JP2007199386A - カラーフィルタ、その製造方法、これを用いた固体撮像素子、およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】経時的変化を抑制すると共に高精度のパターン形成を可能にし、混色を防ぎかつ薄型化を実現することのできるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】酸化シリコン層などの無機材料を主とするカラーフィルタ母材層に、イオン注入により金属イオンを注入し、カラーフィルタを形成するようにしたことを特徴とするもので、基本的には母材層のパターニングは不要であり、各領域に選択的に所望の色の発色を行うような金属イオンを注入している。
【選択図】図8
【解決手段】酸化シリコン層などの無機材料を主とするカラーフィルタ母材層に、イオン注入により金属イオンを注入し、カラーフィルタを形成するようにしたことを特徴とするもので、基本的には母材層のパターニングは不要であり、各領域に選択的に所望の色の発色を行うような金属イオンを注入している。
【選択図】図8
Description
本発明は、カラーフィルタ、その製造方法、これを用いた固体撮像素子、およびその製造方法にかかり、特に高感度で経時変化に強いカラーフィルタに関する。
近年、固体撮像素子においては、高解像度化、高感度化への要求は高まる一方であり、ギガピクセル以上まで撮像画素数の増加が進んでいる。
一般に、MOS型やCCD型の固体撮像素子等に用いられているカラーフィルタは、3色もしくは4色の着色されたレジストを使用し、レジストコートプロセス及び現像プロセスによって、平坦面上にパターン形成されている(例えば、下記特許文献1参照)。
そのひとつに例えば、光電変換部を構成するフォトダイオード部の直上位置の平坦化層の上層に平坦化膜(透光性膜22)、カラーフィルタ、平坦化膜、オンチップレンズとを順次形成した構造が提案されている(電荷転送部、フォトダイオード部などの詳細については実施の形態で後述する)。
このような構造の固体撮像素子において、カラーフィルタは次のようにして製造される。まず、平坦面上に例えばB(青色)のカラーフィルタ材料である着色レジストを塗布し、露光及び現像処理を行ってパターニングした後、熱処理又は紫外線照射を行って固着させることで、Bのカラーフィルタを形成する。次に、Bのカラーフィルタ及び平坦面上に、例えばG(緑色)のカラーフィルタ材料である着色レジストを塗布し、露光及び現像処理を行ってパターニングした後、熱処理又は紫外線照射を行って固着させることで、Gのカラーフィルタを形成する。最後に、B,Gのカラーフィルタ及び平坦面上に、例えばR(赤色)のカラーフィルタ材料である着色レジストを塗布し、露光及び現像処理を行ってパターニングした後、熱処理又は紫外線照射を行って固着させることで、Rのカラーフィルタを形成する。
ところで、このような固体撮像素子においては、カラーフィルタの形成に、着色レジストを用いているが、これは着色のために顔料を用いており、顔料を用いた場合、顔料成分の粒による感度減少が懸念され、微細化により、カラーフィルタ材料をパターニングする際、前述した方法では、十分なパターニング精度を得ることができなくなってきている。
一方染料を用いた着色レジストでは染料の経時変化により、退色し、フィルタリング性能の低下や感度劣化の原因となる。
一方染料を用いた着色レジストでは染料の経時変化により、退色し、フィルタリング性能の低下や感度劣化の原因となる。
またこのようにカラーフィルタの材料に有機系材料であるレジストを使用することにより、パッド開口部への有機物の残留に起因するコンタクト不良の発生を免れ得ないことがあった。
さらにまた、レジストなどの有機膜を用いたカラーフィルタの上層では有機物除去が困難であり、レンズの形成工程などにおいて、レジスト除去に際し、カラーフィルタが劣化してしまうという問題があり、CF4プラズマなどを用いたアッシングを適用することができないという問題もあった。ここでもパッド開口部へのレジストの残留によるコンタクト不良の発生を免れ得ない。
さらにまた、レジストなどの有機膜を用いたカラーフィルタの上層では有機物除去が困難であり、レンズの形成工程などにおいて、レジスト除去に際し、カラーフィルタが劣化してしまうという問題があり、CF4プラズマなどを用いたアッシングを適用することができないという問題もあった。ここでもパッド開口部へのレジストの残留によるコンタクト不良の発生を免れ得ない。
また、十分なパターン精度を得ることができなくなる結果、通常、先に形成される青色(B)のカラーフィルタのパターン上部に、この青色のカラーフィルタのパターンの隣に形成すべき緑色(G)や赤色(R)のカラーフィルタ材料のパターンの一部が重なってしまうことがある。この状態のまま緑色Gや赤色Rのカラーフィルタ材料を形成すると、後から形成した緑色Gや赤色Rのカラーフィルタの一部が、隣接する青色Bのカラーフィルタの上部に残留し、これが混色や、カラーフィルタの薄型化を阻害する要因となる。
また、各色のカラーフィルタ層を形成するための着色レジストの現像工程はウェットプロセスであるため、パターンエッジを急峻に形成するのは困難であり、テーパ断面となりやすく、これも光の回り込みによる混色の原因となりやすい。また、現像後、表面を純水洗浄し、リンス工程を経て各色のカラーフィルタ層のパターン形成がなされるが、このとき現像工程で除去された液中の着色レジストが再付着しやすいという問題もあった。
さらにまた、カラーフィルタの上層にレンズ層が形成されるが、レンズによる集光効率を高めるために、高度のパターン精度が必要とされる。このため、カラーフィルタ層の上層は平坦度が要求されていた。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、経時的変化を抑制すると共に高精度のパターン形成を可能にし、混色を防ぎかつ薄型化を実現することのできるカラーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
