JP2007208249A - 処理条件検知ウェハおよびデータ分析システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板は、ロボットヘッドによって処理チャンバ内に挿入でき、測定デバイスは、条件をリアルタイムで伝送することができ、またはその後の分析用に条件を格納することができる。デバイスの敏感な電子部品は、デバイスの精度、動作範囲および信頼性を向上させるために、最も有害な処理条件から引き離しまたは隔離することができる。隔離は、真空または適切な材料により提供でき、低温を維持するために相変化材料を電子回路に隣接して設置することができる。
【選択図】図12A
Description
104 基板
106 電子回路ディスク
108 ケーブル
110 データ処理デバイス
112 通信リンク
114 データポート
Claims (24)
- 処理条件を検知するためのシステムであって、
基板と、
基板に取り付けられた複数のセンサと、
複数のセンサに電気的に結合された電子回路プラットフォームと、を備え、
前記電子回路プラットフォームは少なくとも1つの集積回路を囲むカバーを有し、前記カバーは断熱容積を備え、
前記電子回路プラットフォームは、プラットフォームを基板から持ち上げる1つ以上の脚部により基板に取り付けられるシステム。 - 前記断熱容積は、カバー外部の外部容積と連通している請求項1記載のシステム。
- 前記断熱容積は、外部容積が排気される際に排気される請求項2記載のシステム。
- 前記断熱容積は、低い熱伝導率を有する材料で満たされる請求項1記載のシステム
- 前記カバーは、密閉封止される請求項4記載のシステム。
- 前記カバーは、放射熱に対し反射性の外表面を有する請求項1記載のシステム。
- 前記カバー内に相変化材料をさらに含む請求項1記載のシステム。
- 前記基板は、ガラスで構成される請求項1記載のシステム。
- 前記1つ以上の脚部は、1ミリメートル未満の高さを有する請求項1記載のシステム。
- 処理条件を検知するためのシステムであって、
基板と、
基板に取り付けられた複数のセンサと、
複数のセンサに電気的に結合された電子回路プラットフォームと、を備え、
前記電子回路プラットフォームは少なくとも1つの集積回路を囲むカバーを有し、前記カバーは20〜85℃の融点を有する相変化材料を備え、
前記電子回路プラットフォームは、プラットフォームを基板から持ち上げる1つ以上の脚部により基板に取り付けられるシステム。 - 前記カバーは、断熱容積をさらに囲む請求項10記載のシステム。
- 前記断熱容積は、圧力が大気圧未満のガスを含む請求項10記載のシステム。
- 前記断熱容積は、低い熱伝導率を有する固体を含む請求項10記載のシステム。
- 前記電子回路プラットフォームは、電源および複数の集積回路を含み、前記相変化材料は、電源および複数の集積回路のすぐ近傍にあり、その結果、前記相変化材料、電源および複数の集積回路は全てほぼ同じ温度である請求項10記載のシステム。
- 前記カバーは、放射熱に対し反射性の外表面を有する請求項10記載のシステム。
- 前記カバーは、放射熱に対し反射性の内表面を有する請求項10記載のシステム。
- 前記脚部は、基板の周囲を越えて伸長する位置に電子回路プラットフォームを保持する請求項10に記載のシステム。
- 処理条件測定デバイスを形成する方法であって、
センサを基板に取り付け、リード線によりセンサを電子モジュールに接続するステップと、
電子部品周囲の絶縁容積を囲むカバーを含むように電子回路モジュールを形成するステップであって、前記カバーが脚部により基板から離される、ステップと、
を含む方法。 - 18℃〜85℃の間の融点を有する相変化材料を含むように電子回路モジュールを形成するステップをさらに含む請求項18記載の方法。
- 反射性表面を設けるために、電子回路モジュールの表面を研磨するステップをさらに含む請求項18記載の方法。
- カバーの内部圧力が外部圧力とほぼ等しくなるように、カバーに開口部を形成するステップをさらに含む請求項18記載の方法。
- 基板の表面の中心位置に重なるように電子回路モジュールを配置するステップをさらに含む請求項18記載の方法。
- 基板の表面の中心ではない位置に重なるように電子回路モジュールを配置するステップをさらに含む請求項18記載の方法。
- 電子回路モジュールの少なくとも一部分が基板の表面に重ならないように電子回路モジュールを配置するステップをさらに含む請求項18記載の方法。
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