JP2007253246A - 表面処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】正確に加工対象物の回転数を測定することができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】収容槽内に加工対象物2及び磁性砥粒を収容する。電磁コイルが収容槽内に磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、回転磁場により磁性砥粒を加工対象物2に衝突させる。円筒体61が、加工対象物2の軸芯回りの回転が可能なように加工対象物2を保持する。円筒体61には、加工対象物2と対向する位置に切欠部611が設けられる。コイル101が、切欠部611を介して加工対象物2と対向する位置に配置される。加工対象物2の回転によって切欠部611が通過する加工対象物2の表面上に凹部が設けられている。交流電源15が、コイル101に交流電流を流す。電圧測定部16が、コイル101の両端電圧を測定する。演算装置が、コイル101の両端電圧に基づいて加工対象物2の回転数を検出する。
【選択図】図3
【解決手段】収容槽内に加工対象物2及び磁性砥粒を収容する。電磁コイルが収容槽内に磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、回転磁場により磁性砥粒を加工対象物2に衝突させる。円筒体61が、加工対象物2の軸芯回りの回転が可能なように加工対象物2を保持する。円筒体61には、加工対象物2と対向する位置に切欠部611が設けられる。コイル101が、切欠部611を介して加工対象物2と対向する位置に配置される。加工対象物2の回転によって切欠部611が通過する加工対象物2の表面上に凹部が設けられている。交流電源15が、コイル101に交流電流を流す。電圧測定部16が、コイル101の両端電圧を測定する。演算装置が、コイル101の両端電圧に基づいて加工対象物2の回転数を検出する。
【選択図】図3
Description
本発明は、例えば、円筒状、または円柱状に形成された加工対象物の外表面に磁性砥粒を衝突させることで、該加工対象物の表面を粗面化する表面処理装置に関するものである。
円筒状、または円柱状に形成された加工対象物の外表面を粗面化するために、磁性砥粒と加工対象物を収容槽内に封入する。そして、モータを使って加工対象物を回転させる。この状態で、磁場発生部としての電磁コイルを用いて磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、回転磁場と磁性砥粒との間に働く電磁力によって、磁性砥粒をランダムに励磁させて、回転中の加工対象物に衝突させることによって、その外表面を粗面化する表面処理装置(例えば、特許文献1ないし4参照)が知られている。
この種の表面処理装置は、砥粒を空気圧又は水圧で噴出させて、該砥粒を加工対象物に衝突させるサンドブラスト装置やショットブラスト装置に比べ、加工効率が良いことが知られている。
特開2003−305634号公報
特開2001−138207号公報
特許第3486221号
特開昭61−38862号公報
上述した表面処理装置においては、加工対象物の回転数によって、加工対象物の表面粗さが異なることが分かっている。そのため、加工対象物において所望の表面粗さを得るには、加工対象物の回転数を管理する必要がある。
円筒状、または円柱状に形成された加工対象物の回転数を測定するためには、一般的には、円筒状、または円柱状に形成された加工対象物の外表面に反射板を取り付け、この反射板に向けて光を投射しその反射光の時間的間隔を測定することにより、測定する方法が行われている。
ところが、上記表面処理装置は、収容槽内に加工対象物及び磁性砥粒を収容している。この収容槽内では、磁性砥粒が飛び回っている。このため、加工対象物の外側から光学的に測定しようとしても、磁性砥粒によって光が遮られて回転数を測定することができない。
また、上記加工対象物の回転軸に永久磁石体を取り付け、この永久磁石体と同心の軸により回転自在に支持された導電体よりなる円盤を永久磁石体に隣接して配置し、該永久磁石帯が回転することによって該円盤に働く回転トルクに基づいて該回転軸の回転速度を計測する装置も考えられている。
