JP2007263884A - 欠陥識別装置及び方法 - Google Patents

欠陥識別装置及び方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2007263884A
JP2007263884A JP2006092109A JP2006092109A JP2007263884A JP 2007263884 A JP2007263884 A JP 2007263884A JP 2006092109 A JP2006092109 A JP 2006092109A JP 2006092109 A JP2006092109 A JP 2006092109A JP 2007263884 A JP2007263884 A JP 2007263884A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
defect
information
defect information
defects
electron microscope
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006092109A
Other languages
English (en)
Inventor
Naohiro Takahashi
直弘 高橋
Tamihide Yasumoto
民秀 安本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2006092109A priority Critical patent/JP2007263884A/ja
Publication of JP2007263884A publication Critical patent/JP2007263884A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

【課題】光学顕微鏡及び電子顕微鏡を用いて被検査体の欠陥を識別して分類するに際して、欠陥の分類を行うのに必要な欠陥情報のみを取得し、最小限の欠陥情報により極めて効率良く、極めて簡易且つ正確に欠陥の分類を行う。
【解決手段】先ず電子顕微鏡ユニット2によるレビュー結果に基づき、第1の判定部3により認定欠陥部位に欠陥が有ると認められる場合のみ、その旨の欠陥情報が欠陥情報分類部6に出力される。続いて、電子顕微鏡ユニット2で欠陥が無いと判定された認定欠陥部位のみについて、光学顕微鏡ユニット4によりレビューし、その結果に基づき、第2の判定部5により認定欠陥部位における欠陥の有無の情報が欠陥情報分類部6に出力される。
【選択図】図1

Description

本発明は、被検査体、例えば半導体基板に発生した欠陥を識別するための欠陥識別装置及び方法に関する。
被検査体として、例えば半導体デバイスに代表される微細構造が集積形成された基板等の表面性状を観察し、欠陥の識別を行うには、比較的広い部位を観察する際に好適な光学顕微鏡と、高分解能を要する観察に好適な電子顕微鏡とを併用している。光学顕微鏡は、電子顕微鏡に比して分解能は劣るものの、被検査体の表面性状のみならず、被検査体の表層部分が可視光に対して透明であれば、当該表面の下層の性状も観察することができる。一方、電子顕微鏡は、極めて高い分解能を有し、被検査体の表面性状を詳細に観察することができるが、表面のみを観察対象とし、当該表面より下層の様子を観察することはできない。そこで、両者を併用することにより、被検査体の表面における欠陥のみならず、当該表面の下層の欠陥を認識することが可能となる。
被検査体の欠陥検査を行う欠陥識別方法の具体例を図8に示す。
先ず、被検査体の表面を欠陥検査装置により観察し、欠陥情報を得る(ステップS11)。この欠陥検査装置は、被検査体を照明光、例えばレーザ光又はランプ(UVランプ、ハロゲンランプ等)で照射する光源を備え、照明光の被検査体からの正反射光を撮像する明視野光学系と、被検査体を照明光、例えばレーザ光で照射する光源を備え、照明光の被検査体からの乱反射光(散乱光)を撮像する暗視野光学系とを備えており、明視野光学系及び暗視野光学系の双方により被検査体の表面の欠陥を検査する。ここで、特許文献1のように、欠陥の種別を自動的に判定するようにしても良い。
続いて、欠陥検査装置により得られた欠陥情報に基づき、被検査体の欠陥と判定された各部位を光学顕微鏡を用いて逐一観察する(ステップS12)。光学顕微鏡による各欠陥の観察結果は第1の画像データとして例えばデータベースのメモリに格納される。
続いて、欠陥検査装置により得られた欠陥情報に基づき、被検査体の欠陥と判定された各部位を電子顕微鏡(例えば走査型電子顕微鏡:SEM)を用いて逐一観察する(ステップS13)。電子顕微鏡による各欠陥の観察結果は、ステップS12と同様に第2の画像(二次電子像)データとして例えばデータベースのメモリに格納される(ステップS14)。
データベースのメモリに格納された第1及び第2の画像データは、被検査体の表面の欠陥、表面よりも下層の欠陥、実際には被検査体に存しない擬似欠陥の判定にそれぞれ供される。
特許第3415943号公報 特許第3537894号公報
上述した欠陥識別方法では、欠陥検査装置により得られた各欠陥判定部位について、光学顕微鏡及び電子顕微鏡の双方により逐一観察して、欠陥情報である第1及び第2の画像データを取得するため、効率性に乏しいという問題がある。更に、当該画像データ量は膨大であり、画像データの分類精度にも限界があるため、欠陥の正確な分類が困難となり、データ解析結果にノイズが混入する虞もある。
この点、特許文献2には、光学顕微鏡による第1の画像データと電子顕微鏡による第2の画像データとを重ね合わせ、両者の欠陥画像を同時に考察可能とする技術が開示されている。この場合、画像データ解析の効率は向上するものの、各欠陥判定部位を光学顕微鏡及び電子顕微鏡の双方で観察して画像データを取得することに関しては上記の欠陥識別方法と同様であり、画像データの膨大化は避けられず、欠陥の正確な分類は困難である。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであり、光学顕微鏡及び電子顕微鏡を用いて被検査体の欠陥を識別して分類するに際して、欠陥の分類を行うのに必要な欠陥情報のみを取得し、最小限の欠陥情報により極めて効率良く、極めて簡易且つ正確に欠陥の分類を行うことを可能とする欠陥識別装置及び方法を提供することを目的とする。
本発明の欠陥識別装置は、被検査体において欠陥であると認定された情報に基づき、前記各欠陥を観察する電子顕微鏡ユニットと、前記電子顕微鏡ユニットによる観察結果に基づき、前記各欠陥の有無を判定する第1の判定手段と、前記第1の判定手段により無しと判定された前記各欠陥のみを観察する光学顕微鏡ユニットと、前記光学顕微鏡ユニットによる観察結果に基づき、前記各欠陥の有無を判定する第2の判定手段と、前記第1の判定手段により有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の表面に存する第1の欠陥情報として、前記第2の判定手段により有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の下層に存する第2の欠陥情報として、前記第2の判定手段により無しと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類する欠陥情報分類手段とを含む。
