JP2007257860A - ヒーター用部材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ヒーター用部材1、1Aは、熱伝導率が5.0W/m・K以上の基材3、基材3を加熱する熱源2、および基材3の少なくとも一部を被覆する、熱伝導率0.5W/m・K以下のアモルファス炭素膜4、5を備えている。
【選択図】 図1
Description
また、アルミニウム系金属としては、アルミニウムの他、Al-Cu系合金、Al-Mg系合金、Al-Mg-Si系合金、Al-Zn-Mg系合金を例示できる。これら以外に、黄銅板、快削黄銅を利用することもできる。
メタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ−ル
メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン等のアルカン
エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン等のアルケン
ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン
アセチレン、メチルアセチレン等のアルキン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、フェナントレン等の芳香族炭化水素
シクロプロパン、シクロヘキサン等のシクロアルカン
シクロペンテン、シクロヘキセン等のシクロアルケン
(a) 酸素ガス
(b) 水素ガス
酸素や水素は放電中に原子状となり、ダイヤモンドと同時に生成するグラファイトを除去する効果を有する。
(c) 一酸化炭素、二酸化炭素
(d) 希釈ガス
炭素源の原料ガス雰囲気中に占める濃度は、2〜80vol%が好ましい。
酸素ガス又は水素ガスのガス雰囲気中に占める濃度は、70vol%以下であることが好ましい。
電界の大きさは特に限定されないが、例えば対向電極間の電界強度を1〜100kV/cmとすることが好ましい。
チャンバー21内で成膜を実施する。基材は電極25もしくは電極24の上に設置することができる。図3では電極25上に基材26が設置されており、基材26と電極24とが対向しており、その間の空間に放電プラズマを生じさせる。チャンバー21のガス供給孔22から矢印Aのように原料ガスを供給し、電極間に静電誘導サイリスタ素子を用いた電源23からパルス電圧を印加してプラズマを生じさせる。これによって基材26上に薄膜27を生成させる。使用済のガスは排出孔28から矢印13のように排出される。下部電極25内には冷媒の流通路29を形成し、流通路29内に矢印C、Dのように冷媒を流通させる。これによって、基材26の温度を所定温度、例えば20〜1000℃に制御する。
以下のようにして,アモルファス炭素の薄膜を製造した。電源23としては、静電誘導サイリスタ素子を用いたパルス電源を用いた。チャンバー21はステンレス製である。電極の直径はφ100mmである。電極25の表面には誘電体は設置されておらず、ステンレス製の金属表面である。電極上に厚さ0.5mm、大きさ10×10mmのSi基材26を配置した。
次に示すように、アモルファス炭素の薄膜を製造した。電源としては、静電誘導サイリスタ素子を用いたパルス電源を用いた。チャンバーはステンレス製である。電極の直径はφ100mmである。電極の表面には誘電体は設置されておらず、ステンレス製の金属表面である。電極上に厚さ0.5mmのSUS304基材を配置した。
Claims (12)
- 熱源によって加熱されるべき、熱伝導率が5.0W/m・K以上の基材、および前記基材の少なくとも一部を被覆する、熱伝導率0.5W/m・K以下のアモルファス炭素膜を備えていることを特徴とする、ヒーター用部材。
- 前記熱源が、前記基材中に設けられており、通電により発熱する発熱体であることを特徴とする、請求項1記載のヒーター用部材。
- 前記熱源が、前記基材に接する加熱装置であることを特徴とする、請求項1記載のヒーター用部材。
- 前記基材が、窒化アルミニウム、アルミナ、炭化珪素、窒化珪素およびイットリアからなる群より選ばれた一種以上の材料からなることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 前記基材が、鉄系金属およびアルミニウム系金属からなる群より選ばれていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 前記アモルファス炭素膜の熱伝導率が0.001W/m・K以上であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 前記アモルファス炭素膜の硬度が2GPa以上であり、弾性率が100MPa以上であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 前記アモルファス炭素膜が、金属およびフッ素を実質的に含有しないことを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 前記アモルファス炭素膜の膜厚が0.001−50.0μmであることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 前記アモルファス炭素膜が、パルス幅3μsec以下のパルス電圧を印加することによって、化学的気相成長法によって作製されたことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 前記アモルファス炭素膜がダイヤモンド状炭素膜であることを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材。
- 請求項1〜11のいずれか一つの請求項に記載のヒーター用部材および前記基材を加熱する熱源を備えていることを特徴とする、ヒーター。
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- 2006-03-20 JP JP2006076945A patent/JP2007257860A/ja active Pending
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