JP2007266494A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007266494A JP2007266494A JP2006092097A JP2006092097A JP2007266494A JP 2007266494 A JP2007266494 A JP 2007266494A JP 2006092097 A JP2006092097 A JP 2006092097A JP 2006092097 A JP2006092097 A JP 2006092097A JP 2007266494 A JP2007266494 A JP 2007266494A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- capacitor
- transistor
- memory device
- electrode
- semiconductor memory
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 159
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims abstract description 15
- 230000006870 function Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 33
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 24
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 4
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002353 SrRuO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNSWULZVUKFJHK-UHFFFAOYSA-N [Sr].[Bi] Chemical compound [Sr].[Bi] VNSWULZVUKFJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/0203—Particular design considerations for integrated circuits
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/22—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using ferroelectric elements
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L28/00—Passive two-terminal components without a potential-jump or surface barrier for integrated circuits; Details thereof; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L28/40—Capacitors
- H01L28/55—Capacitors with a dielectric comprising a perovskite structure material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B53/00—Ferroelectric RAM [FeRAM] devices comprising ferroelectric memory capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B53/00—Ferroelectric RAM [FeRAM] devices comprising ferroelectric memory capacitors
- H10B53/30—Ferroelectric RAM [FeRAM] devices comprising ferroelectric memory capacitors characterised by the memory core region
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/06—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
- H01L27/0688—Integrated circuits having a three-dimensional layout
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【課題】リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有する要素素子を備えた半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】本発明の1態様による半導体記憶装置は、半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と前記半導体基板中に前記ゲート電極を挟んで対向して設けられたソース/ドレインとを含むトランジスタと、前記トランジスタの上方に形成され、下部電極、強誘電体膜、上部電極を含む強誘電体キャパシタと、前記下部電極に電気的に接続された第1の配線と、前記上部電極に電気的に接続された第2の配線とを具備し、前記強誘電体キャパシタは、前記上部電極が複数の前記下部電極の一部とそれぞれ同等に重なるように配置された位置ずらしキャパシタであることを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】本発明の1態様による半導体記憶装置は、半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と前記半導体基板中に前記ゲート電極を挟んで対向して設けられたソース/ドレインとを含むトランジスタと、前記トランジスタの上方に形成され、下部電極、強誘電体膜、上部電極を含む強誘電体キャパシタと、前記下部電極に電気的に接続された第1の配線と、前記上部電極に電気的に接続された第2の配線とを具備し、前記強誘電体キャパシタは、前記上部電極が複数の前記下部電極の一部とそれぞれ同等に重なるように配置された位置ずらしキャパシタであることを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、半導体記憶装置に係り、特に、キャパシタを有する半導体記憶装置に関する。
半導体装置の高集積化に伴い、半導体装置に用いられる要素素子の微細化が進められている。要素素子の微細化は、リソグラフィの最小加工寸法を縮小することによって実現されてきている。
しかしながら、現状の半導体装置は、この微細化に対する要求を充分に満たしているとは言えない。例えば、特許文献1に開示されているように、強誘電体半導体記憶装置のような半導体記憶装置では、要素素子であるキャパシタの側面を傾斜させて形成している。この構造は、キャパシタの占有面積に比較して有効面積が小さくなり微細化に適した構造であるとは言い難い。上記のような構造にする理由は、キャパシタの側面を垂直に加工しようとすると、エッチング副生成物がキャパシタの側面に形成されるというエッチング加工上の問題を回避するためである。例えば、エッチング副生成物が導電性である場合に、キャパシタの上部電極と下部電極とがショートすることを回避するためである。その上、例え、キャパシタの側面を垂直に加工できたとしても、その寸法は、リソグラフィの最小加工寸法により規定される。具体的に、リソグラフィの最小加工寸法をLとした場合、キャパシタの面積をL2より小さくすることができない。
特開2001−257320号公報
本発明は、リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有する要素素子を備えた半導体記憶装置を提供する。
本発明の1態様による半導体記憶装置は、半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と前記半導体基板中に前記ゲート電極を挟んで対向して設けられたソース/ドレインとを含むトランジスタと、前記トランジスタの上方に形成され、下部電極、強誘電体膜、上部電極を含む強誘電体キャパシタと、前記下部電極に電気的に接続された第1の配線と、前記上部電極に電気的に接続された第2の配線とを具備し、前記強誘電体キャパシタは、前記上部電極が複数の前記下部電極の一部とそれぞれ同等に重なるように配置された位置ずらしキャパシタであることを特徴とする。
本発明の他の1態様による半導体記憶装置は、半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と前記半導体基板中に前記ゲート電極を挟んで対向して設けられたソース/ドレインとを含み、電気的に直列接続された複数のトランジスタと、各々の前記トランジスタと電気的に並列に接続され、下部電極、強誘電体膜、上部電極を含む複数の強誘電体キャパシタと、前記直列接続された複数のトラジスタの一方の端に接続された第1の配線と、前記直列接続された複数のトラジスタの他方の端に接続された第2の配線と
