JP2007210830A - 新規多孔体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】Q4Si原子の量がSi原子全体の量の90%より多いSi含有物質からなり、d間隔が40Åから80Åの位置に少なくとも1つのピークを有する多孔体。
【選択図】なし
Description
〔1〕 Q4Si原子の量がSi原子全体の量の90%より多いSi含有物質からなり、d間隔が40Åから80Åの位置に少なくとも1つのピークが存在するX線回折パターンを有する多孔体、
〔2〕 d間隔が40Åから80Åの位置に半価幅が0.4〜1.0の少なくとも1つのピークを有し、40Åから80Åの位置にある最強のピークの50%より大きい相対強度でd間隔が40Åより小さい位置にピークが存在しないX線回折パターンを有してなる前記〔1〕記載の多孔体、
〔3〕 細孔分布曲線において細孔直径が10Åより小さい範囲と10Å以上の範囲とに各々ピークを少なくとも1つ有する前記〔1〕又は〔2〕記載の多孔体、
〔4〕 全細孔容積が0.4〜1.5cm3/gであり、細孔分布曲線における細孔直径が10Å〜100Åの細孔の容積が0.2〜1.2cm3/gであり、細孔分布曲線における細孔直径が10Åより小さい細孔の容積が0.1〜0.45cm3/gである前記〔1〕〜〔3〕いずれか記載の多孔体、
〔5〕 細孔分布曲線における細孔直径が細孔10Å〜100Åの容積が全細孔容積の50〜80%を占める請求項1〜4いずれか記載の多孔体、
〔6〕 (細孔分布曲線における細孔直径が10Åより小さい細孔の容積)/[(細孔分布曲線における細孔直径が10Åより小さい細孔の容積)+(細孔分布曲線における細孔直径が100Åより大きい細孔の容積)]×100の値が60〜95である前記〔1〕〜〔5〕いずれか記載の多孔体、
〔7〕 細孔壁の厚さが20〜50Åである前記〔1〕〜〔6〕いずれか記載の多孔体、
〔8〕 細孔のチャネルが非直線である前記〔1〕〜〔7〕いずれか記載の多孔体、
〔9〕 珪素含有物質と、界面活性剤とを反応させて、珪素含有物質と界面活性剤とからなる複合体を形成させた後、該複合体から有機物を除去することを特徴とする前記〔1〕〜〔8〕いずれか記載の多孔体の製造方法、
〔10〕 反応時間により、10Å〜100Åの範囲で多孔体の平均細孔直径を制御する前記〔9〕記載の多孔体の製造方法、
〔11〕 前記〔1〕〜〔8〕いずれか記載の多孔体を含有してなる触媒、並びに
〔12〕 前記〔1〕〜〔8〕いずれか記載の多孔体を含有してなる吸着剤
に関する。
式:(2×d100値/√3)−(平均細孔直径10〜100Åの範囲の細孔径)
により算出することができる。本発明の平均細孔直径は公知の窒素吸脱着により算出した。すなわち、平均細孔直径は公知のBJH法により算出した。ここで、d100は六方晶系における(100)面の面間隔を示しX線回折パターンより算出する。
MxAlySizO2
(式中、MはAl以外の金属元素であり、xは0以上1以下であり、yは0以上1以下であり、zは0より大きく1以下である)
で表される。ここで、Mは、Al以外の金属架橋に用いられる1種以上の金属元素であり、例えば、Mn、Co、Ni、Fe、Mg、Cr、Ga、Ge、Ti等が挙げられる。Mが2種以上のカチオンである場合、その2種以上の金属元素を合計したものがxであればよい。
60mlの6N塩酸に1gの界面活性剤{ペンタグリセリンモノミリステート/商品名:サンソフトA−14E(構成ポリグリセリン中グリセリン5量体の含量が42%・HLB15.0)太陽化学株式会社製}を添加混合し、界面活性剤を完全に溶解させた。この溶液に1.25gのテトラエトキシシラン(TEOS)を添加した。この溶液(pH0以下)を密封系にて25℃で24時間攪拌した。生じた沈殿物を濾過にて回収後、イオン交換水にて水洗・濾過を3回繰り返した。エタノールにて洗浄・濾過後、この固形物を60℃で3時間乾燥させ、その後540℃で6時間焼成を行い、多孔体A0.27gを得た。
60mlの6N塩酸に1gの界面活性剤{ペンタグリセリンモノミリステート/商品名:サンソフトA−14E(構成ポリグリセリン中グリセリン5量体の含量が42%・HLB15.0)太陽化学株式会社製}を添加混合し、界面活性剤を完全に溶解させた。この溶液(pH0以下)に1.25gのTEOSを添加した。この溶液を密封系にて25℃で3時間、3日間、7日間、10日間、及び14日間攪拌する以外は製造例1と同様にして、それぞれ多孔体B、C、D、E、Fを得た。
界面活性剤として{ペンタグリセリンモノラウレート/商品名:サンソフトA-12E(構成ポリグリセリン中グリセリン5量体の含量が42%・HLB15.6)を使用した以外は製造例1と同様にして、多孔体Gを得た。
式:(2×d100値/√3)−(細孔直径10〜100Åの範囲の細孔径)
により算出した。d100値及びX線回折パターンは、全自動X線回折装置(商品名:RINT ULTIMA II、理学電機株式会社製)により測定した。X線回折は、CuKα線(40kv、30mA)をX線源として1°〜10°まで、1°2θ/秒でスキャンした。
