JP2007266481A - Multilayer board - Google Patents

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JP2007266481A JP2006091938A JP2006091938A JP2007266481A JP 2007266481 A JP2007266481 A JP 2007266481A JP 2006091938 A JP2006091938 A JP 2006091938A JP 2006091938 A JP2006091938 A JP 2006091938A JP 2007266481 A JP2007266481 A JP 2007266481A
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恵美 栗林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the connection reliability of a wiring provided on a flexible board and a wiring in a reinforced board. <P>SOLUTION: In a multilayer board in which a flexible wiring board 100 and a metallic body 104 for reinforcement are laminated via an adhering layer 105b, the flexible wiring board 100 comprises an insulation film 101 and a plating land 103a formed of a metallic layer provided to one surface of the insulation film 101. On one surface of the metallic body 104 for reinforcement, a surface plating 103c is provided. From the flexible wiring board 100 extending through to the adhering layer 105b, a via 106 is provided through the flexible wiring board 100 and the adhering layer 105b, and a solder layer 109b, covering the plating land 103a in the state of a layer, is embedded in the via 106 and connected to the plating land 103a and the surface plating 103c. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、多層基板に関し、特に、フレキシブル基板と導体基板とが積層された基板に関する。   The present invention relates to a multilayer substrate, and more particularly to a substrate in which a flexible substrate and a conductor substrate are laminated.

近年、携帯電話機等の電子機器の小型化・軽量化・多機能化に伴い、これらの電子機器を構成する回路基板としてマイクロストリップライン構造を有するフレキシブル配線基板が広く使用されている。フレキシブル配線基板はフレキシビリティを求められる一方、部品実装箇所の強度・平坦度も求められ、その補強材料として一般的にガラスエポキシ樹脂やSUS(ステンレス材)を用いる。   In recent years, with the downsizing, weight reduction, and multifunctionalization of electronic devices such as mobile phones, flexible wiring boards having a microstrip line structure are widely used as circuit boards constituting these electronic devices. While a flexible wiring board is required to have flexibility, strength and flatness of a component mounting location are also required, and glass epoxy resin or SUS (stainless steel) is generally used as a reinforcing material.

フレキシブル配線基板と補強用金属体との積層構造体としては、従来、フレキシブル配線基板と補強用金属体とが導通接触していない単なる積層の構造、および積層構造に導通接触をもたせた構造の二種類が挙げられる。   Conventionally, as a laminated structure of a flexible wiring board and a reinforcing metal body, there are two simple structures in which the flexible wiring board and the reinforcing metal body are not in conductive contact, and a structure in which the laminated structure is provided with conductive contact. There are types.

フレキシブル配線基板と補強用金属体とを導通させた構造として、従来、特許文献1および特許文献2に記載のものがある。   Conventionally, as a structure in which a flexible wiring board and a reinforcing metal body are electrically connected, there are those described in Patent Document 1 and Patent Document 2.

このうち、特許文献1には、フレキシブルプリント基板にスルーホールを設け、このスルーホールを介してフレキシブルプリント基板の配線パターンとメタルコア配線基板のリード端子とを半田によって接続することが記載されている。   Among these, Patent Document 1 describes that a through hole is provided in a flexible printed circuit board, and the wiring pattern of the flexible printed circuit board and the lead terminal of the metal core wiring board are connected via the through hole.

また、特許文献2には、表面に配線パターンが形成された補強用基板と、表面に配線パターンが形成されたフレキシブル基板との積層体において、フレキシブル基板のスルーホールに半田を充填し、両基板の配線パターンを導通させることが記載されている。
特開昭62−022497号公報 特開平7−249872号公報
Further, in Patent Document 2, in a laminate of a reinforcing substrate having a wiring pattern formed on the surface and a flexible substrate having a wiring pattern formed on the surface, the through holes of the flexible substrate are filled with solder, It is described that the wiring pattern is made conductive.
JP-A-62-022497 Japanese Patent Laid-Open No. 7-249872

ところが、上述した特許文献1および特許文献2に記載の技術においてもなお、フレキシブル基板に設けられた配線パターンと補強用基板中の導電材料との接続信頼性の点で改善の余地があった。   However, the techniques described in Patent Document 1 and Patent Document 2 described above still have room for improvement in terms of connection reliability between the wiring pattern provided on the flexible substrate and the conductive material in the reinforcing substrate.

本発明によれば、
絶縁材料により構成されたフィルムと、
該フィルムの一方の面に設けられ、金属層により構成された第一配線パターンと、
を含むフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板に積層される補強基板と、
前記フレキシブル基板と前記補強基板との間に設けられて、前記フレキシブル基板と前記補強基板とを接着する絶縁性の接着層と、
前記第一配線パターンを層状に被覆する半田層と、
を含み、
前記フレキシブル基板から前記接着層にわたって、前記フレキシブル基板と前記接着層とを貫通する貫通孔が設けられ、
前記半田層が、前記貫通孔に埋設されるとともに、前記第一配線パターンおよび前記補強基板における導電部材に接続された多層基板が提供される。
According to the present invention,
A film made of an insulating material;
A first wiring pattern provided on one surface of the film and configured by a metal layer;
A flexible substrate including:
A reinforcing substrate laminated on the flexible substrate;
An insulating adhesive layer that is provided between the flexible substrate and the reinforcing substrate to bond the flexible substrate and the reinforcing substrate;
A solder layer covering the first wiring pattern in layers;
Including
A through hole penetrating the flexible substrate and the adhesive layer is provided from the flexible substrate to the adhesive layer,
Provided is a multilayer board in which the solder layer is embedded in the through hole and connected to the first wiring pattern and a conductive member in the reinforcing board.