また、薄型化をはかり、高度の微細化に際しても高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供することを目的とする。
また、薄型化をはかり、高度の微細化に際しても高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供することを目的とする。
本発明は、酸化シリコン層などの無機材料を主とするカラーフィルタ母材層に、イオン注入により金属イオンを注入し、カラーフィルタを形成するようにしたことを特徴とするもので、基本的には母材層のパターニングは不要であり、各領域に選択的に所望の色の発色を行うような金属イオンを注入している。
すなわち、本発明は、カラーフィルタ母材層を形成する工程と、前記カラーフィルタ母材層内に金属イオンを注入して着色する工程とを含むことを特徴とする。
この構成により、少なくとも素子部上では、カラーフィルタ母材層自体をエッチングするなど、パターニングする必要がなく、イオン注入領域のみレジストパターンに開口を形成することにより形成可能である。従ってイオン注入のマスク精度のみで精度が決まることになり、高精度の色分離が可能となる。また、複数回にわたるパターニングをすることもなく、母材層自体は単層で形成できるため、平坦性の高いカラーフィルタ層を得ることができる。また、レジストを剥離する際にも、無機材料を主成分とするカラーフィルタ母材層を用いているため、アッシングにより、剥離可能であり、有機物の残渣を生じることなく清浄な表面を得ることが可能となる。特にコンタクトパッド領域も汚染を生じることなく形成可能である。また、この構成によれば、感光基を含有する必要がないため、着色基の含有率をあげることができるため、全体としての膜厚を低減することができ、微細化に際しても光量の損失を低減し、高感度の素子を形成することが可能となる。
この構成により、少なくとも素子部上では、カラーフィルタ母材層自体をエッチングするなど、パターニングする必要がなく、イオン注入領域のみレジストパターンに開口を形成することにより形成可能である。従ってイオン注入のマスク精度のみで精度が決まることになり、高精度の色分離が可能となる。また、複数回にわたるパターニングをすることもなく、母材層自体は単層で形成できるため、平坦性の高いカラーフィルタ層を得ることができる。また、レジストを剥離する際にも、無機材料を主成分とするカラーフィルタ母材層を用いているため、アッシングにより、剥離可能であり、有機物の残渣を生じることなく清浄な表面を得ることが可能となる。特にコンタクトパッド領域も汚染を生じることなく形成可能である。また、この構成によれば、感光基を含有する必要がないため、着色基の含有率をあげることができるため、全体としての膜厚を低減することができ、微細化に際しても光量の損失を低減し、高感度の素子を形成することが可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、無機材料膜を成膜する工程を含む。
この構成により、経時的変化に強く信頼性の高いカラーフィルタを得ることが可能となる。
この構成により、経時的変化に強く信頼性の高いカラーフィルタを得ることが可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、ガラス層を形成する工程を含む。
この構成により、機械的強度の高いカラーフィルタの形成が可能となる。
この構成により、機械的強度の高いカラーフィルタの形成が可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、酸化シリコン膜を成膜する工程を含む。
この構成により、通常の成膜プロセスで平坦かつ信頼性の高いカラーフィルタ母材層を形成することが可能となる。
この構成により、通常の成膜プロセスで平坦かつ信頼性の高いカラーフィルタ母材層を形成することが可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程が、レンズ形状となるように前記カラーフィルタ母材を形状加工する工程を含む。
この構成により、容易にレンズ形状を形成でき、このレンズ形状を持つカラーフィルタ母材に対し金属イオンを注入することにより、容易に形成可能である。
この構成により、容易にレンズ形状を形成でき、このレンズ形状を持つカラーフィルタ母材に対し金属イオンを注入することにより、容易に形成可能である。
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法において、画素を構成する複数の光電変換領域のそれぞれに対向するように配置され、前記光電変換領域に入射する光を画素毎に色分離するためのカラーフィルタを製造するにあたり、前記着色する工程は、前記複数の光電変換領域のうち第1の領域に第1の色を生成するための第1の金属イオンを注入する第1の着色工程と、前記複数の光電変換領域のうち第2の領域に第2の色を生成するための第2の金属イオンを注入する第2の着色工程とを含む。
この構成により、混色がなく高精度の色分離のなされたカラーフィルタを容易に形成することが可能となる。
この構成により、混色がなく高精度の色分離のなされたカラーフィルタを容易に形成することが可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法において、前記第1および第2の金属イオンは、コバルト、クロム、金、銅から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含む。
