JP2007308549A

JP2007308549A - Antistatic coating material, antistatic membrane and antistatic film, optical filter and optical information-recording medium

Info

Publication number: JP2007308549A
Application number: JP2006137397A
Authority: JP
Inventors: Toshika Abe; 利香阿部; Hiromichi Nei; 太陸寧
Original assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd; Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Polymer Co Ltd; Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 2006-05-17
Filing date: 2006-05-17
Publication date: 2007-11-29
Anticipated expiration: 2026-05-17
Also published as: JP5031264B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic coating material forming an antistatic membrane which has antistatic properties having no humidity dependency and high surface lubricity, and is excellent in any of flexibility, adhesion to a base material made of a resin, and transparency; and to provide the antistatic membrane. <P>SOLUTION: The antistatic coating material contains a π-conjugated conductive polymer, a polyanion, a polyether-modified non-reactive water-soluble silicone, and a solvent. The antistatic membrane is formed by coating the antistatic coating material. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、フィルムなどに帯電防止性及び表面潤滑性を付与するための帯電防止塗料に関する。また、帯電防止性及び表面潤滑性を有する帯電防止膜に関する。さらには、食品や電子部品の包装材に使用される帯電防止フィルム、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイに使用される光学フィルタやＣＤ、ＤＶＤなどの光情報記録媒体に関する。 The present invention relates to an antistatic paint for imparting antistatic properties and surface lubricity to a film or the like. The present invention also relates to an antistatic film having antistatic properties and surface lubricity. Furthermore, the present invention relates to an antistatic film used for packaging materials for foods and electronic parts, an optical filter used for liquid crystal displays and plasma displays, and an optical information recording medium such as CD and DVD.

樹脂フィルム、光学フィルタおよび光情報記録媒体においては、表面が、高硬度、高透明性である上に、静電気による塵埃の付着を防止するために帯電防止性を有することが求められる。特に、帯電防止性については、表面抵抗が１０^６〜１０^１０Ω程度の領域で抵抗値が安定していること、すなわち、安定した帯電防止性が求められる。
帯電防止性を付与するためには、例えば、樹脂フィルムに界面活性剤を表面に塗布する方法、樹脂フィルムや帯電防止膜を構成する樹脂に界面活性剤を練り込む方法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。 In the resin film, the optical filter, and the optical information recording medium, the surface is required to have high hardness and high transparency, and to have antistatic properties in order to prevent dust from being attached due to static electricity. In particular, with respect to antistatic properties, the resistance value is stable in a region where the surface resistance is about 10 ⁶ to 10 ¹⁰ Ω, that is, stable antistatic properties are required.
In order to impart antistatic properties, for example, a method of applying a surfactant to the surface of a resin film, and a method of kneading a surfactant into a resin constituting the resin film or the antistatic film are known (for example, Non-Patent Document 1).

また、樹脂フィルム、光学フィルタおよび光情報記録媒体においては、積み重ねた際に互いに接着するブロッキングと呼ばれる現象が抑えられていること（すなわち、耐ブロッキング性が高いこと）が求められる。
一般に、耐ブロッキング性を高くするためには、表面にシリコーンの膜を形成して表面潤滑性を高める方法が知られている。 In addition, resin films, optical filters, and optical information recording media are required to suppress a phenomenon called blocking that adheres to each other when stacked (that is, high blocking resistance).
In general, in order to increase the blocking resistance, a method is known in which surface lubricity is enhanced by forming a silicone film on the surface.

帯電防止性及び表面潤滑性が高いものを得る方法として、特許文献１には、放射線硬化型の変性ポリシロキサン化合物と帯電防止用の反応性界面活性剤を含む組成物を光ディスクのハードコーティング膜の表面に塗布し、放射線の照射により前記ポリシロキサンを重合して、帯電防止性のシリコーンの膜を形成する方法が記載されている。
また、特許文献２には、スチレン系フィルム基材の両面に外部滑剤と帯電防止剤とを付着させ、外部滑剤としてポリエーテル変性シリコーンを用いることが記載されている。
特開平５−１３２５５７号公報国際公開第０１／０４０３６０号パンフレットシーエムシー発行「ファインケミカル帯電防止剤最近の市場動向（上）」、第１６巻、第１５号、１９８７年、ｐ．２４−３６ As a method for obtaining a material having high antistatic property and surface lubricity, Patent Document 1 discloses a composition containing a radiation-curable modified polysiloxane compound and an antistatic reactive surfactant as a hard coating film for an optical disk. A method is described in which an antistatic silicone film is formed by applying to the surface and polymerizing the polysiloxane by irradiation of radiation.
Patent Document 2 describes that an external lubricant and an antistatic agent are attached to both surfaces of a styrene-based film substrate, and polyether-modified silicone is used as the external lubricant.
JP-A-5-132557 International Publication No. 01/040360 Pamphlet Issued by CMC, “Fine Chemical Antistatic Agents Recent Market Trends (Part 1)”, Vol. 16, No. 15, 1987, p. 24-36

しかしながら、界面活性剤による帯電防止性は、イオン伝導による導電機構に基づいて発揮される。イオン伝導による導電機構は湿度の影響を非常に受けやすく、湿度が高いと導電性が高くなるが、湿度が低いと導電性が低下するといった欠点があった。したがって、湿度が低く、特に静電気が発生しやすい環境下では帯電防止性が低下して、必要なときに帯電防止性を発揮しないものとなっていた。 However, the antistatic property by the surfactant is exhibited based on a conductive mechanism by ionic conduction. The conduction mechanism based on ionic conduction is very susceptible to humidity, and the conductivity increases when the humidity is high, but the conductivity decreases when the humidity is low. Therefore, the antistatic property is lowered in an environment where the humidity is low and static electricity is likely to be generated, and the antistatic property is not exhibited when necessary.

これに対し、電子伝導による導電機構は湿度の影響を受けない。電子伝導による導電機構は、例えば、金属、カーボン、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を含む層にて発揮される。しかし、金属またはカーボンを含む層を用いた場合には、透明性が全くなく、ＩＴＯを含む層を用いた場合には、その製膜にスパッタリング等を適用しなければならず、工程が煩雑になるばかりか製造コストが高くなった。また、ＩＴＯ等の無機質の金属酸化物の層は可撓性が小さく、薄い基材上に製膜した場合には、ＩＴＯの層が割れやすく、導電性を示さなくなることがあった。その上、樹脂製の基材との密着性が低いためにそれらの界面で剥離を生じて、透明性が低下するおそれがあった。 On the other hand, the conduction mechanism by electronic conduction is not affected by humidity. The conductive mechanism by electron conduction is exhibited in a layer containing metal, carbon, indium tin oxide (ITO), for example. However, when a layer containing metal or carbon is used, there is no transparency at all. When a layer containing ITO is used, sputtering or the like must be applied to the film formation, and the process is complicated. As a result, the manufacturing cost has increased. In addition, an inorganic metal oxide layer such as ITO has low flexibility, and when it is formed on a thin base material, the ITO layer is easily broken and may not exhibit conductivity. In addition, since the adhesiveness to the resin base material is low, peeling may occur at the interface between them and the transparency may be lowered.

本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、樹脂製の基材との密着性、透明性のいずれもが優れた帯電防止膜を形成できる帯電防止塗料を提供することを目的とする。また、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、樹脂製の基材との密着性、透明性のいずれもが優れた帯電防止膜を提供することを目的とする。さらには、そのような帯電防止膜を備えた帯電防止フィルム、光学フィルタ、光情報記録媒体を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, has no antistatic humidity dependency, and has high surface lubricity, flexibility, adhesion to a resin substrate, and transparency. It is an object of the present invention to provide an antistatic paint capable of forming an excellent antistatic film. In addition, an antistatic film having high anti-static properties, high surface lubricity, flexibility, adhesion to a resin base material, and excellent transparency is provided. With the goal. Furthermore, it aims at providing the antistatic film provided with such an antistatic film, an optical filter, and an optical information recording medium.

本発明は、以下の構成を含む。
［１］ π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、ポリエーテル変性された非反応性水溶性シリコーンと、溶媒とを含有することを特徴とする帯電防止塗料。
［２］前記非反応性水溶性シリコーンのＨＬＢ値が７〜１６であることを特徴とする［１］に記載の帯電防止塗料。
［３］バインダ樹脂を含有することを特徴とする［１］または［２］に記載の帯電防止塗料。
［４］［１］〜［３］のいずれかに記載の帯電防止塗料が塗布されて形成されたことを特徴とする帯電防止膜。
［５］フィルム基材と、該フィルム基材の少なくとも片面に形成された［４］に記載の帯電防止膜とを有することを特徴とする帯電防止フィルム。
［６］［４］に記載の帯電防止膜を備えることを特徴とする光学フィルタ。
［７］［４］に記載の帯電防止膜を備えることを特徴とする光情報記録媒体。 The present invention includes the following configurations.
[1] An antistatic paint comprising a π-conjugated conductive polymer, a polyanion, a polyether-modified non-reactive water-soluble silicone, and a solvent.
[2] The antistatic paint according to [1], wherein the non-reactive water-soluble silicone has an HLB value of 7 to 16.
[3] The antistatic paint according to [1] or [2], which contains a binder resin.
[4] An antistatic film formed by applying the antistatic paint according to any one of [1] to [3].
[5] An antistatic film comprising a film base and the antistatic film according to [4] formed on at least one surface of the film base.
[6] An optical filter comprising the antistatic film according to [4].
[7] An optical information recording medium comprising the antistatic film according to [4].

本発明の帯電防止塗料は、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、樹脂製の基材との密着性、透明性のいずれもが優れた帯電防止膜を形成できる。
本発明の帯電防止膜は、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、樹脂製の基材との密着性、透明性のいずれもが優れる。
本発明の帯電防止フィルムは、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、樹脂製の基材との密着性のいずれもが優れる。
本発明の光学フィルタは、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも透明性が優れる。
本発明の光情報記録媒体は、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高い。 The antistatic coating of the present invention has no antistatic humidity dependency, has high surface lubricity, and has excellent flexibility, adhesion to a resin base material, and excellent transparency. A prevention film can be formed.
The antistatic film of the present invention does not depend on humidity for antistatic properties, has high surface lubricity, and is excellent in flexibility, adhesion to a resin substrate, and transparency.
The antistatic film of the present invention does not have humidity dependency of antistatic properties, has high surface lubricity, and is excellent in both flexibility and adhesion to a resin substrate.
The optical filter of the present invention does not have humidity dependency of antistatic properties, has high surface lubricity, and is excellent in transparency.
The optical information recording medium of the present invention does not have humidity dependency of antistatic properties and has high surface lubricity.

（帯電防止塗料）
本発明の帯電防止塗料は、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、ポリエーテル変性された非反応性水溶性シリコーンと、溶媒とを含有する。 (Antistatic paint)
The antistatic coating material of the present invention contains a π-conjugated conductive polymer, a polyanion, a polyether-modified non-reactive water-soluble silicone, and a solvent.