本発明によれば、半田層が第一配線パターンを層状に被覆するとともに、フレキシブル基板と接着層とを貫通する貫通孔に半田層が埋め込まれている。このため、フレキシブル基板に設けられた第一配線パターンと補強基板における導電部材との接続信頼性を向上させることができる。   According to the present invention, the solder layer covers the first wiring pattern in layers, and the solder layer is embedded in the through hole that penetrates the flexible substrate and the adhesive layer. For this reason, the connection reliability of the 1st wiring pattern provided in the flexible substrate and the electrically-conductive member in a reinforcement board | substrate can be improved.

以上説明したように本発明によれば、フレキシブル基板に設けられた配線と補強基板における導電部材との接続信頼性を向上させることができる。   As described above, according to the present invention, the connection reliability between the wiring provided on the flexible substrate and the conductive member on the reinforcing substrate can be improved.

以下、本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、すべての図面において、共通の構成要素には同じ符号を付し、適宜説明を省略する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In all the drawings, common constituent elements are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.

図1は、本実施形態における小型電子機器の構成を示す斜視図である。
図1に示した小型電子機器は、給電ポイント11をもつ主基板12と、周辺回路基板として機能するフレキシブル配線基板100とを有する。フレキシブル配線基板100は、補強用金属体104との積層体となっている。
FIG. 1 is a perspective view illustrating a configuration of a small electronic device according to the present embodiment.
The small electronic device shown in FIG. 1 includes a main board 12 having a feeding point 11 and a flexible wiring board 100 that functions as a peripheral circuit board. The flexible wiring board 100 is a laminated body with the reinforcing metal body 104.

主基板12とフレキシブル配線基板100とは、通常、主基板12上のコネクタ14とフレキシブル配線基板100上のコネクタ15を嵌合させて、接続される。また、給電ポイント11は、主基板12の側に設けられており、フレキシブル配線基板100が給電ポイント11と別構成の基板であるため、コネクタ14以外のポイントであるピンコネクタ13を用いてグランド強化を図ることもできる。こうすれば、フレキシブル配線基板100が給電ポイント11を有しない場合にも、電気的にグランドが弱い等、ノイズの影響を受けたり、ノイズの原因となることへの対策として効果的である。この対策のため、フレキシブル配線基板100の裏面16、すなわち主基板12と上下重なる面は、フレキシブル配線基板100のグランドと導通接触可能な構成とすることが好ましい。   The main board 12 and the flexible wiring board 100 are usually connected by fitting the connector 14 on the main board 12 and the connector 15 on the flexible wiring board 100. Further, since the power feeding point 11 is provided on the main board 12 side and the flexible wiring board 100 is a board having a different configuration from the power feeding point 11, the ground reinforcement is performed using the pin connector 13 which is a point other than the connector 14. Can also be planned. In this way, even when the flexible wiring board 100 does not have the feeding point 11, it is effective as a countermeasure against being affected by noise or causing noise such as an electrically weak ground. For this countermeasure, it is preferable that the back surface 16 of the flexible wiring board 100, that is, the surface that overlaps the main board 12, be in a conductive contact with the ground of the flexible wiring board 100.

次に、図1に示した小型電子機器におけるフレキシブル配線基板100の構成を説明する。図4は、フレキシブル配線基板100と補強用金属とが積層した多層基板の構成を示す断面図である。   Next, the configuration of the flexible wiring board 100 in the small electronic device shown in FIG. 1 will be described. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a configuration of a multilayer board in which the flexible wiring board 100 and the reinforcing metal are laminated.

図4に示した積層基板は、絶縁材料により構成されたフィルム(絶縁フィルム101)と、絶縁フィルム101の一方の面に設けられ、金属層により構成された第一配線パターン(銅箔102a)と、を含むフレキシブル基板(フレキシブル配線基板100)と、一方の面に第二配線パターン(表面めっき103c)が形成された補強基板(補強用金属体104)と、フレキシブル配線基板100と補強用金属体104との間に設けられて、フレキシブル配線基板100と補強用金属体104とを接着する絶縁性の接着層105bと、銅箔102aを層状に被覆する半田層109bと、を含む。めっきランド103aと半田層109bとの間に、銅箔102aが介在している。   The laminated substrate shown in FIG. 4 includes a film (insulating film 101) made of an insulating material, a first wiring pattern (copper foil 102a) provided on one surface of the insulating film 101, and made of a metal layer. , A flexible substrate (reinforcing metal body 104) having a second wiring pattern (surface plating 103c) formed on one surface, a flexible wiring substrate 100, and a reinforcing metal body 104, an insulating adhesive layer 105b that adheres the flexible wiring board 100 and the reinforcing metal body 104, and a solder layer 109b that covers the copper foil 102a in layers. A copper foil 102a is interposed between the plating land 103a and the solder layer 109b.