この構成により、容易に所望の色のカラーフィルタを形成することが可能となる。
この構成により、容易に所望の色のカラーフィルタを形成することが可能となる。
また、本発明のカラーフィルタは、無機材料からなるカラーフィルタ母材層と、前記カラーフィルタ母材層内に注入された金属イオンとを含み、所望の波長の光を選択的に透過せしめるように構成される。
この構成によれば、カラーフィルタ母材層が無機材料で構成されているため、機械的強度も高く、経時的変化の少ないカラーフィルタを提供することが可能となる。
この構成によれば、カラーフィルタ母材層が無機材料で構成されているため、機械的強度も高く、経時的変化の少ないカラーフィルタを提供することが可能となる。
また、本発明のカラーフィルタは、前記カラーフィルタ母材層は、ガラス層であるものを含む。
この構成により、組成の調整が容易であり、信頼性の高いカラーフィルタを形成することが可能となる。
この構成により、組成の調整が容易であり、信頼性の高いカラーフィルタを形成することが可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタにおいて、前記カラーフィルタ母材層は、酸化シリコン層であるものを含む。
また、本発明は、画素を構成する複数の光電変換領域のそれぞれに対向するように配置され、前記光電変換領域に入射する光を画素毎に色分離するためのカラーフィルタにおいて、前記カラーフィルタ母材層は、第1および第2の領域に分割され、各領域に、それぞれ第1の金属イオン、または第2の金属イオンが注入され、それぞれ異なる波長の光を選択的に透過せしめるように構成されたものを含む。
この構成により、高精度に色分離のなされたカラーフィルタを形成することが可能となる。
この構成により、高精度に色分離のなされたカラーフィルタを形成することが可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタにおいて、前記第1および第2の金属イオンは、コバルト、クロム、金、銅から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含む。
この構成により、所望の色のカラーフィルタの形成が可能となる。
この構成により、所望の色のカラーフィルタの形成が可能となる。
また、本発明は、上記カラーフィルタの製造方法で得られたカラーフィルタを、画素を構成する複数の光電変換領域を備えた光電変換部と、前記光電変換部で生起せしめられた電荷を転送する電荷転送電極を備えた電荷転送部と、前記電荷転送部に接続される配線層を含む周辺回路部とを形成した基体表面に、前記各光電変換領域に、前記カラーフィルタの第1または第2の領域が対応するように位置あわせして、固定する工程を含む。
この構成により、カラーフィルタを形成し、固体撮像素子に貼着するようにしているため、固体撮像素子の素子部に損傷を与えることなく、信頼性の高い固体撮像素子を形成することが可能となる。
この構成により、カラーフィルタを形成し、固体撮像素子に貼着するようにしているため、固体撮像素子の素子部に損傷を与えることなく、信頼性の高い固体撮像素子を形成することが可能となる。
また、本発明の固体撮像素子の製造方法は、上記カラーフィルタにおいて、基体が表面に、画素を構成する複数の光電変換領域を備えた光電変換部と、前記光電変換部で生起せしめられた電荷を転送する電荷転送電極を備えた電荷転送部と、前記電荷転送部に接続される配線層を含む周辺回路部とを形成する工程と、前記基体表面の前記各光電変換領域に、対応するようにカラーフィルタ母材層を形成する工程と、前記カラーフィルタ母材層に金属イオンを注入して着色する工程とを含む。
この構成により、容易に高精度のカラーフィルタを形成することが可能となる。
この構成により、容易に高精度のカラーフィルタを形成することが可能となる。
また、本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、無機材料膜を成膜する工程を含むものを含む。
この構成により、機械的強度が高く、熱に強いカラーフィルタを形成することが可能となる。
この構成により、機械的強度が高く、熱に強いカラーフィルタを形成することが可能となる。
また、本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、ガラス層を形成する工程を含むものを含む。
また、本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、酸化シリコン膜を成膜する工程を含むものを含む。
この構成により、成膜が容易で制御性も良好であり、平坦で信頼性の高いカラーフィルタを形成することが可能となる。
この構成により、成膜が容易で制御性も良好であり、平坦で信頼性の高いカラーフィルタを形成することが可能となる。
また、本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記カラーフィルタ母材層を形成する工程が、レンズ形状となるように前記カラーフィルタ母材を形状加工する工程を含むものを含む。
この構成により、レンズ形状のカラーフィルタを制御性よく形成することが可能となる。
この構成により、レンズ形状のカラーフィルタを制御性よく形成することが可能となる。
また、本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記着色する工程は、第1の領域に選択的に開口を持つ第1のレジストパターンを介して第1の領域に第1の色を生成するための第1の金属イオンを注入する第1の着色工程と、第2の領域に選択的に開口を持つ第2のレジストパターンを介して第2の領域に第2の色を生成するための第2の金属イオンを注入する第2の着色工程とを含む。
この構成により、レジストパターンをマスクとして、金属イオンを注入するだけで極めて容易に着色することが可能となる。
この構成により、レジストパターンをマスクとして、金属イオンを注入するだけで極めて容易に着色することが可能となる。
また、本発明は、上記固体撮像素子の製造方法において、前記第1および第2の金属イオンは、コバルト、クロム、金、銅から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含む。
また、本発明は、上記固体撮像素子の製造方法で形成された固体撮像素子であって、前記第1および第2の領域は、色毎に互いに異なる面積を持つように構成されたものを含む。
この構成により、色による光学特性のばらつきを面積制御による補正がきわめて容易に実現可能となる。
この構成により、色による光学特性のばらつきを面積制御による補正がきわめて容易に実現可能となる。
本発明によれば、金属イオンの注入により各色のカラーフィルタを形成することができるため、各色のカラーフィルタのパターンエッジを垂直(急峻)にすることができ、パターン精度の向上をはかることができ、混色の抑制をはかることができる。さらにまたカラーフィルタ層の薄膜化による感度の向上を図ることができる。また、無機材料を主成分とするカラーフィルタ母材を用いているため、機械的強度も高く安定で信頼性の高いカラーフィルタを形成することが可能となる。
また、カラーフィルタの混色を防ぐとともに薄型化を実現することができ、薄型でかつ高感度の固体撮像素子を提供することができる。
また、カラーフィルタの混色を防ぐとともに薄型化を実現することができ、薄型でかつ高感度の固体撮像素子を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。
本実施の形態で説明するカラーフィルタの形成方法は、例えば固体撮像素子の製造に用いられるものである。
本実施の形態で説明するカラーフィルタの形成方法は、例えば固体撮像素子の製造に用いられるものである。
(実施の形態1)
図1は、本発明の実施の形態1のカラーフィルタを示す構造説明図、図2は、本発明の実施の形態1のカラーフィルタを搭載した固体撮像素子の断面図、図3は平面模式図である。図2は、図3のA−A線断面模式図を示す。
本実施の形態では、図1に示すように、カラーフィルタを、CVD法によって形成した酸化シリコン膜(50)内に金属イオンMをイオン注入することによって、カラーフィルタ50を形成したことを特徴とするものである。ここでは赤色のカラーフィルタ層50Rには銅イオンをイオン注入し、緑色のカラーフィルタ層50Gにはクロムイオンをイオン注入し、青色のカラーフィルタ層50Bにはコバルトイオンをイオン注入して構成する。そしてここでは各色の間の領域には、イオン注入をしないでそのまま残し、分離領域50Tを構成するようにしている。この方法を図8に模式的に示す。本実施の形態ではレジストパターンをマスクとして、各色のイオンをイオン注入することによりカラーフィルタ母材層を着色することによってカラーフィルタを形成する。
図1は、本発明の実施の形態1のカラーフィルタを示す構造説明図、図2は、本発明の実施の形態1のカラーフィルタを搭載した固体撮像素子の断面図、図3は平面模式図である。図2は、図3のA−A線断面模式図を示す。
本実施の形態では、図1に示すように、カラーフィルタを、CVD法によって形成した酸化シリコン膜(50)内に金属イオンMをイオン注入することによって、カラーフィルタ50を形成したことを特徴とするものである。ここでは赤色のカラーフィルタ層50Rには銅イオンをイオン注入し、緑色のカラーフィルタ層50Gにはクロムイオンをイオン注入し、青色のカラーフィルタ層50Bにはコバルトイオンをイオン注入して構成する。そしてここでは各色の間の領域には、イオン注入をしないでそのまま残し、分離領域50Tを構成するようにしている。この方法を図8に模式的に示す。本実施の形態ではレジストパターンをマスクとして、各色のイオンをイオン注入することによりカラーフィルタ母材層を着色することによってカラーフィルタを形成する。
すなわち、この固体撮像素子は、図2に示すように、フォトダイオード30の上方には、カラーフィルタ50が、それぞれ金属イオンの注入によって各色のカラーフィルタを構成するように形成された酸化シリコン膜で構成されている。このカラーフィルタは、各フォトダイオード30それぞれに対応するように赤色のカラーフィルタ50R(図示せず)と、緑色のカラーフィルタ50Gと、青色のカラーフィルタ50Bとが、フィルタ下平坦化膜11上に一体的にかつ表面が平坦面を構成するように形成された酸化シリコン膜で構成されている。図2では、各フォトダイオード30に対し、その上方に形成される各色カラーフィルタを示す符号(R,G,B)を付した。
カラーフィルタ層以外の領域については通例の構造をなすものであるが、カラーフィルタの形成方法の説明に先立ち、まず、固体撮像素子について説明する。ここで用いられる固体撮像素子においては、n型のシリコン基板1表面部に光電変換部であるフォトダイオード30が配列形成され、各フォトダイオード30で発生した信号電荷を列方向(図2中のY方向)に転送するための電荷転送部40が、列方向に配設された複数のフォトダイオード30からなる複数のフォトダイオード列の間を蛇行して形成される。そして、奇数列のフォトダイオード列が、偶数列のフォトダイオード列に対して、列方向に配列されるフォトダイオード30の配列ピッチの略1/2列方向にずれるように形成されている。
