JP2007301426A - 放電反応器およびガス処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 放電反応器1は、第1の電極2と、この第1の電極の周囲に設けられた第2の電極3の間に形成された放電空間5に、セラミックスラリーを付着させた平板の合成樹脂発泡体を湾曲して成形した後に焼成して得られた基体900を吸着材料で被覆した内部に連通空間を有する三次元骨格構造セラミック多孔体からなる筒状の吸着体6を備えた。
【選択図】 図3
Description
一方、圧力損失が低い内部連通空間を有する3次元骨格構造セラミック多孔体の流体フィルタが示されている。(例えば、特許文献2参照)。
図1〜図4はこの発明の実施の形態1における放電反応器を示すもので、図1はその正面図、図2は側面図、図3は図1のIII−III線で切断した断面図、図4は図2のIV−IV線で切断した縦断面図である。図において、放電反応器1は細長い円筒状に形成され、内周面は外側にガラス管製の誘電体2Aが密着して設けられたSUS製の高圧電極2すなわち第1の電極と、外周面はこの第1の電極の周りに設けられたSUS製の接地電極3すなわち第2の電極と、両端部は絶縁性のカバー4とで構成され、密閉構造となっている。前記第1の電極である高圧電極2と第2の電極である接地電極3間に形成された放電空間5には、後述するようにセラミックスラリーを付着させた平板の合成樹脂発泡体を湾曲して成形した後に焼成して得られた基体を吸着材料で被覆した内部に連通空間を有する3次元骨格構造セラミック多孔体からなる筒状の吸着体6が設置されている。そして、この吸着体6は図3に示すように周方向に2分割された半円筒状の吸着板6Aを有している。
処理ガス供給口3Aから空気を供給すると、図3の矢印に示すように前記吸着体6内を周方向に分かれて流れ、ガス排気口3Bから排出される。このとき、空気は吸着剤が被覆されている吸着体6の連通空間内を流れる。供給する空気に含まれるVOC成分は、吸着体6の連通空間の表面に被覆された吸着剤に吸着除去され、ガス排気口3BからはVOCを含まない清浄な空気が出てくる。これが、VOCを含む空気を吸着により清浄化するガス処理工程となる。
まず、合成樹脂発泡体にセラミックスラリーを付着させるために、セラミックスラリー中に平板の合成樹脂発泡体を浸漬する。ここでは、この合成樹脂発泡体は、内部に連通空間を有する3次元骨格構造をなした、セル膜のない軟質ポリウレタンフォーム(株式会社ブリヂストン製エバーライトSF,商品名:HR−30)の平板を使用する。セラミックスラリーは、アルミナ:94重量%,蛙目粘土:3重量%,タルク:3重量%に調整したものを用いる。そして、前記合成樹脂発泡体をセラミックスラリー中から引き揚げ、余剰スラリーを除去して所望量のセラミックスラリーが付着した平板状の合成樹脂発泡体の半成形体9を得る。本実施の形態では、2本の円筒状ロール(図示せず)でセラミックスラリー中から引き揚げた平板を両側から挟んで圧搾し、余剰スラリーを除去した後に、圧縮エアーブローによってセラミックスラリーの付着量を所望量に調整する。これにより、セラミックスラリーが平板に均一に付着する。
しかも、吸着体6を周方向に分割したので、基体9は開方向にテーパをもった形状になる。そのため、基体9を成形型10,11から取り出す際にも無理な力がかからず、歩留まりが向上する。また、放電反応器1内への吸着体6の設置方向の自由度が増し、作業効率が向上する。つまり、吸着体6を周方向に分割したので、歩留まりが向上するとともに、作業効率が向上する。
また、電極2、3は板材をつなぎ合わせて管形状にすることも可能である。例えば、接地電極3を規則正しく穴が配置された所定幅のパンチングメタルと無垢の板材を周方向につなぎ合わせて形成した場合、パンチングメタルに該当する部分を処理ガス供給口3A、ガス排気口3Bとして使用することができる。
また、再生処理工程において、窒素酸化物の発生を抑えるため、放電空間5内の酸素濃度を上げられるよう置換ガス供給口4Aを設けたが、再生処理工程に必須のものではなく、省略することも可能である。