フレキシブル配線基板100は、たとえば、絶縁性樹脂フィルムからなる絶縁基材(絶縁フィルム101)に銅箔配線層(銅箔102a)、ビア106およびランド(めっきランド103a)が形成された片面銅箔配線を有する。フレキシブル配線基板100において、ベースとなる絶縁フィルム101の片面に銅箔102aが設けられている。銅箔102aは所定の平面パターンを有し、信号配線やグランド配線を構成している。銅箔102aに接して、銅箔102aを被覆するめっきランド103aが層状に形成されている。隣り合うめっきランド103aの間には、絶縁フィルム108とそれを接着する接着剤107とが積層されており、めっきランド103a間が絶縁されている。   The flexible wiring board 100 is, for example, a single-sided copper foil wiring in which a copper foil wiring layer (copper foil 102a), vias 106, and lands (plating lands 103a) are formed on an insulating base material (insulating film 101) made of an insulating resin film. Have In the flexible wiring substrate 100, a copper foil 102a is provided on one side of an insulating film 101 serving as a base. The copper foil 102a has a predetermined plane pattern and constitutes signal wiring and ground wiring. A plating land 103a that covers the copper foil 102a is formed in layers in contact with the copper foil 102a. Between the adjacent plating lands 103a, an insulating film 108 and an adhesive 107 for bonding the insulating film 108 are laminated, and the plating lands 103a are insulated from each other.

補強用金属体104は、たとえばSUS(ステンレス材)等により構成された金属基板をはじめとする導体基板である。補強用金属体104には、予め所定の表面処理がされていてもよい。補強用金属体104の一方の面の所定の位置に、表面めっき103cが層状に形成されている。表面めっき103cは、配線層として機能し、所定の平面パターンを有する。また、接着層105bは、たとえば熱硬化性樹脂により構成することができる。   The reinforcing metal body 104 is a conductive substrate including a metal substrate made of, for example, SUS (stainless steel). The reinforcing metal body 104 may be subjected to a predetermined surface treatment in advance. A surface plating 103 c is formed in a layered manner at a predetermined position on one surface of the reinforcing metal body 104. The surface plating 103c functions as a wiring layer and has a predetermined plane pattern. The adhesive layer 105b can be made of, for example, a thermosetting resin.

また、図4に示したように、フレキシブル配線基板100から接着層105bにわたって、フレキシブル配線基板100と接着層105bとを貫通する貫通孔(ビア106)が設けられている。ビア106は、接着層105bにおいて拡径しており、接着層105bにおいて、表面めっき103cの面方向に張り出した張出部を有する。また、フレキシブル配線基板100において、ビア106は、めっきランド103aから接着層105bに向かって狭径したテーパ形状となっている。つまり、ビア106は、めっきランド103aから接着層105bに向かってテーパ状に縮径した後、接着層105bにおいて、拡径している。ビア106の内壁はスルーホールめっき103bにより被覆されている。スルーホールめっき103bは、めっきランド103aと同一工程で形成されたものであってもよいし、別工程で形成されたものであってもよい。別工程とする場合、たとえば、スルーホールめっき103bは銅箔処理により形成されてもよい。   Further, as shown in FIG. 4, through holes (vias 106) penetrating the flexible wiring substrate 100 and the adhesive layer 105b are provided from the flexible wiring substrate 100 to the adhesive layer 105b. The via 106 has an enlarged diameter in the adhesive layer 105b, and has an overhanging portion that protrudes in the surface direction of the surface plating 103c in the adhesive layer 105b. Further, in the flexible wiring substrate 100, the via 106 has a tapered shape with a narrow diameter from the plating land 103a toward the adhesive layer 105b. That is, the via 106 has a diameter reduced in a taper shape from the plating land 103a toward the adhesive layer 105b, and then expanded in the adhesive layer 105b. The inner wall of the via 106 is covered with through-hole plating 103b. The through-hole plating 103b may be formed in the same process as the plating land 103a, or may be formed in a separate process. In the case of another process, for example, the through-hole plating 103b may be formed by a copper foil process.

半田層109bは、ビア106に埋設されるとともに、銅箔102aおよび補強用金属体104における導電部材(表面めっき103c)に接続されている。また、補強用金属体104が導電性を有するため、半田層109bは、銅箔102aと補強用金属体104とを電気的に接続している。   The solder layer 109b is embedded in the via 106 and connected to the conductive member (surface plating 103c) in the copper foil 102a and the reinforcing metal body 104. Further, since the reinforcing metal body 104 has conductivity, the solder layer 109b electrically connects the copper foil 102a and the reinforcing metal body 104.