本発明の欠陥識別方法は、被検査体において欠陥であると認定された情報に基づき、前記各欠陥を電子顕微鏡ユニットにより観察する第1の工程と、前記電子顕微鏡ユニットによる観察により、前記各欠陥の有無を判定する第2の工程と、前記第2の工程において無しと判定された前記各欠陥のみを光学顕微鏡ユニットにより観察する第3の工程と、前記光学顕微鏡ユニットによる観察により、前記各欠陥の有無を判定する第4の工程と、前記第2の工程において有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の表面に存する第1の欠陥情報として、前記第4の工程において有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の下層に存する第2の欠陥情報として、前記第4の工程において無しと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類する工程とを含む。
本発明によれば、光学顕微鏡及び電子顕微鏡を用いて被検査体の欠陥を識別して分類するに際して、欠陥の分類を行うのに必要な欠陥情報のみを取得し、最小限の欠陥情報により極めて効率良く、極めて簡易且つ正確に欠陥の分類を行うことが可能となる。
−本発明の基本骨子−
本発明では、光学顕微鏡及び電子顕微鏡を用いて被検査体の欠陥を識別して分類するに際して、被検査体において欠陥であると認定された情報、即ち欠陥検査装置(明視野光学系及び暗視野光学系を含む)を用いて欠陥が生じていると認定された欠陥(認定欠陥)の情報に基づき、先ず電子顕微鏡により各認定欠陥部位を観察(レビュー)する。電子顕微鏡では、被検査体の表面の性状のみの情報を高分解能で得ることができるため、電子顕微鏡によるレビュー結果に基づき、第1の判定手段により、当該認定欠陥部位に欠陥が有ると判定された場合には、光学顕微鏡によるレビュー結果を待たずに、被検査体の表面には、当該認定欠陥部位に実際に欠陥が存すると認識する。
一方、電子顕微鏡によるレビュー結果に基づき、第1の判定手段により、当該認定欠陥部位に欠陥が無いと判定された場合には、被検査体の表面には、当該認定欠陥部位に実際に欠陥が存しないと考えるのが妥当である。従ってこの場合、光学顕微鏡により当該認定欠陥部位をレビューする。光学顕微鏡は、被検査体の表面性状のみならず、被検査体の表層部分が可視光に対して透明であれば、当該表面の下層の性状も観察することができる。
当該認定欠陥部位について、被検査体の表面には欠陥は無いと既に判定されているため、光学顕微鏡によるレビュー結果に基づき、第2の判定手段により、当該認定欠陥部位に欠陥が有ると判定された場合には、被検査体の表面の下層における当該認定欠陥部位に、実際に欠陥が存すると認識する。
一方、光学顕微鏡によるレビュー結果に基づき、第2の判定手段により、当該認定欠陥部位に欠陥が無いと判定された場合には、被検査体の表面のみならずその下層にも、当該認定欠陥部位に実際に欠陥が存しないと考えるのが妥当である。従ってこの場合、当該認定欠陥が擬似欠陥であると認識する。
そして、第1及び第2の判定手段からの出力に基づき、欠陥情報分類手段により、第1の判定手段により有りと判定された欠陥の情報を被検査体の表面に存する第1の欠陥情報として、第2の判定手段により有りと判定された欠陥の情報を被検査体の下層に存する第2の欠陥情報として、第2の判定手段により無しと判定された欠陥の情報を被検査体に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類される。第1〜第3の欠陥情報は、それぞれ欠陥情報分類手段により分類された状態で欠陥情報記憶手段に格納される。
このように本発明では、先ず電子顕微鏡から観察を開始し、認定欠陥部位に欠陥が有ると認められる場合のみ、その旨の欠陥情報が欠陥情報分類手段に出力される。電子顕微鏡で認定欠陥部位に欠陥が無いと認められる場合には、その旨の欠陥情報は作成されない。この欠陥情報は、当該認定欠陥部位において、被検査体の下層に欠陥が存するか、或いは擬似欠陥であるかを表す情報である。欠陥検査装置の特に明視野光学系では、被検査体の下層に欠陥が存するとして欠陥認定を行うことが多いことから、この欠陥情報は膨大な容量となる。
ところがこの欠陥情報は、光学顕微鏡の持つ特性により正確に何れかを判定できる情報である。従って、電子顕微鏡からの情報としては、この欠陥情報は言わば不要のものである。本発明では、当該認定欠陥部位において被検査体の下層に欠陥が存するか、或いは擬似欠陥であるかの判定を、続く光学顕微鏡によるレビューに委ねる。この構成を採ることにより、欠陥の分類を行うのに必要な欠陥情報のみを取得し、最小限の欠陥情報により極めて効率良く、極めて簡易且つ正確に欠陥の分類を行うことが可能となる。
−本発明を適用した好適な実施形態−
以下、本発明を適用した好適な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本実施形態による欠陥識別装置の概略構成を示すブロック図である。