［π共役系導電性高分子］
π共役系導電性高分子は、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば使用できる。例えば、ポリピロール類、ポリチオフェン類、ポリアセチレン類、ポリフェニレン類、ポリフェニレンビニレン類、ポリアニリン類、ポリアセン類、ポリチオフェンビニレン類、及びこれらの共重合体等が挙げられる。重合の容易さ、空気中での安定性の点からは、ポリピロール類、ポリチオフェン類及びポリアニリン類が好ましい。
π共役系導電性高分子は無置換のままでも、充分な導電性を得ることができるが、導電性をより高めるためには、アルキル基、カルボキシル基、スルホ基、アルコキシル基、ヒドロキシル基、シアノ基等の官能基をπ共役系導電性高分子に導入することが好ましい。 [Π-conjugated conductive polymer]
The π-conjugated conductive polymer can be used as long as the main chain is an organic polymer having a π-conjugated system. Examples thereof include polypyrroles, polythiophenes, polyacetylenes, polyphenylenes, polyphenylene vinylenes, polyanilines, polyacenes, polythiophene vinylenes, and copolymers thereof. From the viewpoint of easy polymerization and stability in air, polypyrroles, polythiophenes and polyanilines are preferred.
Even if the π-conjugated conductive polymer remains unsubstituted, sufficient conductivity can be obtained. However, in order to further increase the conductivity, an alkyl group, a carboxyl group, a sulfo group, an alkoxyl group, a hydroxyl group, a cyano group It is preferable to introduce a functional group such as a group into the π-conjugated conductive polymer.

このようなπ共役系導電性高分子の具体例としては、ポリピロール、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルピロール）、ポリ（３−オクチルピロール）、ポリ（３−デシルピロール）、ポリ（３−ドデシルピロール）、ポリ（３，４−ジメチルピロール）、ポリ（３，４−ジブチルピロール）、ポリ（３−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルピロール）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルピロール）、ポリ（３−ヒドロキシピロール）、ポリ（３−メトキシピロール）、ポリチオフェン、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルチオフェン）、ポリ（３−オクチルチオフェン）、ポリ（３−デシルチオフェン）、ポリ（３−ドデシルチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルチオフェン）、ポリ（３−ブロモチオフェン）、ポリ（３，４−ジメチルチオフェン）、ポリ（３，４−ジブチルチオフェン）、ポリ（３−ヒドロキシチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３−エトキシチオフェン）、ポリ（３−ブトキシチオフェン）、ポリ（３−ヘキシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ヘプチルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクチルオキシチオフェン）、ポリ（３−デシルオキシチオフェン）、ポリ（３−ドデシルオキシチオフェン）、ポリ（３−オクタデシルオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジヒドロキシチオフェン）、ポリ（３，４−ジメトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−ブテンジオキシチオフェン）、ポリ（３−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシエチルチオフェン）、ポリ（３−メチル−４−カルボキシブチルチオフェン）、ポリアニリン、ポリ（２−メチルアニリン）、ポリ（３−イソブチルアニリン）、ポリ（２−アニリンスルホン酸）、ポリ（３−アニリンスルホン酸）等が挙げられる。 Specific examples of such π-conjugated conductive polymers include polypyrrole, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylpyrrole), poly (3-octylpyrrole), poly (3-decylpyrrole), Poly (3-dodecylpyrrole), poly (3,4-dimethylpyrrole), poly (3,4-dibutylpyrrole), poly (3-carboxypyrrole), poly (3-methyl-4-carboxypyrrole), poly ( 3-methyl-4-carboxyethylpyrrole), poly (3-methyl-4-carboxybutylpyrrole), poly (3-hydroxypyrrole), poly (3-methoxypyrrole), polythiophene, poly (3-methylthiophene), Poly (3-hexylthiophene), poly (3-heptylthiophene), poly (3-octylthiophene), poly (3-de Ruthiophene), poly (3-dodecylthiophene), poly (3-octadecylthiophene), poly (3-bromothiophene), poly (3,4-dimethylthiophene), poly (3,4-dibutylthiophene), poly ( 3-hydroxythiophene), poly (3-methoxythiophene), poly (3-ethoxythiophene), poly (3-butoxythiophene), poly (3-hexyloxythiophene), poly (3-heptyloxythiophene), poly ( 3-octyloxythiophene), poly (3-decyloxythiophene), poly (3-dodecyloxythiophene), poly (3-octadecyloxythiophene), poly (3,4-dihydroxythiophene), poly (3,4 Dimethoxythiophene), poly (3,4-ethylenedioxythiophene) , Poly (3,4-propylenedioxythiophene), poly (3,4-butenedioxythiophene), poly (3-carboxythiophene), poly (3-methyl-4-carboxythiophene), poly (3-methyl -4-carboxyethylthiophene), poly (3-methyl-4-carboxybutylthiophene), polyaniline, poly (2-methylaniline), poly (3-isobutylaniline), poly (2-anilinesulfonic acid), poly ( 3-anilinesulfonic acid) and the like.

中でも、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリ（Ｎ−メチルピロール）、ポリ（３−メチルチオフェン）、ポリ（３−メトキシチオフェン）、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）から選ばれる１種又は２種からなる（共）重合体が抵抗値、反応性の点から好適に用いられる。さらには、ポリピロール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）は、導電性がより高くなる上に耐熱性が向上する点から、より好ましい。 Among them, from one or two kinds selected from polypyrrole, polythiophene, poly (N-methylpyrrole), poly (3-methylthiophene), poly (3-methoxythiophene), and poly (3,4-ethylenedioxythiophene). The (co) polymer is preferably used from the viewpoints of resistance and reactivity. Furthermore, polypyrrole and poly (3,4-ethylenedioxythiophene) are more preferable from the viewpoint of higher conductivity and improved heat resistance.

［ポリアニオン］
ポリアニオンは、置換又は未置換のポリアルキレン、置換又は未置換のポリアルケニレン、置換又は未置換のポリイミド、置換又は未置換のポリアミド、置換又は未置換のポリエステルから選ばれた単独重合体又は共重合体であって、アニオン基を有する構成単位を有するものである。また、必要に応じて、アニオン基を有さない構成単位を有してもよい。
なお、ポリアニオンは、π共役系導電性高分子を溶媒に可溶化させるだけでなく、π共役系導電性高分子のドーパントとしても機能する。 [Polyanion]
The polyanion is a homopolymer or copolymer selected from substituted or unsubstituted polyalkylene, substituted or unsubstituted polyalkenylene, substituted or unsubstituted polyimide, substituted or unsubstituted polyamide, substituted or unsubstituted polyester And having a structural unit having an anionic group. Moreover, you may have a structural unit which does not have an anion group as needed.
The polyanion not only solubilizes the π-conjugated conductive polymer in a solvent, but also functions as a dopant for the π-conjugated conductive polymer.

ここで、ポリアルキレンとは、主鎖がメチレンの繰り返しで構成されているポリマーである。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン、ポリヘキセン、ポリビニルアルコール、ポリビニルフェノール、ポリ（３，３，３−トリフルオロプロピレン）、ポリアクリロニトリル、ポリアクリレート、ポリスチレン等が挙げられる。 Here, polyalkylene is a polymer whose main chain is composed of repeating methylene. For example, polyethylene, polypropylene, polybutene, polypentene, polyhexene, polyvinyl alcohol, polyvinylphenol, poly (3,3,3-trifluoropropylene), polyacrylonitrile, polyacrylate, polystyrene and the like can be mentioned.

ポリアルケニレンとは、主鎖に不飽和結合（ビニル基）が１個以上含まれる構成単位からなるポリマーである。これらの中でも、不飽和結合とπ共役系導電性高分子との相互作用があること、置換又は未置換のブタジエンを出発物質として合成しやすいことから、置換又は未置換のブテニレンが好ましい。
ポリアルケニレンの具体例としては、プロペニレン、１−メチルプロペニレン、１−ブチルプロペニレン、１−デシルプロペニレン、１−シアノプロペニレン、１−フェニルプロペニレン、１−ヒドロキシプロペニレン、１−ブテニレン、１−メチル−１−ブテニレン、１−エチル−１−ブテニレン、１−オクチル−１−ブテニレン、１−ペンタデシル−１−ブテニレン、２−メチル−１−ブテニレン、２−エチル−１−ブテニレン、２−ブチル−１−ブテニレン、２−ヘキシル−１−ブテニレン、２−オクチル−１−ブテニレン、２−デシル−１−ブテニレン、２−ドデシル−１−ブテニレン、２−フェニル−１−ブテニレン、２−ブテニレン、１−メチル−２−ブテニレン、１−エチル−２−ブテニレン、１−オクチル−２−ブテニレン、１−ペンタデシル−２−ブテニレン、２−メチル−２−ブテニレン、２−エチル−２−ブテニレン、２−ブチル−２−ブテニレン、２−ヘキシル−２−ブテニレン、２−オクチル−２−ブテニレン、２−デシル−２−ブテニレン、２−ドデシル−２−ブテニレン、２−フェニル−２−ブテニレン、２−プロピレンフェニル−２−ブテニレン、３−メチル−２−ブテニレン、３−エチル−２−ブテニレン、３−ブチル−２−ブテニレン、３−ヘキシル−２−ブテニレン、３−オクチル−２−ブテニレン、３−デシル−２−ブテニレン、３−ドデシル−２−ブテニレン、３−フェニル−２−ブテニレン、３−プロピレンフェニル−２−ブテニレン、２−ペンテニレン、４−プロピル−２−ペンテニレン、４−ブチル−２−ペンテニレン、４−ヘキシル−２−ペンテニレン、４−シアノ−２−ペンテニレン、３−メチル−２−ペンテニレン、４−エチル−２−ペンテニレン、３−フェニル−２−ペンテニレン、４−ヒドロキシ−２−ペンテニレン、ヘキセニレン等から選ばれる一種以上の構成単位を含む重合体が挙げられる。 Polyalkenylene is a polymer composed of structural units containing one or more unsaturated bonds (vinyl groups) in the main chain. Among these, substituted or unsubstituted butenylene is preferable because of the interaction between the unsaturated bond and the π-conjugated conductive polymer and the ease of synthesis using substituted or unsubstituted butadiene as a starting material.
Specific examples of polyalkenylene include propenylene, 1-methylpropenylene, 1-butylpropenylene, 1-decylpropenylene, 1-cyanopropenylene, 1-phenylpropenylene, 1-hydroxypropenylene, 1-butenylene, 1-methyl-1-butenylene, 1-ethyl-1-butenylene, 1-octyl-1-butenylene, 1-pentadecyl-1-butenylene, 2-methyl-1-butenylene, 2-ethyl-1-butenylene, 2- Butyl-1-butenylene, 2-hexyl-1-butenylene, 2-octyl-1-butenylene, 2-decyl-1-butenylene, 2-dodecyl-1-butenylene, 2-phenyl-1-butenylene, 2-butenylene, 1-methyl-2-butenylene, 1-ethyl-2-butenylene, 1-octyl-2-butenylene 1-pentadecyl-2-butenylene, 2-methyl-2-butenylene, 2-ethyl-2-butenylene, 2-butyl-2-butenylene, 2-hexyl-2-butenylene, 2-octyl-2-butenylene, 2- Decyl-2-butenylene, 2-dodecyl-2-butenylene, 2-phenyl-2-butenylene, 2-propylenephenyl-2-butenylene, 3-methyl-2-butenylene, 3-ethyl-2-butenylene, 3-butyl 2-butenylene, 3-hexyl-2-butenylene, 3-octyl-2-butenylene, 3-decyl-2-butenylene, 3-dodecyl-2-butenylene, 3-phenyl-2-butenylene, 3-propylenephenyl- 2-butenylene, 2-pentenylene, 4-propyl-2-pentenylene, 4-butyl-2-pentenylene, 4-he Selected from sil-2-pentenylene, 4-cyano-2-pentenylene, 3-methyl-2-pentenylene, 4-ethyl-2-pentenylene, 3-phenyl-2-pentenylene, 4-hydroxy-2-pentenylene, hexenylene, etc. And polymers containing one or more structural units.

ポリイミドとしては、ピロメリット酸二無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−テトラカルボキシジフェニルエーテル二無水物、２，２’−［４，４’−ジ（ジカルボキシフェニルオキシ）フェニル］プロパン二無水物等の無水物とオキシジアミン、パラフェニレンジアミン、メタフェニレンジアミン、ベンゾフェノンジアミン等のジアミンとからのポリイミドが挙げられる。
ポリアミドとしては、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０等が挙げられる。
ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。 As polyimide, pyromellitic dianhydride, biphenyltetracarboxylic dianhydride, benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-tetracarboxydiphenyl ether dianhydride, 2,2 ′-[ Examples include polyimides from anhydrides such as 4,4′-di (dicarboxyphenyloxy) phenyl] propane dianhydride and diamines such as oxydiamine, paraphenylenediamine, metaphenylenediamine, and benzophenonediamine.
Examples of the polyamide include polyamide 6, polyamide 6,6, polyamide 6,10 and the like.
Examples of the polyester include polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate.

ポリアニオンが他の置換基を有する場合、その置換基としては、アルキル基、ヒドロキシル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、フェノール基、エステル基、アルコキシル基、カルボニル基等が挙げられる。溶媒への溶解性、耐熱性及び樹脂への相溶性等を考慮すると、アルキル基、ヒドロキシル基、フェノール基、エステル基が好ましい。
アルキル基は、極性溶媒又は非極性溶媒への溶解性及び分散性、樹脂への相溶性及び分散性等を高くすることができ、ヒドロキシル基は、他の水素原子等との水素結合を形成しやすくでき、有機溶剤への溶解性、樹脂への相溶性、分散性、接着性を高くすることができる。また、シアノ基及びヒドロキシフェニル基は、極性樹脂への相溶性、溶解性を高くすることができ、しかも、耐熱性も高くすることができる。
上記置換基の中では、アルキル基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基が好ましい。 When the polyanion has another substituent, examples of the substituent include an alkyl group, a hydroxyl group, an amino group, a cyano group, a phenyl group, a phenol group, an ester group, an alkoxyl group, and a carbonyl group. In view of solubility in a solvent, heat resistance, compatibility with a resin, and the like, an alkyl group, a hydroxyl group, a phenol group, and an ester group are preferable.
Alkyl groups can increase solubility and dispersibility in polar or nonpolar solvents, compatibility and dispersibility in resins, etc., and hydroxyl groups form hydrogen bonds with other hydrogen atoms and the like. It can be made easy, and the solubility in an organic solvent, the compatibility with a resin, the dispersibility, and the adhesiveness can be increased. In addition, the cyano group and the hydroxyphenyl group can increase the compatibility and solubility in the polar resin, and can also increase the heat resistance.
Among the above substituents, an alkyl group, a hydroxyl group, an ester group, and a cyano group are preferable.

前記アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル等の鎖状アルキル基、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル等のシクロアルキル基が挙げられる。有機溶剤への溶解性、樹脂への分散性、立体障害等を考慮すると、炭素数１〜１２のアルキル基がより好ましい。
前記ヒドロキシル基としては、ポリアニオンの主鎖に直接結合したヒドロキシル基又は他の官能基を介在して結合したヒドロキシル基が挙げられる。他の官能基としては、炭素数１〜７のアルキル基、炭素数２〜７のアルケニル基、アミド基、イミド基等が挙げられる。ヒドロキシル基はこれらの官能基の末端又は中に置換されている。これらの中では樹脂への相溶及び有機溶剤への溶解性から、主鎖に結合した炭素数１〜６のアルキル基の末端に結合したヒドロキシル基がより好ましい。
前記エステル基としては、ポリアニオンの主鎖に直接結合したアルキル系エステル基、芳香族系エステル基、他の官能基を介在してなるアルキル系エステル基又は芳香族系エステル基が挙げられる。
前記シアノ基としては、ポリアニオンの主鎖に直接結合したシアノ基、ポリアニオンの主鎖に結合した炭素数１〜７のアルキル基の末端に結合したシアノ基、ポリアニオンの主鎖に結合した炭素数２〜７のアルケニル基の末端に結合したシアノ基等を挙げることができる。 Examples of the alkyl group include chain alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, butyl, isobutyl, t-butyl, pentyl, hexyl, octyl, decyl, and dodecyl, and cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclopentyl, and cyclohexyl. . In consideration of solubility in an organic solvent, dispersibility in a resin, steric hindrance, and the like, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms is more preferable.
Examples of the hydroxyl group include a hydroxyl group directly bonded to the main chain of the polyanion or a hydroxyl group bonded via another functional group. Examples of other functional groups include an alkyl group having 1 to 7 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms, an amide group, and an imide group. Hydroxyl groups are substituted at the ends or in these functional groups. In these, the hydroxyl group couple | bonded with the terminal of the C1-C6 alkyl group couple | bonded with the principal chain is more preferable from the compatibility to resin and the solubility to an organic solvent.
Examples of the ester group include an alkyl ester group directly bonded to the main chain of the polyanion, an aromatic ester group, and an alkyl ester group or an aromatic ester group having another functional group interposed therebetween.
Examples of the cyano group include a cyano group directly bonded to the main chain of the polyanion, a cyano group bonded to the terminal of the alkyl group having 1 to 7 carbon atoms bonded to the main chain of the polyanion, and 2 carbon atoms bonded to the main chain of the polyanion. And a cyano group bonded to the terminal of the alkenyl group of ˜7.

ポリアニオンのアニオン基としては、π共役系導電性高分子への化学酸化ドープが起こりうる官能基であればよいが、中でも、製造の容易さ及び安定性の観点からは、一置換硫酸エステル基、一置換リン酸エステル基、リン酸基、カルボキシル基、スルホ基等が好ましい。さらに、官能基のπ共役系導電性高分子へのドープ効果の観点より、スルホ基、一置換硫酸エステル基、カルボキシル基がより好ましい。 The anion group of the polyanion may be a functional group capable of undergoing chemical oxidation doping to the π-conjugated conductive polymer. Among them, from the viewpoint of ease of production and stability, a monosubstituted sulfate group, A monosubstituted phosphate group, a phosphate group, a carboxyl group, a sulfo group and the like are preferable. Furthermore, from the viewpoint of the doping effect of the functional group on the π-conjugated conductive polymer, a sulfo group, a monosubstituted sulfate group, and a carboxyl group are more preferable.

ポリアニオンの具体例としては、ポリビニルスルホン酸、ポリスチレンスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸）、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリルカルボン酸、ポリメタクリルカルボン酸、ポリ（２−アクリルアミド−２−メチルプロパンカルボン酸）、ポリイソプレンカルボン酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらの単独重合体であってもよいし、２種以上の共重合体であってもよい。
これらのうち、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリアクリル酸ブチルスルホン酸が好ましい。これらのポリアニオンが帯電防止塗料に含まれていれば、得られる帯電防止膜の帯電防止性を向上させることができ、また、π共役系導電性高分子の熱分解を緩和することができる。 Specific examples of polyanions include polyvinyl sulfonic acid, polystyrene sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, polyacrylic acid butyl sulfonic acid, poly (2-acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid), polyisoprene. Sulfonic acid, polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacryl carboxylic acid, polymethacryl carboxylic acid, poly (2-acrylamido-2-methylpropane carboxylic acid), polyisoprene carboxylic acid, polyacrylic acid, etc. Can be mentioned. These homopolymers may be sufficient and 2 or more types of copolymers may be sufficient.
Among these, polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyacrylic acid ethyl sulfonic acid, and polyacrylic acid butyl sulfonic acid are preferable. If these polyanions are contained in the antistatic coating, the antistatic property of the resulting antistatic film can be improved, and the thermal decomposition of the π-conjugated conductive polymer can be alleviated.

ポリアニオンの重合度は、モノマー単位が１０〜１００，０００個の範囲であることが好ましく、溶媒溶解性及び導電性の点からは、５０〜１０，０００個の範囲がより好ましい。 The degree of polymerization of the polyanion is preferably in the range of 10 to 100,000 monomer units, and more preferably in the range of 50 to 10,000 from the viewpoint of solvent solubility and conductivity.

帯電防止塗料中のポリアニオンの含有量は、π共役系導電性高分子１モルに対して０．１〜１０モルの範囲であることが好ましく、１〜７モルの範囲であることがより好ましい。ポリアニオンの含有量が０．１モルより少なくなると、π共役系導電性高分子へのドーピング効果が弱くなる傾向にあり、導電性が不足することがある。その上、溶媒への分散性及び溶解性が低くなり、均一な分散液を得ることが困難になる。また、ポリアニオンの含有量が１０モルより多くなると、帯電防止塗料中のπ共役系導電性高分子の含有量が少なくなり、やはり充分な導電性が得られにくい。 The content of the polyanion in the antistatic coating is preferably in the range of 0.1 to 10 mol, and more preferably in the range of 1 to 7 mol, with respect to 1 mol of the π-conjugated conductive polymer. When the polyanion content is less than 0.1 mol, the doping effect on the π-conjugated conductive polymer tends to be weak, and the conductivity may be insufficient. In addition, the dispersibility and solubility in the solvent are reduced, making it difficult to obtain a uniform dispersion. On the other hand, when the polyanion content is more than 10 mol, the content of the π-conjugated conductive polymer in the antistatic coating decreases, and it is difficult to obtain sufficient conductivity.

［非反応性水溶性シリコーン］
非反応性水溶性シリコーンは、ポリエーテル変性された非反応性水溶性シリコーンである。この非反応性水溶性シリコーンの分子構造としては、直鎖状、環状のいずれであってもよい。非反応性水溶性シリコーンが直鎖状である場合には、ポリエーテルの変性部位はシリコーンの側鎖であってもよいし、シリコーンの末端であってもよい。 [Non-reactive water-soluble silicone]
Non-reactive water-soluble silicone is a polyether-modified non-reactive water-soluble silicone. The molecular structure of this non-reactive water-soluble silicone may be either linear or cyclic. When the non-reactive water-soluble silicone is linear, the modification site of the polyether may be a side chain of silicone or a terminal of silicone.

非反応性水溶性シリコーンのＨＬＢ値は、π共役系導電性高分子およびポリアニオンとの相溶性が高くなることから、７〜１６であることが好ましい。ここで、ＨＬＢ値とは、界面活性剤の親水性または親油性の程度を表す値である。具体的には、エチレンオキシド付加型非イオン系界面活性剤について、親油基に付加された親水基が無限に長く、親水性が最も大きい仮想的化合物のＨＬＢ値を２０と定め、親水基を全く有さない親油性化合物のＨＬＢ値を０と定めた際の親水性または親油性の程度を表す値である。
非反応性水溶性シリコーンのＨＬＢ値は、｛（ポリエーテル部位の質量）／（非反応性水溶性シリコーンの質量）｝×（１００／５）の式により求められる。 The HLB value of the non-reactive water-soluble silicone is preferably 7 to 16 because the compatibility with the π-conjugated conductive polymer and the polyanion is increased. Here, the HLB value is a value representing the degree of hydrophilicity or lipophilicity of the surfactant. Specifically, for an ethylene oxide addition-type nonionic surfactant, the HLB value of a hypothetical compound having an infinitely long hydrophilic group added to a lipophilic group and having the greatest hydrophilicity is set to 20, It is a value representing the degree of hydrophilicity or lipophilicity when the HLB value of a lipophilic compound that does not have is defined as 0.
The HLB value of the non-reactive water-soluble silicone is determined by the formula {(mass of polyether moiety) / (mass of non-reactive water-soluble silicone)} × (100/5).

非反応性水溶性シリコーンの具体例としては、例えば、信越化学工業社製非反応性シリコーンオイルＫＦ−３５１、ＫＦ−３５２、ＫＦ−３５４Ｌ、ＫＦ−３５５Ａ、ＫＦ−６１８、ＫＦ−６０１１、Ｘ−２２−４２７２などが挙げられる。これらの中でも、帯電防止塗料の保存安定性および溶解性に優れることから、ＫＦ−３５５Ａが好ましい。 Specific examples of the non-reactive water-soluble silicone include, for example, non-reactive silicone oils KF-351, KF-352, KF-354L, KF-355A, KF-618, KF-6011, X-manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 22-4272 and the like. Among these, KF-355A is preferable because of excellent storage stability and solubility of the antistatic coating.

帯電防止塗料中の非反応性水溶性シリコーンの含有量は０．０１〜５．０質量％であることが好ましい。非反応性水溶性シリコーンの含有量が０．０１質量％未満であると、得られる表面潤滑性が充分に発揮されないことがあり、５質量％を超えると、耐ブロッキング性が低下することがある。 The content of the non-reactive water-soluble silicone in the antistatic coating is preferably 0.01 to 5.0% by mass. If the content of the non-reactive water-soluble silicone is less than 0.01% by mass, the resulting surface lubricity may not be sufficiently exhibited, and if it exceeds 5% by mass, the blocking resistance may be reduced. .

本発明の帯電防止塗料を構成する非反応性水溶性シリコーンがポリエーテル変性されたものであることにより、水溶性、水分散性、乳化性を高くでき、特に、水系の帯電防止塗料に対して高い溶解性を示す。
また、該シリコーンが非反応性であることにより、帯電防止塗料に含まれる他成分との副反応が抑制されるため、帯電防止塗料の保存性低下を防止できる。 Since the non-reactive water-soluble silicone constituting the antistatic coating of the present invention is a polyether-modified one, water solubility, water dispersibility, and emulsification can be increased, especially for aqueous antistatic coatings. High solubility.
Further, since the silicone is non-reactive, side reactions with other components contained in the antistatic paint are suppressed, so that the storage stability of the antistatic paint can be prevented from being lowered.

［溶媒］
溶媒としては、水及び／又は有機溶媒が挙げられる。
有機溶媒としては、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチレンホスホルトリアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド等の極性溶媒、クレゾール、フェノール、キシレノール等のフェノール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブチレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、Ｄ−グルコース、Ｄ−グルシトール、イソプレングリコール、ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール等の多価脂肪族アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素類、ギ酸、酢酸等のカルボン酸、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート化合物、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル化合物、ジアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ポリエチレングリコールジアルキルエーテル、ポリプロピレングリコールジアルキルエーテル等の鎖状エーテル類、３−メチル−２−オキサゾリジノン等の複素環化合物、アセトニトリル、グルタロジニトリル、メトキシアセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル化合物等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよいし、２種類以上の混合物としてもよい。 [solvent]
Examples of the solvent include water and / or an organic solvent.
Examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, hexamethylene phosphortriamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N- Polar solvents such as vinylacetamide, phenols such as cresol, phenol, xylenol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, 1,3-butylene glycol, 1,4-butylene glycol, glycerin, di Glycerin, D-glucose, D-glucitol, isoprene glycol, butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 1,9-nonanediol, neopentylglyco Polyhydric aliphatic alcohols such as ruthenium, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, hydrocarbons such as hexane, benzene and toluene, carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, carbonate compounds such as ethylene carbonate and propylene carbonate, dioxane and diethyl Ether compounds such as ether, chain ethers such as dialkyl ether, propylene glycol dialkyl ether, polyethylene glycol dialkyl ether, polypropylene glycol dialkyl ether, heterocyclic compounds such as 3-methyl-2-oxazolidinone, acetonitrile, glutarodinitrile, methoxy Examples thereof include nitrile compounds such as acetonitrile, propionitrile, and benzonitrile. These solvents may be used alone or as a mixture of two or more.

［ドーパント］
本発明の帯電防止塗料においては、得られる帯電防止膜の帯電防止性をより向上させるために、ポリアニオン以外の他のドーパントが含まれてもよい。
他のドーパントとしては、ハロゲン化合物、ルイス酸、プロトン酸などが用いられ、具体的には、有機カルボン酸、有機スルホン酸等の有機酸、有機シアノ化合物、フラーレン、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、カルボン酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレンなどが挙げられる。 [Dopant]
In the antistatic coating material of this invention, in order to improve the antistatic property of the antistatic film obtained more, other dopants other than a polyanion may be contained.
Examples of other dopants include halogen compounds, Lewis acids, proton acids, and the like. Specifically, organic acids such as organic carboxylic acids and organic sulfonic acids, organic cyano compounds, fullerenes, hydrogenated fullerenes, fullerene hydroxides, Examples thereof include carboxylic acid fullerene and sulfonic acid fullerene.

有機酸としては、アルキルベンゼンスルホン酸、アルキルナフタレンスルホン酸、アルキルナフタレンジスルホン酸、ナフタレンスルホン酸ホルマリン重縮合物、メラミンスルホン酸ホルマリン重縮合物、ナフタレンジスルホン酸、ナフタレントリスルホン酸、ジナフチルメタンジスルホン酸、アントラキノンスルホン酸、アントラキノンジスルホン酸、アントラセンスルホン酸、ピレンスルホン酸等の有機スルホン酸化合物、酢酸、シュウ酸、安息香酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、マロン酸等の有機カルボン酸化合物などが挙げられる。また、これらの金属塩も使用できる。
有機シアノ化合物としては、共役結合に二つ以上のシアノ基を有する化合物が使用できる。例えば、テトラシアノエチレン、テトラシアノエチレンオキサイド、テトラシアノベンゼン、ジクロロジシアノベンゾキノン（ＤＤＱ）、テトラシアノキノジメタン、テトラシアノアザナフタレン等が挙げられる。 Examples of organic acids include alkylbenzene sulfonic acid, alkyl naphthalene sulfonic acid, alkyl naphthalene disulfonic acid, naphthalene sulfonic acid formalin polycondensate, melamine sulfonic acid formalin polycondensate, naphthalene disulfonic acid, naphthalene trisulfonic acid, dinaphthylmethane disulfonic acid, Examples include organic sulfonic acid compounds such as anthraquinone sulfonic acid, anthraquinone disulfonic acid, anthracene sulfonic acid, and pyrene sulfonic acid, and organic carboxylic acid compounds such as acetic acid, oxalic acid, benzoic acid, phthalic acid, maleic acid, fumaric acid, and malonic acid. It is done. These metal salts can also be used.
As the organic cyano compound, a compound having two or more cyano groups in a conjugated bond can be used. Examples include tetracyanoethylene, tetracyanoethylene oxide, tetracyanobenzene, dichlorodicyanobenzoquinone (DDQ), tetracyanoquinodimethane, and tetracyanoazanaphthalene.

［バインダ樹脂］
また、帯電防止塗料は、得られる帯電防止膜の耐傷性や表面硬度が高くなり、樹脂製の基材との密着性がより高くなることから、バインダ樹脂を含むことが好ましい。帯電防止塗料がバインダ樹脂を含めば、帯電防止塗料から形成された帯電防止膜の鉛筆硬度（ＪＩＳＫ５６００−５−４）をＨＢ以上にしやすい。
バインダ樹脂としては、帯電防止塗料と相溶又は混合分散可能であれば熱硬化性樹脂であってもよいし、熱可塑性樹脂であってもよい。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリイミド、ポリアミドイミド等のポリイミド；ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド１２、ポリアミド１１等のポリアミド；ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂；ポリビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル等のビニル樹脂；エポキシ樹脂；キシレン樹脂；アラミド樹脂；ポリイミドシリコーン；ポリウレタン；ポリウレア；メラミン樹脂；フェノール樹脂；ポリエーテル；アクリル樹脂及びこれらの共重合体等が挙げられる。
これらバインダ樹脂は、有機溶剤に溶解されていてもよいし、スルホ基やカルボキシル基などの官能基が付与されて水溶液化されていてもよいし、乳化など水に分散されていてもよい。 [Binder resin]
In addition, the antistatic paint preferably contains a binder resin because the antistatic film obtained has high scratch resistance and surface hardness and higher adhesion to a resin substrate. If the antistatic paint contains a binder resin, the pencil hardness (JIS K 5600-5-4) of the antistatic film formed from the antistatic paint is likely to be HB or higher.
The binder resin may be a thermosetting resin or a thermoplastic resin as long as it is compatible or mixed and dispersible with the antistatic paint. For example, polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyimides such as polyimide and polyamideimide; polyamides such as polyamide 6, polyamide 6,6, polyamide 12, and polyamide 11; polyvinylidene fluoride, polyvinyl fluoride, poly Fluorine resin such as tetrafluoroethylene, ethylenetetrafluoroethylene copolymer, polychlorotrifluoroethylene; vinyl resin such as polyvinyl alcohol, polyvinyl ether, polyvinyl butyral, polyvinyl acetate, polyvinyl chloride; epoxy resin; xylene resin; aramid resin; Polyimide silicone; polyurethane; polyurea; melamine resin; phenol resin; polyether; acrylic resin and copolymers thereof. It is.
These binder resins may be dissolved in an organic solvent, may be provided with a functional group such as a sulfo group or a carboxyl group, may be formed into an aqueous solution, or may be dispersed in water such as emulsification.