半田層109bは、スルーホールめっき103b上を被覆する配線領域と、ビア106中に埋め込まれたプラグ領域と、を有し、これらが連続一体に形成されている。ここで、連続一体とは、連続部材として一体に形成されていることをいい、接合部分を有しないことが好ましい。プラグ領域から配線領域に半田層109bが張り出した構成となっているため、めっきランド103aと半田層109bとの接合面積が大きく、接続信頼性に優れた構成となっている。   The solder layer 109b has a wiring region that covers the through-hole plating 103b and a plug region embedded in the via 106, and these are formed continuously and integrally. Here, continuous integration means that it is integrally formed as a continuous member, and preferably does not have a joint portion. Since the solder layer 109b extends from the plug region to the wiring region, the bonding area between the plating land 103a and the solder layer 109b is large, and the connection reliability is excellent.

また、半田層109bは、プラグ領域において、絶縁フィルム101の裏面に接するとともに絶縁フィルム101の外方に延出して接着層105bの面内方向に張り出した庇部を有する。庇部を有するため、表面めっき103cとの接合面積が増大し、接合信頼性に優れた構成となっている。   In addition, the solder layer 109b has a flange in contact with the back surface of the insulating film 101 and extending outward from the insulating film 101 and projecting in the in-plane direction of the adhesive layer 105b in the plug region. Since it has a collar part, a joining area with surface plating 103c increases, and it has composition excellent in joining reliability.

また、図4において、めっきランド103a中の金属と半田層109b中の金属と合金を形成し、銅箔102aと半田層109bとの間に合金層110を含む。合金層110は、半田層b109を構成する金属元素を含む。また、めっきランド103aおよびスルーホールめっき103bをたとえば金めっきとすることにより、スルーホールめっき103bを構成する金属元素と半田層109bを構成する金属元素とを含む合金を確実に形成することができる。なお、銅箔102aと半田層109bとの間に存在する合金は、必ずしも層状でなくてもよい。銅箔102a上に合金層110を設けることにより、半田層109bと銅箔102aとの接続信頼性をさらに向上させることができる。   In FIG. 4, an alloy is formed between the metal in the plating land 103a and the metal in the solder layer 109b, and the alloy layer 110 is included between the copper foil 102a and the solder layer 109b. The alloy layer 110 includes a metal element constituting the solder layer b109. Further, by using, for example, gold plating as the plating land 103a and the through-hole plating 103b, it is possible to reliably form an alloy containing the metal element constituting the through-hole plating 103b and the metal element constituting the solder layer 109b. Note that the alloy existing between the copper foil 102a and the solder layer 109b does not necessarily have to be layered. By providing the alloy layer 110 on the copper foil 102a, the connection reliability between the solder layer 109b and the copper foil 102a can be further improved.

次に、図4に示した積層基板の製造方法を説明する。この積層基板は、フレキシブル配線基板100の絶縁基材(絶縁フィルム101)および銅箔配線層(めっきランド103a)にビア106を設け、フレキシブル配線基板100に形成されためっきランド103a上への部品搭載時の半田をそのビア106に埋め込み、フレキシブル配線基板100に積層された補強用金属体104とを導通接触させることにより得られる。   Next, a method for manufacturing the multilayer substrate shown in FIG. 4 will be described. In this laminated substrate, vias 106 are provided in the insulating base material (insulating film 101) and the copper foil wiring layer (plating land 103a) of the flexible wiring substrate 100, and components are mounted on the plating land 103a formed in the flexible wiring substrate 100. It is obtained by burying the solder at that time in the via 106 and conducting contact with the reinforcing metal body 104 laminated on the flexible wiring board 100.

図2および図3は、図4に示した積層基板の製造工程を示す断面図である。以下、図2〜図4を参照してさらに詳細に説明する。   2 and 3 are cross-sectional views showing a manufacturing process of the laminated substrate shown in FIG. Hereinafter, a more detailed description will be given with reference to FIGS.

まず、フレキシブル配線基板100、補強用金属体104および接着層105bを準備する。
フレキシブル配線基板100については、図2に示したように、部品が搭載される際に、図3を参照して後述する工程で半田塗布されてはいけない絶縁フィルム108部分を半田マスク(不図示)によりマスキングする。なお、絶縁フィルム108は、銅箔102a中に埋設された接着剤107を介して銅箔102a上に接着されている。
First, the flexible wiring board 100, the reinforcing metal body 104, and the adhesive layer 105b are prepared.
For the flexible wiring board 100, as shown in FIG. 2, when a component is mounted, a portion of the insulating film 108 that should not be soldered in a process described later with reference to FIG. Mask by. The insulating film 108 is bonded onto the copper foil 102a via an adhesive 107 embedded in the copper foil 102a.

