JP2007265562A - 磁気ヘッド及び磁気記録装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ポールイレーズの抑制と記録磁界強度の確保との両立を図ることが可能な磁気ヘッド及び磁気記録装置を提供すること。
【解決手段】第1の軟磁性材料よりなる第1シールド43と、第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料よりなる第2シールド45と、主磁極39を励磁するコイル50と、コイル50を覆う絶縁膜52と、第1シールド43、第2シールド45、及び絶縁膜52の上に形成されたリターンヨーク56とを有し、第1の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度TAは、第1、第2シールド43、45が実使用下において加熱される最高温度Tmaxよりも高く、第2の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度TBは、上記最高温度Tmaxよりも低い磁気ヘッド60による。
【選択図】図11
【解決手段】第1の軟磁性材料よりなる第1シールド43と、第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料よりなる第2シールド45と、主磁極39を励磁するコイル50と、コイル50を覆う絶縁膜52と、第1シールド43、第2シールド45、及び絶縁膜52の上に形成されたリターンヨーク56とを有し、第1の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度TAは、第1、第2シールド43、45が実使用下において加熱される最高温度Tmaxよりも高く、第2の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度TBは、上記最高温度Tmaxよりも低い磁気ヘッド60による。
【選択図】図11
Description
本発明は、磁気ヘッド及び磁気記録装置に関する。
ハードディスクドライブ(HDD)等の磁気記録装置では、薄膜磁気ヘッドにより、ハードディスク等の磁気記録媒体へのデータの記録が行われる。磁気記録媒体への記録方式としては、媒体の面内方向に記録層を磁化させる長手磁気記録方式が一般的である。この長手記録方式は、ハードディスクドライブ等を長い間支えてきた技術であるが、磁気記録媒体の記録密度が近年急速に増加したことにより、その技術はもはや限界に近づきつつあり、更なる高記録密度化が困難な状況に至っている。
長手記録方式に代わる記録方式として現在注目されているものに垂直磁気記録方式がある。この方式では、磁気記録媒体の垂直方向に記録層を磁化させて記録を行う。その垂直磁気記録方式では、記録層の隣接するビットの磁化が反平行になって互いに強め合う性質があるので、各磁化が面内において対向する長手磁気記録方式に比べ、原理的に高記録密度化に向いている。
図1は、このような垂直磁気記録方式が採用されたハードディスクドライブの斜視図である。
そのハードディスクドライブは、ハードディスク5と磁気ヘッド19とで構成される。
このうち、ハードディスク5は、非磁性基材1の上に軟磁性裏打層2、非磁性下地層3、記録層4とをこの順に積層してなる。
また、磁気ヘッド19は主磁極12とリターンヨーク11とを有し、主磁極12を励磁して記録磁界を発生させるためのコイル13が主磁極12の近くに配される。そして、磁気情報を読み取るためのGMR(Giant Magneto-Resistive)素子等の再生素子17が主磁極12から離れて設けられると共に、再生分解能を確保するための磁気シールド15、16が再生素子17の両側に配される。
このようなハードディスクドライブでは、書き込みを行う際、断面積の小さな主磁極12で発生した強い記録磁界Hが記録層4に印加される。このようにすると、垂直磁気異方性を有する記録層4のうち、主磁極12の直下にあるビットでは、この記録磁界Hによって磁化が反転し、情報が書き込まれる。
主磁極12から出た磁束は、このように記録層4を垂直に貫いた後、磁気ヘッド19と共に磁路を構成する裏打層2を通り、再び記録層4を通って、断面積の大きなリターンヨーク11に低い磁束密度で帰還される。
そして、ハードディスク5と磁気ヘッド19とを図のAの方向に相対移動させつつ、記録信号に応じて記録磁界Hの向きを変えることにより、垂直方向に磁化された複数の磁区が記録層4のトラック方向に連なって形成され、磁気情報がハードディスク5に記録されることになる。
ところで、図1の点線円内に示すように、書き込み時に主磁極12から出る記録磁界Hの中には、主磁極12の記録層対向面から記録層4に入る磁界H1の他に、主磁極12の側面から漏れ出る磁界H2がある。この側面から漏洩する磁界H2の存在は、記録磁界の変化を鈍化させ、記録層4に高分解能且つ高記録密度の磁気情報を書き込むのを阻害する。
特に、主磁極12のリターンヨーク11寄りの端部(トレーリングエッジ)12bの下方では、1ビットに対応する磁区に最後に記録磁界が印加され、その磁区の磁化が最終的に確定されるので、この部分の記録磁界Hの強度分布が広がると、記録ビットの磁化遷移を鈍化させ、再生信号の品質に大きな影響を及ぼす。
そこで、この種の磁気ヘッド19では、軟磁性材料よりなるトレーリングシールド14をリターンヨーク11の側面に設け、上記の主磁極側面から漏洩する磁界H2をトレーリングシールド14に吸収させて、記録磁界Hの広がりを抑制している。
図2は、記録層4における記録磁界Hの強度分布を模式的に表す図であり、横軸は走査方向Aに沿った距離、縦軸は磁界強度を示す。
図2に示されるように、リターンヨーク11にトレーリングシールド14を設けたことで、リターンヨーク11寄りの主磁極12の端部(トレーリングエッジ)12bにおいて記録磁界Hが急峻に立ち上がるようになり、高密度記録が可能となる。
なお、再生素子17寄りの主磁極12の端部(リーディングエッジ)12aは、1ビットに対応する磁区に最初に記録磁界Hを印加する部分であり、その磁区の磁化を最終的に確定する部分では無い。従って、リーディングエッジ12a側では、記録磁界Hが広がって書き滲みが発生しても、磁気情報の分解能や記録密度にそれほど影響を与えず、トレーリングエッジ12b側のようにシールド14を設ける必要は無い。
トレーリングシールド14は、上記のように磁界強度を急峻に変化させて記録密度を高める役割を果たす。
この他に、ハードディスクドライブには高速で書き込みが行えるという特性も要求されており、これを実現すべく、リターンヨーク11の長さやコイル13の巻き数を低減し、磁気ヘッド19の磁路長やインダクタンスを低減することも検討されている。
ところで、垂直磁気記録媒体用の磁気ヘッド19には、媒体5に記録されたデータを不必要に消去してしまう、いわゆるポールイレーズという問題がある。このポールイレーズについて次に説明する。
図3は、主磁極12の先端付近の拡大側面図である。
図3に示されるように、主磁極12は、狭いトラック幅に対応した極小矩形状のポール12cを有すると共に、そのポール12cから上方にテーパー状に広がる扇状形状部12dとを有する。
記録密度の向上に伴うトラック幅の減少により、ポール12cも微小化する必要がある。但し、ポール12cの高さBを低くすると、扇状形状部12dと媒体5とが近づいてしまい、扇状形状部12dから出た記録磁界H0によって書き滲みが発生してしまう。そのため、高記録密度を実現するには、ポール12cの高さBをなるべく高く維持しながらトラック幅Cを狭くしなければならず、ポール12cは縦長の矩形状となる。
ところが、このように縦長になると、コイル電流を遮断した後にポール12cに残留する磁化Mrがポール12cの長手方向、すなわち媒体5に垂直な方向を向き、その残留磁化Mrに起因する残留磁界Hrに媒体5が曝されることになる。この残留磁界Hrが既述のポールイレーズの原因であり、残留磁界Hrを持った磁気ヘッド19が媒体5の上方を何度も繰り返し走査することで、コイル電流を遮断した後でも媒体5の磁気情報が消去されてしまう。
ポールイレーズを低減するには、その原因である残留磁化Mrが媒体5の垂直方向に向かないようにし、残留磁界Hrの強度を減少させればよい。
既述のトレーリングシールド14は、軟磁性材料よりなるため、図1の点線円内に示すように残留磁化Mrを引き付ける性質がある。従って、トレーリングシールド14を設けることはポールイレーズの低減にも効果がある。
しかし、その効果を高めようとしてトレーリングシールド14の厚さhを厚くすると、トレーリングシールド14に吸収される磁束が多くなるので、媒体5に印加される記録磁界Hが低減し、磁気ヘッド19の書き込み能力が低下するという新たな問題が発生する。
このように、トレーリングシールド14が設けられた磁気ヘッド19では、ポールイレーズの抑制と記録磁界強度の確保とがトレードオフの関係にあり、これらを両立させることが垂直磁気記録方式では重要となる。
なお、本発明に関連する技術が、下記の特許文献1に開示されている。
特開2004−139676号公報
本発明の目的は、ポールイレーズの抑制と記録磁界強度の確保との両立を図ることが可能な磁気ヘッド及び磁気記録装置を提供することにある。
