JP2007265505A - Manufacturing method of magnetic disk and evaluating method of magnetic disk - Google Patents

Manufacturing method of magnetic disk and evaluating method of magnetic disk Download PDF

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Masafumi Ishiyama
雅史 石山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the manufacturing method of a magnetic disk capable of suppressing corrosion of a recording and reproducing element of a magnetic head even when the floating height of the magnetic head is specified to ≤10 nm and preventing fly-stiction, head crash, and thermal asperity in a magnetic disk device especially adopting an LUL system, and to provide the evaluating method of the magnetic disk. <P>SOLUTION: An SO<SB>4</SB><SP>2-</SP>ion concentration and a CO<SP>2-</SP>ion concentration extracted by a warm water extraction method after the magnetic disk is left in the atmosphere of an SO<SB>2</SB>gas are controlled by controlling a concentration of nitrogen contained in a carbonic protective layer in a prescribed concentration or more. Thereby corrosion occurrence rate of a recording and reproducing element part of the magnetic head performing recording and reproduction to/from the magnetic disk is reduced to be a prescribed rate or below. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ(HDD)に用いられる磁気ディスクの製造方法及びこのような磁気ディスクの評価方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic disk used in a hard disk drive (HDD) which is a magnetic disk device, and a method for evaluating such a magnetic disk.

今日、情報記録技術、特に、磁気記録技術は、いわゆるIT産業の発達に伴って飛躍的な技術革新が要請されている。そして、コンピュータ用ストレージとして用いられる磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ(HDD)に搭載される磁気ディスクにおいては、磁気テープやフレキシブルディスクなどの他の磁気記録媒体と異なり、急速な情報記録密度の増大化が続けられている。   Today, information recording technology, particularly magnetic recording technology, is required to undergo dramatic technological innovation with the development of the so-called IT industry. Unlike other magnetic recording media such as magnetic tapes and flexible disks, the magnetic disk mounted on a hard disk drive (HDD), which is a magnetic disk device used as a computer storage, is rapidly increasing in information recording density. Has been continued.

このような磁気ディスクは、ガラス等からなる基板上に、情報記録を担う磁性層が成膜され、この磁性層上に、磁性層を保護するための保護層、及び、浮上飛行する磁気ヘッドからの干渉を緩和する潤滑層が成膜されて構成されている。   In such a magnetic disk, a magnetic layer for recording information is formed on a substrate made of glass or the like, and a protective layer for protecting the magnetic layer is formed on the magnetic layer, and a magnetic head flying up is used. A lubricating layer for reducing the interference is formed.

近年の磁気ディスクにおいては、磁気ディスクと磁気ヘッドの記録再生素子との間のスペーシングロスを改善し、記録信号のS/N比(Signal Noise Ratio)を向上させた結果、情報記録密度が1平方インチ当り60ギガビットを超えるまでに到っており、さらに、1平方インチ当り100ギガビットを超えるような超高記録密度をも実現されようとしている。パーソナルコンピュータ装置に収納することのできる情報容量は、このような磁気ディスクの情報記録密度の増大に支えられて、飛躍的に増加している。   In recent magnetic disks, as a result of improving the spacing loss between the magnetic disk and the recording / reproducing element of the magnetic head and improving the S / N ratio (Signal Noise Ratio) of the recording signal, the information recording density is 1. It has reached 60 gigabits per square inch, and an ultrahigh recording density exceeding 100 gigabits per square inch is also being realized. The information capacity that can be stored in the personal computer device has been dramatically increased, supported by such an increase in the information recording density of the magnetic disk.

このような磁気ディスクにおいて、1平方インチ当り60ギガビットを超える情報記録密度を実現するためには、磁気ディスクと磁気ヘッドの記録再生素子との間の磁気的スペーシングは、20nm以下にまで狭めることが必要となる。このように十分に狭矮な磁気的スペーシングを実現する観点からは、磁気ディスクにおける保護層の膜厚は、3nm以下とすることが求められる。また、磁気ヘッドの浮上量は、10nm以下とすることが求められる。   In such a magnetic disk, in order to realize an information recording density exceeding 60 gigabits per square inch, the magnetic spacing between the magnetic disk and the recording / reproducing element of the magnetic head should be narrowed to 20 nm or less. Is required. Thus, from the viewpoint of realizing sufficiently narrow magnetic spacing, the thickness of the protective layer in the magnetic disk is required to be 3 nm or less. The flying height of the magnetic head is required to be 10 nm or less.

ところで、磁気ディスクにおける情報記録容量を増大させるためには、この磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされない無駄な領域の面積を小さくすることも必要である。そこで、ハードディスクドライブの起動停止方式として、従来より用いられているCSS方式(「コンタクトスタートストップ(Contact Start Stop)方式」)に代えて、情報記録容量の増大が可能なLUL方式(「ロードアンロード(Load Unload)方式」、別名「ランプロード方式」ともいう。)の導入が進められている。   By the way, in order to increase the information recording capacity of the magnetic disk, it is necessary to reduce the area of a useless area in which no information signal is recorded on the magnetic disk. Therefore, instead of the conventionally used CSS method (“Contact Start Stop method”), the LUL method (“load unload”) that can increase the information recording capacity is used as a hard disk drive start / stop method. (Load Unload) method, also known as “ramp load method”) is being introduced.

CSS方式においては、磁気ディスクの非使用状態(停止状態)において磁気ヘッドが載置されるCSSゾーンを磁気ディスク上に設ける必要があり、このCSSゾーンには情報信号の記録ができないため、その分、磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされる領域の面積が減少する。   In the CSS system, it is necessary to provide a CSS zone on the magnetic disk on which the magnetic head is placed when the magnetic disk is not used (stopped), and information signals cannot be recorded in the CSS zone. The area of the magnetic disk where information signals are recorded is reduced.

これに対し、LUL方式においては、磁気ディスクの非使用状態(停止状態)においては、磁気ヘッドは磁気ディスクの外周側に移動され磁気ディスク上より退避されて支持されるので、磁気ディスク上にCSSゾーンのような情報信号の記録ができない領域を設ける必要がなく、磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされる領域の面積を最大限確保することができるからである。   On the other hand, in the LUL method, when the magnetic disk is not in use (stopped), the magnetic head is moved to the outer peripheral side of the magnetic disk and is retracted and supported from the magnetic disk. This is because it is not necessary to provide an area where information signals cannot be recorded, such as a zone, and the area of the area where information signals are recorded on the magnetic disk can be secured to the maximum.

また、LUL方式においては、CSS方式と異なり、磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触することがないので、磁気ディスク上にCSSゾーンにおけるような吸着防止用の凸凹形状を設ける必要がなく、磁気ディスクの主表面を極めて平滑化することが可能となる。したがって、LUL方式用の磁気ディスクにおいては、CSS方式用の磁気ディスクに比較して、磁気ヘッドの浮上量を一段と低下させることができ、記録信号のS/N比の向上を図ることができ、高記録密度化が図られるという利点もある。   In the LUL method, unlike the CSS method, the magnetic head and the magnetic disk do not come into contact with each other. Therefore, it is not necessary to provide the magnetic disk with an uneven shape for preventing adsorption as in the CSS zone. The main surface can be extremely smoothed. Therefore, in the magnetic disk for the LUL system, the flying height of the magnetic head can be further reduced as compared with the magnetic disk for the CSS system, and the S / N ratio of the recording signal can be improved. There is also an advantage that high recording density can be achieved.

なお、このような磁気ディスクが使用される磁気ディスク装置内には、種々の有機材料が使用されており、これらが磁気ディスク装置内で気化し、磁気ヘッドに吸着し、磁気ヘッドの汚染源となる虞れがある。そして、このような汚染に起因して、磁気へッド浮上姿勢の乱れが生じ、ひいては、信号の書き込み/読み出し不能、磁気ディスクの損傷などが生ずる虞れがある。特許文献1には、このような問題の解決手段として、磁気ディスクの非記録再生面にガス吸着膜7を設け、このガス吸着膜7により磁気ディスク装置内で発生する有機ガスを吸着させることが記載されている。   Note that various organic materials are used in the magnetic disk device in which such a magnetic disk is used, and these are vaporized in the magnetic disk device, adsorbed to the magnetic head, and become a contamination source of the magnetic head. There is a fear. Due to such contamination, the magnetic head flying posture may be disturbed, which may result in inability to write / read signals and damage the magnetic disk. In Patent Document 1, as a means for solving such a problem, a gas adsorption film 7 is provided on the non-recording / reproducing surface of a magnetic disk, and the organic gas generated in the magnetic disk apparatus is adsorbed by the gas adsorption film 7. Are listed.

特開2001−338415公報JP 2001-338415 A

ところで、磁気ディスク装置においては、前述のようなLUL方式の導入に伴って、磁気ヘッドにおいて記録再生素子部の腐食障害が頻発するようになってきた。磁気ヘッドにおいて記録再生素子部の腐食現象が発生すると、再生信号の出力が低下することにより読み出しエラーが頻発し、全く再生が不可能となったり、腐食部が増大して、浮上走行中に磁気ディスクにダメージを与える虞れがある。   By the way, in the magnetic disk apparatus, along with the introduction of the LUL system as described above, the corrosion failure of the recording / reproducing element portion has frequently occurred in the magnetic head. When a corrosion phenomenon occurs in the recording / reproducing element in the magnetic head, the read signal output decreases, and read errors occur frequently, making it impossible to reproduce at all, or the corroded area increases, causing magnetic fields during flying. There is a risk of damaging the disc.

本発明者は、この問題について研究を重ねた結果、LUL方式を採用した磁気ディスク装置において腐食障害が頻発しやすい原因を明らかにした。   As a result of repeated studies on this problem, the present inventor has clarified the cause of frequent occurrence of corrosion failures in a magnetic disk device adopting the LUL method.

すなわち、近年の磁気ヘッドにおいては、浮上量制御の容易なNPABスライダ(負圧スライダ)が採用されている。NPABスライダを採用した磁気ヘッドの浮上走行時には、スライダ面に負圧が発生する。そのため、磁気ヘッドは、磁気ディスクの記録再生用領域上に存在する微量な有機系、無機系の付着物等や流動性の高い潤滑層を、掃除機のように徐々にスライダ面に集めて濃縮させ、スライダ面に堆積させてしまうのである。   That is, in recent magnetic heads, NPAB sliders (negative pressure sliders) that are easy to control the flying height are employed. When the magnetic head using the NPAB slider is flying, negative pressure is generated on the slider surface. For this reason, the magnetic head gradually collects and concentrates a small amount of organic and inorganic deposits on the recording / reproducing area of the magnetic disk and a highly fluid lubricating layer on the slider surface like a vacuum cleaner. And deposited on the slider surface.

このようにして磁気ヘッドに移着した堆積物質は、CSS方式を採用した磁気ディスク装置においては、磁気ヘッドが磁気ディスクの接触摺動用領域を接触摺動するときにクリーニングされる。しかし、LUL方式を採用した磁気ディスク装置においては、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触摺動することがないため、このようなクリーニングが行われない。そのため、LUL方式を採用した磁気ディスク装置においては、磁気ヘッドに移着して濃縮されたコンタミ、特に、硫化物系コンタミ、塩化物系コンタミ、窒化物系コンタミ等の酸性系コンタミが再生素子部の腐食の原因となる。特に、高出力の得られる磁気抵抗効果型再生素子(MR素子、GMR素子、TMR素子等)は、これらコンタミによって腐食されやすい。   In the magnetic disk apparatus adopting the CSS method, the deposited material transferred to the magnetic head in this way is cleaned when the magnetic head contacts and slides on the contact sliding area of the magnetic disk. However, in a magnetic disk apparatus adopting the LUL method, such a cleaning is not performed because the magnetic head does not slide on the magnetic disk. For this reason, in the magnetic disk drive adopting the LUL method, the contamination that has been transferred to the magnetic head and concentrated, in particular acidic contamination such as sulfide contamination, chloride contamination, nitride contamination, etc. is generated in the reproducing element section. Cause corrosion. In particular, magnetoresistive effect reproducing elements (MR element, GMR element, TMR element, etc.) with high output are easily corroded by these contaminants.

さらに、磁気抵抗効果型ヘッドは、従来から用いられてきた薄膜ヘッドと異なり、記録素子と再生素子とが分離している記録再生分離構造を有している。記録再生分離構造の磁気ヘッドにおいては、記録素子と再生素子とのにFe−Ni系などパーマロイ等からなるシールドを形成する必要がある。このようなパーマロイ等の材料は、腐食されやすい合金であるため、磁気抵抗効果型ヘッドにおいては、従来の薄膜ヘッドに比較して、腐食現象からより厳重に保護する必要がある。   Further, the magnetoresistive head has a recording / reproducing separation structure in which a recording element and a reproducing element are separated, unlike a thin film head conventionally used. In a magnetic head having a recording / reproducing separation structure, it is necessary to form a shield made of permalloy or the like such as Fe—Ni between the recording element and the reproducing element. Since such a material such as permalloy is an alloy that is easily corroded, the magnetoresistive head needs to be protected more severely from the corrosion phenomenon than the conventional thin film head.

また、LUL方式を採用した磁気ディスク装置においては、磁気ディスクに接触摺動することによるクリーニングが行われないため、磁気ディスクの潤滑層をなす潤滑剤が磁気ヘッドに移着堆積され易い。このように磁気ヘッドに移着堆積した潤滑剤は、磁気ヘッドの浮上姿勢を大きく乱し、フライスティクション障害も発生させ易いことが判明した。フライスティクション障害とは、磁気ディスク上を浮上飛行している磁気ヘッドが、浮上姿勢や浮上量に変調をきたす障害であり、不規則な再生出力変動の発生を伴うことが多い。また、このフライスティクション障害が生ずると、浮上飛行中の磁気ヘッドが磁気ディスクに接触してしまういわゆるヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害を生じてしまうことがあり、磁気ディスクが破壊される虞れがある。さらに、磁気ヘッドへの移着物質が一定量以上堆積すると、磁気ヘッドの浮上走行中に、この移着物質が磁気ディスク上に落下し、クラッシュを引き起こす虞れがあることも判明した。   Further, in a magnetic disk device adopting the LUL method, cleaning by contact sliding on the magnetic disk is not performed, so that the lubricant forming the lubricating layer of the magnetic disk is easily transferred and deposited on the magnetic head. It has been found that the lubricant transferred and deposited on the magnetic head in this manner greatly disturbs the flying posture of the magnetic head and easily causes fly stiction failure. The fly stiction failure is a failure in which the magnetic head flying above the magnetic disk modulates the flying posture and the flying height, and is often accompanied by irregular reproduction output fluctuations. In addition, when this fly stiction failure occurs, a so-called head crash failure or thermal asperity failure in which the flying magnetic head comes into contact with the magnetic disk may occur, and the magnetic disk may be destroyed. is there. Further, it has been found that when a certain amount of transfer material is deposited on the magnetic head, the transfer material may fall on the magnetic disk during the flying of the magnetic head and cause a crash.

また、LUL方式を採用したすることに伴い、磁気ディスク表面の平滑化がなされたため、磁気ディスクの表面上に存在する微量な有機系、無機系の付着物や、流動性の高い潤滑剤の移動度が高まり、これら付着物や潤滑剤の磁気ヘッドへの移着が促進されることが判明した。さらに、磁気ヘッドの浮上量の低下も、付着物や潤滑剤の磁気ヘッドへの移着を促進させることも判明した。   In addition, since the surface of the magnetic disk has been smoothed as a result of adopting the LUL method, a small amount of organic and inorganic deposits present on the surface of the magnetic disk and the movement of a highly fluid lubricant are transferred. It became clear that the transfer of these deposits and lubricants to the magnetic head was promoted. Furthermore, it has been found that a decrease in the flying height of the magnetic head also promotes the transfer of deposits and lubricants to the magnetic head.

これらの理由により、LUL方式を採用した磁気ディスク装置においては、磁気ディスク上の付着物や潤滑剤の磁気ヘッドへの移着を抑止すにことなしには、磁気ヘッドの浮上量を安定して10mm以下とすることは困難であることが判明した。   For these reasons, in a magnetic disk apparatus adopting the LUL method, the flying height of the magnetic head can be stabilized without inhibiting the transfer of deposits and lubricant on the magnetic disk to the magnetic head. It was found that it was difficult to make it 10 mm or less.

なお、特許文献1に記載の技術は、磁性層が基板の片面のみに成膜された磁気ディスクを対象にしており、基板の両面に磁性層が成膜された磁気ディスクには適用することができない。また、前述のようにLUL方式を採用した磁気ディスク装置においては、磁気ヘッドの記録再生素子部の腐食障害を十分に防止することができない。   The technique described in Patent Document 1 is intended for a magnetic disk having a magnetic layer formed only on one side of the substrate, and can be applied to a magnetic disk having a magnetic layer formed on both sides of the substrate. Can not. In addition, in the magnetic disk apparatus adopting the LUL system as described above, the corrosion failure of the recording / reproducing element portion of the magnetic head cannot be sufficiently prevented.

そこで、本発明は、前述の実情に鑑みて提案されたものであって、その目的は、特にLUL方式を採用した磁気ディスク装置において、磁気ヘッドの浮上量を10mm以下とした場合であっても、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食障害を抑えることができ、また、フライスティクション障害やヘッドクラッシュ障害、サーマルアスペリティ障害を防止することができる磁気ディスクの製造方法及びこのような磁気ディスクの評価方法を提供することにある。   Accordingly, the present invention has been proposed in view of the above-described circumstances, and the object thereof is to provide a magnetic disk apparatus that employs the LUL method, even when the flying height of the magnetic head is 10 mm or less. A method of manufacturing a magnetic disk and a method of evaluating such a magnetic disk capable of suppressing corrosion failure of a recording / reproducing element of a magnetic head and preventing fly stiction failure, head crash failure, and thermal asperity failure Is to provide.

本発明者は、磁気ディスク装置における磁気ヘッドの記録再生素子の腐食現象と、SOガス雰囲気中に磁気ディスクを放置した後におけるこの磁気ディスクの表面に付着しているSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度並びに磁気ディスクの保護層に含まれている窒素濃度との相関関係について研究したところ、これら腐食現象とSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度並びに窒素濃度との間に所定の相関関係があることを見出した。 The inventor has found that the corrosion phenomenon of the recording / reproducing element of the magnetic head in the magnetic disk apparatus, the concentration of SO 4 2- ion adhering to the surface of the magnetic disk after leaving the magnetic disk in the SO 2 gas atmosphere, and When the correlation between the CO 2 -ion concentration and the nitrogen concentration contained in the protective layer of the magnetic disk was studied, the correlation between these corrosion phenomena and the SO 4 2 -ion concentration, the CO 2 -ion concentration and the nitrogen concentration was investigated. It was found that there was a predetermined correlation.

この相関関係に基づいて、磁気ディスクの表面に付着しているSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度並びに磁気ディスクの保護層に含まれている窒素濃度を計測、管理することによって、磁気ヘッドの腐食現象を簡便に予測することが可能となり、また、磁気ヘッドにおいて腐食現象を生じさせない磁気ディスクを製造することが可能となる。 Based on this correlation, by measuring and managing the SO 4 2- ion concentration and the CO 2 - ion concentration adhering to the surface of the magnetic disk and the nitrogen concentration contained in the protective layer of the magnetic disk, the magnetic It becomes possible to easily predict the corrosion phenomenon of the head, and to manufacture a magnetic disk that does not cause the corrosion phenomenon in the magnetic head.

すなわち、本発明は以下の構成のいずれか一を有するものである。   That is, the present invention has any one of the following configurations.

〔構成1〕
基板上に、少なくとも磁性層、炭素系保護層及び潤滑層をこれらの順に形成する磁気ディスクの製造方法であって、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を所定の濃度以上に制御することにより、磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置した後に温水抽出法によって抽出されるSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度を制御し、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を所定の率以下とすることを特徴とするものである。
[Configuration 1]
A method of manufacturing a magnetic disk in which at least a magnetic layer, a carbon-based protective layer, and a lubricating layer are formed in this order on a substrate, wherein the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer is controlled to a predetermined concentration or more. A recording / reproducing element for a magnetic head that controls the SO 4 2− ion concentration and the CO 2− ion concentration extracted by a hot water extraction method after leaving the magnetic disk in an SO 2 gas atmosphere, and performs recording / reproducing on the magnetic disk. The rate of occurrence of corrosion in the part is set to a predetermined rate or less.

〔構成2〕
基板上に、少なくとも磁性層、炭素系保護層及び潤滑層がこれらの順に形成された磁気ディスクの評価方法であって、磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置した後に温水抽出法によって抽出されたSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度を測定し、また、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を測定し、これらSO 2−イオン濃度、CO2−イオン濃度及び窒素濃度に基づいて、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を算出することを特徴とするものである。
[Configuration 2]
A method for evaluating a magnetic disk in which at least a magnetic layer, a carbon-based protective layer, and a lubricating layer are formed in this order on a substrate, the magnetic disk being left in an SO 2 gas atmosphere and then extracted by a hot water extraction method The SO 4 2- ion concentration and the CO 2- ion concentration are measured, and the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer is measured. Based on these SO 4 2- ion concentration, CO 2- ion concentration, and nitrogen concentration Thus, the corrosion occurrence rate in the recording / reproducing element portion of the magnetic head for performing recording / reproducing with respect to the magnetic disk is calculated.

〔構成3〕
構成2を有する磁気ディスクの評価方法において、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食発生率をY(%)、SO 2−イオン濃度をX(ng/m)、CO2−イオン濃度をX(ng/m)、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度をX(%)としたとき、以下の式により、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を算出することを特徴とするものである。
Y=1.19X+4.63X−12.6X+61.7
[Configuration 3]
In the method for evaluating a magnetic disk having Configuration 2, the corrosion rate of the recording / reproducing element of the magnetic head is Y (%), the SO 4 2- ion concentration is X 1 (ng / m 2 ), and the CO 2 -ion concentration is X 2 (ng / m 2 ), where the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer is X 3 (%), the corrosion in the recording / reproducing element portion of the magnetic head that performs recording / reproducing with respect to this magnetic disk according to the following equation: The occurrence rate is calculated.
Y = 1.19X 1 + 4.63X 2 −12.6X 3 +61.7

構成1を有する本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を所定の濃度以上に制御することにより、磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置した後に温水抽出法によって抽出されるSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度を制御し、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を所定の率以下とするので、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食障害を抑えることができ、また、フライスティクション障害やヘッドクラッシュ障害、サーマルアスペリティ障害を防止することができる。 In the method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention having the configuration 1, the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer is controlled to be equal to or higher than a predetermined concentration, so that the magnetic disk is allowed to stand in the SO 2 gas atmosphere and then heated. Since the SO 4 2− ion concentration and the CO 2− ion concentration extracted by the extraction method are controlled, and the corrosion occurrence rate in the recording / reproducing element portion of the magnetic head that performs recording / reproducing with respect to this magnetic disk is set to a predetermined rate or less, Corrosion failure of the read / write element of the magnetic head can be suppressed, and fly stiction failure, head crash failure, and thermal asperity failure can be prevented.

構成2を有する本発明に係る磁気ディスクの製造方法においては、磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置した後に温水抽出法によって抽出されたSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度を測定し、また、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を測定し、これらSO 2−イオン濃度、CO2−イオン濃度及び窒素濃度に基づいて、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を算出するので、この磁気ディスクが磁気ヘッドの記録再生素子に腐食障害を生じさせ易い磁気ディスクかどうかを評価することができる。 In the method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention having the configuration 2, the SO 4 2- ion concentration and the CO 2 - ion concentration extracted by the hot water extraction method are measured after the magnetic disk is left in the SO 2 gas atmosphere. Further, the recording / reproduction of a magnetic head that measures the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer and performs recording / reproduction on the magnetic disk based on the SO 4 2− ion concentration, the CO 2− ion concentration, and the nitrogen concentration. Since the corrosion occurrence rate in the element portion is calculated, it is possible to evaluate whether or not this magnetic disk is likely to cause a corrosion failure in the recording / reproducing element of the magnetic head.

構成3を有する本発明に係る磁気ディスクの評価方法においては、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食発生率をY(%)、SO 2−イオン濃度をX(ng/m)、CO2−イオン濃度をX(ng/m)、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度をX(%)としたとき、これらの相関関係を示す式により、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を算出するので、この磁気ディスクが磁気ヘッドの記録再生素子に腐食障害を生じさせ易い磁気ディスクかどうかを的確に評価することができる。 In the method for evaluating a magnetic disk according to the present invention having Configuration 3, the corrosion rate of the recording / reproducing element of the magnetic head is Y (%), the SO 4 2- ion concentration is X 1 (ng / m 2 ), CO 2. - ion concentration X 2 (ng / m 2) , when the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer was X 3 (%), the formula shown these correlations, performs recording and reproduction with respect to the magnetic disk Since the corrosion occurrence rate in the recording / reproducing element portion of the magnetic head is calculated, it is possible to accurately evaluate whether or not this magnetic disk is likely to cause a corrosion failure in the recording / reproducing element of the magnetic head.

すなわち、本発明は、特にLUL方式を採用した磁気ディスク装置において、磁気ヘッドの浮上量を10mm以下とした場合であっても、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食障害を抑えることができ、また、フライスティクション障害やヘッドクラッシュ障害、サーマルアスペリティ障害を防止することができる磁気ディスクの製造方法及びこのような磁気ディスクの評価方法を提供することができるものである。   That is, according to the present invention, in the magnetic disk device adopting the LUL method, even when the flying height of the magnetic head is 10 mm or less, the corrosion failure of the recording / reproducing element of the magnetic head can be suppressed. It is possible to provide a method for manufacturing a magnetic disk capable of preventing fly stiction failure, head crash failure, and thermal asperity failure, and a method for evaluating such a magnetic disk.

以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

〔磁気ディスク及びその製造方法の概略〕
図1は、本発明に係る磁気ディスクの製造方法によって製造される磁気ディスクの構成を示す平面図(a)及び断面図(b)である。
[Outline of magnetic disk and its manufacturing method]
FIG. 1 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) showing the configuration of a magnetic disk manufactured by the method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention.

本発明に係る磁気ディスクの製造方法によって製造される磁気ディスクは、ハードディスクドライブに搭載される磁気ディスクであり、図1中の(a)に示すように、非磁性及び非導電性の材料からなり中心孔1aを備えた円形のディスク基板1を用いて、図1中の(b)に示すように、ディスク基板1の表面1b上に、下地層2、磁性層3、炭素系保護層4が、この順に積層して成膜されて構成されている。   A magnetic disk manufactured by the method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention is a magnetic disk mounted on a hard disk drive, and is made of a nonmagnetic and nonconductive material as shown in FIG. Using a circular disk substrate 1 having a central hole 1a, an underlayer 2, a magnetic layer 3, and a carbon-based protective layer 4 are formed on the surface 1b of the disk substrate 1 as shown in FIG. These layers are stacked in this order to form a film.

ディスク基板1は、例えば、アルミノシリケートガラス、アルミノボロシリケートガラス、または、ソーダライムガラスなどの化学強化ガラスからなり、1.0インチ型の場合、外径が27mm、内径(中心孔1aの直径)が7mm、厚さが、0.381mmとなっている。また、ディスク基板1の表面1bは、表面粗さが、Raで0.4nm以下、Rmaxで5nm以下となるように、鏡面研磨が施されている。   The disk substrate 1 is made of, for example, chemically strengthened glass such as aluminosilicate glass, aluminoborosilicate glass, or soda lime glass. In the case of a 1.0 inch type, the outer diameter is 27 mm and the inner diameter (the diameter of the center hole 1a). Is 7 mm and the thickness is 0.381 mm. The surface 1b of the disk substrate 1 is mirror-polished so that the surface roughness is 0.4 nm or less in Ra and 5 nm or less in Rmax.

この磁気ディスク1を製造するには、まず、ディスク基板1の表面1bに対して、DCマグネトロンスパッタリング法などの物理気相成長法により、第1の下地層2aを形成する。第1の下地層2aは、例えば、厚さが5nmのAlRu合金薄膜である。次に、第1の下地層2aの上層に、DCマグネトロンスパッタリング法などにより、第2の下地層2bを形成する。第2の下地層2bは、例えば、厚さが50nmのCrMoTi合金薄膜である。これら第1の下地層2a及び第2の下地層2bからなる下地層2は、磁性層3の結晶構造を良好にするために形成される。   In order to manufacture the magnetic disk 1, first, the first underlayer 2a is formed on the surface 1b of the disk substrate 1 by physical vapor deposition such as DC magnetron sputtering. The first underlayer 2a is, for example, an AlRu alloy thin film having a thickness of 5 nm. Next, the second underlayer 2b is formed on the first underlayer 2a by a DC magnetron sputtering method or the like. The second underlayer 2b is, for example, a CrMoTi alloy thin film having a thickness of 50 nm. The underlayer 2 composed of the first underlayer 2a and the second underlayer 2b is formed in order to improve the crystal structure of the magnetic layer 3.

次に、下地層2(第2の下地層2b)の上層に、DCマグネトロンスパッタリングなどの物理気相成長法により、磁性層3を形成する。磁性層3は、例えば、厚さが、15nmのCoCrB合金薄膜である。   Next, the magnetic layer 3 is formed on the underlayer 2 (second underlayer 2b) by physical vapor deposition such as DC magnetron sputtering. The magnetic layer 3 is, for example, a CoCrB alloy thin film having a thickness of 15 nm.

次に、磁性層3の上層に、プラズマCVD法により、炭素系保護層4を形成する。炭素系保護層4は、例えば、厚さが3nmのアモルファスのダイヤモンドライクカーボンからなり、耐摩耗性を向上させて磁性層3を保護する機能を担っている。   Next, the carbon-based protective layer 4 is formed on the magnetic layer 3 by plasma CVD. The carbon-based protective layer 4 is made of, for example, amorphous diamond-like carbon having a thickness of 3 nm, and has a function of protecting the magnetic layer 3 by improving wear resistance.

次に、保護層4の表面に、潤滑層5をディップ法により形成する。潤滑層5は、例えば、厚さが1.2nmのパーフルオロポリエーテル層などから構成され、磁気ヘッドと接触した際の衝撃を緩和するなどの機能を担っている。   Next, the lubricating layer 5 is formed on the surface of the protective layer 4 by a dipping method. The lubricating layer 5 is made of, for example, a perfluoropolyether layer having a thickness of 1.2 nm, and has a function of mitigating impact when contacting the magnetic head.

〔磁気ディスクの評価方法〕
本発明に係る磁気ディスクの評価方法においては、まず、磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置する。例えば、磁気ディスクを容積12.2Lのデシケータに入れ、10ppmのSOガスをデシケータ内に封入後、40°C、75%RHの環境下で、12時間放置する。
[Evaluation method of magnetic disk]
In the magnetic disk evaluation method according to the present invention, first, the magnetic disk is left in an SO 2 gas atmosphere. For example, a magnetic disk is placed in a 12.2 L capacity desiccator, 10 ppm of SO 2 gas is enclosed in the desiccator, and then left in an environment of 40 ° C. and 75% RH for 12 hours.

この工程により、SOガスを加速的に磁気ディスクに付着させる。この工程により、磁気ディスクに付着するSO 2−イオンは、通常の磁気ディスク装置内に磁気ディスクを装填して10日間放置した場合に付着するSO 2−イオンと略同値となり、測定時間を20分の1に短縮できることになる。 Through this step, SO 2 gas is acceleratedly attached to the magnetic disk. By this step, SO 4 2- ion adhering to the magnetic disk becomes substantially the same value as SO 4 2- ion adhering when the magnetic disk is loaded in a normal magnetic disk apparatus and left for 10 days, and the measurement time is reduced. It can be shortened to 1/20.

次に、この磁気ディスクを、80°Cの純水中に浸漬させ、温水抽出を行う。これは、SOガス暴露された磁気ディスクに付着したSO 2−イオン及びCO2−イオンの濃度を計るための工程である。なお、CO2−イオンは、磁性層3から拡散する原子に起因するものと思われる。 Next, this magnetic disk is immersed in pure water at 80 ° C. to perform hot water extraction. This is a process for measuring the concentration of SO 4 2- ion and CO 2 - ion adhering to the magnetic disk exposed to SO 2 gas. The CO 2− ions are considered to be caused by atoms diffusing from the magnetic layer 3.

温水抽出とは、例えば、磁気ディスク5枚と50mlの純水とをポリプロピレン製の袋に入れ、60分間、80°Cに加熱された水に浸漬させて抽出することを言う。温水抽出の後、純水に抽出されたイオンをイオンクロマトグラフィで分析し、SO 2−イオン及びCO2−イオンの濃度を測定する。 The hot water extraction refers to, for example, extracting five magnetic disks and 50 ml of pure water in a polypropylene bag and immersing them in water heated to 80 ° C. for 60 minutes. After hot water extraction, ions extracted into pure water are analyzed by ion chromatography, and the concentrations of SO 4 2- ion and CO 2- ion are measured.

一方、この磁気ディスクの炭素系保護膜4に含まれる窒素の濃度を、X線光電子分光分析法によって測定する。   On the other hand, the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective film 4 of this magnetic disk is measured by X-ray photoelectron spectroscopy.

本発明においては、これらSO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度を用いて、この磁気ディスクが、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子に腐食障害を生じさせ易い磁気ディスクかどうかを評価する。そのため、本発明においては、予め、SO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度と、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食率との相関関係を求めておく。この相関関係に、SO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度をあてはめて、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食率を算出して、磁気ヘッドを評価する。 In the present invention, the magnetic disk uses the SO 4 2− ion concentration, the CO 2− ion concentration, and the nitrogen concentration to corrode the recording / reproducing element of the magnetic head that performs recording / reproducing with respect to the magnetic disk. It is evaluated whether or not the magnetic disk is likely to cause a magnetic disk. Therefore, in the present invention, the correlation between the concentration of SO 4 2− ions, the concentration of CO 2− ions and the concentration of nitrogen and the corrosion rate of the recording / reproducing element of the magnetic head is obtained in advance. By applying SO 4 2− ion concentration, CO 2− ion concentration and nitrogen concentration to this correlation, the corrosion rate of the recording / reproducing element of the magnetic head is calculated to evaluate the magnetic head.

この相関関係を求めるために、前述のようにSOガス雰囲気中に放置(曝露)した磁気ディスクについて、70°、80%RHの環境下において、40万回のロードアンロード耐久試験(LUL試験)を行う。すなわち、磁気ディスクをハードディスクドライブに搭載して、連続してロードアンロード動作を繰り返し行う。ロードアンロード耐久試験の終了後、磁気ヘッドの記録再生素子部を走査型電子顕微鏡にて観察し、腐食の有無を観察する。 In order to obtain this correlation, the load / unload endurance test (LUL test) was performed for the magnetic disk left (exposed) in the SO 2 gas atmosphere as described above in an environment of 70 ° and 80% RH. )I do. That is, the magnetic disk is mounted on the hard disk drive, and the load / unload operation is continuously repeated. After completion of the load / unload durability test, the recording / reproducing element portion of the magnetic head is observed with a scanning electron microscope to observe the presence or absence of corrosion.

このようなロードアンロード耐久試験の結果における磁気ヘッドの記録再生素子の腐食率と、前述のSO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度とを対比して、これらSO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度と磁気ヘッドの記録再生素子の腐食率との相関関係を求める。 By comparing the corrosion rate of the recording / reproducing element of the magnetic head in the result of such a load / unload durability test with the above-mentioned SO 4 2- ion concentration, CO 2- ion concentration, and nitrogen concentration, these SO 4 4 Correlation between 2- ion concentration, CO 2- ion concentration and nitrogen concentration and the corrosion rate of the read / write element of the magnetic head is obtained.

このようにして求められた相関関係は、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食発生率をY(%)、SO 2−イオン濃度をX(ng/m)、CO2−イオン濃度をX(ng/m)、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度をX(%)としたとき、後述する実施例において示すように、以下の式により示されるものであった。 The correlation thus obtained is that the corrosion occurrence rate of the recording / reproducing element of the magnetic head is Y (%), the SO 4 2- ion concentration is X 1 (ng / m 2 ), and the CO 2- ion concentration is X 2 (ng / m 2 ), when the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer was X 3 (%), as shown in the examples described later, it was represented by the following formula.

Y=1.19X+4.63X−12.6X+61.7
本発明においては、磁気ディスク装置においてアウトガスコントロールが強化されたために通常のロードアンロード耐久試験によっては殆ど磁気ヘッドの腐食が観察されない場合においても、磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置することによって、短時間に、かつ、付着量を調節して、磁気ディスクに硫黄系ガスを付着させているので、迅速な評価を行うことができる。
Y = 1.19X 1 + 4.63X 2 −12.6X 3 +61.7
In the present invention, since the outgas control is enhanced in the magnetic disk device, even when the corrosion of the magnetic head is hardly observed by a normal load / unload durability test, the magnetic disk is left in the SO 2 gas atmosphere. Since the sulfur-based gas is adhered to the magnetic disk in a short time and by adjusting the amount of adhesion, a quick evaluation can be performed.

そして、SO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度と、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食率との相関関係が求められた後は、SO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度のみを求めることで、記録再生素子の腐食率を算出することができるので、ロードアンロード耐久試験を行うことなく、磁気ディスクの評価を行うことができる。 After the correlation between the SO 4 2− ion concentration, the CO 2− ion concentration and the nitrogen concentration and the corrosion rate of the recording / reproducing element of the magnetic head is obtained, the SO 4 2− ion concentration, Since only the CO 2− ion concentration and the nitrogen concentration are obtained, the corrosion rate of the recording / reproducing element can be calculated. Therefore, the magnetic disk can be evaluated without performing a load / unload durability test.

〔磁気ディスクの製造方法〕
また、本発明においては、磁気ディスクの製造工程において、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を所定の濃度以下に制御することによって、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を所定の率以下とすることができる。
[Method of manufacturing magnetic disk]
In the present invention, in the magnetic disk manufacturing process, the recording / reproducing element portion of the magnetic head that performs recording / reproducing on the magnetic disk by controlling the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer to a predetermined concentration or less. The corrosion occurrence rate in can be reduced to a predetermined rate or less.

すなわち、前述のようにして求めたSO 2−イオンの濃度、CO2−イオンの濃度及び窒素の濃度と磁気ヘッドの記録再生素子の腐食率との相関関係から、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を制御することによって、磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置した後に温水抽出法によって抽出されるSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度を所定の濃度以下に制御することができ、記録再生素子の腐食率を低くすることができる。 That is, from the correlation between the SO 4 2− ion concentration, the CO 2− ion concentration and the nitrogen concentration obtained as described above, and the corrosion rate of the recording / reproducing element of the magnetic head, it is included in the carbon-based protective layer. By controlling the concentration of nitrogen, the SO 4 2- ion concentration and the CO 2 - ion concentration extracted by the hot water extraction method after the magnetic disk is left in the SO 2 gas atmosphere can be controlled below a predetermined concentration. The corrosion rate of the recording / reproducing element can be lowered.

すなわち、前述の相関関係を示す式より、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度Xを4.91%とし、SO 2−イオン濃度Xを0ng/m、CO2−イオン濃度Xを0ng/mとすれば、記録再生素子の腐食発生率Yは0%となる。 That is, from the above equation showing the correlation, the concentration X 3 of nitrogen contained in the carbon-based protective layer is 4.91%, the SO 4 2- ion concentration X 1 is 0 ng / m 2 , and the CO 2- ion concentration X If 2 is 0 ng / m 2 , the corrosion rate Y of the recording / reproducing element is 0%.

また、付着によるSO 2−イオン濃度X及び溶出によるCO2−イオン濃度Xが0ng/mではない場合においても、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度Xを高くすることにより、記録再生素子の腐食発生率Yを低減させることができる。これは、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度Xを高くすると、SO 2−イオンの付着が生じにくくなり、また、炭素系保護層のカバレージが高くなることによりCO2−イオンの溶出が少なくなるためと思われる。 Further, even when the SO 4 2- ion concentration X 1 due to adhesion and the CO 2- ion concentration X 2 due to elution are not 0 ng / m 2 , the concentration X 3 of nitrogen contained in the carbon-based protective layer is increased. Further, the corrosion rate Y of the recording / reproducing element can be reduced. This, the higher the concentration X 3 of nitrogen contained in the carbon-based protective layer, hardly occur adhesion of SO 4 2-ions, also dissolution of CO 2-ions by becoming high coverage of the carbon-based protective layer It seems to be because there is less.

このことから、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度Xを4.91%以上とすることが好ましい。 Therefore, it is preferable that the concentration X 3 of nitrogen contained in the carbon-based protective layer and 4.91% or more.

以下、実施例及び比較例を挙げることにより、具体的に説明する。なお、本発明は、これら実施例の構成に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by giving examples and comparative examples. In addition, this invention is not limited to the structure of these Examples.

以下に述べる本実施例における磁気ディスクは、以下の(1)乃至(8)の工程により作成した。
(1)粗研削工程
(2)形状加工工程
(3)精研削工程
(4)端面研磨加工工程
(5)第1研磨工程
(6)第2研磨工程
(7)化学強化工程
The magnetic disk in this example described below was prepared by the following steps (1) to (8).
(1) Rough grinding step (2) Shape processing step (3) Fine grinding step (4) End surface polishing step (5) First polishing step (6) Second polishing step (7) Chemical strengthening step

まず、アモルファスのアルミノシリケートガラスからなるディスク状のガラス母材を用意した。このアルミノシリケートガラスは、リチウムを含有している。このアルミノシリケートガラスの組成は、SiOを、63.6重量%、Alを、14.2重量%、NaOを、10.4重量%、LiOを、5.4重量%、ZrOを、6.0重量%、Sbを、0.4重量%含むものである。 First, a disk-shaped glass base material made of amorphous aluminosilicate glass was prepared. This aluminosilicate glass contains lithium. The composition of this aluminosilicate glass is SiO 2 63.6% by weight, Al 2 O 3 14.2% by weight, Na 2 O 10.4% by weight, Li 2 O 5.4% by weight. %, ZrO 2 6.0 wt%, and Sb 2 O 3 0.4 wt%.

(1)粗研削工程
溶融させたアルミノシリケートガラスから形成した厚さ0.6mmのシートガラスをガラス母材として用いて、このシートガラスから、研削砥石により、直径28.7mm、厚さ0.6mmの円盤状のガラスディスクを得た。
(1) Rough grinding process Using a sheet glass of 0.6 mm thickness formed from a molten aluminosilicate glass as a glass base material, from this sheet glass, a diameter of 28.7 mm and a thickness of 0.6 mm A disk-shaped glass disk was obtained.

シートガラスを形成する方法としては、一般に、ダウンドロー法やフロート法が用いられるが、これ以外に、ダイレクトプレスによって、円盤状のガラス母材を得てもよい。このシートガラスの材料であるアルミノシリケートガラスとしては、SiOを58乃至75重量%、Alを5乃至23重量%、NaOを4乃至13重量%、LiOを3乃至10重量%含有するものであればよい。 As a method for forming the sheet glass, a downdraw method or a float method is generally used. However, in addition to this, a disk-shaped glass base material may be obtained by direct pressing. The aluminosilicate glass which is a material of the sheet glass, a SiO 2 58 to 75 wt%, Al 2 O 3 from 5 to 23 wt%, a Na 2 O 4 to 13 wt%, Li 2 O 3 to 10 Any material may be used as long as it contains by weight.

次に、ガラスディスクに対し、寸法精度及び形状精度の向上のために、粗研削工程を施した。この粗研削工程は、両面研削装置を用いて、粒度#400の砥粒を用いて行なった。   Next, a rough grinding process was performed on the glass disk in order to improve dimensional accuracy and shape accuracy. This rough grinding process was performed using abrasive grains of grain size # 400 using a double-side grinding apparatus.

具体的には、始めに粒度#400のアルミナ砥粒を用い、荷量を100kg程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラスディスクの両面を、面精度0乃至1μm、表面粗さ(Rmax)6μm程度に研削した。   Specifically, first, using alumina abrasive grains of particle size # 400, setting the load to about 100 kg, and rotating the sun gear and the internal gear, both surfaces of the glass disk housed in the carrier are improved in surface accuracy. It was ground to 0 to 1 μm and surface roughness (Rmax) of about 6 μm.

(2)形状加工工程
次に、円筒状の砥石を用いて、ガラスディスクの中央部分に直径6.1mmの円孔を形成するとともに、外周端面の研削をして、直径を27.43mmとした後、外周端面及び内周端面において主表面の周縁に沿って略々45°の面取り加工を施した。このときのガラスディスクの端面の表面粗さは、Rmaxで4μm程度であった。
(2) Shape processing step Next, while using a cylindrical grindstone, a circular hole having a diameter of 6.1 mm was formed in the central portion of the glass disk, and the outer peripheral end face was ground to a diameter of 27.43 mm. Thereafter, chamfering of approximately 45 ° was performed along the peripheral edge of the main surface at the outer peripheral end surface and the inner peripheral end surface. The surface roughness of the end face of the glass disk at this time was about 4 μm in Rmax.

(3)精研削工程
次に、砥粒の粒度を#1000に替え、ガラスディスクの主表面を研削することにより、主表面の表面粗さを、Rmaxで2μm程度、Raで0.2μm程度とした。
(3) Fine grinding step Next, the grain size of the abrasive grains is changed to # 1000, and the main surface of the glass disk is ground, so that the surface roughness of the main surface is about 2 μm for Rmax and about 0.2 μm for Ra. did.

この精研削工程を行うことにより、前工程である粗研削工程や形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができる。   By performing this fine grinding step, it is possible to remove the fine uneven shape formed on the main surface in the rough grinding step and the shape processing step which are the previous steps.

このような精研削工程を終えたガラスディスクを、超音波を印加した中性洗剤及び水の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄を行なった。   The glass disk after such a fine grinding process was immersed in each washing tank of neutral detergent and water to which ultrasonic waves were applied in order to perform ultrasonic cleaning.

(4)端面研磨加工工程
次いで、従来より用いられているブラシ研磨により、ガラスディスクを回転させながらガラスディスクの端面の研磨を行い、このガラスディスクの端面(内周端面及び外周端面)の表面の粗さを、Rmaxで1μm、Raで0.3μm程度に研磨した。
(4) End face polishing step Next, the end face of the glass disk is polished by brush polishing conventionally used while rotating the glass disk, and the surface of the end face (inner peripheral end face and outer peripheral end face) of this glass disk is polished. The roughness was polished to about 1 μm for Rmax and about 0.3 μm for Ra.

そして、端面研磨加工を終えたガラスディスクの主表面を水洗浄した。   And the main surface of the glass disk which finished the end surface grinding | polishing process was water-washed.

なお、この端面研磨加工工程においては、ガラスディスクを重ね合わせて端面を研磨するが、この際に、ガラスディスクの主表面にキズ等が付くことを避けるため、後述する第1研磨工程よりも前、あるいは、第2研磨工程の前後に行うことが好ましい。   In this end face polishing process, the glass disk is overlapped to polish the end face. At this time, in order to avoid scratches or the like on the main surface of the glass disk, before the first polishing process described later. Alternatively, it is preferably performed before and after the second polishing step.

この端面研磨加工工程により、ガラスディスクの端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。端面研磨加工工程後にガラスディスクの直径を測定したところ、27.4mmであった。   By this end face polishing process, the end face of the glass disk was processed into a mirror surface state capable of preventing generation of particles and the like. When the diameter of the glass disk was measured after the end face polishing process, it was 27.4 mm.

(5)第1研磨工程
次に、前述した精研削工程において残留した傷や歪みを除去するため、両面研磨装置を用いて、第1研磨工程を行なった。
(5) First Polishing Step Next, a first polishing step was performed using a double-side polishing apparatus in order to remove scratches and distortion remaining in the fine grinding step described above.

画面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間に、キャリアにより保持させたガラスディスクを密着させ、このキャリアを、サンギア及びインターナルギアに噛合させるとともに、ガラスディスクを上下定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラスディスクの研磨面(主表面)との間に研磨液を供給しながら、サンギアを回転させることによって、ガラスディスクは、定盤上で自転しながらインターナルギアの回りを公転して、両主表面を同時に研磨加工される。   In the screen polishing apparatus, a glass disk held by a carrier is brought into close contact between the upper and lower surface plates to which the polishing pad is attached, and the carrier is engaged with the sun gear and the internal gear, and the glass disk is moved to the upper and lower surface plates. To pinch. Then, by rotating the sun gear while supplying the polishing liquid between the polishing pad and the polishing surface (main surface) of the glass disk, the glass disk revolves around the internal gear while rotating on the surface plate. Thus, both main surfaces are polished simultaneously.

以下の実施例で使用する両面研磨装置としては、同一の装置を用いている。具体的には、ポリッシャとして硬質ポリシヤ(硬質発泡ウレタン)を用いて、第1研磨工程を実施した。研磨条件は、酸化セリウム(平均粒径1.3μm)及びRO水からなる研磨液を用い、荷重を100g/cm、研磨時間を15分とした。そして、この第1研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。 The same apparatus is used as a double-side polishing apparatus used in the following examples. Specifically, the first polishing step was performed using a hard polisher (hard urethane foam) as the polisher. The polishing conditions were a polishing liquid composed of cerium oxide (average particle size 1.3 μm) and RO water, a load of 100 g / cm 2 and a polishing time of 15 minutes. And the glass disk which finished this 1st grinding | polishing process is immersed in each washing | cleaning tank of a neutral detergent, a pure water (1), a pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) one by one. , Ultrasonically cleaned and dried.

(6)第2研磨工程
次に、第1研磨工程で使用した両面研磨装置と同様の両面研磨装置を用いて、ポリッシャを軟質ポリッシャ(スウェードパット)に替えて、主表面の鏡面研磨工程として、第2研磨工程を実施した。
(6) Second polishing step Next, using a double-side polishing device similar to the double-side polishing device used in the first polishing step, the polisher is changed to a soft polisher (suede pad), and as a mirror polishing step of the main surface, A second polishing step was performed.

この第2研磨工程は、前述した第1研磨工程により得られた平坦な主表面を維持しつつ、この主表面の表面粗さRaを、例えば、0.5乃至0.3nm程度以下まで低減させることを目的とするものである。   In the second polishing step, the surface roughness Ra of the main surface is reduced to, for example, about 0.5 to 0.3 nm or less while maintaining the flat main surface obtained by the first polishing step. It is for the purpose.

研磨条件は、コロイダルシリカ(平均粒径80nm)及びRO水からなる研磨液を用い、荷重を100g/cm、研磨時間を5分とした。 The polishing conditions were a polishing liquid composed of colloidal silica (average particle size 80 nm) and RO water, a load of 100 g / cm 2 and a polishing time of 5 minutes.

そして、この第2研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。   And the glass disk which finished this 2nd grinding | polishing process is immersed in each washing | cleaning tank of neutral detergent, pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) one by one. , Ultrasonically cleaned and dried.

(7)化学強化工程
次に、洗浄を終えたガラスディスクに対し、化学強化処理を施した。化学強化処理は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合させた化学強化液を用いて行い、強化処理されたガラスディスクから溶出されるリチウム含有量をICP発光分析装置を用いて測定した。
(7) Chemical strengthening process Next, the chemical strengthening process was performed with respect to the glass disk which finished the washing | cleaning. The chemical strengthening treatment was performed using a chemical strengthening solution in which potassium nitrate and sodium nitrate were mixed, and the lithium content eluted from the strengthened glass disk was measured using an ICP emission analyzer.

この化学強化溶液を、340°C乃至380°Cに加熱し、洗浄及び乾燥を終えたガラスディスクを、約2時間乃至4時間浸漬して、化学強化処理を行なった。この浸漬の際には、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが外周端面で保持されるように、ホルダーに収納した状態で行った。   This chemical strengthening solution was heated to 340 ° C. to 380 ° C., and the glass disk that had been washed and dried was immersed for about 2 hours to 4 hours to perform chemical strengthening treatment. In this immersion, in order to chemically strengthen the entire surface of the glass disk, it was carried out in a state of being accommodated in a holder so that a plurality of glass disks were held on the outer peripheral end surface.

化学強化処理を終えたガラスディスクを、20°Cの水槽に浸漬して急冷し、約10分間維持した。   The glass disk that had been subjected to the chemical strengthening treatment was immersed in a water bath at 20 ° C. to be rapidly cooled and maintained for about 10 minutes.

そして、急冷を終えたガラスディスクを、約40°Cに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えたガラスディスクを、純水(1)、純水(2)、IPA(イソプロピルアルコール)、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。   And the glass disk which finished quenching was immersed in the concentrated sulfuric acid heated at about 40 degreeC, and was wash | cleaned. In addition, the glass disk that has been washed with sulfuric acid is immersed in a cleaning bath of pure water (1), pure water (2), IPA (isopropyl alcohol), and IPA (steam drying) sequentially, ultrasonically cleaned, and dried. I let you.

次に、洗浄を終えたガラスディスクの主表面及び端面について、目視検査を行い、さらに、光の反射、散乱及び透過を利用した精密検査を実施した。その結果、ガラスディスクの主表面及び端面には、付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。   Next, a visual inspection was performed on the main surface and end surface of the glass disk that had been cleaned, and further a detailed inspection using light reflection, scattering, and transmission was performed. As a result, no defects such as protrusions or scratches due to deposits were found on the main surface and end surface of the glass disk.

また、前述のような工程を経たガラスディスクの主表面の表面粗さは、原子間カ顕微鏡(AFM)によって測定したところ、Rmaxで2.5nm、Raで0.30nmと、超平滑な表面となっていることが確認された。なお、表面粗さの数値は、AFM(原子間力顕微鏡)によって測定した表面形状について、日本工業規格(JIS)B0601にしたがって算出したものである。   Further, the surface roughness of the main surface of the glass disk that has undergone the above-described steps was measured by an atomic force microscope (AFM). As a result, the Rmax was 2.5 nm, the Ra was 0.30 nm, It was confirmed that The numerical value of the surface roughness is calculated according to Japanese Industrial Standard (JIS) B0601 for the surface shape measured by AFM (Atomic Force Microscope).

また、前述のような工程を経たガラスディスクは、内径が7mm、外径が27.4mm、板厚は0.381mmであり、「1.0インチ型」磁気ディスクに用いるガラス基板の所定寸法であることを確認した。   In addition, the glass disk that has undergone the above-described steps has an inner diameter of 7 mm, an outer diameter of 27.4 mm, and a plate thickness of 0.381 mm, which is a predetermined size of a glass substrate used for a “1.0 inch type” magnetic disk. I confirmed that there was.

さらに、このガラス基板の円孔の内周端面の表面粗さは、面取り面においてRmaxで0.4μm、Raで0.04μm、面取り面以外の部分においてRmaxで0.4μm、Raで0.05μmであった。外周端面における表面粗さRaは、面取り面において0.04μm、面取り面以外の部分において0.07μmであった。このように、内周端面は、外周端面と同様に、鏡面状に仕上がっていることを確認した。   Further, the surface roughness of the inner peripheral end surface of the circular hole of the glass substrate is as follows: Rmax at the chamfered surface is 0.4 μm, Ra is 0.04 μm, Rmax is 0.4 μm at other portions than the chamfered surface, and Ra is 0.05 μm. Met. The surface roughness Ra at the outer peripheral end face was 0.04 μm at the chamfered surface and 0.07 μm at portions other than the chamfered surface. As described above, it was confirmed that the inner peripheral end face was finished in a mirror shape like the outer peripheral end face.

また、このガラス基板の表面に異物やサーマルアスペリティの原因となるパーティクルは認められず、円孔の内周端面にも異物やクラックは認められなかった。   Further, no foreign matter or particles causing thermal asperity were found on the surface of the glass substrate, and no foreign matter or cracks were found on the inner peripheral end face of the circular hole.

(8)成膜工程
前述の工程により得たガラス基板の両主表面に、静止対向型のDCマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Al−Ru合金の第1の下地層、Cr−W合金の第2の下地層、Co−Cr−Pt−Ta合金の磁性層、炭素系保護層を順次成膜した。第1の下地層は、磁性層の磁性グレインを微細化させる作用を奏し、第2の下地層は、磁性層の磁化容易軸を面内方向に配向させる作用を奏する。
(8) Film-forming process On the both main surfaces of the glass substrate obtained by the above-mentioned process, the first underlayer of the Al—Ru alloy and the second of the Cr—W alloy are used by using a stationary opposed DC magnetron sputtering apparatus. An underlayer, a Co—Cr—Pt—Ta alloy magnetic layer, and a carbon-based protective layer were sequentially formed. The first underlayer has the effect of reducing the magnetic grains of the magnetic layer, and the second underlayer has the effect of orienting the easy axis of magnetization of the magnetic layer in the in-plane direction.

スパッタリングターゲットとして、Al−Ru(アルミニウム−ルテニウム)合金(Al:50at%、Ru:50at%)を用いて、ガラス基板上に、膜厚30nmのAl−Ru合金からなる第1の下地層をスパッタリングにより成膜した。次に、スパッタリングターゲットとして、Cr−W(クロム−タングステン)合金(Cr:80at%、W:20at%)を用いて、第1の下地層5上に、膜厚20nmのCr−W合金からなる下地層をスパッタリングにより成膜した。次いで、スパッタリングターゲットとして、Co−Cr−Pt−Ta(コバルト−クロム−プラチナ−タンタル)合金(Cr:20at%、Pt:12at%、Ta:5at%、残部Co)からなるスパッタリングターゲットを用いて、下地層上に、膜厚15nmのCo−Cr−Pt−Ta合金からなる磁性層をバイアススパッタリングにより形成した。   Using a Al—Ru (aluminum-ruthenium) alloy (Al: 50 at%, Ru: 50 at%) as a sputtering target, a first underlayer made of an Al—Ru alloy with a thickness of 30 nm is sputtered on a glass substrate. Was formed. Next, using a Cr—W (chromium-tungsten) alloy (Cr: 80 at%, W: 20 at%) as a sputtering target, the first underlayer 5 is made of a 20 nm thick Cr—W alloy. An underlayer was formed by sputtering. Next, as a sputtering target, using a sputtering target made of a Co—Cr—Pt—Ta (cobalt-chromium-platinum-tantalum) alloy (Cr: 20 at%, Pt: 12 at%, Ta: 5 at%, balance Co), A magnetic layer made of a Co—Cr—Pt—Ta alloy having a film thickness of 15 nm was formed on the underlayer by bias sputtering.

次に、磁性層上に炭素系保護層(水素化炭素保護層)をバイアスCVD法により形成し、さらに、PFPE(パーフロロポリエーテル)からなる潤滑層をディップ法で成膜した。炭素系保護層は、磁気ヘッドの衝撃から磁性層を保護する作用を奏する。このようにして、磁気ディスクを得た。この炭素系保護層については、含まれる窒素濃度が異なるものを作成した。   Next, a carbon-based protective layer (hydrogenated carbon protective layer) was formed on the magnetic layer by a bias CVD method, and a lubricating layer made of PFPE (perfluoropolyether) was formed by a dip method. The carbon-based protective layer has an effect of protecting the magnetic layer from the impact of the magnetic head. In this way, a magnetic disk was obtained. About this carbon-type protective layer, the thing from which the nitrogen concentration contained differs was created.

〔磁気ディスクの評価〕
前述のようにして、炭素系保護膜に含まれる窒素濃度が異なる磁気ディスクを作製し、それぞれについて、SOガスに暴露させた後、温水抽出を行い、SO 2−イオン及びCO2−イオンの濃度を計測した。また、各磁気ディスクについて、炭素系保護膜に含まれる窒素の濃度を測定した。
[Evaluation of magnetic disk]
As described above, magnetic disks having different nitrogen concentrations contained in the carbon-based protective film were prepared, and each was exposed to SO 2 gas, followed by hot water extraction to obtain SO 4 2- ion and CO 2- ion. The concentration of was measured. For each magnetic disk, the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective film was measured.