この欠陥識別装置は、被検査体、例えば半導体素子が集積形成された半導体基板(図3及び図4において半導体基板10とする。)における欠陥を検査する欠陥検査装置1と、欠陥検査装置1により欠陥であると認定された情報(認定欠陥の情報)に基づき、各認定欠陥部位をレビューする電子顕微鏡ユニット2と、電子顕微鏡ユニット2によるレビュー結果に基づき、各欠陥の有無を判定する第1の判定部3と、第1の判定部3により無しと判定された各認定欠陥部位のみをレビューする光学顕微鏡ユニット4と、光学顕微鏡ユニット4によるレビュー結果に基づき、各欠陥の有無を判定する第2の判定部5と、第1及び第2の判定部3,5による判定に基づき、半導体基板の欠陥を分類する欠陥情報分類部6と、欠陥情報分類部6により分類された欠陥情報を格納する欠陥情報記憶部7とを備えて構成されている。なお、欠陥検査装置1、電子顕微鏡ユニット2、第1の判定部3、光学顕微鏡ユニット4、第2の判定部5、及び欠陥情報分類部6の各動作は、不図示の制御部により統括制御される。
欠陥検査装置1は、図2に示すように、被検査体を照明光、例えばレーザ光又はランプ(UVランプ、ハロゲンランプ等)で照射する光源を備え、照明光の被検査体からの正反射光を撮像する明視野光学系11と、被検査体を照明光、例えばレーザ光で照射する光源を備え、照明光の被検査体からの乱反射光(散乱光)を撮像する暗視野光学系12とを備えている。本実施形態では、明視野光学系11及び暗視野光学系12の双方により半導体基板10の欠陥を順次検査する。
電子顕微鏡ユニット2は、図3に示すように、電子顕微鏡(例えば、走査型電子顕微鏡:SEM)本体21と、電子顕微鏡本体21による被検査体の画像を得る第1の画像取得部である二次電子検出部22と、二次電子検出部22により得られた画像のデータ(第1の画像データ:二次電子像データ)を格納する画像メモリ23とを備えている。
第1の判定部3は、電子顕微鏡ユニット2による観察結果、即ち電子顕微鏡ユニット2により取得された第1の画像データに基づいて各欠陥の有無を判定する。ここで、第1の判定部3は、電子顕微鏡ユニット2の二次電子像において欠陥として認められる典型的な形状等に基づく複数の異なるテンプレートを有しており、認定欠陥部位の画像がこれらのテンプレートのどれかと一致すれば、当該テンプレートに対応した欠陥があると判定し、その欠陥部位に識別コードを付与することもできる。
光学顕微鏡ユニット4は、図4に示すように、光学顕微鏡本体41と、光学顕微鏡本体41による被検査体の画像を得る第2の画像取得部であるカメラ42と、カメラ42により得られた画像のデータ(第2の画像データ)を格納する画像メモリ43とを備えている。
第2の判定部5は、光学顕微鏡ユニット4による観察結果、即ち光学顕微鏡ユニット4により取得された第2の画像データに基づいて各欠陥の有無を判定する。ここで、第2の判定部5は、電子顕微鏡ユニット2の二次電子像において欠陥として認められる典型的な形状等に基づく複数の異なるテンプレートを有しており、認定欠陥部位の画像がこれらのテンプレートのどれかと一致すれば、当該テンプレートに対応した欠陥があると判定し、その欠陥部位に識別コードを付与することもできる。
欠陥情報分類部6は、図5に示すように、第1の判定部3により、有りと判定された欠陥情報を格納するメモリ6aと、第2の判定部5により、有りと判定された欠陥情報を格納するメモリ6bと、第2の判定部5により、無しと判定された欠陥情報を格納するメモリ6cとを有している。この欠陥情報分類部6では、メモリ6aに格納された欠陥情報を半導体基板10の表面に存する第1の欠陥情報として、メモリ6bに格納された欠陥情報を半導体基板10の下層に存する第2の欠陥情報として、メモリ6cに格納された欠陥情報を半導体基板10に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類する。
欠陥情報記憶部7は、例えばデータベース(不図示)に設けられており、欠陥情報分類部6により分類された第1〜第3の欠陥情報を格納する。ここで、第1の欠陥情報は、半導体基板10における位置データ及び第1の画像データを含む情報であり、第2及び第3の欠陥情報は、半導体基板10における位置データ及び第2の画像データを含む情報である。
図6は、本実施形態よる欠陥識別方法をステップ順に示すフロー図である。
上記の欠陥識別装置を用いて被検査体、ここでは半導体基板10の欠陥を識別するには、先ず欠陥検査装置1を用いて半導体基板10における欠陥を検査する(ステップS1)。ここでは、明視野光学系11及び暗視野光学系12の双方により半導体基板10の欠陥を順次検査し、欠陥を認定する。
続いて、電子顕微鏡ユニット2を用いて、欠陥検査装置1により欠陥であると認定された情報に基づき、各欠陥をレビューする(ステップS2)。具体的には、電子顕微鏡本体21による半導体基板10の当該認定欠陥の画像のデータ(第1の画像データ)を二次電子検出部22により取得し、画像メモリ23に格納する。
続いて、第1の判定部3により、電子顕微鏡ユニット2による観察結果、即ち電子顕微鏡ユニット2により取得された第1の画像データに基づいて各欠陥の有無を判定する(ステップS3)。
欠陥が有ると判定された場合には、ステップS6へ進み、当該欠陥情報が欠陥情報分類部6のメモリ6aに格納される。一方、欠陥が無いと判定された場合には、次のステップS4へ進む。
続いて、第1の判定部3により欠陥が無いと判定された各認定欠陥部位のみについて、光学顕微鏡ユニット4によりレビューする(ステップS4)。具体的には、光学顕微鏡本体41による半導体基板10の当該認定欠陥の画像のデータ(第2の画像データ)をカメラ42により取得し、画像メモリ43に格納する。
続いて、第2の判定部5により、光学顕微鏡ユニット4による観察結果、即ち光学顕微鏡ユニット4により取得された第2の画像データに基づいて各欠陥の有無を判定する(ステップS5)。
欠陥が有ると判定された場合には、ステップS6へ進み、当該欠陥情報が欠陥情報分類部6のメモリ6bに格納される。一方、欠陥が無いと判定された場合には、ステップS6へ進み、当該欠陥情報が欠陥情報分類部6のメモリ6cに格納される。
続いて、欠陥情報分類部6により、第1及び第2の判定部3,5による判定に基づき、半導体基板10の欠陥を分類する(ステップS6)。具体的には、メモリ6aに格納された欠陥情報が半導体基板10の表面に存する第1の欠陥情報として、メモリ6bに格納された欠陥情報が半導体基板10の下層に存する第2の欠陥情報として、メモリ6cに格納された欠陥情報が半導体基板10に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類される。
そして、欠陥情報記憶部7に、欠陥情報分類部6で分類された第1〜第3の欠陥情報が格納される(ステップS7)。欠陥情報記憶部7に格納された第1〜第3の欠陥情報は、その分類状況に応じて、欠陥検査装置1における検査レシピの最適化、及び電子顕微鏡ユニット2における検査レシピの最適化にも適用される。
以上説明したように、本実施形態では、光学顕微鏡ユニット4及び電子顕微鏡ユニット2を用いて被検査体である半導体基板10の欠陥を識別して分類するに際して、欠陥の分類を行うのに必要な欠陥情報のみを取得し、最小限の欠陥情報により極めて効率良く、極めて簡易且つ正確に欠陥の分類を行うことが可能となる。
上述した本実施形態による欠陥識別装置を構成する各構成要素(第1の判定部3、第2の判定部5、及び欠陥情報分類部6等)の機能は、コンピュータのRAMやROMなどに記憶されたプログラムが動作することによって実現できる。同様に、欠陥識別方法の各ステップ(図6のステップS1〜S7等)は、コンピュータのRAMやROMなどに記憶されたプログラムが動作することによって実現できる。このプログラム及び当該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体は本発明に含まれる。
具体的に、前記プログラムは、例えばCD−ROMのような記録媒体に記録し、或いは各種伝送媒体を介し、コンピュータに提供される。前記プログラムを記録する記録媒体としては、CD−ROM以外に、フレキシブルディスク、ハードディスク、磁気テープ、光磁気ディスク、不揮発性メモリカード等を用いることができる。他方、前記プログラムの伝送媒体としては、プログラム情報を搬送波として伝搬させて供給するためのコンピュータネットワークシステムにおける通信媒体を用いることができる。ここで、コンピュータネットワークとは、LAN、インターネットの等のWAN、無線通信ネットワーク等であり、通信媒体とは、光ファイバ等の有線回線や無線回線等である。
また、本発明に含まれるプログラムとしては、供給されたプログラムをコンピュータが実行することにより上述の実施形態の機能が実現されるようなもののみではない。例えば、そのプログラムがコンピュータにおいて稼働しているOS(オペレーティングシステム)或いは他のアプリケーションソフト等と共同して上述の実施形態の機能が実現される場合にも、かかるプログラムは本発明に含まれる。また、供給されたプログラムの処理の全て或いは一部がコンピュータの機能拡張ボードや機能拡張ユニットにより行われて上述の実施形態の機能が実現される場合にも、かかるプログラムは本発明に含まれる。
例えば、図7は、パーソナルユーザ端末装置の内部構成を示す模式図である。この図7において、1200はCPU1201を備えたパーソナルコンピュータ(PC)である。PC1200は、ROM1202またはハードディスク(HD)1211に記憶された、又はフレキシブルディスクドライブ(FD)1212より供給されるデバイス制御ソフトウェアを実行する。このPC1200は、システムバス1204に接続される各デバイスを総括的に制御する。
PC1200のCPU1201、ROM1202またはハードディスク(HD)1211に記憶されたプログラムにより、本実施形態の図6におけるステップS1〜S7等の手順等が実現される。
1203はRAMであり、CPU1201の主メモリ、ワークエリア等として機能する。1205はキーボードコントローラ(KBC)であり、キーボード(KB)1209や不図示のデバイス等からの指示入力を制御する。
1206はCRTコントローラ(CRTC)であり、CRTディスプレイ(CRT)1210の表示を制御する。1207はディスクコントローラ(DKC)である。DKC1207は、ブートプログラム、複数のアプリケーション、編集ファイル、ユーザファイルそしてネットワーク管理プログラム等を記憶するハードディスク(HD)1211、及びフレキシブルディスク(FD)1212とのアクセスを制御する。ここで、ブートプログラムとは、起動プログラム:パソコンのハードやソフトの実行(動作)を開始するプログラムである。
1208はネットワーク・インターフェースカード(NIC)で、LAN1220を介して、ネットワークプリンタ、他のネットワーク機器、あるいは他のPCと双方向のデータのやり取りを行う。
以下、本発明の諸態様を付記としてまとめて記載する。
(付記1)被検査体において欠陥であると認定された情報に基づき、前記各欠陥を観察する電子顕微鏡ユニットと、
前記電子顕微鏡ユニットによる観察結果に基づき、前記各欠陥の有無を判定する第1の判定手段と、
前記第1の判定手段により無しと判定された前記各欠陥のみを観察する光学顕微鏡ユニットと、
前記光学顕微鏡ユニットによる観察結果に基づき、前記各欠陥の有無を判定する第2の判定手段と、
前記第1の判定手段により有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の表面に存する第1の欠陥情報として、前記第2の判定手段により有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の下層に存する第2の欠陥情報として、前記第2の判定手段により無しと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類する欠陥情報分類手段と
を含むことを特徴とする欠陥識別装置。
(付記2)前記第1の欠陥情報、前記第2の欠陥情報、及び前記第3の欠陥情報を、前記欠陥情報分類手段により分類された状態で格納する欠陥情報記憶手段を更に含むことを特徴とする付記1に記載の欠陥識別装置。
(付記3)前記電子顕微鏡ユニットによる観察に先立ち、前記被検査体における前記欠陥を検査する欠陥検査装置を更に含むことを特徴とする付記1又は2に記載の欠陥識別装置。
(付記4)前記電子顕微鏡ユニットは、
電子顕微鏡本体と、
前記電子顕微鏡本体による前記被検査体の画像を得る第1の画像取得手段と、
前記第1の画像取得手段により得られた前記画像のデータを記憶する第1の画像記憶手段と
を含むことを特徴とする付記1〜3のいずれか1項に記載の欠陥識別装置。
(付記5)前記光学顕微鏡ユニットは、
光学顕微鏡本体と、
前記光学顕微鏡本体による前記被検査体の画像を得る第2の画像取得手段と、
前記第2の画像取得手段により得られた前記画像のデータを記憶する第2の画像記憶手段と
を含むことを特徴とする付記1〜4のいずれか1項に記載の欠陥識別装置。
(付記6)被検査体において欠陥であると認定された情報に基づき、前記各欠陥を電子顕微鏡ユニットにより観察する第1の工程と、
前記電子顕微鏡ユニットによる観察により、前記各欠陥の有無を判定する第2の工程と、
前記第2の工程において無しと判定された前記各欠陥のみを光学顕微鏡ユニットにより観察する第3の工程と、
前記光学顕微鏡ユニットによる観察により、前記各欠陥の有無を判定する第4の工程と、
前記第2の工程において有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の表面に存する第1の欠陥情報として、前記第4の工程において有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の下層に存する第2の欠陥情報として、前記第4の工程において無しと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類する工程と
を含むことを特徴とする欠陥識別方法。
(付記7)前記第1の欠陥情報、前記第2の欠陥情報、及び前記第3の欠陥情報を、前記欠陥情報分類手段により分類された状態で格納する工程を更に含むことを特徴とする付記6に記載の欠陥識別方法。
(付記8)前記電子顕微鏡ユニットによる観察に先立ち、前記被検査体における前記欠陥を検査する欠陥検査装置を更に含むことを特徴とする付記6又は7に記載の欠陥識別方法。
本実施形態による欠陥識別装置の概略構成を示すブロック図である。 本実施形態による欠陥識別装置の欠陥検査装置を示す模式図である。 本実施形態による欠陥識別装置の電子顕微鏡ユニットを示す模式図である。 本実施形態による欠陥識別装置の光学顕微鏡ユニットを示す模式図である。 本実施形態による欠陥識別装置の欠陥情報分類部を示す模式図である。 本実施形態よる欠陥識別方法をステップ順に示すフロー図である。 パーソナルユーザ端末装置の内部構成を示す模式図である。 従来の欠陥識別方法をステップ順に示すフロー図である。
符号の説明
1 欠陥検査装置
2 電子顕微鏡ユニット
3 第1の判定部
4 光学顕微鏡ユニット
5 第2の判定部
6 欠陥情報分類部
6a〜6c メモリ
7 欠陥情報記憶部
10 半導体基板
11 明視野光学系
12 暗視野光学系
21 電子顕微鏡本体
22 二次電子検出部
23,43 画像メモリ
41 光学顕微鏡本体
42 カメラ

Claims (5)

  1. 被検査体において欠陥であると認定された情報に基づき、前記各欠陥を観察する電子顕微鏡ユニットと、
    前記電子顕微鏡ユニットによる観察結果に基づき、前記各欠陥の有無を判定する第1の判定手段と、
    前記第1の判定手段により無しと判定された前記各欠陥のみを観察する光学顕微鏡ユニットと、
    前記光学顕微鏡ユニットによる観察結果に基づき、前記各欠陥の有無を判定する第2の判定手段と、
    前記第1の判定手段により有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の表面に存する第1の欠陥情報として、前記第2の判定手段により有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の下層に存する第2の欠陥情報として、前記第2の判定手段により無しと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類する欠陥情報分類手段と
    を含むことを特徴とする欠陥識別装置。
  2. 前記第1の欠陥情報、前記第2の欠陥情報、及び前記第3の欠陥情報を、前記欠陥情報分類手段により分類された状態で格納する欠陥情報記憶手段を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の欠陥識別装置。
  3. 前記電子顕微鏡ユニットによる観察に先立ち、前記被検査体における前記欠陥を検査する欠陥検査装置を更に含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の欠陥識別装置。
  4. 被検査体において欠陥であると認定された情報に基づき、前記各欠陥を電子顕微鏡ユニットにより観察する第1の工程と、
    前記電子顕微鏡ユニットによる観察により、前記各欠陥の有無を判定する第2の工程と、
    前記第2の工程において無しと判定された前記各欠陥のみを光学顕微鏡ユニットにより観察する第3の工程と、
    前記光学顕微鏡ユニットによる観察により、前記各欠陥の有無を判定する第4の工程と、
    前記第2の工程において有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の表面に存する第1の欠陥情報として、前記第4の工程において有りと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体の下層に存する第2の欠陥情報として、前記第4の工程において無しと判定された前記欠陥の情報を前記被検査体に実際には存しない擬似欠陥情報として、それぞれ分類する工程と
    を含むことを特徴とする欠陥識別方法。
  5. 前記第1の欠陥情報、前記第2の欠陥情報、及び前記第3の欠陥情報を、前記欠陥情報分類手段により分類された状態で格納する工程を更に含むことを特徴とする請求項4に記載の欠陥識別方法。
JP2006092109A 2006-03-29 2006-03-29 欠陥識別装置及び方法 Pending JP2007263884A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006092109A JP2007263884A (ja) 2006-03-29 2006-03-29 欠陥識別装置及び方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006092109A JP2007263884A (ja) 2006-03-29 2006-03-29 欠陥識別装置及び方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007263884A true JP2007263884A (ja) 2007-10-11