しかしながら、上述した回転速度を計測する装置では、回転軸に永久磁石体を取り付ける必要がある。ところが、測定対象となる加工対象物の回転トルクが小さい場合には、永久磁石体の重量負荷が大きく、加工対象物が回転しなくなり、本来の加工対象物の回転速度が測定できないという問題があった。
本発明は、以上の背景に鑑みてなされたものであり、磁性砥粒を衝突させて表面処理する加工対象物の回転数を正確に測定することができる表面処理装置を提供することを目的としている。
上述した課題を解決するためになされた請求項1記載の発明は、加工対象物及び磁性砥粒を収容する収容槽と、該収容槽内に前記磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、該回転磁場により前記磁性砥粒を前記加工対象物に衝突させる磁場発生部とを備えた表面処理装置において、前記回転磁場の発生により前記加工対象物に生じる回転力方向に回転可能に前記加工対象物を保持する、前記加工対象物と対向する位置に切欠部が設けられた、保持手段と、前記切欠部を介して前記加工対象物と対向する位置に配置されたコイルと、前記コイルに交流電流を流す交流電源手段と、前記コイルの両端電圧を測定する測定手段とを備え、そして、前記加工対象物の回転によって前記切欠部が通過する前記加工対象物の表面上に凹部が設けられていることを特徴とする表面処理装置に存する。
請求項2記載の発明は、加工対象物及び磁性砥粒を収容する収容槽と、前記収容槽内に前記磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、該回転磁場により前記磁性砥粒を前記加工対象物に衝突させる磁場発生部とを備えた表面処理装置において、前記回転磁場の発生により前記加工対象物に生じる回転力方向に回転可能に前記加工対象物を保持する、前記加工対象物と対向する位置に切欠部が設けられた、保持手段と、前記切欠部を介して前記加工対象物と対向する位置に配置されたコイルと、前記コイルに交流電流を流す交流電源手段と、前記コイルの両端電圧を測定する測定手段とを備え、そして、前記加工対象物の回転によって前記切欠部が通過する前記加工対象物の表面上に穴が設けられていることを特徴とする表面処理装置に存する。
請求項3記載の発明は、加工対象物及び磁性砥粒を収容する収容槽と、前記収容槽内に前記磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、該回転磁場により前記磁性砥粒を前記加工対象物に衝突させる磁場発生部とを備えた表面処理装置において、前記回転磁場の発生により前記加工対象物に生じる回転力方向に回転可能に前記加工対象物を保持する、該加工対象物と対向する位置に切欠部が設けられた、保持手段と、前記切欠部を介して前記加工対象物と対向する位置に配置されたコイルと、前記コイルに交流電流を流す交流電源手段と、前記コイルの両端電圧を測定する測定手段とを備え、そして、前記加工対象物の回転によって前記切欠部が通過する前記加工対象物の表面上に凸部が設けられていることを特徴とする表面処理装置に存する。
請求項4記載の発明は、前記測定手段の測定値に応じて前記加工対象物の回転数を検出する回転数検出手段と、前記検出した回転数に応じて前記磁場発生部により発生させる回転磁場を制御する回転磁場制御手段と、を備えたことを特徴とする請求項1〜3何れか1項記載の表面処理装置に存する。
請求項5記載の発明は、前記磁性砥粒が、ステンレスで構成された円柱体であることを特徴とする請求項1〜4何れか1項記載の表面処理装置に存する。
請求項6記載の発明は、前記保持手段が、円筒状の前記加工対象物に挿入される円筒体を備えたことを特徴とする請求項1〜5何れか1項記載の表面処理装置に存する。
請求項1記載の発明によれば、交流電源手段がコイルに交流電流を流すと、電磁誘導によって加工対象物に渦電流が発生する。渦電流はコイルによって発生した交流電流を打ち消すような磁束を発生する。このとき、加工対象物に設けた凹部がコイル上を通過すると、渦電流の流れが変わるため、渦電流によって加工対象物に発生する磁束が変化する。このため、コイル内での磁束も変化し、コイルのインピーダンスが変わる。この結果、コイルの起電力が変化するので、これを測定手段で測定することにより加工対象物の回転数を検出することができる。従って、砥粒の動きに邪魔されることなく、しかも加工対象物に永久磁石体のような特別な部材を付加することなく、正確に加工対象物の回転数を検出することができる。