バインダ樹脂の中でも、容易に混合できることから、ポリウレタン、ポリエステル、アクリル樹脂、ポリアミド、ポリイミド、エポキシ樹脂及びポリイミドシリコーンよりなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂が好ましい。
また、アクリル樹脂は、硬度が硬いとともに透明性に優れるため、光学フィルタのような用途には適している。 Among the binder resins, at least one resin selected from the group consisting of polyurethane, polyester, acrylic resin, polyamide, polyimide, epoxy resin, and polyimide silicone is preferable because it can be easily mixed.
Acrylic resins are suitable for applications such as optical filters because they have high hardness and excellent transparency.

アクリル樹脂としては熱及び／又は光によって硬化する液状重合体を含むことが好ましい。
ここで、熱により硬化する液状重合体としては、反応型重合体及び自己架橋型重合体が挙げられる。
反応型重合体は、置換基を有する単量体が重合した重合体であり、置換基としては、カルボキシル基、酸無水物、オキセタン系、グリシジル基、アミノ基などが挙げられる。具体的な単量体としては、マロン酸、コハク酸、グルタミン酸、ピメリン酸、アスコルビン酸、フタル酸、アセチルサルチル酸、アジピン酸、イソフタル酸、安息香酸、ｍ−トルイル酸等のカルボン酸化合物、無水マレイン酸、無水フタル酸、ドデシル無水コハク酸、ジクロル無水マレイン酸、テトラクロル無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水ピメリット酸等の酸無水物、３，３−ジメチルオキセタン、３，３−ジクロロメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、アジドメチルメチルオキセタン等のオキセタン化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、フェノールノボラックポリグリシジルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−ｐ−アミノフェノールグリシジルエーテル、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（すなわち、２，２−ビス（４−グリシジルオキシシクロヘキシル）プロパン）等のグリシジルエーテル化合物、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−テトラグリシジル−ｍ−キシリレンジアミン、トリグリシジルイソシアヌレート、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−５，５−ジアルキルヒダントイン等のグリシジルアミン化合物、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジメチルアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペラジン、ベンジルジメチルアミン、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、ＤＨＰ３０−トリ（２−エチルヘクソエート）、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジシアンジアミド、三フッ化ホウ素、モノエチルアミン、メンタンジアミン、キシレンジアミン、エチルメチルイミダゾール等のアミン化合物、１分子中に２個以上のオキシラン環を含む化合物のうち、ビスフェノールＡのエピクロロヒドリンによるグリシジル化合物、あるいはその類似物が挙げられる。 The acrylic resin preferably contains a liquid polymer that is cured by heat and / or light.
Here, examples of the liquid polymer that is cured by heat include a reactive polymer and a self-crosslinking polymer.
The reactive polymer is a polymer in which a monomer having a substituent is polymerized, and examples of the substituent include a carboxyl group, an acid anhydride, an oxetane group, a glycidyl group, and an amino group. Specific monomers include malonic acid, succinic acid, glutamic acid, pimelic acid, ascorbic acid, phthalic acid, acetylsalicylic acid, adipic acid, isophthalic acid, benzoic acid, m-toluic acid and other carboxylic acid compounds, anhydrous Maleic acid, phthalic anhydride, dodecyl succinic anhydride, dichloromaleic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, acid anhydrides such as pimelic anhydride, 3,3-dimethyloxetane, 3,3-dichloromethyloxetane Oxetane compounds such as 3-methyl-3-hydroxymethyloxetane and azidomethylmethyloxetane, bisphenol A diglycidyl ether, bisphenol F diglycidyl ether, phenol novolac polyglycidyl ether, N, N-diglycidyl-p-aminophenol Glycidyl ether compounds such as cidyl ether, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether (ie, 2,2-bis (4-glycidyloxycyclohexyl) propane), N, N-diglycidylaniline, tetra Glycidylamine compounds such as glycidyldiaminodiphenylmethane, N, N, N, N-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, triglycidyl isocyanurate, N, N-diglycidyl-5,5-dialkylhydantoin, diethylenetriamine, triethylenetetramine, Dimethylaminopropylamine, N-aminoethylpiperazine, benzyldimethylamine, tris (dimethylaminomethyl) phenol, DHP30-tri (2-ethylhexoate), Amine compounds such as taphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, dicyandiamide, boron trifluoride, monoethylamine, menthanediamine, xylenediamine, ethylmethylimidazole, etc. Among compounds containing two or more oxirane rings in one molecule Glycidyl compound of epichlorohydrin of bisphenol A, or an analog thereof.

反応型重合体においては、少なくとも２官能以上の架橋剤を使用する。その架橋剤としては、例えば、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、金属酸化物などが挙げられる。金属酸化物としては、塩基性金属化合物のＡｌ（ＯＨ）_３、Ａｌ（ＯＯＣ・ＣＨ_３）_２（ＯＯＣＨ）、Ａｌ（ＯＯＣ・ＣＨ_３）_２、ＺｒＯ（ＯＣＨ_３）、Ｍｇ（ＯＯＣ・ＣＨ_３）、Ｃａ（ＯＨ）_２、Ｂａ（ＯＨ）_３等を適宜使用できる。 In the reactive polymer, at least a bifunctional or higher functional crosslinking agent is used. Examples of the crosslinking agent include melamine resin, epoxy resin, metal oxide and the like. Examples of the metal oxide include basic metal compounds Al (OH) ₃ , Al (OOC · CH ₃ ) ₂ (OOCH), Al (OOC · CH ₃ ) ₂ , ZrO (OCH ₃ ), Mg (OOC · CH _3). ), Ca (OH) ₂ , Ba (OH) _{3 and the} like can be used as appropriate.

自己架橋型重合体は、加熱により官能基同士で自己架橋するものであり、例えば、グリシジル基とカルボキシル基を含むもの、あるいは、Ｎ−メチロールとカルボキシル基の両方を含むものなどが挙げられる。 The self-crosslinking polymer is one that self-crosslinks between functional groups by heating, and examples thereof include those containing a glycidyl group and a carboxyl group, and those containing both an N-methylol and a carboxyl group.

光によって硬化する液状重合体としては、例えば、ポリエステル、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ポリアクリル、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミドシリコーン等のオリゴマー又はプレポリマーが挙げられる。
光によって硬化する液状重合体を構成する単量体単位としては、例えば、ビスフェノールＡ・エチレンオキサイド変性ジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（ペンタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリンプロポキシトリアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソボルニルアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート等のアクリレート類、テトラエチレングリコールジメタクリレート、アルキルメタクリレート、アリルメタクリレート、１，３−ブチレングリコールジメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等のメタクリレート類、アリルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、高級アルコールグリシジルエーデル、１，６−ヘキサンジオールグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類、ダイアセトンアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、ジメチルアミノプロピルメタクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、アクリロイルピペリジン、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド等のアクリル（メタクリル）アミド類、２−クロロエチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールビニルエーテル等のビニルエーテル類、酪酸ビニル、モノクロロ酢酸ビニル、ピバリン酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類の単官能モノマー並びに多官能モノマーが挙げられる。 Examples of the liquid polymer that is cured by light include oligomers or prepolymers such as polyester, epoxy resin, oxetane resin, polyacryl, polyurethane, polyimide, polyamide, polyamideimide, and polyimide silicone.
Examples of monomer units constituting a liquid polymer that is cured by light include bisphenol A / ethylene oxide-modified diacrylate, dipentaerythritol hexa (penta) acrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, and dipropylene glycol diacrylate. , Trimethylolpropane triacrylate, glycerin propoxytriacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isobornyl acrylate, polyethylene glycol diacrylate, penta Erythritol triacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, trimethylolpropane triacrylate Acrylates such as tripropylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, alkyl methacrylate, allyl methacrylate, 1,3-butylene glycol dimethacrylate, n-butyl methacrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate , Glycidyl methacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, isobornyl methacrylate, lauryl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, t-butyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, methacrylates such as trimethylolpropane trimethacrylate Allylic Glycidyl ethers such as sidyl ether, butyl glycidyl ether, higher alcohol glycidyl edel, 1,6-hexanediol glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, stearyl glycidyl ether, diacetone acrylamide, N, N-dimethylacrylamide, dimethylaminopropyl acrylamide, Dimethylaminopropyl methacrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N, N-dimethylacrylamide, acryloylmorpholine, N-vinylformamide, N-methylacrylamide, N-isopropylacrylamide, Nt-butylacrylamide, N-phenylacrylamide , Acrylics such as acryloylpiperidine and 2-hydroxyethylacrylamide (methacrylic) ) Of amides, vinyl ethers such as 2-chloroethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, triethylene glycol vinyl ether, and vinyl carboxylates such as vinyl butyrate, vinyl monochloroacetate and vinyl pivalate A monofunctional monomer and a polyfunctional monomer are mentioned.

光によって硬化する液状重合体は、光重合開始剤によって硬化する。その光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類などが挙げられる。さらに、光増感剤として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合できる。 A liquid polymer that is cured by light is cured by a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, and thioxanthones. Furthermore, n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, or the like can be mixed as a photosensitizer.

また、帯電防止塗料には、得られる帯電防止膜の耐衝撃性を向上させるための合成ゴム成分、耐候性を向上させるための酸化防止剤、紫外線吸収剤などが含まれてもよい。 Further, the antistatic coating material may contain a synthetic rubber component for improving the impact resistance of the resulting antistatic film, an antioxidant for improving the weather resistance, an ultraviolet absorber, and the like.

上述した帯電防止塗料は、特定の非反応性水溶性シリコーンを含有することにより、得られる帯電防止膜の透明性を低下させることなく、表面潤滑性を向上させることができる。また、π共役系導電性高分子は電子伝導による導電機構を発揮するから、得られる帯電防止膜は帯電防止性の湿度依存性がない。さらに、上記帯電防止塗料は、無機酸化物から構成されるものではないから、得られる帯電防止膜は可撓性、樹脂製の基材との密着性に優れる。
すなわち、上述した帯電防止塗料は、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、樹脂製の基材との密着性、透明性のいずれもが優れた帯電防止膜を形成できるものである。 By containing the specific non-reactive water-soluble silicone, the antistatic coating described above can improve the surface lubricity without deteriorating the transparency of the resulting antistatic film. In addition, since the π-conjugated conductive polymer exhibits a conductive mechanism by electron conduction, the obtained antistatic film has no humidity dependency of the antistatic property. Furthermore, since the antistatic coating is not composed of an inorganic oxide, the resulting antistatic film is excellent in flexibility and adhesion to a resin substrate.
That is, the above-described antistatic coating has no humidity dependency on the antistatic property, has high surface lubricity, and has excellent flexibility, adhesion to the resin base material, and transparency. An antistatic film can be formed.