図11は本実施の形態における放電反応器1の断面図(図1におけるIII−III線で切断した部分に相当)、図12は縦断面図(図2におけるVI−VI線で切断した部分に相当)である。吸着体26は、厚さ方向に2分された内側の第1層27と外側の第2層28からなる。第1層27は半円筒状の吸着板27Aを周方向に2個、軸方向に5列並べて形成されている。第2層28は、第1層と周方向に90度角度をずらし、半円筒状の吸着板28Aを周方向に2個、軸方向に4列並べて形成されている。前記吸着板27Aは内径が誘電体2Aの外径に一致し、厚さは前記ギャップ5Aの半分である5mm、長さ20cm、吸着板28Aは外径が接地電極3の内径に一致し、厚さ5mm、長さ25cmである。これにより、吸着体26は厚さ方向、周方向、軸方向に分割されているが、実施の形態1の吸着体6と同様に長さ1m、ギャップ10mmの円筒状に形成される。
ガス処理工程においては、ガス供給口3Aから空気を供給すると、前記吸着体26内を周方向に分かれて流れ、ガス排気口3Bから排出される。このとき、空気は吸着体26の分割に影響されず、実施の形態1と同様に吸着材料が被覆されている吸着体26の連通空間内を流れ、空気に含まれるVOC成分は吸着体26に吸着除去され、ガス排気口3BからはVOCを含まない清浄な空気が出てくる。
図13は本実施の形態の放電反応器31の断面図(図1におけるIII−III線で切断した部分に相当)である。放電反応器31は細長い矩形筒状に形成され、外側に矩形のガラス管からなる誘電体32Bが密着して設けられたSUSの矩形状の高圧電極32Aと、この高圧電極32Aの周りに設けられたSUSの矩形状の接地電極33を有している。両極32A、33間に形成された矩形の放電空間35には、セラミックスラリーを付着させた平板の合成樹脂発泡体を湾曲して形成され、内部に連通空間を有する3次元骨格構造セラミック多孔体からなる矩形筒状の吸着体36が設置されている。そしてこの吸着体36も厚さ方向に2分割された第1層37と第2層38から形成される。そして、各層37、38は、断面がコ字状の吸着板37A、38Aを用いて形成されている。
ガス処理工程においては、ガス供給口33Aから空気を供給すると、前記吸着体36内を上下に分かれて流れ、ガス排気口33Bから排出される。このとき、空気はコーナー部と直線部で流速に差は出るものの、実施の形態2と同様に吸着材料が被覆されている吸着体36の連通空間内を流れ、VOC成分は吸着体36に吸着除去され、ガス排気口33BからはVOCを含まない清浄な空気が出てくる。
図15は本実施の形態の放電反応器51(外観は実施の形態1の図1と同じ)の断面図(図1におけるIII−III線で切断した部分に相当)、図16は縦断面図(図2におけるVI-VI線で切断した部分に相当)である。本実施の形態では、接地電極53と吸着体56以外は実施の形態1の放電反応器1で用いたものと同様のものを使用した。吸着体56は半円筒形の吸着板56Aを周方向と軸方向に2列ずつ、計4つ並べて形成され、軸方向を走る継目56B、周方向を走る継目56Cが生じる。前記接地電極53の前記継目56Bに対応する部分として、ガス供給口53A、ガス排出口53Bの周方向の中央部分に導電性の突起60Aが軸方向にわたって設けられており、この突起60Aは前記継目56Bに嵌合している。また、前記接地電極53の前記継目56Cに対応する部分として、軸方向の中央部分に導電性の突起60Bが全周にわたって設けられ、この突起60Bは前記継目56Cに嵌合している。
ガス処理工程においては、ガス供給口53Aから空気を供給すると、前記吸着体56内を周方向に分かれて流れ、ガス排気口53Bから排出される。このとき、突起60Aによって邪魔されることなく、空気は、実施の形態1と同様に吸着材料が被覆されている吸着体56の連通空間内を流れ、空気に含まれるVOC成分は吸着体56に吸着除去され、ガス排気口53BからはVOCを含まない清浄な空気が出てくる。
本実施の形態では、触媒である銀を実施の形態1で用いた吸着体6に0.3重量%担持して、触媒機能を持った吸着体6を形成し、放電反応器1に設置した。
処理ガスとしてトルエンを10ppm含む空気を放電空間5内に1m/sの線速度になる流量で処理ガス供給口3Aから15分間供給し、吸着体6に一定量のトルエンを吸着させた。その後、置換ガス供給口4Aから酸素ガスを供給して、放電反応器1内部を酸素で置換し、高圧電極2と接地電極3間に高電圧を印加して放電を発生させ、吸着体6に吸着したトルエンの分解を行なった。吸着体6の温度を100℃に保持し、3分間放電処理を行なった後のトルエン分解率を測定した。比較例として実施の形態1における触媒を担持していない吸着体6を用いても同条件で測定を行い、トルエン分解率を比較した。