そして、絶縁フィルム108が設けられた領域以外の領域において、フレキシブル配線基板100のベースとなる絶縁フィルム101の片面のみに銅箔102aを積層する。また、フレキシブル配線基板100の所定の位置に、たとえばドリル加工にてビアを形成し、ビアの表面にスルーホールめっき103bを表面処理にて施す。ただし、スルーホールめっき103bに関しては表面処理ではなく、銅箔102aと同様に銅箔処理として実施してもよい。   And copper foil 102a is laminated | stacked only on the single side | surface of the insulating film 101 used as the base of the flexible wiring board 100 in area | regions other than the area | region in which the insulating film 108 was provided. Further, vias are formed at predetermined positions on the flexible wiring substrate 100 by, for example, drilling, and through-hole plating 103b is applied to the surface of the vias by surface treatment. However, the through-hole plating 103b may be performed as a copper foil treatment in the same manner as the copper foil 102a instead of the surface treatment.

また、補強用金属体104となる金属基板の表面の所定の位置に、表面めっき処理により、表面めっき103cを形成する。   Further, the surface plating 103c is formed by surface plating treatment at a predetermined position on the surface of the metal substrate to be the reinforcing metal body 104.

フレキシブル配線基板100と補強用金属体104とを接着する接着層105bをなす接着剤の材料は、たとえば熱硬化性樹脂とする。また、フレキシブル配線基板100に形成したビアの位置に対応する位置において、接着層105bにビアを形成する。このとき、接着層105bに形成するビアの径をフレキシブル配線基板100のビア径以上とする。   The material of the adhesive that forms the adhesive layer 105b that bonds the flexible wiring substrate 100 and the reinforcing metal body 104 is, for example, a thermosetting resin. In addition, vias are formed in the adhesive layer 105b at positions corresponding to the positions of the vias formed in the flexible wiring board 100. At this time, the diameter of the via formed in the adhesive layer 105 b is set to be equal to or larger than the via diameter of the flexible wiring board 100.

こうして得られたフレキシブル配線基板100と補強用金属体104とを、接着層105bを介して積層する。このとき、フレキシブル配線基板100に形成したビアと補強用金属体104に形成したビアの位置に対応させるとともに、これらのビアの位置と表面めっき103cの位置を対応させる。この状態では、フレキシブル配線基板100と補強用金属体104とは導通していない。   The flexible wiring board 100 and the reinforcing metal body 104 thus obtained are laminated via the adhesive layer 105b. At this time, the vias formed in the flexible wiring board 100 and the vias formed in the reinforcing metal body 104 are made to correspond to each other, and the positions of these vias are made to correspond to the positions of the surface plating 103c. In this state, the flexible wiring board 100 and the reinforcing metal body 104 are not electrically connected.

次に、図3に示したように、フレキシブル配線基板100のめっきランド103a上に、印刷法等の方法でクリーム半田109aを塗布する。なお、めっきランド103a上の所定の位置に半田マスク(不図示)が設けられている。このとき、めっきランド103aの表面全面に、一様な厚さのクリーム半田109aの層を形成する。半田マスクのビア106に対応する領域を開口部とすることで、めっきランド103a上にクリーム半田109aの層を形成するとともに、ビア106の内部にクリーム半田109aを埋め込むことができる。   Next, as shown in FIG. 3, cream solder 109 a is applied onto the plating land 103 a of the flexible wiring substrate 100 by a method such as a printing method. A solder mask (not shown) is provided at a predetermined position on the plating land 103a. At this time, a layer of cream solder 109a having a uniform thickness is formed on the entire surface of the plating land 103a. By forming an area corresponding to the via 106 of the solder mask as an opening, a layer of cream solder 109a can be formed on the plating land 103a, and the cream solder 109a can be embedded in the via 106.

なお、クリーム半田109aの種類に特に制限はなく、フレキシブル配線基板100に実装される部品(不図示)の種類に応じて適宜選択することができる。クリーム半田109aは、たとえば、所定の半田粒子とフラックスとを含んでもよい。   In addition, there is no restriction | limiting in particular in the kind of cream solder 109a, According to the kind of components (not shown) mounted in the flexible wiring board 100, it can select suitably. The cream solder 109a may include, for example, predetermined solder particles and flux.

つづいて、クリーム半田109a上に所定の部品(不図示)を実装する。そして、フレキシブル配線基板100を補強する金属基板である補強用金属体104が積層されたフレキシブル配線基板100をリフローする。その後、図4に示したように、クリーム半田109aが硬化して、半田層109bとなる。また、部品ランド上のめっき103aとスルーホールめっき103bと積層金属体上のめっき103cの各めっき層中に含まれる金属が、半田層109b中に含まれる金属と合金(合金層110)を形成する。こうして、半田層109bと銅箔102aとが導通接触することができ、フレキシブル配線基板100と補強用金属体104の積層導通接触が実現される。   Subsequently, a predetermined component (not shown) is mounted on the cream solder 109a. Then, the flexible wiring substrate 100 on which the reinforcing metal body 104 that is a metal substrate for reinforcing the flexible wiring substrate 100 is laminated is reflowed. Thereafter, as shown in FIG. 4, the cream solder 109a is cured to become a solder layer 109b. Further, the metal contained in each plating layer of the plating 103a on the component land, the through-hole plating 103b, and the plating 103c on the laminated metal body forms an alloy (alloy layer 110) with the metal contained in the solder layer 109b. . In this way, the solder layer 109b and the copper foil 102a can be brought into conductive contact, and the laminated conductive contact between the flexible wiring board 100 and the reinforcing metal body 104 is realized.