請求項2記載の発明によれば、交流電源手段がコイルに交流電流を流すと、電磁誘導によって加工対象物に渦電流が発生する。渦電流はコイルによって発生した交流電流を打ち消すような磁束を発生する。このとき、加工対象物に設けた穴がコイル上を通過すると、渦電流の流れが変わるため、渦電流によって加工対象物に発生する磁束が変化する。このため、コイル内での磁束も変化し、コイルのインピーダンスが変わる。この結果、コイルの起電力が変化するので、これを測定手段で測定することにより加工対象物の回転数を検出することができる。従って、砥粒の動きに邪魔されることなく、しかも加工対象物に永久磁石体のような特別な部材を付加することなく、正確に加工対象物の回転数を検出することができる。
請求項3記載の発明によれば、交流電源手段がコイルに交流電流を流すと、電磁誘導によって加工対象物に渦電流が発生する。渦電流はコイルによって発生した交流電流を打ち消すような磁束を発生する。このとき、加工対象物に設けた凸部がコイル上を通過すると、渦電流の流れが変わるため、渦電流によって加工対象物に発生する磁束が変化する。このため、コイル内での磁束も変化し、コイルのインピーダンスが変わる。この結果、コイルの起電力が変化するので、これを測定手段で測定することにより加工対象物の回転数を検出することができる。従って、砥粒の動きに邪魔されることなく、しかも加工対象物に永久磁石体のような特別な部材を付加することなく、正確に加工対象物の回転数を検出することができる。
請求項4記載の発明によれば、回転磁場制御手段が、回転数検出手段により検出した回転数に応じて磁場発生部により発生させる回転磁場を制御する。従って、加工対象物の回転を制御できるようになり、加工対象物の表面粗さを所望の表面粗さで加工できるようになる。
請求項5記載の発明によれば、磁性砥粒がステンレスで構成された円柱体であるため、加工対象物の表面に楕円形の穴を形成することができる。
請求項6記載の発明によれば、保持手段が円筒状の加工対象物に挿入される円筒体を備えているため、コイルを保持手段内の円筒体内部に収容することができる。従って、加工対象物の外部にコイルが設けられることがなく、コイルが磁性砥粒にさらされることがなくなる。
以下、本発明の第1の実施形態を、図1ないし図4に基づいて説明する。図1は、本発明の第1の実施形態にかかる表面処理装置の構成を一部断面で示す側面図である。図2は、図1に示された表面処理装置の動作中の状態を示す側面図である。
表面処理装置1は、例えば、複写機、ファクシミリ、プリンター等の画像形成装置に用いられる現像ローラや帯電ローラなどの円筒状の加工対象物2(図1に示す)の外表面を粗面化する装置である。加工対象物2の外径は、17mm〜18mm程度であるのが望ましい。加工対象物2の軸芯P方向の長さは、300mm〜350mm程度であるのが望ましい。
表面処理装置1は、図1に示すように、ベース3と、移動手段としての電磁コイル移動部4と、保持手段としての保持部6と、磁場発生部としての電磁コイル8と、収容槽9と、冷却手段としての冷却部11とを備えている。
ベース3は、平板状に形成されて、工場のフロアやテーブル上等に設置される。ベース3の上面は、水平方向と平行に保たれる。ベース3の平面形状は、矩形状に形成されている。
電磁コイル移動部4は、一対のレール41と、電磁コイル保持ベース42と、電磁コイル移動用アクチュエータ43と、を備えている。レール41は、ベース3上に設置されている。レール41は、直線状に形成されているとともに、その長手方向がベース3の長手方向即ち矢印Xと平行に配されている。電磁コイル保持ベース42は、レール41に該レール41の長手方向即ち矢印Xに沿って移動自在に支持されている。一対のレール41は、ベース3の幅方向に沿って互いに間隔をあけて配されている。
前述した電磁コイル移動部4は、電磁コイル移動用アクチュエータ43が発生する駆動力により電磁コイル保持ベース42即ち電磁コイル8を矢印Xに沿ってスライド移動させる。また、電磁コイル移動部4による電磁コイル8の移動速度は、0mm/秒〜300mm/秒の間で変更可能である。さらに、電磁コイル移動部4の電磁コイル8の移動範囲は、600mm程度である。
保持部6は、電磁コイル移動部4と矢印Xに沿って並設されている。保持部6は、加工対象物2を回転可能に保持する。保持部6は、円筒状の加工対象物2に挿入される円筒体61と、この円筒体61が軸芯P回りに回転しないように支持する支持部62とを備えている。
