JP2007258471A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ処理装置10は基板処理室11を備え、該基板処理室11は、プラズマが発生する処理空間PSと、処理空間PS及び排気空間ESを連通させる排気流路18と、該排気流路18及び排気空間ESを仕切る排気プレート19と、処理空間PSに高周波電力を印加するサセプタ12と、該サセプタ12の側面を覆うサセプタ側面被覆部材16と、処理空間PSに直流電圧を印加する上部電極板39と、排気流路18に配置されている接地リング47とを有し、該接地リング47は、接地リング47の排気流路18に露出する部分の断面形状がサセプタ側面被覆部材16の表面及び排気プレート19の表面が交差する位置を中心にした半径5mmの円内に含まれるように、配される。
【選択図】図1
Description
上述したプラズマ処理装置10において、処理空間PSの圧力を6.67Pa(50mTorr)に設定し、高周波電源22から40MHzの高周波電力を1000Wで供給し、他の高周波電源24からは2MHzの高周波電力を供給せず、直流電源41から−600Vの直流電圧を上部電極板39に印加し、C4F8ガス、Arガス及びN2ガスをそれぞれの流量を6sccm、1000sccm及び120sccmに設定して処理空間PSに供給し、処理空間PSにプラズマを生成した。そして、RIE処理を5分間継続した場合の接地リング47の表面におけるデポ膜の形成を観察した。
上述したプラズマ処理装置46において、RIE処理の条件を実施例1と同様に設定し、該RIE処理を5分間継続した場合の接地リング48の表面におけるデポ膜の形成を観察した。
まず、プラズマ処理装置10において、他の高周波電源24から2MHzの高周波電力を1000Wで供給する点以外はRIE処理の条件を実施例1と同様に設定し、該RIE処理を5分間継続した場合の接地リング47の表面におけるデポ膜の形成を観察した。
まず、プラズマ処理装置10において、高周波電源22から40MHzの高周波電力を2000Wで供給する点以外はRIE処理の条件を実施例1と同様に設定し、該RIE処理を5分間継続した場合の接地リング47の表面におけるデポ膜の形成を観察した。
まず、プラズマ処理装置10において、直流電源41から−1200Vの直流電圧を上部電極板39に印加する点以外はRIE処理の条件を実施例1と同様に設定し、該RIE処理を5分間継続した場合の接地リング47の表面におけるデポ膜の形成を観察した。
PS 処理空間
W 半導体ウエハ
10,46 プラズマ処理装置
11 基板処理室
12 サセプタ
13 側壁部材
16 サセプタ側面被覆部材
18 排気流路
19 排気プレート
22 高周波電源
24 他の高周波電源
39 上部電極板
47,48 接地リング
Claims (5)
- 基板にプラズマ処理を施す処理空間を有する基板処理室と、前記処理空間に高周波電力を印加する高周波電極と、前記処理空間に直流電圧を印加する直流電極と、前記基板処理室内に少なくとも一部が露出する接地電極とを備えるプラズマ処理装置であって、
前記接地電極は前記基板処理室における複数の内面が交差して形成された隅部に配されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記基板処理室の断面において、前記接地電極の前記基板処理室内に露出する部分の断面形状は、前記複数の内面が交差する位置を中心にした半径5mmの円内に含まれることを特徴とする請求項1記載のプラズマ処理装置。
- 基板にプラズマ処理を施す処理空間を有する基板処理室と、前記処理空間に高周波電力を印加する高周波電極と、前記処理空間に直流電圧を印加する直流電極と、前記基板処理室内に少なくとも一部が露出する接地電極とを備えるプラズマ処理装置であって、
前記基板処理室は前記処理空間に対して凹んだ凹部を有し、
前記接地電極は前記凹部に収容されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 基板にプラズマ処理を施す処理空間を有する基板処理室と、前記処理空間に高周波電力を印加する高周波電極と、前記処理空間に直流電圧を印加する直流電極と、前記基板処理室内に少なくとも一部が露出する接地電極とを備えるプラズマ処理装置であって、
前記接地電極は電子密度が小さい箇所に配されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記基板処理室の断面において、前記接地電極の前記基板処理室内に露出する部分の断面形状は、前記電子密度が107cm−3以下である位置を中心にした半径5mmの円内に含まれることを特徴とする請求項4記載のプラズマ処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006081352A JP4885586B2 (ja) | 2006-03-23 | 2006-03-23 | プラズマ処理装置 |
US11/689,119 US8104428B2 (en) | 2006-03-23 | 2007-03-21 | Plasma processing apparatus |
KR1020070028050A KR100843009B1 (ko) | 2006-03-23 | 2007-03-22 | 플라즈마 처리 장치 |
CN200710089463XA CN101042991B (zh) | 2006-03-23 | 2007-03-23 | 等离子体处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006081352A JP4885586B2 (ja) | 2006-03-23 | 2006-03-23 | プラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007258471A true JP2007258471A (ja) | 2007-10-04 |
JP4885586B2 JP4885586B2 (ja) | 2012-02-29 |
Family
ID=38632402
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006081352A Active JP4885586B2 (ja) | 2006-03-23 | 2006-03-23 | プラズマ処理装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4885586B2 (ja) |
KR (1) | KR100843009B1 (ja) |
CN (1) | CN101042991B (ja) |
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- 2006-03-23 JP JP2006081352A patent/JP4885586B2/ja active Active
-
2007
- 2007-03-22 KR KR1020070028050A patent/KR100843009B1/ko active IP Right Grant
- 2007-03-23 CN CN200710089463XA patent/CN101042991B/zh not_active Expired - Fee Related
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KR20070096850A (ko) | 2007-10-02 |
CN101042991A (zh) | 2007-09-26 |
KR100843009B1 (ko) | 2008-07-01 |
CN101042991B (zh) | 2011-12-07 |
JP4885586B2 (ja) | 2012-02-29 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R250 | Receipt of annual fees |
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