を具備し、前記強誘電体キャパシタは、各々の前記下部電極及び上部電極が正方形であり、互いに位置をずらして配置され、それぞれ複数の強誘電体キャパシタによって同等に共有される位置ずらしキャパシタであり、前記トランジスタの直列接続方向は、前記正方形の下部電極及び上部電極の1つの対角線方向であることを特徴とする。
を具備し、前記強誘電体キャパシタは、各々の前記下部電極及び上部電極が正方形であり、互いに位置をずらして配置され、それぞれ複数の強誘電体キャパシタによって同等に共有される位置ずらしキャパシタであり、前記トランジスタの直列接続方向は、前記正方形の下部電極及び上部電極の1つの対角線方向であることを特徴とする。
本発明により、リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有する要素素子を備えた半導体記憶装置が提供される。
本発明の実施形態を、添付した図面を参照して以下に詳細に説明する。図では、対応する部分は、対応する参照符号で示している。以下の実施形態は、一例として示されたもので、本発明の精神から逸脱しない範囲で種々の変形をして実施することが可能である。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態による強誘電体記憶装置100の平面図の一例を図1に示す。図1は、強誘電体キャパシタ40の電極部分LE(42),UE(46)の配置を示している。本実施形態の強誘電体記憶装置100は、強誘電体キャパシタ40の上部電極UEを下部電極LEに対して位置をずらせた構造の位置ずらしキャパシタSCを有する。この場合、下部電極LE及び上部電極UEの寸法をそれぞれリソグラフィの最小加工寸法Lにより規定されるL×Lとすると、ずれ量は、平面上で横方向及び縦方向にそれぞれL/2である。このように上部電極UEを配置することにより、1個の下部電極LE上に4個の上部電極UEのそれぞれ約1/4が重なる。それぞれ1個の電極LE,UEに対してこれらのそれぞれの重なり部分に4個のキャパシタ40が形成される。すなわち、従来のメモリセルの4倍の高密度化が可能になる。その結果、1個のキャパシタ40の面積は、最大に見積もっても(L/2)×(L/2)=L/4になる。実際には、各電極間の分離、各電極に接続するコンタクトプラグの形成等を考慮すると、1個のキャパシタ面積はさらに小さくなる。
本発明の第1の実施形態による強誘電体記憶装置100の平面図の一例を図1に示す。図1は、強誘電体キャパシタ40の電極部分LE(42),UE(46)の配置を示している。本実施形態の強誘電体記憶装置100は、強誘電体キャパシタ40の上部電極UEを下部電極LEに対して位置をずらせた構造の位置ずらしキャパシタSCを有する。この場合、下部電極LE及び上部電極UEの寸法をそれぞれリソグラフィの最小加工寸法Lにより規定されるL×Lとすると、ずれ量は、平面上で横方向及び縦方向にそれぞれL/2である。このように上部電極UEを配置することにより、1個の下部電極LE上に4個の上部電極UEのそれぞれ約1/4が重なる。それぞれ1個の電極LE,UEに対してこれらのそれぞれの重なり部分に4個のキャパシタ40が形成される。すなわち、従来のメモリセルの4倍の高密度化が可能になる。その結果、1個のキャパシタ40の面積は、最大に見積もっても(L/2)×(L/2)=L/4になる。実際には、各電極間の分離、各電極に接続するコンタクトプラグの形成等を考慮すると、1個のキャパシタ面積はさらに小さくなる。
上記のように強誘電体キャパシタ40の上部電極UE(46)と下部電極LE(42)とをずらせて配置した位置ずらしキャパシタSCとすることにより、リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有するキャパシタを備えた強誘電体記憶装置100を提供できる。なお、図1の例では丸印で示したように、コンタクトプラグ36,50をそれぞれの電極LE,UEの中央に配置することができる。この例では、下部電極LEのコンタクトプラグ36は、下部電極LEの下面に接続され、上部電極UEのコンタクトプラグ50は、上部電極UEの上面に接続される。
本実施形態の半導体記憶装置100で所望の1個のキャパシタだけをアクセスするためには、上部電極UE及び下部電極LEのそれぞれ1個を選択しなければならない。しかし、従来型の平面型トランジスタを用いて選択しようとすると、1本のワード線に接続されている全てのキャパシタが同時に選択される。すなわち、電極を共有し、同じワード線に接続されている複数のキャパシタが、実質的に1個のキャパシタになり上記の高密度化を実現できない。
1個の電極だけを選択する方法の1つに、クロスポイント型トランジスタを使用する方法がある。具体的には、下部電極LE(42)に接続する第1のクロスポイント型トランジスタXTL及び上部電極UE(46)に接続する第2のクロスポイント型トランジスタXTUを用いる。このクロスポイント型トランジスタXTは、2個の垂直型トランジスタVT1,VT2を直列に接続し、それぞれのワード線(ゲート電極)WL1,WL2が互いに直交するように配置される。このクロスポイント型トランジスタXTでは、両方のトランジスタがONになった時にだけ接続されているキャパシタの電極を選択する。クロスポイント型トランジスタを構成する垂直トランジスタの詳細は、J. M. Hergenrother et al., The vertical replacement-gate (VRG) MOSFET, Solid-State Electronics 46, pp.937-950, 2002を参照されたい。
位置ずらしキャパシタSCにおけるクロスポイント型トランジスタXTの接続方法を図2に示す。図2では簡単のためにクロスポイント型トランジスタXTを2重丸で示している。図2(a)は、それぞれの電極42,46の下及び上にクロスポイント型トランジスタXTを別々に配置する方法である。位置ずらしキャパシタSCの下側に下部電極42に接続する第1のクロスポイント型トランジスタXTLが配置され、上側に上部電極46に接続する第2のクロスポイント型トランジスタXTUが配置される。図2(b)及び図2(c)は、位置ずらしキャパシタSCの上側又は下側のいずれか一方に第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの両者を配置する方法である。図2(a)の場合は、コンタクトプラグを形成するために電極の面積を大きくする必要がなくキャパシタを最小限の寸法に抑えられる。しかし、垂直トランジスタVTが4層必要になるため、工程数が多くなる。一方の側にだけクロスポイント型トランジスタXTを配置する図2(b)、(c)の場合は、垂直トランジスタVTは2層で良い反面、コンタクトプラグの面積だけ電極が大きくなり、キャパシタアレイ全体として大きくなる。
図3は、図1に示した位置ずらしキャパシタSCを含む半導体記憶装置100において、図2(a)のようクロスポイント型トランジスタXTと接続した場合の位置ずらしキャパシタSCとクロスポイント型トランジスタXTの断面構造の一例を説明するために示す図である。図3に示したように、半導体基板5上に形成したトランジスタ10を覆って形成された第1の層間絶縁膜18の上方に形成された位置ずらしキャパシタSC及び第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL及びXTUを示している。第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL及びXTUは、それぞれ直列に接続された2個の垂直トランジスタVT1,VT2及びVT3,VT4を含む。なお、第1のクロスポイント型トランジスタXTLと第2のクロスポイント型トランジスタXTUとは、紙面の前後方向にもずれているため、実際には図3に示した断面は存在しないことに注意する。
半導体基板5上に形成されたトランジスタ10を覆う第1の層間絶縁膜18上に第1の配線M1が設けられる。第1の配線M1は、共通プレート線として機能する。
第1の配線M1上に第1のクロスポイント型トランジスタXTLが設けられる。第1のクロスポイント型トランジスタXTLは、直列に接続された第1の垂直トランジスタVT1及び第2の垂直トランジスタVT2を含む。第1の垂直トランジスタVT1は、第1の配線M1上に設けられ、垂直に配置された第1のソース/ドレイン20、第1のチャネル領域26、及び第2のソース/ドレイン28を含む。第1のチャネル領域26の周囲に設けられた第1のゲート絶縁膜24−1を介して第1のゲート電極WL1が設けられる。第1のゲート電極WL1は、図の横方向に配置された複数の第1のゲート電極を接続して第1のワード線として機能する。
第1の垂直トランジスタVT1上に第2の垂直トランジスタVT2が設けられる。第2の垂直トランジスタVT2は、同様に、第2ソース/ドレイン28、第2のチャネル領域34、第3のソース/ドレイン36、第2のゲート絶縁膜32−1、及び第2のゲート電極WL2を含む。第2のゲート電極WL2は、第1のゲート電極WL1と直交する方向に設けられ、図では紙面に垂直な方向に延伸して配置される。第2のゲート電極WL2は、第2のワード線として機能する。第2のソース/ドレイン28は、第1及び第2の垂直トランジスタVT1及びVT2で共有される。また、第3のソース/ドレイン36は、この上に形成される位置ずらしキャパシタSCの下部電極42に接続するコンタクトプラグとして共用される。
第1のクロスポイント型トランジスタXTL上に位置ずらしキャパシタSCが設けられる。位置ずらしキャパシタSCは、下部電極42、強誘電体膜44、及び上部電極46を含む。下部電極42は、第1のクロスポイント型トランジスタXTLの第3のソース/ドレイン36に接続される。なお、ここでは、下部電極42及び上部電極46は、一辺の長さがリソグラフィの最小加工寸法Lである正方形とする。上部電極46は、下部電極42に対して、紙面の横方向だけでなく紙面に垂直な方向にもほぼL/2だけずらして形成される。下部電極42と上部電極46とが重なる部分にそれぞれ1個の強誘電体キャパシタ40が形成される。
位置ずらしキャパシタSC上に第2のクロスポイント型トランジスタXTUが設けられる。第2のクロスポイント型トランジスタXTUは、直列に接続された2個の垂直トランジスタVT3及びVT4を含む。垂直トランジスタVT3及びVT4は、上記の垂直トランジスタVT1及びVT2と同様であるため、説明を省略する。第2のクロスポイント型トランジスタXTUの第4のソース/ドレイン50は、位置ずらしキャパシタSCの上部電極46に接続される。したがって、第1のクロスポイント型トランジスタXTLと第2のクロスポイント型トランジスタXTUとは、互いに紙面の横方向及び前後方向にそれぞれほぼL/2だけずれた位置に設けられる。
第2のクロスポイント型トランジスタXTUの上に第2の配線M2が設けられる。第2の配線M2は、第6のソース/ドレイン66に接続され、ビット線として機能する。ここで、第1の配線M1及び第2の配線M2は、線である必要はなく、平面とすることもできる。各配線M1,M2及びゲート電極(ワード線)WL1,WL2,WL3,WL4,は、それぞれコンタクトプラグVPxを介して第3の配線M3に接続される。
図4は、図2(a)の配置の位置ずらしキャパシタSCと第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの接続の一例を説明するために示す3次元の回路図である。位置ずらしキャパシタSCの下側に下部電極LE(42)に接続する2個の垂直トランジスタVT1,VT2が直列に接続された第1のクロスポイント型トランジスタXTLが配置される。キャパシタSCの上側には、上部電極UE(46)に接続する第2のクロスポイント型トランジスタXTUが配置される。4個の下部電極LE1からLE4が図示され、それぞれの下部電極に第1のクロスポイント型トランジスタXTL1からXTL4が接続される。下部電極、例えば、LE3には4個のキャパシタC1からC4が設けられている。それぞれのキャパシタC1からC4は、上部電極UE1からUE4に接続される。各上部電極にも4個のキャパシタが接続されているが、各キャパシタは、それぞれ異なる下部電極に接続される。各上部電極UE1からUE4は、さらに、第2のクロスポイント型トランジスタXTU1からXTU4にそれぞれ接続されている。
下部電極LE3上の4個のキャパシタC1からC4のうち、例えば、キャパシタC1は、下部電極LE3を介して第1のクロスポイント型トランジスタXTL3に接続され、上部電極UE1を介して第2のクロスポイント型トランジスタXTU1に接続される。同様に、C2はU2を介してXTU2に接続され、C3はUE3を介してXTU3に接続され、C4はUE4を介してXTU4に接続される。したがって、例えば、第1のクロスポイント型トランジスタXTL3と第2のクロスポイント型トランジスタXTU2とを選択すると、キャパシタC2だけを選択することができ、これ以外のキャパシタは選択されない。
次に、図3に示された半導体記憶装置100の製造方法の一例を図5から図6の工程断面図を参照して説明する。ここでは、位置ずらしキャパシタSCに直接関係する、第1のクロスポイント型トランジスタXTL、位置ずらしキャパシタSC、及び第2のクロスポイント型トランジスタXTUの製造方法を説明する。
(1)図5(a)を参照して、トランジスタ10は、半導体基板5、例えば、シリコン基板上にゲート絶縁膜12を介して形成されたゲート電極14、半導体基板5中にゲート電極14を挟んで対向して設けられたソース/ドレイン16を含む。このトランジスタ10を覆って形成された第1の層間絶縁膜18上に、第1の配線M1を形成する。第1の層間絶縁膜18として、例えば、CVD(chemical vapor deposition)により形成したシリコン酸化膜(SiO2膜)を使用できる。第1の配線M1として、例えば、アルミニウム(Al)、タングステン(W)を使用できる。第1の配線M1は、位置ずらしキャパシタSCの共通プレート線として機能する。
(2)次に、第1の配線M1上に第1のクロスポイント型トランジスタXTLを形成する。まず、第1の配線M1上の全面に第1の半導体層20を堆積する。第1の半導体層20は、例えば、リン(P)又はヒ素(As)を高濃度にドープしたn型シリコンを使用でき、CVDにより形成できる。第1の半導体層20をリソグラフィ及びエッチングによりパターニングして、第1のソース/ドレイン20を形成する。
(3)第1のソース/ドレイン20を覆うように全面に第2の層間絶縁膜22を堆積し、例えば、CMP(chemical mechanical polishing)により表面を平坦化する。この平坦化時に第1のソース/ドレイン20が露出しないように、第1のソース/ドレイン20上に第2の層間絶縁膜22が薄く残るようにする。第2の層間絶縁膜22は、例えば、プラズマCVDにより形成するSiO2膜を使用することができる。
(4)第2の層間絶縁膜22上の全面にゲート電極になる導電性材料を堆積し、パターニングして第1のゲート電極WL1を形成する。導電性材料として、例えば、アルミニウム、タングステン若しくはリン又はヒ素を高濃度にドープしたシリコンを使用できる。さらに、上記のパターニング時に、第1のソース/ドレイン20上のほぼ中央の位置に第1のゲート電極WL1を貫通する開口部を形成する。この開口部は、第1のゲート電極WL1を切断しないように、その幅の内側に形成される。
(5)第1のゲート電極WL1を覆い、上記の開口部を埋めるように第3の層間絶縁膜24を堆積し、例えば、CMPにより表面を平坦化する。この平坦化時に第1のゲート電極WL1が露出しないように、第1のゲート電極WL1上に第3の層間絶縁膜24が薄く残るようにする。そして、上記の開口部の内側に第1のソース/ドレイン20に達する第2の開口部を、例えば、RIE(reactive ion etching)により形成する。このエッチング時に、第1のゲート電極WL1の側面に第3の層間絶縁膜24−1が薄く残るようにする。この第3の層間絶縁膜24−1は、第1の垂直トランジスタVT1のゲート絶縁膜になる。
(6)第2の開口部を埋めるように第2の半導体層26を、例えば、CVDにより形成し、第3の層間絶縁膜24上に形成された第2の半導体層26を、例えば、CMPにより除去する。第2の半導体層26は、第1の半導体層20と異なる導電型を有し、例えば、ホウ素(B)をドープしたp型シリコンである。このようにして、第1のチャネル領域26が形成される。
(7)第3の層間絶縁膜24及び第1のチャネル領域26上の全面に第3の半導体層28を形成する。第3の半導体層28は、第1の半導体層20と同様の、例えば、リン(P)又はヒ素(As)を高濃度にドープしたn型シリコンを使用できる。第3の半導体層28をパターニングして、第1のチャネル領域26上に第2のソース/ドレイン28を形成する。このようにして、図5(a)に示した構造の第1の垂直トランジスタVT1が形成される。
(8)図5(b)を参照して、第1の垂直トランジスタVT1上に第2の垂直トランジスタVT2を形成する。第1の垂直トランジスタVT1の第2のソース/ドレイン28は、第2の垂直トランジスタVT2の下側のソース/ドレインと共有される。したがって、第2の垂直トランジスタVT2を形成する工程は、上記の工程(3)の層間絶縁膜の形成から工程(7)のソース/ドレインの形成を繰り返す。このようにして、図5(b)に示されているように、第2のソース/ドレイン28、第2のチャネル領域34、第3のソース/ドレイン36、及び第2のゲート電極WL2を含む第2の垂直トランジスタVT2が形成される。ここで、第2のゲート電極WL2は、第1のゲート電極WL1と直交する方向(図では、紙面に垂直な方向)に延伸するように設けられる。
その後、第3のソース/ドレイン36を覆うように第6の層間絶縁膜38を堆積し、例えば、CMPにより第3のソース/ドレイン36をストッパとして平坦化する。
このようにして、第1及び第2の垂直トランジスタVT1,VT2を含む第1のクロスポイント型トランジスタXTLが形成される。
(9)次に、第1のクロスポイント型トランジスタXTL上に位置ずらしキャパシタSCを形成する。第6の層間絶縁膜38及び第3のソース/ドレイン36上の全面に強誘電体キャパシタの下部電極材料42を堆積する。下部電極材料として、例えば、窒化チタン・アルミニウム(TiAlN)、酸化ストロンチウム・ルテニウム(SrRuO3)、白金(Pt)を使用できる。下部電極材料42をパターニングして、第3のソース/ドレイン36に接続する下部電極42(LE)を形成する。必要に応じて、下部電極42間を層間絶縁膜43、例えば、SiO2膜で平坦化することができる。
(10)下部電極42上に強誘電体膜44及び上部電極材料46を順に堆積する。強誘電体膜として、ペロブスカイト構造の金属酸化物、例えば、チタン酸ジルコニウム鉛(PZT)、タンタル酸ストロンチウム・ビスマス(SBT)、を使用できる。上部電極材料46mとして、下部電極42と同様の材料を使用できる。