円筒体61は、円筒状に形成されている。円筒体61は、その軸芯が水平方向と矢印Xとの双方と平行に配されている。円筒体61は、支持部62にその軸芯回りに回転しないように支持されている。支持部62は、保持ベース62Aと、複数の支柱62Bと、固定保持部62Cとを備えている。
保持ベース62Aは、平板状に形成され、前述したベース3上に設けられている。複数の支柱62Bは、保持ベース62Aから立設している。固定保持部62Cは、円筒状に形成され、支柱62Bの上端に設けられている。固定保持部62Cは、その軸芯が水平方向と矢印X方向との双方と平行な状態で配置されている。固定保持部62Cは、加工対象物2と円筒体61との双方と同軸に配置されている。そして、支持部62は、円筒体61の先端部が図2に示すように加工対象物2の保持部6側の端部内に侵入して、加工対象物2の端部を支持する。
なお、加工対象物2の内径は例えば16.5mmで、円筒体61の外径は例えば16.3mmに設定されている。このように設定すれば、加工対象物2と円筒体61との間に0.2mmのクリアランスCが生じる。このように微少なクリアランスCを設けることにより、円筒体61が、加工対象物2をその軸芯P回りに回転可能に支持することができる。
また、上述した加工対象物2には、固定部材3が設けられている。固定部材3は、加工対象物2が軸芯P回りに回転可能に設けられている。固定部材3は、円筒体61に対して軸芯P方向に移動しないように制止する。
また、上述した円筒体61には、加工対象物2と対向する位置に切欠部611が設けられている。また、円筒体61の内部には、この切欠部611を介して加工対象物2と対向する位置にコイル101が配置されている。コイル101は、コイル固定部材102によって円筒体61の内周面に固定されている。コイル101の両端は、電線Lを介して交流電源15(交流電源手段)と、電圧測定部16(測定手段)とに接続されている。交流電源15は、コイル101に交流電流を流す。電圧測定部16は、コイル101の両端電圧を検出する。
また、上述した加工対象物2には、図4に示すように、加工対象物2の軸芯回りの回転によって上記切欠部611が通過する内周上に凹部21が設けられている。なお、本実施形態では凹部21としては一つの場合について説明するが、凹部21の数はこれに限らず複数設けてもよい。
上述した電圧測定部16は、演算装置202にコイル101の両端電圧を供給する。演算装置202は、回転数検出手段として働き、電圧測定部16が検出したコイル101の両端電圧に基づいて加工対象物2の軸芯P回りの回転数を検出する。
上記電磁コイル8は、図1に示すように、円筒状に形成された外皮81と該外皮81内に配された複数のコイル部82とを備えて、全体として円環状に形成されている。外皮81と複数のコイル部82とは、特許請求の範囲に記載された磁場発生部としての電磁コイル8の本体部をなしている。
電磁コイル8の内径は、収容槽9の外径より大きい。即ち、電磁コイル8の内周面と収容槽9の外周面との間には、空間が形成されている。本発明では、電磁コイル8の内周面と収容槽9の外周面との間には、これらの径方向に沿って、5mm〜15mm程度の隙間が設けられているのが望ましい。また、電磁コイル8の軸芯方向の全長は、収容槽9の軸芯方向の全長より短い。
外皮81は、アルミニウム合金などの導電性を有し非磁性体の金属で構成されている。その軸芯即ち電磁コイル8自身の軸芯が矢印Xと平行な状態で前述した電磁コイル保持ベース42に支持されている。
複数のコイル部82は、外皮81即ち電磁コイル8の周方向に沿って互いに並設されている。コイル部82は、図示例では、24個設けられている。コイル部82は、図示しないヨークと、該ヨークの外周に巻かれたコイルとを備えている。ヨークは、磁性体で構成され、焼ばめにより外皮81の内周面に固定されている。コイル部82は、互いの間に合成樹脂などが充填されている。各コイル部82のコイルには、図1に示す三相交流電源48により印加される。複数のコイル部82のコイルには互いに移送のずれた電力が印加されて、これらの複数のコイル部82のコイルが互いに位相のずれた磁場を発生する。そして、電磁コイル8は、これらの磁場を合成して形成される該電磁コイル8の軸芯回りの回転方向の磁場(回転磁場)を内側に生じさせる。
前述した電磁コイル8は、三相交流電源48から印加されて、回転磁場を発生する。そして、電磁コイル8は、前述した回転磁場により、後述の磁性砥粒65を加工対象物2の外周に位置付け、該磁性砥粒65を収容槽9及び加工対象物2の軸芯P(図1中に一点鎖線で示す)回りに回転(移動)させる。なお、軸芯Pは、該収容槽9の長手方向もなしている。そして、電磁コイル8は、前述した回転磁場により磁性砥粒65を加工対象物2の外表面に衝突させる。
また、三相交流電源48と電磁コイル8との間には、磁場変更手段としてのインバータ49が設けられている。インバータ49は、三相交流電源48が電磁コイル8に印加する電力の周波数、電流値、電圧値を変更自在である。インバータ49は、電磁コイル8に印加する電力の周波数、電流値、電圧値を変更することで、三相交流電源48が電磁コイル8に印加する電力を増減させて、該電磁コイル8が発生する回転磁場の強さを変更する。このインバータ49は、可変装置203を介して演算装置202に接続されている。演算装置202は、回転磁場制御手段として働き、加工対象物2の回転数に基づいて加工対象物2が所望の回転数で回転するような電力の周波数、電流値、電圧値を検出して、可変装置203に出力する。可変装置203は、演算装置202から供給された周波数、電流値、電圧値の電力が出力されるようにインバータ49を制御する。
前述した構成の収容槽9は、磁性体で構成される砥粒(以下、磁性砥粒と呼ぶ)65を収容するとともに、円筒体61に取り付けられた加工対象物2を収容する。即ち、収容槽9は、加工対象物2と磁性砥粒65との双方を収容する。また、磁性砥粒65は、前述した回転磁場により加工対象物2の外周を回転(移動)するなどして、加工対象物2の外表面に衝突する。磁性砥粒65は、加工対象物2の外表面に衝突して、加工対象物2の外表面から該加工対象物2の一部を削り取り、該加工対象物2の外表面を粗面化する。なお、図示例では、磁性砥粒65は、ステンレスから構成され、外径が1.0mmでかつ長さが5.0mmの円柱状に形成されている。
また、前述した収容槽9は、両端部がベース3から立設した支柱91により支持されている。収容槽9は、支柱91により、加工対象物2と、円筒体61と電磁コイル8などと同軸に配されている。
前述した冷却部11は、図1に示すように、図示しない加圧気体供給源と、可撓性を有するフレキシブルダクト111と、ノズル112、ノズル112を支持する支柱113とを備えている。加圧気体供給源は、加圧された気体をフレキシブルダクト111に供給する。加圧気体供給源として、圧縮空気などの加圧された気体を収容したボンベなどの容器や、加圧された空気などの気体をフレキシブルダクト111に向かって送り出すシロッコファンや軸流送風機などの送風機などを用いても良い。
また、冷却部11のノズル112からの電磁コイル8に吹き付けられる加圧された気体の流速を4m/sec以上とするのが望ましい。さらに、冷却部11のノズル112からの電磁コイル8に吹き付けられる加圧された気体の流速を4m/sec以上でかつ11m/sec以下とするのが望ましい。冷却部11のノズル112からの電磁コイル8に吹き付けられる加圧された気体の流速を8m/secとするのが最も望ましい。
ノズル112は、フレキシブルダクト111の加圧気体供給源から離れた側の先端に取り付けられている。図示例では、ノズル112は、電磁コイル8の端部の近傍に配置され、かつ電磁コイル8の内周面と収容槽9の外周面との間に設けられた空間に相対している。
ノズル112は、加圧気体供給源から供給された加圧された気体を電磁コイル8の内周面と収容槽9の外周面との間に導く。このように、冷却部11は、ノズル112を前述の空間に相対させることで、該空間内に気体を導くようにしている。また、ノズル112を前述の空間に相対させて、電磁コイル8の端部の近傍に配置することで、冷却部11の少なくとも一部を電磁コイル8の周辺に配置している。なお、本発明でいう電磁コイル8の周辺とは、該電磁コイル8の両端部、内外周面及びこれら近傍を示している。ノズル112は、加圧気体供給源から供給された加圧された気体を、電磁コイル8の内周面と収容槽9の外周面との間の空間に導いて、該電磁コイル8に吹き付ける。冷却部11は、加圧気体供給源からの加圧された気体を電磁コイル8に吹き付けて、該電磁コイル8を冷却する。
次に、前述した構成の表面処理装置1を用いて加工対象物2の外表面を処理(粗面化)する工程を、以下説明する。
