JP2007199380A - Blanks holding case - Google Patents
Blanks holding case Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007199380A JP2007199380A JP2006017714A JP2006017714A JP2007199380A JP 2007199380 A JP2007199380 A JP 2007199380A JP 2006017714 A JP2006017714 A JP 2006017714A JP 2006017714 A JP2006017714 A JP 2006017714A JP 2007199380 A JP2007199380 A JP 2007199380A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blanks
- mask
- lid
- blank
- storage case
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 61
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 22
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 19
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 12
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 12
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 17
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 17
- 230000003068 static effect Effects 0.000 abstract description 13
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Packaging Frangible Articles (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
本発明は、半導体集積回路や液晶表示装置などの製造に使用されるフォトマスクの製造に用いられるマスクブランクスを搬送する際に用いられるブランクス収納ケースに関するものである。 The present invention relates to a blank storage case used for transporting a mask blank used for manufacturing a photomask used for manufacturing a semiconductor integrated circuit or a liquid crystal display device.
半導体集積回路や液晶表示装置等を製造する際、フォトリソグラフィ技術を用いて薄膜をパターニングする工程では、透光性基板に遮光性膜などからなる転写パターンが形成された転写マスクが用いられる。このような転写マスクを製造するには、まず、透光性基板の全面に遮光性膜を形成した後、遮光性膜の表面全体にレジスト層を積層する。次に、レジスト層に対して選択的露光、ベーク処理、現像処理を行い、レジストパターンを形成した後、レジストパターンをマスクとして遮光性膜をパターニングし、透光性基板の表面に転写パターンを備えた転写マスクを製造する。ここで、透光性基板の全面に遮光性膜などの金属層を形成した段階のもの、透光性基板の全面に金属層およびレジスト層を積層した段階のもののいずれについてもマスクブランクス(あるいはマスクブランク)と称する。 When manufacturing a semiconductor integrated circuit, a liquid crystal display device, or the like, a transfer mask in which a transfer pattern made of a light-shielding film or the like is formed on a light-transmitting substrate is used in a process of patterning a thin film using a photolithography technique. In order to manufacture such a transfer mask, first, after forming a light-shielding film on the entire surface of the light-transmitting substrate, a resist layer is laminated on the entire surface of the light-shielding film. Next, the resist layer is selectively exposed, baked and developed to form a resist pattern, and then a light-shielding film is patterned using the resist pattern as a mask, and a transfer pattern is provided on the surface of the light-transmitting substrate. Manufacturing a transfer mask. Here, the mask blank (or mask) is used for both the stage in which a metal layer such as a light-shielding film is formed on the entire surface of the translucent substrate and the stage in which a metal layer and a resist layer are laminated on the entire surface of the translucent substrate. Blank).
このようなマスクブランクスについては、製造後、出荷する際、あるいは各製造工程間を搬送する際、例えば、相対向する内壁にマスクブランクスの両端部が差し込まれるブランクス保持溝が上下方向に形成された合成樹脂製の中箱と、この中箱を着脱するための上部開口を備えた合成樹脂製の外箱と、この外箱の上部開口に被せられた合成樹脂製の蓋とを備えたブランクス収納ケースが用いられる(特許文献1、2参照)
しかしながら、上記特許文献に開示の合成樹脂製のブランクスケースを用いてマスクブランクスを搬送すると、ブランクスケースから取り出したマスクブランクス表面に多数の塵埃が付着しているという問題点があり、このような塵埃は、クリーンルームを汚染する原因となる。また、塵埃がマスクブランクスに付着していると、それを用いて製造したフォトマスクの品質が低下し、パターン欠陥や転写特性の低下などといった重大な欠陥を発生させてしまう。 However, when the mask blanks are transported using the blank case made of synthetic resin disclosed in the above patent document, there is a problem that a lot of dust adheres to the surface of the mask blank taken out from the blank case. Will contaminate the clean room. Further, if dust adheres to the mask blank, the quality of a photomask manufactured using the mask blank deteriorates, and a serious defect such as a pattern defect or a deterioration in transfer characteristics occurs.
以上の問題点に鑑みて、本発明の効果は、搬送中にマスクブランクス表面に塵埃が付着することを確実に防止可能なマスクブランクスの搬送方法を提供することにある。 In view of the above problems, an effect of the present invention is to provide a mask blank transport method capable of reliably preventing dust from adhering to the mask blank surface during transport.
上記課題を解決するために、本願発明者は種々、検討した結果、搬送中にマスクブランクスに塵埃が付着する原因は、マスクブランクスの絶縁基板が合成樹脂製の中箱のブランクス保持溝、および合成樹脂製の蓋のブランクス支持部と接しているため、マスクブランクスの搬送中にマスクブランクスがこれらの部材と擦れて静電気が発生し、搬送中、マスクブランクスをブランクス保持溝から取り出す際、あるいは蓋を外す際、それまでに溜まった静電気により放電が起こり、中箱のブランクス保持溝、および蓋のブランクス支持部から塵埃が発生するという知見を得た。そこで、静電気による放電を防止すれば、塵埃の発生およびマスクブランクスへの塵埃の付着を防止できるという考えに到達し、本願発明を達成するに到った。 In order to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present application have studied variously. As a result, the reason why the dust adheres to the mask blanks during transportation is that the insulating substrate of the mask blanks is the blank holding groove of the synthetic resin inner box, and the synthetic Since it is in contact with the blank support part of the resin lid, the mask blanks are rubbed against these members during transport of the mask blanks, and static electricity is generated. When removing, it was found that discharge was generated by static electricity accumulated so far, and dust was generated from the blank holding groove of the inner box and the blank support portion of the lid. Accordingly, the inventors have reached the idea that if the discharge due to static electricity is prevented, the generation of dust and the adhesion of dust to the mask blanks can be prevented, and the present invention has been achieved.
すなわち、本発明では、絶縁基板上に少なくとも転写パターン形成用の金属層が形成されたマスクブランクスの搬送に用いるブランクス収納ケースであって、相対向する内壁に前記マスクブランクスの両端部が差し込まれるブランクス保持溝が上下方向に形成された中箱と、該中箱を着脱するための上部開口を備えた外箱と、該外箱の前記上部開口に被せられた蓋とを有し、当該蓋は、前記外箱内に収納された前記中箱の前記ブランクス保持溝内に保持された前記マスクブランクスの上端部を支持可能なブランクス支持部を備え、少なくとも前記中箱および前記ブランクス支持部は、導電性を備えた合成樹脂製であることを特徴とする。 That is, according to the present invention, there is provided a blank storage case used for transporting a mask blank in which at least a metal layer for forming a transfer pattern is formed on an insulating substrate, and blanks in which both end portions of the mask blank are inserted into opposing inner walls. An inner box in which a holding groove is formed in the vertical direction, an outer box having an upper opening for attaching and detaching the inner box, and a lid that covers the upper opening of the outer box, A blanks support part capable of supporting an upper end part of the mask blanks held in the blanks holding groove of the middle box housed in the outer box, at least the middle box and the blanks support part being conductive It is made of a synthetic resin having the property.
本発明では、マスクブランクスをブランクス収納ケースに収納した状態でマスクブランクスと接する中箱およびブランクス支持部が、導電性を備えた合成樹脂製であるため、マスクブランクスの搬送中にこれらの部材が擦れても静電気が溜まらない。それ故、搬送中、マスクブランクスをブランクス保持溝から取り出す際、あるいは蓋を外す際、静電気に起因する放電が起こらないので、中箱のブランクス保持溝、および蓋のブランクス支持部から塵埃が発生せず、塵埃がマスクブランクスに付着することを確実に防止することができる。 In the present invention, since the inner box and the blanks support portion that are in contact with the mask blanks in a state in which the mask blanks are housed in the blanks storage case are made of synthetic resin having conductivity, these members are rubbed during the transportation of the mask blanks. However, static electricity does not accumulate. Therefore, when removing the mask blank from the blank holding groove or removing the lid during transport, no static electricity discharge occurs, so dust is generated from the blank holding groove of the inner box and the blank support section of the lid. Therefore, it is possible to reliably prevent dust from adhering to the mask blanks.
本発明において、前記外箱、および前記蓋全体が、導電性を備えた合成樹脂製であることが好ましい。すなわち、ブランクス収納ケース全体が、導電性を備えた合成樹脂製であることが好ましい。 In the present invention, the outer box and the entire lid are preferably made of a synthetic resin having conductivity. That is, it is preferable that the entire blank storage case is made of a synthetic resin having conductivity.
本発明に係るブランクス収納ケースは、例えば、前記金属層が前記絶縁基板の主表面から外周端部の一部を覆う位置まで形成されているマスクブランクスの搬送に用いられる。 The blanks storage case according to the present invention is used, for example, for transporting mask blanks in which the metal layer is formed from the main surface of the insulating substrate to a position covering a part of the outer peripheral edge.
本発明では、マスクブランクスをブランクス収納ケースに収納した状態でマスクブランクスと接する中箱およびブランクス支持部が、導電性を備えた合成樹脂製であるため、マスクブランクスの搬送中にこれらの部材が擦れても静電気が溜まらない。それ故、搬送中、マスクブランクスをブランクス保持溝から取り出す際、あるいは蓋を外す際、静電気に起因する放電が起こらないので、中箱のブランクス保持溝、および蓋のブランクス支持部から塵埃が発生せず、塵埃がマスクブランクスに付着することを確実に防止することができる。それ故、搬送中に発生した塵埃によってクリーンルームを汚染することがない。また、塵埃がマスクブランクスに付着することがないので、パターン欠陥や転写特性の低下などといった不具合を発生させることがない。 In the present invention, since the inner box and the blanks support portion that are in contact with the mask blanks in a state in which the mask blanks are housed in the blanks storage case are made of synthetic resin having conductivity, these members are rubbed during the transportation of the mask blanks. However, static electricity does not accumulate. Therefore, when removing the mask blank from the blank holding groove or removing the lid during transport, no static electricity discharge occurs, so dust is generated from the blank holding groove of the inner box and the blank support section of the lid. Therefore, it is possible to reliably prevent dust from adhering to the mask blanks. Therefore, the clean room is not contaminated by dust generated during transportation. Further, since dust does not adhere to the mask blanks, problems such as pattern defects and deterioration of transfer characteristics do not occur.
図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(ブランクス収納ケースの構成)
図1は、本発明に係るブランクス収納ケースおよびケース収納袋の斜視図である。図2は、図1に示す中箱にマスクブランクスを収納する様子を示す斜視図である。図3(a)、(b)は、蓋の内面を示す斜視図、およびこの蓋に形成したブランクス支持部を拡大して示す説明図である。
(Configuration of blank storage case)
FIG. 1 is a perspective view of a blanks storage case and a case storage bag according to the present invention. FIG. 2 is a perspective view showing how mask blanks are stored in the inner box shown in FIG. 1. FIGS. 3A and 3B are a perspective view showing the inner surface of the lid and an explanatory view showing an enlarged blanks support portion formed on the lid.
図1に示すように、ブランクス収納ケース10は、その内部でマスクブランクス1を垂直姿勢に保持する中箱30と、この中箱30を着脱するための上部開口21を上部に備えた外箱20と、外箱20の上部開口21を覆う蓋40とを備えている。中箱30、外箱20および蓋40は、ポリプロピレン系、アクリル系、ポリエチレン系、ポリアミド系、ABS系などの各種樹脂成形品により構成されている。
As shown in FIG. 1, the
外箱20は、上部開口21の周縁部25がやや肉厚の嵌合部になっており、外箱20の外周部と蓋40の外周部とが嵌合するようになっている。外箱20において、相対向する側面の外側には突起27が形成されている一方、蓋40の外周部の下端部には、突起27に係合するフック47が形成されている。なお、蓋40および外箱20の双方に突起を各々形成しておき、別体のフックで蓋40と外箱20とを固定することもある。
In the
また、本形態では、ブランクス収納ケース10を用いてマスクブランクス1を搬送する際、ブランクス収納ケース10は、ケース収納袋50に収納される。ここで、ケース収納袋50は、シート状の発泡樹脂やエアークッションシートなどのクッション材層の外側表面にアルミニウムなどの金属層3が積層されたシート材料から構成されており、耐湿機能を備えている。
In this embodiment, when the
図1および図2に示すように、中箱30において、相対向する内壁31には、上下方向に延びたブランクス保持溝32が形成されており、これらのブランクス保持溝32に沿ってマスクブランクス1を挿入することにより、マスクブランクス1の左右両端部がブランクス保持溝32に保持される。本形態では、中箱30において相対向する内壁31にはブランクス保持溝32が複数本ずつ、例えば5本ずつ並列状に形成されており、中箱30は、5枚のマスクブランクス1を収納可能になっている。なお、中箱30に収納されるマスクブランクス1は一枚であってもよい。ここで、ブランクス保持溝32の溝幅は、保持するマスクブランクス1の厚さ寸法よりもやや大きく設定されており、マスクブランクス1とブランクス保持溝32との間には、所定のクリアランスが確保されている。これにより、ブランクス保持溝32に対するマスクブランクス1の挿入やマスクブランクス1の引き出しが容易であるとともに、摩擦によるマスクブランクス1の損傷やブランクス保持溝32の磨耗が抑制される。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, in the
図3(a)に示すように、蓋40において、その内面には、蓋40が外箱20の上部開口21を覆った際、中箱30のブランクス保持溝32に保持されたマスクブランクス1の上端部を押さえるブランクス支持部41が形成されている。本形態では、5枚のマスクブランクス1の上端部が位置する箇所の各々に5つのブランクス支持部41が2列、形成されており、マスクブランクス1枚当たり、2つのブランクス支持部41でマスクブランクス1を押さえるようになっている。このようなブランクス支持部41として、本形態では、図3(b)に示すように、蓋40の内面に固定されたL字形状の樹脂成形品が用いられており、ブランクス支持部41のうち、マスクブランクス1と接する下端部411にはマスクブランクス1の上端部が嵌る断面台形形状の溝410が形成されている。また、本形態のブランクス支持部41は、L字形状の樹脂成形品の両方の端部411、412に溝が形成されているので、蓋40の内面に対してブランクス支持部41を固定する際、その向きを変えるだけで、2列に配置されるブランクス支持部41を共通の樹脂成形品で構成することができる。ここで、ブランクス支持部41は、中箱30、外箱20および蓋40の本体部分(蓋40においてブランクス支持部41を除く部分)と同様、ポリプロピレン系、アクリル系、ポリエチレン系、ポリアミド系、ABS系などの各種樹脂成形品により構成されている。
As shown in FIG. 3A, the
ここで、中箱30およびブランクス支持部41はいずれも、導電性樹脂から構成されている。このような導電性は、中箱30やブランクス支持部41を構成する樹脂に対して、カーボンなどの導電性フィラーを添加することにより実現することができる。また、本形態では、外箱20も導電性樹脂から構成されている。さらに、本形態では、蓋40の本体部分(蓋40においてブランクス支持部41を除く部分)も導電性樹脂から構成されており、蓋40の全体が導電性樹脂から構成されている。従って、本形態では、ブランクス収納ケース10全体が導電性樹脂から構成されている。
Here, both the
(マスクブランクス1の搬送方法)
図4は、本発明に係るブランクス収納ケース10において外箱20に蓋40を被せた様子を示す斜視図である。図5(a)、(b)、(c)は、ブランクス収納ケース10内のマスクブランクス1の様子を示す縦断面図である。図6(a)、(b)、(c)は、本発明を適用したマスクブランクス1の搬送方法を示す斜視図である。
(Conveying method for mask blanks 1)
FIG. 4 is a perspective view showing a state in which the
本発明を適用したブランクス収納ケース10を用いて、製造したマスクブランクス1を出荷する際、あるいは各製造工程間を搬送する際には、図2に示すように、中箱30のブランクス保持溝32内にマスクブランクス1の両端部を差し込んで複数枚のマスクブランクス1を中箱30に収納した後、中箱30を外箱20に収納するとともに、外箱20の上部開口21を蓋40で覆う。また、図4に示すように、蓋40のフック47を外箱20の突起27に係合させて、蓋40を外箱20に固定する。
When the manufactured
この状態で、図5(a)に示すように、中箱30のブランクス保持溝32に保持されたマスクブランクス1の下端部は、ブランクス保持溝32の底部に形成された断面台形形状の凹部からなる受け部320で支持される一方、マスクブランクス1の上端部は、ブランクス支持部41に形成された断面台形形状の溝410に保持される。ここで、マスクブランクス1がバイナリータイプのフォトマスク形成用のマスクブランクスであれば、合成石英や弗素ドープ石英ガラスなどからなる絶縁性の透光性基板2(絶縁基板)の主表面には、転写マスクを形成するためのクロム系材料などからなる金属層3が形成されているとともに、アクリル樹脂などといった感光性レジスト層4が形成されている。なお、透光性基板2の端部1a、1bには面取り部が形成されている。
In this state, as shown in FIG. 5A, the lower end portion of the
図5(a)に示すマスクブランクスは、感光性レジスト層4が電子線描画されるタイプであるため、描画の際のチャージアップを防止するために、金属層3は透光性基板2の主表面から外周端部の一部を覆う位置まで形成されている。これに対して、感光性レジスト層4は、マスクブランクス1の外周端部から所定の距離だけ隔てた内側領域のみに形成されている。
The mask blank shown in FIG. 5A is a type in which the photosensitive resist
ここで、マスクブランクス1がレーザ描画されるタイプのマスクブランクスであれば、チャージアップを防止する必要がないため、図5(b)に示すように、金属層3は透光性基板2の側端面から除去されている。また、ハーフトーンマスクを形成するためのマスクブランクスの場合には、図5(c)に示すように、透光性基板2上にハーフトーン膜5、金属層3、および感光性レジスト層4が形成されている。なお、図示を省略するが、反射型マスクブランクスの場合には、低膨張マスクブランクス上に、多層反射膜やバッファ層の上層に金属層やレジスト層が形成される。
Here, if the
なお、図5(a)、(b)、(c)に示す例では、感光性レジスト層4が透光性基板2の外端部から除去されているが、透光性基板2の外端部に残っている場合もある。
5A, 5B, and 5C, the photosensitive resist
これらいずれの場合にも、マスクブランクス1の透光性基板2に対して、中箱30のブランクス保持溝32、および蓋40のブランクス支持部41に接することになる。また、金属層3が透光性基板2の外周端部を部分的に覆っている場合には、金属層3は、中箱30のブランクス保持溝32、および蓋40のブランクス支持部41に接することになる。
In any of these cases, the
このようにしてマスクブランクス1をブランクス収納ケース10に収納した後は、例えば、図6(a)に示すように、蓋40の外周面と外箱20の外周面との接合部分を粘着テープ60で塞ぐ。次に、図6(b)に示すように、ブランクス収納ケース10をケース収納袋50に収納する。次に、図6(c)に示すように、ケース収納袋50の上から外箱20および蓋40の双方に掛けたポリプロピレンテープなどからなるバンド70でブランクス収納ケース10を十字に縛る。この状態でマスクブランクス1を搬送する。
After the
そして、クリーンルーム内にマスクブランクス1を搬入する際には、まず、クリーンルーム外でバンド70を切断した後、ブランクス収納ケース10をケース収納袋50から出して、ブランクス収納ケース10をクリーンルーム内に搬入する。そして、マスクブランクス1を使用する時点で、ブランクス収納ケース10から粘着テープ60を剥がした後、フック47を外して蓋40をあける。次に、外箱20から中箱30を取り出してローダーのステージにセットすると、ロボットがマスクブランクス1を中箱30から1枚ずつ取り出す。
When carrying the
(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態のブランクス収納ケース10では、マスクブランクス1に接する中箱30およびブランクス支持部41が、導電性樹脂から構成されている。このため、マスクブランクス1の搬送中にこれらの部材が擦れても静電気が溜まらない。それ故、搬送中、マスクブランクス1をブランクス保持溝32から取り出す際、あるいは蓋40を外す際、静電気に起因する放電が起こらないので、中箱30のブランクス保持溝32、および蓋40のブランクス支持部41から塵埃が発生せず、塵埃がマスクブランクス1に付着することを確実に防止することができる。それ故、搬送中に発生した塵埃によってクリーンルームを汚染することがない。また、塵埃がマスクブランクス1に付着することがないので、パターン欠陥や転写特性の低下などといった不具合を発生させることがない。
(Main effect of this form)
As described above, in the
また、本形態では、中箱30およびブランクス支持部41に加えて、外箱20および蓋40の本体部分(蓋40においてブランクス支持部41を除く部分)も導電性樹脂から構成されており、ブランクス収納ケース10全体が導電性樹脂から構成されている。このため、マスクブランクス1の搬送中に静電気が発生しても、静電気は外箱20および蓋40を介して放出されるため、塵埃を発生させるような放電が起こることがない。
Further, in this embodiment, in addition to the
また、本形態では、マスクブランクス1を搬送する際、ブランクス収納ケース10において、外箱20の上部開口21を覆う蓋40の外周面と外箱20の外周面と接合部分を粘着テープ60で塞いで外箱20と蓋40との接合部を隙間なく密封する。また、ブランクス収納ケース10をケース収納袋50に収納した状態とする。このため、搬送中に外部からブランクス収納ケース10内に異物が侵入することを確実に防止できる。また、ケース収納袋50は、クッション材層の表面に金属層3が積層されたシート材料からなるため、耐湿性能が高い。それ故、搬送中に外部からブランクス収納ケース10内に水分が侵入することも確実に防止できる。
Moreover, in this embodiment, when the
さらに、図6(a)、(b)、(c)を参照して説明した搬送方法では、蓋40の外周面と外箱20の外周面と接合部分を粘着テープ60で塞いだ状態でブランクス収納ケース10をケース収納袋50に収納するとともに、ケース収納袋50の上から外箱20および蓋40の双方に掛けたバンド70でブランクス収納ケース10を縛った状態でマスクブランクス1を搬送する。このため、搬送中にマスクブランクス1の主表面に塵埃が付着することを確実に防止することができる。その理由としては、ケース収納袋50の上から外箱20および蓋40の双方に掛けたバンド70でブランクス収納ケース10を縛った状態とするため、搬送中に振動が加わっても、外箱20、蓋40、中箱30およびマスクブランクス1は、相互に確実に固定され、ずれないので、蓋40と外箱20との擦れ、マスクブランクス1とブランクス支持部41との擦れ、マスクブランクス1と中箱30との擦れを確実に防止できるためと考えられる。また、本形態では、ケース収納袋50の上からバンド70でブランクス収納ケース10を縛っているため、搬送中に振動が加わっても、バンド70が位置ずれして緩むことがなく、かつ、たとえバンド70が位置ずれしても、蓋40や外箱20と接していないので発塵しないなどの理由によると考えられる。
Furthermore, in the transport method described with reference to FIGS. 6A, 6 </ b> B, and 6 </ b> C, the blanks with the outer peripheral surface of the
また、本形態では、ブランクス収納ケース10をクリーンルーム内に搬送する際には、クリーンルームの外でバンド70を外す。このため、ブランクス収納ケース10がバンド70で縛られた状態から解放される際にブランクス収納ケース10に振動や衝撃が加わって塵埃が発生した場合でも、かかる塵埃でクリーンルーム内が汚染されることを確実に防止することができる。
In this embodiment, when the
(他の実施の形態)
なお、ブランクス収納ケース10を用いてマスクブランクス1を搬送する際には、蓋40の外周面と外箱20の外周面と接合部分を粘着テープ60で塞いだ後、ブランクス収納ケース10をケース収納袋50に収納した状態で搬送する場合にも本発明を適用してもよい。また、蓋40の外周面と外箱20の外周面と接合部分を粘着テープ60で塞いだ後、外箱20および蓋40の双方に掛けたバンド70でブランクス収納ケース10を縛った状態で、ケース収納袋50に収納し、マスクブランクス1を搬送する場合に本発明を適用してもよい。
(Other embodiments)
When the
1 マスクブランクス
2 透光性基板(絶縁基板)
3 金属層
4 レジスト層
10 ブランクス収納ケース
20 外箱
21 外箱の上部開口
30 中箱
32 ブランクス保持溝
40 蓋
41 ブランクス支持部
1
3
Claims (3)
相対向する内壁に前記マスクブランクスの両端部が差し込まれるブランクス保持溝が上下方向に形成された中箱と、該中箱を着脱するための上部開口を備えた外箱と、該外箱の前記上部開口に被せられた蓋とを有し、
当該蓋は、前記外箱内に収納された前記中箱の前記ブランクス保持溝内に保持された前記マスクブランクスの上端部を支持可能なブランクス支持部を備え、
少なくとも前記中箱および前記ブランクス支持部は、導電性を備えた合成樹脂製であることを特徴とするブランクス収納ケース。 A blank storage case used for transporting mask blanks in which at least a metal layer for forming a transfer pattern is formed on an insulating substrate,
An inner box in which blanks holding grooves into which both ends of the mask blanks are inserted in opposite inner walls are formed in the vertical direction, an outer box having an upper opening for attaching and detaching the inner box, and the outer box A lid over the upper opening;
The lid includes a blanks support portion capable of supporting an upper end portion of the mask blanks held in the blanks holding groove of the middle box housed in the outer box,
At least the inner box and the blanks support part are made of synthetic resin having conductivity, and a blanks storage case.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006017714A JP4909596B2 (en) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | Blank storage case, mask blank storage body, and mask blank transport method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006017714A JP4909596B2 (en) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | Blank storage case, mask blank storage body, and mask blank transport method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007199380A true JP2007199380A (en) | 2007-08-09 |
JP4909596B2 JP4909596B2 (en) | 2012-04-04 |
Family
ID=38454057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006017714A Active JP4909596B2 (en) | 2006-01-26 | 2006-01-26 | Blank storage case, mask blank storage body, and mask blank transport method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4909596B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100078433A1 (en) * | 2008-09-27 | 2010-04-01 | Hoya Corporation | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and a mask blank package |
CN113044398A (en) * | 2021-03-11 | 2021-06-29 | 深圳市永晟电子材料有限公司 | Fixing device for transporting electronic equipment |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57164749A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-09 | Canon Inc | Copying device |