（帯電防止膜）
本発明の帯電防止膜は、上記帯電防止塗料が基材上に塗布されて形成されたものである。帯電防止塗料の塗布方法としては、例えば、浸漬、コンマコート、スプレーコート、ロールコート、グラビアロールコート、スピンコートなどが挙げられる。
帯電防止塗料が塗布される基材としては特に制限されないが、静電気が生じやすい樹脂成形体、特に樹脂フィルムを適用した場合に帯電防止性がとりわけ発揮される。
帯電防止塗料を塗布後、加熱により溶媒を除去し、加熱または光によって硬化させることにより帯電防止膜を得ることができる。
加熱により溶媒を除去する場合の加熱方法としては、例えば、熱風加熱や赤外線加熱などの通常の方法を採用できる。また、光硬化により帯電防止膜を形成する場合の光照射方法としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプなどの光源から紫外線を照射する方法を採用できる。 (Antistatic film)
The antistatic film of the present invention is formed by applying the antistatic coating material on a substrate. Examples of the application method of the antistatic coating include immersion, comma coating, spray coating, roll coating, gravure roll coating, and spin coating.
The base material to which the antistatic coating is applied is not particularly limited, but antistatic properties are particularly exerted when a resin molded body, particularly a resin film, that is susceptible to static electricity is applied.
After applying the antistatic paint, the solvent is removed by heating, and the antistatic film can be obtained by curing by heating or light.
As a heating method for removing the solvent by heating, for example, a normal method such as hot air heating or infrared heating can be employed. In addition, as a light irradiation method when an antistatic film is formed by photocuring, for example, a method of irradiating ultraviolet rays from a light source such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp is adopted it can.

帯電防止膜においては、全光線透過率（ＪＩＳＫ７３６１−１）が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９６％以上であることが特に好ましい。
また、ヘイズ（ＪＩＳＫ７１０５）が５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが特に好ましい。
さらに、帯電防止膜の表面抵抗値は、帯電防止性を充分に発揮するためには、１×１０^３〜１×１０^１２Ωであることが好ましい。ただし、表面抵抗値は、光学特性との兼ね合いによって適宜調節されることが好ましい。
帯電防止膜の鉛筆硬度は、耐擦過性が高くなることから、Ｂ以上であることが好ましく、帯電防止膜がハードコート層を兼ねる場合には、ＨＢ以上であることが好ましい。
なお、帯電防止膜の全光線透過率、ヘイズ、表面抵抗値、鉛筆硬度は、帯電防止膜の厚さにより調節できる。 In the antistatic film, the total light transmittance (JIS K7361-1) is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and particularly preferably 96% or more.
Further, the haze (JIS K7105) is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
Furthermore, the surface resistance value of the antistatic film is preferably 1 × 10 ³ to 1 × 10 ¹² Ω in order to sufficiently exhibit antistatic properties. However, the surface resistance value is preferably adjusted as appropriate in consideration of the optical characteristics.
The pencil hardness of the antistatic film is preferably B or more because the scratch resistance becomes high. When the antistatic film also serves as a hard coat layer, it is preferably HB or more.
In addition, the total light transmittance, haze, surface resistance value, and pencil hardness of the antistatic film can be adjusted by the thickness of the antistatic film.

帯電防止膜の摩擦係数（静摩擦係数及び動摩擦係数）は小さいことが好ましい。帯電防止膜の摩擦係数が小さければ、表面潤滑性がより高くなり、耐ブロッキング性がより高くなる。具体的には、摩擦係数が０．５０以下であることが好ましい。 The friction coefficient (static friction coefficient and dynamic friction coefficient) of the antistatic film is preferably small. If the friction coefficient of the antistatic film is small, the surface lubricity becomes higher and the blocking resistance becomes higher. Specifically, the friction coefficient is preferably 0.50 or less.

上述した帯電防止膜は、上記帯電防止塗料から形成されたものであるから、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、樹脂製の基材との密着性、透明性のいずれもが優れる。 Since the above-described antistatic film is formed from the above-mentioned antistatic coating, the antistatic property does not depend on humidity, and has high surface lubricity, and is flexible and has a resin base material. Both adhesion and transparency are excellent.

（帯電防止フィルム）
帯電防止フィルムは、フィルム基材と、該フィルム基材の少なくとも片面に形成された上記帯電防止膜とを有するものである。
［フィルム基材］
フィルム基材としては特に制限されず、例えば、低密度ポリエチレンフィルム、高密度ポリエチレンフィルム、エチレン−プロピレン共重合体フィルム、ポリプロピレンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−メチルメタクリレート共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリイミドフィルム、６−ナイロンフィルム、６，６−ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、ポリスチレンフィルム、スチレン−アクリロニトリル−ブタジエン共重合体フィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、セルロースプロピオネートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリフッ化ビニリデンフィルム、ポリ四フッ化エチレンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリサルホンフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。 (Antistatic film)
The antistatic film has a film substrate and the antistatic film formed on at least one surface of the film substrate.
[Film substrate]
The film substrate is not particularly limited. For example, a low density polyethylene film, a high density polyethylene film, an ethylene-propylene copolymer film, a polypropylene film, an ethylene-vinyl acetate copolymer film, an ethylene-methyl methacrylate copolymer film. Polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polyimide film, 6-nylon film, 6,6-nylon film, polymethyl methacrylate film, polystyrene film, styrene-acrylonitrile-butadiene copolymer film, polyacrylonitrile Film, cellulose triacetate film, cellulose propionate film, polyvinyl chloride film, polyvinyl chloride Film, polyvinylidene fluoride film, polytetrafluoroethylene film, polyvinyl alcohol film, ethylene-vinyl alcohol copolymer film, polycarbonate film, polysulfone film, polyethersulfone film, polyetheretherketone film, polyphenylene oxide film, etc. Can be mentioned.

これらフィルム基材の表面は通常、親油性であり、水系溶媒に溶解した帯電防止塗料を塗布する場合には、塗布が困難である。そのため、水系溶媒に溶解した帯電防止塗料を塗布して帯電防止膜を形成する場合には、フィルム基材表面にスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理などの親水処理をあらかじめ施しておくことが好ましい。さらに、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化されていてもよい。 The surfaces of these film substrates are usually oleophilic and are difficult to apply when an antistatic coating dissolved in an aqueous solvent is applied. Therefore, when applying an antistatic coating dissolved in an aqueous solvent to form an antistatic film, etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion and oxidation is performed on the surface of the film substrate. It is preferable to carry out hydrophilic treatment such as coating or undercoating in advance. Furthermore, dust may be removed and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, or the like as necessary.

上述した帯電防止フィルムは、上記帯電防止膜を有するものであるから、帯電防止性の湿度依存性がない上に、表面潤滑性が高く、しかも可撓性、フィルム基材との密着性のいずれもが優れる。 Since the above-described antistatic film has the above-mentioned antistatic film, the antistatic property does not depend on humidity, and the surface lubricity is high, and flexibility and adhesion to the film substrate are not affected. Thigh is excellent.

（光学フィルタ）
次に、本発明の光学フィルタの一実施形態例について説明する。
図１に、本実施形態例の光学フィルタを示す。この光学フィルタ１は、フィルム基材１０と、フィルム基材１０上に形成された帯電防止膜２０と、帯電防止膜２０上に形成された反射防止層３０とを有して構成されている。この光学フィルタ１における帯電防止膜２０はハードコート層としての役割も果たす。
この光学フィルタ１をディスプレイ装置の表示面に貼り付ける際には、光学フィルタ１のフィルム基材１０側の表面に透明な接着剤層を設け、その接着剤層を介して貼り付ける。 (Optical filter)
Next, an embodiment of the optical filter of the present invention will be described.
FIG. 1 shows an optical filter of this embodiment. The optical filter 1 includes a film substrate 10, an antistatic film 20 formed on the film substrate 10, and an antireflection layer 30 formed on the antistatic film 20. The antistatic film 20 in the optical filter 1 also serves as a hard coat layer.
When the optical filter 1 is attached to the display surface of the display device, a transparent adhesive layer is provided on the surface of the optical filter 1 on the film substrate 10 side, and the optical filter 1 is attached via the adhesive layer.

フィルム基材１０としては、透明性を有する各種のプラスチックフィルムを使用できる。透明性プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリアミド、アクリルアミド、セルロースプロピオネートなどからなるフィルムが挙げられる。
光学フィルム１に用いられるフィルム基材１０においても、上記帯電防止フィルムと同様に、その表面にスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化などのエッチング処理や下塗り処理が施されていることが好ましい。また、フィルム基材１０の表面は、帯電防止膜２０を設ける前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などにより除塵、清浄化されていてもよい。 As the film substrate 10, various plastic films having transparency can be used. Examples of the transparent plastic film include films made of polyethylene terephthalate, polyimide, polyethersulfone, polyetheretherketone, polycarbonate, polypropylene, polyamide, acrylamide, cellulose propionate, and the like.
Similarly to the antistatic film, the surface of the film substrate 10 used for the optical film 1 is subjected to etching treatment such as sputtering, corona discharge, flame, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation, and undercoating treatment. It is preferable that Further, the surface of the film substrate 10 may be dust-removed and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, or the like as necessary before providing the antistatic film 20.

帯電防止膜２０は、上述した通りに帯電防止塗料から形成された膜であり、ハードコート層としての役割も果たす膜である。よって、上述したように、この帯電防止膜２０は、帯電防止膜の表面硬度（鉛筆硬度）がＨＢ以上であることが好ましい。また、光学用途であるから、帯電防止膜２０の全光線透過率（ＪＩＳＫ７３６１−１）が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましく、９６％以上であることが特に好ましい。また、帯電防止膜２０のヘイズ（ＪＩＳＫ７１０５）が５％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましく、１％以下であることが特に好ましい。 The antistatic film 20 is a film formed from an antistatic paint as described above, and also serves as a hard coat layer. Therefore, as described above, the antistatic film 20 preferably has a surface hardness (pencil hardness) of HB or higher. Moreover, since it is an optical use, it is preferable that the total light transmittance (JIS K7361-1) of the antistatic film 20 is 85% or more, more preferably 90% or more, and 96% or more. Particularly preferred. Further, the haze (JIS K7105) of the antistatic film 20 is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, and particularly preferably 1% or less.

反射防止層３０は光の反射を防止する層である。この層は単層であってもよいし、多層であってもよい。単層である場合、その屈折率は１．３８〜１．４５の範囲にあるのが好ましく、また、その光学膜厚は８０〜１００ｎｍの範囲にあるのが好ましい。
反射防止層３０は、乾式法、湿式法のいずれかによって形成できる。乾式法としては、例えば、電子ビーム蒸着法、誘電加熱式蒸着法、抵抗加熱蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法のような物理気相堆積法やプラズマＣＶＤ法が挙げられる。乾式法で反射防止層３０を形成する場合には、反射防止層３０の成分として、例えば、酸化ケイ素、フッ化マグネシウム、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化スズなどの無機化合物を用いることができる。
また、湿式法としては、例えば、コンマコート、スプレーコート、ロールコート、グラビア印刷等の公知の手法により硬化性化合物を含む塗料を塗布し、これを硬化する方法が挙げられる。湿式法で反射防止層３０を形成する場合には、硬化性化合物として、例えば、含フッ素有機化合物、含フッ素有機ケイ素化合物、含フッ素無機化合物などの含フッ素化合物を用いることができる。 The antireflection layer 30 is a layer that prevents reflection of light. This layer may be a single layer or a multilayer. In the case of a single layer, the refractive index is preferably in the range of 1.38 to 1.45, and the optical film thickness is preferably in the range of 80 to 100 nm.
The antireflection layer 30 can be formed by either a dry method or a wet method. Examples of the dry method include a physical vapor deposition method such as an electron beam evaporation method, a dielectric heating evaporation method, a resistance heating evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method, and a plasma CVD method. When the antireflection layer 30 is formed by a dry method, examples of the components of the antireflection layer 30 include silicon oxide, magnesium fluoride, niobium oxide, titanium oxide, tantalum oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, indium oxide, and oxidation. Inorganic compounds such as tin can be used.
Moreover, as a wet method, the method of apply | coating the coating material containing a sclerosing | hardenable compound by well-known methods, such as a comma coat, spray coat, roll coat, and gravure printing, for example, and the method of hardening this are mentioned. When the antireflection layer 30 is formed by a wet method, as the curable compound, for example, a fluorine-containing compound such as a fluorine-containing organic compound, a fluorine-containing organic silicon compound, or a fluorine-containing inorganic compound can be used.

以上説明した光学フィルタ１は、フィルム基材１０を保護する帯電防止膜２０が形成されており、その帯電防止膜２０は上記帯電防止塗料から形成されているので、帯電防止性の安定性に優れたフィルタであり、表面に埃が付着しにくい。その上、この光学フィルタ１は、帯電防止膜２０の表面潤滑性が高く、耐ブロッキング性に優れる。しかも、透明性に優れ、フィルム基材１０との密着性にも優れている。
そして、このような光学フィルタ１は、液晶画面やプラズマディスプレイ両面の反射防止フィルム、赤外吸収フィルム、電磁波吸収フィルム等に好適に用いられる。 In the optical filter 1 described above, the antistatic film 20 that protects the film substrate 10 is formed, and the antistatic film 20 is formed of the above antistatic paint, so that it has excellent antistatic stability. It is a filter that is difficult for dust to adhere to the surface. In addition, the optical filter 1 has a high surface lubricity of the antistatic film 20 and is excellent in blocking resistance. And it is excellent in transparency and is excellent also in adhesiveness with the film base material 10.
And such an optical filter 1 is used suitably for a liquid crystal screen, the antireflection film of both surfaces of a plasma display, an infrared absorption film, an electromagnetic wave absorption film, etc.

なお、本発明の光学フィルタは上述した実施形態例に限定されず、上記帯電防止塗料から形成された帯電防止膜を有していればよい。例えば、フィルム基材の代わりに偏光板を用いることができる。偏光板としては、二色性色素を吸着配向したポリビニルアルコール系樹脂フィルムの片面又は両面に保護フィルムが積層されたものなどが挙げられ、二色性色素としては、ヨウ素、二色染料を用いることができる。このような光学フィルタは、液晶表示装置の最表面に設けることができる。 The optical filter of the present invention is not limited to the above-described embodiment example, and it is sufficient that the optical filter has an antistatic film formed from the antistatic paint. For example, a polarizing plate can be used instead of the film substrate. Examples of the polarizing plate include those in which a protective film is laminated on one or both sides of a polyvinyl alcohol resin film adsorbed and oriented with a dichroic dye. Can do. Such an optical filter can be provided on the outermost surface of the liquid crystal display device.

（光情報記録媒体）
本発明の光情報記録媒体の一実施形態例について説明する。
図２に、本実施形態例の光情報記録媒体を示す。この光情報記録媒体２は書換型ディスクであり、ポリカーボネートやポリメチルメタクリレートなどからなる円盤状の透明性樹脂基板４０の片面に、第１誘電体層５０、光情報記録層６０、第２誘電体層７０、金属反射層８０、帯電防止膜９０が順次形成された構造を有したものである。 (Optical information recording medium)
An embodiment of the optical information recording medium of the present invention will be described.
FIG. 2 shows an optical information recording medium of this embodiment. This optical information recording medium 2 is a rewritable disc, and a first dielectric layer 50, an optical information recording layer 60, and a second dielectric are formed on one surface of a disc-shaped transparent resin substrate 40 made of polycarbonate, polymethyl methacrylate, or the like. The layer 70, the metal reflection layer 80, and the antistatic film 90 are sequentially formed.

第１誘電体層５０及び第２誘電体層７０を構成する材料としては、例えば、ＳｉＮ、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５などの無機系材料を用いることができる。
これらの誘電体層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの公知の手法によって厚さ１０〜５００ｎｍで形成される。 As a material constituting the first dielectric layer 50 and the second dielectric layer 70, for example, an inorganic material such as SiN, SiO, SiO ₂ , Ta ₂ O ₅ can be used.
These dielectric layers are formed with a thickness of 10 to 500 nm by a known method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating.

光情報記録層６０を構成する材料としては、例えば、Ｔｂ−Ｆｅ、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏ、Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏ、Ｔｂ−Ｄｙ−Ｆｅ−Ｃｏなどの無機系の光磁気型記録材料や、ＴｅＯｘ、Ｔｅ−Ｇｅ、Ｓｎ−Ｔｅ−Ｇｅ、Ｂｉ−Ｔｅ−Ｇｅ、Ｓｂ−Ｔｅ−Ｇｅ、Ｐｂ−Ｓｎ−Ｔｅ、Ｔｌ−Ｉｎ−Ｓｅなどの無機系の相変換型記録材料、シアニン系色素、ポリメチン系色素、フタロシアニン系色素、メロシアニン系色素、アズレン系色素、スクアリウム系色素等の有機色素が用いられる。
光情報記録層６０が無機系の光磁気型記録材料からなる場合、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの公知の手法によって厚さ１０〜９９９ｎｍで形成することができる。また、有機色素からなる場合、有機色素をアセトン、ジアセトンアルコール、エタノール、メタノール等の溶媒に溶解した溶液を公知の印刷方法又は塗布方法により厚さ１０〜９９９ｎｍで形成することができる。 Examples of the material constituting the optical information recording layer 60 include inorganic magneto-optical recording materials such as Tb—Fe, Tb—Fe—Co, Dy—Fe—Co, and Tb—Dy—Fe—Co, and TeOx. , Te-Ge, Sn-Te-Ge, Bi-Te-Ge, Sb-Te-Ge, Pb-Sn-Te, Tl-In-Se, and other inorganic phase conversion recording materials, cyanine dyes, polymethine Organic dyes such as a dye, a phthalocyanine dye, a merocyanine dye, an azulene dye, and a squalium dye are used.
When the optical information recording layer 60 is made of an inorganic magneto-optical recording material, the optical information recording layer 60 can be formed with a thickness of 10 to 999 nm by a known method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating. Moreover, when it consists of an organic pigment | dye, the solution which melt | dissolved the organic pigment | dye in solvents, such as acetone, diacetone alcohol, ethanol, methanol, can be formed by thickness 10-999 nm with a well-known printing method or the apply | coating method.

また、金属反射層８０は光反射性を示すものであり、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ等の金属及びその酸化物、窒化物などを単独もしくは二種類以上の組み合わせで構成される。この金属反射層８０は、スパッタリング又は真空蒸着法により厚さ２〜２００ｎｍで形成される。 The metal reflective layer 80 exhibits light reflectivity, and is composed of a metal such as Al, Cr, Ni, Ag, Au, and oxides, nitrides, and the like alone or in combination of two or more. The metal reflective layer 80 is formed with a thickness of 2 to 200 nm by sputtering or vacuum deposition.

帯電防止膜９０は、上記帯電防止塗料から形成されたものである。この帯電防止膜９０は、表面硬度をＨＢ以上とすることにより、光情報記録媒体２表面の傷つきを防止でき、また、金属反射層８０の酸化を防止できる上に、静電気による塵埃の付着を抑制できる。
帯電防止膜９０の厚さは３〜１５μｍであることが好ましい。帯電防止膜９０の厚さは３μｍより薄いと、均一な膜を形成するのが困難になる傾向にあり、充分な帯電防止性、耐ブロッキング性を発揮できないことがある。一方、１５μｍより厚いと内部応力が大きくなり、光情報記録媒体２の機械特性が低下するおそれがある。 The antistatic film 90 is formed from the antistatic paint. The antistatic film 90 can prevent the surface of the optical information recording medium 2 from being scratched by preventing the surface of the optical information recording medium 2 from being scratched by setting the surface hardness to HB or higher, and can also prevent dust from being attached due to static electricity. it can.
The thickness of the antistatic film 90 is preferably 3 to 15 μm. If the thickness of the antistatic film 90 is less than 3 μm, it tends to be difficult to form a uniform film, and sufficient antistatic properties and anti-blocking properties may not be exhibited. On the other hand, if the thickness is greater than 15 μm, the internal stress increases, and the mechanical properties of the optical information recording medium 2 may be degraded.

帯電防止膜９０を形成するには、金属反射層８０の上に、コンマコート、スプレーコート、ロールコート、グラビア印刷などの公知の手法を用いて、帯電防止塗料を塗布した後、溶媒を乾燥、又は熱や光によって硬化する。 In order to form the antistatic film 90, an antistatic coating is applied on the metal reflective layer 80 using a known method such as comma coating, spray coating, roll coating, gravure printing, and the solvent is then dried. Or it is cured by heat or light.

以上説明した光情報記録媒体２にあっては、光情報記録層６０や金属反射層８０を保護する帯電防止膜９０が形成されており、その帯電防止膜９０は上記帯電防止塗料から形成されている。したがって、帯電防止膜９０は帯電防止性を有しているため、静電気による塵埃付着が抑制されており、記録読み取りエラーや書き込みエラーが防止されている。また、この光情報記録媒体２は、帯電防止膜９０の表面潤滑性が高く、耐ブロッキング性に優れる。しかも、帯電防止膜９０はヘイズが小さく、光線透過率が高いので、読み取り用レーザの波長である７８０ｎｍと６３５ｎｍでの透明性に優れる。 In the optical information recording medium 2 described above, an antistatic film 90 for protecting the optical information recording layer 60 and the metal reflective layer 80 is formed, and the antistatic film 90 is formed from the antistatic paint. Yes. Therefore, since the antistatic film 90 has antistatic properties, dust adhesion due to static electricity is suppressed, and recording / reading errors and writing errors are prevented. Further, this optical information recording medium 2 has high surface lubricity of the antistatic film 90 and is excellent in blocking resistance. In addition, since the antistatic film 90 has a small haze and a high light transmittance, it has excellent transparency at the reading laser wavelengths of 780 nm and 635 nm.

なお、本発明の光情報記録媒体は上述した実施形態例に限定されず、例えば、光情報記録媒体は追記型ディスクであってもよい。追記型ディスクは、例えば、透明性樹脂基板（有機基材）、光情報記録層、反射金属層、帯電防止膜が順次形成された構造を有する。 Note that the optical information recording medium of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and for example, the optical information recording medium may be a write-once disc. The write-once disc has, for example, a structure in which a transparent resin substrate (organic base material), an optical information recording layer, a reflective metal layer, and an antistatic film are sequentially formed.

（実施例１）
１４．２ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェンと、３６．７ｇのポリスチレンスルホン酸を２０００ｍｌのイオン交換水に溶かした溶液とを２０℃で混合させた。
これにより得られた混合溶液を２０℃に保ち、掻き混ぜながら、２００ｍｌのイオン交換水に溶かした２９．６４ｇの過硫酸アンモニウムと８．０ｇの硫酸第二鉄の酸化触媒溶液とをゆっくり添加し、３時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌ溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
そして、得られた溶液に２００ｍｌの１０質量％に希釈した硫酸と２０００ｍｌのイオン交換水とを加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの溶液を除去し、これに２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌ溶液を除去した。この操作を３回繰り返した。
さらに、得られた溶液に２０００ｍｌのイオン交換水を加え、限外ろ過法を用いて約２０００ｍｌの溶液を除去した。この操作を５回繰り返し、約１．５質量％の青色のポリスチレンスルホン酸ドープポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ-ＰＳＳ）を含む溶液を得た。この溶液１００ｇに２ｇのイミダゾールを添加し、さらに、２５ｇの３０質量％の水溶性ポリウレタン溶液（レザミンＤ−６３００、大日精化工業社製）を添加して、導電性高分子溶液Ａを得た。
得られた導電性高分子溶液Ａの１００ｇに、０．０１ｇの非反応性水溶性シリコーン（ポリエーテル変性シリコーンオイルＫＦ−３５５Ａ、信越化学工業社製）を添加して、帯電防止塗料Ａを得た。 Example 1
14.2 g of 3,4-ethylenedioxythiophene and a solution of 36.7 g of polystyrene sulfonic acid dissolved in 2000 ml of ion-exchanged water were mixed at 20 ° C.
While maintaining the mixed solution thus obtained at 20 ° C. and stirring, 29.64 g of ammonium persulfate dissolved in 200 ml of ion exchange water and 8.0 g of ferric sulfate oxidation catalyst solution were slowly added, The reaction was stirred for 3 hours.
2000 ml of ion-exchanged water was added to the resulting reaction solution, and about 2000 ml of solution was removed using an ultrafiltration method. This operation was repeated three times.
Then, 200 ml of sulfuric acid diluted to 10% by mass and 2000 ml of ion-exchanged water are added to the resulting solution, and about 2000 ml of solution is removed using an ultrafiltration method, and 2000 ml of ion-exchanged water is added thereto. About 2000 ml of solution was removed using ultrafiltration. This operation was repeated three times.
Furthermore, 2000 ml of ion-exchanged water was added to the obtained solution, and about 2000 ml of the solution was removed using an ultrafiltration method. This operation was repeated 5 times to obtain a solution containing about 1.5% by mass of blue polystyrenesulfonic acid-doped poly (3,4-ethylenedioxythiophene) (PEDOT-PSS). 2 g of imidazole was added to 100 g of this solution, and further 25 g of 30% by mass of a water-soluble polyurethane solution (Rezamine D-6300, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) was added to obtain a conductive polymer solution A. .
Antistatic paint A is obtained by adding 0.01 g of non-reactive water-soluble silicone (polyether-modified silicone oil KF-355A, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) to 100 g of the obtained conductive polymer solution A. It was.

帯電防止塗料Ａを、厚さ１４４μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上にコンマコーターにより塗布、乾燥して、厚さ約０．１μｍの帯電防止膜を形成した。
この帯電防止膜の表面抵抗値を、ローレスタ（三菱化学社製）により測定した。
また、表面潤滑性について、表面性試験機（ヘイドン・トライボギアタイプ１４Ｄ、新東科学社製）により静摩擦係数および動摩擦係数を、ＡＳＴＭＤ１８９１に従い測定して評価した。その際に用いた磨耗子は不織布であり、６３．５ｍｍの平面圧子、速度１０ｍｍ／分、２００ｇの荷重で測定した。
さらに、得られた帯電防止膜の全光線透過率をＪＩＳＫ７３６１−１にしたがって測定し、ヘイズをＪＩＳＫ７１０５にしたがって測定した。
表面抵抗値、静摩擦係数、動摩擦係数、全光線透過率、ヘイズの結果を表１に示す。 Antistatic paint A was applied onto a 144 μm thick polyethylene terephthalate film by a comma coater and dried to form an antistatic film having a thickness of about 0.1 μm.
The surface resistance value of this antistatic film was measured with a Loresta (Mitsubishi Chemical Corporation).
Further, the surface lubricity was evaluated by measuring the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient according to ASTM D1891 using a surface property tester (Haydon Tribogear type 14D, manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd.). The wear piece used at that time was a non-woven fabric, and measurement was performed with a flat indenter of 63.5 mm, a speed of 10 mm / min, and a load of 200 g.
Furthermore, the total light transmittance of the obtained antistatic film was measured according to JIS K 7361-1, and the haze was measured according to JIS K 7105.
Table 1 shows the results of surface resistance, static friction coefficient, dynamic friction coefficient, total light transmittance, and haze.

（実施例２）
実施例１で得た導電性高分子溶液Ａの１００ｇに添加する非反応性水溶性シリコーンの添加量を０．１ｇに変更したこと以外は実施例１と同様にして帯電防止塗料Ｂを得た。そして、実施例１と同様にして帯電防止膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。 (Example 2)
An antistatic paint B was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the non-reactive water-soluble silicone added to 100 g of the conductive polymer solution A obtained in Example 1 was changed to 0.1 g. . Then, an antistatic film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

（実施例３）
実施例１で得た導電性高分子溶液Ａの１００ｇに添加する非反応性水溶性シリコーンの添加量を０．５ｇに変更したこと以外は実施例１と同様にして帯電防止塗料Ｃを得た。そして、実施例１と同様にして帯電防止膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。 (Example 3)
An antistatic paint C was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of non-reactive water-soluble silicone added to 100 g of the conductive polymer solution A obtained in Example 1 was changed to 0.5 g. . Then, an antistatic film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

（実施例４）
実施例１で得た導電性高分子溶液Ａの１００ｇに添加する非反応性水溶性シリコーンの添加量を１．０ｇに変更したこと以外は実施例１と同様にして帯電防止塗料Ｄを得た。そして、実施例１と同様にして帯電防止膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。 Example 4
An antistatic paint D was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the non-reactive water-soluble silicone added to 100 g of the conductive polymer solution A obtained in Example 1 was changed to 1.0 g. . Then, an antistatic film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

（比較例１）
実施例１で得た導電性高分子溶液Ａをポリエチレンテレフタレートフィルムに塗布して帯電防止膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。 (Comparative Example 1)
The conductive polymer solution A obtained in Example 1 was applied to a polyethylene terephthalate film to form an antistatic film and evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.

（比較例２）
実施例１で得た導電性高分子溶液Ａの１００ｇに、０．０１ｇの反応性水溶性シリコーン（アクリル基を有するシラン化合物の加水分解物であるＸ−１２−２４００Ｅ、信越化学工業社製）を添加して帯電防止塗料Ｅを得た。そして、実施例１と同様にして帯電防止膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。 (Comparative Example 2)
To 100 g of the conductive polymer solution A obtained in Example 1, 0.01 g of reactive water-soluble silicone (X-12-2400E, which is a hydrolyzate of a silane compound having an acrylic group, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Was added to obtain antistatic paint E. Then, an antistatic film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

（比較例３）
実施例１で得られた導電性高分子溶液Ａの１００ｇに添加する反応性水溶性シリコーンの添加量を０．１ｇに変更したこと以外は実施例１と同様にして帯電防止塗料Ｆを得た。そして、実施例１と同様にして帯電防止膜を形成し、評価した。評価結果を表１に示す。 (Comparative Example 3)
An antistatic paint F was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount of the reactive water-soluble silicone added to 100 g of the conductive polymer solution A obtained in Example 1 was changed to 0.1 g. . Then, an antistatic film was formed and evaluated in the same manner as in Example 1. The evaluation results are shown in Table 1.

非反応性水溶性シリコーンを含有する帯電防止塗料を塗布して形成した実施例１〜４の帯電防止膜は、表面抵抗値が高く、帯電防止性に優れており、π共役導電性高分子により導電性を発現しているため、帯電防止性の湿度依存性がない。また、静摩擦係数および動摩擦係数が小さく、表面潤滑性が高く、耐ブロッキング性に優れていた。また、全光線透過率が高く、ヘイズが小さく、透明性に優れていた。さらに、帯電防止膜は樹脂を主成分とするものであるから、ポリエチレンテレフタレート製の基材との密着性に優れていた。
これに対し、反応性水溶性シリコーンを含有する帯電防止塗料を塗布して形成した比較例２，３の帯電防止膜、非反応性水溶性シリコーンのみならず反応性水溶性シリコーンも含有しない帯電防止塗料を塗布して形成した比較例１の帯電防止膜は、静摩擦係数および動摩擦係数が大きく、表面潤滑性が低く、耐ブロッキング性が低かった。 The antistatic films of Examples 1 to 4 formed by applying an antistatic paint containing a non-reactive water-soluble silicone have a high surface resistance value, excellent antistatic properties, and a π-conjugated conductive polymer. Since it exhibits conductivity, there is no humidity dependence of antistatic properties. Further, the static friction coefficient and the dynamic friction coefficient were small, the surface lubricity was high, and the blocking resistance was excellent. Further, the total light transmittance was high, the haze was small, and the transparency was excellent. Furthermore, since the antistatic film is mainly composed of a resin, it has excellent adhesion to a base material made of polyethylene terephthalate.
On the other hand, the antistatic film of Comparative Examples 2 and 3 formed by applying an antistatic coating containing reactive water-soluble silicone, antistatic containing no reactive water-soluble silicone as well as non-reactive water-soluble silicone The antistatic film of Comparative Example 1 formed by applying a paint had a large static friction coefficient and a dynamic friction coefficient, low surface lubricity, and low blocking resistance.

本発明の光フィルタの―実施形態例を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of an optical filter of the present invention. 本発明の光情報記録媒体の一実施形態例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one example of embodiment of the optical information recording medium of this invention.

Explanation of symbols

１光学フィルタ
２光情報記録媒体
１０フィルム基材
２０帯電防止膜
３０反射防止層
４０透明性樹脂基板
５０第１誘電体層
６０光情報記録層
７０第２誘電体層
８０金属反射層
９０帯電防止膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Optical filter 2 Optical information recording medium 10 Film base material 20 Antistatic film 30 Antireflection layer 40 Transparent resin substrate 50 1st dielectric layer 60 Optical information recording layer 70 2nd dielectric layer 80 Metal reflecting layer 90 Antistatic film

Claims

An antistatic paint comprising a π-conjugated conductive polymer, a polyanion, a polyether-modified non-reactive water-soluble silicone, and a solvent.

The antistatic paint according to claim 1, wherein the non-reactive water-soluble silicone has an HLB value of 7 to 16.

The antistatic paint according to claim 1 or 2, further comprising a binder resin.

An antistatic film formed by applying the antistatic paint according to claim 1.

An antistatic film comprising a film substrate and the antistatic film according to claim 4 formed on at least one surface of the film substrate.

An optical filter comprising the antistatic film according to claim 4.

An optical information recording medium comprising the antistatic film according to claim 4.