JP2007091296A - Mask blank storage container, storing method of mask blank and stored body of mask blank - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子デバイスの製造に使用されるフォトマスクやこのフォトマスクの製造に用いられるマスクブランクを収納する容器及びその収納方法に関する。 The present invention relates to a photomask used for manufacturing an electronic device, a container for storing a mask blank used for manufacturing the photomask, and a method for storing the same.
近年の電子デバイス、特に半導体素子や液晶モニター用のカラーフィルター或いはTFT素子等は、IT技術の急速な発達に伴い、一層の微細化が要求されている。このような微細加工技術を支える技術の一つが、転写マスクと呼ばれるフォトマスクを用いたリソグラフィー技術である。このリソグラフィー技術においては、露光用光源の電磁波乃至光波を転写マスクを通じてレジスト膜付きシリコンウエハー等に露光することにより、シリコンウエハー上に微細なパターンを形成している。この転写マスクは通常、透光性基板上に遮光性膜を形成したマスクブランクにリソグラフィー技術を用いて原版となるパターンを形成して製造される。ところで、マスクブランクの表面にパーティクル等の異物があると、形成されるパターンの欠陥の原因となるので、マスクブランクの表面には異物等が付着しないように清浄に保管される必要がある。 In recent years, electronic devices, particularly color filters or TFT elements for semiconductor elements and liquid crystal monitors, are required to be further miniaturized with the rapid development of IT technology. One of the technologies that support such a fine processing technology is a lithography technology using a photomask called a transfer mask. In this lithography technique, a fine pattern is formed on a silicon wafer by exposing an electromagnetic wave or light wave of an exposure light source to a silicon wafer with a resist film through a transfer mask. This transfer mask is usually manufactured by forming a pattern serving as an original plate using a lithography technique on a mask blank in which a light-shielding film is formed on a light-transmitting substrate. By the way, if there is a foreign substance such as a particle on the surface of the mask blank, it will cause a defect in the pattern to be formed. Therefore, it is necessary to store it cleanly so that the foreign substance or the like does not adhere to the surface of the mask blank.
このようなマスクブランクを収納保管し運搬するための容器としては、従来では例えば下記特許文献1に記載されているようなマスク運搬用ケースが知られている。
すなわち、従来のマスクブランクを収納保管する容器は、キャリアなどと呼ばれている内ケースにマスクブランクを数枚乃至数十枚並べて保持させ、このマスクブランクを保持した内ケースを外箱(ケース本体)内に収容し、さらに外箱上に蓋を被せて、マスクブランクを収納する構造となっていた。そして、外箱と蓋との接合部上には粘着テープを貼付することにより、ケースを密封するとともに、外気や異物等の進入を防ぐようにしていた。
That is, a conventional container for storing and storing a mask blank has an inner case called a carrier or the like in which several to several tens of mask blanks are arranged and held, and the inner case holding the mask blank is placed in an outer box (case main body). ) And a cover on the outer box to accommodate the mask blank. And by sticking an adhesive tape on the junction part of an outer box and a lid | cover, while sealing a case, it was trying to prevent entrance of external air, a foreign material, etc.
近年の電子デバイスの高性能化に伴って、転写マスクに形成されるパターンも一段と微細化が要求されており、このような微細化パターンを形成するためにもマスクブランクの清浄度は極めて高いものでないと許容できなくなってきている。従って、マスクブランクに異物等が付着するのを出来るだけ抑制することにより、特にマスクブランクの保管中は出来るだけ高い清浄度に維持する必要がある。
ところで、最近、フォトマスク用のレジストとして化学増幅型レジストが着目されている。この化学増幅型レジストに関しては例えば特開2000−66380号公報等に記載がある。この化学増幅型レジストは、感度やコントラストなどの特性が従来のフォトレジストに比べて優れているため、微細化パターンを形成するのに有利であると言える。但し、この化学増幅型レジストは、その反応メカニズム上、化学成分のコンタミによる影響を受けやすいことが指摘されている。つまり、ある種の化学成分のコンタミがあると、化学増幅反応の触媒となる物質の機能を抑制乃至阻害させ(例えば、失活)、所望の性能が得られなくなる場合が生じる。このため、化学増幅型レジスト膜が形成されたマスクブランクの場合は、単にパーティクル等の異物を排除するだけでは足りず、化学成分のコンタミの影響をも排除するため特に清浄な雰囲気で保管する必要がある。
As the performance of electronic devices in recent years has increased, the pattern formed on the transfer mask is also required to be further miniaturized. In order to form such a miniaturized pattern, the cleanness of the mask blank is extremely high. Otherwise it will be unacceptable. Therefore, it is necessary to maintain the cleanliness as high as possible, particularly during storage of the mask blank, by suppressing as much as possible foreign matter from adhering to the mask blank.
Recently, a chemically amplified resist has attracted attention as a resist for a photomask. This chemically amplified resist is described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-66380. Since this chemically amplified resist is superior in characteristics such as sensitivity and contrast as compared with conventional photoresists, it can be said that it is advantageous for forming a miniaturized pattern. However, it has been pointed out that this chemically amplified resist is susceptible to chemical component contamination due to its reaction mechanism. That is, if there is contamination of a certain kind of chemical component, the function of a substance serving as a catalyst for a chemical amplification reaction is suppressed or inhibited (for example, deactivated), and desired performance may not be obtained. For this reason, in the case of a mask blank with a chemically amplified resist film, it is not necessary to simply remove foreign substances such as particles, and it is necessary to store in a particularly clean atmosphere in order to eliminate the influence of chemical component contamination. There is.
従来のマスクブランクの収納容器では、たとえば外箱と蓋との接合部を粘着テープで一応密封していたが、マスクブランクの収納梱包時にテープを貼り付け、開封時にはテープを剥離するという二重の手間が掛かる上に、その封止状態も完全ではなかった。つまり、一般的に使用される粘着テープの場合、多少の通気性を有しているため、たとえば、収納容器を保管する雰囲気の温度変化によっては内気が膨張或いは収縮する場合があるが、このときテープを貼り付けた接合部を通して外気と内気との間での出入りが生じる。また、マスクブランクを航空機に搭載して輸送する場合のように雰囲気の気圧が変動する場合がある。航空機で輸送する場合は、気圧の変化は相当大きいものになるので、この時にも外気と内気との間での通気が生じる。従って、クリーンルームのような清浄雰囲気内でマスクブランクを容器内に収納梱包したとしても、その後の保管の雰囲気によっては、経時的に外気が進入し、その外気に含まれる何らかの成分により収納容器内が汚染される場合がある。
さらには、収納容器の材質として何らかの化学成分等が放出され難いプラスチック等を用いたとしても、粘着テープの基材や粘着剤に使用されている化学成分が経時的に収納容器内に進入して汚染する場合がある。特に、上述の温度変化や気圧変化などの雰囲気の変動があった場合は、テープから発生する化学成分による汚染が加速的に進行する恐れがある。
In conventional mask blank storage containers, for example, the joint between the outer box and the lid was sealed with adhesive tape, but the tape was affixed when the mask blank was stored and packed, and the tape was peeled off when opened. In addition to the time and effort, the sealed state was not perfect. That is, in the case of a commonly used adhesive tape, since it has some air permeability, the inside air may expand or contract depending on the temperature change of the atmosphere in which the storage container is stored. The entrance and exit between the outside air and the inside air occurs through the joint portion to which the tape is applied. In addition, the atmospheric pressure may fluctuate as in the case of carrying a mask blank on an aircraft. When transported by aircraft, the change in atmospheric pressure becomes considerably large, and thus ventilation between the outside air and the inside air occurs at this time. Therefore, even if the mask blank is stored and packed in a container in a clean atmosphere such as a clean room, depending on the subsequent storage atmosphere, the outside air enters over time, and the inside of the storage container is caused by some component contained in the outside air. May be contaminated.
Furthermore, even if a plastic or the like that does not easily release any chemical component is used as the material of the storage container, the chemical component used in the base material or adhesive of the adhesive tape enters the storage container over time. May be contaminated. In particular, when there is a change in the atmosphere such as the above-described temperature change or atmospheric pressure change, there is a risk that contamination by chemical components generated from the tape will accelerate.
特に、前述の化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクの場合は、化学成分等のコンタミによる汚染は致命的な欠陥となるため、絶対に避けなければならないことである。
このように、クリーンルーム等でマスクブランクを容器に収納梱包し、外箱と蓋との接合部を粘着テープで封止するという方法は、一見、外気の進入を阻止して、マスクブランクを清浄な雰囲気で保管できるように思われるが、実際には、外気の進入による汚染や、粘着テープの化学成分等による汚染を回避することは困難であった。
In particular, in the case of the mask blank on which the above-described chemically amplified resist film is formed, contamination due to contamination of chemical components and the like becomes a fatal defect and must be avoided absolutely.
Thus, the method of storing and packing the mask blank in a container in a clean room or the like, and sealing the joint between the outer box and the lid with the adhesive tape at first glance prevents the outside air from entering and cleans the mask blank. Although it seems that it can be stored in an atmosphere, it was actually difficult to avoid contamination due to the ingress of outside air or chemical components of the adhesive tape.
そこで、本出願人らの一人は、先に、このような問題点を解消し、外気中の異物が収納容器内に進入するのを阻止する手段を備えることにより、外気の進入に伴う化学物質などの異物による汚染を防止でき、清浄な雰囲気を保ったままマスクブランク等を保管できる収納容器を提案した(特開2005−43796)。外気中の異物が収納容器内に進入するのを阻止する手段は、収納容器に設けられた通気孔と、該通気孔に設けた外気中の異物を除去するためのフィルター部材からなる。また、レジスト膜を有するマスクブランクを収納保管する収納容器は遮光性の材料で構成する必要があるが、本発明者らは、このようなフィルター部材を設けた場合、外光が上記通気孔からフィルター部材を通過して収納容器内部に入るのを防止する必要があるとの観点から、更なる検討を行った結果、一定の知見を得た。
本発明は、外気の進入に伴う化学物質などの異物による汚染を防止でき、清浄な雰囲気を保ったままマスクブランク等を保管でき、しかも外光の進入を防止できるマスクブランク収納容器及び収納方法並びにマスクブランク収納体を提供することを目的とする。
Therefore, one of the applicants of the present application has first solved such problems and provided a means for preventing foreign matter in the outside air from entering the storage container, thereby providing a chemical substance accompanying the entry of the outside air. A storage container that can prevent contamination by foreign matters such as mask blanks and keep a mask blank while maintaining a clean atmosphere has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 2005-43796). Means for preventing foreign matter in the outside air from entering the storage container includes a vent hole provided in the storage container and a filter member for removing foreign matter in the external air provided in the vent hole. In addition, the storage container for storing and storing the mask blank having the resist film needs to be made of a light-shielding material, but when the present inventors provide such a filter member, external light is transmitted from the vent hole. As a result of further studies from the viewpoint that it is necessary to prevent the filter member from passing through the inside of the storage container, certain findings were obtained.
The present invention relates to a mask blank storage container and storage method capable of preventing contamination by foreign substances such as chemical substances accompanying the entry of outside air, storing mask blanks while maintaining a clean atmosphere, and preventing entry of outside light, and An object is to provide a mask blank container.
本発明は前記課題を解決するために、以下の構成を有するものである。
(構成1)少なくとも容器本体と該容器本体に被せる蓋体とを備えて、内部にマスクブランクを収納するマスクブランク収納容器であって、外気中の異物が収納容器内に進入するのを阻止するフィルター手段を備えるとともに、外光が前記フィルター手段を透過して収納容器内に進入するのを阻止する手段を設けたことを特徴とするマスクブランク収納容器である。
(構成2)外光が前記フィルター手段を透過して収納容器内に進入する光路が直線状とならないように構成したことを特徴とする構成1に記載のマスクブランク収納容器である。
(構成3)前記フィルター手段の収納容器内方へ向いた端部を光遮蔽部材で覆うことを特徴とする構成1又は2に記載のマスクブランク収納容器である。
(構成4)前記フィルター手段は、収納容器に設けた外気と内気との通気孔と、該通気孔に設けた外気中の異物を除去するためのフィルター部材とからなることを特徴とする構成1乃至3の何れか一に記載のマスクブランク収納容器である。
(構成5)構成1乃至4の何れか一に記載のマスクブランク収納容器に、少なくとも一枚のレジスト膜を有するマスクブランクを収納することを特徴とするマスクブランクの収納方法である。
(構成6)構成1乃至4の何れか一に記載のマスクブランク収納容器と、該収納容器の内部に収納された少なくとも一枚のマスクブランクとからなることを特徴とするマスクブランク収納体である。
(構成7)前記マスクブランクは、レジスト膜を有するマスクブランクであることを特徴とする構成6に記載のマスクブランク収納体である。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has the following configuration.
(Configuration 1) A mask blank storage container that includes at least a container main body and a lid that covers the container main body, and stores the mask blank therein, and prevents foreign matter in the outside air from entering the storage container. A mask blank storage container comprising filter means and means for preventing external light from passing through the filter means and entering the storage container.
(Structure 2) The mask blank storage container according to
(Configuration 3) The mask blank storage container according to
(Configuration 4) The filter means includes a vent hole for outside air and inside air provided in the storage container, and a filter member for removing foreign matter in the outside air provided in the vent hole. It is a mask blank storage container as described in any one of thru | or 3.
(Structure 5) A mask blank storage method comprising storing a mask blank having at least one resist film in the mask blank storage container according to any one of
(Structure 6) A mask blank storage body comprising the mask blank storage container according to any one of
(Structure 7) The mask blank container according to
本発明によれば、上方が開口した容器本体と該容器本体に被せる蓋体とを備えたマスクブランクの収納容器において、外気中の異物が収納容器内に進入するのを阻止するフィルター手段として、たとえば収納容器に外気と内気との通気孔を設けると同時に該通気孔に外気中の異物を除去するためのフィルター部材を設けることにより、保管中に外気がそのまま収納容器内に進入することを防止できるので、外気中の異物、例えばパーティクルや、外気中に含まれる何らかの化学物質等が収納容器内に進入してマスクブランクを汚染することを有効に防止することが出来る。つまり、保管中に収納容器内に外気が進入してもその外気に含まれる化学物質等の異物はフィルター部材により除去されて清浄化され、その外気を清浄化することで、収納容器の内部を清浄な雰囲気に保ったままマスクブランクを長期間でも保管することが可能である。しかも、本発明によれば、外光が上記フィルター手段を透過して収納容器内に進入するのを阻止することが可能である。このため、保管中にマスクブランクが化学物質等の異物に汚染されたり、マスクブランクのレジスト膜が外光の進入により感光されることを防止できるので、収納保管されたマスクブランクを用いて高品質の転写マスクを得ることができる。 According to the present invention, in the mask blank storage container provided with the container body opened at the top and the lid body covering the container body, as a filter means for preventing foreign matter in the outside air from entering the storage container, For example, by providing a vent hole for outside air and inside air in the storage container and at the same time providing a filter member for removing foreign matter in the outside air, the outside air can be prevented from entering the storage container during storage. Therefore, it is possible to effectively prevent foreign matter in the outside air, for example, particles or some chemical substance contained in the outside air from entering the storage container and contaminating the mask blank. That is, even when outside air enters the storage container during storage, foreign substances such as chemical substances contained in the outside air are removed and cleaned by the filter member, and the inside of the storage container is cleaned by cleaning the outside air. The mask blank can be stored for a long period of time while being kept in a clean atmosphere. Moreover, according to the present invention, it is possible to prevent external light from passing through the filter means and entering the storage container. For this reason, it is possible to prevent the mask blank from being contaminated with foreign substances such as chemical substances during storage, and the resist film of the mask blank from being exposed to the entry of external light. The transfer mask can be obtained.
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
図5乃至図8は本発明に係わるマスクブランクの収納容器の一実施形態を示すもので、図5は収納容器の蓋を示す斜視図、図6はマスクブランクを中ケースに収納する状態を示す斜視図、図7は収納容器の容器本体(外ケース)を示す斜視図、図8は収納容器にマスクブランクを収納した状態の縦方向の断面図である。
本実施形態の収納容器は、主表面が正方形のガラス基板の一主表面上にクロム膜等の遮光性薄膜を成膜し、その上に例えば前述の化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランク1を中ケース2に収納し、この中ケース2を容器本体3に収納し、この容器本体3の開口部側に蓋4を被せる構造である(図8参照)。
なお、上記中ケース2を使用せずに、マスクブランク1を容器本体3に直接溝等を設けて収納する形態とすることもできる。但し、本実施形態のように中ケース2を使用すると、数枚乃至数十枚のマスクブランクをまとめて中ケース2に入れた状態で取り扱えるので便利である。この場合、複数枚のマスクブランクを収納する場合は、マスクブランクを垂直方向乃至傾斜方向とするのが好ましい。また、1枚のマスクブランクを収納する場合は1枚入りケースの中にマスクブランクを水平方向となるように収納するのが好ましい。
The best mode for carrying out the present invention will be described below with reference to the drawings.
5 to 8 show an embodiment of a mask blank storage container according to the present invention. FIG. 5 is a perspective view showing a cover of the storage container, and FIG. 6 shows a state in which the mask blank is stored in an inner case. FIG. 7 is a perspective view showing a container main body (outer case) of the storage container, and FIG. 8 is a longitudinal sectional view of the storage container in which a mask blank is stored.
The storage container of the present embodiment is a mask blank 1 in which a light-shielding thin film such as a chromium film is formed on one main surface of a glass substrate having a square main surface, and the above-described chemically amplified resist film is formed thereon, for example. Is housed in the
Note that the
本実施形態の中ケース2は、開口部側(上方)から底面側(下方)に向けて複数の溝21,22を一方の互いに対向する内側面に所定間隔をおいて一対をなして形成し、その溝21,22の底面側の底部と中ケース底面にはそれぞれ開口窓23,24と開口部27が設けられ、さらに中ケース底面側には基板支持部26が形成され、この基板支持部26でマスクブランク1の下方端面を支持している(図6、図8参照)。そして、この中ケース2を容器本体3に収納して固定するための凹面部28,29がそれぞれ中ケースの他方の互いに対向する外側面に底面側から開口部側の途中まで形成されている(図6参照)。なお、中ケース2の開口部側の上端面25から前記基板支持部26までの高さ寸法は、収納するマスクブランク1の高さ寸法の主要部分に相当し、マスクブランク1を中ケース2に収納したとき、マスクブランク1の上方部分が中ケース2の上端面25からとび出る構造となっている(図8参照)。数枚のマスクブランク1を中ケース2の一対の溝21,22に沿って入れると、これらのマスクブランクは所定間隔をおいて互いに平行に林立する。本実施形態では垂直方向に林立するが、傾斜方向にしてもよい。
In the
本実施形態の容器本体3は、前述した中ケース2の凹面部28,29と当接するに適合した突出部31,32を、互いに対向する内側面に形成し、その突出部31,32の底部は容器本体3底面とも接合している(図7参照)。また、一方の対向する外側面の開口部側には凸部33,34が形成されている。そして、容器本体3の開口縁35のやや下方の位置に続く外周面36と上記凸部33,34の凸面とは略同一面に形成されている。
本実施形態の蓋4は、その一方の対向する下方縁(容器本体へ差し込む開口部側の縁であって、図5では上方へ向いている)47から延びた係合片41,42に凹部43,44を形成している。これにより、蓋4を容器本体3に被せたときに、上記凹部43,44が前記容器本体3の凸部33,34とそれぞれ係合することで、蓋4と容器本体3とが固定される(図8参照)。また、中ケース2の開口部側上端面25と当接して中ケース2を垂直方向において支持固定するストッパー45,46を一方の内側面に互いに対向させて形成している(図5参照)。なお、蓋4の凹部43,44と容器本体3の凸部33,34を設けないで、蓋4を容器本体3にそのまま被せる構成としてもよい。また、蓋4の凹部と容器本体3の凸部とを係合させる構成とする場合においても、対向する一方の側だけでなく、四方にそれぞれこのような係合手段を形成してもよい。
The
The
以上の中ケース2、容器本体3及び蓋4の材質は、例えばポリプロピレン、アクリル、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエチルサルファイト等の樹脂から適宜選択される。これらの中でも、ポリカーボネート或いはポリエステルが好ましい。また、容器本体3及び蓋4の材質としてはポリカーボネートが好ましく、中ケース2の材質としてはポリエステルが好ましい。このポリエステルとしては、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ポリエチレンテレフタレート(PET),ポリブチレンテレフタレート(PBT)等が好ましい。また、アクリロニトリルとブタジエンとスチレンの共重合樹脂(ABS樹脂)なども好ましく用いることができる。なお、マスクブランクの保管中にチャージが溜まると、マスク製造過程において放電破壊を起こし、パターン欠陥となる場合があるので、たとえば容器本体3の構成樹脂にカーボン等を混ぜ込んで導電性を付与することが好ましい。
容器本体3の上から蓋4を被せて、蓋4の凹部43,44を容器本体3の凸部33,34と係合させて蓋4と容器本体3とを固定すると、蓋4の下方縁に続く外周面48と容器本体3の開口縁に続く外周面36とが前後に重なり合って接合される。
The material of the above
When the
本実施の形態では、蓋4のコーナーの一箇所に外気と内気との通気孔49が穿設されており、この通気孔49にフィルター部材5が蓋4の内側に向けて取り付けられている(図5、図8参照)。フィルター部材5は、内部にフィルターを保持する鍔状のフィルター保持部52の両側に気体の流路であるパイプ51と53がそれぞれ一体で形成された構成となっており、本実施形態では、パイプ51側が蓋4の通気孔49に取り付けられ、パイプ53側が蓋4の内方へ向いている。フィルター保持部52は分割できて、内部のフィルターの装着、取外しが可能なように構成されている。なお、通気孔49を設けた蓋4のコーナー部は内方に凹んでおり、その凹面に上記フィルター保持部52を当接させている。
従って、本実施形態に係る収納容器にマスクブランクを収納保管した状態で、上記通気孔49を通して外気の進入があっても、その外気に含まれている化学物質等の異物はフィルター部材5によって除去され、清浄化された外気のみがそのまま容器内に入るため、容器内部の清浄度は保たれる。
In the present embodiment, a
Therefore, even when outside air enters through the
ところで、上述のフィルター部材5の断面図を図10に示したが、外光が上記通気孔49からフィルター部材5の中を通過して収納容器の内部に至る光路が直線状であると、外光が収納容器の内部に入る可能性がある。この場合、フィルター部材5の内部にはフィルター54が装着されており、光はこのフィルター54を透過するおそれも考えられる。フィルター54の材質によっては特定の波長域の光を遮蔽することが可能であるものの、マスクブランク上のレジスト膜の感光波長域を完全に遮光できるとは限らない。
By the way, FIG. 10 shows a cross-sectional view of the
そこで、本発明では、上記フィルター部材を例えば図1に示すような構造とした。すなわち、図1は本発明に用いるフィルター部材の一実施の形態を断面図で示したものであるが、これによると、フィルター部材6は、内部にフィルターを保持する鍔状のフィルター保持部62の両側に気体の流路であるパイプ61と63がそれぞれ対応する位置とは異なる位置に一体で形成された構成となっており、パイプ61の内孔61aとパイプ63の内孔63aとはフィルター保持部62の空隙部62cを介して連通しており、外気と内気との通気を行えるようにしている。そして、例えばパイプ61側が蓋4の通気孔49に取り付けられ、パイプ63側が蓋4の内方へ向けられる。また、フィルター保持部62は62aの部分と62bの部分とに分割できて、内部のフィルター64の装着、取外しが可能なように構成されている。フィルター部材6の材質は光を遮蔽できる材質であれば特に限定されないが、例えばポリプロピレン(PP)、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)等で形成することができる。
Therefore, in the present invention, the filter member has a structure as shown in FIG. In other words, FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of a filter member used in the present invention. According to this, the
このように構成されたフィルター部材6によれば、外光が蓋4の通気孔49からフィルター部材6を通過して収納容器内部に進入する光路を直線状とならないようにずらしたため、外気と内気の通気には何ら支障を来たすことなく、光の直進性により、たとえばパイプ61側から入った光はフィルター部材6内部でその光路を阻まれるので、さらにパイプ63側から収納容器内部に入るのを阻止することができる。
図2の(a)は、上記フィルター部材6の外観斜視図である。また、図2の(b)と(c)はそれぞれフィルター部材6の他の実施の形態を示したもので、(b)はフィルター保持部62に対してその両側のパイプ64とパイプ65を同じ側へ斜めに向けて一体で形成された構成を示し、(c)はフィルター保持部62に対してその両側のパイプ66とパイプ67を反対側へ斜めに向けて一体で形成された構成を示している。これらフィルター部材の他の実施の形態によっても、光路を直線状とならないようにずらしたことにより、外光の収納容器内への進入を好適に阻止することができる。
According to the
FIG. 2A is an external perspective view of the
また、上記フィルター部材の収納容器内方へ向いた端部を光遮蔽部材で覆うようにしてもよい。例えば、図3に示すようなキャップ部材7を用いることができる。図3の(a)は、鍔状の本体71の内側に互いに平行に穿設された2つの円孔72,73を有する構造のキャップ部材を示し、(b)は、鍔状の本体71の内側に互いに斜めに穿設された2つの円孔74,75を有する構造のキャップ部材を示したものである。(a)に示すものは上述の図2(a)のフィルター部材に被せるのに好適であり、(b)に示すものは上述の図2(b)、(c)のフィルター部材に被せるのに好適である。
また、前述の図10に示す構造のフィルター部材5の場合においても、図4に示すように、フィルター部材5の収納容器内方へ向いたパイプ53の端部を覆うような光遮蔽材料(例えばPMMAなど)でできたキャップ部材8を被せるようにしてもよい。これによっても、外光の収納容器内への進入を好適に阻止することが可能になる。なお、この場合、図4の(a)に示すように、フィルター部材5のパイプ53側からキャップ部材8を被せるようにしてもよいし、あるいは同図(b)に示すように、フィルター部材5のパイプ51側からキャップ部材8を被せるようにしてもよい。
Moreover, you may make it cover the edge part which turned to the storage container of the said filter member with the light shielding member. For example, a cap member 7 as shown in FIG. 3 can be used. 3A shows a cap member having a structure having two
In the case of the
なお、上記フィルター部材6に使用するフィルターとしては、例えば通常、クリーンルームで用いられるエアーフィルターを用いることができる。このようなフィルターとしては、HEPAフィルター(high efficiency particulate air filter)やULPAフィルター(ultra low penetration particulate air filter)を好ましく挙げることができる。HEPAフィルターは、高効率のエアーフィルターで、主にクリーンルームの空気浄化に用いられ、材質は主にガラス繊維製である。また、ULPAフィルターは、超LSI製造の微細化に伴って開発された超々高性能フィルターで、材質はガラス繊維製、フッ素系樹脂製が主である。フィルターの能力は、0.05μm以上のパーティクルを捕捉できるフィルターであることが好ましい。HEPAフィルターやULPAフィルター等のエアーフィルターの選択は費用対効果などを勘案して適宜選択することができる。実用上はHEPAフィルターを用いることができる。
In addition, as a filter used for the said
また、特に化学物質による汚染を排除する必要がある化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクを収納保管する場合は、化学物質を吸着させるフィルター(ケミカルフィルター)を単独で或いは上記エアーフィルターと組み合わせて用いることが好ましい。このようなケミカルフィルターとしては、例えば活性炭フィルターやイオン交換型フィルターを好ましく用いることができる。活性炭フィルターやイオン交換型フィルター等のケミカルフィルターの選択は費用対効果などを勘案して適宜選択することができる。実用上は活性炭フィルターを用いることができる。
このような化学増幅型レジストを汚染する、つまり化学増幅型レジストの所望の化学増幅効果を阻害(化学増幅効果が所望に比べて増進してしまい、或いは抑制されてしまい、所定のレジストパターンが形成されなくなること)する化学物質としては、酸性化学物質や塩基性化学物質が挙げられる。酸性化学物質としては、塩素イオンを含む物質、硫酸イオンを含む物質、リン酸イオンを含む物質、硝酸イオンを含む物質等が挙げられる。また、塩基性化学物質としては、化学増幅反応の触媒となる酸の機能を抑制乃至阻害(例えば失活)させるアンモニア、アミン類、アニリン類、ニトリル類などの窒素を含む化合物等が挙げられる。
なお、上記フィルターの樹脂としては、光遮蔽の観点からは、黒色のものであることがより望ましい。
In addition, when storing and storing a mask blank having a chemically amplified resist film that needs to eliminate contamination by chemical substances, a filter (chemical filter) that adsorbs chemical substances is used alone or in combination with the air filter. It is preferable. As such a chemical filter, for example, an activated carbon filter or an ion exchange filter can be preferably used. The selection of a chemical filter such as an activated carbon filter or an ion exchange filter can be appropriately selected in consideration of cost effectiveness. In practical use, an activated carbon filter can be used.
Such chemical amplification resist is contaminated, that is, the desired chemical amplification effect of the chemical amplification resist is inhibited (the chemical amplification effect is enhanced or suppressed as compared with the desired, and a predetermined resist pattern is formed. Examples of chemical substances to be removed include acidic chemical substances and basic chemical substances. Examples of acidic chemical substances include substances containing chlorine ions, substances containing sulfate ions, substances containing phosphate ions, substances containing nitrate ions, and the like. In addition, examples of the basic chemical substance include nitrogen-containing compounds such as ammonia, amines, anilines, and nitriles that suppress or inhibit (for example, deactivate) the function of an acid serving as a catalyst for a chemical amplification reaction.
The resin for the filter is more preferably black from the viewpoint of light shielding.
以上のように、本発明の収納容器によれば、マスクブランク等の収納保管中に上記通気孔49から外気の侵入があっても、外気に含まれている化学物質等の異物はフィルター部材6(5)によって容器内への進入が阻止されるため、マスクブランクを収納した時の清浄な雰囲気をそのまま長期間でも維持しながら保管することが出来、外気がそのまま容器内に進入してそれに含まれる化学物質等の異物によって汚染される恐れがない。従って、保管される環境の影響を受けやすく、特に清浄な雰囲気で保管することを要求される化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクの収納保管に本発明は好適である。しかも、本発明の収納容器によれば、外光がたとえ上記通気孔からフィルター部材内に入ったとしても、フィルター部材を透過して収納容器内に進入するのを阻止することが可能であるため、マスクブランクのレジスト膜が外光の進入により感光されることを防止することができる。
As described above, according to the storage container of the present invention, even if the outside air enters from the
なお、蓋4と容器本体3との接合部、つまり蓋4を容器本体3に被せたときの蓋4の下方縁に続く外周面48と容器本体3の開口縁に続く外周面36とが前後に重なり合った接合部からの外気の進入も通常は考えられるが、本実施の形態のように、容器に通気孔49を設けたことにより、外気の進入があってもこの通気孔49から優先的に進入するため、容器内の汚染は十分に防止することができる。
また、本実施の形態では、通気孔49及びフィルター手段6(5)を蓋4のコーナーの一箇所に設けているが、これに限定される必要は全くなく、収納するマスクブランク等に接触しないような箇所であればコーナーでなくてもよく、また、一箇所でなく複数箇所に設けてもよい。また、本実施形態のような蓋4の天板ではなく、容器本体3側に設けてもよい。
It should be noted that the joint between the
Further, in the present embodiment, the
また、図9は本発明に係わるマスクブランクの収納容器の他の実施の形態を示すもので、1枚のマスクブランクを水平方向に収納保管できる1枚入りケースである。
かかるマスクブランク収納容器100は、大きく分けると2つの部材、すなわち蓋101と本体ケース102とからなり、内部に1枚の四角形状のマスクブランク1が水平状態に収納されている。
上記蓋101は、収納されるマスクブランクの形状に合わせて、全体が四角形状に形成され、下方が開口している。蓋101の上面の対向する一側には、蓋101を手で持ち上げるのに便利なように鍔部103,103が水平方向に張り出すように蓋101と一体に延設されている。また、蓋101の内方の一コーナーには、前述のフィルター部材6が取り付けられている。一方、上記本体ケース102は、上記蓋101よりも一回り大きな四角形状に形成されている。蓋101と本体ケース102とは、蓋101の側壁に一体に形成された左右2つのヒンジ板105,105に回転自在に保持された固定部材106を本体ケース102の切り欠き部(凹部)104に嵌め込むことにより一体的に固定できるように構成されている。
FIG. 9 shows another embodiment of a mask blank storage container according to the present invention, which is a case containing one mask blank that can be stored and stored in the horizontal direction.
The mask
The
本実施の形態の収納容器100においても、マスクブランク等の収納保管中に通気孔から外気の侵入があっても、外気に含まれている化学物質等の異物はフィルター部材6によって容器内への進入が阻止されるため、マスクブランクを収納した時の清浄な雰囲気をそのまま長期間でも維持しながら保管することが出来る。しかも、外光がたとえ上記通気孔からフィルター部材6内に入ったとしても、フィルター部材6を透過して収納容器内に進入するのを阻止することが可能であるため、マスクブランクのレジスト膜が外光の進入により感光されることを防止することができる。
Even in the
また、本発明が適用されるマスクブランクは、ガラス基板などの透光性基板上にCr等の遮光性膜を形成したマスクブランク、基板上にハーフトーン(半透光性)膜を形成した位相シフト型マスク用のマスクブランク、基板上に、露光光を反射する例えばMo/Si多層反射膜と露光光を吸収する例えばTa系吸収体膜を形成した反射型マスク用のマスクブランク等が含まれる。また、本発明は、レジスト膜を有するマスクブランクの収納保管に特に好適である。また、本発明は、正方形状のマスクブランク等に限らず、その他の形状、例えば円盤状の基板を収納する場合にも適用できることは言うまでもない。
以下、具体的な実施例により本発明を説明する。
The mask blank to which the present invention is applied is a mask blank in which a light-shielding film such as Cr is formed on a light-transmitting substrate such as a glass substrate, and a phase in which a halftone (semi-transparent) film is formed on the substrate. A mask blank for a shift type mask, a mask blank for a reflective mask in which, for example, a Mo / Si multilayer reflective film that reflects exposure light and a Ta-based absorber film that absorbs exposure light are formed on the substrate are included. . The present invention is particularly suitable for storing and storing a mask blank having a resist film. Needless to say, the present invention is not limited to a square mask blank or the like, but can be applied to other shapes such as a disc-shaped substrate.
Hereinafter, the present invention will be described with reference to specific examples.
石英基板(大きさ152mm×152mm)上に、クロムターゲットを用いてスパッタ法でクロム(Cr)からなる遮光膜を1000Åの厚さに形成した。次いで、その遮光膜上にスピンコート法でレジスト膜を5700Åの厚さに形成してレジスト膜付きマスクブランクを製造した。上記レジストとしてはポジ型レジストTHMR−IP1700(東京応化工業株式会社製)を用いた。
このようにして製造した100枚のマスクブランクを前述の図5乃至図8に示す実施形態の収納容器10箱に分けて収納した。なお、蓋と容器本体の材質はポリカーボネート、中ケースの材質はポリブチレンテレフタレートを用いた。また、容器に取り付けるフィルター部材は前述の図1に示す実施形態のフィルター部材6を用いた。またこのフィルター部材6に装着するフィルターとしては、活性炭フィルターとHEPAフィルターを組み合わせて使用した。収納作業は活性炭フィルター及びULPAフィルターで清浄化されたクリーンルーム内で行った。
On a quartz substrate (size 152 mm × 152 mm), a light-shielding film made of chromium (Cr) was formed to a thickness of 1000 mm by a sputtering method using a chromium target. Next, a resist film was formed on the light-shielding film by a spin coating method to a thickness of 5700 mm to manufacture a mask blank with a resist film. As the resist, a positive resist THMR-IP1700 (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was used.
100 mask blanks manufactured in this way were stored separately in 10 storage containers of the embodiment shown in FIGS. The lid and container body were made of polycarbonate, and the middle case was made of polybutylene terephthalate. Moreover, the
この収納容器を更に梱包袋に梱包して、航空機でカーゴ輸送を行った。そして、輸送された収納容器を上記と同様のクリーンルーム内で開封し、取り出したマスクブランクに所定の電子線描画を行い、続いて所定の現像、エッチングを行って、転写マスクを製造した。製造した転写マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、100枚の何れからも特に問題となる欠陥は発見されなかった。 This storage container was further packed in a packing bag, and cargo was transported by aircraft. Then, the transported storage container was opened in a clean room similar to the above, and a predetermined electron beam was drawn on the taken-out mask blank, followed by predetermined development and etching to manufacture a transfer mask. When the quality of the manufactured transfer mask was inspected in detail with a scanning electron microscope, no particularly problematic defect was found from any of the 100 sheets.
(比較例)
上述の実施例において、図10に示す構造のフィルター部材(外光がフィルター部材5の中を通過して収納容器の内部に至る光路が直線状となるものを使用)を取り付けた収納容器(蓋、容器本体及び中ケースの材質は実施例と同じ材質を用いた)を使用したこと以外は、実施例と同様にしてマスクブランクを製造し、収納し、輸送を行った。
輸送後のマスクブランクを用いて実施例と同様にして製造された転写マスクの品質を走査型電子顕微鏡で詳細に検査したところ、一部のマスクには、パターン描画の前にレジスト膜が感光していたことによるパターンの線幅に乱れが生じていることが発見された。これは、クリーンルーム内の蛍光灯の光が収納容器の通気孔からフィルター部材を透過して内部に入って、マスクブランクのレジスト膜が感光されてしまったものと考えられる。
(Comparative example)
In the embodiment described above, a storage container (lid) with a filter member having a structure shown in FIG. 10 (using a light path in which the external light passes through the
When the quality of the transfer mask manufactured in the same manner as in the example using the mask blank after transportation was inspected in detail with a scanning electron microscope, the resist film was exposed to light before pattern drawing on some masks. It was discovered that the line width of the pattern was disturbed due to what was happening. This is presumably because the light of the fluorescent lamp in the clean room passes through the filter member from the vent of the storage container and enters the inside, and the resist film of the mask blank is exposed.
1 マスクブランク
2 中ケース
3 容器本体
4 蓋
5、6 フィルター部材
7,8 キャップ部材
49 通気孔
DESCRIPTION OF
Claims (7)
外気中の異物が収納容器内に進入するのを阻止するフィルター手段を備えるとともに、外光が前記フィルター手段を透過して収納容器内に進入するのを阻止する手段を設けたことを特徴とするマスクブランク収納容器。 A mask blank storage container that includes at least a container main body and a lid that covers the container main body, and stores a mask blank therein,
A filter means for preventing foreign matter in the outside air from entering the storage container, and means for preventing external light from passing through the filter means and entering the storage container are provided. Mask blank storage container.
The mask blank storage body according to claim 6, wherein the mask blank is a mask blank having a resist film.
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