JP2007269906A5 - - Google Patents
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Claims (4)
- 溶解度パラメータが17〜20(J/cm3)1/2の範囲にあり、かつ比表面積が0.005〜1m2/gの範囲にある粒状重合体(L)。
- 重合体の構成単位としてラクトン骨格を有する構成単位(A)を含有する請求項1に記載の粒状重合体(L)。
- 懸濁重合法により製造される請求項1に記載の粒状重合体(L)。
- 半導体製造工程で使用される重合体の精製用である請求項1に記載の粒状重合体(L)。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006095297A JP5285214B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | 粒状架橋重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006095297A JP5285214B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | 粒状架橋重合体 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007269906A JP2007269906A (ja) | 2007-10-18 |
JP2007269906A5 true JP2007269906A5 (ja) | 2009-04-16 |
JP5285214B2 JP5285214B2 (ja) | 2013-09-11 |
Family
ID=38673036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006095297A Active JP5285214B2 (ja) | 2006-03-30 | 2006-03-30 | 粒状架橋重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5285214B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5138234B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2013-02-06 | 東京応化工業株式会社 | 半導体リソグラフィー用樹脂の製造方法 |
JP5512091B2 (ja) * | 2008-03-13 | 2014-06-04 | AzエレクトロニックマテリアルズIp株式会社 | 高精細印刷用インキ組成物およびそれを用いた高精細パターンの形成方法 |
JP6088813B2 (ja) * | 2012-12-14 | 2017-03-01 | 東京応化工業株式会社 | 粗樹脂の精製方法、レジスト用樹脂の製造方法、レジスト組成物の製造方法及びレジストパターン形成方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3970562B2 (ja) * | 2001-07-10 | 2007-09-05 | ダイセル化学工業株式会社 | 粒子状フォトレジスト用高分子化合物とその製造法 |
JP4804730B2 (ja) * | 2004-07-26 | 2011-11-02 | ダイセル化学工業株式会社 | 2−オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン−3−オン環を有する繰り返し単位を含む高分子化合物、及びフォトレジスト用樹脂組成物 |
JP5138234B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2013-02-06 | 東京応化工業株式会社 | 半導体リソグラフィー用樹脂の製造方法 |
JP2007269898A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 樹脂の精製方法 |
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2006
- 2006-03-30 JP JP2006095297A patent/JP5285214B2/ja active Active