Family

ID=38637008

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006092109A Pending JP2007263884A (ja) 2006-03-29 2006-03-29 欠陥識別装置及び方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2007263884A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010127748A (ja) * 2008-11-27 2010-06-10 Fujitsu Microelectronics Ltd 欠陥レビュー装置及び欠陥レビュー方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6273141A (ja) * 1985-09-27 1987-04-03 Hitachi Ltd 透明な試料に対する欠陥検出方法及びその装置
JP2001133417A (ja) * 1999-06-15 2001-05-18 Applied Materials Inc 物体上の欠陥を再検査する装置及び方法
JP2001281163A (ja) * 2001-02-07 2001-10-10 Nidek Co Ltd 欠陥検査装置
JP2002026102A (ja) * 2000-06-30 2002-01-25 Hitachi Ltd 検査情報処理方法及びその検査システム
JP2004349515A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Hitachi High-Technologies Corp Sem式外観検査装置,レビュー装置、およびアライメント座標設定方法
JP2005055447A (ja) * 1998-09-18 2005-03-03 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
JP2005156537A (ja) * 2003-10-31 2005-06-16 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥観察方法及びその装置
JP2005292048A (ja) * 2004-04-02 2005-10-20 Sony Corp 外観検査方法及び外観検査装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6273141A (ja) * 1985-09-27 1987-04-03 Hitachi Ltd 透明な試料に対する欠陥検出方法及びその装置
JP2005055447A (ja) * 1998-09-18 2005-03-03 Hitachi Ltd 欠陥検査方法及びその装置
JP2001133417A (ja) * 1999-06-15 2001-05-18 Applied Materials Inc 物体上の欠陥を再検査する装置及び方法
JP2002026102A (ja) * 2000-06-30 2002-01-25 Hitachi Ltd 検査情報処理方法及びその検査システム
JP2001281163A (ja) * 2001-02-07 2001-10-10 Nidek Co Ltd 欠陥検査装置
JP2004349515A (ja) * 2003-05-23 2004-12-09 Hitachi High-Technologies Corp Sem式外観検査装置,レビュー装置、およびアライメント座標設定方法
JP2005156537A (ja) * 2003-10-31 2005-06-16 Hitachi High-Technologies Corp 欠陥観察方法及びその装置
JP2005292048A (ja) * 2004-04-02 2005-10-20 Sony Corp 外観検査方法及び外観検査装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010127748A (ja) * 2008-11-27 2010-06-10 Fujitsu Microelectronics Ltd 欠陥レビュー装置及び欠陥レビュー方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9846930B2 (en) Detecting defects on a wafer using defect-specific and multi-channel information
KR102083706B1 (ko) 반도체 검사 레시피 생성, 결함 리뷰 및 계측을 위한 적응적 샘플링
US8068662B2 (en) Method and system for determining a defect during charged particle beam inspection of a sample
TWI621849B (zh) 用於偵測晶圓上之缺陷之電腦實施方法、非暫時性電腦可讀媒體及系統
US9171364B2 (en) Wafer inspection using free-form care areas
JP5091430B2 (ja) 半導体不良解析装置、不良解析方法、及び不良解析プログラム
JP2001326263A (ja) ウェーハー表面の構造欠陥を査定する方法
CN105917455B (zh) 通过利用交替失效模式的标称特性的图案失效发现
JP4617970B2 (ja) 欠陥検査装置及び欠陥検査方法
TWI484158B (zh) 基板檢查系統
TW201940863A (zh) 用於使光學圖像與掃描電子顯微鏡圖像相關聯之方法及系統
JP3802716B2 (ja) 試料の検査方法及びその装置
JP2011158373A (ja) 自動欠陥分類のための教師データ作成方法、自動欠陥分類方法および自動欠陥分類装置
US20070172111A1 (en) Inspection apparatus of object to be inspected
JP4757684B2 (ja) 欠陥検査装置及び方法
JP4931483B2 (ja) 半導体不良解析装置、不良解析方法、及び不良解析プログラム
JP5087236B2 (ja) 半導体不良解析装置、不良解析方法、及び不良解析プログラム
JP2006292615A (ja) 外観検査装置、外観検査方法、コンピュータを外観検査装置として機能させるためのプログラムおよび記録媒体
US20160110859A1 (en) Inspection method for contact by die to database
JP5372365B2 (ja) 検査装置及び検査方法
JP2008135568A (ja) 欠陥レビュー方法および装置
JP2007263884A (ja) 欠陥識別装置及び方法
GB2560951A (en) Inspection of components for imperfections
JP2010019561A (ja) 欠陥検査装置および欠陥検査方法
JP2002026102A (ja) 検査情報処理方法及びその検査システム

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20080731

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20081205

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110203

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110222

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110422

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110628

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20111108