本発明の一観点によれば、浮上面に露出した主磁極と、前記主磁極の上に形成された非磁性膜と、前記非磁性膜の上に、前記浮上面側から順に形成された第1シールド及び第2シールドと、前記第2シールドから間隔をおいて前記非磁性膜の上に形成され、前記主磁極を励磁するコイルと、前記コイルを覆う絶縁膜と、前記第1シールド、前記第2シールド、及び前記絶縁膜の上に形成され、前記主磁極と共に磁路を構成するリターンヨークとを有し、前記第1シールドが第1の軟磁性材料よりなり、該第1の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が、前記第1シールドと前記第2シールドとが実使用下において加熱される最高温度よりも高く、前記第2シールドが前記第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料よりなり、該第2の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が前記最高温度よりも低い磁気ヘッドが提供される。
本発明によれば、第2の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が、第1、第2シールドが実使用下において加熱される最高温度よりも低い。従って、書き込み時のコイル電流のジュール熱等によって各シールドが上記の最高温度まで加熱されると、第2の軟磁性材料よりなる第2シールドの飽和磁化が大きく低減し、第2シールドの磁性はほぼ失われる。
これに対し、第1シールドは、飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が上記の最高温度よりも高い第1の軟磁性材料で構成されているので、書き込み時に加熱されても軟磁性のままである。
従って、書き込み時において、第2シールドは磁束を吸収するシールドとして機能せず、第1シールドのみが実質的にシールドとして機能するので、主磁極から出る磁束が第2シールドに過度に吸収されるのが抑制され、十分な強度を持った記録磁界を得ることができる。
一方、書き込みを終えてコイル電流を遮断するとコイルの発熱が停止するので、第1、第2シールドが自然冷却し、第2シールドの磁性が回復する。これにより、主磁極の残留磁化が第2シールドの方を向くようになり、残留磁化に起因するポールイレーズを抑制することが可能となる。
本発明によれば、上記のように飽和磁化−温度特性曲線が異なる第1シールドと第2シールドとを設けたので、ポールイレーズの抑制と記録磁界強度の確保との両立を図ることができる。
(1)第1実施形態
次に、本発明の実施の形態に係る磁気ヘッドについて、その製造工程を追いながら詳細に説明する。
次に、本発明の実施の形態に係る磁気ヘッドについて、その製造工程を追いながら詳細に説明する。
図4〜図11は、本実施形態に係る磁気ヘッドの製造途中の断面図である。
最初に、図4(a)に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、Al2O3-TiC基板(非磁性基板)20の上にスパッタ法でアルミナ膜21を形成する。
次いで、そのアルミナ膜21の上にレジストパターン(不図示)を形成し、そのレジストパターンの窓の中に電解めっき法によりNi80Fe20層を形成した後、レジストパターンを除去してアルミナ膜21上にNi80Fe20層を再生素子用下部シールド22として残す。
なお、リフトオフ法に代えて、イオンミリングや反応性イオンエッチング等によってNi80Fe20層のパターニングを行ってもよい。更に、電解めっき法に代えて無電解めっきやスパッタ法でNi80Fe20層を形成するようにしてもよい。これらについては、以下の各膜についても同様である。
その後に、基板20の上側全面にスパッタ法でアルミナ膜23を形成する。
続いて、図4(b)に示すように、CMP(Chemical Mechanical Polishing)法でアルミナ膜23の上面を研磨して平坦化すると共に、再生素子用下部シールド22を露出させる。このCMPを終了した後の再生素子用下部シールド22の厚さは約1.5μmとなる。
次いで、図4(c)に示すように、途中にGMR素子等の再生素子25の形成工程を挟みながら、アルミナ膜23と再生素子用下部シールド22のそれぞれの上にスパッタ法でアルミナ膜26を形成する。なお、再生素子25はGMR素子に限定されず、TuMR(Tunneling Magneto-Resistive)素子等であってもよい。
次に、図5(a)に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、電解めっき法とリフトオフ法とを用い、アルミナ膜26の上にNi80Fe20よりなる再生素子用上部シールド27を形成する。
次いで、アルミナ膜26と再生素子用上部シールド27のそれぞれの上に、スパッタ法でアルミナ膜28を形成した後、CMP法でシールド27上の不要なアルミナ膜28を研磨して除去する。
更に、アルミナ膜28と再生素子用上部シールド27のそれぞれの上にスパッタ法でアルミナ膜を形成し、それを中間絶縁膜29とする。
そして、電解めっき法により、この中間絶縁膜29の上にNi70Fe30よりなる主磁極39を形成する。
次に、図5(b)に示すように、中間絶縁膜29と主磁極39のそれぞれの上にスパッタ法でアルミナ膜40を形成し、主磁極39の上の余分なアルミナ膜40をCMP法で研磨して除去する。このCMPにより、主磁極39の厚さは約0.3μmとなる。
続いて、図6(a)に示すように、アルミナ膜40と主磁極39のそれぞれの上に、スパッタ法とリフトオフ法で非磁性ギャップ膜42としてアルミナ膜を厚さ約0.05μmに形成する。その非磁性ギャップ膜42は主磁極39の終端に開口42aを有し、その開口42aから主磁極39が露出する。
次に、図6(b)に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、独立した二つの窓を備えたレジストパターン(不図示)を非磁性ギャップ膜42の上に形成する。そして、電解めっきによりこれら二つの窓の中に第1の軟磁性材料であるNi50Fe50(キュリー温度:約600℃)よりなる軟磁性膜を形成する。その後、レジストパターンを除去することにより、開口42a内の主磁極39上にNi50Fe50よりなる主磁極−リターンヨーク接続部44を形成すると共に、非磁性ギャップ膜42の上にNi50Fe50よりなる第1シールド43を形成する。
続いて、図7(a)に示すように、電解めっき法により、第1シールド43を構成する第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料、例えばNi90Al10(キュリー温度:約150℃)よりなる第2シールド45を、その一部が第1シールド43に重なるように非磁性ギャップ膜42の上に形成する。
なお、第2の軟磁性材料は、第1シールド43を構成する第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低ければ上記したNi90Al10に限定されない。第2の軟磁性材料としては、Al、Ti、Cr、Mo、及びSiの少なくとも一つを含むNi基合金を採用してよい。
次に、図7(b)に示すように、基板20の上側全面にスパッタ法でアルミナ膜を形成し、そのアルミナ膜をカバー絶縁膜47とする。
続いて、図8(a)に示すように、第2シールド45と接続部44との間のカバー絶縁膜47の上に、電解めっき法によりCuよりなるコイル50を厚さ約1.5μmに形成する。
コイル50は、接続部44の周りに巻かれたスパイラル型であり、その巻き数は4である。但し、コイル50の巻き方はスパイラル型に限定されず、ヘリカル型を採用してもよい。
次いで、図8(b)に示すように、スパッタ法とリフトオフ法によりコイル50の上に第1埋め込み絶縁膜52としてアルミナ膜を形成し、各コイル50の間のスペースをその絶縁膜52で埋め込む。なお、アルミナ膜に代えてレジスト膜を第1埋め込み絶縁膜52として形成してもよい。
次に、図9(a)に示す断面構造を得るまでの工程について説明する。
まず、基板20の上側全面にスパッタ法でアルミナ膜を形成し、そのアルミナ膜を第2埋め込み絶縁膜54とする。次いで、各シールド43、45と主磁極−リターンヨーク接続部44の上に形成された余分な第2埋め込み絶縁膜54をCMP法で研磨して除去し、各シールド43、45と接続部44の上面を露出させる。
このようなCMPにより、各シールド43、45の厚さは約1.95μmとなり、接続部44の厚さは約2.0μmとなる。
次に、図9(b)に示すように、電解めっき法とリフトオフ法とを用い、各シールド43、45と主磁極−リターンヨーク接続部44のそれぞれの上に、Ni80Al20よりなるリターンヨーク56を形成する。
そして、図10に示すように、基板20の上側全面に、保護絶縁膜58としてスパッタ法でアルミナ膜を形成する。
その後に、図11に示すように、再生素子25と第1シールドとを通る切断面からダイシングを行い、垂直磁気記録媒体(不図示)に対向する浮上面Sを形成する。このようなダイシングにより、浮上面Sに直交する方向の第1シールド43の厚さh1は約0.2μmとなる。