電荷転送部40は、複数のフォトダイオード列の各々に対応してシリコン基板1表面部の列方向に形成された複数本の電荷転送チャネル33と、電荷転送チャネル33の上層に形成された電荷転送電極3(第1層電極3a、第2層電極3b)と、フォトダイオード30で発生した電荷を電荷転送チャネル33に読み出すための電荷読み出し領域34とを含む。電荷転送電極3は、行方向に配設された複数のフォトダイオード30からなる複数のフォトダイオード行の間を全体として行方向(図3中のX方向)に延在する蛇行形状となっている。ここで電荷転送電極3は第1層電極上に電極間絶縁膜を介して第2層電極を形成しCMPにより平坦化して単層電極構造としたものであるが、単層電極構造に限らず、第1層電極の一部を第2層電極が覆うように形成した二層電極構造であっても良い。
図2に示すように、シリコン基板1の表面にはpウェル層1Pが形成され、pウェル層1P内に、pn接合を形成するn領域30bが形成されると共に表面にp領域30aが形成され、フォトダイオード30を構成しており、このフォトダイオード30で発生した信号電荷は、n領域30bに蓄積される。
そしてこのフォトダイオード30には、少し離間してn領域からなる電荷転送チャネル33が形成される。n領域30bと電荷転送チャネル33の間のpウェル層1Pに電荷読み出し領域34が形成される。
シリコン基板1表面にはゲート酸化膜2が形成され、電荷読み出し領域34と電荷転送チャネル33の上には、ゲート酸化膜2を介して、第1の電極3aと第2の電極3bが形成される。第1の電極3aと第2の電極3bの間は電極間絶縁膜5が形成されている。垂直転送チャネル33に隣接してp+領域からなるチャネルストップ32が設けられ、隣接するフォトダイオード30との分離がなされている。
電荷転送電極3の上層には酸化シリコン膜などの絶縁膜6、反射防止層7が形成され、更にその上に遮光膜8、BPSG(borophospho silicate glass)からなる絶縁膜9、P−SiNからなる絶縁膜(パッシベーション膜)10、酸化シリコン膜からなるフィルタ下平坦化膜11が形成されている。遮光膜8は、フォトダイオード30の開口部分を除いて設けられる。そしてカラーフィルタ50の上層には、絶縁性の透明樹脂等からなるフィルタ上平坦化膜61とマイクロレンズ60が設けられる。
本実施の形態の固体撮像素子は、フォトダイオード30で発生した信号電荷がn領域30bに蓄積され、ここに蓄積された信号電荷が、電荷転送チャネル33によって列方向に転送され、転送された信号電荷が図示しない水平電荷転送路(HCCD)によって行方向に転送され、転送された信号電荷に応じた色信号が図示しないアンプから出力されるように構成されている。すなわちシリコン基板1上に、光電変換部、電荷転送部、HCCD、及びアンプを含む領域である固体撮像素子部と、固体撮像素子の周辺回路(PAD部等)が形成される領域である周辺回路部とが形成されて固体撮像素子を構成している。
次に上述した固体撮像素子の製造工程を説明する。
まず、カラーフィルタ形成前までの製造工程について説明する。
n型のシリコン基板1表面に、不純物を導入し、pウェル層1P、電荷転送チャネル33、電荷読み出し領域34、チャネルストップ層32などを形成した後、ゲート酸化膜2を成膜する。続いて、このゲート酸化膜2上に、第1層電極3aを構成する第1導電性膜を成膜し、パターニングを行って第1層電極3a及び周辺回路の配線を形成する。次に、第1層電極3aの周囲に酸化シリコン膜からなる絶縁膜5を成膜し、その上に第2層電極3bを構成する第2導電性膜を成膜する。次に、CMPにより第2導電性膜3bの平坦化を行い、パターニングし、第2層電極3bを形成する。次に、これら電荷転送電極3を覆うように絶縁膜6を成膜した後、フォトダイオード領域のn領域30bおよびp領域30aを形成するとともに、反射防止膜を形成し、さらにフォトダイオード領域の受光領域に開口するようにタングステン膜などにより遮光膜8を形成する。次に、絶縁膜9を成膜し、これを高温リフローにより平坦化を行う。
まず、カラーフィルタ形成前までの製造工程について説明する。
n型のシリコン基板1表面に、不純物を導入し、pウェル層1P、電荷転送チャネル33、電荷読み出し領域34、チャネルストップ層32などを形成した後、ゲート酸化膜2を成膜する。続いて、このゲート酸化膜2上に、第1層電極3aを構成する第1導電性膜を成膜し、パターニングを行って第1層電極3a及び周辺回路の配線を形成する。次に、第1層電極3aの周囲に酸化シリコン膜からなる絶縁膜5を成膜し、その上に第2層電極3bを構成する第2導電性膜を成膜する。次に、CMPにより第2導電性膜3bの平坦化を行い、パターニングし、第2層電極3bを形成する。次に、これら電荷転送電極3を覆うように絶縁膜6を成膜した後、フォトダイオード領域のn領域30bおよびp領域30aを形成するとともに、反射防止膜を形成し、さらにフォトダイオード領域の受光領域に開口するようにタングステン膜などにより遮光膜8を形成する。次に、絶縁膜9を成膜し、これを高温リフローにより平坦化を行う。
次に、この絶縁膜9の周辺回路上部にコンタクトホールを形成した後、アルミニウムなどの金属膜を成膜し、パターニングしてボンディングパッド(図示せず)を形成する。そして、CVD法により窒化シリコン膜からなるパッシベーション膜10を成膜し、ボンディングパッド上のパッシベーション膜を選択的にエッチング除去して開口を形成し、ボンディングパッドを露出させる。この後、H2を含む不活性ガス雰囲気内でシンタリングを行った後、スピンコート又はスキャンコート法により、膜厚0.5〜2.0μmの平坦化膜11を成膜する。ここでは他の平坦化膜との混同を避けるために、この平坦化膜をフィルタ下平坦化膜11と指称する。ここまでの製造工程は、通例の方法である。このフィルタ下平坦化膜11としては、可視光に対して透明なレジスト材料(例えば、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製Cシリーズ)を用いる。ただし、カラーフィルタ層のフィルタ母材層の成膜工程が高温となる場合は、フィルタ下平坦化膜は有機膜ではなく酸化シリコン膜などの無機膜であってもよい。また、下層の凹凸が少ない場合にはフィルタ下平坦化膜はなくてもよい。