以上により、片面銅箔配線のフレキシブル配線基板100の配線つまり銅箔102aと補強用金属体104とを半田により導通接触させることができる。   As described above, the wiring of the flexible wiring board 100 of the single-sided copper foil wiring, that is, the copper foil 102a and the reinforcing metal body 104 can be brought into conductive contact with the solder.

なお、本実施形態において、積層基板の平面形状は、積層基板が適用される電子機器の構成に応じて適宜設計することができる。図5は、積層基板の平面形状の一例を示す斜視図である。図5においては、矩形のフレキシブル配線基板100の中央部に絶縁フィルム108が設けられており、絶縁フィルム108上に複数のコネクタ14が設けられている。   In the present embodiment, the planar shape of the multilayer substrate can be appropriately designed according to the configuration of the electronic device to which the multilayer substrate is applied. FIG. 5 is a perspective view showing an example of a planar shape of the laminated substrate. In FIG. 5, an insulating film 108 is provided at the center of a rectangular flexible wiring board 100, and a plurality of connectors 14 are provided on the insulating film 108.

本実施形態によれば、片面配線のフレキシブル配線基板100を用いるとともに、絶縁フィルム108および銅箔102aを貫通するビア106を設け、フレキシブル配線基板100に形成されためっきランド103a上への部品搭載時に層状に形成される半田をそのビア106に埋め込んだ構成となっている。このため、片面のみに銅箔配線が設けられたフレキシブル配線基板100を用いた場合にも、補強用金属体104と銅箔102aとの良好な導通接触を確保し、電気的接続の信頼性を向上させることができる。また、積層基板を薄型化するおとができる。   According to the present embodiment, the single-sided wiring flexible wiring substrate 100 is used, and the via 106 penetrating the insulating film 108 and the copper foil 102 a is provided, and when the component is mounted on the plating land 103 a formed on the flexible wiring substrate 100. The structure is such that layered solder is embedded in the via 106. For this reason, even when the flexible wiring board 100 provided with the copper foil wiring only on one side is used, a good conductive contact between the reinforcing metal body 104 and the copper foil 102a is ensured, and the reliability of the electrical connection is improved. Can be improved. In addition, the laminated substrate can be thinned.

ここで、本実施形態の構成の参照として、両面銅箔配線のフレキシブル配線基板に補強用金属体を積層させた構成について説明する。
図6は、両面に配線を有するフレキシブル配線基板と補強用金属体との積層導通接触方法を説明する断面図である。
図6においては、フレキシブル配線基板200のベースとなる絶縁フィルム201の片面に銅箔202aが形成され、その反対面に銅箔202bが形成されている。これらの銅箔は、信号配線やグランド配線を構成する。
Here, as a reference for the configuration of the present embodiment, a configuration in which a reinforcing metal body is laminated on a flexible wiring board of double-sided copper foil wiring will be described.
FIG. 6 is a cross-sectional view for explaining a laminated conductive contact method between a flexible wiring board having wiring on both sides and a reinforcing metal body.
In FIG. 6, a copper foil 202 a is formed on one surface of an insulating film 201 that serves as a base of the flexible wiring board 200, and a copper foil 202 b is formed on the opposite surface. These copper foils constitute signal wiring and ground wiring.

また、銅箔202a上にめっき203aが表面処理にて施されている。また、フレキシブル配線基板200は銅箔202aと銅箔202bとを接続する為にドリル加工により設けられたビア206を有する。ビア206の表面に、スルーホールめっき203bが表面処理にて施されている。   In addition, plating 203a is applied on the copper foil 202a by surface treatment. Further, the flexible wiring board 200 has a via 206 provided by drilling so as to connect the copper foil 202a and the copper foil 202b. Through-hole plating 203b is applied to the surface of the via 206 by surface treatment.

隣り合うめっき203aの間には絶縁フィルム208とそれを接着する接着剤207が積層されている。そのフレキシブル配線基板200に積層される補強用金属体204にはあらかじめ表面処理がされており、表面上にはめっき203cが積層される。そうしたフレキシブル配線基板200と補強用金属体204とを導電性接着剤205aにて接着し、導通接触を持たせている。   An insulating film 208 and an adhesive 207 for bonding the insulating film 208 are laminated between the adjacent platings 203a. The reinforcing metal body 204 laminated on the flexible wiring board 200 is subjected to surface treatment in advance, and plating 203c is laminated on the surface. Such a flexible wiring board 200 and the reinforcing metal body 204 are bonded with a conductive adhesive 205a to provide a conductive contact.