図17は、本実施の形態のガス処理装置70のシステムブロック図である。ガス処理装置70には、上記各実施の形態によるセラミックスラリーを付着させた平板の合成樹脂発泡体を湾曲して成形した後に焼成して得られた基体を吸着材料で被覆した内部に連通空間を有する三次元骨格構造セラミック多孔体からなる吸着体6を用いた複数の放電反応器1が設置されている。それぞれの放電反応器1の高圧電極2と接地電極3には電圧スイッチング機能を有する高電圧発生装置71が接続され、前記両電極間に高電圧を印加することができる。また、それぞれの放電反応器1の処理ガス供給口3Aにはガス供給装置72が接続されている。ガス供給装置72は、分離設置された流量調節部72A、排気ファン72Bからなっている。処理ガスは、フィルタ73、流量調節バルブ72Aを経て、各放電反応器1の処理ガス供給口3Aに導入されるよう配管接続されている。そして、各ガス排出口3Bには排気ファン72Bが接続され、出口が大気開放されている。また、各放電反応器1の置換ガス供給口4Aには置換ガス供給装置74が接続されている。
排気ファン72Bを駆動させると、その吸引力により、処理ガスはフィルタ73を通り流量調節バルブ72Aを経て処理ガス供給口3Aから放電反応器1に引き入れられる。各放電反応器1へ流れるガス流量は流量調節バルブ72Aにより調節される。導入されたガスは放電空間5に設置された吸着体6の連通空間内を通り、VOC成分を吸着除去され、排出口3Bを通り、排気ファン72Bから大気へ放出される。
また、セラミックスラリーは、アルミナを主成分としたものを用いたが、ムライト、チタニア、ジルコン、ジルコニア、スピネル、コーディエライト、炭化珪素、窒化珪素なども用いることができる。また、焼結により3次元骨格構造を維持できる程度に強度が得られる材料であれば、その他、いずれのセラミック材料であっても使用可能である。
吸着材料についても、疎水性ゼオライトに限らず、メソポーラスシリケート、脱アルミニウムフォージャサイト、高シリカペンタシルゼオライト、シリカゲル、セピオライトなどであってもよいし、他の材料を用いることもできる。
3 接地電極、 3A 処理ガス供給口、 3B ガス排出口、
5 放電空間、 5A ギャップ、 6、16、26、36、56 吸着体、
6A、16A、27A、28A、37A、38A、38C、56A 吸着板、
27、28、37、38 層、
27B、27C、28B、28C、37B、37C、38B、38D、56B 継目、
60A、60B 突起、
70 ガス処理装置、 71 高電圧発生装置、 72 ガス供給装置、
900 基体
Claims (8)
- 第1の電極、この第1の電極の周囲に設けられた第2の電極、前記第1の電極と第2の電極間に形成された放電空間に設けられ、セラミックスラリーを付着させた平板の合成樹脂発泡体を湾曲して成形した後に焼成して得られた基体を吸着材料で被覆した内部に連通空間を有する三次元骨格構造セラミック多孔体からなる筒状の吸着体を備えたことを特徴とする放電反応器。
- 吸着体は軸方向に垂直な断面形状が略円形または略矩形状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の放電反応器。
- 吸着体は周方向に分割されていることを特徴とする請求項1に記載の放電反応器。
- 吸着体は厚さ方向に分割されていることを特徴とする請求項1に記載の放電反応器。
- 吸着体は厚さ方向に分割された各層の周方向又は軸方向の継目位置をずらして配置されていることを特徴とする請求項4に記載の放電反応器。
- 第1の電極および第2の電極の少なくとも一方に、吸着体の継目に嵌合する突起を設けたことを特徴とする請求項1に記載の放電反応器。
- 吸着体は触媒が担持されていることを特徴とする請求項1に記載の放電反応器。
- 請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の放電反応器、この放電反応器の電極間に電圧を印加する高電圧発生装置、この放電反応器へ処理対象ガスを供給するガス供給装置を備えたことを特徴とするガス処理装置。
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