル、超音波、ペイントシェーカー、レッドデビル、サンドミル、ミキサー、アトライターなどを用いて、分散あるいは溶解させることができる。このようにして得られた塗工液を塗工する方法については、浸漬塗工法、静電塗工法、粉体塗工法、スプレー塗工法、ロール塗工法、アプリケーター塗工法、スプレーコーター塗工法、バーコーター塗工法、ロールコーター塗工法、ディップコーター塗工法、ドクターブレード塗工法、ワイヤーバー塗工法、ナイフコーター塗工法、アトライター塗工法、スピナー塗工法、ビード塗工法、ブレード塗工法、カーテン塗工法などが採用できる。   As a method for preparing the coating liquid, the blended raw material can be dispersed or dissolved using a ball mill, ultrasonic wave, paint shaker, red devil, sand mill, mixer, attritor or the like. As for the method of applying the coating liquid thus obtained, dip coating method, electrostatic coating method, powder coating method, spray coating method, roll coating method, applicator coating method, spray coater coating method, bar Coater coating method, roll coater coating method, dip coater coating method, doctor blade coating method, wire bar coating method, knife coater coating method, attritor coating method, spinner coating method, bead coating method, blade coating method, curtain coating method, etc. Can be adopted.

また、単層型電子写真感光体の感光層は、前記の電荷発生物質、電荷輸送物質、添加剤、バインダー樹脂の形成に用いるシリル基含有ポリカーボネート樹脂を溶媒に分散または溶解した溶液を所定の下地となる基体上に塗布した後、前記ポリカーボネート樹脂の架橋処理を行うことによって形成される。この場合の塗工液を調製やその塗工法、添加剤などに関しては、上記積層型電子写真感光体の感光層の形成の場合と同様である。さらに、この単層型電子写真感光体においても、上記と同様に下引き層、ブロッキング層、表面保護層を設けてもよい。これら層の形成にも、本発明の架橋ポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。   In addition, the photosensitive layer of the single-layer type electrophotographic photosensitive member is prepared by applying a solution obtained by dispersing or dissolving a silyl group-containing polycarbonate resin used in the formation of the charge generation material, charge transport material, additive, and binder resin in a solvent. After the coating on the substrate, the polycarbonate resin is subjected to a crosslinking treatment. In this case, the preparation of the coating liquid, its coating method, additives, and the like are the same as those in the formation of the photosensitive layer of the above-described multilayer electrophotographic photosensitive member. Further, in this single layer type electrophotographic photosensitive member, an undercoat layer, a blocking layer, and a surface protective layer may be provided in the same manner as described above. For the formation of these layers, it is preferable to use the crosslinked polycarbonate resin of the present invention.

単層型電子写真感光体における感光層の厚さは、5〜100ミクロン、好ましくは8〜50ミクロンであり、これが5ミクロン未満であると初期電位が低くなりやすく、100ミクロンを超えると電子写真特性が低下することがある。この単層型電子写真感光体の製造に用いられる電荷発生物質:バインダー樹脂の比率は、重量比で1:99〜30:70、好ましくは3:97〜15:85である。また、電荷輸送物質:バインダー樹脂の比率は、重量比で10:90〜80:20、好ましくは30:70〜70:30である。   The thickness of the photosensitive layer in the single-layer type electrophotographic photosensitive member is 5 to 100 microns, preferably 8 to 50 microns. If the thickness is less than 5 microns, the initial potential tends to be low. The characteristics may deteriorate. The ratio of charge generating material: binder resin used in the production of this single layer type electrophotographic photosensitive member is 1:99 to 30:70, preferably 3:97 to 15:85 by weight. The ratio of the charge transport material: binder resin is 10:90 to 80:20, preferably 30:70 to 70:30, by weight.

つぎに、上記のように塗工して形成した塗膜中のシリル基含有ポリカーボネート樹脂の架橋処理を行うが、この場合の処理温度は50〜160℃、好ましくは60〜140℃であり、反応時間は1秒間〜24時間、好ましくは1分間〜12時間である。このようにして得られる本発明の電子写真感光体は、優れた耐摩耗性を有し、長期間にわたって優れた耐刷性および電子写真特性を維持する感光体であり、複写機(モノクロ、マルチカラー、フルカラー;アナログ、デジタル)プリンター(レーザー、LED、液晶シャッター)、ファクシミリ、製版機などの各種の電子写真分野に好適に用いられる。   Next, the silyl group-containing polycarbonate resin in the coating film formed by coating as described above is subjected to crosslinking treatment. In this case, the treatment temperature is 50 to 160 ° C., preferably 60 to 140 ° C. The time is 1 second to 24 hours, preferably 1 minute to 12 hours. The electrophotographic photoreceptor of the present invention thus obtained is a photoreceptor having excellent wear resistance and maintaining excellent printing durability and electrophotographic characteristics over a long period of time. It is suitably used in various electrophotographic fields such as color, full color; analog, digital) printers (lasers, LEDs, liquid crystal shutters), facsimiles, plate-making machines and the like.

また、本発明の電子写真感光体を使用するにあたっては、帯電には、コロナ放電(コロトロン、スコロトロン)、接触帯電(帯電ロール、帯電ブラシ)などが用いられる。また、露光には、ハロゲンランプや蛍光ランプ、レーザー(半導体、He−Ne)、LED、感光体内部露光方式のいずれを採用してもよい。現像には、カスケード現像、二成分磁気ブラシ現像、一成分絶縁トナー現像、一成分導電トナー現像などの乾式現像方式や湿式現像方式が用いられる。転写には、コロナ転写、ローラ転写、ベルト転写などの静電転写法や、圧力転写法、粘着転写法が用いられる。定着には、熱ローラ定着、ラジアントフラッシュ定着、オープン定着、圧力定着などが用いられる。さらに、クリーニング・除電には、ブラシクリーナー、磁気ブラシクリーナー、静電ブラシクリーナー、磁気ローラクリーナー、ブレードクリーナーなどが用いられる。   When the electrophotographic photosensitive member of the present invention is used, corona discharge (corotron, scorotron), contact charging (charging roll, charging brush) or the like is used for charging. For the exposure, any of a halogen lamp, a fluorescent lamp, a laser (semiconductor, He—Ne), an LED, and a photoreceptor internal exposure method may be adopted. For the development, dry development methods such as cascade development, two-component magnetic brush development, one-component insulating toner development, and one-component conductive toner development are used. For transfer, electrostatic transfer methods such as corona transfer, roller transfer, and belt transfer, pressure transfer methods, and adhesive transfer methods are used. For fixing, heat roller fixing, radiant flash fixing, open fixing, pressure fixing, or the like is used. Furthermore, brush cleaner, magnetic brush cleaner, electrostatic brush cleaner, magnetic roller cleaner, blade cleaner, etc. are used for cleaning and static elimination.