次に、カラーフィルタの製造工程について図面を参照して詳細に説明する。
図4において(a)はカラーフィルタの断面図、(b)は平面図であり、図4(a)は図4(b)のB−B断面図である。なお、ここでは、図の簡略化のために、図2および図3に示したハニカム構造の固体撮像素子ではなく、一般的な正方配列画素におけるカラーフィルタの形成方法について説明する。図5乃至図7は、本実施の形態のカラーフィルタの各製造工程を示す図である。又、各図において、赤色のカラーフィルタ50Rには“R”、緑色のカラーフィルタ50Gには“G”、青色のカラーフィルタ50Bには“B”の文字を付した。尚、本実施の形態における“B”は、第1の色に該当し、“R”と“G”は、第2の色および第3の色に該当するものとする。各平面図においてパッシベーション膜10以下の層は省略するものとする。
図4において(a)はカラーフィルタの断面図、(b)は平面図であり、図4(a)は図4(b)のB−B断面図である。なお、ここでは、図の簡略化のために、図2および図3に示したハニカム構造の固体撮像素子ではなく、一般的な正方配列画素におけるカラーフィルタの形成方法について説明する。図5乃至図7は、本実施の形態のカラーフィルタの各製造工程を示す図である。又、各図において、赤色のカラーフィルタ50Rには“R”、緑色のカラーフィルタ50Gには“G”、青色のカラーフィルタ50Bには“B”の文字を付した。尚、本実施の形態における“B”は、第1の色に該当し、“R”と“G”は、第2の色および第3の色に該当するものとする。各平面図においてパッシベーション膜10以下の層は省略するものとする。
まず、図5(a)に示すように、パッシベーション膜10上に、フィルタ下平坦化膜11を形成した後、図5(b)に示すように、カラーフィルタ母材層となる酸化シリコン膜50を膜厚0.5〜2.0μmとなるように成膜する。
この後、図5(c)に示すように、青色のカラーフィルタパターンを形成するためのレジストパターンR1をフォトリソグラフィにより形成する。
この後、図6(a)に示すように、このレジストパターンR1をマスクとして、コバルトイオンをイオン注入し、青色に着色し青色カラーフィルタ層50Bを形成する。
そして、図6(b)に示すように、このレジストパターンR1を除去し、続いて、図6(c)に示すように、緑色のカラーフィルタパターンを形成するためのレジストパターンR2をフォトリソグラフィにより形成し、このレジストパターンR2をマスクとしてクロムイオンをイオン注入し、緑色に着色し緑色カラーフィルタ層50Gを形成する。
そして、図6(d)に示すように、このレジストパターンR2を除去する。
そして、図6(b)に示すように、このレジストパターンR1を除去し、続いて、図6(c)に示すように、緑色のカラーフィルタパターンを形成するためのレジストパターンR2をフォトリソグラフィにより形成し、このレジストパターンR2をマスクとしてクロムイオンをイオン注入し、緑色に着色し緑色カラーフィルタ層50Gを形成する。
そして、図6(d)に示すように、このレジストパターンR2を除去する。
この後、図7(a)に示すように、赤色のカラーフィルタパターンを形成するためのレジストパターンR3をフォトリソグラフィにより形成する。
この後このレジストパターンR3をマスクとして、銅イオンをイオン注入し、赤色に着色し赤色カラーフィルタ層50Rを形成する。
この後このレジストパターンR3をマスクとして、銅イオンをイオン注入し、赤色に着色し赤色カラーフィルタ層50Rを形成する。
そして、図7(b)に示すように、このレジストパターンR3を除去し、図4に示したようなカラーフィルタ層が形成される。ここで金属イオンの注入によって形成した各色のカラーフィルタ層の間の領域は色分離領域50Tとして着色されることなく透明のまま残っている。
そして、このカラーフィルタの上に、可視光に対して透明なレジスト材料(例えば富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製Cシリーズ)を0.5〜2.0μmの膜厚となるように塗布し、平坦化膜61を形成する。その後、この平坦化膜61の上に、マイクロレンズ60をエッチング法又はメルト法等によって形成することで、図2に示すような固体撮像素子が形成される。
このように、本実施の形態のカラーフィルタの製造方法によれば、フォトリソグラフィにより形成したレジストパターンをマスクとし、カラーフィルタ母材層としての酸化シリコン膜50に各色に着色するための金属イオンをイオン注入することにより、平坦な状態のままカラーフィルタ層を形成することができる。
イオン注入により各色に着色するため、パターンエッジの垂直なカラーフィルタパターンを得ることができる。また感光基を用いることなく着色基などフィルタ成分として必要な材料のみで構成することができ、高精度のパターン形成が可能である。又、カラーフィルタのフィルタ下平坦化膜11表面からの高さを従来よりも低くすることができるため、固体撮像素子の薄型化が可能となる。この結果、斜め入射光に対するマージンが広がり、高感度の固体撮像素子を製造することが可能となる。また、混色の発生を防ぐことができる。
イオン注入により各色に着色するため、パターンエッジの垂直なカラーフィルタパターンを得ることができる。また感光基を用いることなく着色基などフィルタ成分として必要な材料のみで構成することができ、高精度のパターン形成が可能である。又、カラーフィルタのフィルタ下平坦化膜11表面からの高さを従来よりも低くすることができるため、固体撮像素子の薄型化が可能となる。この結果、斜め入射光に対するマージンが広がり、高感度の固体撮像素子を製造することが可能となる。また、混色の発生を防ぐことができる。