SOガスへの暴露は、各磁気ディスクを容積12.2Lのデシケータに入れ、10ppmのSOガスをデシケータ内に封入後、40°C、75%RHの環境下で、12時間放置した。温水抽出は、各磁気ディスクを5枚ごとに50mlの純水とともにポリプロピレン製の袋に入れ、60分間、80°Cに加熱された水に浸漬させて行った。SO 2−イオン及びCO2−イオンの濃度は、温水抽出の後の純水に抽出されたイオンをイオンクロマトグラフィで分析して測定した。炭素系保護膜に含まれる窒素の濃度は、X線光電子分光分析法によって測定した。 For exposure to SO 2 gas, each magnetic disk was placed in a 12.2 L capacity desiccator, 10 ppm of SO 2 gas was sealed in the desiccator, and then left in an environment of 40 ° C. and 75% RH for 12 hours. Hot water extraction was carried out by placing each magnetic disk in a polypropylene bag with 50 ml of pure water every 5 sheets and immersing it in water heated to 80 ° C. for 60 minutes. The concentration of SO 4 2− ions and CO 2− ions was measured by analyzing ions extracted into pure water after hot water extraction by ion chromatography. The concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective film was measured by X-ray photoelectron spectroscopy.

また、SOガスへの暴露後の各磁気ディスクについて、40万回のロードアンロード耐久試験(LUL試験)を行い、終了後における磁気ヘッドの記録再生素子部の腐食状況を走査型電子顕微鏡(SEM)により観察し、以下の〔表1〕に示すデータを得た。 Each magnetic disk after exposure to SO 2 gas was subjected to a load / unload durability test (LUL test) of 400,000 times, and the corrosion state of the recording / reproducing element portion of the magnetic head after the completion was measured using a scanning electron microscope ( Observation by SEM) gave the data shown in [Table 1] below.

Figure 2007265505
Figure 2007265505

〔表1〕において、Yは、磁気ヘッドの記録再生素子の腐食発生率(%)、Xは、測定されたSO 2−イオン濃度(ng/m)、Xは、測定されたCO2−イオン濃度(ng/m)、Xは、測定された炭素系保護層に含まれる窒素の濃度(%)である。 In Table 1, Y is the corrosion rate (%) of the recording / reproducing element of the magnetic head, X 1 is the measured SO 4 2− ion concentration (ng / m 2 ), and X 2 is measured. CO 2− ion concentration (ng / m 2 ) and X 3 are the concentration (%) of nitrogen contained in the measured carbon-based protective layer.

ここで、X、X、Xの係数をM、M、Mとすると、腐食発生率Yは、以下のように示すことができる。 Here, assuming that the coefficients of X 1 , X 2 , and X 3 are M 1 , M 2 , and M 3 , the corrosion rate Y can be expressed as follows.

Y=M+M+M+B
この式を基にして、最小自乗法を用いて、回帰分析を行った結果、以下の式が求められた。
Y = M 1 X 1 + M 2 X 2 + M 3 X 3 + B
Based on this equation, regression analysis was performed using the method of least squares. As a result, the following equation was obtained.

Y=1.19X+4.63X−12.6X+61.7
相関係数は、R=0.95となり、相関があることも示された。
Y = 1.19X 1 + 4.63X 2 −12.6X 3 +61.7
The correlation coefficient was R = 0.95, indicating that there was a correlation.

このように、SOガスへの暴露後のSO 2−イオン濃度、CO2−イオン濃度及び炭素系保護膜に含まれる窒素濃度を測定することにより、実際にロードアンロード耐久試験を行わなくとも、これらの相関関係が求められているので、磁気ヘッドの記録再生素子部の腐食率を予測することが可能であることが確認された。 Thus, by actually measuring the SO 4 2− ion concentration, the CO 2− ion concentration and the nitrogen concentration contained in the carbon-based protective film after exposure to SO 2 gas, a load / unload endurance test is not actually performed. In both cases, since these correlations are required, it was confirmed that the corrosion rate of the recording / reproducing element portion of the magnetic head can be predicted.

また、炭素系保護膜に含まれる窒素濃度を4.91%以上とした実施例1乃至実施例7の磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドの記録再生素子部の腐食率が低いことが確認された。   Further, it was confirmed that the magnetic disk of Examples 1 to 7 in which the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective film was 4.91% or more had a low corrosion rate at the recording / reproducing element portion of the magnetic head.

〔比較例〕
炭素系保護膜に含まれる窒素濃度を4.91%未満とし、他は実施例の磁気ディスクと同様にして、比較例1乃至比較例7の磁気ディスクを作成した。これら磁気ディスクについて、実施例と同様に、SOガスに暴露させた後、温水抽出を行い、SO 2−イオン及びCO2−イオンの濃度を計測した。また、各磁気ディスクについて、炭素系保護膜に含まれる窒素の濃度を測定した。その測定結果を〔表1〕に示している。
[Comparative example]
The magnetic disk of Comparative Examples 1 to 7 was prepared in the same manner as the magnetic disk of the example except that the nitrogen concentration contained in the carbon-based protective film was less than 4.91%. These magnetic disks were exposed to SO 2 gas and then extracted with warm water, and the concentrations of SO 4 2- ion and CO 2- ion were measured in the same manner as in the Examples. For each magnetic disk, the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective film was measured. The measurement results are shown in [Table 1].

〔表1〕に示すように、炭素系保護膜に含まれる窒素濃度を4.91%未満とした比較例1乃至比較例7の磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドの記録再生素子部の腐食率が高いことが確認された。   As shown in Table 1, in the magnetic disks of Comparative Examples 1 to 7 in which the nitrogen concentration contained in the carbon-based protective film was less than 4.91%, the corrosion rate of the recording / reproducing element portion of the magnetic head was high. It was confirmed to be high.

図1は、本発明に係る磁気ディスクの製造方法によって製造される磁気ディスクの構成を示す平面図(a)及び断面図(b)である。FIG. 1 is a plan view (a) and a cross-sectional view (b) showing the configuration of a magnetic disk manufactured by the method of manufacturing a magnetic disk according to the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 ディスク基板
1a 中心孔
2 下地層
3 磁性層
4 炭素系保護層
5 潤滑層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Disc substrate 1a Center hole 2 Underlayer 3 Magnetic layer 4 Carbon-based protective layer 5 Lubrication layer

Claims (3)

基板上に、少なくとも磁性層、炭素系保護層及び潤滑層をこれらの順に形成する磁気ディスクの製造方法であって、
炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を所定の濃度以上に制御することにより、前記磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置した後に温水抽出法によって抽出されるSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度を制御し、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を所定の率以下とする
ことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
A method for manufacturing a magnetic disk, comprising forming at least a magnetic layer, a carbon-based protective layer and a lubricating layer in this order on a substrate,
By controlling the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer to a predetermined concentration or more, the concentration of SO 4 2- ion and CO 2 extracted by the hot water extraction method after the magnetic disk is left in the SO 2 gas atmosphere. A method of manufacturing a magnetic disk, characterized in that the corrosion rate in a recording / reproducing element portion of a magnetic head that controls the ion concentration and performs recording / reproducing on the magnetic disk is not more than a predetermined rate.
基板上に、少なくとも磁性層、炭素系保護層及び潤滑層がこれらの順に形成された磁気ディスクの評価方法であって、
前記磁気ディスクをSOガス雰囲気中に放置した後に、温水抽出法によって抽出されたSO 2−イオン濃度及びCO2−イオン濃度を測定し、また、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度を測定し、これらSO 2−イオン濃度、CO2−イオン濃度及び窒素濃度に基づいて、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を算出する
ことを特徴とする磁気ディスクの評価方法。
A method for evaluating a magnetic disk in which at least a magnetic layer, a carbon-based protective layer, and a lubricating layer are formed in this order on a substrate,
After the magnetic disk is left in the SO 2 gas atmosphere, the SO 4 2- ion concentration and the CO 2 - ion concentration extracted by the hot water extraction method are measured, and the concentration of nitrogen contained in the carbon-based protective layer is determined. Measure and calculate the corrosion occurrence rate in the recording / reproducing element portion of the magnetic head that performs recording / reproducing on this magnetic disk based on the SO 4 2− ion concentration, CO 2− ion concentration and nitrogen concentration. Magnetic disk evaluation method.
磁気ヘッドの記録再生素子の腐食発生率をY(%)、SO 2−イオン濃度をX(ng/m)、CO2−イオン濃度をX(ng/m)、炭素系保護層に含まれる窒素の濃度をX(%)としたとき、
Y=1.19X+4.63X−12.6X+61.7
により、この磁気ディスクに対する記録再生を行う磁気ヘッドの記録再生素子部における腐食発生率を算出する
ことを特徴とする請求項2記載の磁気ディスクの評価方法。
Corrosion occurrence rate of the recording / reproducing element of the magnetic head is Y (%), SO 4 2- ion concentration is X 1 (ng / m 2 ), CO 2- ion concentration is X 2 (ng / m 2 ), carbon-based protection When the concentration of nitrogen contained in the layer is X 3 (%),
Y = 1.19X 1 + 4.63X 2 −12.6X 3 +61.7
The magnetic disk evaluation method according to claim 2, wherein a corrosion occurrence rate in a recording / reproducing element portion of a magnetic head that performs recording / reproducing on the magnetic disk is calculated by:
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