まず、加工対象物2の一端部側から加工対象物2内に円筒体61を挿入する。その後、固定部材3を加工対象物2に取り付けて、加工対象物2が軸芯P方向に移動しないようにする。こうして、加工対象物2が円筒体61により軸芯P回りに回転可能に支持される。
そして、冷却部11に加圧された気体を前述した空間即ち電磁コイル8に吹き付けさせる。そして、電磁コイル移動部4が、適宜、電磁コイル8を軸芯Pに沿って移動する。その後、電磁コイル8に三相交流電源48からの電力を印加して、電磁コイル8に回転磁場を発生させる。すると、図2に示すように、電磁コイル8の内側に位置する磁性砥粒65が自転しながら軸芯P回りに公転(回転即ち移動)して、該磁性砥粒65が加工対象物2の外表面に衝突して、該加工対象物2の外表面を粗面化する。さらに、電磁コイル8が発生した回転磁場により加工対象物2が円筒体61に対して軸芯P回りに回転する。
さらに、円筒体61内に収容されたコイル101に交流電源15からの交流電流を流す。このとき、電磁誘導によって加工対象物2に渦電流が発生する。渦電流はコイル101によって発生した交流電流を打ち消すような磁束を発生する。このとき、図4(b)に示すように加工対象物2に設けた凹部21がコイル101上を通過すると渦電流の流れが変わる。このため、渦電流によって加工対象物2に発生する磁束が、コイル101上に凹部21がなかった場合(図4(a)、(c))に比べて変化する。そして、この加工対象物2に発生する磁束変化の影響を受け、コイル101内での磁束も変化し、コイル101のインピーダンス(インダクタンス)も変わる。この結果、コイル101の起電力が変化する。
演算装置202は、電圧測定部16が検出したコイル101の両端電圧に基づいて起電力の変化を検出して、コイル101上に凹部21が通過したタイミングを検出する。そして、演算装置202は、コイル101上に凹部21が通過したタイミングの検出間隔に基づいて加工対象物2の回転数を検出する。そして、演算装置202は、検出した加工対象物2の回転数が所望の回転数になるように可変装置203を介してインバータ49を制御する。
演算装置202は、例えば検出した加工対象物2の回転数が所望の回転数よりも小さければ加工対象物2の回転数が増す回転磁場が発生するように可変装置203を介してインバータ49を制御する。演算装置202は、例えば検出した加工対象物2の回転数が所望の回転数よりも大きければ加工対象物2の回転数が減る回転磁場が発生するように可変装置203を介してインバータ49を制御する。
そして、電磁コイル移動部4が予め定められた所定の回数電磁コイル8を矢印Xに沿って往復移動させると、加工対象物2の外表面の粗面化が終了する。
前述した加工対象物2の外表面の粗面化が終了すると、電磁コイル8への電力の印加を停止する。さらに、冷却部11を停止する。そして、加工対象物2から固定部材3を取り外して、加工対象物2から円筒体61を取り外す。その後、収容槽9内から外表面の粗面化が終了した加工対象物2を取り出して、新たな加工対象物2を収容槽9内に収容する。こうして、加工対象物2の外表面の粗面化を行う。
上述した実施形態によれば、コイル101及び加工対象物2に凹部21を設けて加工対象物2の回転数を検出している。これにより、砥粒の動きに邪魔されることなく、しかも加工対象物2に永久磁石体のような特別な部材を付加することなく、正確に加工対象物2の回転数を検出することができる。
また、上述した実施形態によれば演算装置202が、コイル101の両端電圧により検出した回転数に応じて電磁コイル8により発生させる回転磁場を制御している。これにより、加工対象物2の回転を制御できるようになり、加工対象物2の表面粗さを所望の表面粗さで加工できるようになる。
また、上述した実施形態によれば、上述したように加工対象物2が円筒体であり、保持部6が加工対象物2に挿入される円筒体61を備えているため、コイル101を円筒体61内部に収容することができる。従って、加工対象物2の外部にコイル101が設けられることがなく、コイル101が磁性砥粒65にさらされることがなくなる。
また、上述した実施形態によれば、磁性砥粒65がステンレスで構成された円柱体であるため、加工対象物2の表面に楕円形の穴を形成することができる。上述した画像形成装置は、磁性キャリアとトナーとを含んだ現像剤を感光体ドラムと対向する現像領域に搬送し、感光体ドラム上に形成された静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する現像ローラを備えている。
この現像ローラは、円筒状に形成された現像スリーブと、前記現像スリーブ内に収容されかつ当該現像スリーブの表面に現像剤の穂立ちを生じさせるように磁界を形成するマグネットローラと、を備えている。今、上記加工対象物2がこの現像ローラであった場合、上述したようにローラの表面に楕円形の穴を形成することにより、円形の穴に比べて穂立ちの高さを高くすることができる。これにより、現像ローラと感光体ドラムとを接触させることなく、現像ローラに吸着した現像剤を感光体ドラムに転写させることができる。
なお、上述した実施形態によれば、加工対象物2には、加工対象物2の回転によって切欠部611が通過する表面上に凹部21が設けられていたが、本発明はこれに限ったものではない。例えば、図5に示すように、加工対象物2に、加工対象物2の回転によって切欠部611が通過する表面上に穴22を設けることも考えられる。この場合の回転数の検出方法について説明する。円筒体61内に収容されたコイル101に交流電源15からの交流電流を流すと、電磁誘導によって加工対象物2に渦電流が発生する。渦電流はコイル101によって発生した交流電流を打ち消すような磁束を発生する。このとき、図5(b)に示すように加工対象物2に設けた穴22がコイル101上を通過すると渦電流の流れが変わる。このため、渦電流によって加工対象物2に発生する磁束が、コイル101上に穴22がなかった場合(図5(a)、(c))に比べて変化する。従って、上述した実施形態と同様にコイル101の起電力変化に基づいて加工対象物2の回転数を検出することができる。
また、図6に示すように、加工対象物2に、加工対象物2の回転によって切欠部611が通過する表面上に凸部23を設けることも考えられる。この場合の回転数の検出方法について説明する。円筒体61内に収容されたコイル101に交流電源15からの交流電流を流すと、電磁誘導によって加工対象物2に渦電流が発生する。渦電流はコイル101によって発生した交流電流を打ち消すような磁束を発生する。このとき、図6(b)に示すように加工対象物2に設けた凸部23がコイル101上を通過すると渦電流の流れが変わる。このため、渦電流によって加工対象物2に発生する磁束が、コイル101上に凸部23がなかった場合(図6(a)、(c))に比べて変化する。従って、上述した実施形態と同様にコイル101の起電力変化に基づいて加工対象物2の回転数を検出することができる。
また、上述した実施形態によれば、保持部6内の円筒体61を加工対象物2内に挿入することにより加工対象物2を保持していたが、本発明はこれに限ったものではなく、保持部6は加工対象物2を回転可能に保持できるものであればよい。例えば、逆に円筒体61内に加工対象物2の一端を挿入して保持することも考えられる。
また、上述した実施形態によれば、電磁コイル8をX方向に移動していたが、本発明はこれに限ったものではない。例えば、電磁コイル8のX方向の長さを加工対象物2のX方向の長さと同等にして、電磁コイル8を移動させないことも考えられる。
なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。即ち、保持手段と回転磁場制御手段は、実施形態に記載された構成及び配置に限定されることなく、種々の構成及び配置にしても良い。
2 加工対象物
6 保持部(保持手段)
8 電磁コイル(磁場発生部)
9 収容槽
15 交流電源(交流電源手段)
16 電圧測定部(測定手段)
21 凹部
22 穴
23 凸部
61 円筒体
65 磁性砥粒
101 コイル
202 演算装置(回転数検出手段、回転磁場制御手段)
611 切欠部
6 保持部(保持手段)
8 電磁コイル(磁場発生部)
9 収容槽
15 交流電源(交流電源手段)
16 電圧測定部(測定手段)
21 凹部
22 穴
23 凸部
61 円筒体
65 磁性砥粒
101 コイル
202 演算装置(回転数検出手段、回転磁場制御手段)
611 切欠部
Claims (6)
- 加工対象物及び磁性砥粒を収容する収容槽と、該収容槽内に前記磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、該回転磁場により前記磁性砥粒を前記加工対象物に衝突させる磁場発生部とを備えた表面処理装置において、