又、カラーフィルタ材料として、顔料分散型のカラーフィルタ材料を用いた場合には、カラーフィルタ材料のパターンを形成後、水洗時に残渣が発生し、これが他の色のカラーフィルタ上に付着して、光学特性、特に画質を劣化させる要因となってしまうが、本実施の形態によれば、顔料を使用することなしに金属イオンの注入処理によって形成されるため、上記残渣が付着することもないため、画質劣化を防ぐことができる。
又、本実施の形態の方法で得られたカラーフィルタは、隣接するカラーフィルタ同士の境界が急峻な垂直断面を持ち、かつその表面はほぼ平坦化されているため、上述した平坦化膜61を形成せずに、カラーフィルタ表面にマイクロレンズ60を直接形成することも可能である。この構成によれば、固体撮像素子を更に薄くすることができると共に、製造工程を1工程減らすことができ、高感度の固体撮像素子を低コストで製造することが可能となる。
又、本実施の形態では、カラーフィルタ母材層として酸化シリコン膜を用いたが酸化シリコン膜に限定されることなく、SOG膜など他の無機膜を用いてもよい。また、有機系膜であってもよい。
又、本実施の形態では、フォトダイオードがハニカム状に配設された構成の固体撮像素子について説明したが、これに限定されることなく、複数のフォトダイオードが正方格子状に配設された構成の固体撮像素子にも本発明を適用可能である。
又、本実施の形態では、RGBの原色系のカラーフィルタを例にしたが、シアン、マゼンタ、イエローの補色系のカラーフィルタであっても本発明を適用可能である。
(実施の形態2)
前記実施の形態1では各色のカラーフィルタ層の間の領域は透明のまま色分離領域50Tとして残したが、本実施の形態では、図9に示すように、各色のカラーフィルタの間の領域では黒い枠領域50Sが形成されていることを特徴とする。すなわち、透明の色分離領域50Tに代えて、銅、コバルト、クロムの全イオンをイオン注入するように、各色のイオン注入工程においてレジストパターンの開口を隣接領域まであけるように広くし、この各色のカラーフィルタの間の領域では3色のカラーフィルタの完成と同時に黒い枠領域50Sを形成するようにするものである。他は前記実施の形態1と同様に形成される。
前記実施の形態1では各色のカラーフィルタ層の間の領域は透明のまま色分離領域50Tとして残したが、本実施の形態では、図9に示すように、各色のカラーフィルタの間の領域では黒い枠領域50Sが形成されていることを特徴とする。すなわち、透明の色分離領域50Tに代えて、銅、コバルト、クロムの全イオンをイオン注入するように、各色のイオン注入工程においてレジストパターンの開口を隣接領域まであけるように広くし、この各色のカラーフィルタの間の領域では3色のカラーフィルタの完成と同時に黒い枠領域50Sを形成するようにするものである。他は前記実施の形態1と同様に形成される。
(実施の形態3)
前記実施の形態1、2では各色のカラーフィルタ層の間の領域は色分離領域50T、あるいは枠領域50Sとして残したが、本実施の形態では、図10に示すように、各色のカラーフィルタが隣接して形成されているものとする。
他は前記実施の形態1と同様に形成される。
前記実施の形態1、2では各色のカラーフィルタ層の間の領域は色分離領域50T、あるいは枠領域50Sとして残したが、本実施の形態では、図10に示すように、各色のカラーフィルタが隣接して形成されているものとする。
他は前記実施の形態1と同様に形成される。
このようにして実施の形態1と同様に、青赤緑に高精度に区分され、パターンエッジが基板表面に対して垂直に形成されたカラーフィルタが形成される。
なお前記実施の形態では、固体撮像素子の形成されたシリコン基板上に酸化シリコン膜を成膜し、金属イオンを注入することによって着色してカラーフィルタを形成したが、基体上に金属イオンを注入してカラーフィルタを形成した後、固体撮像素子に貼着するようにしてもよい。
本発明のカラーフィルタの形成方法は、パターンエッジが基板表面に対して垂直に形成された薄型のカラーフィルタ層を形成することができることから、より薄型化が可能であり、携帯などの電子機器における固体撮像素子として有用である。
1 n型シリコン基板
2 ゲート酸化膜
3a 第1の電極
3b 第2の電極
5 電極間絶縁膜
6 絶縁膜
7 反射防止層
8 遮光膜
9 絶縁(BPSG)膜
10 パッシベーション膜
11 平坦化膜
50B,50R,50G カラーフィルタ
50T 色分離領域
60 マイクロレンズ
61 平坦化膜
2 ゲート酸化膜
3a 第1の電極
3b 第2の電極
5 電極間絶縁膜
6 絶縁膜
7 反射防止層
8 遮光膜
9 絶縁(BPSG)膜
10 パッシベーション膜
11 平坦化膜
50B,50R,50G カラーフィルタ
50T 色分離領域
60 マイクロレンズ
61 平坦化膜
Claims (21)
- カラーフィルタ母材層を形成する工程と、
前記カラーフィルタ母材層内に金属イオンを注入して着色する工程とを含むカラーフィルタの製造方法。 - 請求項1に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、無機材料膜を成膜する工程であるカラーフィルタの製造方法。 - 請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、ガラス層を形成する工程であるカラーフィルタの製造方法。 - 請求項2に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、酸化シリコン膜を成膜する工程であるカラーフィルタの製造方法。 - 請求項1乃至4のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程が、