Beckらの方法(J.Am.Chem.Soc.1992,114,10834−10843)にて論文に記載の多孔質材料、MCM−41を得た。MCM-41のX線回折パターンを測定した。結果を図8に示す。
界面活性剤として{デカグリセリンモノミリステート/商品名:サンソフトQ−14S(構成ポリグリセリン中、グリセリン15%、グリセリン2量体18%、グリセリン3量体23%、グリセリン4量体16%、グリセリン5量体以上20%、環状ポリグリセリンが8%・HLB14.5)太陽化学株式会社製}を使用した以外は製造例1と同様にして、多孔体Hを得た。
界面活性剤として{トリグリセリンモノミリステート/商品名:サンソフト A−141E
(構成ポリグリセリン中、グリセリン3量体の含量が42%・HLB13.0)太陽化学株式会社製}を使用した以外は製造例1と同様にして、多孔体Iを得た。
(1)製造例1にて得た多孔体Aを850℃で24時間加熱した。この時のX線回折パターンを図11に示す。また、このときの29Si MAS NMRの結果を図12に示す。
製造例1にて得た多孔体Aを50℃、60℃、及び70℃のイオン交換水中で2日間加熱した。この時のX線回折パターンを図14に示す。
2 多孔体A
3 多孔体B
4 多孔体D
5 多孔体E
6 多孔体F
7 加熱前
8 50℃
9 60℃
10 70℃
Claims (12)
- Q4Si原子の量がSi原子全体の量の90%より多いSi含有物質からなり、d間隔が40Åから80Åの位置に少なくとも1つのピークが存在するX線回折パターンを有する多孔体。
- d間隔が40Åから80Åの位置に半価幅が0.4〜1.0の少なくとも1つのピークを有し、40Åから80Åの位置にある最強のピークの50%より大きい相対強度でd間隔が40Åより小さい位置にピークが存在しないX線回折パターンを有してなる請求項1記載の多孔体。
- 細孔分布曲線において細孔直径が10Åより小さい範囲と10Å以上の範囲とに各々ピークを少なくとも1つ有する請求項1または2記載の多孔体。
- 全細孔容積が0.4〜1.5cm3/gであり、細孔分布曲線における細孔直径が10Å〜100Åの細孔の容積が0.2〜1.2cm3/gであり、細孔分布曲線における細孔直径が10Åより小さい細孔の容積が0.1〜0.45cm3/gである請求項1〜3いずれか記載の多孔体。
- 細孔分布曲線における細孔直径が10Å〜100Åの細孔の容積が全細孔容積の50〜80%を占める請求項1〜4いずれか記載の多孔体。
- (細孔分布曲線における細孔直径が10Åより小さい細孔の容積)/[細孔分布曲線における細孔直径が10Åより小さい細孔の容積]+(細孔分布曲線における細孔直径が100Åより大きい細孔の容積)]×100の値が60〜95である請求項1〜5いずれか記載の多孔体。
- 細孔壁の厚さが20〜50Åである請求項1〜6いずれか記載の多孔体。
- 細孔のチャネルが非直線である請求項1〜7いずれか記載の多孔体。
- 珪素含有物質と、界面活性剤とを反応させて、珪素含有物質と界面活性剤とからなる複合体を形成させた後、該複合体から有機物を除去することを特徴とする請求項1〜8いずれか記載の多孔体の製造方法。
- 反応時間により、10Å〜100Åの範囲で多孔体の平均細孔直径を制御する請求項9記載の多孔体の製造方法。
- 請求項1〜8いずれか記載の多孔体を含有してなる触媒。
- 請求項1〜8いずれか記載の多孔体を含有してなる吸着剤。
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JPH04238810A (ja) * | 1991-01-14 | 1992-08-26 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 層状シリカ−金属酸化物多孔体及びその製造方法 |
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Patent Citations (2)
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Title |
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JPN6011035994; Lifeng Wang et al.: 'High-temperature synthesis of stable orderd mesoporous silica materials using mesoporous carbon as a' Microporous and Mesoporous Materials Vol.86, 2005, p81-88 * |
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