以下、実施例により、本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン74gを、6重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液550ミリリットルに溶解した溶液に、塩化メチレン250ミリリットルを加えて攪拌しながら、冷却下、該溶液にホスゲンガスを950ミリリットル/分間の割合で15分間吹き込んだ。ついで、この反応液を静置して有機層を分離し、重合度が2〜4であり、分子末端がクロロホーメート基であるポリカーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液を得た。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
Example 1
(1) Production of polycarbonate resin To a solution of 74 g of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane dissolved in 550 ml of a 6 wt% aqueous sodium hydroxide solution, 250 ml of methylene chloride was added and stirred. Under cooling, phosgene gas was blown into the solution at a rate of 950 ml / min for 15 minutes. Then, the reaction solution was allowed to stand to separate the organic layer, and a methylene chloride solution of a polycarbonate oligomer having a polymerization degree of 2 to 4 and a molecular end of a chloroformate group was obtained.

このポリカーボネートオリゴマーの塩化メチレン溶液200ミリリットルに、塩化メチレンを加えて全量を450ミリリットルとした後、これに、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)ブロパン20.6gを、8重量%濃度の水酸化ナトリウム水溶液150ミリリットルと混合し、さらに分子量調節剤としてp−tert−ブチルフェノール2.0gを加えた。つぎに、この混合液を激しく攪拌しながら、触媒として7重量%濃度のトリエチルアミン水溶液を2ミリリットル加え、28℃において、攪拌下に1.5時間反応した。反応終了後、反応生成物を塩化メチレン1リットルで希釈し、ついで、水1.5リットルで2回、0.01規定濃度の塩酸1リットルで1回、さらに水1リットルで2回の順で洗浄した後、有機層をメタノール中に投入し、析出した固体を濾過して乾燥することにより、ポリカーボネート樹脂を得た。   Methylene chloride was added to 200 ml of this methylene chloride solution of the polycarbonate oligomer to make a total volume of 450 ml, and then 20.6 g of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) bropan was added to 8 wt. The mixture was mixed with 150 ml of an aqueous sodium hydroxide solution having a concentration of 1%, and 2.0 g of p-tert-butylphenol was added as a molecular weight regulator. Next, while vigorously stirring the mixed solution, 2 ml of a 7 wt% aqueous triethylamine solution was added as a catalyst and reacted at 28 ° C. with stirring for 1.5 hours. After completion of the reaction, the reaction product is diluted with 1 liter of methylene chloride, then twice with 1.5 liters of water, once with 1 liter of 0.01N hydrochloric acid, and then twice with 1 liter of water in this order. After washing, the organic layer was poured into methanol, and the precipitated solid was filtered and dried to obtain a polycarbonate resin.

上記で得られたポリカーボネート樹脂につき、塩化メチレンを溶媒とする濃度0.5g/デシリットルの溶液の20℃で測定(以下の実施例も同一条件において測定)した還元粘度〔ηsp/c〕は、0.89デシリットル/gであった。還元粘度の測定は、離合社製の自動粘度測定装置VMR−042を用い、自動粘度用ウッベローデ改良型粘度計(RM型)で測定した。また、このポリカーボネート樹脂について測定した1H−NMRスペクトルにおいては、3.5ppmおよび5.1ppmにアリル基に基づく吸収ピークが認められ、また7〜8ppmに全芳香族に基づく吸収ピークが認められ、これらの強度比より、〔a〕2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位との共重合組成を算出した結果、〔a〕:〔b〕=0.85:0.15であった。 With respect to the polycarbonate resin obtained above, the reduced viscosity [ηsp / c] measured at 20 ° C. in a 0.5 g / deciliter solution containing methylene chloride as a solvent (measured under the same conditions in the following examples) was 0 .89 deciliter / g. The reduced viscosity was measured with an automatic viscosity Ubbelohde improved viscometer (RM type) using an automatic viscosity measuring device VMR-042 manufactured by Rouai Co., Ltd. Further, in the 1 H-NMR spectrum measured for this polycarbonate resin, absorption peaks based on allyl groups were observed at 3.5 ppm and 5.1 ppm, and absorption peaks based on wholly aromatic were observed at 7-8 ppm, From these intensity ratios, [a] a repeating unit derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and [b] derived from 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane As a result of calculating the copolymer composition with the repeating unit, it was [a]: [b] = 0.85: 0.15.

(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
つぎに、ここで得られたポリカーボネート樹脂0.5gおよび珪素化合物としてメチルジエトキシシラン0.097gを、使用直前に蒸留した重クロロホルム20ミリリットルに溶解し、触媒として白金−1,3−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のキシレン溶液(濃度:5重量%)0.014gを加え、室温において、攪拌下に1時間反応させた。ここで得られた重合体につき、1H−NMRスペクトルの測定をし、この反応前の測定結果と対比したところ、アリル基に基づく吸収ピーク(3.5ppmおよび5.1ppm)が消失し、新たに1.2ppmおよび3.7ppmにエトキシ基に基づく吸収ピークが認められた。したがって、この重合体は、下記化学構造を有するシリル基含有ポリカーボネート樹脂であると認められた。
(2) Production of silyl group-containing polycarbonate resin Next, 0.5 g of the polycarbonate resin obtained here and 0.097 g of methyldiethoxysilane as a silicon compound were dissolved in 20 ml of deuterated chloroform distilled just before use to prepare a catalyst. As a solution, 0.014 g of a platinum-1,3-divinyltetramethyldisiloxane complex in xylene (concentration: 5% by weight) was added and reacted at room temperature with stirring for 1 hour. The polymer obtained here was measured for 1 H-NMR spectrum, and compared with the measurement results before this reaction, absorption peaks (3.5 ppm and 5.1 ppm) based on the allyl group disappeared. Absorption peaks based on ethoxy groups were observed at 1.2 ppm and 3.7 ppm. Therefore, this polymer was recognized as a silyl group-containing polycarbonate resin having the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂0.5gおよび珪素化合物としてメチルジエトキシシラン0.097gをメチレンクロライド5ミリリットルに溶解し、触媒として白金−シクロメチルビニルシロキサン錯体の5重量%濃度の末端ジビニルポリジメチルシロキサン溶液0.002gを添加した後、これをポリエチレンテレフタレートフィルム上にアプリケータでキャストした。ついで、このキャストフィルムを、1時間風乾した後、120℃において、常圧で2時間反応させ、さらに、120℃、1mmHgで、12時間乾燥してヒドロシリル化および脱水縮合を行うことにより、架橋化されたポリカーボネート樹脂フィルムを得た。この架橋ポリカーボネート樹脂は、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of crosslinked polycarbonate resin 0.5 g of the allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) above and 0.097 g of methyldiethoxysilane as a silicon compound are dissolved in 5 ml of methylene chloride, and platinum-cyclomethyl is used as a catalyst. After adding 0.002 g of a terminal divinylpolydimethylsiloxane solution having a concentration of 5% by weight of a vinylsiloxane complex, this was cast on a polyethylene terephthalate film with an applicator. Next, the cast film was air-dried for 1 hour, reacted at 120 ° C. at normal pressure for 2 hours, and further dried at 120 ° C. and 1 mmHg for 12 hours to perform hydrosilylation and dehydration condensation. A polycarbonate resin film was obtained. This crosslinked polycarbonate resin had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネート樹脂の評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂フィルムにつき、20℃での塩化メチレンへの溶解性の有無を調べた結果、全く不溶であった。つぎに、この架橋ポリカーボネート樹脂フィルムについて、その透明性を評価するため可視光線の光線透過率を測定するとともに、スガ試験機社製のスガ摩耗試験機NUS−ISO−3型を用いて、耐摩耗性の評価試験をした。摩耗試験の条件としては、500gの荷重をかけた摩耗紙(スガ試験機社製;粒径3ミクロンのアルミナ粒子を含有)上で、試料を2000回往復運動させた後の試料の重量減少量を測定する方法を採用した。これら結果を第1表に示す。第1表中の透明性の欄に、○印が表示してあるものは、350〜600nmの波長域の全域における光線透過率が90%以上であったことを示し、×印が表示してあるものは、350〜600nmの波長域において光線透過率が90%未満の波長域があったことを示す。
(4) Evaluation of cross-linked polycarbonate resin The cross-linked polycarbonate resin film obtained in (3) above was completely insoluble as a result of examining the presence or absence of solubility in methylene chloride at 20 ° C. Next, for this crosslinked polycarbonate resin film, the light transmittance of visible light is measured in order to evaluate its transparency, and the abrasion resistance tester NUS-ISO-3 manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. is used. A sex evaluation test was conducted. The condition for the abrasion test was as follows: the amount of weight loss of the sample after the sample was reciprocated 2000 times on a worn paper (made by Suga Test Instruments Co., Ltd .; containing alumina particles with a particle size of 3 microns) subjected to a load of 500 g. The method of measuring was adopted. These results are shown in Table 1. In the column of transparency in Table 1, those marked with ◯ indicate that the light transmittance in the entire wavelength range of 350 to 600 nm was 90% or more, and marked with x. Some indicate that there was a wavelength region in which the light transmittance was less than 90% in the wavelength region of 350 to 600 nm.

実施例2
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例1で用いた2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて、3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシビフェニル17.8gを用いた他は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度〔ηsp/c〕は、0.86デシリットル/gであった。また、1H−NMRスペクトルを測定した結果、3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸収ピークと、7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収ピークとの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した結果、〔a〕2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕3,3'−ジアリル−4,4'−ジヒドロキシビフェニルに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕=0.85:0.15であった。
Example 2
(1) Production of polycarbonate resin Instead of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 17.8 g of 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxybiphenyl A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that was used. The reduced viscosity [ηsp / c] of the obtained polycarbonate resin was 0.86 deciliter / g. In addition, as a result of measuring 1 H-NMR spectrum, from the intensity ratio of the absorption peak based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl group and the absorption peak based on 7-8 ppm total aromatic hydrogen, As a result of calculating the copolymer composition, [a] a repeating unit derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane and [b] derived from 3,3′-diallyl-4,4′-dihydroxybiphenyl. The repeating unit was [a]: [b] = 0.85: 0.15.

(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
ついで、このポリカーボネート樹脂に、実施例1の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を製造した。このものは、下記化学構造を有するものであると認められた。
(2) Production of Silyl Group-Containing Polycarbonate Resin Next, a silyl group-containing polycarbonate resin was produced in the same manner as (2) of Example 1 for this polycarbonate resin. This was found to have the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を実施例1の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of cross-linked polycarbonate resin The allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) was treated in the same manner as in (1) of Example 1 to obtain a cross-linked polycarbonate resin. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例3
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン87gを用い、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて、9,9−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)フルオレン30.7gを用いた他は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度〔ηsp/c〕は、0.85デシリットル/gであった。また、1H−NMRスペクトルを測定した結果、3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸収ピーク、および7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した結果、〔a〕1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに由来する繰返し単位と、〔b〕9,9−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)フルオレンに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕=0.80:0.20であった。
Example 3
(1) Production of polycarbonate resin In place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 87 g of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane was used and 2,2-bis The same procedure as in Example 1 was conducted except that 30.7 g of 9,9-bis (3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) fluorene was used instead of (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane. Thus, a polycarbonate resin was obtained. The polycarbonate resin obtained here had a reduced viscosity [ηsp / c] of 0.85 deciliter / g. Further, as a result of measuring the 1 H-NMR spectrum, it was found that the polycarbonate resin was found to have a coherence from the intensity ratio of the absorption peak based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl groups and the absorption peak based on 7-8 ppm total aromatic hydrogen. As a result of calculating the polymerization composition, [a] a repeating unit derived from 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane and [b] 9,9-bis (3-allyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) ) The repeating unit derived from fluorene was [a]: [b] = 0.80: 0.20.

(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
ついで、このポリカーボネート樹脂に、実施例1の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を製造した。このものは、下記化学構造を有するものであると認められた。
(2) Production of silyl group-containing polycarbonate resin Next, a silyl group-containing polycarbonate resin was produced in the same manner as (2) of Example 1 for this polycarbonate resin. This was found to have the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を実施例1の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of cross-linked polycarbonate resin The allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) was treated in the same manner as in (1) of Example 1 to obtain a cross-linked polycarbonate resin. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例4
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン83gを用い、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタン12.8gおよび2,7−ジヒドロキシ−3,6−ジアリルナフタレン5.5gを用いた他は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度〔ηsp/c〕は、0.83デシリットル/gであった。また、1H−NMRスペクトルを測定した結果、3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸収ピークと、1.7ppmの2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに基づく吸収ピークおよび7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した結果、〔a〕2,2−ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−フェニルエタンに由来する繰返し単位、および〔c〕2,7−ジヒドロキシ−3,6−ジアリルナフタレンに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:〔c〕=0.85:0.10:0.05であった。
Example 4
(1) Production of polycarbonate resin In place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 83 g of 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane was used. Instead of 2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 12.8 g of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane and 2,7-dihydroxy-3,6-diallylnaphthalene A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 5.5 g was used. The polycarbonate resin obtained here had a reduced viscosity [ηsp / c] of 0.83 deciliter / g. Moreover, as a result of measuring a 1 H-NMR spectrum, it was based on absorption peaks based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl groups and 1.7 ppm 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) propane. As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the absorption peak and the intensity ratio of the absorption peak based on 7 to 8 ppm of total aromatic hydrogen, [a] 2,2-bis (3-methyl-4-hydroxyphenyl) A repeating unit derived from propane, a repeating unit derived from [b] 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -1-phenylethane, and [c] 2,7-dihydroxy-3,6-diallylnaphthalene. The derived repeating unit was [a]: [b]: [c] = 0.85: 0.10: 0.05.

(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
ついで、このポリカーボネート樹脂に、実施例1の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を製造した。このものは、下記化学構造を有するものであると認められた。
(2) Production of Silyl Group-Containing Polycarbonate Resin Next, a silyl group-containing polycarbonate resin was produced in the same manner as (2) of Example 1 for this polycarbonate resin. This was found to have the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を実施例1の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of cross-linked polycarbonate resin The allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) was treated in the same manner as in (1) of Example 1 to obtain a cross-linked polycarbonate resin. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例5
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン109gを用い、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニニル)プロパン6.5gおよび1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン17.4gを用いた他は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度〔ηsp/c〕は、0.78デシリットル/gであった。また、1H−NMRスペクトルを測定した結果、3.5ppmおよび5.1ppmのアリル基に基づく吸収ピークと、6.8ppmの2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに基づく吸収ピーク、および7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した結果、〔a〕1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕2,2−ビス(3−フェニル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位、および〔c〕1,1−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:〔c〕=0.80:0.05:0.15であった。(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造ついで、このポリカーボネート樹脂に、実施例1の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を製造した。このものは、下記化学構造を有するものであると認められた。
Example 5
(1) Production of polycarbonate resin 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2,2-bis (4 instead of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1 -Hydroxyphenyl) propane 109 g, instead of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenynyl) propane 6.5 g and 1 , 1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane 17.4 g was used in the same manner as in Example 1 to obtain a polycarbonate resin. The polycarbonate resin obtained here had a reduced viscosity [ηsp / c] of 0.78 deciliter / g. Moreover, as a result of measuring a 1 H-NMR spectrum, it was based on absorption peaks based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl groups, and 6.8 ppm 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane. As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the absorption peak and the intensity ratio of the absorption peak based on 7 to 8 ppm of total aromatic hydrogen, [a] 1,1,1,3,3,3-hexafluoro was calculated. A repeating unit derived from -2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, a repeating unit derived from [b] 2,2-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) propane, and [c] 1 The repeating unit derived from 1,1-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane is [a]: [b]: [c] = 0.80: 0.05: It was .15. (2) Production of silyl group-containing polycarbonate resin Next, a silyl group-containing polycarbonate resin was produced in the same manner as (2) of Example 1 for this polycarbonate resin. This was found to have the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を実施例1の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of cross-linked polycarbonate resin The allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) was treated in the same manner as in (1) of Example 1 to obtain a cross-linked polycarbonate resin. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例6
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例1で用いた2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−プロペン73gを用い、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えてビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタン23.6gおよび下記シリコーン変性ビスフェノール1gを用いた他は、実施例1と同様にして、ポリカーボネート樹脂を得た。
Example 6
(1) Production of polycarbonate resin In place of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 73 g of 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) -1-propene was used. A polycarbonate resin was prepared in the same manner as in Example 1 except that 23.6 g of bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane and 1 g of the following silicone-modified bisphenol were used instead of bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane. Obtained.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度〔ηsp/c〕は、0.85デシリットル/gであった。また、1H−NMRスペクトルを測定した結果、5ppmのビニル基に基づく吸収ピークと、0ppmの上記シリコーン変性ビスフェノールに基づく吸収ピーク、および7〜8ppmの全芳香族水素に基づく吸収ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した結果、〔a〕3,3−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1−プロペンに由来する繰返し単位と、〔b〕ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジフェニルメタンに由来する繰返し単位、および〔c〕上記シリコーン変性ビスフェノールに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕:〔c〕=0.85:0.149:0.001であった。
(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
ついで、このポリカーボネート樹脂に、実施例1の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を製造した。このものは、下記化学構造を有するものであると認められた。
The polycarbonate resin obtained here had a reduced viscosity [ηsp / c] of 0.85 deciliter / g. Moreover, as a result of measuring a 1 H-NMR spectrum, from an intensity ratio of an absorption peak based on 5 ppm of vinyl group, an absorption peak based on 0 ppm of the above silicone-modified bisphenol, and an absorption peak based on 7 to 8 ppm of total aromatic hydrogen. As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin, [a] a repeating unit derived from 3,3-bis (4-hydroxyphenyl) -1-propene and [b] bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane The repeating unit derived from [c] and the repeating unit derived from the above silicone-modified bisphenol were [a]: [b]: [c] = 0.85: 0.149: 0.001.
(2) Production of Silyl Group-Containing Polycarbonate Resin Next, a silyl group-containing polycarbonate resin was produced in the same manner as (2) of Example 1 for this polycarbonate resin. This was found to have the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたビニル基含有ポリカーボネート樹脂を実施例1の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of cross-linked polycarbonate resin The vinyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) above was treated in the same manner as in (1) of Example 1 to obtain a cross-linked polycarbonate resin. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例7
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例1で用いた2,2−ビス(3−アリル−4−ヒドロキシフェニル)プロパンに代えて2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン5.2gを用い、かつ、分子量調節剤として用いたp−tert−ブチルフェノールに代えて2−アリルフェノール11.8gを用いたほかは、実施例1と同様にしてポリカーボネート樹脂を得た。
Example 7
(1) Production of polycarbonate resin In place of 2,2-bis (3-allyl-4-hydroxyphenyl) propane used in Example 1, 5.2 g of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane was used, A polycarbonate resin was obtained in the same manner as in Example 1 except that 11.8 g of 2-allylphenol was used instead of p-tert-butylphenol used as the molecular weight regulator.

ここで得られたポリカーボネート樹脂の還元粘度〔ηsp/c〕は、0.18デシリットル/gであった。また、1H−NMRスペクトルを測定した結果、3.5ppmと5.1ppmのアリル基に基づく吸収ピークと、1.7ppmの2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに基づく吸収ピークの強度比から、このポリカーボネート樹脂の共重合組成を算出した結果、〔a〕2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンに由来する繰返し単位と、〔b〕2−アリルフェノールに由来する繰返し単位とが、〔a〕:〔b〕=0.82:0.18であった。 The polycarbonate resin obtained here had a reduced viscosity [ηsp / c] of 0.18 deciliter / g. Moreover, as a result of measuring a 1 H-NMR spectrum, the intensity of an absorption peak based on 3.5 ppm and 5.1 ppm allyl groups and an absorption peak based on 1.7 ppm 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane As a result of calculating the copolymer composition of this polycarbonate resin from the ratio, [a] a repeating unit derived from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, and [b] a repeating unit derived from 2-allylphenol However, it was [a]: [b] = 0.82: 0.18.

