JP2007194493A - 窒化物系半導体素子の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】InGaN活性層中のInの析出による発光効率の低下を抑制する窒化物系半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】窒化物系半導体素子の製造方法は、基板上に、n型半導体層を形成する工程と、n型半導体層上に、第1の成長温度で、InGaNを含む活性層を形成する工程と、活性層の形成後に、第1の成長温度よりも低い温度に降温する工程と、第1の成長温度よりも高い第2の成長温度に昇温し、活性層上に、p型GaN層を形成する工程とを含む。
【選択図】図2
【解決手段】窒化物系半導体素子の製造方法は、基板上に、n型半導体層を形成する工程と、n型半導体層上に、第1の成長温度で、InGaNを含む活性層を形成する工程と、活性層の形成後に、第1の成長温度よりも低い温度に降温する工程と、第1の成長温度よりも高い第2の成長温度に昇温し、活性層上に、p型GaN層を形成する工程とを含む。
【選択図】図2
Description
本発明は、窒化物系半導体素子の製造方法に関する。
青色、緑色又は紫色の光を発する半導体レーザ素子、発光ダイオード等の半導体発光素子として、窒化ガリウム半導体発光素子がある。GaN系半導体素子の製造の際には、GaNからなる基板の製造が困難であるため、サファイア、SiC、Si等からなる基板上にGaN系半導体層をエピタキシャル成長させている。
例えば、サファイア基板の(0001)面上にMOCVD(有機金属気相成長法)を用いて、GaN低温バッファ層、n−GaNコンタクト層、n−AlGaNクラッド層、n−GaN光ガイド層、InGaN多重量子井戸(MQW)活性層等が順に形成され、活性層上には、p−AlGaN層、p−GaNコンタクト層等が順に形成される(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−77416号公報
しかしながら、緑色LEDに用いられるInGaN活性層のように、In組成の高い活性層を結晶成長させる場合、Inが析出し、本来は透明の膜であるにもかかわらず、異色化してしまう問題があった。このため、素子の発光強度が落ちる要因ともなっていた。
そこで、本発明は、上記の課題に鑑み、InGaN活性層中のInの析出による発光効率の低下を抑制する窒化物系半導体素子の製造方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の特徴は、(a)基板上に、少なくとも1層以上の第1の窒化物系半導体層(例えば、n型半導体層)を形成する工程と、(b)第1の窒化物系半導体層上に、第1の成長温度で、InGaNを含む活性層を形成する工程と、(c)活性層の形成後に、第1の成長温度よりも低い温度に降温する工程と、(d)第1の成長温度よりも高い第2の成長温度に昇温し、活性層上に、少なくとも1層以上の第2の窒化物系半導体層(例えば、p型半導体層)を形成する工程とを含む窒化物系半導体素子の製造方法であることを要旨とする。
本発明の特徴に係る窒化物系半導体素子の製造方法によると、活性層の形成後に、一度温度を下げることにより、InGaN中のInの析出を防ぐことができ、素子の発光効率の低下を抑制することができる。
又、本発明の特徴に係る窒化物系半導体素子の製造方法において、第1の成長温度よりも低い温度は、400〜500℃であることが好ましい。
又、本発明の特徴に係る窒化物系半導体素子の製造方法において、降温速度は、1000℃/hであることが好ましい。
本発明によると、InGaN活性層中のInの析出による発光効率の低下を抑制する窒化物系半導体素子の製造方法を提供することができる。
次に、図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同一又は類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。ただし、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることに留意すべきである。従って、具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。又、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