前記回転磁場の発生により前記加工対象物に生じる回転力方向に回転可能に前記加工対象物を保持する、前記加工対象物と対向する位置に切欠部が設けられた、保持手段と、
前記切欠部を介して前記加工対象物と対向する位置に配置されたコイルと、
前記コイルに交流電流を流す交流電源手段と、
前記コイルの両端電圧を測定する測定手段とを備え、そして、
前記加工対象物の回転によって前記切欠部が通過する前記加工対象物の表面上に凹部が設けられていることを特徴とする表面処理装置。 - 加工対象物及び磁性砥粒を収容する収容槽と、前記収容槽内に前記磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、該回転磁場により前記磁性砥粒を前記加工対象物に衝突させる磁場発生部とを備えた表面処理装置において、
前記回転磁場の発生により前記加工対象物に生じる回転力方向に回転可能に前記加工対象物を保持する、前記加工対象物と対向する位置に切欠部が設けられた、保持手段と、
前記切欠部を介して前記加工対象物と対向する位置に配置されたコイルと、
前記コイルに交流電流を流す交流電源手段と、
前記コイルの両端電圧を測定する測定手段とを備え、そして、
前記加工対象物の回転によって前記切欠部が通過する前記加工対象物の表面上に穴が設けられていることを特徴とする表面処理装置。 - 加工対象物及び磁性砥粒を収容する収容槽と、前記収容槽内に前記磁性砥粒を移動させる回転磁場を発生させて、該回転磁場により前記磁性砥粒を前記加工対象物に衝突させる磁場発生部とを備えた表面処理装置において、
前記回転磁場の発生により前記加工対象物に生じる回転力方向に回転可能に前記加工対象物を保持する、該加工対象物と対向する位置に切欠部が設けられた、保持手段と、
前記切欠部を介して前記加工対象物と対向する位置に配置されたコイルと、
前記コイルに交流電流を流す交流電源手段と、
前記コイルの両端電圧を測定する測定手段とを備え、そして、
前記加工対象物の回転によって前記切欠部が通過する前記加工対象物の表面上に凸部が設けられていることを特徴とする表面処理装置。 - 前記測定手段の測定値に応じて前記加工対象物の回転数を検出する回転数検出手段と、前記検出した回転数に応じて前記磁場発生部により発生させる回転磁場を制御する回転磁場制御手段と、を備えたことを特徴とする請求項1〜3何れか1項記載の表面処理装置。
- 前記磁性砥粒が、ステンレスで構成された円柱体であることを特徴とする請求項1〜4何れか1項記載の表面処理装置。
- 前記保持手段が、円筒状の前記加工対象物に挿入される円筒体を備えたことを特徴とする請求項1〜5何れか1項記載の表面処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006076977A JP2007253246A (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 表面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006076977A JP2007253246A (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 表面処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2007253246A true JP2007253246A (ja) | 2007-10-04 |
Family
ID=38627986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006076977A Withdrawn JP2007253246A (ja) | 2006-03-20 | 2006-03-20 | 表面処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2007253246A (ja) |
-
2006
- 2006-03-20 JP JP2006076977A patent/JP2007253246A/ja not_active Withdrawn
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