以上により、本実施形態に係る磁気ヘッド60の基本構造が完成した。
その磁気ヘッド60では、接続部44を介して磁気的に結合した主磁極39とリターンヨーク56とが磁路を形成する。そして、コイル50に電流を流すことにより主磁極39が励磁され、主磁極39の先端部分から垂直磁気記録媒体に向かって記録磁界が発生する。
図12は、主磁極39の拡大側面図である。これに示されるように、主磁極39は、その先端にトラック幅Wが約0.18μmの矩形状のポール39cを有し、このポール39cの上方にテーパー状に広がる扇状形状部39dを有する。ポール39cをこのような微小な矩形状にすることで、垂直磁気記録媒体に対して高い記録密度で磁気情報を書き込むことができる。
ところで、本実施形態では、図11に示したように、浮上面S側から第1の軟磁性材料よりなる第1シールド43と、該第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料よりなる第2シールド45とを形成し、これらにより軟磁性シールド46を構成した。
これらのシールド43、45は、実使用下においてコイル50等において発生する熱により加熱され、使用中にその飽和磁化が変化する。使用中に各シールド43、45が加熱される最高温度Tmaxは、典型的には約60℃程度である。
図13は、第1シールド43を構成する第1の軟磁性材料Aと、第2シールド45を構成する第2の軟磁性材料Bのそれぞれの飽和磁化−温度特性曲線である。
図13に示されるように、第1の軟磁性材料Aの特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度TAは、実使用下において各シールド43、45が加熱される最高温度Tmaxよりも高い。
これに対し、第2の軟磁性材料Bの特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度TBは、上記の最高温度Tmaxよりも低い。
このような各軟磁性材料A、Bの飽和磁化−温度特性曲線の違いにより得られる利点について、図14及び図15を参照しながら説明する。
図14は、磁気ヘッド60による書き込み動作を示す拡大断面図であり、図15は、書き込みが終了してコイル電流を遮断した後の拡大断面図である。
図14に示すように、書き込みを行うには、磁気ヘッド60と垂直磁気記録媒体70とを図のAの方向に相対移動させながら、コイル50に通電を行って主磁極39を励磁し、記録磁界Hを発生させる。
このとき、コイル電流のジュール熱によりコイル50が発熱し、各シールド43、45とその周囲が既述の最高温度Tmax(凡そ60℃)にまで加熱される。第2の軟磁性材料(Ni90Al10)よりなる第2シールド45は、その飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度TBが上記のように最高温度Tmaxよりも低いため、コイル50の発熱によってその磁性を大きく失い、実質的には非磁性となる。
これに対し、最高温度Tmaxよりも低い温度TAにおいて飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる第1の軟磁性材料(Ni50Fe50)よりなる第1シールド43は、上記のように加熱されても磁性は殆ど失わず、軟磁性のままとなる。
その結果、主磁極39のトレーリングエッジ39aを含む側面から発生する面内方向の成分を持った磁界H2は、軟磁性が維持されている第1シールド43にのみ吸収され、実質的に磁性を失った第2シールド45には吸収されない。
これにより、面内方向の成分を持ち分解能や記録密度を低下させる磁界H2を第1シールド43に適度に吸収させながら、記録磁界Hが軟磁性シールド46に過度に吸収されてその強度が低下するのを防止することができる。
書き込みを終えた後は、コイル電流を遮断し、主磁極39の励磁を停止する。このときの拡大断面図を図15に示す。
このようにコイル電流を遮断すると、コイル50の発熱が停止して軟磁性シールド46が自然冷却され、第2シールド45の磁性が回復し、シールド46の全体が軟磁性を呈するようになる。その結果、主磁極39のポール39cに残留する磁化Mrが、軟磁性シールド46の全体との相互作用によって軟磁性シールド46の方を向くようになり、残留磁化Mrが媒体70に垂直な方向を向いている場合に顕著に発生するポールイレーズを低減できる。
このように、本実施形態では、軟磁性シールド46にキュリー温度が低い第2シールド45を設けたことで、書き込み時の記録磁界Hを強めながら、書き込み終了後のポールイレーズを抑制することができる。
