JP2007263569A - 周期構造欠陥測定装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 被検査物3の周期構造3−1のx方向、y方向の並び方向から光源1からの光を照射し、前記被検査物3の周期構造3−1へ前記光が照射されたときの前記被検査物3の周期構造3−1のx方向、y方向の並び方向からの反射回折光を光検出器4で同時に検出し、前記検出した反射回折光をもとに前記被検査物3の周期構造3−1の欠陥を画像処理装置により容易かつ迅速、確実に測定し判定する。
【選択図】図1
Description
また、欠陥部分の辺が周期構造の並び方向と直交していても、周期構造の欠陥部分の反射光が回折光の強度に影響を及ぼすような正負いずれかの次数の回折光を検出しないと周期構造の欠陥が測定できないという課題があった。
被検査物3では、周期構造3−1が存在することで反射光によって回折光が発生する。周期構造3−1に欠陥部分3−2が生じていると前記回折光の強度に変化が生じる。
そこで、光源1を垂直方向から見てy方向に45度をなすように配置する。これによって、光源1から照射された光により、同時にx方向、y方向の周期構造の並びの回折光を発生させることができる。
図2は、本発明の第2の実施の形態の周期構造欠陥測定装置の構成を示す概略図である。
この周期構造欠陥測定装置では、線状の光源1をy方向に平行に配置し、出射した光を集光レンズ2で略平行光とし被検査物3へ垂直方向から照明する。被検査物3の一部の領域において周期構造3−1に欠陥部分3−3が生じているとする。欠陥部分3−3は、周期構造3−1の辺においてy方向に平行に発生し、x方向において正の方向に発生しているとする。
欠陥部分3−3が周期構造3−1のx方向において負の方向に発生した場合、光検出器10で欠陥が検出される。
そして、検出した画像を、画像処理装置11および画像処理装置12で判定することで、ここでは画像処理装置11において周期構造3−1に生じた欠陥部分3−3を測定できる。
図3は、本発明の第3の実施の形態の周期構造欠陥測定装置の構成を示す概略図である。この周期構造欠陥測定装置では、線状の光源1を垂直方向から見てxy方向に45度に配置し、出射した光を集光レンズ2で略平行光とし被検査物3へ垂直方向から照明する。被検査物3の一部の領域において周期構造3−1に欠陥部分3−4が生じているとする。欠陥部分3−4は、周期構造3−1の辺においてx方向に平行に発生し、y方向において正の方向に発生しているとする。
Claims (3)
- 周期構造が形成された被検査物に光を照射したときの反射回折光をもとに前記周期構造の欠陥を検出する周期構造欠陥測定装置であって、
光源と、
前記被検査物の周期構造の複数の並び方向から前記光源からの光を照射する集光系と、
前記集光系により前記光が照射されたときの前記被検査物の周期構造の複数の並び方向からの反射回折光を同時に検出する画像検出手段と、
を備えたことを特徴とする周期構造欠陥測定装置。 - 周期構造が形成された被検査物に光を照射したときの反射回折光をもとに前記周期構造の欠陥を検出する周期構造欠陥測定装置であって、
光源と、
前記光源からの光を略平行光にして前記周期構造が形成された被検査物へ垂直に照射する集光系と、
前記集光系から前記周期構造が形成された被検査物へ前記光を照射したときの前記被検査物からの正負の次数の反射回折光を検出する複数の画像検出手段と、
を備えたことを特徴とする周期構造欠陥測定装置。 - 周期構造が形成された被検査物に光を照射したときの反射回折光をもとに前記周期構造の欠陥を検出する周期構造欠陥測定装置であって、
光源と、
前記光源からの光を、略平行光にし、前記周期構造が形成された被検査物へ垂直に、前記周期構造の複数の並び方向に対し照射する集光系と、
前記集光系から前記周期構造が形成された被検査物へ前記光を照射したときの、前記周期構造の各並び方向における前記被検査物からの正負の次数の反射回折光を検出する画像検出手段と、
を備えたことを特徴とする周期構造欠陥測定装置。
Priority Applications (1)
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JP2006084881A JP2007263569A (ja) | 2006-03-27 | 2006-03-27 | 周期構造欠陥測定装置 |
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JP2006084881A JP2007263569A (ja) | 2006-03-27 | 2006-03-27 | 周期構造欠陥測定装置 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008170371A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Hoya Corp | パターン欠陥検査方法、及びパターン欠陥検査装置 |
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WO2001071323A1 (en) * | 2000-03-24 | 2001-09-27 | Olympus Optical Co., Ltd. | Apparatus for detecting defect |
JP2001289795A (ja) * | 2000-04-10 | 2001-10-19 | Nikon Corp | 外観検査装置 |
JP2002544477A (ja) * | 1999-05-11 | 2002-12-24 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ライン光スポットで二次元イメージングを行う検査システム |
-
2006
- 2006-03-27 JP JP2006084881A patent/JP2007263569A/ja active Pending
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