レンズ形状となるように前記カラーフィルタ母材を形状加工する工程を含むカラーフィルタの製造方法。 - 請求項1乃至5のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法であって、
画素を構成する複数の光電変換領域のそれぞれに対向するように配置され、前記光電変換領域に入射する光を画素毎に色分離するためのカラーフィルタを製造するにあたり、
前記着色する工程は、
前記複数の光電変換領域のうち第1の領域に第1の色を生成するための第1の金属イオンを注入する第1の着色工程と、
前記複数の光電変換領域のうち第2の領域に第2の色を生成するための第2の金属イオンを注入する第2の着色工程とを含むカラーフィルタの製造方法。 - 請求項6に記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記第1および第2の金属イオンは、コバルト、クロム、金、銅から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含むカラーフィルタの製造方法。 - 無機材料からなるカラーフィルタ母材層と、
前記カラーフィルタ母材層内に注入された金属イオンとを含み、
所望の波長の光を選択的に透過せしめるように構成されたカラーフィルタ。 - 請求項8に記載のカラーフィルタであって、
前記カラーフィルタ母材層は、ガラス層であるカラーフィルタ。 - 請求項8に記載のカラーフィルタであって、
前記カラーフィルタ母材層は、酸化シリコン層であるカラーフィルタ。 - 請求項8乃至10のいずれかに記載のカラーフィルタであって、
画素を構成する複数の光電変換領域のそれぞれに対向するように配置され、前記光電変換領域に入射する光を画素毎に色分離するためのカラーフィルタにおいて、
前記カラーフィルタ母材層は、第1および第2の領域に分割され、各領域に、それぞれ第1の金属イオン、または第2の金属イオンが注入され、それぞれ異なる波長の光を選択的に透過せしめるように構成されたカラーフィルタ。 - 請求項11に記載のカラーフィルタであって、
前記第1および第2の金属イオンは、コバルト、クロム、金、銅から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含むカラーフィルタ。 - 請求項1乃至7のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法で得られたカラーフィルタを、
画素を構成する複数の光電変換領域を備えた光電変換部と、前記光電変換部で生起せしめられた電荷を転送する電荷転送電極を備えた電荷転送部と、前記電荷転送部に接続される配線層を含む周辺回路部とを形成した基体表面に、
前記各光電変換領域に、前記カラーフィルタの第1または第2の領域が対応するように位置あわせして、固定する工程を含む固体撮像素子の製造方法。 - 基体が表面に、画素を構成する複数の光電変換領域を備えた光電変換部と、前記光電変換部で生起せしめられた電荷を転送する電荷転送電極を備えた電荷転送部と、前記電荷転送部に接続される配線層を含む周辺回路部とを形成する工程と、
前記基体表面の前記各光電変換領域に、対応するようにカラーフィルタ母材層を形成する工程と、
前記カラーフィルタ母材層に金属イオンを注入して着色する工程とを含む固体撮像素子の製造方法。 - 請求項14に記載の固体撮像素子の製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、無機材料膜を成膜する工程を含む固体撮像素子の製造方法。 - 請求項15に記載の固体撮像素子の製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、ガラス層を形成する工程を含む固体撮像素子の製造方法。 - 請求項15に記載の固体撮像素子の製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程は、酸化シリコン膜を成膜する工程を含む固体撮像素子の製造方法。 - 請求項14乃至17のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記カラーフィルタ母材層を形成する工程が、
レンズ形状となるように前記カラーフィルタ母材を形状加工する工程を含むカラーフィルタの製造方法。 - 請求項14乃至18のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法であって、
前記着色する工程は、
第1の領域に選択的に開口を持つ第1のレジストパターンを介して第1の領域に第1の色を生成するための第1の金属イオンを注入する第1の着色工程と、
第2の領域に選択的に開口を持つ第2のレジストパターンを介して第2の領域に第2の色を生成するための第2の金属イオンを注入する第2の着色工程とを含むカラーフィルタの製造方法。 - 請求項19に記載の固体撮像素子の製造方法であって、
前記第1および第2の金属イオンは、コバルト、クロム、金、銅から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含む固体撮像素子の製造方法。 - 請求項14乃至20のいずれかに記載の固体撮像素子の製造方法で形成された固体撮像素子であって、
前記第1および第2の領域は、色毎に互いに異なる面積を持つように構成された固体撮像素子。
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-
2006
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