(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
ついで、このポリカーボネート樹脂に、実施例1の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を製造した。このものは、下記化学構造を有するものであると認められた。
(2) Production of silyl group-containing polycarbonate resin Next, a silyl group-containing polycarbonate resin was produced in the same manner as (2) of Example 1 for this polycarbonate resin. This was found to have the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を実施例1の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of cross-linked polycarbonate resin The allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) was treated in the same manner as in (1) of Example 1 to obtain a cross-linked polycarbonate resin. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例8
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例2と同様にして、実施例2と同一の化学構造を有するポリカーボネート樹脂を製造した。
(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得たポリカーボネート樹脂に、珪素化合物としてジメチルエトキシシラン0.076gを反応させた他は、実施例2の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
Example 8
(1) Production of polycarbonate resin In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin having the same chemical structure as in Example 2 was produced.
(2) Production of silyl group-containing polycarbonate resin In the same manner as (2) of Example 2, except that 0.076 g of dimethylethoxysilane was reacted as a silicon compound with the polycarbonate resin obtained in (1) above. A group-containing polycarbonate resin was obtained. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を、珪素化合物としてジメチルエトキシシラン0.076gに変更した他は、実施例2の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of crosslinked polycarbonate resin The allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) above was treated in the same manner as (3) of Example 2 except that 0.076 g of dimethylethoxysilane was used as the silicon compound. Thus, a crosslinked polycarbonate resin was obtained. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例9
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例2と同様にして、実施例2と同一の化学構造を有するポリカーボネート樹脂を製造した。(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造上記(1)で得たポリカーボネート樹脂に、珪素化合物としてトリス(トリメチルシロキシ)シラン0.215gを反応させた他は、実施例2の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
Example 9
(1) Production of polycarbonate resin In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin having the same chemical structure as in Example 2 was produced. (2) Production of Silyl Group-Containing Polycarbonate Resin Similar to (2) of Example 2 except that the polycarbonate resin obtained in (1) above was reacted with 0.215 g of tris (trimethylsiloxy) silane as a silicon compound. Thus, a silyl group-containing polycarbonate resin was obtained. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を、珪素化合物としてトリス(トリメチルシロキシ)シラン0.215gに変更した他は、実施例2の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of crosslinked polycarbonate resin Same as (3) of Example 2 except that the allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) above was changed to 0.215 g of tris (trimethylsiloxy) silane as a silicon compound. To obtain a crosslinked polycarbonate resin. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of crosslinked polycarbonate The crosslinked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

実施例10
(1)ポリカーボネート樹脂の製造
実施例2と同様にして、実施例2と同一の化学構造を有するポリカーボネート樹脂を製造した。
(2)シリル基含有ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得たポリカーボネート樹脂に、珪素化合物としてトリエトキシシラン0.119gを反応させた他は、実施例2の(2)と同様にして、シリル基含有ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
Example 10
(1) Production of polycarbonate resin In the same manner as in Example 2, a polycarbonate resin having the same chemical structure as in Example 2 was produced.
(2) Production of Silyl Group-Containing Polycarbonate Resin In the same manner as (2) of Example 2, except that 0.119 g of triethoxysilane was reacted as a silicon compound with the polycarbonate resin obtained in (1) above. A group-containing polycarbonate resin was obtained. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(3)架橋ポリカーボネート樹脂の製造
上記(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂を、珪素化合物としてトリエトキシシラン0.119gに変更した他は、実施例2の(3)と同様に処理して、架橋ポリカーボネート樹脂を得た。このものは、下記化学構造を有するものであった。
(3) Production of cross-linked polycarbonate resin The treatment was performed in the same manner as (3) of Example 2 except that the allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) above was changed to 0.119 g of triethoxysilane as a silicon compound. Thus, a crosslinked polycarbonate resin was obtained. This had the following chemical structure.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

(4)架橋ポリカーボネートの評価
上記(3)で得られた架橋ポリカーボネート樹脂は、20℃の塩化メチレンに全く不溶であった。また、この樹脂についても実施例1の(4)と同様にして、透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
(4) Evaluation of cross-linked polycarbonate The cross-linked polycarbonate resin obtained in the above (3) was completely insoluble in methylene chloride at 20 ° C. Further, this resin was also evaluated for transparency and wear resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

比較例1
前述の特開平4−29314号公報記載の実施例と同じ方法により、ポリカーボネート樹脂を製造し、架橋処理した後、得られた架橋ポリカーボネート樹脂の透明性および耐摩耗性の評価をした。すなわち、攪拌機と温度計、ガス導入管および還流冷却器を備えた三つ口フラスコに、乾燥窒素ガスを流しながら濃度48.5重量%の水酸化ナトリウム水溶液53.7重量部、水230.8重量部、2,2−ビス(3−アリル−4−ヒトロキシフェニル)プロパン31.4重量部、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン27.3重量部を仕込んで溶解した。この溶液を20℃に冷却し、攪拌しながらホスゲンガス26.2重量部を1時間かけて徐々に導入した。ついで、濃度48.5重量%の水酸化ナトリウム水溶液8.4重量部を加え、さらに反応停止剤としてp−tert−ブチルフェノール0.61重量部を加え、30℃で1時間重合反応を続けた。反応終了後、塩化メチレン層を分離して塩酸酸性にした後、水洗して溶存塩類を除去した。その後、塩化メチレンを蒸発して固体を得た。この重合体の還元粘度は1.2デシリットル/gであった。
Comparative Example 1
After the polycarbonate resin was produced and crosslinked by the same method as that described in JP-A-4-29314, the obtained crosslinked polycarbonate resin was evaluated for transparency and abrasion resistance. That is, 53.7 parts by weight of an aqueous solution of sodium hydroxide having a concentration of 48.5% by weight and water 230.8 while flowing dry nitrogen gas through a three-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a gas introduction tube and a reflux condenser. Part by weight, 31.4 parts by weight of 2,2-bis (3-allyl-4-humanoxyphenyl) propane, and 27.3 parts by weight of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane were charged and dissolved. The solution was cooled to 20 ° C., and 26.2 parts by weight of phosgene gas was gradually introduced over 1 hour while stirring. Next, 8.4 parts by weight of a 48.5% by weight sodium hydroxide aqueous solution was added, and 0.61 part by weight of p-tert-butylphenol was added as a reaction stopper, and the polymerization reaction was continued at 30 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, the methylene chloride layer was separated and acidified with hydrochloric acid, and then washed with water to remove dissolved salts. Thereafter, methylene chloride was evaporated to obtain a solid. The reduced viscosity of this polymer was 1.2 deciliter / g.

つぎに、このポリカーボネート樹脂0.5gと、架橋剤としてペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)0.05gおよびイルガキュアー907(チバガイギー社製)0.005gとを、塩化メチレン5ミリリットルに溶解させた。この溶液を厚み250ミクロンのポリエチレンテレフタレートフィルムの上に、アプリケーターを用いてキャスト製膜した。さらに、これを1時間風乾した後、120℃、1mmHgにおいて12時間乾燥した。得られたサンプルに、80w/cm2 の高圧水銀灯を5秒間照射して、架橋ポリカーボネート樹脂のフィルムを得た。このようにして得られた架橋ポリカーボネート樹脂につき、前記実施例1の(4)と同様に透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。   Next, 0.5 g of this polycarbonate resin, 0.05 g of pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) and 0.005 g of Irgacure 907 (manufactured by Ciba Geigy) as a crosslinking agent are dissolved in 5 ml of methylene chloride. It was. This solution was cast on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 250 microns using an applicator. Furthermore, after air-drying this for 1 hour, it dried at 120 degreeC and 1 mmHg for 12 hours. The obtained sample was irradiated with an 80 w / cm @ 2 high pressure mercury lamp for 5 seconds to obtain a crosslinked polycarbonate resin film. The crosslinked polycarbonate resin thus obtained was evaluated for transparency and abrasion resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

比較例2
上記比較例1において得られた架橋処理を施す前のポリカーボネート樹脂0.5gとアゾビスイソブチロニトリル0.025gに、塩化メチレン5ミリリットルを加えて溶解し、塗工液とした。この塗工液を、厚み250ミクロンのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、アプリケーターを用いてキャスト製膜した。つぎに、これを140℃において1時間加熱することにより、架橋反応を行い、ついで、120℃、1mmHgにおいて12時間乾燥することによって、架橋ポリカーボネート樹脂フィルムを得た。
Comparative Example 2
5 ml of methylene chloride was added to and dissolved in 0.5 g of the polycarbonate resin obtained in Comparative Example 1 before the crosslinking treatment and 0.025 g of azobisisobutyronitrile to prepare a coating solution. This coating solution was cast on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 250 microns using an applicator. Next, this was heated at 140 ° C. for 1 hour to carry out a crosslinking reaction, and then dried at 120 ° C. and 1 mmHg for 12 hours to obtain a crosslinked polycarbonate resin film.

このようにして得られた架橋ポリカーボネート樹脂につき、前記実施例1の(4)と同様に透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。   The crosslinked polycarbonate resin thus obtained was evaluated for transparency and abrasion resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

比較例3
原料の二価フェノールとして2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを用いて製造した還元粘度0.77デシリットル/gのポリカーボネート樹脂0.5gを、塩化メチレン5ミリリットルに溶解させた後、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、実施例1の(3)と同様にキャスト製膜した。このようにして得られた架橋ポリカーボネート樹脂につき、前記実施例1の(4)と同様に透明性および耐摩耗性の評価をした。結果を第1表に示す。
Comparative Example 3
After dissolving 0.5 g of a polycarbonate resin having a reduced viscosity of 0.77 deciliter / g produced using 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane as a raw material dihydric phenol in 5 ml of methylene chloride, polyethylene A cast film was formed on the terephthalate film in the same manner as (3) of Example 1. The crosslinked polycarbonate resin thus obtained was evaluated for transparency and abrasion resistance in the same manner as in Example 1 (4). The results are shown in Table 1.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

実施例11
導電性基体としてアルミニウム金属を蒸着したポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを用い、その表面に、電荷発生層と電荷輸送層を順次積層して積層型感光層を形成した電子写真感光体を製造した。電荷発生物質としてオキソチタニウムフタロシアニン0.5重量部を用い、バインダー樹脂としてはブチラール樹脂0.5重量部を用いた。これらを溶媒の塩化メチレン19重量部に加え、ボールミルにて分散し、この分散液をバーコーターにより、前記導電性基体フィルム表面に塗工し、乾燥させることにより、膜厚約0.5ミクロンの電荷発生層を形成した。
Example 11
Using a polyethylene terephthalate resin film deposited with aluminum metal as the conductive substrate, a charge generating layer and a charge transport layer were sequentially laminated on the surface to produce an electrophotographic photoreceptor having a laminated photosensitive layer. 0.5 parts by weight of oxotitanium phthalocyanine was used as the charge generating substance, and 0.5 parts by weight of butyral resin was used as the binder resin. These were added to 19 parts by weight of methylene chloride as a solvent, dispersed by a ball mill, and this dispersion was applied to the surface of the conductive substrate film by a bar coater and dried to give a film thickness of about 0.5 microns. A charge generation layer was formed.

つぎに、電荷輸送物質として4−ジベンジルアミノ−2−メチルベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン1重量部を用い、バインダー樹脂として前記実施例1の(1)で得られたアリル基含有ポリカーボネート樹脂1重量部と、メチルジエトキシシラン0.194重量部、および触媒として白金−シクロメチルビニルシロキサン(濃度5重量%)0.004重量部を用い、これらを溶媒の塩化メチレン13重量部に加えて溶解させ、塗工液とした。この塗工液をアプリケーターにより、上記電荷発生層の上に塗布し、乾燥させた。つぎに、この塗膜に、120℃、常圧、10時間の加熱処理を施し、塗膜中のシリル基含有ポリカーボネート樹脂の架橋反応を行った。このようにして、厚さ約20ミクロンの電荷輸送層を形成した。この電荷輸送層の形成の過程において、その塗工液の塗布、乾燥、架橋に至るまで、ポリカーボネート樹脂の結晶化による透明性の低下は見られなかった。   Next, 1 part by weight of 4-dibenzylamino-2-methylbenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone is used as the charge transport material, and the allyl group-containing polycarbonate resin obtained in (1) of Example 1 is used as the binder resin. 1 part by weight, 0.194 part by weight of methyldiethoxysilane and 0.004 part by weight of platinum-cyclomethylvinylsiloxane (concentration 5% by weight) as a catalyst were added to 13 parts by weight of methylene chloride as a solvent. Dissolved to give a coating solution. This coating solution was applied onto the charge generation layer with an applicator and dried. Next, the coating film was subjected to a heat treatment at 120 ° C. and normal pressure for 10 hours to carry out a crosslinking reaction of the silyl group-containing polycarbonate resin in the coating film. In this way, a charge transport layer having a thickness of about 20 microns was formed. In the process of forming this charge transport layer, no decrease in transparency due to crystallization of the polycarbonate resin was observed until the coating liquid was applied, dried and crosslinked.

ついで、このようにして得られた電子写真感光体の電子写真特性の評価を行った。その評価試験装置としては、株式会社川口電機製作所製の静電気帯電試験装置EPA−8100を用い、−6kvでコロナ放電を行った際の初期表面電位、10ルックス光照射から5秒後の残留電位、半減露光量(E1/2)の測定を行った。これらの測定結果を第2表に示す。 Subsequently, the electrophotographic characteristics of the electrophotographic photoreceptor thus obtained were evaluated. As the evaluation test apparatus, using an electrostatic charge test apparatus EPA-8100 manufactured by Kawaguchi Electric Manufacturing Co., Ltd., an initial surface potential when performing corona discharge at -6 kv, a residual potential 5 seconds after irradiation of 10 lux light, The half-exposure amount (E 1/2 ) was measured. The measurement results are shown in Table 2.

また、この電子写真感光体の耐久性を評価するため、感光層の耐摩耗性試験を実施した。試験機としては、スガ試験機株式会社製のスガ摩耗試験機NUS−ISO−3型を用い、摩耗試験の条件として、500gの荷重をかけた摩耗紙(粒径3μm のアルミナ粒子を含有)を感光層表面と接触させて2000回の往復運動を行い、重量減少量の測定をした。この結果を第2表に示す。   Further, in order to evaluate the durability of the electrophotographic photoreceptor, a wear resistance test of the photosensitive layer was performed. As a testing machine, Suga abrasion testing machine NUS-ISO-3 type manufactured by Suga Testing Machine Co., Ltd. was used, and as a condition for the abrasion test, worn paper (containing alumina particles having a particle diameter of 3 μm) loaded with 500 g was used. The amount of weight loss was measured by reciprocating 2000 times in contact with the surface of the photosensitive layer. The results are shown in Table 2.

実施例12〜20
電荷輸送層のバインダー樹脂として、実施例1記載のアリル基含有ポリカーボネート樹脂に代えて、実施例2〜10に記載のアリル基またはビニル基含有ポリカーボネート樹脂をそれぞれ使用した他は、いずれも実施例11と同様にして、電子写真感光体を製造し評価した。これら評価結果を第2表に示す。
Examples 12-20
Example 11 is the same as Example 11 except that the allyl group-containing polycarbonate resin described in Examples 2 to 10 was used instead of the allyl group-containing polycarbonate resin described in Example 1 as the binder resin for the charge transport layer. In the same manner as above, an electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated. These evaluation results are shown in Table 2.

比較例4
電荷輸送層のバインダー樹脂として、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを原料とするポリカーボネート樹脂(還元粘度;0.77デシリットル/g)を使用した他は、実施例11と同様にして、電子写真感光体を製造し評価した。その結果を第2表に示す。
Comparative Example 4
The same procedure as in Example 11 was used except that a polycarbonate resin (reduced viscosity; 0.77 deciliter / g) made from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane was used as the binder resin for the charge transport layer. An electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated. The results are shown in Table 2.

比較例5
電荷輸送層のバインダー樹脂として、前記特開平4−291348号公報に記載の実施例と同一の方法で製造した、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンと2,2−ビス(3−アリル−4−ヒトロキシフェニル)プロパンとに由来する繰返し単位のモル比が1:1であり、還元粘度が1.2デシリットル/gのポリカーボネート樹脂を用い、これに、架橋剤としてペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、および光重合開始剤〔チバ・ガイギー社製;イルガキュア−907〕を配合し、モノクロルベンゼンとジクロルベンゼンとの混合溶媒に溶解させて、浸漬法により塗膜を形成した。
Comparative Example 5
As a binder resin for the charge transport layer, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane and 2,2-bis (3--) produced by the same method as in Examples described in JP-A-4-291348. A polycarbonate resin having a molar ratio of repeating units derived from allyl-4-humanoxyphenyl) propane of 1: 1 and a reduced viscosity of 1.2 deciliter / g was used, and pentaerythritol tetrakis ( 3-mercaptopropionate) and a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba-Geigy; Irgacure-907) are dissolved in a mixed solvent of monochlorobenzene and dichlorobenzene, and a coating film is formed by an immersion method. did.

ついで、この塗膜を乾燥させた後、高圧水銀灯による光照射により、塗膜中のポリカーボネート樹脂を架橋させることによって、電荷輸送層の形成をしたほかは、実施例15と同様にして電子写真感光体を製造し評価した。その結果を第2表に示す。   Then, after the coating film was dried, the electrophotographic photosensitive layer was formed in the same manner as in Example 15 except that the charge transport layer was formed by crosslinking the polycarbonate resin in the coating film by light irradiation with a high-pressure mercury lamp. The body was manufactured and evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure 2007314808
Figure 2007314808

Claims (11)

下記の一般式〔1〕で表される繰返し単位(1)および一般式〔2〕で表される繰返し単位(2)を、繰返し単位(1)と繰返し単位(2)の合計に対する繰返し単位(1)のモル比〔(1)/((1)+(2))〕が、0.001〜1となる割合で有するポリカーボネート樹脂。
Figure 2007314808
〔式〔1〕中、Ar1 は、下記の〔1a〕、〔1b〕又は〔1c〕で表される。
Figure 2007314808
{式〔1a〕中のX1は、単結合、−O−、−CO−、−S−、−SO−、−SO2−、−CR34−(ただし、R3、R4は各々独立に水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、トリフルオロメチル基または炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基である)、炭素数5〜12の置換もしくは無置換のシクロアルキリデン基、炭素数2〜12の置換もしくは無置換のα,ω−アルキレン基、9,9−フルオレニリデン基、1,8−メンタンジイル基、2,8−メンタンジイル基、置換もしくは無置換のピラジリデン基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリーレン基または下記一般式〔3〕、
Figure 2007314808
(式〔3〕中のR5は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリールオキシ基であり、tは0〜6の整数であり、gは0〜200の整数である。)で表される基であり、式〔1a〕〜〔1c〕中のAは、−(CH2h−、−O−(CH2h−、−CO−(CH2h−、−COO−(CH2h−で表される基(ただし、hは0〜6の整数である)であり、FGは、−SiR7 3-m−Zm(ただし、Zは炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、トリアルキルシロキシ基またはハロゲン原子であり、R7は各々独立に炭素数1〜6の飽和または不飽和炭化水素基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基であり、mは1〜3の整数である)であり、p1、p2は0〜4の整数(ただしp1+p2は1〜8の整数である)であり、qは1または2であり、sは1〜6の整数であり、式〔1a〕〜〔1c〕中のR1は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12の置換もしくは無置換のアリールオキシ基であり、rは各々独立に0〜4の整数であり、tは各々独立に0〜6の整数である。}、
一般式〔2〕中のAr2は、下記の〔2a〕、〔2b〕、〔2c〕又は〔2d〕で表される。
Figure 2007314808
(式〔2a〕〜〔2d〕中のX2、R6、r、t、gは、それぞれ、前記X1、R1、r、t、gと同じ意味を有し、kは0〜6の整数である)〕
The repeating unit (1) represented by the following general formula [1] and the repeating unit (2) represented by the general formula [2] are replaced with the repeating unit (1) and the repeating unit (2) with respect to the total of the repeating unit (2) ( A polycarbonate resin having a molar ratio [(1) / ((1) + (2))] of 1) of 0.001 to 1.
Figure 2007314808
[In the formula [1], Ar 1 is represented by the following [1a], [1b] or [1c].
Figure 2007314808
{X 1 in Formula [1a] is a single bond, —O—, —CO—, —S—, —SO—, —SO 2 —, —CR 3 R 4 — (where R 3 and R 4 are Each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a trifluoromethyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms), a substituted or unsubstituted cycloalkylidene having 5 to 12 carbon atoms Group, substituted or unsubstituted α, ω-alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, 9,9-fluorenylidene group, 1,8-menthanediyl group, 2,8-menthanediyl group, substituted or unsubstituted pyrazilidene group, carbon A substituted or unsubstituted arylene group of formula 6 to 12, or the following general formula [3],
Figure 2007314808
(In Formula [3], each R 5 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or a carbon number. 1-12 alkoxy group, a C6-C12 substituted or unsubstituted aryloxy group, t is an integer of 0-6, and g is an integer of 0-200. A in the formulas [1a] to [1c] is — (CH 2 ) h —, —O— (CH 2 ) h —, —CO— (CH 2 ) h —, —COO— (CH 2 ) H — (wherein h is an integer of 0-6), FG is —SiR 7 3-m —Z m (where Z is an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms or a trialkyl siloxy group or a halogen atom, R 7 is each independently 1 to carbon atoms Saturated or unsaturated hydrocarbon group, a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, m is is an integer of 1 to 3), p 1, p 2 is an integer from 0 to 4 ( Wherein p 1 + p 2 is an integer of 1 to 8, q is 1 or 2, s is an integer of 1 to 6, and R 1 in the formulas [1a] to [1c] is Independently, hydrogen atom, halogen atom, trifluoromethyl group, alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, 6 to 12 carbon atoms Or r is independently an integer of 0 to 4, and t is each independently an integer of 0 to 6. },
Ar 2 in the general formula [2] is represented by the following [2a], [2b], [2c] or [2d].
Figure 2007314808
(X 2 , R 6 , r, t and g in the formulas [2a] to [2d] have the same meanings as X 1 , R 1 , r, t and g, respectively, and k is 0 to 6 ))]
下記の一般式(1−1)で表される繰り返し単位(1−1)および一般式(2)で表される繰返し単位(2)を、繰返し単位(1−1)と繰返し単位(2)の合計に対する繰返し単位(1)のモル比〔(1−1)/((1−1)+(2))〕が、0.001〜1となる割合で有するポリカーボネート樹脂。
Figure 2007314808
(式(1−1)中、Ar3は、下記一般式[1d]を表わす。
Figure 2007314808
式[1d]中のAは、−(CH23−を表わし、FG、及び一般式(2)中のAr2は請求項1のFG、Ar2と同じ意味を表わす。)
The repeating unit (1-1) represented by the following general formula (1-1) and the repeating unit (2) represented by the general formula (2) are substituted with the repeating unit (1-1) and the repeating unit (2). Polycarbonate resin having a molar ratio [(1-1) / ((1-1) + (2))] of the repeating unit (1) to the total of 0.001 to 1.
Figure 2007314808
(In the formula (1-1), Ar 3 represents the following general formula [1d].
Figure 2007314808
A in the formula [1d] represents — (CH 2 ) 3 —, and FG and Ar 2 in the general formula (2) have the same meanings as FG and Ar 2 in claim 1. )
請求項1又は2に記載のポリカーボネート樹脂を架橋して得られる架橋ポリカーボネート樹脂。   A crosslinked polycarbonate resin obtained by crosslinking the polycarbonate resin according to claim 1. 脂肪族不飽和炭化水素基を含有するポリカーボネート樹脂に、珪素原子上に水素原子および加水分解性の基を有する珪素化合物を反応させることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。   3. The polycarbonate resin according to claim 1 or 2, wherein a polycarbonate compound containing an aliphatic unsaturated hydrocarbon group is reacted with a silicon compound having a hydrogen atom and a hydrolyzable group on a silicon atom. Method. 前記珪素化合物が珪素原子上に水素原子と加水分解性の基および非加水分解性の基を有する珪素化合物である請求項4に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。   The method for producing a polycarbonate resin according to claim 4, wherein the silicon compound is a silicon compound having a hydrogen atom, a hydrolyzable group and a non-hydrolyzable group on the silicon atom. 前記珪素化合物が下記一般式〔4〕で表される珪素化合物である請求項4又は5に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
Figure 2007314808
〔式〔4〕中のZ、R7は、前記Z、R7と同じ意味を有し、vは1〜3の整数である〕
The method for producing a polycarbonate resin according to claim 4 or 5, wherein the silicon compound is a silicon compound represented by the following general formula [4].
Figure 2007314808
[Z and R 7 in formula [4] have the same meaning as Z and R 7, and v is an integer of 1 to 3]
導電性基体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体において、該感光層に請求項3記載の架橋ポリカーボネート樹脂を含有していることを特徴とする電子写真感光体。   An electrophotographic photosensitive member having at least a photosensitive layer on a conductive substrate, wherein the photosensitive layer contains the crosslinked polycarbonate resin according to claim 3. 前記架橋ポリカーボネート樹脂が、請求項5記載の方法で製造したポリカーボネート樹脂を架橋させてなる架橋ポリカーボネート樹脂である請求項7に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photoreceptor according to claim 7, wherein the crosslinked polycarbonate resin is a crosslinked polycarbonate resin obtained by crosslinking the polycarbonate resin produced by the method according to claim 5. 前記架橋ポリカーボネート樹脂が、脂肪族不飽和炭化水素基を含有するポリカーボネート樹脂に、トリアルコキシシランを反応させてなるポリカーボネート樹脂の架橋物である請求項7に記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photoreceptor according to claim 7, wherein the crosslinked polycarbonate resin is a crosslinked product of a polycarbonate resin obtained by reacting a trialkoxysilane with a polycarbonate resin containing an aliphatic unsaturated hydrocarbon group. 前記架橋ポリカーボネート樹脂が、脂肪族不飽和炭化水素基を含有するポリカーボネート樹脂に、トリストリアルキルシロキシシランを反応させてなるポリカーボネート樹脂の架橋物である請求項7記載の電子写真感光体。   8. The electrophotographic photoreceptor according to claim 7, wherein the crosslinked polycarbonate resin is a crosslinked product of a polycarbonate resin obtained by reacting a tristrialkylsiloxysilane with a polycarbonate resin containing an aliphatic unsaturated hydrocarbon group. 前記感光層が、少なくとも電荷発生物質を含有する電荷発生層と、少なくとも電荷輸送物質およびバインダー樹脂を含有する電荷輸送層からなるものである請求項7〜10のいずれかに記載の電子写真感光体。   The electrophotographic photoreceptor according to claim 7, wherein the photosensitive layer comprises a charge generation layer containing at least a charge generation material, and a charge transport layer containing at least a charge transport material and a binder resin. .
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