(窒化物系発光ダイオード素子の製造方法)
本実施形態に係る窒化物系発光ダイオードの製造方法について、図1及び図2を用いて説明する。又、本実施形態における活性層は、高In組成であり、例えば、12〜20%のInを含む組成である。
本実施形態に係る窒化物系発光ダイオードの製造方法について、図1及び図2を用いて説明する。又、本実施形態における活性層は、高In組成であり、例えば、12〜20%のInを含む組成である。
図1は、本発明の実施の形態に係る窒化物系発光ダイオード素子の製造方法を説明するための断面図である。又、図2は、本発明の実施の形態に係る窒化物系発光ダイオード素子の製造方法における成長温度の推移を示す。
まず、図1(a)に示すように、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法を用いて、サファイア基板101上に、n型半導体層102、活性層103を形成する。
例えば、サファイア基板101を約400〜700℃の温度に保持した状態で、NH3及びTMG(トリメチルガリウム)からなる原料ガスを用いて、サファイア基板101の(0001)面上に、アンドープの非単結晶のGaNからなるバッファ層を成長させる。
次に、サファイア基板101を約900〜1200℃(例えば、1050℃)の成長温度に保持した状態で、NH3及びTMGからなる原料ガスを用いて、バッファ層上に、アンドープの単結晶のGaNからなる下地層を成長させる。
次に、サファイア基板101を約900〜1200℃(例えば、1050℃)の成長温度に保持した状態で、NH3及びTMGからなる原料ガスと、SiH4からなるドーパントガスとを用いて、下地層上に、Siがドープされた単結晶のGaNからなるn型コンタクト層を成長させる。
次に、サファイア基板101を約900〜1200℃(例えば、1050℃)の成長温度に保持した状態で、NH3、TMG及びTMA(トリメチルアルミニウム)からなる原料ガスと、SiH4からなるドーパントガスとを用いて、n型コンタクト層上に、Siがドープされた単結晶のAlGaNからなるn型クラッド層を成長させる。
このように、n型半導体層102は、バッファ層、下地層、n型コンタクト層、n型クラッド層等から構成される。又、n型半導体層102の成長時間は、3〜4時間程度である。
次に、サファイア基板101を約700〜800℃(例えば、760℃)の成長温度に保持した状態で、NH3、TMGあるいはTMI(トリメチルインジウム)からなる原料ガスを用いて、n型半導体層102上に、アンドープの単結晶のInGaNからなる障壁層と、アンドープの単結晶のInGaNからなる井戸層とを交互に成長させる。これにより、例えば、4つの障壁層及び3つの井戸層を有するMQW構造の活性層103を成長させる。又、InGaNを含む活性層103の成長時間は、1〜5時間程度である。
図1(a)に示す活性層103の形成後、図2に示すように、活性層103の成長温度よりも低い温度に降温する。活性層103の成長温度よりも低い温度とは、400〜500℃であることが好ましく、450℃程度であることが更に好ましい。又、降温速度は、1000℃/hであることが好ましい。尚、図2では、活性層103の成長温度よりも低い温度に降温した後、一定時間温度を保持しているが、低温を保持しなくてもよい。即ち、活性層103の成長温度よりも低い温度に降温し、すぐに昇温してもよい。
次に、図1(b)に示すように、MOCVD(Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法を用いて、活性層上103に、p型AlGaN層104、p型GaN層105を形成する。
例えば、サファイア基板101を約900〜1200℃(例えば、1010℃)の成長温度に保持した状態で、H2及びN2からなるキャリアガスと、NH3、TMG及びTMAからなる原料ガスと、CP2Mgからなるドーパントガスとを用いて、活性層103上に、Mgがドープされた単結晶のAlGaNからなるp型AlGaN層104を成長させる。
次に、サファイア基板101を約900〜1200℃(例えば、1010℃)の成長温度に保持した状態で、H2及びN2からなるキャリアガスと、NH3及びTMGからなる原料ガスと、CP2Mgからなるドーパントガスとを用いて、p型AlGaN層104上に、p型GaN層105を成長させる。
この後、例えば、Ag層と、Pt層と、Au層とからなるp型電極を、真空蒸着法により順次形成する。
(作用及び効果)
従来、InGaN中のInとNの結合は、非常に外れやすいことが知られている。通常、InGaNを含む活性層103の成膜直後に、図3に示すように、同一又は更に高い温度で保持するシーケンスをとっている。このため、本発明者らは、In−Nの結合は不安定となっていることに着目した。
従来、InGaN中のInとNの結合は、非常に外れやすいことが知られている。通常、InGaNを含む活性層103の成膜直後に、図3に示すように、同一又は更に高い温度で保持するシーケンスをとっている。このため、本発明者らは、In−Nの結合は不安定となっていることに着目した。
本発明の実施の形態に係る窒化物系半導体素子層の製造方法によると、図2に示すように、活性層103の形成後に、一度温度を下げることにより、InとNとの結合を安定化させることができる。そして、その後、成膜を行うことにより、InGaN中のInの析出を防ぐことができ、素子の発光効率の低下を抑制することができる。
又、In−N結合の強化により、その後に積層する膜を更なる高温で成膜しても、Inの析出が発生しないようにすることができる。
(その他の実施形態)
本発明は上記の実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
本発明は上記の実施形態によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
例えば、本発明の実施の形態では、主として、窒化物半導体素子層の活性層から放出される光を利用する発光ダイオードの製造方法について例示したが、本発明はこれに限らず、半導体レーザやこれら発光素子からの放出光を励起光とする蛍光体とを組み合わせた発光素子の製造にも利用可能である。又、窒化物系半導体素子層を有するHEMT(High Electron Mobility Transistor)などの電子デバイス、SAW(Surface Acoustic Wave)デバイス、受光素子への応用が可能である。
又、本発明の実施の形態では、MOCVD法を用いて、窒化物半導体各層を結晶成長させる説明したが、本発明はこれに限らず、HVPE法やガスソースMBE法などを用いて、窒化物半導体各層を結晶成長させてもよい。又、窒化物系化合物半導体の結晶構造として、ウルツ鉱型であっても閃亜鉛鉱型構造であってもよい。又、成長の面方位は、(0001)に限るものではなく、(11−20)や(1−100)でもよい。
又、本発明の実施の形態では、GaN、AlGaN、InGaN及びAlNなどからなる層を含む窒化物系半導体素子層を用いたが、本発明はこれに限らず、GaN、AlGaN、InGaN及びAlNからなる層以外の層を含む窒化物系半導体素子層を用いてもよい。又、半導体素子層の形状は、メサ構造、リッジ構造などの電流狭窄造を有するものでもよい。
又、本発明の実施の形態では、窒化物系半導体素子層の成長用基板として、サファイア基板を用いたが、本発明はこれに限らず、窒化物系半導体の成長の可能な基板、例えば、Si、SiC、GaAs、MgO、ZnO、スピネル、そしてGaN等が使用可能である。
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態等を含むことは勿論である。従って、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
101…基板
102…n型半導体層
103…活性層
104…AlGaN層
105…GaN層
102…n型半導体層
103…活性層
104…AlGaN層
105…GaN層
Claims (3)
- 基板上に、少なくとも1層以上の第1の窒化物系半導体層を形成する工程と、
前記第1の窒化物系半導体層上に、第1の成長温度で、InGaNを含む活性層を形成する工程と、
前記活性層の形成後に、前記第1の成長温度よりも低い温度に降温する工程と、
第1の成長温度よりも高い第2の成長温度に昇温し、前記活性層上に、少なくとも1層以上の第2の窒化物系半導体層を形成する工程と
を含むことを特徴とする窒化物系半導体素子の製造方法。 - 前記第1の成長温度よりも低い温度は、400〜500℃であることを特徴とする請求項1に記載の窒化物系半導体素子の製造方法。
- 前記第1の成長温度よりも低い温度に降温する工程において、降温速度は、1000℃/hであることを特徴とする請求項1又は2に記載の窒化物系半導体素子の製造方法。
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