本願発明者は、記録磁界が実際に強められることを確かめるため、磁気ヘッド60のオーバーライト特性を調査した。
なお、この調査では、第1シールド43の厚みh1(図11参照)を0.2μmに固定し、軟磁性シールド46のトータルの厚みh2をパラメータとした。
更に、この調査では垂直磁気記録媒体を回転させるためにスピンスタンドを使用した。垂直磁気記録媒体としては、軟磁性裏打層を有する、いわゆる垂直二層媒体で、記録層の保磁力が5.0kOeのものを使用した。そして、その媒体に対し、200kFCI(Flux Change Per Inch)の低密度ビットパターン上に800kFCIの高密度ビットパターンをオーバーライトした。なお、記録電流値は50mA、ヘッド周速は15m/secである。
この調査結果を次の表1に示す。
これに対し、表1に示す本実施形態では、厚みh2の増加によりオーバーライト値が若干低下するものの、h2が最も大きい1.0μmの場合でも36dBと良好な値を示している。これは、第2シールド45による磁束の吸収が抑制され、十分に強い記録磁界が発生していることを示すものである。
また、本願発明者は、本実施形態においてポールイレーズが実際に低減されるのを確かめるため、次のような調査を行った。
図16は、この調査で使用された垂直磁気記録媒体70の全体平面図である。この媒体70を用い、次のようにして調査が行われた。
(a)まず、図16に示すように、媒体70のデータ領域を12個のセクタS1〜S12に分割する。
(b)次いで、本実施形態の磁気ヘッド60を用いて、全てのセクタS1〜S12に49kFCIの記録密度の磁気情報を書き込んだ後、その磁気情報の出力電圧値を測定し、その平均値Viを算出する。
(c)次に、先頭3セクタS1〜S3に100kFCIの記録密度の磁気情報を1000回オーバーライト(上書き)する。但し、後方9セクタS4〜S12の上方を磁気ヘッド60が通過するときは、コイル電流を遮断する。
(d)続いて、ステップ(a)で記録された後方9セクタS4〜S12の磁気情報の出力電圧値を再び測定し、その平均値Vfを算出する。そして、100×(Vi−Vf)/Viにより出力電圧値の減衰率(出力減衰率)を算出する。
なお、この調査で使用した媒体の仕様、コイル電流値、及びヘッド周速は、表1の調査におけるのと同様である。更に、従来例の構造についても、表2で説明したのと同様である。また、本実施形態と従来例の双方とも、第1シールド43の厚みh1は0.2μmとした。
この調査結果を表3に示す。
また、第2シールド45を設けない従来例に至っては、出力減衰率が24.7%にもなっており、ポールイレーズが顕著に発生している。
ところが、本実施形態において厚みh2を0.6μm以上にすると、出力減衰率が測定誤差範囲の2%以内になり、ポールイレーズが抑制されることが理解される
これらの調査結果から、第1シールド43と第2シールド45とを合わせた厚みh2を0.6μm以上とすることが、ポールイレーズの抑制と記録磁界強度の確保との両立に有効であることが明らかになった。
これらの調査結果から、第1シールド43と第2シールド45とを合わせた厚みh2を0.6μm以上とすることが、ポールイレーズの抑制と記録磁界強度の確保との両立に有効であることが明らかになった。
なお、第2シールド45は、コイルの発熱によってその飽和磁化が大きく減衰すれば十分なので、そのキュリー温度Tcが磁気ヘッド60の最高加熱温度Tmax以下である必要は無く、図13で説明したようにキュリー温度Tcが最高加熱温度Tmaxを超えてもよい。
但し、最高加熱温度Tmaxが典型的には約60℃なので、第2シールド45を構成する第2の軟磁性材料のキュリー温度Tcを200℃以下にすることで、既述の温度TBが最高加熱温度Tmaxよりも低くなり易くなり、実使用下における第2シールド45の飽和磁化の減衰量を大きくすることが可能となる。
(2)第2実施形態
本実施形態では、第1実施形態の磁気ヘッド60を備えた磁気記録装置について説明する。
本実施形態では、第1実施形態の磁気ヘッド60を備えた磁気記録装置について説明する。
図17は、その磁気記録装置の平面図である。この磁気記録装置は、パーソナルコンピュータやテレビの録画装置に搭載されるハードディスクドライブである。
この磁気記録装置では、磁気記録媒体70が、スピンドルモータ等によって回転可能な状態でハードディスクとして筐体77に収められる。更に、筐体77の内部には、軸76を中心にしてアクチュエータ等により回転可能なキャッリッジアーム74が設けられており、このキャリッジアーム74の先端に設けられた磁気ヘッド60が磁気記録媒体70を上方から走査し、磁気記録媒体70への磁気情報の書き込みと読み取りが行われる。
本実施形態によれば、第1実施形態で説明したように、第1シールド43と第2シールド45によりシールド46を構成したので、磁気ヘッド60においてポールイレーズの抑制と記録磁界強度の確保とが両立され、高品位な磁気記録装置を提供することが可能となる。
なお、磁気記録装置は、上記のようなハードディスク装置に限定されず、可撓性のテープ状の磁気記録媒体に対して磁気情報を記録するための装置であってもよい。
以下に、本発明の特徴を付記する。
(付記1) 浮上面に露出した主磁極と、
前記主磁極の上に形成された非磁性膜と、
前記非磁性膜の上に、前記浮上面側から順に形成された第1シールド及び第2シールドと、
前記第2シールドから間隔をおいて前記非磁性膜の上に形成され、前記主磁極を励磁するコイルと、
前記コイルを覆う絶縁膜と、
前記第1シールド、前記第2シールド、及び前記絶縁膜の上に形成され、前記主磁極と共に磁路を構成するリターンヨークとを有し、
前記第1シールドが第1の軟磁性材料よりなり、該第1の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が、前記第1シールドと前記第2シールドとが実使用下において加熱される最高温度よりも高く、
前記第2シールドが前記第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料よりなり、該第2の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が前記最高温度よりも低いことを特徴とする磁気ヘッド。
前記主磁極の上に形成された非磁性膜と、
前記非磁性膜の上に、前記浮上面側から順に形成された第1シールド及び第2シールドと、
前記第2シールドから間隔をおいて前記非磁性膜の上に形成され、前記主磁極を励磁するコイルと、
前記コイルを覆う絶縁膜と、
前記第1シールド、前記第2シールド、及び前記絶縁膜の上に形成され、前記主磁極と共に磁路を構成するリターンヨークとを有し、
前記第1シールドが第1の軟磁性材料よりなり、該第1の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が、前記第1シールドと前記第2シールドとが実使用下において加熱される最高温度よりも高く、
前記第2シールドが前記第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料よりなり、該第2の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が前記最高温度よりも低いことを特徴とする磁気ヘッド。
(付記2) 前記最高温度は、実使用下における前記コイルの最高発熱温度であることを特徴とする付記1に記載の磁気ヘッド。
(付記3) 前記第2の軟磁性材料のキュリー温度が200℃以下であることを特徴とする付記1に記載の磁気ヘッド。
(付記4) 前記第2の軟磁性材料は、主成分がNiであるNi基合金であることを特徴とする付記1に記載の磁気ヘッド。
(付記5) 前記Ni基合金は、Al、Ti、Cr、Mo、及びSiの少なくとも一つを含むことを特徴とする付記4に記載の磁気ヘッド。
(付記6) 前記浮上面に直交する方向の前記第1シールドと前記第2シールドを合わせた厚みが0.6μm以上であることを特徴とする付記1に記載の磁気ヘッド。
(付記7) 前記浮上面に露出した再生素子を更に備えたことを特徴とする付記1に記載の磁気ヘッド。
(付記8) 前記主磁極は、矩形状のポールと、該ポールの上方にテーパー状に広がる扇状形状部とを有することを特徴とする付記1に記載の磁気ヘッド。
(付記9) 付記1〜付記8のいずれか一に記載の磁気ヘッドを備えた磁気記録装置。
1…非磁性基材、2…軟磁性裏打層、3…非磁性下地層、4…記録層、5…ハードディスク、11…リターンヨーク、12…主磁極、12a…リーディングエッジ、12b…トレーリングエッジ、13…コイル、15、16…磁気シールド、17…再生素子、19、60…磁気ヘッド、12c、39c…ポール、12d、39d…扇状形状部、20…AlTiC基板、21、23、26、40…アルミナ膜、22…再生素子用下部シールド、25…再生素子、27…再生素子用上部シールド、28…アルミナ膜、29…中間絶縁膜、39…主磁極、42…非磁性ギャップ膜、42a…開口、43…第1シールド、44…主磁極−リターンヨーク接続部、45…第2シールド、47…カバー絶縁膜、50…コイル、52…第1埋め込み絶縁膜、54…第2埋め込み絶縁膜、56…リターンヨーク、58…保護絶縁膜、70…垂直磁気記録媒体、74…キャリッジアーム、76…軸、77…筐体。