上部電極材料46をパターニングして上部電極46を形成する。このパターニングは、図1に示したように、下部電極42のピッチLの半分(L/2)だけ左右方向及び前後方向にずらせて行い、上部電極46の四隅が4個の下部電極42にそれぞれ同等に重なるようにする。この上部電極46と下部電極42とが重なった部分が、それぞれ1個の強誘電体キャパシタ40になる。
そして、全面に第7の層間絶縁膜48を堆積し、例えば、CMPにより平坦化して、図5(b)に示した位置ずらしキャパシタSCが形成される。
(11)図6を参照して、位置ずらしキャパシタSC上に第3の垂直トランジスタVT3及び第4の垂直トランジスタVT4からなる第2のクロスポイント型トランジスタXTUを形成する。第2のクロスポイント型トランジスタXTUの形成方法は、第1のクロスポイント型トランジスタXTLと同様であるため、説明を省略する。
第3の垂直トランジスタVT3は、位置ずらしキャパシタSCの上部電極46に接続する第4のソース/ドレイン50、第3のチャネル領域56、第5のソース/ドレイン58、及び第3のゲート電極WL3を含む。第4の垂直トランジスタVT4は、第5のソース/ドレイン58、第4のチャネル領域64、第6のソース/ドレイン66、及び第4のゲート電極WL4を含む。第5のソース/ドレイン58は、第3及び第4の垂直トランジスタVT3、VT4で共有される。第6のソース/ドレイン66は、この上に形成される第2の配線M2に接続するコンタクトプラグを兼ねる。第3のゲート電極WL3と第4のゲート電極WL4とは、互いに直交する方向に設けられる。
(12)第2のクロスポイント型トランジスタXTU上に第6のソース/ドレイン66に接続する第2の配線M2を形成する。第2の配線M2は、共通ビット線であるため、線状にパターニングすることは、必ずしも必要でなく平面状とすることができる。第2の配線M2上に層間絶縁膜70を堆積し、例えば、CMPにより平坦化する。複数の層間絶縁膜に各配線M1,M2及び各ゲート電極WL1からWL4に達するコンタクトプラグVPxを形成する。さらに、層間絶縁膜70上に各コンタクトプラグVPxに接続する第3の配線を形成する。
このようにして、図6に示した本実施形態によるクロスポイント型トランジスタを含む位置ずらしキャパシタを形成できる。
なお、本実施形態の位置ずらしキャパシタは、4個のキャパシタが1個の電極を共有する。このため、選択したキャパシタと同じ電極に接続されているキャパシタにも電圧が印加されるため、強誘電体記憶装置に本発明を使用する場合には強誘電体膜が反転しないように注意する必要がある。
上記のように本実施形態により、強誘電体キャパシタの上部電極を下部電極に対してずらせて形成する位置ずらしキャパシタが形成される。位置ずらしキャパシタとすることで、リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有するキャパシタアレイを形成することが可能になり、キャパシタの高密度化が可能な半導体記憶装置を提供することができる。
(変形例1)
上記の第1の実施形態は、図2に示したように位置ずらしキャパシタSCとクロスポイント型トランジスタXTとの3種類の配置のうち、図2(a)に示した位置ずらしキャパシタの上下にそれぞれクロスポイント型トランジスタXTを配置する場合であった。変形例1は、図2(b)に示したように、位置ずらしキャパシタSCの上側にそれぞれ下部電極42に接続する第1のクロスポイント型トランジスタXTL及び上部電極46に接続する第2のクロスポイント型トランジスタXTUを同じトランジスタ層で形成した半導体記憶装置110である。この半導体記憶装置110は、2層のトランジスタ層で第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの両者を形成できる。そのため、製造工程を簡略化できる。
上記の第1の実施形態は、図2に示したように位置ずらしキャパシタSCとクロスポイント型トランジスタXTとの3種類の配置のうち、図2(a)に示した位置ずらしキャパシタの上下にそれぞれクロスポイント型トランジスタXTを配置する場合であった。変形例1は、図2(b)に示したように、位置ずらしキャパシタSCの上側にそれぞれ下部電極42に接続する第1のクロスポイント型トランジスタXTL及び上部電極46に接続する第2のクロスポイント型トランジスタXTUを同じトランジスタ層で形成した半導体記憶装置110である。この半導体記憶装置110は、2層のトランジスタ層で第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの両者を形成できる。そのため、製造工程を簡略化できる。
図7は、本変形例の半導体記憶装置110において、位置ずらしキャパシタSCとクロスポイント型トランジスタXTとの配置を説明するために示す図である。図7(a)は、平面図であり、図7(b)は、(a)に切断線7B−7Bで示した第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL、XTUを含む斜め方向の断面図である。図では、トランジスタ層に形成する層間絶縁膜を省略して示している。
図7(a)では、簡略化のために第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの位置を各電極とのコンタクト位置で代表して丸印で示してあり、ソース/ドレインを省略して表示している。図では下部電極LE(42)を破線で示し、上部電極UE(46)を実線で示している。下部電極42と上部電極46とが重なる部分(斜線部)にそれぞれ1個の強誘電体キャパシタ40が形成される。
本変形例では、第1の層間絶縁膜18上に下部電極42、強誘電体膜44、上部電極46を含む位置ずらしキャパシタSCを形成する。位置ずらしキャパシタSCを層間絶縁膜48で平坦化した後で、下部電極42の中央に接続するコンタクトプラグ80を層間絶縁膜48及び強誘電体膜44中に設ける。このコンタクトプラグ80上に、第1及び第2の垂直トランジスタVT1及びVT2を含み下部電極42に接続する第1のクロスポイント型トランジスタXTLを形成する。第2の垂直トランジスタVT2の第3のソース/ドレイン66aに接続する第1の配線M1(プレート線)を第1のクロスポイント型トランジスタXTL上に設ける。上部電極46上に第1の実施形態と同様に第3及び第4の垂直トランジスタVT3及びVT4を含む第2のクロスポイント型トランジスタXTUを形成する。第4の垂直トランジスタVT4の第6のソース/ドレイン66bに接続する第2の配線M2(ビット線)を第2のクロスポイント型トランジスタXTU上に設ける。
上記の第1及び第3の垂直トランジスタVT1とVT3は、同じ第1のトランジスタ層50,56,58で形成され、同様に第2及び第4の垂直トランジスタVT2とVT4は、第2のトランジスタ層58,64,66で形成される。図7(a)に示されているように、第1の垂直トランジスタVT1の第1のゲート電極WL1と第3の垂直トランジスタVT3の第3のゲート電極WL3とは、同じ配線層で形成されるが、1/2ピッチずれた平行な配線であるため互いに交差しない。同様に、第2の垂直トランジスタVT2の第2のゲート電極WL2と第4の垂直トランジスタVT4の第4のゲート電極WL4も、交差しない。
図では、上部電極46に接続するためのコンタクトプラグを形成しない場合を示したが、コンタクトプラグを形成することも可能である。
(変形例2)
第1の実施形態の変形例2の半導体記憶装置120は、図2(c)に示したように、第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの上に位置ずらしキャパシタSCを形成する構造である。本変形例の半導体記憶装置120は、図8に示したように、図7に示した半導体記憶装置の上下を反転させた構造であるため、詳細な説明を省略する。
第1の実施形態の変形例2の半導体記憶装置120は、図2(c)に示したように、第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの上に位置ずらしキャパシタSCを形成する構造である。本変形例の半導体記憶装置120は、図8に示したように、図7に示した半導体記憶装置の上下を反転させた構造であるため、詳細な説明を省略する。
本変形例の半導体記憶装置120では、第1及び第2のクロスポイント型トランジスタXTL,XTUの上に位置ずらしキャパシタSCを形成する工程は、第1の実施形態とほぼ同様である。しかし、主な相違点は、第1の層間絶縁膜18上に第1及び第2の配線M1,M2を設けること、下部電極42上に強誘電体膜44を形成した後で強誘電体膜44を貫通して第2のクロスポイント型トランジスタXTUと上部電極46とを接続するためのコンタクトプラグ82を形成することである。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態の半導体記憶装置200は、位置ずらしキャパシタSCをチェーン型メモリセルに適用したものである。本実施形態の半導体記憶装置200の一例を図9を参照して説明する。図9(a)は、平面図であり、(b)は、(a)に切断線9B−9Bで示した直列接続したチェーン方向の断面構造を示す断面図である。
本発明の第2の実施形態の半導体記憶装置200は、位置ずらしキャパシタSCをチェーン型メモリセルに適用したものである。本実施形態の半導体記憶装置200の一例を図9を参照して説明する。図9(a)は、平面図であり、(b)は、(a)に切断線9B−9Bで示した直列接続したチェーン方向の断面構造を示す断面図である。
チェーン型メモリセルでは、キャパシタ40とMOSトランジスタ10が並列に電気的に接続される。キャパシタ40として、例えば、強誘電体キャパシタを使用することができる。本実施形態では、図9(b)に示したように、2個のキャパシタ40a,40bが1個の下部電極42a上に形成される。例えば、下部電極42aは、第1のコンタクトプラグ84によりMOSトランジスタ10aの一方のソース/ドレイン16aに接続される。上部電極46は、下部電極42と1/2ピッチずらして形成され、上部電極46aも2個のキャパシタ40b,40cに接続される。上部電極46aは、第2のコンタクトプラグ86を介してMOSトランジスタ10aの他方のソース/ドレイン16bに接続される。さらに、図9(a)に示したように、正方形のキャパシタ電極42,46の一辺の方向とチェーンの接続方向とを45°傾ける、すなわち、キャパシタ電極42,46の1つの対角線方向に直列接続する。これによりコンタクトプラグ84,86を形成するための間隔を実効的に21/2倍にすることができ、第2のコンタクトプラグ86を形成するためのプロセスマージンを大きくできる。したがって、プロセスマージンを同じにすれば、その分だけ微細化が可能になる。MOSトランジスタ10のゲート電極14は、チェーン接続方向と直交する方向に設けられた複数のMOSトランジスタ10のゲート電極14を接続してワード線WLとして機能する。
本実施形態の位置ずらしキャパシタSCを含む半導体記憶装置200は、従来の製造方法により形成できる。ここでは、図9(b)を参照して製造方法の一例を簡単に説明する。
半導体基板5、例えば、シリコン基板5上にゲート絶縁膜12及びゲート電極材料14を形成し、リソグラフィ及びエッチングによりゲート電極14に加工する。ゲート電極14をマスクとして、例えば、ヒ素(As)を半導体基板5にイオン注入してソース/ドレイン16を形成する。このようにしてMOSトランジスタ10が形成される。MOSトランジスタ10を第1の層間絶縁膜18で覆って平坦化する。MOSトランジスタ10の一方のソース/ドレイン16aに達する第1のコンタクトプラグ84を第1の層間絶縁膜18中に形成する。
第1のコンタクトプラグ84上に位置ずらしキャパシタSCの下部電極42を形成する。図9(a)に示したように、メモリセルのチェーン方向、すなわち、直列接続方向に対して、下部電極42の一辺は、45°傾けた方向に形成される。誘電体膜44、例えば、強誘電体膜を全面に堆積し、キャパシタの形状にパターニングして、層間絶縁膜88で平坦化する。この平坦化は、誘電体膜44を堆積する前に行うことが可能であり、誘電体膜44をパターニングしないことも可能である。MOSトランジスタ10aの他方のソース/ドレイン16bに達する第2のコンタクトプラグ86を層間絶縁膜88及び第1の層間絶縁膜18中に形成する。そして、第2のコンタクトプラグ86に接続する上部電極46を形成する。上部電極46は、下部電極42と縦方向、横方向ともに1/2ピッチずらして形成し、4個の下部電極42と同等に重なるようにする。このようにして、図9(b)に示した、位置ずらしキャパシタSCを含む半導体記憶装置200を形成できる。
上記のように、メモリセルのチェーン方向とキャパシタ電極42,46とを45°傾けて形成することにより、第1及び第2のコンタクトプラグ84,86をキャパシタ電極42,46の対角線方向に配置できる。したがって、第2のコンタクトプラグ86を形成する領域を実効的に21/2倍に拡大することができ、第2のコンタクトプラグ86を形成するためのマージンを大きくできる。
さらに本実施形態により、強誘電体キャパシタの上部電極を下部電極に対してずらせて形成する位置ずらしキャパシタとすることで、リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有するキャパシタアレイを形成することが可能であり、キャパシタの高密度化が可能な半導体記憶装置を提供することができる。
(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態の半導体記憶装置は、六角形をした下部電極を有する強誘電体キャパシタを含むCOB(Capacitor on Bit Line)型の半導体記憶装置である。この構造により、半導体記憶装置の高密度化が可能になる。六角形を密充填すると、それぞれの中心が1/2ピッチ交互にずれる。そのため、本実施形態は、2トランジスタ−2キャパシタ(2T−2C)モードで動作させるのに適した構造である。しかし、1トランジスタ−1キャパシタ(1T−1C)モードで動作させることも可能である。
本発明の第3の実施形態の半導体記憶装置は、六角形をした下部電極を有する強誘電体キャパシタを含むCOB(Capacitor on Bit Line)型の半導体記憶装置である。この構造により、半導体記憶装置の高密度化が可能になる。六角形を密充填すると、それぞれの中心が1/2ピッチ交互にずれる。そのため、本実施形態は、2トランジスタ−2キャパシタ(2T−2C)モードで動作させるのに適した構造である。しかし、1トランジスタ−1キャパシタ(1T−1C)モードで動作させることも可能である。
図10は、本実施形態の半導体記憶装置300を説明するために示す、半導体記憶装置の構造の一例である。図10(a)は、平面図であり、図10(b)は、図10(a)に10B−10Bで示した切断線に沿ったトランジスタを含む断面図であり、図10(c)は、図10(a)に10C−10Cで示した切断線に沿ったビット線BLを含む断面図である。
本実施形態の半導体記憶装置300は、MOSトランジスタTr(10)、強誘電体キャパシタC(40)、ワード線WL、ビット線BL及びプレート線PLを具備する。本実施形態の強誘電体キャパシタ40は、下部電極42が六角形の平面形状を有し、密充填するように配置される。MOSトランジスタ10は、半導体基板5上に形成される。MOSトランジスタ10のゲート電極14は、図10(a)の縦方向に配列された複数のMOSトランジスタ10のゲート電極を接続してワード線WLとして機能する。コンタクトプラグ90と92を結ぶアクティブ領域AAが、半導体基板5中にL字型に形成され、図10(a)に破線で示されている。アクティブ領域AAとワード線WLとの交点の位置が、MOSトランジスタ10のチャネル領域になる。ビット線BLは、ワード線WLと直交する図10(a)の横方向に延伸するように配置され、MOSトランジスタ10の一方のソース/ドレイン16に接続される。他方のソース/ドレイン16は、下部電極42に接続される。強誘電体キャパシタ40は、六角形の下部電極42、強誘電体膜44、及び上部電極46を含む。上部電極46は、ワード線WL方向に並ぶ2列の下部電極42のそれぞれほぼ半分と重なるようにワード線WL方向に延伸して配置され、共通プレート線PLとして機能する。したがって、1個の下部電極42上には、それぞれ2個の強誘電体キャパシタ40が形成され、1個の強誘電体キャパシタ40は、下部電極42のほぼ半分の面積を有する。下部電極42に接続する第1のコンタクトプラグ90とビット線BLに接続する第2のコンタクトプラグ92とは、ビット線BLに平行な同一断面に形成できない。そのため、アクティブ領域AAは、図10(a)に破線で示したようにL字型に形成される。
次に、本実施形態の強誘電体記憶装置300の動作を説明する。
A)2T−2C動作
図10(a)に斜線を施して示した2個のトランジスタTr[1],Tr[2]及び2個の強誘電体キャパシタC[1],C[2]からなる2T−2Cメモリセルの例を考える。2個のトランジスタTr[1],Tr[2]は、ワード線WL[1],WL[2]によりそれぞれ制御される。各トランジスタTr[1],Tr[2]の一方のソース/ドレインは、それぞれビット線BL[1],BL[2]に接続される。2個の強誘電体キャパシタC[1],C[2]の上部電極は、プレート線PL[1]に共通に接続される。
図10(a)に斜線を施して示した2個のトランジスタTr[1],Tr[2]及び2個の強誘電体キャパシタC[1],C[2]からなる2T−2Cメモリセルの例を考える。2個のトランジスタTr[1],Tr[2]は、ワード線WL[1],WL[2]によりそれぞれ制御される。各トランジスタTr[1],Tr[2]の一方のソース/ドレインは、それぞれビット線BL[1],BL[2]に接続される。2個の強誘電体キャパシタC[1],C[2]の上部電極は、プレート線PL[1]に共通に接続される。
強誘電体キャパシタC[1],C[2]は、それぞれ図11に示した容量−電圧特性を有し、同じヒステリシス特性を示す。ここで、強誘電体キャパシタは、プレート線電圧VPLがビット線電圧VBLより大きい場合に、図11に上向きの矢印で示した正方向に分極するものとする。
強誘電体キャパシタに何も書かれていない状態(図11、点O)から書き込む場合を説明する。
まず、WL[1],WL[2]を“High”にし、他のWLを、“Low”にし、PL[1]以外の全てのPLを、フローティングにする。
1)BL[1]を0V、BL[2]を1.8Vにして、PL[1]を0Vにすると、C[2]にだけ電位差−1.8Vが印加されて、C[2]は負方向に分極する(図11、点A)。しかし、C[1]は、変化しない。
2)BL[1],BL[2]をそのままの電位に保ったままで、PL[1]を1.8Vにすると、C[1]に電位差+1.8Vが印加されて、C[1]は正方向に分極する(点C)。この電位では、C[2]の電位差は0Vであるため、C[2]は負方向の分極を保持する(点B)。
3)この状態で、全ての電位を0Vにする(BL[1]=BL[2]=PL[1]=WL[1]=WL[2]=0V)。すなわち、電源をオフにすると、C[1]は正方向(点D)、C[2]は負方向(点B)に互いに逆方向に書き込まれる。
次に、読み出す場合を説明する。初期の設定は、書き込みと同様に、WL[1],WL[2]を“High”にし、他のWLを“Low”にし、PL[1]以外の全てのPLをフローティングにする。
1)BL[1]、BL[2]を0Vにして、PL[1]を1.8Vにすると、C[1]の電位差は+1.8Vであるため、C[1]は点Dから点Cへ変化するが、分極の状態は正のまま変わらない。C[2]の電位差も+1.8Vであるため、C[2]は点Bから点Cに変化し、分極の状態も負から正へと変化する。その結果、C[2]から多くの電荷が放出される。これを、センスアンプ(S/A)で検出する。このようにして、破壊読出しが行われる。
2)次に、破壊されたデータを元に戻すために、S/AのフリップフロップでBL[1],BL[2]を元の状態、すなわち、BL[1]を0V、BL[2]を1.8Vに戻し、さらに、PL[1]を0Vに戻す。これにより、C[2]の電位差は−1.8Vになるため、C[2]は点Cから点Aに変化し、負方向の分極状態に戻る。C[1]の電位差は0Vであるため、C[1]は、点Dに戻るが、分極の状態は、正のまま変化しない。すなわち、再書き込みが行われる。
書き込み、読み出し、いずれの場合でも、WL[1]とWL[2]は、同じ動作をする。すなわち、共通化が可能であり、その一例を、変形例3として後で説明する。
B)1T−1C動作
図10に示した強誘電体記憶装置を1T−1Cで動作させる場合には、図12に示した半導体記憶装置310ようにダミーキャパシタDCを使用する。ダミーキャパシタDCは、ビット線BLのS/Aとは反対側の端に接続される。ダミーキャパシタDCは、強誘電体キャパシタである必要はなく、常誘電体キャパシタを使用することもできる。
図10に示した強誘電体記憶装置を1T−1Cで動作させる場合には、図12に示した半導体記憶装置310ようにダミーキャパシタDCを使用する。ダミーキャパシタDCは、ビット線BLのS/Aとは反対側の端に接続される。ダミーキャパシタDCは、強誘電体キャパシタである必要はなく、常誘電体キャパシタを使用することもできる。
1T−1C動作の場合には、例えば、斜線を施したトランジスタTr[1]と強誘電体キャパシタC[1]からなるメモリセルを考える。強誘電体キャパシタC[1]への書き込みは、WL[1]のみをHighにして、2T−2Cの場合と同様に行える。
データを読み出す場合には、2T−2Cで強誘電体キャパシタC[1]とC[2]とを比較する代わりに、強誘電体キャパシタC[1]とビット線BL[2]に接続されているダミーキャパシタDC[2]を使用する。この時、ビット線BL[2]に接続されている全てのトランジスタをOFFにする必要がある。強誘電体キャパシタC[1]とダミーキャパシタDC[2]からの電荷放出をセンスアンプ(S/A)で検出して、データを読み出す。
上記のように本実施形態により、強誘電体キャパシタの下部電極を六角形にして密充填するように配置し、さらに上部電極を下部電極に対してずらせて形成する位置ずらしキャパシタとすることで、リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有するキャパシタアレイを形成することが可能であり、キャパシタの高密度化が可能な半導体記憶装置を提供することができる。
本実施形態は、種々の変形をして実施することができる。そのいくつかの例を、以下に説明する。
(変形例3)
変形例3の半導体記憶装置320の平面図を図13に示す。本変形例は、図13に示したように、第3の実施形態の半導体記憶装置300において1対のワード線WL[1]とWL[2]を共通にした構造を有する半導体記憶装置320である。図10を用いて説明したように、2T−2C動作の場合、WL[1]とWL[2]とは、常に同じ動作をするため、共通にすることが可能である。本変形例の半導体記憶装置320の場合には、図13に示したように、強誘電体キャパシタの下部電極42を六角形ではなく正方形に形成することにより、密充填が可能になる。
変形例3の半導体記憶装置320の平面図を図13に示す。本変形例は、図13に示したように、第3の実施形態の半導体記憶装置300において1対のワード線WL[1]とWL[2]を共通にした構造を有する半導体記憶装置320である。図10を用いて説明したように、2T−2C動作の場合、WL[1]とWL[2]とは、常に同じ動作をするため、共通にすることが可能である。本変形例の半導体記憶装置320の場合には、図13に示したように、強誘電体キャパシタの下部電極42を六角形ではなく正方形に形成することにより、密充填が可能になる。
本変形例の半導体記憶装置は、2T−2C動作は可能である。しかし、1T−1C動作をさせようとすると、1対のビット線BL[1]とBL[2]にそれぞれ接続しているトランジスタTr[1]とTr[2]が同時にONしてしまい、1T−1Cで動作させることはできない。
(変形例4)
変形例4の半導体記憶装置330の平面図を図14に示す。本変形例は、図14に示したように、第3の実施形態において下部電極の形状を正方形にした構造を有する半導体記憶装置330である。ワード線WL方向に配列した2列の強誘電体キャパシタを互いに1/2ピッチずらせて配置することにより、2T−2C動作、1T−1C動作の両方が可能な半導体記憶装置330を提供できる。
変形例4の半導体記憶装置330の平面図を図14に示す。本変形例は、図14に示したように、第3の実施形態において下部電極の形状を正方形にした構造を有する半導体記憶装置330である。ワード線WL方向に配列した2列の強誘電体キャパシタを互いに1/2ピッチずらせて配置することにより、2T−2C動作、1T−1C動作の両方が可能な半導体記憶装置330を提供できる。
上記に説明してきたように本発明により、強誘電体キャパシタの上部電極を下部電極に対してずらせて形成する位置ずらしキャパシタとすることで、リソグラフィの最小加工寸法よりも小さな実効寸法を有するキャパシタアレイを形成することが可能であり、キャパシタの高密度化が可能な半導体記憶装置を提供することができる。
本発明は、上記の実施形態に限定されることなく、本発明の精神及び範囲から逸脱しないで、種々の変形を行って実施することができる。それゆえ、本発明は、ここに開示された実施形態に制限することを意図したものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲において他の実施形態にも適用でき、広い範囲に適用されるものである。
SC…位置ずらしキャパシタ,LE,42…下部電極,UE,46…上部電極,XT…クロスポイント型トランジスタ,VT…垂直トランジスタ,5…半導体基板,8…素子分離,10…トランジスタ,12…ゲート絶縁膜,14…ゲート電極,16…ソース/ドレイン,18,22,24,30,32,38,43,48,52,54,60,62,68,70,88…層間絶縁膜,20,28,36,50,58,66…ソース/ドレイン,26,34,56,64…チャネル領域,40…強誘電体キャパシタ,44…強誘電体膜,M1,M2,M3…金属配線,WL…ワード線,BL…ビット線,PL…プレート線,VP…コンタクトプラグ,AA…アクティブ領域,80,82,84,86,90,92…コンタクトプラグ,100,110,120,200,300,310,320,330…半導体記憶装置。
Claims (5)
- 半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と前記半導体基板中に前記ゲート電極を挟んで対向して設けられたソース/ドレインとを含むトランジスタと、
前記トランジスタの上方に形成され、下部電極、強誘電体膜、上部電極を含む強誘電体キャパシタと、
前記下部電極に電気的に接続された第1の配線と、
前記上部電極に電気的に接続された第2の配線と
を具備し、
前記強誘電体キャパシタは、前記上部電極が複数の前記下部電極の一部とそれぞれ同等に重なるように配置された位置ずらしキャパシタである
ことを特徴とする、半導体記憶装置。 - 前記下部電極は、第1のクロスポイント型トランジスタを介して前記第1の配線に電気的に接続され、
前記上部電極は、第2のクロスポイント型トランジスタを介して前記第2の配線に電気的に接続される
ことを特徴とする、請求項1に記載の半導体記憶装置。 - 前記強誘電体キャパシタの少なくとも一辺は、使用するリソグラフィ技術の最小加工寸法より小さい寸法であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の半導体記憶装置。
- 前記下部電極は、六角形であり、平面的に密充填するように配置され、前記トランジスタを介して前記第1の配線に電気的に接続され、
前記上部電極は、前記第1の配線と直交する方向に配列された隣接する2列の前記下部電極の半分とそれぞれ重なり、複数の前記2列の下部電極の上方に共通に形成され、前記第2の配線として機能する
ことを特徴とする、請求項1又は3に記載の半導体記憶装置。 - 半導体基板上にゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と前記半導体基板中に前記ゲート電極を挟んで対向して設けられたソース/ドレインとを含み、電気的に直列接続された複数のトランジスタと、
各々の前記トランジスタと電気的に並列に接続され、下部電極、強誘電体膜、上部電極を含む複数の強誘電体キャパシタと、
前記直列接続された複数のトラジスタの一方の端に接続された第1の配線と、
前記直列接続された複数のトラジスタの他方の端に接続された第2の配線と
を具備し、
前記強誘電体キャパシタは、各々の前記下部電極及び上部電極が正方形であり、互いに位置をずらして配置され、それぞれ複数の強誘電体キャパシタによって同等に共有される位置ずらしキャパシタであり、
前記トランジスタの直列接続方向は、前記正方形の下部電極及び上部電極の1つの対角線方向である
ことを特徴とする、半導体記憶装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006092097A JP2007266494A (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 半導体記憶装置 |
US11/450,458 US20070228434A1 (en) | 2006-03-29 | 2006-06-12 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006092097A JP2007266494A (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007266494A true JP2007266494A (ja) | 2007-10-11 |
Family
ID=38557521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006092097A Pending JP2007266494A (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 半導体記憶装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070228434A1 (ja) |
JP (1) | JP2007266494A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015109471A (ja) * | 2009-11-13 | 2015-06-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9346423B2 (en) | 2012-07-27 | 2016-05-24 | Nissan Motor Co., Ltd. | Control device for vehicle and method of controlling vehicle |
JP2019530974A (ja) * | 2016-08-31 | 2019-10-24 | マイクロン テクノロジー,インク. | 強誘電体メモリセル |
US10854276B2 (en) | 2016-08-31 | 2020-12-01 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including two transistor-one capacitor memory and for accessing same |
US10867675B2 (en) | 2017-07-13 | 2020-12-15 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for memory including ferroelectric memory cells and dielectric memory cells |
US10885964B2 (en) | 2016-08-31 | 2021-01-05 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for operating ferroelectric memory |
US10998031B2 (en) | 2016-08-31 | 2021-05-04 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for accessing ferroelectric memory |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101320518B1 (ko) * | 2007-10-24 | 2013-12-19 | 삼성전자주식회사 | 적층 레벨의 트랜지스터들을 갖는 집적 회로 반도체 소자및 그 제조방법 |
US7746680B2 (en) * | 2007-12-27 | 2010-06-29 | Sandisk 3D, Llc | Three dimensional hexagonal matrix memory array |
US7887999B2 (en) * | 2007-12-27 | 2011-02-15 | Sandisk 3D Llc | Method of making a pillar pattern using triple or quadruple exposure |
KR20100052597A (ko) * | 2008-11-11 | 2010-05-20 | 삼성전자주식회사 | 수직형 반도체 장치 |
US9401363B2 (en) * | 2011-08-23 | 2016-07-26 | Micron Technology, Inc. | Vertical transistor devices, memory arrays, and methods of forming vertical transistor devices |
US9589962B2 (en) | 2014-06-17 | 2017-03-07 | Micron Technology, Inc. | Array of conductive vias, methods of forming a memory array, and methods of forming conductive vias |
US10204898B2 (en) * | 2014-08-08 | 2019-02-12 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
WO2017145530A1 (ja) * | 2016-02-22 | 2017-08-31 | 株式会社村田製作所 | 圧電デバイス |
US10062745B2 (en) * | 2017-01-09 | 2018-08-28 | Micron Technology, Inc. | Methods of forming an array of capacitors, methods of forming an array of memory cells individually comprising a capacitor and a transistor, arrays of capacitors, and arrays of memory cells individually comprising a capacitor and a transistor |
US10373921B2 (en) * | 2017-06-20 | 2019-08-06 | Micron Technology, Inc. | Power gate circuits for semiconductor devices |
US11139310B2 (en) * | 2017-12-04 | 2021-10-05 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Semiconductor memory device, electronic apparatus, and method of reading data |
US11127744B2 (en) * | 2020-01-08 | 2021-09-21 | Micron Technology, Inc. | Memory devices and methods of forming memory devices |
US11672128B2 (en) | 2020-07-20 | 2023-06-06 | Micron Technology, Inc. | Methods of incorporating leaker devices into capacitor configurations to reduce cell disturb, and capacitor configurations incorporating leaker devices |
US11706927B2 (en) | 2021-03-02 | 2023-07-18 | Micron Technology, Inc. | Memory devices and methods of forming memory devices |
KR20220169503A (ko) * | 2021-06-18 | 2022-12-28 | 삼성전자주식회사 | 반도체 소자 |
US11695072B2 (en) | 2021-07-09 | 2023-07-04 | Micron Technology, Inc. | Integrated assemblies and methods of forming integrated assemblies |
US11917834B2 (en) | 2021-07-20 | 2024-02-27 | Micron Technology, Inc. | Integrated assemblies and methods of forming integrated assemblies |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3657925B2 (ja) * | 2002-06-17 | 2005-06-08 | 株式会社東芝 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP3906198B2 (ja) * | 2003-11-21 | 2007-04-18 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置及びその製造方法 |
-
2006
- 2006-03-29 JP JP2006092097A patent/JP2007266494A/ja active Pending
- 2006-06-12 US US11/450,458 patent/US20070228434A1/en not_active Abandoned
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015109471A (ja) * | 2009-11-13 | 2015-06-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置 |
US9346423B2 (en) | 2012-07-27 | 2016-05-24 | Nissan Motor Co., Ltd. | Control device for vehicle and method of controlling vehicle |
JP2019530974A (ja) * | 2016-08-31 | 2019-10-24 | マイクロン テクノロジー,インク. | 強誘電体メモリセル |
US10854276B2 (en) | 2016-08-31 | 2020-12-01 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including two transistor-one capacitor memory and for accessing same |
US10872650B2 (en) | 2016-08-31 | 2020-12-22 | Micron Technology, Inc. | Ferroelectric memory cells |
US10885964B2 (en) | 2016-08-31 | 2021-01-05 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for operating ferroelectric memory |
US10998031B2 (en) | 2016-08-31 | 2021-05-04 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for accessing ferroelectric memory |
US11107515B2 (en) | 2016-08-31 | 2021-08-31 | Micron Technology, Inc. | Ferroelectric memory cells |
US11205468B2 (en) | 2016-08-31 | 2021-12-21 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for operating ferroelectric memory |
US11574668B2 (en) | 2016-08-31 | 2023-02-07 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods including ferroelectric memory and for operating ferroelectric memory |
US10867675B2 (en) | 2017-07-13 | 2020-12-15 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for memory including ferroelectric memory cells and dielectric memory cells |
US11901005B2 (en) | 2017-07-13 | 2024-02-13 | Micron Technology, Inc. | Apparatuses and methods for memory including ferroelectric memory cells and dielectric memory cells |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20070228434A1 (en) | 2007-10-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007266494A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US7297997B2 (en) | Semiconductor memory device with dual storage node and fabricating and operating methods thereof | |
KR100689842B1 (ko) | 강유전체막을 정보저장요소로 채택하는 플래시 메모리소자들 및 그 제조방법들 | |
US8637843B2 (en) | Semiconductor device including phase change material and method of manufacturing same | |
KR100687051B1 (ko) | 스택형 강유전체 메모리 장치, 그 제조 방법, 강유전체메모리 회로 및 구동 방법 | |
US11729993B2 (en) | Ferroelectric random access memory (FRAM) capacitors and methods of construction | |
JPH11111933A (ja) | 高集積強誘電体メモリ装置及びその製造方法 | |
US7439129B2 (en) | Methods for fabricating ferroelectric memory devices | |
US20070272959A1 (en) | Ferroelectric memory cell and manufacturing method thereof | |
JP2008263019A (ja) | 半導体メモリセル及びその製造方法 | |
TW201513309A (zh) | 半導體裝置 | |
CN113299660A (zh) | 三维存储器器件及其制造方法 | |
JP5452911B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2011009549A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2011029258A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US20100123176A1 (en) | Semiconductor memory device | |
KR100720265B1 (ko) | 불휘발성 강유전체 메모리 장치 및 그 형성 방법 | |
WO2023082221A1 (en) | Ferroelectric memory device with stacked capacitors and manufacturing method thereof | |
US20230345735A1 (en) | Ferroelectric random access memory (fram) capacitors and methods of construction | |
US20220406735A1 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing same | |
JP2007273664A (ja) | 半導体記憶装置およびその製造方法 | |
JP5426155B2 (ja) | 半導体装置 | |
KR20090090597A (ko) | 강유전체 메모리 소자 및 그 제조 방법 | |
JP7272098B2 (ja) | 半導体装置および半導体装置の製造方法 | |
KR100696773B1 (ko) | 불휘발성 강유전체 메모리 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081023 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081028 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090303 |