図6に示したように、両面に銅箔配線を形成したフレキシブル配線基板に補強用金属体を積層し、接着材料として導電性接着剤を使用した積層させた構成とすると、フレキシブル配線基板を両面銅箔配線にすることにより基板厚が厚くなる、基板コストが高くなる、リフローに耐え得る導電接着剤の使用が容易ではない、等の理由で、小型化、軽量化および低価格化の方向性に相反する懸念があるのに対し、図1〜図4を参照して前述した構成とすることにより、これらを回避することができる。   As shown in FIG. 6, when a reinforcing metal body is laminated on a flexible wiring board in which copper foil wiring is formed on both sides and a conductive adhesive is used as an adhesive material, the flexible wiring board is placed on both sides. Copper foil wiring increases the thickness of the board, increases the board cost, and makes it difficult to use a conductive adhesive that can withstand reflow. However, these can be avoided by adopting the configuration described above with reference to FIGS.

なお、本実施形態の積層基板の用途に特に限定はないが、たとえば、携帯電話機等の電子機器を構成する回路基板として用いることができる、本実施形態の積層基板を用いることにより、フレキシブル配線基板と補強用金属体との電気的な接続信頼性を向上させるとともに、部品実装箇所の強度および平坦度を向上させることができる。特に、本実施形態では、めっきランド103aの表面全面を半田が略一定の厚さで層状に被覆しているため、フレキシブル配線基板100の表面の平坦性の高い構成となっている。   The use of the multilayer substrate of the present embodiment is not particularly limited. For example, a flexible wiring substrate can be used by using the multilayer substrate of the present embodiment that can be used as a circuit substrate constituting an electronic device such as a mobile phone. It is possible to improve the electrical connection reliability between the reinforcing metal body and the reinforcing metal body, and to improve the strength and flatness of the component mounting location. In particular, in the present embodiment, the entire surface of the plating land 103a is coated in layers with a substantially constant thickness, so that the surface of the flexible wiring board 100 has a high flatness.

また、本実施形態では、部品搭載時の半田塗布と同時にビア106への半田埋めが可能であり、それによって導通接触ができるため、フレキシブル配線基板100と補強用金属体104を積層し、導通接触される際に生産・製造工程を増加させないようにできる。   Further, in the present embodiment, the via 106 can be filled with solder simultaneously with the solder application at the time of mounting the component, thereby enabling conductive contact. Therefore, the flexible wiring board 100 and the reinforcing metal body 104 are laminated and conductive contact is made. It is possible to prevent the production / manufacturing process from increasing.

また、本実施形態では、めっきランド103a上に層状に設けられた半田とビア106中に埋設された半田とが一体であるとともに、補強用金属体104側において、ビア106中の半田が面内方向に張り出した構成となっている。このため、フレキシブル配線基板100側と補強用金属体104側の両側において、半田とめっき(めっきランド103aまたは表面めっき103c)との接合面積が大きく、接続信頼性に優れた構成となっている。   In the present embodiment, the solder provided in a layer on the plating land 103a and the solder embedded in the via 106 are integrated, and the solder in the via 106 is in-plane on the reinforcing metal body 104 side. It has a configuration that protrudes in the direction. For this reason, on both sides of the flexible wiring board 100 side and the reinforcing metal body 104 side, the bonding area between the solder and the plating (plating land 103a or surface plating 103c) is large, and the connection reliability is excellent.

以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described with reference to drawings, these are the illustrations of this invention, Various structures other than the above are also employable.

たとえば、以上においては、補強用金属体104としてSUS(ステンレス材)を上げたが、銅、アルミニウム、鉄等の金属や、他の導電材料を適用することもできる。また、以上においては、補強用金属体104上に表面めっき103cが設けられた構成を例に説明したが、表面めっき103cが設けられておらず、半田層109bが補強用金属体104に直接接する構成としてもよい。   For example, in the above description, SUS (stainless steel) is used as the reinforcing metal body 104, but metals such as copper, aluminum, and iron, and other conductive materials may be applied. In the above description, the configuration in which the surface plating 103c is provided on the reinforcing metal body 104 has been described as an example. However, the surface plating 103c is not provided, and the solder layer 109b directly contacts the reinforcing metal body 104. It is good also as a structure.

また、以上においては、めっきランド103aおよびスルーホールめっき103bにおけるめっき材料として、半田と合金の形成される金めっきを上げたが、半田めっきでも適用可能である。   In the above description, gold plating in which solder and an alloy are formed is used as the plating material for the plating land 103a and the through-hole plating 103b. However, solder plating is also applicable.

また、以上においては、ビア106を形成する際の加工方法としてドリル加工を上げたが、レーザー加工等、他の加工方法も適用可能とする。   In the above description, drilling is used as a processing method for forming the via 106. However, other processing methods such as laser processing can be applied.

さらに、以上においては、隣合うめっきランド103aの間に形成される材料として、絶縁フィルム108とそれを接着する接着剤107との積層構造を例示したが、これに代えて、レジストを所定の形状にパターニングしてもよい。   Furthermore, in the above, the laminated structure of the insulating film 108 and the adhesive 107 that adheres the insulating film 108 is exemplified as the material formed between the adjacent plating lands 103a, but instead, a resist is formed into a predetermined shape. It may be patterned.

本実施形態における小型電子機器の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the small electronic device in this embodiment. 本実施形態における積層基板の構成を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the structure of the laminated substrate in this embodiment. 本実施形態における積層基板の積層導通接触方法を説明する断面図である。It is sectional drawing explaining the lamination | stacking conduction contact method of the lamination substrate in this embodiment. 本実施形態における積層基板の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the laminated substrate in this embodiment. 本実施形態における積層基板の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the laminated substrate in this embodiment. 本実施形態における積層基板の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of the laminated substrate in this embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

11 給電ポイント
12 主基板
13 ピンコネクタ
14 コネクタ
15 コネクタ
16 裏面
100 フレキシブル配線基板
101 絶縁フィルム
102a 銅箔
103a めっきランド
103b スルーホールめっき
103c 表面めっき
104 補強用金属体
105b 接着層
106 ビア
107 接着剤
108 絶縁フィルム
109a クリーム半田
109b 半田層
110 合金層
200 フレキシブル配線基板
201 絶縁フィルム
202a 銅箔
202b 銅箔
203a めっき
203b スルーホールめっき
203c めっき
204 補強用金属体
205a 導電性接着剤
206 ビア
207 接着剤
208 絶縁フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Feeding point 12 Main board 13 Pin connector 14 Connector 15 Connector 16 Back surface 100 Flexible wiring board 101 Insulating film 102a Copper foil 103a Plating land 103b Through-hole plating 103c Surface plating 104 Reinforcing metal body 105b Adhesive layer 106 Via 107 Adhesive 108 Insulation Film 109a Cream solder 109b Solder layer 110 Alloy layer 200 Flexible wiring board 201 Insulating film 202a Copper foil 202b Copper foil 203a Plating 203b Through-hole plating 203c Plating 204 Reinforcing metal body 205a Conductive adhesive 206 Via 207 Adhesive 208 Insulating film

Claims (6)

絶縁材料により構成されたフィルムと、
該フィルムの一方の面に設けられ、金属層により構成された第一配線パターンと、
を含むフレキシブル基板と、
前記フレキシブル基板に積層される補強基板と、
前記フレキシブル基板と前記補強基板との間に設けられて、前記フレキシブル基板と前記補強基板とを接着する絶縁性の接着層と、
前記第一配線パターンを層状に被覆する半田層と、
を含み、
前記フレキシブル基板から前記接着層にわたって、前記フレキシブル基板と前記接着層とを貫通する貫通孔が設けられ、
前記半田層が、前記貫通孔に埋設されるとともに、前記第一配線パターンおよび前記補強基板における導電部材に接続された多層基板。
A film made of an insulating material;
A first wiring pattern provided on one surface of the film and configured by a metal layer;
A flexible substrate including:
A reinforcing substrate laminated on the flexible substrate;
An insulating adhesive layer that is provided between the flexible substrate and the reinforcing substrate to bond the flexible substrate and the reinforcing substrate;
A solder layer covering the first wiring pattern in layers;
Including
A through hole penetrating the flexible substrate and the adhesive layer is provided from the flexible substrate to the adhesive layer,
A multilayer board in which the solder layer is embedded in the through-hole and connected to a conductive member in the first wiring pattern and the reinforcing board.
請求項1に記載の多層基板において、
前記補強基板が導体基板である多層基板。
The multilayer substrate according to claim 1,
A multilayer substrate in which the reinforcing substrate is a conductor substrate.
請求項1または2に記載の多層基板において、
前記補強基板の前記フレキシブル基板との対向面に、第二配線パターンが設けられ、前記半田層が、前記第一および第二配線パターンに接続された多層基板。
The multilayer substrate according to claim 1 or 2,
A multilayer substrate in which a second wiring pattern is provided on a surface of the reinforcing substrate facing the flexible substrate, and the solder layer is connected to the first and second wiring patterns.
請求項1乃至3いずれかに記載の多層基板において、
前記第一配線パターンと前記半田層との間に、前記半田層を構成する金属元素を含む合金を含む多層基板。
The multilayer substrate according to any one of claims 1 to 3,
A multilayer board including an alloy containing a metal element constituting the solder layer between the first wiring pattern and the solder layer.
請求項1乃至4いずれかに記載の多層基板において、
前記貫通孔が、前記接着層において拡径している多層基板。
The multilayer substrate according to any one of claims 1 to 4,
A multilayer substrate in which the through hole has a diameter increased in the adhesive layer.
請求項1乃至5いずれかに記載の多層基板において、
前記フレキシブル基板において、前記貫通孔が、前記第一配線パターンから前記接着層に向かって狭径したテーパ形状を有する多層基板。
The multilayer substrate according to any one of claims 1 to 5,
The multilayer substrate, wherein the through-hole has a tapered shape with a diameter narrowed from the first wiring pattern toward the adhesive layer.
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KR101034620B1 (en) * 2008-12-18 2011-05-12 영풍전자 주식회사 Reinforcement plate for FPCB terminal and method for thereof
CN112825310A (en) * 2019-11-21 2021-05-21 浙江荷清柔性电子技术有限公司 Packaging structure and flexible integrated packaging method of ultrathin chip

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