Claims (5)
- 浮上面に露出した主磁極と、
前記主磁極の上に形成された非磁性膜と、
前記非磁性膜の上に、前記浮上面側から順に形成された第1シールド及び第2シールドと、
前記第2シールドから間隔をおいて前記非磁性膜の上に形成され、前記主磁極を励磁するコイルと、
前記コイルを覆う絶縁膜と、
前記第1シールド、前記第2シールド、及び前記絶縁膜の上に形成され、前記主磁極と共に磁路を構成するリターンヨークとを有し、
前記第1シールドが第1の軟磁性材料よりなり、該第1の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が、前記第1シールドと前記第2シールドとが実使用下において加熱される最高温度よりも高く、
前記第2シールドが前記第1の軟磁性材料よりもキュリー温度が低い第2の軟磁性材料よりなり、該第2の軟磁性材料の飽和磁化−温度特性曲線の傾きの絶対値が最大となる温度が前記最高温度よりも低いことを特徴とする磁気ヘッド。 - 前記最高温度は、実使用下における前記コイルの最高発熱温度であることを特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッド。
- 前記第2の軟磁性材料は、主成分がNiであるNi基合金であることを特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッド。
- 前記浮上面に直交する方向の前記第1シールドと前記第2シールドを合わせた厚みが0.6μm以上であることを特徴とする請求項1に記載の磁気ヘッド。
- 請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の磁気ヘッドを備えた磁気記録装置。
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JP2006091475A JP2007265562A (ja) | 2006-03-29 | 2006-03-29 | 磁気ヘッド及び磁気記録装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8199429B2 (en) * | 2007-03-30 | 2012-06-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording head and magnetic recording method |
US8542462B2 (en) | 2009-07-03 | 2013-09-24 | HGST Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head having a non-magnetic film recessed from the air bearing surface for improved high-density magnetic recording |
-
2006
- 2006-03-29 JP JP2006091475A patent/JP2007265562A/ja not_active Withdrawn
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US8199429B2 (en) * | 2007-03-30 | 2012-06-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording head and magnetic recording method |
US8284518B2 (en) | 2007-03-30 | 2012-10-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording head |
US8542462B2 (en) | 2009-07-03 | 2013-09-24 | HGST Netherlands B.V. | Perpendicular magnetic recording head having a non-magnetic film recessed from the air bearing surface for improved high-density magnetic recording |
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