JPS59185826U (en) * | 1983-05-11 | 1984-12-10 | クリ−ンサアフエイス技術株式会社 | Case for photomask board |
JPH0326768A (en) * | 1989-06-19 | 1991-02-05 | American Cyanamid Co | Curable powder covering compound containing isocyanate blocked by caprolactam |
JPH0381945A (en) * | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Nissin Electric Co Ltd | Ion mass spectrometer |
JPH0687967A (en) * | 1992-09-07 | 1994-03-29 | Toppan Printing Co Ltd | Container for photomask |
JPH11149152A (en) * | 1997-11-17 | 1999-06-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Grounding method and photomask blanks |
JP2005062462A (en) * | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Hoya Corp | Method for housing mask blank, mask blank housing body and method for manufacturing mask blank |
JP2005070390A (en) * | 2003-08-25 | 2005-03-17 | Hoya Corp | Method for processing housing member of mask blank, method for manufacturing housing member of mask blank, and mask blank housed body |
JP2005321532A (en) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Circuit board case |
-
2006
- 2006-01-26 JP JP2006017714A patent/JP4909596B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57164749A (en) * | 1981-04-03 | 1982-10-09 | Canon Inc | Copying device |
JPS59185826U (en) * | 1983-05-11 | 1984-12-10 | クリ−ンサアフエイス技術株式会社 | Case for photomask board |
JPH0326768A (en) * | 1989-06-19 | 1991-02-05 | American Cyanamid Co | Curable powder covering compound containing isocyanate blocked by caprolactam |
JPH0381945A (en) * | 1989-08-25 | 1991-04-08 | Nissin Electric Co Ltd | Ion mass spectrometer |
JPH0687967A (en) * | 1992-09-07 | 1994-03-29 | Toppan Printing Co Ltd | Container for photomask |
JPH11149152A (en) * | 1997-11-17 | 1999-06-02 | Dainippon Printing Co Ltd | Grounding method and photomask blanks |
JP2005062462A (en) * | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Hoya Corp | Method for housing mask blank, mask blank housing body and method for manufacturing mask blank |
JP2005070390A (en) * | 2003-08-25 | 2005-03-17 | Hoya Corp | Method for processing housing member of mask blank, method for manufacturing housing member of mask blank, and mask blank housed body |
JP2005321532A (en) * | 2004-05-07 | 2005-11-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Circuit board case |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100078433A1 (en) * | 2008-09-27 | 2010-04-01 | Hoya Corporation | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and a mask blank package |
JP2010079109A (en) * | 2008-09-27 | 2010-04-08 | Hoya Corp | Container for housing mask blank, method of housing mask blank, and mask blank package |
KR101183402B1 (en) * | 2008-09-27 | 2012-09-14 | 호야 가부시키가이샤 | Mask blank acceptance case, mask blank acceptance method, and mask blank acceptance body |
US8496133B2 (en) * | 2008-09-27 | 2013-07-30 | Hoya Corporation | Container for housing a mask blank, method of housing a mask blank, and a mask blank package |
CN113044398A (en) * | 2021-03-11 | 2021-06-29 | 深圳市永晟电子材料有限公司 | Fixing device for transporting electronic equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4909596B2 (en) | 2012-04-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5268142B2 (en) | Mask blank storage case, mask blank storage method, and mask blank storage body | |
JP4759603B2 (en) | Reticle Pod Carrier Case | |
JP4773216B2 (en) | Substrate transport method | |
JP5684752B2 (en) | Pellicle storage container | |
JP2006324583A (en) | Substrate storage case and method for transporting substrate | |
KR20230088663A (en) | Pellicle storage container | |
JP4909596B2 (en) | Blank storage case, mask blank storage body, and mask blank transport method | |
JP5864399B2 (en) | Pellicle storage container | |
JP5416154B2 (en) | Substrate storage container, glass substrate storage body with film, mask blank storage body, and transfer mask storage body | |
TWI384322B (en) | Carrier of reticle pod and the buffer position device therein | |
JP2006124034A (en) | Member for supporting thin-film coated board, container for storing the thin-film coated board, mask blank storing body, transfer mask storing body and method for transporting the thin-film coated board | |
JP6050981B2 (en) | Mask blank storage case and mask blank storage body | |
JP5393298B2 (en) | Mask case | |
KR20150120274A (en) | Pellicle container | |
JP4342863B2 (en) | Mask blank storage container, mask blank storage method, mask blank storage body, and mask blank storage body transport method | |
JP4801981B2 (en) | Substrate storage container, glass substrate storage body with film, mask blank storage body, and transfer mask storage body | |
JP2007091296A (en) | Mask blank storage container, storing method of mask blank and stored body of mask blank | |
KR101938158B1 (en) | Pellicle container | |
JP6013045B2 (en) | Mask blank storage case, mask blank storage method, and mask blank storage body | |
KR200250919Y1 (en) | Structure to support photomask in photomask keeping box | |
JP2014029519A (en) | Mask blank housing case and mask blank housing body | |
JP2007145397A5 (en) | ||
JP5175004B2 (en) | Mask blank storage case, mask blank storage method, and mask blank storage body | |
JP2008009163A (en) | Gas removal tool | |
JP2009102021A (en) | Mask blank storing case, mask blank storing method and mask blank storing body |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081224 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110804 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120110 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120116 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150120 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4909596 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |