JP2007212793A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007212793A JP2007212793A JP2006033017A JP2006033017A JP2007212793A JP 2007212793 A JP2007212793 A JP 2007212793A JP 2006033017 A JP2006033017 A JP 2006033017A JP 2006033017 A JP2006033017 A JP 2006033017A JP 2007212793 A JP2007212793 A JP 2007212793A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin liquid
- refractive index
- curable resin
- polymerizable resin
- curing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】低屈折率のラジカル重合性樹脂と高屈折率のカチオン重合性樹脂の混合溶液2に、いずれをも硬化させうる光λ1を導入する。ラジカル重合はカチオン重合よりも速いので、コア状に自己集光的に光硬化が進んだ段階では、ラジカル重合性樹脂はほぼ完全に重合しているが、カチオン重合性樹脂は完全には重合しておらずラジカル重合性樹脂の硬化物に未硬化のカチオン重合性樹脂が一部取り込まれた形となる。この段階で放置すると、コア表層6の液相においては、未硬化のカチオン重合性樹脂が多く、未硬化のラジカル重合性樹脂が少ない状態から、拡散により周囲と同程度の濃度分布となるが、コア表層6の固相はラジカル重合性樹脂硬化物が圧倒的に多い(1.C)。当該拡散後に全体を硬化させると、コア表層6’はラジカル重合性樹脂硬化物が多くなり、低屈折率部分が鞘状に形成されクラッドとなる。
【選択図】図1
Description
実施例1において、1.5分間の静置をせずに、波長408nmのレーザー光の照射を止めると同時に、透明容器1の外部から高圧水銀ランプにより紫外線を照射して光導波路を作製した。この光導波路は光導波路としては充分に機能しない、光閉じ込めができないものであった。
実施例1における、1.5分間の静置を1分間にすることの他は実施例1と同様に長さ15mmの直線状光導波路を作製した。波長525nmにおける挿入損失が実施例1の直線状光導波路よりも0.4dB大きかった。
実施例1における、1.5分間の静置を3分間にすることの他は実施例1と同様に作製した光導波路は、導波路部分が大きく屈曲してしまい、曲がり部の放射性損失により光導波路としては充分に機能しないものであった。これは、静置時間を長くしすぎたためにコアの中心部が硬化性樹脂液により膨潤して伸びてしまうことにより屈曲してしまったものと考えられる。
実施例1において光重合開始材を替えて、特許文献2と同様に、コア形成時にカチオン重合を生じさせない場合を比較例4として実験した。新中村化学工業社製A−BPE−10アクリル系モノマーにチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製IRGACURE1800光ラジカル重合開始剤を0.3wt%添加した組成物を調整し、アクリル系硬化性樹脂液A1とした。
モノマーを替えて、特許文献2と同様に、コア形成時にカチオン重合を生じさせない場合を比較例5として実験した。サートマー社製SR−454(EO変成トリメチロールプロパントリアクリレート)にチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製IRGACURE1800光ラジカル重合開始剤を0.3wt%添加した組成物を調整し、アクリル系硬化性樹脂液A2とした。
2:硬化機構の異なる低屈折率の第1の光硬化性樹脂液と高屈折率の第2の光硬化性樹脂液の混合溶液
2' :混合溶液の硬化物
3:光ファイバ
4:一部未硬化の光路部分
5:一部未硬化の光路部分の表層以外の部分
6:一部未硬化の光路部分の表層
5' :コア(完全に硬化した光路部分の表層以外の部分)
6' :クラッド(完全に硬化した光路部分の表層)
Claims (2)
- 硬化機構が異なり、低屈折率で硬化速度の速い第1の光硬化性樹脂液と高屈折率で硬化速度の遅い第2の光硬化性樹脂液の混合溶液を用い、
前記第1の光硬化性樹脂液と前記第2の光硬化性樹脂液とをいずれも硬化させる第1の光照射により、未硬化の前記第2の光硬化性樹脂液を一部取り込む形で、前記第1の光硬化性樹脂液及び前記第2の光硬化性樹脂液を硬化させ、光が透過する光路部分を形成する第1の光硬化工程と、
前記光路部分を形成した後、第1の光照射を止めて所定時間静置することで、前記光路部分の表層へ光路部分の外部の混合溶液から未硬化の前記第1の光硬化性樹脂液を拡散させる拡散工程と、
前記第1の光硬化性樹脂液と前記第2の光硬化性樹脂液の両方を硬化させる第2の光照射により、少なくとも前記光路部分の表層へ拡散した未硬化の前記第1の光硬化性樹脂液及び前記光路部分の前記第2の光硬化性樹脂液を硬化させる第2の光硬化工程とから成り、
屈折率の高い光路部分と、その表層の低屈折率部分とを有する光導波路を製造する方法。 - 前記第1の光照射は、光ファイバにより供給されることを特徴とする請求項1に記載の光導波路を製造する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006033017A JP4552868B2 (ja) | 2006-02-09 | 2006-02-09 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006033017A JP4552868B2 (ja) | 2006-02-09 | 2006-02-09 | 光導波路の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007212793A true JP2007212793A (ja) | 2007-08-23 |
JP4552868B2 JP4552868B2 (ja) | 2010-09-29 |
Family
ID=38491284
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006033017A Expired - Fee Related JP4552868B2 (ja) | 2006-02-09 | 2006-02-09 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4552868B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002258095A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-11 | Ibiden Co Ltd | 光導波路の形成方法 |
JP2003131064A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-08 | Ibiden Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2004151160A (ja) * | 2002-10-28 | 2004-05-27 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光導波路の製造方法 |
JP2004149579A (ja) * | 2002-10-28 | 2004-05-27 | Toagosei Co Ltd | 光導波路の作製用材料組成物及び光導波路の製造方法 |
JP2005062365A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光導波路の製造方法 |
-
2006
- 2006-02-09 JP JP2006033017A patent/JP4552868B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002258095A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-11 | Ibiden Co Ltd | 光導波路の形成方法 |
JP2003131064A (ja) * | 2001-10-29 | 2003-05-08 | Ibiden Co Ltd | 光導波路の製造方法 |
JP2004151160A (ja) * | 2002-10-28 | 2004-05-27 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光導波路の製造方法 |
JP2004149579A (ja) * | 2002-10-28 | 2004-05-27 | Toagosei Co Ltd | 光導波路の作製用材料組成物及び光導波路の製造方法 |
JP2005062365A (ja) * | 2003-08-08 | 2005-03-10 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 光導波路の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4552868B2 (ja) | 2010-09-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4138494B2 (ja) | 最適化された多層光導波システム | |
CN100575995C (zh) | 生产光波导的方法 | |
JP4084633B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2014041181A (ja) | レンズ付き基板及びその製造方法、並びにレンズ付き光導波路 | |
JP5096252B2 (ja) | 光導波路及び光モジュール、並びにそれらの製造方法 | |
Yamashita et al. | Fabrication of light-induced self-written waveguides with a W-shaped refractive index profile | |
JP4011283B2 (ja) | 光伝送路の製造方法 | |
US7166322B2 (en) | Optical waveguide and method for producing the same | |
JPH10148729A (ja) | 高分子光導波路コア部のリッジ・パターン形成方法 | |
JP4552868B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
KR20060024375A (ko) | 경화형 수지 조성물, 광학 부품 및 광도파로 | |
US7399498B2 (en) | Material composition for producing optical waveguide and method for producing optical waveguide | |
JP2002258095A (ja) | 光導波路の形成方法 | |
JP3063903B2 (ja) | 光導波路 | |
JP4622878B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2005062364A (ja) | 自己形成光導波路及びその製造方法 | |
JP2004151160A (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP4466396B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JP2007072129A (ja) | 光導波路及びその製造方法 | |
JP2013186140A (ja) | 光導波路の製造方法、光導波路の製造装置および光導波路 | |
JP2009003337A (ja) | 光ファイバの接続方法 | |
JP2006189615A (ja) | マルチコア光フィラメント及びその製造方法 | |
JP4024729B2 (ja) | 光導波路の製造方法 | |
JPH10170739A (ja) | 高分子光導波路及びその作製方法 | |
JP2010032582A (ja) | 光モジュールの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081007 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100609 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100622 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100705 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4552868 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130723 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |