JP5393298B2 - Mask case - Google Patents
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Description
本発明は半導体製造用のマスクケースに係り、特に、軟Ｘ線領域等の短波長を使用して形成される、集積度の高い半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬及び保管に適したマスクケースに関する。 The present invention relates to a mask case for manufacturing a semiconductor, and particularly suitable for transporting and storing a mask used in a manufacturing process of a highly integrated semiconductor circuit formed using a short wavelength such as a soft X-ray region. Related to the mask case.
従来から、半導体回路（集積回路）の集積度は高まる一方であり、これに伴って、その回路パターンには微細化や高精度化の要求、さらには低欠陥であることの要求が強く求められている。しかも、このような要求は、集積度の目標水準の高さに応じた世代交代によって、段階的に高まり、場合によっては飛躍的に高められる。 Conventionally, the degree of integration of semiconductor circuits (integrated circuits) has been increasing, and along with this, there has been a strong demand for miniaturization and high accuracy of the circuit patterns, as well as low defects. ing. In addition, such demands are increased step by step by generational changes corresponding to the target level of integration, and in some cases it is dramatically increased.
一方、半導体回路の集積度に関する前述の目標水準を達成するためには、回路パターンの形成工程等で使用されるマスクについても、それに対応した水準、即ち、より高度な微細加工に耐えられる水準が要求される。具体的には、従来、例えば波長１９３nｍのＡｒＦレーザ叉は波長２４８nｍのKｒＦレーザを使用していたが、回路幅が３２nｍ以下と細線化してきたので波長１３．５nｍのＥＵＶＬを使ってパターニングする方法の利用が要望されている。
当然ながら、マスクにも要求されるこのような高度な集積度の高さの水準は、マスクの製造直後だけではなく、実際にそれを用いる半導体回路の製造工程まで維持される必要がある。しかしながら、一般に、マスクの製造メーカ或いは製造場所は、半導体回路の製造メーカ（即ちマスクのユーザ）や、その製造場所とは異る離れた場所であることが多いので、特に、製造後に出荷されるマスクの輸送工程において、輸送時の振動等により、塵埃が発生し、またケースからの発生ガスの影響によりマスクの品質劣化を招く危険性を有していた。
On the other hand, in order to achieve the above-mentioned target level regarding the degree of integration of the semiconductor circuit, the mask used in the circuit pattern forming process or the like also has a level corresponding thereto, that is, a level that can withstand higher-level fine processing. Required. Specifically, for example, an ArF laser having a wavelength of 193 nm or a KrF laser having a wavelength of 248 nm has been conventionally used. However, since the circuit width has been reduced to 32 nm or less, patterning is performed using EUVL having a wavelength of 13.5 nm. The use of is demanded.
Needless to say, such a high level of integration required for the mask needs to be maintained not only immediately after the mask is manufactured, but also in the manufacturing process of the semiconductor circuit using the mask. However, in general, a mask manufacturer or a manufacturing place is often a semiconductor circuit manufacturer (that is, a user of the mask) or a place different from the manufacturing place. In the mask transport process, there is a risk that dust is generated due to vibration during transport, and the quality of the mask is deteriorated due to the influence of gas generated from the case.
このような問題点に対処するため、従来は、製造直後のマスク表面に、セルロース系あるいはフッ素系ポリマーなどのペリクル膜と呼称される薄い透明膜（フィルム）を貼り付け、出荷ケースと呼称される輸送用のケースに収納した上で、該マスクのユーザ先まで輸送している。
このペリクル膜はマスクにつけたままで半導体回路のネガフィルムに当たる機能を果たすマスクから塵埃を守る保護カバーの役割を果たす。また、ユーザ先における半導体回路の形成に際して、ＡｒＦまたはＫｒＦのレーザ光はペリクル膜を透過し、ペリクル膜表面に付着した塵埃があっても焦点のずれが発生しない。そこで、ペリクル膜を除去することなくウエハーに回路パターンを焼き付けることができる。
In order to cope with such problems, conventionally, a thin transparent film (film) called a pellicle film such as a cellulose-based polymer or a fluorine-based polymer is pasted on the mask surface immediately after manufacturing, and this is called a shipping case. After being stored in a transport case, it is transported to the user of the mask.
The pair Li cycle film to play a role of a protective cover to protect the mask or al dust functions impinging on the negative film of a semiconductor circuit while wearing the mask. Further, when forming a semiconductor circuit at the user's site, ArF or KrF laser light is transmitted through the pellicle film, and no defocusing occurs even if there is dust adhering to the surface of the pellicle film. Therefore, the circuit pattern can be printed on the wafer without removing the pellicle film.
この分野の関連技術としては、例えば、特許文献１には、マスクケースの内壁に導電性の素材を用いると共にガス排出量の少ない素材を用いることにより、マスクの静電破壊と表面汚染とを防止することを意図したマスクケースが開示されている。
また、例えば、特許文献２には、フォトマスクケースの内壁部にガスバリア層を設けることにより、フォトマスクの曇りを防止することを意図したフォトマスクケースが開示されている。
As a related technique in this field, for example, in Patent Document 1, a conductive material is used for the inner wall of the mask case, and a material with a small gas discharge amount is used to prevent mask electrostatic breakdown and surface contamination. A mask case intended to do so is disclosed.
For example, Patent Document 2 discloses a photomask case intended to prevent fogging of the photomask by providing a gas barrier layer on the inner wall portion of the photomask case.
しかしながら、上記背景技術で述べた従来のマスクケースにあっては、集積度の目標水準が少なくとも１世代古い半導体回路の製造に使用されるマスクケースであるため、マスクケースに課せられたマスク劣化防止目標の水準が、新しい世代に課せられる目標水準よりも低く、よって、このままでは新しい世代の半導体回路の製造工程に役立たせることができないという問題点があった。 However, since the conventional mask case described in the background art is a mask case used for manufacturing a semiconductor circuit having a target level of integration that is at least one generation old, it prevents the mask deterioration imposed on the mask case. There is a problem that the target level is lower than the target level imposed on the new generation, so that it cannot be used for the manufacturing process of the new generation semiconductor circuit.
より具体的には、半導体回路の微細度の向上と共に、マスクに付着すると差し障りがあるので許容できない塵埃のサイズも微細化することになる。即ち、新しい世代の半導体回路の製造には、１世代前の半導体回路の製造に使用されるよりも、より短波長の露光用の光（例えば、軟Ｘ線領域の光）が使用されるので、物質に対する透過性が極めて小さくなり、即ち、露光用の光は反射及び吸収されてしまうため、従来のペリクルを使用した透過光学系の縮小投影を行うことができず、反射光学系を使用することになるため、マスク表面の塵埃の影響が大きくなる。 More specifically, along with the improvement in the fineness of the semiconductor circuit, the size of dust that is unacceptable due to the trouble of adhering to the mask is also reduced. That is, in the production of a new generation semiconductor circuit, exposure light having a shorter wavelength (for example, light in the soft X-ray region) is used than in the production of a semiconductor circuit of the previous generation. The transmittance to the substance becomes extremely small, that is, the exposure light is reflected and absorbed, so that the reduction projection of the transmission optical system using the conventional pellicle cannot be performed, and the reflection optical system is used. Therefore, the influence of dust on the mask surface is increased.
また、同様の理由により、前述のペリクル膜を貼り付けた状態のマスクを、従来のようにそのまま露光等に使用すると、新しい世代の半導体回路の製造には前述の軟Ｘ線領域等の短波長の露光光が使用されるので、該露光光はペリクル膜を透過しないため、有効な露光が行われなくなるという問題点が生ずる。
さらに、許容されるケース素材からの発生ガス量の水準（ケース素材重量当たりの排出ガス重量）も厳しくなるので、この厳しい発生ガス量の水準をクリアできる素材を使用することも課題であった。
For the same reason, if the above-described mask with the pellicle film attached is used as it is for exposure or the like as in the prior art, a short wavelength such as the above-mentioned soft X-ray region is used for manufacturing a new generation of semiconductor circuits. Since the exposure light is not transmitted through the pellicle film, effective exposure cannot be performed.
Furthermore, since the level of the amount of gas generated from the case material allowed (exhaust gas weight per case material weight) becomes strict, it is also a problem to use a material that can clear this strict level of gas generation.
本発明は、上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、軟Ｘ線領域等の短波長を使用して形成される、より集積度の高い新世代の半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬時及び保管時において、マスク表面に貼り付けるペリクル膜の使用を不要にすると共に、塵、埃、静電気、及びガスの発生を防止することができるマスクケースを提供することを目的としている。 The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and is used in a manufacturing process of a new generation semiconductor circuit having a higher degree of integration formed using a short wavelength such as a soft X-ray region. An object of the present invention is to provide a mask case that can eliminate the use of a pellicle film to be attached to the mask surface during transportation and storage of the mask, and can prevent generation of dust, dirt, static electricity, and gas. It is said.
上記課題を解決するために、本発明に係るマスクケースは、半導体回路等の形成に使用されるマスクの輸送用及び保管用として使用するマスクケースであって、内ケース上部と内ケース下部とから成り、前記内ケース上部と前記内ケース下部との間に前記マスクを挟み込んで収納することができる内ケースと；出荷ケース上部と出荷ケース下部とから成り、前記内ケースを収納することができる出荷ケースと；前記内ケース上部と前記出荷ケース上部との間に挿入される上緩衝材と；前記内ケース下部と前記出荷ケース下部との間に挿入される下緩衝材と；前記内ケース下部又は上部の内面周辺部に埋設され、前記内ケース上部又は下部周辺とそれぞれ突接するパッキンと、
前記マスクを前記内ケース上部及び下部と前記パッキンとで形成される空間内に収納した時、前記内ケース上部と内ケース下部の内面がともに前記マスクの表裏面と空間を置くように、前記内ケースの上部と下部の各コーナに設けられた円錐状または円盤状の導電性弾性体からなるパッドと；を備えたことを特徴とするマスクケースを提供するものである。
In order to solve the above problems, a mask case according to the present invention is a mask case used for transporting and storing a mask used for forming a semiconductor circuit or the like, and includes an upper part of an inner case and a lower part of the inner case. An inner case capable of storing the mask sandwiched between the upper part of the inner case and the lower part of the inner case; and a shipment which can store the inner case, comprising an upper part of the shipping case and a lower part of the shipping case A case; an upper cushioning material inserted between the inner case upper part and the shipping case upper part; a lower cushioning material inserted between the inner case lower part and the shipping case lower part ; the inner case lower part or A packing embedded in the inner peripheral portion of the upper part and projectingly contacting the upper or lower periphery of the inner case,
When the mask is housed in a space formed by the upper and lower portions of the inner case and the packing, the inner surfaces of the inner case upper portion and the inner case lower portion are both placed on the front and back surfaces of the mask. And a pad made of a conical or disc-shaped conductive elastic body provided at each of the upper and lower corners of the case.
また、前記マスクケースにおいて、前記内ケースの内面周辺部には、前記マスクケースを固定するための内ケース上部と内ケース下部の密閉性を向上させるためのパッキンが埋設されていることを特徴とする。
また、前記マスクケースにおいて、前記マスクを前記内ケース上部及び下部と前記パッキンとで形成される空間内に収納した時、前記ケースの内面は前記マスクの表面との間に薄い空間を有する。そのため前記ケースの上面及び下面のそれぞれの４つの各コーナには少なくとも２個の導電性弾性体、例えば導電性ゴムが貼り付けられ、マスクはこの上面及び下面の導電性ゴムによりケース内に固定される。なお、上面ケースと下面ケースは、下面ケースの内側周辺に設けた溝に勘合し、数ｍｍ突き出しているパッキングに上面ケースの周辺の設けた凸部が突接して、機密に上面ケースと下面ケースを前記クランプで固定する。
また、前記マスクケースにおいて、前記内ケース上部又は下部には、外部との通気を確保するためフィルタを備える。このフィルタは、ケース内で発生するアウトガスを除去するため活性炭を有する。
Further, in the mask case, a packing for improving the hermeticity of the inner case upper part and the inner case lower part for fixing the mask case is embedded in the inner periphery of the inner case. To do.
In the mask case, when the mask is housed in a space formed by the upper and lower portions of the inner case and the packing, the inner surface of the case has a thin space between the surface of the mask. Therefore, at least two conductive elastic bodies, for example, conductive rubber, are attached to each of the four corners on the upper and lower surfaces of the case, and the mask is fixed in the case by the conductive rubber on the upper and lower surfaces. The The upper case and the lower case are fitted into a groove provided on the inner periphery of the lower case, and the convex portion provided on the periphery of the upper case is in contact with the packing protruding several millimeters, so that the upper case and the lower case are kept secret. Is fixed with the clamp.
In the mask case, a filter is provided at the upper or lower portion of the inner case to ensure ventilation with the outside. This filter has activated carbon to remove outgas generated in the case.
また、前記マスクケースにおいて、前記内ケース上部には、前記内ケース下部と係合するための留め具が設けられている。
また、前記マスクケースにおいて、前記ケース上部とケース下部を構成するプラスチックは、導電性ポリカーボネートである。
さらに、前記マスクケースにおいて、前記上緩衝材と下緩衝材を構成する素材は導電性ポリエチレンテレフタレートであることを特徴とする。なお、特別に指定しない限り、すべての材料は導電性材料で、これは塵埃を付着させる静電気を発生させないためである。
Moreover, the said mask case is provided with the fastener for engaging with the said inner case lower part in the said inner case upper part.
In the mask case, the plastic constituting the case upper part and the case lower part is conductive polycarbonate.
Further, in the mask case, the material constituting the upper cushioning material and the lower cushioning material is conductive polyethylene terephthalate. Unless otherwise specified, all materials are conductive materials, because they do not generate static electricity that causes dust to adhere to them.
以上説明したように、本発明のマスクケースによれば、内ケースの内ケース上部と内ケース下部と内ケース下部の内面周辺部に埋設され前記内ケース上部周辺と突接するパッキンとで形成される空間にマスクを挟み込んで収納し、該マスク内ケースのコーナに貼り付けられた導電性弾性体、例えばゴムでマスク上面と下面を押圧するので、密閉された空間内に設置されマスクが運搬中に振動せず、露光に影響する原因となる塵埃の発生が抑制される。 As described above, according to the mask case of the present invention, the inner case upper portion, the inner case lower portion, and the packing embedded in the inner peripheral portion of the inner case lower portion and in contact with the inner case upper portion periphery are formed. housed sandwich the mask space, the conductive elastic member affixed to the corners of the mask in the case, for example, so to press the mask upper and lower surfaces of a rubber, a mask is installed in a hermetically sealed space during transport Generation of dust that does not vibrate and affects exposure is suppressed.
また、該マスクを輸送及び保管する際には、従来のペリクル膜の貼り付けが不要となるので、軟Ｘ線領域の光を用いて露光する際にも、従来のペリクル膜が露光に影響するという問題点を解消することができる効果がある。
さらに、内ケースは、上緩衝材と下緩衝材とを介して出荷ケースに収納されるので、輸送や保管時の振動が防止され、露光に影響する塵、埃、の発生を防ぐことができる効果がある。
In addition, when the mask is transported and stored, the conventional pellicle film need not be attached. Therefore, the conventional pellicle film affects the exposure even when exposure is performed using light in the soft X-ray region. There is an effect that can solve the problem.
Furthermore, since the inner case is housed in the shipping case via the upper cushioning material and the lower cushioning material, vibration during transportation and storage can be prevented, and the generation of dust and dirt affecting exposure can be prevented. effective.
また、前記上緩衝材と下緩衝材を構成する素材として、ガスの発生量が抑制されると共に塵、埃、及び静電気の発生を防止できる素材（例えば、導電性ポリエチレンテレフタレート）を使用することにより、輸送時に本ケースが激しく揺さぶられても、露光に影響するガス、塵、埃、及び静電気の発生を防止することができる効果がある。
さらに、前記出荷ケース及び内ケースを構成する素材には、ガスの発生量が抑制されると共に塵及び埃を防止できる素材、例えば導電性ポリカーボネートを使用することで、露光に影響するガス、塵、及び埃の発生を防止することができる効果がある。
In addition, by using a material (for example, conductive polyethylene terephthalate) that suppresses generation of gas and prevents generation of dust, dust, and static electricity as a material constituting the upper cushioning material and the lower cushioning material. Even if the case is shaken violently during transportation, it is possible to prevent generation of gas, dust, dust, and static electricity that affect exposure.
Furthermore, the material constituting the shipping case and the inner case is a material that suppresses generation of gas and can prevent dust and dust, such as gas, dust, In addition, it is possible to prevent the generation of dust.
以下、本発明のマスクケースの実施形態について、図面を参照して詳細に説明するが、この説明における上下方向は、参照図どおりの上下方向とする。
図１は、本発明の実施形態に係るマスク用ケースの全体構成を俯瞰する外観図である。
また、図２は、本発明の実施形態に係るマスクケースの構成要素とその配置を示す断面図である。
Hereinafter, embodiments of the mask case of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The vertical direction in this description is the vertical direction as in the reference drawings.
FIG. 1 is an external view overlooking the overall configuration of a mask case according to an embodiment of the present invention.
Moreover, FIG. 2 is sectional drawing which shows the component of the mask case which concerns on embodiment of this invention, and its arrangement | positioning.
同図において、本実施形態のマスクケースは、主要部として、半導体回路の形成に使用されるガラス製のマスク１０を挟む内ケース上部１及び内ケース下部２と、内ケース上部１及び内ケース下部２の振動を防止するための上緩衝材３及び下緩衝材４と、全体を収納する出荷ケース上部５及び出荷ケース下部６、とを備える。
内ケース上部１の左右両端には、内ケース下部２を係合するための留め具１１が取り付けられている。内ケース下部２の上面周辺部には、内ケース密閉性を保持するパッキング２１を備える。
In the figure, the mask case of the present embodiment includes, as main parts, an inner case upper part 1 and an inner case lower part 2 sandwiching a glass mask 10 used for forming a semiconductor circuit, and an inner case upper part 1 and an inner case lower part. 2, an upper cushioning material 3 and a lower cushioning material 4 for preventing vibration, and a shipping case upper part 5 and a shipping case lower part 6 for accommodating the whole.
Fasteners 11 for engaging the inner case lower portion 2 are attached to the left and right ends of the inner case upper portion 1. A packing 21 is provided around the upper surface of the inner case lower portion 2 to maintain the inner case hermeticity.
内ケース上部１の平板部には、該平板部を貫通するガス抜き穴１２が設けられている。
ガス抜き穴１２の下部には、ガスを吸着することができる吸着膜（図示は省略）が貼り付けられている。この吸着膜を構成する素材としては、例えば、フッソ樹脂や活性炭が使用できる。
内ケース上部１、内ケース下部２、出荷ケース上部５、及び出荷ケース下部６を構成する素材には、ガスの発生量が抑制されると共に、塵、埃を防止できる素材を使用する必要があり、例えば、導電性ポリカーボネートを使用することが好ましい。
The flat plate portion of the inner case upper portion 1 is provided with a gas vent hole 12 penetrating the flat plate portion.
An adsorption film (not shown) that can adsorb gas is attached to the lower part of the gas vent hole 12. As a material constituting the adsorption film, for example, a fluorine resin or activated carbon can be used.
The material constituting the inner case upper part 1, the inner case lower part 2, the shipping case upper part 5 and the shipping case lower part 6 needs to use a material that suppresses the generation of gas and can prevent dust and dust. For example, it is preferable to use conductive polycarbonate.
上緩衝材３及び下緩衝材４を構成する素材には、ガスの発生量が抑制されると共に、塵、埃、及び静電気の発生を防止できる素材を使用する必要があり、例えば、厚さ２−３ｍｍの軽量な導電性ポリエチレンテレフタレートを使用することが好ましい。
内ケース上部１の上部には、上緩衝材３を介して出荷ケース５が位置し、内ケース下部２の下部には、下緩衝材４を介して出荷ケース６が位置している。
For the material constituting the upper cushioning material 3 and the lower cushioning material 4, it is necessary to use a material that suppresses the generation amount of gas and can prevent the generation of dust, dust, and static electricity. It is preferable to use -3 mm lightweight conductive polyethylene terephthalate.
A shipping case 5 is located above the inner case upper part 1 via the upper cushioning material 3, and a shipping case 6 is located below the inner case lower part 2 via the lower cushioning material 4.
パッキン２１を構成する素材としては、ゴム、合成樹脂等が可能である。
以下、本実施形態に係るマスクケースの機能を説明する。
製造されたマスク１０は、出荷時の輸送や、ユーザ先での保管に備えて、本実施形態に係るマスクケースに収納する。
The material constituting the packing 21 can be rubber, synthetic resin, or the like.
Hereinafter, the function of the mask case according to the present embodiment will be described.
The manufactured mask 10 is stored in the mask case according to the present embodiment in preparation for transportation at the time of shipment and storage at the user's site.
図３は、本発明の実施形態に係るマスクケースの内ケースの構成要素とその配置を示す断面図である。本実施形態に係るマスクケースの内ケースは、図３に示す内ケース上部１、内ケース下部２、及びパッキン２１から成る組み立て体である。
本実施形態に係るマスクケースの内ケースの形状及びサイズは、マスク１０は、例えば１５０ｍｍ角、厚さ６．３５ｍｍで、該マスクを収納することができる形状及びサイズとし、この限りにおいて、可能な限り、無駄スペースが存在しない構造とすることが好ましい。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing components and arrangement of the inner case of the mask case according to the embodiment of the present invention. The inner case of the mask case according to the present embodiment is an assembly including the inner case upper portion 1, the inner case lower portion 2, and the packing 21 shown in FIG.
The shape and size of the inner case of the mask case according to the present embodiment is such that the mask 10 is, for example, 150 mm square and 6.35 mm thick, and can have a shape and size that can accommodate the mask. As long as the structure has no wasted space, it is preferable.
上記パッキングとは別に、マスクケースの４個のコーナには、図４に示すように例えば円錐状または円盤状の弾性体、例えばゴムのパッド１３がケース内面に貼り付けられており、マスクを内ケース上部１と内ケース下部２との間に挟み込む。その後、内ケース上部１の左右両端に設けられた留め具（クリップ）１１の爪を下方向に押して、内ケース下部２と係合する。これにより、図５に示すようにマスク１０は、内ケース上部１と内ケース下部２との間に固定され、輸送時の振動が防止されるので、輸送時の振動摩擦による塵、埃、及びガスの発生を抑止することができる。 Apart from the above packing, the four corners of the mask case have, for example, a conical or disk-like elastic body, for example, a rubber pad 13 attached to the inner surface of the case as shown in FIG. It is sandwiched between the case upper part 1 and the inner case lower part 2. Thereafter, the claws of the fasteners (clips) 11 provided at the left and right ends of the inner case upper portion 1 are pushed downward to engage with the inner case lower portion 2. Thereby, as shown in FIG. 5, the mask 10 is fixed between the inner case upper part 1 and the inner case lower part 2, and vibration during transportation is prevented. Generation of gas can be suppressed.
さらに、内ケース上部１には、ガス抜き穴１２が設けられている。また、このガス抜き穴１２の下部には、前述のとおり、吸着膜が貼り付けられているので、外部から侵入したガスを吸着することができる。勿論、この吸着膜は、内部で発生したガスを吸着することも可能である。 Further, a gas vent hole 12 is provided in the inner case upper portion 1. In addition, since the adsorption film is attached to the lower part of the gas vent hole 12 as described above, it is possible to adsorb gas entering from the outside. Of course, this adsorption film can also adsorb gas generated inside.
図６は、本発明の実施形態に係るマスクケースの出荷ケースの構成要素とその配置を示す断面図である。
本実施形態に係るマスクケースの出荷ケースは、図６に示す出荷ケース上部５と出荷ケース下部６とから成る組み立て体である。
本実施形態のマスクケースに係る出荷ケース（第２のケース）の形状及びサイズは、前記内ケース（図３）を収納することができる形状及びサイズとし、この限りにおいて、可能な限り、無駄スペースが存在しない構造とすることが好ましい。
この出荷ケース（図６）は、内部に前記内ケース（図３）を収納するものであるが、この出荷ケースは、既成のものを使用することができる。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing components and arrangement of a shipping case of a mask case according to an embodiment of the present invention.
The shipping case of the mask case according to the present embodiment is an assembly including the shipping case upper part 5 and the shipping case lower part 6 shown in FIG.
The shape and size of the shipping case (second case) according to the mask case of the present embodiment are the shape and size that can accommodate the inner case (FIG. 3). It is preferable that the structure does not exist.
This shipping case (FIG. 6) accommodates the inner case (FIG. 3) inside, but this shipping case can be a ready-made one.
図７は、本発明の実施形態に係るマスクケースの上緩衝材３及び下緩衝材４の詳細構成を示す断面図である。
本実施形態に係るマスクケースは、上緩衝材３を、内ケース上部１と出荷ケース上部５との間に挿入し、下緩衝材４を、内ケース下部２と出荷ケース下部６との間に挿入する。これにより、前記内ケース（内ケース１、内ケース２、及びパッキン２１から成る組み立て体）は、内ケース上部１と内ケース下部２との間に固定され、輸送時の振動が防止されるので、輸送時の振動摩擦による塵、埃、及びガスの発生を抑止することができると共にマスク１０の損傷を防止することができる。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a detailed configuration of the upper cushioning material 3 and the lower cushioning material 4 of the mask case according to the embodiment of the present invention.
In the mask case according to the present embodiment, the upper cushioning material 3 is inserted between the inner case upper portion 1 and the shipping case upper portion 5, and the lower cushioning material 4 is inserted between the inner case lower portion 2 and the shipping case lower portion 6. insert. Thereby, the inner case (an assembly made up of the inner case 1, the inner case 2, and the packing 21) is fixed between the inner case upper portion 1 and the inner case lower portion 2, and vibration during transportation is prevented. In addition, generation of dust, dirt, and gas due to vibration friction during transportation can be suppressed, and damage to the mask 10 can be prevented.
なお、上緩衝材３及び下緩衝材４の形状及びサイズは、前記出荷ケース（図６）内に収納可能な形状及びサイズするが、形状には、強度、重量、及び押さえの効果を考慮して様々な形状を有することができる。 Note that the shape and size of the upper cushioning material 3 and the lower cushioning material 4 are the shapes and sizes that can be stored in the shipping case (FIG. 6). However, the shape, strength, weight, and effects of pressing are considered. And can have various shapes.
（その他の実施形態）
前記実施形態では、ガス抜き穴１２を内ケース上部１に設ける構成としたが、ガス抜き穴１２は内ケース下部２にも設けることが可能である。
また、前記実施形態では、パッキン２１を内ケース下部２の上面に設ける構成としたが、パッキン２１は内ケース上部１の下面に設ける構成とすることも可能であり、さらに、内ケース下部２の上面と内ケース上部１の下面との両方に設ける構成とすることも可能である。
(Other embodiments)
In the above embodiment, the gas vent hole 12 is provided in the upper part 1 of the inner case, but the gas vent hole 12 can also be provided in the lower part 2 of the inner case.
In the above embodiment, the packing 21 is provided on the upper surface of the inner case lower portion 2. However, the packing 21 may be provided on the lower surface of the inner case upper portion 1. It is also possible to adopt a configuration in which both the upper surface and the lower surface of the inner case upper portion 1 are provided.
前述の各実施形態に係るマスクケースは、内ケース上部１には有害なガスを排出するためのガス抜き穴１２を設けたので、マスク１０を使用した露光時において露光に影響する原因となる、塵、埃、及びガスの発生を防止することができる効果がある。 In the mask case according to each of the above-described embodiments, the inner case upper portion 1 is provided with the gas vent hole 12 for discharging harmful gas, which causes exposure during exposure using the mask 10. There exists an effect which can prevent generation | occurrence | production of dust, dust, and gas.
また、マスク１０を輸送及び保管する際には、従来のペリクル膜を使用することが出来ないので、軟Ｘ線領域の光を用いて露光する際にも、従来のペリクル膜が露光に影響するという問題点を解消することができる効果がある。
さらに、前述の各実施形態に係るマスクケースの内ケースは、上緩衝材３，４を介して出荷ケースに収納されるので、輸送や保管時の振動が防止され、露光に影響する塵、埃、の発生を防ぐことができる効果がある。
Further, since the conventional pellicle film cannot be used when the mask 10 is transported and stored, the conventional pellicle film affects the exposure even when exposure is performed using light in the soft X-ray region. There is an effect that can solve the problem.
Furthermore, since the inner case of the mask case according to each of the above-described embodiments is housed in the shipping case via the upper cushioning members 3 and 4, vibration during transportation and storage is prevented, and dust and dust that affect exposure. , There is an effect that can prevent the occurrence of.
また、上緩衝材３及び下緩衝材４を構成する素材には、ガスの発生量が抑制されると共に塵、埃、及び静電気の発生を防止できる素材、例えば、厚さ２−３ｍｍの軽量な導電性ポリエチレンテレフタレートを使用することで、輸送時に本ケースが激しく揺さぶられても、露光に影響するガス、塵、埃、及び静電気の発生を防止することができる効果がある。
さらに、内ケース上部１、内ケース下部２、出荷ケース５、及び出荷ケース６を構成する素材には、ガスの発生量が抑制されると共に塵及び埃を防止できる軽量な厚さ２−４ｍｍの素材、例えば導電性ポリカーボネートを使用することで、露光に影響するガス、塵、及び埃の発生を防止することができる効果がある。特に言及してないが、通常マスクはコーナ部を除いて４角形なので、内ケース、緩衝材、及び出荷ケースも４角形である。なおマスクが例えば円形であれば上記各収容ケースも円形となる。
The material constituting the upper cushioning material 3 and the lower cushioning material 4 is a material that suppresses the generation amount of gas and can prevent generation of dust, dust, and static electricity, for example, a lightweight material having a thickness of 2-3 mm. Use of conductive polyethylene terephthalate has an effect of preventing generation of gas, dust, dust, and static electricity affecting exposure even when the case is shaken violently during transportation.
Furthermore, the material constituting the inner case upper part 1, the inner case lower part 2, the shipping case 5 and the shipping case 6 has a lightweight thickness of 2-4 mm which can suppress the generation amount of gas and prevent dust and dust. By using a material, for example, conductive polycarbonate, it is possible to prevent generation of gas, dust, and dust that affect exposure. Although not specifically mentioned, since the mask is usually quadrangular except for the corner portion, the inner case, the cushioning material, and the shipping case are also quadrangular. If the mask is circular, for example, each of the storage cases is also circular.
本発明のマスクケースは、集積度の高い半導体回路の製造工程で使用されるマスクの運搬及び保管に使用することが可能であり、特に、軟Ｘ線領域の光を用いて露光する際に使用されるマスクの運搬及び保管に好適で、軽量で、しかも経済的なケースとして使用することができる。 The mask case of the present invention can be used for transporting and storing a mask used in a manufacturing process of a highly integrated semiconductor circuit, and particularly used when exposure is performed using light in a soft X-ray region. It is suitable for transporting and storing the mask to be used, and can be used as a lightweight and economical case.
１ 内ケース上部
２ 内ケース下部
３ 上緩衝材
４ 下緩衝材
５ 出荷ケース上部
６ 出荷ケース下部
１０ マスク
１１ 留め具（クリップ）
１２ ガス抜き穴
１３ パッド
２１ パッキン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inner case upper part 2 Inner case lower part 3 Upper shock absorbing material 4 Lower shock absorbing material 5 Shipping case upper part 6 Shipping case lower part 10 Mask 11 Fastening (clip)
12 Gas vent hole 13 Pad
21 Packing
Claims (5)
内ケース上部と内ケース下部とから成り、前記内ケース上部と前記内ケース下部との間に前記マスクを収容することができる内ケースと、
出荷ケース上部と出荷ケース下部とから成り、前記内ケースを収納することができる出荷ケースと、
前記内ケース上部と前記出荷ケース上部との間に挿入される上緩衝材と、
前記内ケース下部と前記出荷ケース下部との間に挿入される下緩衝材と、
前記内ケース下部又は上部の内面周辺部に埋設され、前記内ケース上部又は下部周辺とそれぞれ突接するパッキンと、
前記マスクを前記内ケース上部及び下部と前記パッキンとで形成される空間内に収納した時、前記内ケース上部と内ケース下部の内面がともに前記マスクの表裏面と空間を置くように、前記内ケースの上部と下部の各コーナに設けられた円錐状または円盤状の導電性弾性体からなるパッドと、
を備えたことを特徴とするマスクケース。 A mask case used for transporting and storing a mask used for forming a semiconductor circuit, etc.
An inner case comprising an inner case upper part and an inner case lower part, and an inner case capable of accommodating the mask between the inner case upper part and the inner case lower part,
A shipping case comprising a shipping case upper part and a shipping case lower part, wherein the inner case can be stored;
An upper cushioning material inserted between the inner case upper part and the shipping case upper part,
A lower cushioning material inserted between the lower part of the inner case and the lower part of the shipping case;
A packing embedded in the inner periphery of the lower part or upper part of the inner case, and in contact with the upper or lower part of the inner case, respectively,
When the mask is housed in a space formed by the upper and lower portions of the inner case and the packing, the inner surfaces of the inner case upper portion and the inner case lower portion are both placed on the front and back surfaces of the mask. A pad made of a conical or disc-shaped conductive elastic body provided at each of the upper and lower corners of the case;
A mask case characterized by comprising:
Mask case according to any one of claims 1 to 4 material characterized by conductive polyethylene terephthalate der Rukoto constituting said on cushioning material and the lower cushioning material.
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